JPH11340311A - 半導体ウエハのポッド洗浄装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 半導体ウエハのポッド全体を効率良く洗浄
し、ひいて自動化が可能な半導体ウエハのポッド洗浄装
置を提供すること。 【解決手段】 洗浄容器２と蓋体３とからなり、ポッド
本体部１０１については洗浄室２ａ内に収容して洗浄
し、ポッド蓋部１０２については蓋体３上に載置して、
開口部３ａからその底表面１０２ｃのみを洗浄室２ａ内
に露出させることにより、係合機構への洗浄液等の浸入
を防止しつつ、底表面１０２ｃのみの洗浄を可能とす
る。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、半導体製造装置の
関連技術であって、詳細には、各製造装置間等において
半導体ウエハを収容し、搬送するためのポッドの洗浄装
置に関する。

【０００２】

【従来の技術】半導体部品の製造では、塵埃等から半導
体ウエハを保護すべく清浄度の高い作業雰囲気が要求さ
れ、クリーンルームの建設が必須とされる。一方、係る
クリーンルーム全体の清浄度を一様に高いレベルに維持
することは経済性が悪いため、できるだけ低いレベルの
清浄度での半導体部品の製造を可能とすべく、いわゆる
ＳＭＩＦシステムが提案されている。◆ＳＭＩＦシステ
ムとは、半導体ウエハを各装置間で搬送するにあたり、
ポッド（ＳＭＩＦポッド）と呼ばれる密閉・洗浄された
容器に収容して搬送するシステムである。このシステム
によれば、ポッドに収容されている限り外部雰囲気の清
浄度が半導体ウエハに影響しないので、清浄度の低いク
リーンルームであっても、高品質な製品を得ることがで
きる。

【０００３】図１８は係るＳＭＩＦシステムで使用され
るポッド１００の構造を略式に表した図である。ポッド
１００は、中空のポッド本体部１０１と、ポッド本体部
１０１に着脱自在に係合するポッド蓋部１０２と、半導
体ウエハを支持するカセット１０３と、からなる。ポッ
ド蓋部１０２は、係合機構１０２ａを備え、これにより
ポッド本体部１０１の開口端部に着脱自在に係合する。
ポッド蓋部１０２がポッド本体部１０１に係合した場合
には、ポッド１００の内部は外部から密閉され、塵埃の
侵入が防止される。また、係合機構１０２ａはポッド蓋
部１０２の裏面に設けられた操作部１０２ｂに連動して
おり、ポッド１００は各処理装置に取り込まれた場合
に、この操作部１０２ｂを介してポッド蓋部１０２の係
合が解除され、収容する半導体ウエハの取出し及び再収
容が行われる。

【０００４】一方、上述したとおり、ポッド内の清浄度
は半導体ウエハに直接影響するため、少くともポッドの
内部空間を形成するポッド本体部１０１の内周表面１０
１ａ及びポッド蓋部１０２の底表面１０２ｃについては
使用毎に洗浄し、高い清浄度を維持する必要がある。◆
そして、従来では、ポッド本体部１０１については、所
定の洗浄室内において純水等の洗浄液にドブ漬けして丸
洗いにするか、あるいは当該容器内において洗浄液を内
周表面１０１ａに噴射することにより、付着した塵埃を
洗い流しているのが現状である。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】しかし、ポッド蓋部１
０２については、ポッド本体部１０１と係合するための
係合機構１０２ａを備えているため、これをポッド本体
部１０１と同様な方法によって洗浄すると、当該機構内
に洗浄液が流入し、故障の原因となる。しかも、係合機
構１０２ａ内部には潤滑油等が浸透しているため、洗浄
液が流入するとこれが機構外部へ流出し、ポッド蓋部１
０２はもとより洗浄室も汚染されることとなる。◆この
ため、従来ではポッド蓋部１０２の洗浄については、洗
浄が最低必要な底表面１０２ｃを手作業で拭き取ってお
り、作業が甚だ煩雑なものであると共に、ポッドの洗浄
作業全体を自動化することの妨げともなっていた。

【０００６】従って、本発明の目的は、半導体ウエハの
ポッドを効率良く洗浄し、ひいて自動化が可能な半導体
ウエハのポッド洗浄装置を提供することにある。

【０００７】

【課題を解決するための手段】本発明によれば、ポッド
本体部と、当該ポッド本体部との係合機構を備えたポッ
ド蓋部と、からなる半導体ウエハのポッドをそれぞれ分
離して洗浄するための洗浄装置であって、収容物を洗浄
するための手段を有する洗浄室を備え、前記ポッド本体
部は、前記洗浄室内に収容されて洗浄され、前記ポッド
蓋部は、前記洗浄室外に配置され、かつ、前記洗浄室の
一部に設けられた開口部を介して、前記ポッド内部に露
出する部分のみが前記洗浄室内に露出して洗浄されるこ
とを特徴とする半導体ウエハのポッド洗浄装置が提供さ
れる（請求項１）。

【０００８】この手段によれば、前記ポッド本体部は前
記洗浄室内に収容され、前記ポッド蓋部は前記洗浄室外
に配置され、各々分離されて洗浄される。この場合にお
いて、前記ポッド本体部は前記洗浄室内に収容されてい
るので、全体が満遍なく洗浄されるが、前記ポッド蓋部
は、前記洗浄室の一部に設けられた前記開口部を介し
て、洗浄が必要なポッド内部に露出する部分（例えば上
記従来例では底表面１０２ｃ）のみが前記洗浄室内に露
出するので、この部分のみが洗浄され、他の部分は洗浄
されない。◆従って、前記洗浄室内において洗浄液のド
ブ漬け或は噴射による洗浄を行っても、前記ポッド蓋部
の係合機構等にはその洗浄液が浸入すること無く、洗浄
が必要な部分のみを的確に洗浄できる。また、前記ポッ
ド本体部と前記ポッド蓋部との同時洗浄が可能となり、
ポッドの洗浄の必要な部分を効率よく洗浄することがで
きるという効果を奏する。

【０００９】本発明において、前記洗浄室の一部とは洗
浄室を仕切る周壁、天板、底板等の一部の意味である。
また、前記開口部を介してとは、前記ポッド蓋部のうち
組立時の前記ポッドの内部に露出する部分が当該開口部
にピッタリ合致し、当該露出する部分のみが前記洗浄室
内に露出する場合の他、スペーサー或は洗浄液漏洩防止
のためのシール材を併用して前記開口部に合致し、前記
ポッド蓋部のうち当該露出する部分のみが前記洗浄室内
に露出する場合も含まれる。◆前記収容物を洗浄するた
めの手段としては、洗浄液の噴出器やドブ漬け洗浄の場
合の洗浄液の撹拌器等があるが、更に、乾燥用の空気を
噴出する手段を備えてもよい。◆本発明は、ポッド本体
部と、当該ポッド本体部との係合機構を備えたポッド蓋
部と、からなるポッドであれば、いずれにも適用でき、
例えば、上述したＳＭＩＦポッドや他の規格のボックス
と呼ばれるポッド等にも適用できる。

【００１０】また、本発明によれば、ポッド本体部と、
当該ポッド本体部との係合機構を備えたポッド蓋部と、
からなる半導体ウエハのポッドをそれぞれ分離して洗浄
するための洗浄装置であって、収容物を洗浄するための
手段を有する洗浄室と、前記ポッド蓋部が着脱自在に係
止され、前記洗浄室を密閉するための蓋体と、を備え、
前記ポッド本体部は、前記洗浄室内に収容されて洗浄さ
れ、前記ポッド蓋部は、前記蓋体に設けられた開口部を
介して、前記ポッド内部に露出する部分のみが前記洗浄
室内に露出して洗浄されることを特徴とする半導体ウエ
ハのポッド洗浄装置が提供される（請求項２）。

【００１１】この手段によれば、前記ポッド本体部は前
記洗浄室内に収容され、前記ポッド蓋部は前記洗浄室の
前記蓋体に係止され、各々分離されて洗浄される。この
場合において、前記ポッド本体部は前記洗浄室内に収容
されているので、全体が満遍なく洗浄されるが、前記ポ
ッド蓋部は、係止される前記蓋体に設けられた前記開口
部を介して、洗浄が必要なポッド内部に露出する部分の
みが前記洗浄室内に露出するので、この部分のみが洗浄
され、他の部分は洗浄されない。◆従って、前記ポッド
蓋部の係合機構等には洗浄液が浸入すること無く、洗浄
が必要な部分のみを的確に効率よく洗浄できる。また、
前記ポッド蓋部を前記蓋体に着脱自在に係止可能とした
ので、洗浄装置の完全自動化が容易化する。◆本発明に
おいて、前記蓋体は、前記ポッド本体部を前記洗浄室内
に収容するための前記洗浄室の開口を液密に閉蓋するた
めのものであり、扉状のもの、スライドするもの等の形
式・形状は問われない。

【００１２】ここで、上述した本発明の洗浄装置には、
前記ポッドの洗浄処理によって生じた廃液中の塵埃量を
測定するためのセンサを設けることもできる（請求項
３）。◆この手段では、センサによって廃液中の塵埃量
を測定することによって、ポッドの洗浄の程度を識別す
ることができる。すなわち、廃液中に塵埃量が多けれ
ば、未だ洗浄が十分ではなく、少なければ洗浄を終了し
てもよいこととなり、洗浄時間等を最適なものとするこ
とができる。◆前記廃液とは、前記ポッドを洗浄したこ
とにより生じた、塵埃等を含んだその洗浄液をいう。前
記センサとしては、クリーンルームの清浄度を測定する
のに用いられるパーティクルカウンターがある。このパ
ーティクルカウンターは、単位体積あたりの粉塵量を測
定するものである。

【００１３】次に、本発明によれば、ポッド本体部と、
当該ポッド本体部との係合機構を備えたポッド蓋部と、
からなる半導体ウエハのポッドをそれぞれ分離して洗浄
するための洗浄装置であって、前記ポッド本体部が、そ
の開口側端面が当接するように取付けられ、かつ、これ
を洗浄するための第１の洗浄基と、前記ポッド蓋部が、
所定の開口部を有する仕切り部材を介して、当該開口部
にその前記ポッド内部に露出する部分が合致するように
取り付けられ、かつ、これを洗浄するための第２の洗浄
基と、からなり、前記第１の洗浄基は、取付けられた前
記ポッド本体部の内周表面を洗浄するための第１の洗浄
手段を備え、前記第２の洗浄基は、前記開口部から露出
した前記ポッド蓋部の一部を洗浄するための第２の洗浄
手段を備えたことを特徴とする半導体ウエハのポッド洗
浄装置が提供される（請求項６）。

【００１４】この手段によれば、前記ポッド本体部は前
記第１の洗浄基に取り付けられて、また、前記ポッド蓋
部は前記第２の洗浄基に取り付けられて、各々分離され
て洗浄される。◆この場合において、前記ポッド本体部
は、前記第１の洗浄手段によりその内周表面のみを洗浄
することができ、実質的に洗浄の必要が少く、かつ、汚
染度の高い外周表面の洗浄を省略し、効率のよい洗浄を
行うことができる。また、前記ポッド蓋部は、前記仕切
り部材に設けられた前記開口部を介して、洗浄が必要な
ポッド内部に露出する部分のみが前記第２の洗浄手段に
よって洗浄され、他の部分は洗浄されない。従って、前
記ポッド蓋部の係合機構等には洗浄液が浸入すること無
く、洗浄が必要な部分のみを的確に効率よく洗浄でき
る。

【００１５】また、本発明によれば、前記第２の洗浄基
が、前記ポッドの半導体ウエハを支持するためのカセッ
トを収容して洗浄するための洗浄室を備え、前記仕切り
部材は、前記開口部から露出する前記ポッド蓋部の一部
が前記洗浄室に露出するように配置され、前記第２の洗
浄手段は、前記カセット及び前記開口部から露出した前
記ポッド蓋部の一部を洗浄するように配置された半導体
ウエハのポッド洗浄装置が提供される（請求項７）。◆
この手段では、ポッドのカセットを洗浄するための洗浄
室を前記第２の洗浄基に設けたものであり、カセットと
ポッド蓋部とを一緒に洗浄し得るものである。

【００１６】

【発明の実施の形態】以下、本発明の好適な実施の形態
を添付図面に基づいて説明する。◆図１（ａ）は、請求
項１又は２に対応する本発明のポッド洗浄装置１を示す
外観図であり、図１（ｂ）はポッド洗浄装置１の洗浄態
様を表す構造図である。

【００１７】ポッド洗浄装置１は、洗浄容器２と、蓋体
３と、洗浄容器２と蓋体３とを相互に開閉自在に連結し
たヒンジ４と、からなる。

【００１８】洗浄容器２は、上面が開放した円柱状の空
洞である洗浄室２ａを備え、この洗浄室２ａ内には、ポ
ッド本体部１０１が載置して取り付けられる昇降ステー
ジ２ｂと、複数の洗浄液の噴出器２ｃと、を備える。◆
洗浄室２ａの内周の各隅部は滑らかな曲面に形成されて
おり、これにより洗浄後の塵埃等が当該角部に溜ること
なく循環・排出され、洗浄室２ａ自体を清潔に維持する
ことができる。昇降ステージ２ｂは、伸縮自在のアクチ
ュエータであって、ポッド本体部１０１を洗浄中に昇降
することができ、満遍なくこれを洗浄することができ
る。また、昇降ステージ２ｂはターンテーブル２ｂ'を
備え、これを回転させることにより搭載された噴出器２
ｃ'がポッド本体部１０１内をぐるぐる回転することと
なり、内周表面に満遍なく洗浄液を噴出できる。

【００１９】噴出器２ｃ及び２ｃ'は、圧送された純水
等の洗浄液を四方又は所定の一方向に噴出し、ポッドに
付着した塵埃等を洗い流すものであるが、ドブ付け洗い
を行う場合は、洗浄室２ａ内に満たされた洗浄液を循環
するような圧縮空気を噴射するものであってもよい。ま
た、噴出器２ｃ及び２ｃ'は、乾燥空気を噴出すること
もでき、洗浄後にこれを噴出してポッドを乾燥すること
もできる。

【００２０】蓋体３は、貫通した開口部３ａと、表面上
に係合部３ｂとを備える。◆蓋体３の表面上にはポッド
蓋部１０２が載置され、開口部３ａは蓋体３により洗浄
室２ａを閉じた場合に、載置されたポッド蓋部１０２の
底表面１０２ｃのみが洗浄室２ａに露出する大きさを有
するものである。この開口部３ａには、底表面１０２ｃ
以外のポッド蓋部１０２への漏水防止に必要な場合は別
途のシール材等を施してもよい。

【００２１】また、開口部３ａが底表面１０２ｃより大
きく、底表面１０２ｃ以外の部分が洗浄室２ａに露出す
るような場合には、図２に示すようなスペーサー５を介
して、ポッド蓋部１０２を載置することもできる。スペ
ーサー５は、底表面１０２ｃのみを露出させる大きさを
有する孔５ａと、開口部３ａに合致する外周５ｂとを有
する枠体である。係るスペーサー５は、孔５ａにポッド
蓋部１０２の底表面１０２ｃを挿入した状態で、蓋体３
の開口部３ａに取り付けられ、これにより底表面１０２
ｃのみを洗浄室２ａに露出させることができる。◆係合
部３ｂは、ポッド蓋部１０２の係合機構１０２ａと係合
して、蓋体３の表面上に載置されたポッド蓋部１０２を
適切な位置に配置させるためのものである。

【００２２】次に、係る構成から成る洗浄装置１の作用
について説明する。

【００２３】洗浄装置１では、最初に蓋体３を開放した
状態で、洗浄室２ａ内にポッド本体部１０１を収容し、
昇降ステージ２ｂ上に載置して取り付ける。次に、蓋体
３を閉じると共に、ポッド蓋部１０２を蓋体３上に開口
部３ａと位置を併せて載置する。そして、ポッド蓋部１
０２を係合機構１０２ａにより係合部３ｂと係合させ
て、蓋体３上に固定する。

【００２４】この状態で、各噴出器２ｃ又は２ｃ'から
洗浄液を噴射すると、ポッド本体部１０１及びポッド蓋
部１０２の表面に付着した塵埃等が当該洗浄液により洗
い流される。この際、ポッド蓋部１０２は、底表面１０
２ｃのみが洗浄室２ａに露出しているので、当該底表面
１０２ｃのみが洗浄され、係合機構１０２ａ等に洗浄液
が流入することが防止される。また、ポッド本体部１０
１は昇降ステージ２ｂにより昇降させられる等して満遍
なく洗浄される。◆洗浄後は、洗浄液が洗浄室２ａ内か
ら排水され、また、各噴出器２ｃ又は２ｃ'から乾燥空
気が送り込まれる等してポッド本体部１０１及びポッド
蓋部１０２が乾燥される。

【００２５】なお、洗浄装置１では、ポッド蓋部１０２
を蓋体３に取り付けて洗浄するように構成しているが、
必ずしも蓋体３に取り付ける必要は無く、洗浄容器２の
周壁等に開口部３ａを設け、そこに取り付けて洗浄する
ように構成してもよい。

【００２６】次に、本発明の他の実施の形態について説
明する。◆図３は、請求項６に対応する本発明のポッド
洗浄装置２１の洗浄態様を示す構造図である。◆ポッド
洗浄装置２１は、第１の洗浄基２２と、第２の洗浄基２
３と、からなる。なお、図３においては、第１の洗浄基
２２と、第２の洗浄基２３（請求項１０に対応する。）
とは、台座２１ａ上に固定されているが、これらは分離
して配置してもよい。

【００２７】第１の洗浄基２２は、ポッド本体部１０１
が取り付けられる取付け台２２ａと、ポッド本体部１０
１を洗浄するための洗浄器２２ｂとを備える。ポッド本
体部１０１は、その開口側端面（ポッド蓋部１０２が係
合する側の端面）が、取付け台２２ａに当接するよう
に、載置され、適当な手段によって着脱自在に取り付け
られる。◆取付け台２２ａの中央部分は、ポッド本体部
１０１の開口に応じた孔を有しており、洗浄器２２ｂは
当該孔から上方へ突出するように配置されている。従っ
て、ポッド本体部１０１を取付け台２２ａに取り付けた
状態では、洗浄器２２ｂの噴出器２２ｂ'は、ポッド本
体部１０１の内側に位置することとなる。洗浄器２２ｂ
は、噴出器２２ｂ'から純水等又は乾燥した空気を噴出
して、ポッド本体部１０１の内周表面を洗浄又は乾燥す
るものであり、また、それ自体が矢印のように回転する
ことができ、ポッド本体部１０１の内周表面に洗浄液等
を満遍なく噴出することができる。

【００２８】第２の洗浄基２３は、ポッド蓋部１０２が
取り付けられる取付け台２３ａ（請求項の仕切り部材に
対応する。）と、取付け台２３ａより下方に配置され、
ポッド蓋部１０２を洗浄するための洗浄器２３ｂとを備
える。取付け台２３ａは、開口部２３ａ'と係合部２３
ａ"とを備える。◆開口部２３ａ'は、ポッド蓋部１０２
の底表面１０２ｃのみが洗浄器２２ｂに対して露出する
大きさを有するものであり、ポッド蓋部１０２は、その
底表面１０２ｃが開口部２３ａ'に合致するように取付
け台２３ａ上に載置され、係合部２３ａ"と係合機構１
０２ａとが係合することにより、取付け台２３ａに着脱
自在に取り付けられる。◆なお、開口部２３ａ'が底表
面１０２ｃより大きい場合には、上述した図２のスペー
サ５のようなものを介在させてもよい。また、ポッド蓋
部１０２と取付け台２３ａとの取付けは、必ずしも係合
機構１０２ａを使用することを要せず、他の適当な手段
によって取り付けてもよい。

【００２９】洗浄器２３ｂは、噴出器２３ｂ'から純水
等又は乾燥した空気を噴出して、開口部２３ａ'から露
出したポッド蓋部１０２の底表面１０２ｃを洗浄又は乾
燥するものであり、また、それ自体が矢印のように回転
することができ、ポッド蓋部１０２の底表面１０２ｃに
洗浄液等を満遍なく噴出することができる。

【００３０】次に、係る構成から成る洗浄装置２１の作
用について説明する。◆洗浄装置２１では、ポッド本体
部１０１とポッド蓋部１０２とを夫々分離して、ポッド
本体部１０１は、第１の洗浄基２２の取付け台２２ａ
に、ポッド蓋部１０２は、第２の洗浄基２３の取付け台
２３ａにそれぞれ取り付ける。◆この状態で、第１の洗
浄基２２では、洗浄器２２ｂによって洗浄液を噴出する
と、当該洗浄液によりポッド本体部１０１の内周面に付
着した塵埃等が洗い流される。特に、洗浄器２２ｂを矢
印のように回転させることにより、ポッド本体部１０１
の内周面が満遍なく洗浄される。

【００３１】一方、第２の洗浄基２３では、洗浄器２３
ｂによって洗浄液を噴出すると、当該洗浄液によりポッ
ト蓋部１０２の表面に付着した塵埃等が洗い流される。
この際、ポッド蓋部１０２は、底表面１０２ｃのみが洗
浄器２３ｂに対して露出しているので、当該底表面１０
２ｃのみが洗浄され、係合機構１０２ａ等に洗浄液が流
入することが防止される。

【００３２】ここで、ポッド本体部１０１の外周表面の
清浄度は、ポッド１００が収容する半導体ウエハの清浄
度には関係が薄いため、毎回これを洗浄する必要性は少
ない。また、当該外周表面は外部雰囲気に接しているの
で汚染度が高く、上述した洗浄装置１のように、ポッド
本体部１０１とポット蓋部１０２とを一緒に洗浄する
と、その汚染度の高い洗浄廃液の存在により、洗浄作業
に遅延を招く場合もあり得る。◆この点に関し、洗浄装
置２１では、ポッド本体部１０１については、その内周
面だけを洗浄することができるので、効率よく必要な洗
浄を行うことができる。また、ポット本体部１０１とポ
ット蓋部１０２とを別々に洗浄するので、迅速な洗浄作
業が可能となる。

【００３３】次に、本発明の更に他の実施の形態につい
て説明する。◆図４は、請求項７又は８に対応する本発
明のポッド洗浄装置３１の洗浄態様を示す構造図であ
る。◆ポット洗浄装置３１は、第１の洗浄基３２と、第
２の洗浄基３３と、からなる。なお、図４においては、
第１の洗浄基３２と、第２の洗浄基３３とは、台座３１
ａ上に固定されているが、これらは分離して配置しても
よい。

【００３４】第１の洗浄基３２は、上述した図３のポッ
ド洗浄装置２１における第１の洗浄基２２と同様の構成
のものであって、ポッド本体部１０１が取り付けられる
取付け台３２ａと、ポッド本体部１０１を洗浄するため
の洗浄器３２ｂとを備える。

【００３５】ポッド本体部１０１は、その開口側端面
（ポッド蓋部１０２が係合する側の端面）が、取付け台
３２ａに当接するように、載置され、適当な手段によっ
て着脱自在に取り付けられる。取付け台３２ａの中央部
分は、ポッド本体部１０１の開口に応じた孔を有してお
り、洗浄器３２ｂは当該孔から上方へ突出するように配
置されている。従って、ポッド本体部１０１を取付け台
３２ａに取り付けた状態では、洗浄器３２ｂの噴出器３
２ｂ'は、ポッド本体部１０１の内側に位置することと
なる。

【００３６】洗浄器３２ｂは、噴出器３２ｂ'から純水
等又は乾燥した空気を噴出して、ポッド本体部１０１の
内周表面を洗浄又は乾燥するものであり、また、それ自
体が矢印のように回転することができ、ポッド本体部１
０１の内周表面に満遍なく洗浄液等を噴出することがで
きる。

【００３７】第２の洗浄基３３は、ポッド１００のカセ
ット１０３を洗浄するための空間を有する洗浄室３４
と、洗浄室３４の上面開口部にヒンジ３３ａを介して開
閉自在に取り付けられ、洗浄室３４を密閉するための蓋
体３５（請求項の仕切り部材に対応する。）と、洗浄室
３４内の下部に設けられ、カセット１０３が載置されて
取り付けられる昇降ステージ３４ａと、洗浄室３４内に
配置されカセット１０３又はポッド蓋部１０２の底表面
１０２ｃを洗浄するための洗浄器３４ｂとを備える。

【００３８】蓋体３５は、貫通した開口部３５ａと、表
面上に係合部３５ｂとを備える。開口部３５ａは、蓋体
３５を閉じた場合に、ポッド蓋部１０２の底表面１０２
ｃのみが洗浄室３４内に露出する大きさを有するもので
ある。ポッド蓋部１０２は、その底表面１０２ｃが開口
部３５ａに合致するように蓋体３５の表面上に載置さ
れ、係合部３５ｂと係合機構１０２ａとが係合すること
により着脱自在に取り付けられる。◆なお、この開口部
３５ａには、底表面１０２ｃ以外のポッド蓋部１０２へ
の漏水防止に必要な場合は別途のシール材等を施しても
よい。◆また、開口部３５ａが底表面１０２ｃより大き
い場合には、上述した図２のスペーサ５のようなものを
介在させてもよく、更に、ポッド蓋部１０２と蓋体３５
との取付けは、必ずしも係合機構１０２ａを使用するこ
とを要せず、他の適当な手段によって取り付けてもよ
い。

【００３９】洗浄器３４ｂは、噴出器３４ｂ'から圧送
された純水等又は乾燥した空気を噴出して、昇降ステー
ジ３４ａ上のカセット１０３又は開口部３５ａから露出
したポッド蓋部１０２の底表面１０２ｃを洗浄又は乾燥
するものである。◆昇降ステージ３４ａは、伸縮自在の
アクチュエータであって、その上部にターンテーブル３
４ａ'を備えたものである。カセット１０３は、ターン
テーブル３４ａ'上に載置して取り付けられ、洗浄室３
４内を昇降自在であると共に、洗浄処理又は乾燥処理の
際、ターンテーブル３４ａが自転してカセット１０３を
回転せしめ、カセット１０３の洗浄又は乾燥を満遍なく
行うことができる。

【００４０】また、第２の洗浄基３３は、カセット１０
３の洗浄の程度を測定するためのパーティクルカウンタ
３６を備える（請求項３又は９に対応する）。パーティ
クルカウンタ３６は、洗浄室３４内にカセット１０３に
対して洗浄器３４ｂと略対称位置に設けられた吸引口３
６ａから、ポンプ３６ｂによって吸引された洗浄廃液
（洗浄後の塵埃を含んだ洗浄液）中の塵埃量を測定する
ものであり、これにより当該塵埃量に基づいてカセット
１０３が十分に洗浄されたか否かを識別することができ
る。なお、図４の例では、このパーティクルカウンタ３
６は第２の洗浄基３３にのみ設けているが、これに限ら
ず、第１の洗浄基３２又は本発明の他の実施形態の洗浄
装置に設けてもよい。

【００４１】ここで、第２の洗浄基３３の他の形態につ
いて説明する。図５は、当該他の形態の第２の洗浄基３
３の洗浄態様を示す構造図である。◆図５における第２
の洗浄基３３は、上述した構成の他に、カセット１０３
の洗浄空間とポッド蓋部１０２の洗浄空間とを仕切るよ
うに仕切枠３７を蓋体３５の下面に連設したものであ
る。

【００４２】この仕切枠３７は、カセット１０３の洗浄
により生じた蒸気や洗浄廃液が、ポッド蓋部１０２に接
触しないようにするためのものである。ポッド蓋部１０
２には、ポッド本体部１０１とポッド蓋部１０２との分
離を容易にするために、ポッド１００内のガス抜きのた
めの微孔１０２ｄが設けられている場合があり（図１８
参照）、このような微孔１０２ｄの途中には、外部から
の塵埃の侵入を防止するためのフィルター１０２ｄ'が
更に設けられている。そして、このフィルター１０２
ｄ'は、蒸気等により濡れるとフィルターとしての機能
が低下することとなる。◆従って、このようなポッド蓋
部１０２の洗浄においては、このフィルタ１０２ｄ'に
洗浄液が付着しないように洗浄液の噴出方向を調整する
必要があるが、その他に、カセット１０３の洗浄により
生じた蒸気等がフィルタ１０２ｄ'に付着しないように
する必要もある。

【００４３】そこで、図５の形態では、仕切枠３７を設
けたことにより、カセット１０３の洗浄により生じた蒸
気等がフィルター１０２ｄ'に付着することを防止する
ことができる。なお、仕切枠３７は、洗浄液の排出口３
７ａを備えており、ポッド蓋部１０２の洗浄廃液はここ
から排出される。また、カセット１０３の洗浄により生
じた蒸気等が、排出口３７ａからポッド蓋部１０２の方
に侵入しないように万全を期す場合には、更に、仕切枠
３７により画定された洗浄室３４'の気圧を下方の洗浄
室３４の気圧より高く設定することも考えられる。

【００４４】次に、係る構成から成る洗浄装置３１の作
用について説明する。◆洗浄装置３１では、ポッド本体
部１０１とポッド蓋部１０２とを夫々分離して、ポッド
本体部１０１は第１の洗浄基３２の取付け台３２ａに、
ポッド蓋部１０２は第２の洗浄基３３の蓋体３５表面上
に、それぞれ取り付ける。◆一方、カセット１０３は、
第２の洗浄基３３の蓋体３５を開放した状態で、洗浄室
３４内に収容し、更に昇降ステージ３４ａ上に載置して
取り付ける。昇降ステージ３４ａは、蓋体３５付近まで
伸長させることができ、これによりカセット１０３の取
付けを容易化することができる。

【００４５】この状態で、第１の洗浄基３２では、洗浄
器３２ｂによって洗浄液を噴出すると、当該洗浄液によ
りポッド本体部１０１の内周面に付着した塵埃等が洗い
流される。特に、洗浄器３２ｂを矢印のように回転させ
ることにより、ポッド本体部１０１の内周面が満遍なく
洗浄される。

【００４６】一方、第２の洗浄基３３では、洗浄器３４
ｂによって洗浄液を噴出すると、当該洗浄液によりカセ
ット１０３及びポット蓋部１０２の表面に付着した塵埃
等が洗い流される。この際、ポッド蓋部１０２は、底表
面１０２ｃのみが洗浄室３４に露出しているので、当該
底表面１０２ｃのみが洗浄され、係合機構１０２ａ等に
洗浄液が流入することが防止される。

【００４７】また、洗浄装置３１では、上述した洗浄装
置２１と同様に、ポッド本体部１０１については、その
内周表面だけを洗浄することができるので、効率よく必
要な洗浄を行うことができると共に、ポット本体部１０
１とポット蓋部１０２とを別々に洗浄するので、迅速な
洗浄作業が可能となる。◆そして、洗浄装置３１では、
第２の洗浄基３３にパーティクルカウンタ３６を設けた
ので、洗浄廃液中の塵埃の量を測定することによりカセ
ット１０３の洗浄具合を識別することができ、測定結果
に基づいてその洗浄時間等を最も適切なものとすること
ができる。更に、洗浄装置３１では、図５に示すような
仕切枠３７を設けた場合には、ポッド蓋部１０２のフィ
ルター１０２ｄ'を蒸気等から保護しながら洗浄処理を
行うことができる。

【００４８】次に、本発明の他の実施の形態について説
明する。◆図６乃至図１１は、請求項４又は５に対応す
る本発明の自動洗浄装置１０の概略図であって、当該装
置の各処理を表したものである。◆自動洗浄装置１０
は、洗浄対象たるポッド１００が載置される載置部１１
と、ポッド１００を洗浄するための洗浄部１２と、ポッ
ド本体部１０１を搬送するための搬送部１３と、からな
り、適当な洗浄雰囲気を有する小規模なクリーンルーム
内に置かれる。

【００４９】載置部１１は、載置されたポッド１００の
うち、ポッド蓋部１０２のみを着脱自在に係止する手
段、例えば、真空吸着器、を備えるターンテーブル１１
ａ（請求項の上蓋に対応する。）と、載置されたポッド
１００の分離・組立を行う操作機構１１ｂと、を備え
る。◆ターンテーブル１１ａは、ヒンジ１１ｃ回りに回
動自在なものである。また、操作機構１１ｂは、ポッド
蓋部１０２の操作部１０２ｂを自動的に直接操作するこ
とにより、ポッド１００の分離・組立を行うものであ
る。

【００５０】洗浄部１２は、上述した本発明の洗浄装置
１と同様の構成・機能を備えるものであって、洗浄室１
２ａと、蓋体１２ｂ（特許請求の範囲における下蓋に対
応する。）と、からなり、蓋体１２ｂは洗浄室１２ａの
開口を自動的に開閉することができるものである。◆蓋
体１２ｂは、ポッド蓋部１０２の底表面１０２ｃの大き
さの開口部１２ｂ'を備え、また、洗浄室１２ａは、そ
の内部にポッド本体部１０１が載置される昇降ステージ
１２ａ'を備える。

【００５１】搬送部１３は、ポッド本体部１０１を把持
して吊下げ、また、上下に昇降可能なグリッパ１３ａ
と、搬送部１３全体を洗浄部１２方向へ移動せしめるス
ライダ１３ｂとからなる。

【００５２】係る構成からなる自動洗浄装置１０の作用
を図６乃至図１１に沿って説明する。◆図６において、
洗浄対象たるポッド１００が図示しない搬送手段又は人
間によって載置部１１に搬送され、ターンテーブル１１
ａ上に載置される。この時、ポッド蓋部１０２はターン
テーブル１１ａに係止される。◆載置されたポッド１０
０は、ターンテーブル１１ａの裏面から操作機構１１ｂ
によって、ポッド本体部１０１とポッド蓋部１０２との
係合が解除される（図７）。

【００５３】次に、スライダ１３ｂによって搬送部１３
がポッド１００の真上に位置するまで移動する。この
時、グリッパ１３ａが一旦降下してポッド本体部１０１
を把持し、再度上昇する（図８）。更に、スライダ１３
ｂは洗浄部１２へ移動し、ポッド本体部１０１を把持し
たグリッパ１３ａが降下して、昇降ステージ１２ａ'上
にこれを搬送する。搬送後、搬送部１３は元の位置に戻
る（図９）。そして、ポッド本体部１０１を収容した洗
浄部１２は、蓋体１２ｂが自動的に洗浄室１２ａを閉口
する（図１０）。更に、蓋体１２ｂの後を追うようにし
て、ターンテーブル１１ａがポッド蓋部１０２を係止し
た状態で、ヒンジ１１ｃ回りに自動的に回動し、蓋体１
２ｂと重なって洗浄室１２ａを閉口する（図１１）。す
なわち、洗浄室１２ａは蓋体１２ｂとターンテーブル１
１ａとによって、いわば二重蓋の態様で閉口される。こ
の時、蓋体１２ｂとターンテーブル１１ａとは、ポッド
蓋部１０２の底表面１０２ｃが蓋体１２ｂの開口部１２
ｂ'にちょうど合致した状態で重なっており、ポッド蓋
部１０２はその底表面１０２ｃのみが洗浄室１２ａ内に
露出した状態にあり、図１（ｂ）における洗浄装置１と
同様の態様となる。

【００５４】この後、洗浄室１２ａ内では洗浄作業が行
われ、ポッド本体部１０１及びポッド蓋部１０２の底表
面１０２ｃに付着した塵埃等が除去される。ポッド１０
０の洗浄及び乾燥が終了すると、自動洗浄装置１０は、
上述した処理と逆の順番に処理を行って洗浄したポッド
１００を元の位置へ戻す。◆すなわち、図８の態様か
ら、ターンテーブル１１ａが元の位置に戻り、洗浄部１
２の蓋体１２ｂが開口する。搬送部１３が、洗浄部１２
内のポッド本体部１０１を取りだし、ターンテーブル１
１ａのポッド蓋部１０２上へ搬送・載置する。そして、
操作機構１１ｂによりポッド１００が組み立てられ処理
が終了する。◆このように自動洗浄装置１０ではポッド
１００を載置部１１上に載置するだけで、一連の洗浄処
理が自動的に達成される。

【００５５】次に、図３に示した洗浄装置２１を複数用
いた自動洗浄装置５０について説明する。 図１２乃至
図１７は、係る自動洗浄装置５０の概略図であって、当
該装置の各処理を表したものである。◆図１２を参照し
て、自動洗浄装置５０は、洗浄対象となるポッド１００
が格納される格納部５１と、洗浄前のポッド１００が載
置され、ポッドの分解を行うための第１の載置部５２
と、洗浄後のポッド１００が載置され、ポッドの組立て
を行うための第２の載置部５３と、ポッド１００のう
ち、ポッド本体部１０１を洗浄するための第１のクリー
ンチャンバ５４と、ポッド蓋部１０２を洗浄するための
第２のクリーンチャンバ５５と、ポッド本体部１０１を
搬送するための搬送部５６と、からなる。

【００５６】第１の載置部５２は、ポッド１００の係合
機構１０２ａを操作して、ポッド１００を分離するため
の操作機構（図示しない）と、第１の載置部５２と第２
のクリーンチャンバ５５との間で回動自在なターンテー
ブル５２ａとを備える。また、第２の載置部５３は、載
置されたポッド蓋部１０２及びポッド本体部１０１の係
合機構１０２ａを操作してこれを組み立てるための操作
機構（図示しない）と、第２の載置部５３と第２のクリ
ーンチャンバ５５との間で回動自在なターンテーブル５
３ａとを備える。

【００５７】第１のクリーンチャンバ５４は、上述した
洗浄装置２１の第１の洗浄基２２を複数搭載し、これを
一列に配置したものである。また、第２のクリーンチャ
ンバ５５は、上述した洗浄装置２１の第２の洗浄基２３
を複数搭載し、これを一列に配置したものであって、特
に、各第２の洗浄基２３間でポッド蓋部１０２を移送す
るためのスライド機構（図示せず）を備えたものであ
る。

【００５８】搬送部５６は、第１の載置部５２又は第２
の載置部５３と第１のクリーンチャンバ５４との間で、
ポッド本体部１０１を搬送する処理、及び、第１のクリ
ーンチャンバ５４の各第１の洗浄基２２間でポッド本体
部１０１を搬送する処理、等を行うものである。

【００５９】係る構成から成る自動洗浄装置５０の作用
を図１３乃至図１７に沿って説明する。◆始めに、格納
部５１内のポッド１００の内の一つが適当な手段により
第１の載置部５２上に搬送・載置され、ポッドの係合機
構１０２ａが解除される（図１３）。分離可能となった
ポッド１００のうち、ポッド本体部１０１は搬送部５６
によって第１のクリーンチャンバ５４の左端に位置する
第１の洗浄基２２まで搬送され、図３の態様の様に取付
け台２２ａに取り付けられる（図１４）。◆ポッド本体
部１０１の搬送と並行して、ターンテーブル５２ａは、
ポッド蓋部１０２を支持しながら第２のクリーンチャン
バ５５の左端に位置する第２の洗浄基２３へ向かって回
動する（図１４の矢印参照）。回動後に、ポッド蓋部１
０２は、図３の態様のように取付け台２３ａに取り付け
られる（図１４）。

【００６０】そして、ポッド本体部１０１及びポッド蓋
部１０２は、それぞれ、第１の洗浄基２２及び第２の洗
浄基２３によって洗浄される。洗浄後に、ポッド本体部
１０１は搬送部５６により右隣に位置する第１の洗浄基
２２に搬送される。また、ポッド蓋部１０２は、上述し
たスライド機構により右隣に位置する第２の洗浄基に移
送される。ポッド本体部１０１及びポッド蓋部１０２
は、移動後の第１の洗浄基２２及び第２の洗浄基２３に
よって再びそれぞれ洗浄される。洗浄されると、再び更
に右隣に位置する第１の洗浄基２２及び第２の洗浄基２
３へ移動され、移動するに従って洗浄処理から乾燥処理
に処理が移り変わり、最終的に、第１及び第２のクリー
ンチャンバ５５の右端に位置する洗浄基（２２、２３）
まで移動することとなる（図１５）。

【００６１】一方、空になった第１の洗浄基２２及び第
２の洗浄基２３には、格納部５１から搬送された新たな
ポッド１００が上述した手順を経て次々と搬送されて取
り付けられ、順に洗浄又は乾燥される（図１５）。◆こ
のようにして、ポッド本体部１０１は第１のクリーンチ
ャンバ５４の左端から右端まで移送されながら、また、
ポッド蓋部１０２は第２のクリーンチャンバ５５の左端
から右端まで移送されながら、次々と洗浄又は乾燥され
る。

【００６２】そして、各クリーンチャンバ（５４、５
５）の右端に位置する各洗浄基（２２、２３）による処
理が終了すると、始めにターンテーブル５３ａが第２の
クリーンチャンバ５５側へ回動し、ポッド蓋部１０２を
支持する。次いで、元の位置に再び回動することによ
り、ポッド蓋部１０２が第２の載置部５３上に載置され
た状態となる。ポッド蓋部１０２の移送に並行して、ポ
ッド本体部１０１は搬送部５６によって搬送され、第２
の載置部５３上に載置されたポッド蓋部１０２の上に載
置される（図１６）。第２の載置部５３は、操作機構に
よりポッド本体部１０１とポッド蓋部１０２とを組立
て、洗浄処理が全て完了したこととなる。組み立てられ
たポッド１００は、搬送部５６によって必要な位置へ搬
送される（図１７）。

【図面の簡単な説明】

【図１】（ａ）本発明に係るポッド洗浄装置１を示す外
観図である。 （ｂ）本発明に係るポッド洗浄装置１の洗浄態様を表す
構造図である。

【図２】スペーサー５をポッド蓋部１０２に取り付ける
態様を示す図である。

【図３】本発明に係る他のポッド洗浄装置２１の洗浄態
様を表す構造図である。

【図４】本発明に係る更に他のポッド洗浄装置３１の洗
浄態様を表す構造図である。

【図５】図４の第２の洗浄基３３の他の実施形態を表す
構造図である。

【図６】本発明に係る自動洗浄装置１０の概略図であ
る。

【図７】ポッド１００を分解する態様を示す図である。

【図８】ポッド本体部１０１を搬送部１３によって搬送
する態様を示す図である。

【図９】ポッド本体部１０１を洗浄部１２内に搬送した
態様を示す図である。

【図１０】洗浄部１２の蓋体１２ｂを閉口した態様を示
す図である。

【図１１】ターンテーブル１１ａを蓋体１２ｂ上に重ね
て洗浄室１２ａを閉口した態様を示す図である。

【図１２】自動洗浄装置５０の概略図である。

【図１３】ポッド１００を第１の載置部５２上に載置
し、分解する態様を示す図である。

【図１４】ポッド本体部１０１を第１のクリーンチャン
バ５４へ、ポッド蓋部１０２を第２のクリーンチャンバ
５５へ移送する態様を示す図である。

【図１５】複数のポッド１００を洗浄又は乾燥する態様
を示す図である。

【図１６】洗浄・乾燥処理の終了したポッド本体部１０
１とポッド蓋部１０２とを第２の載置部５３上に載置
し、組立てる態様を示す図である。

【図１７】洗浄・乾燥処理の終了したポッド１００を搬
送する態様を示す図である。

【図１８】ポッド１００の構造図である。

【符号の説明】

１ 洗浄装置 ２ 洗浄容器 ２ａ 洗浄室 ３ 蓋体 ３ａ 開口部 ４ ヒンジ １０ 自動洗浄装置 １１ 載置部 １１ｂ 操作機構 １２ 洗浄部 １３ 搬送部 ２１ 洗浄装置 ２２ 第１の洗浄基 ２３ 第２の洗浄基 ３１ 洗浄装置 ３２ 第１の洗浄基 ３３ 第２の洗浄基 １００ ポッド １０１ ポッド本体部 １０２ ポッド蓋部

Claims (10)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 ポッド本体部と、当該ポッド本体部との
   係合機構を備えたポッド蓋部と、からなる半導体ウエハ
   のポッドをそれぞれ分離して洗浄するための洗浄装置で
   あって、 収容物を洗浄するための手段を有する洗浄室を備え、 前記ポッド本体部は、前記洗浄室内に収容されて洗浄さ
   れ、 前記ポッド蓋部は、前記洗浄室外に配置され、かつ、前
   記洗浄室の一部に設けられた開口部を介して、前記ポッ
   ド内部に露出する部分のみが前記洗浄室内に露出して洗
   浄されることを特徴とする半導体ウエハのポッド洗浄装
   置。
2. 【請求項２】 ポッド本体部と、当該ポッド本体部との
   係合機構を備えたポッド蓋部と、からなる半導体ウエハ
   のポッドをそれぞれ分離して洗浄するための洗浄装置で
   あって、 収容物を洗浄するための手段を有する洗浄室と、前記ポ
   ッド蓋部が着脱自在に係止され、前記洗浄室を密閉する
   ための蓋体と、を備え、 前記ポッド本体部は、前記洗浄室内に収容されて洗浄さ
   れ、 前記ポッド蓋部は、前記蓋体に設けられた開口部を介し
   て、前記ポッド内部に露出する部分のみが前記洗浄室内
   に露出して洗浄されることを特徴とする半導体ウエハの
   ポッド洗浄装置。
3. 【請求項３】 前記ポッドの洗浄処理によって生じた廃
   液中の塵埃量を測定するためのセンサを設けたことを特
   徴とする請求項１又は２に記載の半導体ウエハのポッド
   洗浄装置。
4. 【請求項４】 前記蓋体が、前記洗浄室に対して各々独
   立して自動回動する下蓋と上蓋とからなる２層構造を形
   成し、前記下蓋は前記開口部を備え、前記上蓋は、前記
   ポッド蓋部を着脱自在に係止する係止手段を備えたこと
   を特徴とする請求項２に記載の半導体ウエハのポッド洗
   浄装置。
5. 【請求項５】 前記上蓋の開蓋時に当該上蓋に載置され
   た前記ポッドの前記ポッド本体部のみを前記洗浄室内へ
   搬送する搬送部を備え、 前記下蓋は、当該搬送部による搬送後に自動回動して前
   記洗浄室を閉蓋し、 前記上蓋は、前記ポッド蓋部を前記係止手段により係止
   した状態で前記下蓋の回動後に自動回動して前記洗浄室
   を閉蓋することを特徴とする請求項４に記載の半導体ウ
   エハのポッド洗浄装置。
6. 【請求項６】 ポッド本体部と、当該ポッド本体部との
   係合機構を備えたポッド蓋部と、からなる半導体ウエハ
   のポッドをそれぞれ分離して洗浄するための洗浄装置で
   あって、 前記ポッド本体部が、その開口側端面が当接するように
   取付けられ、かつ、これを洗浄するための第１の洗浄基
   と、 前記ポッド蓋部が、所定の開口部を有する仕切り部材を
   介して、当該開口部にその前記ポッド内部に露出する部
   分が合致するように取り付けられ、かつ、これを洗浄す
   るための第２の洗浄基と、からなり、 前記第１の洗浄基は、取付けられた前記ポッド本体部の
   内周表面を洗浄するための第１の洗浄手段を備え、 前記第２の洗浄基は、前記開口部から露出した前記ポッ
   ド蓋部の一部を洗浄するための第２の洗浄手段を備えた
   ことを特徴とする半導体ウエハのポッド洗浄装置。
7. 【請求項７】 前記第２の洗浄基が、前記ポッドの半導
   体ウエハを支持するためのカセットを収容して洗浄する
   ための洗浄室を備え、前記仕切り部材は、前記開口部か
   ら露出する前記ポッド蓋部の一部が前記洗浄室に露出す
   るように配置され、前記第２の洗浄手段は、前記カセッ
   ト及び前記開口部から露出した前記ポッド蓋部の一部を
   洗浄するように配置されたことを特徴とする請求項６に
   記載の半導体ウエハのポッド洗浄装置。
8. 【請求項８】 前記仕切り部材が、前記洗浄室を密閉す
   るための蓋体として形成されたことを特徴とする請求項
   ７に記載の半導体ウエハのポッド洗浄装置。
9. 【請求項９】 前記ポッドの洗浄処理によって生じた廃
   液中の塵埃量を測定するためのセンサを設けたことを特
   徴とする請求項６乃至８いずれか一項に記載の半導体ウ
   エハのポッド洗浄装置。
10. 【請求項１０】 ポッド本体部と、当該ポッド本体部と
    の係合機構を備えたポッド蓋部と、からなる半導体ウエ
    ハのポッドをそれぞれ分離して、特に前記ポッド蓋部を
    洗浄するための洗浄装置であって、 所定の開口部を有する仕切り部材と、前記開口部から露
    出した部分を洗浄するための洗浄手段と、を備え、 前記ポッド蓋部は、前記開口部にその前記ポッド内部に
    露出する部分が合致するように前記仕切り部材に取り付
    けられることを特徴とする半導体ウエハのポッド洗浄装
    置。