JPH0810725A - 多槽式自動洗浄装置 - Google Patents

多槽式自動洗浄装置

Info

Publication number
JPH0810725A
JPH0810725A JP17030294A JP17030294A JPH0810725A JP H0810725 A JPH0810725 A JP H0810725A JP 17030294 A JP17030294 A JP 17030294A JP 17030294 A JP17030294 A JP 17030294A JP H0810725 A JPH0810725 A JP H0810725A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
tank
cleaning
liquid
tanks
conveyor
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP17030294A
Other languages
English (en)
Inventor
Tsunehiro Noda
倫弘 野田
Katsuhiko Tokunaga
雄彦 徳永
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Ebara Corp
Original Assignee
Ebara Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Ebara Corp filed Critical Ebara Corp
Priority to JP17030294A priority Critical patent/JPH0810725A/ja
Publication of JPH0810725A publication Critical patent/JPH0810725A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】 液漏れの心配がなく、ある工程から次の工程
に移行する時間を短縮した多槽式自動洗浄装置を提供す
ること。 【構成】複数の槽が配列された多槽式自動洗浄装置にお
いて、各槽10、11、12、13は開閉可能な上蓋1
0a、11a、12a、13aを有する箱形構造であ
り、その内部には被洗浄物8を次槽へ搬送するコンベア
20、21、22、23を配置すると共に、該コンベア
20、21、22、23を昇降させるコンベア昇降装置
20a、21a、22a、23aを設け、各槽には洗浄
工程に必要な液を充填しておき、槽内のコンベア上に被
洗浄物8が搬入した後、昇降装置を下降させて被洗浄物
8を該液中に浸漬し、洗浄又はすすぎ作業終了後、上蓋
を開き上昇させ、当該槽内のコンベアを起動し、該被洗
浄物8を待機中の次槽のコンベア上へ搬送する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は多槽式自動洗浄装置に関
し、特に水と洗剤の混合液を用いた洗浄でもCFC及び
四塩化炭素を使用した洗浄と同程度の洗浄効果を上げる
ことができる多槽式自動洗浄装置に関するものである。
【0002】
【従来技術】大気圏のオゾン層保護のためのモントリオ
−ル議定書によりCFC及び四塩化炭素は、1996年
に全廃となり、その代替洗浄法として、水と洗剤の混合
液を用いて、CFC及び四塩化炭素を使用した洗浄と同
程度の洗浄効果を上げ得る洗浄装置が要望されている。
【0003】従来、この種の多槽式自動洗浄装置には特
願平5−59726号の明細書及び図面に開示されたも
のがある。図3は上記多槽式自動洗浄装置の構成を示す
図で、図4は洗浄液の収排出手段の構成例を示す図であ
る。図示するように従来の多槽式自動洗浄装置は複数の
槽、洗浄槽111、すすぎ槽112、すすぎ槽113及
び乾燥槽114が配列されており、被洗浄物はバスケッ
ト109に入れられ、搬入コンベア110で搬入され
る。洗浄槽111は下槽111−1と上槽111−2に
分かれており、上槽111−2は懸架装置111−8で
上下に移動し、分割面111−7で下槽111−1の上
端に密着し、該分割面111−7はパッキンで漏水を防
止する構造になっている。
【0004】下槽111−1の中には被洗浄物を収納し
たバスケット109の搬送に使用されるベルトコンベア
111−3が設けられている。また、下面に超音波振動
子111−5及び撹拌機111−6が設けられ洗浄時に
使用される。上槽111−2の中には洗浄後空気を吹き
付け洗浄液を落す多数のブロ−用ノズル111−4が設
けられている。また、下槽111−1は図4に示すよう
にパイプ及びバルブ121を通して予備槽120に接続
され洗浄液の収排出を行う。
【0005】洗浄時、被洗浄物はバスケット109に入
れられ搬入コンベア110で搬入さる。更に、ベルトコ
ンベア111−3で所定の位置に収められると懸架装置
111−8が動作し上槽111−2は下降し、分割面1
11−7で下槽111−1と密着する。続いて予備槽1
20より洗浄液が上槽111−2の上部迄充填され、超
音波振動子111−5及び撹拌機111−6が作動し洗
浄が開始される。洗浄作業が完了すると洗浄液は予備槽
120へ排出され、洗浄槽111の液面は分割面111
−7以下まで下げられる。続いて、ブロ−用ノズル11
1−4から空気を吹き付け被洗浄物から洗浄液を落した
後、上槽111−2を上方に移動し被洗浄物の入ったバ
スケット109をすすぎ槽112へ搬送する。
【0006】すすぎ槽112及び、すすぎ槽113は洗
浄槽111と同じ構造をなし、被洗浄物は上述と同じ手
順で順次すすぎ作業が行われる。最後に乾燥槽114で
熱風で乾燥され搬出される。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記従
来構造の多槽式自動洗浄装置には下記のような問題点が
あった。 (1)洗浄中及びすすぎ中は洗浄液の液面又はすすぎ液
の液面は上槽111−2と下槽111−1との分割面1
11−7よりも上方の位置にあるため、分割面111−
7のパッキン部から漏水するおそれがある。また、パッ
キンには寿命があるため早めの交換が必要となり保守に
手間がかかる。また、パッキン部には密着時は漏水防止
の為予圧をかける必要があり、上槽111−1を機械的
に押しつけなければならない。
【0008】(2)洗浄又は、すすぎ作業が終わるとそ
の度に槽内の液を予備タンク120へ収排出させたのち
上槽111−2を上方へ引き上げ、次工程に入るのでタ
クト時間(洗浄のため被洗浄物が槽に入ってから出るま
での時間)が長くなる。
【0009】(3)洗浄又は、すすぎ作業の終了時、槽
内の液の有無をセンサ−で検出し、液が排出され液面が
上下槽の分割面111−7以下となったことを確認した
のち上槽111−2を引き上げる。もし、センサ−が誤
作動し、槽内の液が所定の液面に低下しないうちに上槽
110を引き上げると液が溢れ出る。
【0010】本発明は上述の点に鑑みてなされたもの
で、上記問題点を除去し、液漏れの心配を解消し、更
に、本槽と予備槽間の液の収排出時間を不要とすること
でタクト時間を短縮した多槽式自動洗浄装置を提供する
ことを目的とする。
【0011】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
本発明は、複数の槽が配列され、搬送手段で被洗浄物を
搬送して各槽内に収容し、該被洗浄物の洗浄及びすすぎ
等を行う多槽式自動洗浄装置において、図1に示すよう
に、各槽10、11、12、13は開閉可能な上蓋10
a、11a、12a、13aを有する箱形構造であり、
その内部には被洗浄物8を次槽へ搬送するコンベア2
0、21、22、23を配置すると共に、該コンベア2
0、21、22、23を昇降させるコンベア昇降装置2
0a、21a、22a、23aを設け、各槽10、1
1、12、13には洗浄工程に必要な液を充填してお
き、例えば槽10内のコンベア20上に被洗浄物8が搬
入した後、コンベア昇降機構20aを下降させてから上
蓋10aを閉じ、被洗浄物8を該液中に浸漬し、洗浄作
業終了後、上蓋10aを開いてから、コンベア昇降機構
20aを上昇させ、当該槽10内のコンベア20を起動
し、該被洗浄物8を待機中の次槽11のコンベア21上
へ送りこみ、次槽11で上記と同様の作業によりすすぎ
作業を行い、順次同様な作業を繰り返すことを特徴とす
る。
【0012】また、各槽10、11、12、13の洗浄
工程に必要な液は収排出されず、常に一定の液面を保ち
作業が行われることを特徴とする。
【0013】
【作用】本発明によれば各槽10、11、12、13は
上部に開閉可能な上蓋10a、11a、12a、13a
を有する箱形構造とし、内部に洗浄工程に必要な液を満
たし被洗浄物8を昇降させて次工程に搬送するので、従
来のように槽の上部に懸架装置を設ける必要も無く、ま
た、液面は常に槽の上縁より下になるので漏水の心配も
ない。
【0014】また、従来のように本槽と予備槽間の液の
収排出もないのでタクト時間が短縮され、洗浄中は上蓋
10a、11a、12a、13aで密閉する構造により
液の蒸発を防ぐことができる。
【0015】また、被洗浄物8による液の持出しによる
液の減少分は常に自動補給し常に槽10、11、12、
13を満杯にしているので、例えば液中に浸漬していな
ければならない超音波振動子を槽10、11、12、1
3の上下に設けることが可能となり洗浄工程における洗
浄効果が向上する。
【0016】
【実施例】以下、本発明の一実施例を図面に基づいて詳
細に説明する。図1は本発明の多槽式自動洗浄装置の構
成を示す図である。本発明の多槽式自動洗浄装置は洗浄
槽10、すすぎ槽11、すすぎ槽12及び乾燥槽13が
直列に配置されている。洗浄槽10、すすぎ槽11、す
すぎ槽12及び乾燥槽13には上蓋10a、11a、1
2a、13aが設けられている。
【0017】各上蓋10a、11a、12a、13a
は、図2で示すように開閉機構14(油圧シリンダとピ
ストン)により、支点14aを中心に回動して開閉する
ようになっている。また、各上蓋10a、11a、12
a、13aは閉じたときシ−ル10b、11b、12
b、13bで密閉する構造となっている。洗浄槽10、
すすぎ槽11、すすぎ槽12及び乾燥槽13内にはそれ
ぞれ搬送用のコンベア20、21、22、23が設けら
れている。各コンベア20、21、22、23はコンベ
ア昇降装置20a、21a、22a、23aにより昇降
できるようになっている。
【0018】洗浄槽10の上蓋10aには、上部超音波
振動子30a、洗浄槽10には下部超音波振動子30b
が設置され、更に、洗浄槽10、すすぎ槽11及びすす
ぎ槽12の下部にはエジェクタ31が設けられ、洗浄力
及びすすぎ力を増している。また、被洗浄物8による液
の持出しによる液の減少分は常に自動補給している。
【0019】上記構成の多槽式自動洗浄装置において、
洗浄槽10内には洗浄液が満たされ、被洗浄物8が搬入
される時、上蓋10aは開けられ、コンベア昇降装置2
0aは上昇しコンベア20は洗浄槽10の上縁迄持ち上
げられ待機している。被洗浄物8はバスケット5に入れ
られ搬入コンベア9でコンベア20上に搬入される。な
お、搬入コンベア9は昇降機構を有し、バスケット5を
洗浄槽10の上縁まで持ち上げ待機しているコンベア2
0へバスケット5を搬送できるようになっている。
【0020】バスケット5がコンベア20の所定の位置
に載置されると、コンベア昇降装置20aは降下し、被
洗浄物8の入ったバスケット5を洗浄液中に浸漬する。
続いて、上蓋10aが閉められ、上部超音波振動子30
aと下部超音波振動子30bが作動し更にエジェクタ3
1が機能して洗浄作業が開始される。
【0021】所定時間経過の後に洗浄作業が終わると、
上部の超音波振動子30aと下部の超音波振動子30b
及びエジェクタ31を停止し、上蓋10aを開け、コン
ベア昇降装置20aは上昇しコンベア20を上縁まで上
昇させる。この状態でコンベア20を起動し、すすぎ槽
11内のコンベア21へバスケット5を搬送する。
【0022】バスケット5がコンベア21上の所定の位
置に載置されると、コンベア昇降装置21aは下降し、
被洗浄物8の入ったバスケット5をすすぎ液中に浸漬す
る。続いて、上蓋11aが閉められ、すすぎ作業が開始
される。すすぎ槽11ですすぎ作業が終了すると、上蓋
11aが開けられコンベア昇降装置21aは上昇し、コ
ンベア21を起動することにより、バスケット5はすす
ぎ槽12内のコンベア22上に搬送され、上記と同様な
動作によりすすぎ作業が行われる。
【0023】すすぎ槽12内ですすぎ作業が終了した
後、上蓋12aが開けられ昇降装置22aが上昇し、コ
ンベア22を起動することにより、バスケット5は昇降
装置22aにより上昇し、待機しているコンベア23上
に搬送される。バスケット5がコンベア23上の所定の
位置に載置されると、昇降装置23aが下降し上蓋13
aが閉められ、乾燥用熱風吹出口32から熱風を吹き出
し被洗浄物8を乾燥させる。
【0024】更に最終の乾燥槽13では温風又は熱風を
被洗浄物8に吹き付け乾燥させるとき、乾燥槽13の上
蓋13aは閉ざされるが、圧力がこもらないよう排気ダ
クトなどにより大気解放している。乾燥が終わると上蓋
13aが開けられ、コンベア昇降装置23aが上昇しコ
ンベア23を起動し、バスケット5は待機している搬出
コンベア15に搬送する。なお、搬出コンベア15も昇
降装置を有しており、搬出コンベア15を乾燥槽13の
上端まで上昇させて待機している。
【0025】なお、上記実施例において、洗浄槽10で
用いる洗浄液は水と洗剤の混合液からなる液を利用す
る。また、図示は省略するが各槽の上蓋10a、11
a、12a、13aの開閉及び、コンベア20、21、
22、23の上昇下降及び起動停止等は全て制御装置に
より自動的に行われる。
【0026】上記のように各槽は上部に開閉する上蓋1
0a、11a、12a、13aを有する箱形構造とし、
各槽10、11、12の内部に洗浄工程に必要な液(洗
浄液、すすぎ液)を満たし、被洗浄物8を槽内に下降さ
せ洗浄又はすすぎ作業を行い、上昇させ次工程に搬送す
るので、従来のように槽の上部に懸架装置を設ける必要
も無く、また、液面は常に槽の上縁より下になるので漏
水の心配もない。
【0027】更に、本槽と予備槽間の液の収排出もない
のでタクト時間が短縮される。洗浄中は上蓋10aで密
閉するため液の蒸発を防ぐ。また、被洗浄物8による液
の持出しによる液の減少分は、自動補給し常に槽を満杯
にしているので槽の上下に超音波振動子を設けることが
可能となり洗浄工程における洗浄効果が向上する。
【0028】
【発明の効果】以上、詳細に説明したように本発明によ
れば、下記のような優れた効果が期待される。 (1)被洗浄物は槽中に設けられた昇降手段により上昇
下降し、搬送手段で次工程の槽に搬送されるので従来の
ように槽上部に懸架装置が不要となり、装置全体がコン
パクトになり設置スペ−スが小さくて済む。
【0029】(2)槽を上蓋の付いた箱形とし液面を上
縁以下に満たすので、従来のように上槽と下槽の合わせ
面からの漏水もなく、液面センサの誤動作による事故も
無くなる。
【0030】(3)従来のように予備槽と本槽間の液の
収排出の為の設備が不要となり、収排出の工程がないこ
とからタクト時間が短縮される。
【0031】(4)従来は予備槽と本槽との液の収排出
にポンプ或いは真空システムなどの方式を採用していた
ため洗浄液、すすぎ液の温度限界があった。例えば液の
収排出に真空方式をとると液温が高くなると蒸気圧の関
係で真空度が上がらず液の収排出がうまくいかない。本
発明の本装置ではすすぎ槽の液温を高くできるから、乾
燥槽での乾燥時間が早くすることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の多槽式自動洗浄装置の構成を示す図で
ある。
【図2】本発明の多槽式自動洗浄装置の上蓋の開閉機構
を示す図である。
【図3】従来の多槽式自動洗浄装置の構成を示す正面図
である。
【図4】従来の多槽式自動洗浄装置の洗浄液の収排出手
段の構成例を示す図である。
【符号の説明】
5 バスケット 8 被洗浄物 9 搬入コンベア 10 洗浄槽 10a 上蓋 10b シ−ル 11 すすぎ槽 11a 上蓋 11b シ−ル 12 すすぎ槽 12a 上蓋 12b シ−ル 13 乾燥槽 13a 上蓋 13b シ−ル 14 開閉機構 15 搬出コンベア 20 コンベア 20a コンベア昇降装置 21 コンベア 21a コンベア昇降装置 22 コンベア 22a コンベア昇降装置 23 コンベア 23a コンベア昇降装置 30a 上部超音波振動子 30b 下部超音波振動子 31 エジェクタ

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 複数の槽が配列され、搬送手段で被洗浄
    物を搬送して各槽内に収容し、該被洗浄物の洗浄及びす
    すぎ等を行う多槽式自動洗浄装置において、 前記各槽は開閉可能な上蓋を有する箱形構造であり、そ
    の内部には被洗浄物を次槽へ搬送する搬送手段を配置す
    ると共に、該搬送手段を昇降させる昇降手段を設け、 前記各槽には洗浄工程に必要な液を充填しておき、前記
    搬送手段で当該槽内の搬送手段上に被洗浄物が搬入した
    後、前記昇降機構を下降させてから前記上蓋を閉じ被洗
    浄物を該液中に浸漬し、洗浄又はすすぎ作業終了後、前
    記上蓋を開いてから、前記昇降機構を上昇させ、当該槽
    内の搬送手段を起動し、該被搬送物を待機中の次槽の搬
    送手段上へ送りこみ、次槽で上記と同様の作業により洗
    浄又はすすぎ作業を行うことを特徴とする多槽式自動洗
    浄装置。
  2. 【請求項2】 前記槽の上蓋は開閉機構により開閉制御
    され、合わせ面にはシ−ル構造を設け、前記上蓋が閉じ
    たときは槽内が密封構造になることを特徴とする多槽式
    自動洗浄装置。
  3. 【請求項3】 前記槽内の洗浄工程に必要な液は常に満
    杯に充填された状態で運転することを特徴とする多槽式
    自動洗浄装置。
JP17030294A 1994-06-28 1994-06-28 多槽式自動洗浄装置 Pending JPH0810725A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP17030294A JPH0810725A (ja) 1994-06-28 1994-06-28 多槽式自動洗浄装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP17030294A JPH0810725A (ja) 1994-06-28 1994-06-28 多槽式自動洗浄装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH0810725A true JPH0810725A (ja) 1996-01-16

Family

ID=15902455

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP17030294A Pending JPH0810725A (ja) 1994-06-28 1994-06-28 多槽式自動洗浄装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH0810725A (ja)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH1156735A (ja) * 1997-08-27 1999-03-02 Aiho:Kk 食器洗浄装置
CN112956991A (zh) * 2021-01-27 2021-06-15 上海言棵信息设备有限公司 一种可自动清洗的坐垫
KR102344611B1 (ko) * 2020-12-17 2021-12-30 주식회사 소닉코리아 업소용 초음파세척 가능한 식기세척장치

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH1156735A (ja) * 1997-08-27 1999-03-02 Aiho:Kk 食器洗浄装置
KR102344611B1 (ko) * 2020-12-17 2021-12-30 주식회사 소닉코리아 업소용 초음파세척 가능한 식기세척장치
CN112956991A (zh) * 2021-01-27 2021-06-15 上海言棵信息设备有限公司 一种可自动清洗的坐垫

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US5520744A (en) Device for rinsing and drying substrate
KR100304127B1 (ko) 가반식 밀폐 컨테이너를 사용한 전자기판 처리시스템과 그의 장치
US5314574A (en) Surface treatment method and apparatus
US6374837B2 (en) Single semiconductor wafer processor
KR100335322B1 (ko) 반도체웨이퍼등의처리방법및그처리장치
US6375758B2 (en) Cleaning and drying method and apparatus for objects to be processed
JP3715052B2 (ja) ウェーハ乾燥装置
KR100421349B1 (ko) 피처리 기판용 처리 장치
JPH0810725A (ja) 多槽式自動洗浄装置
KR100710685B1 (ko) 기판수납용기용 건식세정장치
JP3126858B2 (ja) 基板の表面処理装置
JPH11340311A (ja) 半導体ウエハのポッド洗浄装置
KR100398583B1 (ko) 반도체제조장비용석영튜브의세정방법및그장치
JPH0684873A (ja) ウエーハ処理装置
US6425191B1 (en) Apparatus and method for reducing solvent residue in a solvent-type dryer for semiconductor wafers
JP2000012505A (ja) 基板処理方法及びその装置
JPH1140535A (ja) 洗浄・乾燥処理装置
JPH09283489A (ja) 基板処理方法および基板処理装置
JPH01226157A (ja) 半導体基板の乾燥方法
JPH06246243A (ja) 多槽式自動洗浄装置
JPH06246244A (ja) 多槽式自動洗浄装置
KR940008366B1 (ko) 웨이퍼 세정/건조방법 및 장비
KR20030011062A (ko) 기판 세척 장치 및 방법
JPH04334579A (ja) 洗浄装置
JPH0567380U (ja) 洗浄装置