JPH1152134A - 位相差板の製造方法 - Google Patents
位相差板の製造方法Info
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- JPH1152134A JPH1152134A JP10158064A JP15806498A JPH1152134A JP H1152134 A JPH1152134 A JP H1152134A JP 10158064 A JP10158064 A JP 10158064A JP 15806498 A JP15806498 A JP 15806498A JP H1152134 A JPH1152134 A JP H1152134A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 位相差板をより簡便に製造し得る方法を提供
する。 【解決手段】 光反応性置換基を有する樹脂層に平行光
を照射することを特徴とする位相差板の製造方法。
する。 【解決手段】 光反応性置換基を有する樹脂層に平行光
を照射することを特徴とする位相差板の製造方法。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、位相差板の製造方
法に関する。
法に関する。
【０００２】
【従来の技術】アクティブマトリックス駆動のツイステ
ッドネマチック型液晶表示装置（ＡＭ−ＴＮ−ＬＣＤ）
は、正面から見た場合の画質と比較して、斜め方向から
見た場合の画質の低下、すなわちコントラストの低下、
色相の変化が大きく、そのため、位相差板をＡＭ−ＴＮ
−ＬＣＤの前面に配置して、かかる画質の低下を防止す
ることが広く行われている。かかる位相差板としては、
例えば捩じれマチック液晶を用いた位相差板（特開平６
−２５０１６６号公報）、ディスコチック液晶を用いた
位相差板（特開平６−２１４１１６号公報）などが提案
されているが、これらの位相差板は液晶を用いるもので
あるため、安定的に生産することが難しいという問題が
あった。
ッドネマチック型液晶表示装置（ＡＭ−ＴＮ−ＬＣＤ）
は、正面から見た場合の画質と比較して、斜め方向から
見た場合の画質の低下、すなわちコントラストの低下、
色相の変化が大きく、そのため、位相差板をＡＭ−ＴＮ
−ＬＣＤの前面に配置して、かかる画質の低下を防止す
ることが広く行われている。かかる位相差板としては、
例えば捩じれマチック液晶を用いた位相差板（特開平６
−２５０１６６号公報）、ディスコチック液晶を用いた
位相差板（特開平６−２１４１１６号公報）などが提案
されているが、これらの位相差板は液晶を用いるもので
あるため、安定的に生産することが難しいという問題が
あった。
【０００３】そこで、光異性化物質を含むシートに直線
偏光紫外線が照射されてなる位相差板（特開平６−２６
５７２３８号公報）、光反応性物質に特定方向の静電場
または静磁場を照射しながら反応させて得られる位相差
板（特開平５−２１５９２１号公報）などが提案されて
いるが、これらの位相差板は直線偏光紫外線や、強力な
静電場または静磁場を必要とするため、工業的規模での
製造が難しいと言う問題があった。
偏光紫外線が照射されてなる位相差板（特開平６−２６
５７２３８号公報）、光反応性物質に特定方向の静電場
または静磁場を照射しながら反応させて得られる位相差
板（特開平５−２１５９２１号公報）などが提案されて
いるが、これらの位相差板は直線偏光紫外線や、強力な
静電場または静磁場を必要とするため、工業的規模での
製造が難しいと言う問題があった。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】そこで、本発明者は、
位相差板をより簡便に製造し得る方法を開発するべく鋭
意検討した結果、特定の置換基を有する重合体に平行光
を照射することにより容易に位相差板を製造し得ること
を見出し、本発明に至った。
位相差板をより簡便に製造し得る方法を開発するべく鋭
意検討した結果、特定の置換基を有する重合体に平行光
を照射することにより容易に位相差板を製造し得ること
を見出し、本発明に至った。
【０００５】
【課題を解決するための手段】すなわち、本発明は、光
反応性置換基を有する樹脂層に平行光を照射することを
特徴とする位相差板の製造方法を提供するものである。
反応性置換基を有する樹脂層に平行光を照射することを
特徴とする位相差板の製造方法を提供するものである。
【０００６】
【発明の実施の形態】本発明の位相差板に適用される光
反応性置換基とは、光によって励起され反応する性質を
有する置換基であって、例えば光を照射されることによ
って互いに結合する置換基、光を照射されることによっ
てシス−トランス異性化する置換基などが挙げられる。
反応性置換基とは、光によって励起され反応する性質を
有する置換基であって、例えば光を照射されることによ
って互いに結合する置換基、光を照射されることによっ
てシス−トランス異性化する置換基などが挙げられる。
【０００７】光を照射されることによって互いに結合す
る置換基としては、例えばシンナモイル基、２−ニトロ
エテニルフェニル基、２−シアノエテニルフェニル基、
２−（２−ピリジル）エテニルフェニル基、２−（Ｎ−
メチル−２−ピリジル）エテニルフェニル基、β−スチ
リルアクリロイル基、β−フリルアクリロイル基、アン
トラニル基などが挙げられる。これらの置換基は光を照
射されることによって互いに結合する。
る置換基としては、例えばシンナモイル基、２−ニトロ
エテニルフェニル基、２−シアノエテニルフェニル基、
２−（２−ピリジル）エテニルフェニル基、２−（Ｎ−
メチル−２−ピリジル）エテニルフェニル基、β−スチ
リルアクリロイル基、β−フリルアクリロイル基、アン
トラニル基などが挙げられる。これらの置換基は光を照
射されることによって互いに結合する。
【０００８】光を照射されることによってシス−トラン
ス異性化する置換基としては、例えばフェニルアゾフェ
ニル基、Ｎ−ベンジリデンアミノフェニル基、β−フェ
ニルスチリル基などが挙げられる。これらの置換基は光
を照射されることによってシス−トランス異性化する。
ス異性化する置換基としては、例えばフェニルアゾフェ
ニル基、Ｎ−ベンジリデンアミノフェニル基、β−フェ
ニルスチリル基などが挙げられる。これらの置換基は光
を照射されることによってシス−トランス異性化する。
【０００９】これらの光反応性置換基は、それぞれ１種
または２種以上を組合わされる。すなわち、光を照射さ
れることによって互いに結合する置換基の１種若しくは
２種以上、光を照射されることによってシス−トランス
異性化する置換基の１種若しくは２種以上、または互い
に結合する置換基の１種以上とシス−トランス異性化す
る置換基の１種以上とが組み合わされる。かかる置換基
は、紫外線によって励起され反応する性質を有する置換
基であることが、位相差板として使用中に通常の可視光
で反応することがない点で好ましい。
または２種以上を組合わされる。すなわち、光を照射さ
れることによって互いに結合する置換基の１種若しくは
２種以上、光を照射されることによってシス−トランス
異性化する置換基の１種若しくは２種以上、または互い
に結合する置換基の１種以上とシス−トランス異性化す
る置換基の１種以上とが組み合わされる。かかる置換基
は、紫外線によって励起され反応する性質を有する置換
基であることが、位相差板として使用中に通常の可視光
で反応することがない点で好ましい。
【００１０】かかる光反応性置換基を有する樹脂層を構
成する樹脂は、例えば光反応性置換基を有する単量体が
重合されてなる重合体であってもよいし、該重合体と光
反応性置換基を有さない重合体との混合物であってもよ
い。単量体単位は、光反応性置換基を１個有していても
よいし、２個以上有していてもよい。
成する樹脂は、例えば光反応性置換基を有する単量体が
重合されてなる重合体であってもよいし、該重合体と光
反応性置換基を有さない重合体との混合物であってもよ
い。単量体単位は、光反応性置換基を１個有していても
よいし、２個以上有していてもよい。
【００１１】かかる単量体単位としては、例えばビニル
シンナメート、ビニル−ｐ−メトキシシンナメート、ビ
ニル−３，４ジメトキシシンナメート、ビニル−ｐ−ニ
トロシンナメート、ビニル−α−シアノシンナメートな
どのビニルシンナメート誘導体、ｐ−シンナモイルスチ
レン、ｐ−シンナモイルフェニルアクリレート、ｐ−シ
ンナモイルフェニルメタクリレート、３−（ｐ−シンナ
モイルフェニルオキシ）−２−ヒドロキシプロピル メ
タクリレート、２−（ｐ−シンナモイルフェニルオキ
シ）エチル アクリレートなどのβ−フリルアクリレー
ト誘導体、ビニルβ−フリル アクリレートなどのフリ
ルアクリレート誘導体、ｐ−（２−ピリジルエテニル）
スチレン、ｐ−（２−ピリミジルエテニル）スチレンな
どのスチリルピリジン誘導体、７−クマリルアクリレー
トなどのクマリン誘導体などが挙げられる。かかる単量
体単位を有する重合体は、上記各単量体の単独重合体で
あってもよいし、２種以上の共重合体であってもよい。
シンナメート、ビニル−ｐ−メトキシシンナメート、ビ
ニル−３，４ジメトキシシンナメート、ビニル−ｐ−ニ
トロシンナメート、ビニル−α−シアノシンナメートな
どのビニルシンナメート誘導体、ｐ−シンナモイルスチ
レン、ｐ−シンナモイルフェニルアクリレート、ｐ−シ
ンナモイルフェニルメタクリレート、３−（ｐ−シンナ
モイルフェニルオキシ）−２−ヒドロキシプロピル メ
タクリレート、２−（ｐ−シンナモイルフェニルオキ
シ）エチル アクリレートなどのβ−フリルアクリレー
ト誘導体、ビニルβ−フリル アクリレートなどのフリ
ルアクリレート誘導体、ｐ−（２−ピリジルエテニル）
スチレン、ｐ−（２−ピリミジルエテニル）スチレンな
どのスチリルピリジン誘導体、７−クマリルアクリレー
トなどのクマリン誘導体などが挙げられる。かかる単量
体単位を有する重合体は、上記各単量体の単独重合体で
あってもよいし、２種以上の共重合体であってもよい。
【００１２】また、かかる重合体において、光反応性置
換基は側鎖に存在していてもよいし、主鎖中に存在して
いてもよい。
換基は側鎖に存在していてもよいし、主鎖中に存在して
いてもよい。
【００１３】側鎖に光反応性置換基が存在する重合体と
しては、例えば化学式（Ｐ−０１） 〔式中、ｎは自然数を示す。〕 ポリビニルシンナメート誘導体構造を有する重合体、化
学式（Ｐ−０２） 〔式中、ｎは自然数を示す。〕 ポリビニルシンナメート誘導体構造を有する重合体、化
学式（Ｐ−０３） 〔式中、ｎは自然数を示す。〕 ポリビニルシンナメート誘導体構造を有する重合体、化
学式（Ｐ−０４） 〔式中、ｎは自然数を示す。〕 ポリビニルシンナメート誘導体構造を有する重合体、化
学式（Ｐ−０５） 〔式中、ｎは自然数を示す。〕で示されるポリビニルシ
ンナメート誘導体構造を有する重合体、
しては、例えば化学式（Ｐ−０１） 〔式中、ｎは自然数を示す。〕 ポリビニルシンナメート誘導体構造を有する重合体、化
学式（Ｐ−０２） 〔式中、ｎは自然数を示す。〕 ポリビニルシンナメート誘導体構造を有する重合体、化
学式（Ｐ−０３） 〔式中、ｎは自然数を示す。〕 ポリビニルシンナメート誘導体構造を有する重合体、化
学式（Ｐ−０４） 〔式中、ｎは自然数を示す。〕 ポリビニルシンナメート誘導体構造を有する重合体、化
学式（Ｐ−０５） 〔式中、ｎは自然数を示す。〕で示されるポリビニルシ
ンナメート誘導体構造を有する重合体、
【００１４】化学式（Ｐ−０６） 〔式中、ｎは自然数を示す。〕で示されるカルコン誘導
体構造を有する重合体、化学式（Ｐ−０７） 〔式中、ｎは自然数を示す。〕で示されるカルコン誘導
体構造を有する重合体、化学式（Ｐ−０８） 〔式中、ｎは自然数を示す。〕で示されるカルコン誘導
体構造を有する重合体、化学式（Ｐ−０９） 〔式中、ｎは自然数を示す。〕で示されるカルコン誘導
体構造を有する重合体、化学式（Ｐ−１０） 〔式中、ｎは自然数を示す。〕で示されるカルコン誘導
体構造を有する重合体、
体構造を有する重合体、化学式（Ｐ−０７） 〔式中、ｎは自然数を示す。〕で示されるカルコン誘導
体構造を有する重合体、化学式（Ｐ−０８） 〔式中、ｎは自然数を示す。〕で示されるカルコン誘導
体構造を有する重合体、化学式（Ｐ−０９） 〔式中、ｎは自然数を示す。〕で示されるカルコン誘導
体構造を有する重合体、化学式（Ｐ−１０） 〔式中、ｎは自然数を示す。〕で示されるカルコン誘導
体構造を有する重合体、
【００１５】一般式（Ｐ−１１） 〔式中、ｎは自然数を示す。〕で示されるβ−フリルア
クリレート構造を有する重合体、
クリレート構造を有する重合体、
【００１６】化学式（Ｐ−１２） 〔式中、ｎは自然数を示す。〕で示されるβ−スチルピ
リジン構造を有する重合体、化学式（Ｐ−１３） 〔式中、ｎは自然数を示す。〕で示されるβ−スチルピ
リジン構造を有する重合体、
リジン構造を有する重合体、化学式（Ｐ−１３） 〔式中、ｎは自然数を示す。〕で示されるβ−スチルピ
リジン構造を有する重合体、
【００１７】一般式（Ｐ−１４） 〔式中、ｎは自然数を示す。〕で示されるクマリン構造
を有する重合体などが挙げられる。
を有する重合体などが挙げられる。
【００１８】かかる側鎖に光反応性置換基が存在する重
合体は、共重合成分として他の端老体単位を含んでいて
もよい。他の単量体単位としては、例えばエチレン単
位、プロピレン単位などのオレフィン単位、アクリル酸
エステル単位、スチレン単位などが挙げられる。かかる
他の単量体単位を含む場合、光反応性置換基が側鎖に存
在する単量体単位の含有量は、目的とする位相差板の位
相差の大きさに応じて適宜選択される。
合体は、共重合成分として他の端老体単位を含んでいて
もよい。他の単量体単位としては、例えばエチレン単
位、プロピレン単位などのオレフィン単位、アクリル酸
エステル単位、スチレン単位などが挙げられる。かかる
他の単量体単位を含む場合、光反応性置換基が側鎖に存
在する単量体単位の含有量は、目的とする位相差板の位
相差の大きさに応じて適宜選択される。
【００１９】光反応性置換基が主鎖中に存在する重合体
としては、例えば化学式（Ｐ−１５） 〔式中、ｎは自然数を示す。〕で示される重合体、化学
式（Ｐ−１６） 〔式中、ｎは自然数を示す。〕で示される重合体、化学
式（Ｐ−１７） 〔式中、ｎは自然数を示す。〕で示される重合体、化学
式（Ｐ−１８） 〔式中、ｎは自然数を示す。〕で示される重合体、
としては、例えば化学式（Ｐ−１５） 〔式中、ｎは自然数を示す。〕で示される重合体、化学
式（Ｐ−１６） 〔式中、ｎは自然数を示す。〕で示される重合体、化学
式（Ｐ−１７） 〔式中、ｎは自然数を示す。〕で示される重合体、化学
式（Ｐ−１８） 〔式中、ｎは自然数を示す。〕で示される重合体、
【００２０】化学式（Ｐ−１９） 〔式中、ｎは自然数を示す。〕で示される重合体、化学
式（Ｐ−２０） 〔式中、ｎは自然数を示す。〕で示される重合体、化学
式（Ｐ−２１） 〔式中、ｎは自然数を示す。〕で示される重合体、化学
式（Ｐ−２２） 〔式中、ｎは自然数を示す。〕で示される重合体などが
挙げられる。
式（Ｐ−２０） 〔式中、ｎは自然数を示す。〕で示される重合体、化学
式（Ｐ−２１） 〔式中、ｎは自然数を示す。〕で示される重合体、化学
式（Ｐ−２２） 〔式中、ｎは自然数を示す。〕で示される重合体などが
挙げられる。
【００２１】かかる光反応性置換基が主鎖中に存在する
重合体は、共重合成分として他の単量体単位を含んでい
てもよい。他の単量体単位としては、例えばエチレング
リコール、プロピレングリコール、テトラメチレングリ
コール、ビスフェノール−Ａ、ハイドロキノン、４，
４’−ジヒドロキシジフェニル、芳香族ジオール、アジ
ピン酸、テレフタル酸、２，６−ジカルボキシナフタレ
ン、芳香族ジカルボン酸、ｐ−ヒドロキシ安息香酸、乳
酸、芳香族ヒドロキシカルボン酸などが挙げられる。か
かる他の単量体単位を含む場合、光反応性置換基が主鎖
中に存在する単量体単位の含有量は、目的とする位相差
板の位相差の大きさに応じて適宜選択される。かかる主
鎖中に光反応性置換基を有する重合体は、より透明性に
優れた位相差板が得られる点で、好ましく使用される。
重合体は、共重合成分として他の単量体単位を含んでい
てもよい。他の単量体単位としては、例えばエチレング
リコール、プロピレングリコール、テトラメチレングリ
コール、ビスフェノール−Ａ、ハイドロキノン、４，
４’−ジヒドロキシジフェニル、芳香族ジオール、アジ
ピン酸、テレフタル酸、２，６−ジカルボキシナフタレ
ン、芳香族ジカルボン酸、ｐ−ヒドロキシ安息香酸、乳
酸、芳香族ヒドロキシカルボン酸などが挙げられる。か
かる他の単量体単位を含む場合、光反応性置換基が主鎖
中に存在する単量体単位の含有量は、目的とする位相差
板の位相差の大きさに応じて適宜選択される。かかる主
鎖中に光反応性置換基を有する重合体は、より透明性に
優れた位相差板が得られる点で、好ましく使用される。
【００２２】光反応性置換基を有する重合体と光反応性
置換基を有さない重合体との混合物における光反応性置
換基を有さない重合体としては、透明性を有する重合体
であれば特に限定されるものではない。また、光反応性
置換基を有する重合体と相分離することなく、混合でき
るものであれば好ましい。かかる光反応性置換基を有さ
ない重合体としては、例えばポリアクリル酸メチル、ポ
リメタクリル酸メチルなどのアクリル系重合体、ポリカ
ーボネート、ポリビニルアルコールおよびこれらの混合
物などが挙げられる。
置換基を有さない重合体との混合物における光反応性置
換基を有さない重合体としては、透明性を有する重合体
であれば特に限定されるものではない。また、光反応性
置換基を有する重合体と相分離することなく、混合でき
るものであれば好ましい。かかる光反応性置換基を有さ
ない重合体としては、例えばポリアクリル酸メチル、ポ
リメタクリル酸メチルなどのアクリル系重合体、ポリカ
ーボネート、ポリビニルアルコールおよびこれらの混合
物などが挙げられる。
【００２３】これらの重合体または混合物から樹脂層を
得るには、例えば該重合体または混合物を溶媒に溶解し
た後、基材上に塗布し乾燥させればよい。溶媒として
は、例えば塩化メチレンなどが、基材としては、例えば
ガラス板、フィルムなどがそれぞれ挙げられる。また、
平滑な型の上に塗布し溶媒を蒸発させて膜を形成し、こ
れを型から離型してもよい。さらに、押出成形法、熱プ
レス法などによって、フィルム状に成形してもよい。樹
脂層の厚みは通常０．５μｍ以上であり、好ましくは
０．５〜５００μｍ程度である。
得るには、例えば該重合体または混合物を溶媒に溶解し
た後、基材上に塗布し乾燥させればよい。溶媒として
は、例えば塩化メチレンなどが、基材としては、例えば
ガラス板、フィルムなどがそれぞれ挙げられる。また、
平滑な型の上に塗布し溶媒を蒸発させて膜を形成し、こ
れを型から離型してもよい。さらに、押出成形法、熱プ
レス法などによって、フィルム状に成形してもよい。樹
脂層の厚みは通常０．５μｍ以上であり、好ましくは
０．５〜５００μｍ程度である。
【００２４】本発明においては、かくして得られた樹脂
層に平行光を照射する。照射される平行光は光の進行方
向が概ね一方向である光であり、通常、全光線エネルギ
ーの８０％以上が主光線方向から±２０°の範囲にあ
り、±１５°の範囲、更には±１０°の範囲にあること
が好ましい。
層に平行光を照射する。照射される平行光は光の進行方
向が概ね一方向である光であり、通常、全光線エネルギ
ーの８０％以上が主光線方向から±２０°の範囲にあ
り、±１５°の範囲、更には±１０°の範囲にあること
が好ましい。
【００２５】このような平行光は、例えば光源からの光
を凸レンズなどを用いて平行光とする方法、光源からの
光を反射鏡などをによって集光したのちスリットを通す
方法、レーザー光線などを用いる方法などによって容易
に得ることができる。平行光の照射エネルギーは光反応
性置換基の種類やその含有量、樹脂層の厚みなどに応じ
て適宜選択されるが、通常は１Ｊ／ｃｍ2〜１０ｋＪ／
ｃｍ2程度の範囲、好ましくは１０Ｊ／ｃｍ2〜５ｋＪ／
ｃｍ2程度の範囲である。
を凸レンズなどを用いて平行光とする方法、光源からの
光を反射鏡などをによって集光したのちスリットを通す
方法、レーザー光線などを用いる方法などによって容易
に得ることができる。平行光の照射エネルギーは光反応
性置換基の種類やその含有量、樹脂層の厚みなどに応じ
て適宜選択されるが、通常は１Ｊ／ｃｍ2〜１０ｋＪ／
ｃｍ2程度の範囲、好ましくは１０Ｊ／ｃｍ2〜５ｋＪ／
ｃｍ2程度の範囲である。
【００２６】平行光の波長は用いる光反応性置換基を反
応させることができる波長であればよく、用いる光反応
性置換基によって適宜選択されるが、得られた位相差板
を可視光の下で使用している際に光反応性置換基が反応
することがない点で、紫外線であることが好ましい。光
源としては、例えば高圧水銀ランプ、メタルハライドラ
ンプ、レーザーなどの通常の光源を用いることができ
る。
応させることができる波長であればよく、用いる光反応
性置換基によって適宜選択されるが、得られた位相差板
を可視光の下で使用している際に光反応性置換基が反応
することがない点で、紫外線であることが好ましい。光
源としては、例えば高圧水銀ランプ、メタルハライドラ
ンプ、レーザーなどの通常の光源を用いることができ
る。
【００２７】かかる平行光は樹脂層に照射される。平行
光が樹脂層を透過することによって、光反応性置換基が
励起されて反応し、特定の方向に光軸を有する位相差板
は選られる。得られる位相差板における光軸の方向は樹
脂層を透過する平行光の方向によって決められる。従っ
て、目的とする方向の光軸を有する位相差板を得るに
は、樹脂層への平行光の照射角度を、該樹脂層の屈折率
を勘案して適宜選択すればよい。
光が樹脂層を透過することによって、光反応性置換基が
励起されて反応し、特定の方向に光軸を有する位相差板
は選られる。得られる位相差板における光軸の方向は樹
脂層を透過する平行光の方向によって決められる。従っ
て、目的とする方向の光軸を有する位相差板を得るに
は、樹脂層への平行光の照射角度を、該樹脂層の屈折率
を勘案して適宜選択すればよい。
【００２８】かくして得られた位相差板は、樹脂層が設
けられた基材から剥離することなくそのまま基材と一体
的に積層された状態で使用されてもよいし、基材から剥
離して用いられてもよい。
けられた基材から剥離することなくそのまま基材と一体
的に積層された状態で使用されてもよいし、基材から剥
離して用いられてもよい。
【００２９】また、他のフィルムと貼合して用いること
もできる。かかる他のフィルムは、その面内の位相差が
１００ｎｍ以下であることが好ましい。また、用いた光
反応性置換基を有する樹脂層が反応する波長の光を選択
的に遮蔽するフィルムであることが好ましい。他のフィ
ルムは、位相差板が基材から剥離されることなく用いら
れる場合には、通常は、該位相差板の基材とは反対側の
面に貼合される。基材から剥離して用いる場合には、該
位相差板の両面に貼合してもよいし、片面に貼合しても
よい。
もできる。かかる他のフィルムは、その面内の位相差が
１００ｎｍ以下であることが好ましい。また、用いた光
反応性置換基を有する樹脂層が反応する波長の光を選択
的に遮蔽するフィルムであることが好ましい。他のフィ
ルムは、位相差板が基材から剥離されることなく用いら
れる場合には、通常は、該位相差板の基材とは反対側の
面に貼合される。基材から剥離して用いる場合には、該
位相差板の両面に貼合してもよいし、片面に貼合しても
よい。
【００３０】
【発明の効果】本発明の方法によれば、位相差板を容易
に製造することができる。
に製造することができる。
【００３１】
【実施例】以下、実施例により本発明をより詳細に説明
するが、本発明はこれら実施例により限定されるもので
はない。
するが、本発明はこれら実施例により限定されるもので
はない。
【００３２】なお、各実施例において照射した紫外線の
平行性は、全光線エネルギーの８０％が照射される範囲
として以下のようにして測定した。５ｍｍ径の穴を開け
たアルミ板を樹脂層の位置に置き、アルミ板の下１０ｃ
ｍの位置における紫外線の照射光量分布を紫外線照度計
を用いて求め、得られた照射光量分布から全光線エネル
ギーの８０％が照査される角度範囲を求めた。
平行性は、全光線エネルギーの８０％が照射される範囲
として以下のようにして測定した。５ｍｍ径の穴を開け
たアルミ板を樹脂層の位置に置き、アルミ板の下１０ｃ
ｍの位置における紫外線の照射光量分布を紫外線照度計
を用いて求め、得られた照射光量分布から全光線エネル
ギーの８０％が照査される角度範囲を求めた。
【００３３】実施例１ 〔樹脂層の製造〕遮光下、化学式（Ｐ−０１）で示され
る重合体（ポリビニルシンナメート、平均重合度１７０
０）１ｇを塩化メチレン３ｇに溶解して得た溶液をガラ
ス基板上にウエット厚み２００μｍで塗布した。その
後、遮光下で６０℃、１時間乾燥し、さらに６０℃で１
夜真空乾燥して、ポリビニルシンナメートの樹脂層（厚
み４０μｍ）をガラス基板上に得た。
る重合体（ポリビニルシンナメート、平均重合度１７０
０）１ｇを塩化メチレン３ｇに溶解して得た溶液をガラ
ス基板上にウエット厚み２００μｍで塗布した。その
後、遮光下で６０℃、１時間乾燥し、さらに６０℃で１
夜真空乾燥して、ポリビニルシンナメートの樹脂層（厚
み４０μｍ）をガラス基板上に得た。
【００３４】〔位相差板の製造〕このガラス基板（５）
上に形成された樹脂層（４）に、その法線（８）に対し
て４５°の方向から、高圧水銀ランプ（１）と凸レンズ
（２）を用いて得られた平行光（紫外線、２ｋＪ／ｃｍ
2）（３）を照射して（図１）、位相差板（９）を得
た。なお、照射された紫外線の全光線エネルギーの８０
％は主光線方向から±１１．５°の範囲に照射されてお
り、また紫外線照射前の樹脂層（４）と、得られた位相
差板（９）とでは外観的な変化はなかった。位相差板
（９）の位相差の角度依存性は、この位相差板（９）を
ガラス基板（５）上に保持したまま、ガラス基板（５）
をその照射傾斜軸（６）を中心にして回転させながら、
基準線（７）方向からの位相差を求めることにより測定
した（図３）。ガラス基板の法線方向（８）と基準線
（７）との角をθとした。該角（θ）と位相差板の位相
差（レターデーション）との関係を図４に示す。
上に形成された樹脂層（４）に、その法線（８）に対し
て４５°の方向から、高圧水銀ランプ（１）と凸レンズ
（２）を用いて得られた平行光（紫外線、２ｋＪ／ｃｍ
2）（３）を照射して（図１）、位相差板（９）を得
た。なお、照射された紫外線の全光線エネルギーの８０
％は主光線方向から±１１．５°の範囲に照射されてお
り、また紫外線照射前の樹脂層（４）と、得られた位相
差板（９）とでは外観的な変化はなかった。位相差板
（９）の位相差の角度依存性は、この位相差板（９）を
ガラス基板（５）上に保持したまま、ガラス基板（５）
をその照射傾斜軸（６）を中心にして回転させながら、
基準線（７）方向からの位相差を求めることにより測定
した（図３）。ガラス基板の法線方向（８）と基準線
（７）との角をθとした。該角（θ）と位相差板の位相
差（レターデーション）との関係を図４に示す。
【００３５】実施例２ 〔化学式（Ｐ−０２）で示される重合体の製造〕遮光
下、窒素気流下、ｐ−メトキシけい皮酸２５．９ｇを２
５ｍｌの塩化チオニルに加熱溶解し、還流下１時間反応
させた。未反応の塩化チオニルを減圧下、完全に留去し
た。得られた固体を乾燥テトラヒドロフラン２５ｍｌに
溶解し、ポリビニルアルコール（クラレ製、重合度１７
００）５．３ｇを乾燥テトラヒドロフラン５０ｍｌに溶
解させた溶液に滴下、還流下で２時間反応させた。反応
溶液を冷却後、１５００ｍｌのメタノールに沈殿させ、
化学式（Ｐ−０２）で示される重合体を得た。この重合
体をクロロホルムに再溶解後、メタノールに再沈殿させ
て精製した（収量１７．７ｇ）。
下、窒素気流下、ｐ−メトキシけい皮酸２５．９ｇを２
５ｍｌの塩化チオニルに加熱溶解し、還流下１時間反応
させた。未反応の塩化チオニルを減圧下、完全に留去し
た。得られた固体を乾燥テトラヒドロフラン２５ｍｌに
溶解し、ポリビニルアルコール（クラレ製、重合度１７
００）５．３ｇを乾燥テトラヒドロフラン５０ｍｌに溶
解させた溶液に滴下、還流下で２時間反応させた。反応
溶液を冷却後、１５００ｍｌのメタノールに沈殿させ、
化学式（Ｐ−０２）で示される重合体を得た。この重合
体をクロロホルムに再溶解後、メタノールに再沈殿させ
て精製した（収量１７．７ｇ）。
【００３６】〔樹脂層および位相差板の製造〕ポリビニ
ルシンナメートに代えて上記で得た化学式（Ｐ−０２）
で示される重合体を用いる以外は、実施例１と同様に操
作して、樹脂層を得、位相差板を得た。この位相差板に
おける角（θ）と位相差板の位相差（レターデーショ
ン）との関係を図５に示す。
ルシンナメートに代えて上記で得た化学式（Ｐ−０２）
で示される重合体を用いる以外は、実施例１と同様に操
作して、樹脂層を得、位相差板を得た。この位相差板に
おける角（θ）と位相差板の位相差（レターデーショ
ン）との関係を図５に示す。
【００３７】実施例３ 〔化学式（Ｐ−１９）で示される重合体の製造〕遮光
下、フェルラ酸５０ｇをメタノール１７０ｍｌに溶解さ
せた溶液に濃硫酸を６．９ｇ添加し、２時間加熱還流し
た。反応混合物を冷却し、１０００ｍｌの氷水に注入
し、析出した固体を濾過、水洗し、真空乾燥を行い、フ
ェルラ酸メチル５２．８ｇを得た。フェルラ酸メチル１
０ｇ、アセトニトリル４０ｍｌ、炭酸カリウム３８．８
ｇ、臭化テトラｎ−ブチルアンモニウム０．１８ｇの混
合物に窒素気流下、加熱還流させながら３−ブロモプロ
パノール１５．６ｇを３０分かけて滴下した後、４時間
反応させた。冷却後、反応混合物を濾過し、濾液を濃縮
した。残さを酢酸エチルに再溶解し、炭酸ナトリウム溶
液、水で洗浄した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥
した後濃縮して化学式（Ｐ−１９）で示される重合体を
得るための単量体を得た。粗生成物はトルエンから再結
晶して精製した。精製した単量体１０．０ｇを入れたナ
ス型フラスコをオイルバスで１００℃に加熱、モノマー
を溶融した状態で真空脱気／窒素導入を繰り返し、系内
の脱気を行った。窒素で常圧に戻した後、０．５３４ｇ
のテトライソプロポキシチタンの２０ｗｔ％トルエン溶
液を加えた。系内を３ｍｍＨｇまで減圧し、トルエンの
揮発が止んだ後、１時間かけて２００℃まで昇温した。
反応器を冷却後、内容物を１００ｍｌのクロロホルムで
抽出、メタノールに再沈殿して化学式（Ｐ−１９）で示
される重合体を得た。
下、フェルラ酸５０ｇをメタノール１７０ｍｌに溶解さ
せた溶液に濃硫酸を６．９ｇ添加し、２時間加熱還流し
た。反応混合物を冷却し、１０００ｍｌの氷水に注入
し、析出した固体を濾過、水洗し、真空乾燥を行い、フ
ェルラ酸メチル５２．８ｇを得た。フェルラ酸メチル１
０ｇ、アセトニトリル４０ｍｌ、炭酸カリウム３８．８
ｇ、臭化テトラｎ−ブチルアンモニウム０．１８ｇの混
合物に窒素気流下、加熱還流させながら３−ブロモプロ
パノール１５．６ｇを３０分かけて滴下した後、４時間
反応させた。冷却後、反応混合物を濾過し、濾液を濃縮
した。残さを酢酸エチルに再溶解し、炭酸ナトリウム溶
液、水で洗浄した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥
した後濃縮して化学式（Ｐ−１９）で示される重合体を
得るための単量体を得た。粗生成物はトルエンから再結
晶して精製した。精製した単量体１０．０ｇを入れたナ
ス型フラスコをオイルバスで１００℃に加熱、モノマー
を溶融した状態で真空脱気／窒素導入を繰り返し、系内
の脱気を行った。窒素で常圧に戻した後、０．５３４ｇ
のテトライソプロポキシチタンの２０ｗｔ％トルエン溶
液を加えた。系内を３ｍｍＨｇまで減圧し、トルエンの
揮発が止んだ後、１時間かけて２００℃まで昇温した。
反応器を冷却後、内容物を１００ｍｌのクロロホルムで
抽出、メタノールに再沈殿して化学式（Ｐ−１９）で示
される重合体を得た。
【００３８】〔樹脂層の製造〕上記で得た化学式（Ｐ−
１９）で示される重合体を、鏡面ステンレス板の間にポ
リエチレンテレフタレートフィルム（厚み３８μｍ）を
スペーサーとして挟持し、２００℃、２０分間で熱プレ
スを行い、樹脂層をフィルム（厚み５０μｍ）として得
た。同様にして複数の樹脂層をフィルムとして得た。
１９）で示される重合体を、鏡面ステンレス板の間にポ
リエチレンテレフタレートフィルム（厚み３８μｍ）を
スペーサーとして挟持し、２００℃、２０分間で熱プレ
スを行い、樹脂層をフィルム（厚み５０μｍ）として得
た。同様にして複数の樹脂層をフィルムとして得た。
【００３９】〔位相差板の製造〕図２に示すように、上
記で得た複数の樹脂層（４）に、その法線方向（１０）
に対して角度４５°の方向から平行光（１４）を照射し
て位相差板（９）を得た。平行光は、長さ６０ｃｍの棒
状の高圧水銀ランプ（１１）と、平行光型反射鏡（１
２）と、２ｃｍ間隔で配置された長さ２０ｃｍのルーバ
ー（１３）を用いて得た。平行光は、紫外線であり、照
射エネルギーは１２Ｊ／ｃｍ2であった。この平行光は
照射距離３０ｃｍで樹脂層（４）に照射した。なお、照
射された紫外線の全光線エネルギーの８０％は主光線方
向から±１０°の範囲に照射されていた。また紫外線照
射前の樹脂層（４）と得られた位相差板（９）とでは外
観的な変化はなかった。この位相差板における角（θ）
と位相差板の位相差（レターデーション）との関係を図
６に示す。
記で得た複数の樹脂層（４）に、その法線方向（１０）
に対して角度４５°の方向から平行光（１４）を照射し
て位相差板（９）を得た。平行光は、長さ６０ｃｍの棒
状の高圧水銀ランプ（１１）と、平行光型反射鏡（１
２）と、２ｃｍ間隔で配置された長さ２０ｃｍのルーバ
ー（１３）を用いて得た。平行光は、紫外線であり、照
射エネルギーは１２Ｊ／ｃｍ2であった。この平行光は
照射距離３０ｃｍで樹脂層（４）に照射した。なお、照
射された紫外線の全光線エネルギーの８０％は主光線方
向から±１０°の範囲に照射されていた。また紫外線照
射前の樹脂層（４）と得られた位相差板（９）とでは外
観的な変化はなかった。この位相差板における角（θ）
と位相差板の位相差（レターデーション）との関係を図
６に示す。
【００４０】実施例４ 〔化学式（Ｐ−２０）で示される重合体の製造〕フェル
ラ酸５０ｇに代えてイソフェルラ酸５０ｇを用いる以外
は実施例３と同様に操作して、化学式（Ｐ−２０）で示
される重合体を得た。
ラ酸５０ｇに代えてイソフェルラ酸５０ｇを用いる以外
は実施例３と同様に操作して、化学式（Ｐ−２０）で示
される重合体を得た。
【００４１】〔樹脂層および位相差板の製造〕化学式
（Ｐ−１９）で示される重合体に代えて、上記で得た化
学式（Ｐ−２０）で示される重合体を用いた以外は、実
施例３と同様に操作して、樹脂層を得、位相差板を得
た。なお、紫外線照射前の樹脂層と、得られた位相差板
とでは外観的な変化はなかった。この位相差板における
角（θ）と位相差板の位相差（レターデーション）との
関係を図７に示す。
（Ｐ−１９）で示される重合体に代えて、上記で得た化
学式（Ｐ−２０）で示される重合体を用いた以外は、実
施例３と同様に操作して、樹脂層を得、位相差板を得
た。なお、紫外線照射前の樹脂層と、得られた位相差板
とでは外観的な変化はなかった。この位相差板における
角（θ）と位相差板の位相差（レターデーション）との
関係を図７に示す。
【００４２】実施例５ 〔化学式（Ｐ−２１）で示される重合体の製造〕遮光
下、フェルラ酸メチル２５．０ｇ、アセトニトリル２５
０ｍｌ、炭酸カリウム８９ｇ、臭化テトラｎ−ブチルア
ンモニウム０．４１ｇの混合物に窒素気流下、加熱還流
させながら１，３−ジブロモプロパン１２．３ｇを３０
分かけて滴下した後、４時間反応させた。冷却後、反応
今後物を濾過し、濾液を濃縮した。残さを酢酸エチルに
再溶解し、炭酸ナトリウム溶液、水で洗浄した。有機層
を無水硫酸ナトリウムで乾燥した後濃縮、乾固しジメチ
ルエステルを得た。粗生成物はトルエンから再結晶して
精製した。得られたジエステル１９．９ｇとメタノール
１５０ｍｌの混合物に５規定の苛性カリ水溶液４０ｍｌ
を加え、８０℃で４時間加熱、攪拌した。反応溶液を冷
却後、６規定塩酸で酸性化し、析出した沈殿物を濾過、
乾燥しジカルボン酸を得た。得られたジカルボン酸１１
ｇ、ピペラジン２ｇ、亜リン酸トリフェニル７．２ｇ、
ピリジン１０ｍｌ、塩化リチウム０．５ｇ、Ｎ−メチル
−２−ピロリドン４０ｍｌの混合物を窒素下１００℃で
３時間加熱、攪拌した。反応混合物を１０００ｍｌのメ
タノールに加え、生成した沈殿を濾過、乾燥し化学式
（Ｐ−２１）で示される重合体を得た。この重合体をク
ロロホルムからメタノールに再沈殿させて精製した。
下、フェルラ酸メチル２５．０ｇ、アセトニトリル２５
０ｍｌ、炭酸カリウム８９ｇ、臭化テトラｎ−ブチルア
ンモニウム０．４１ｇの混合物に窒素気流下、加熱還流
させながら１，３−ジブロモプロパン１２．３ｇを３０
分かけて滴下した後、４時間反応させた。冷却後、反応
今後物を濾過し、濾液を濃縮した。残さを酢酸エチルに
再溶解し、炭酸ナトリウム溶液、水で洗浄した。有機層
を無水硫酸ナトリウムで乾燥した後濃縮、乾固しジメチ
ルエステルを得た。粗生成物はトルエンから再結晶して
精製した。得られたジエステル１９．９ｇとメタノール
１５０ｍｌの混合物に５規定の苛性カリ水溶液４０ｍｌ
を加え、８０℃で４時間加熱、攪拌した。反応溶液を冷
却後、６規定塩酸で酸性化し、析出した沈殿物を濾過、
乾燥しジカルボン酸を得た。得られたジカルボン酸１１
ｇ、ピペラジン２ｇ、亜リン酸トリフェニル７．２ｇ、
ピリジン１０ｍｌ、塩化リチウム０．５ｇ、Ｎ−メチル
−２−ピロリドン４０ｍｌの混合物を窒素下１００℃で
３時間加熱、攪拌した。反応混合物を１０００ｍｌのメ
タノールに加え、生成した沈殿を濾過、乾燥し化学式
（Ｐ−２１）で示される重合体を得た。この重合体をク
ロロホルムからメタノールに再沈殿させて精製した。
【００４３】〔樹脂層の製造〕遮光下、化学式（Ｐ−２
１）で示される重合体１ｇをジメチルスルホキシド２．
５ｇに加熱溶解して得た溶液を、１００℃に加熱したガ
ラス基板上にウエット厚み２００ミクロンで塗布した。
その後、遮光下で８０℃、１時間乾燥し、さらに６０℃
で１夜真空乾燥して、化学式（Ｐ−２１）で示される重
合体の樹脂層（厚み４０μｍ）をガラス基板上に得た。
１）で示される重合体１ｇをジメチルスルホキシド２．
５ｇに加熱溶解して得た溶液を、１００℃に加熱したガ
ラス基板上にウエット厚み２００ミクロンで塗布した。
その後、遮光下で８０℃、１時間乾燥し、さらに６０℃
で１夜真空乾燥して、化学式（Ｐ−２１）で示される重
合体の樹脂層（厚み４０μｍ）をガラス基板上に得た。
【００４４】〔位相差板の製造〕化学式（Ｐ−１９）で
示される重合体のフィルムに代えて、上記でガラス基板
上に得た化学式（Ｐ−２１）で示される重合体の樹脂層
を用いた以外は、実施例３と同様に操作して位相差板を
得た。なお、紫外線照射前の樹脂層と、得られた位相差
板とでは外観的な変化はなかった。この位相差板におけ
る角（θ）と位相差板の位相差（レターデーション）と
の関係を図８に示す。
示される重合体のフィルムに代えて、上記でガラス基板
上に得た化学式（Ｐ−２１）で示される重合体の樹脂層
を用いた以外は、実施例３と同様に操作して位相差板を
得た。なお、紫外線照射前の樹脂層と、得られた位相差
板とでは外観的な変化はなかった。この位相差板におけ
る角（θ）と位相差板の位相差（レターデーション）と
の関係を図８に示す。
【００４５】実施例６ 〔化学式（Ｐ−２２）で示される重合体の製造〕遮光
下、カヤラッドＲ−６０４（日本化薬株式会社製のハー
ドコート剤）１．６３ｇと４，４‘−ジヨードビフェニ
ル２．０３ｇと１，８−ビス（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミ
ノ）ナフタレン（２．８９ｇ）とを窒素気流下で２０ｍ
ｌのＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミドに溶解し、酢酸派ラ
ジウム（ＩＩ）１１．３ｍｇ、トリ−ｍ−トルイルフォ
スフィン６０．９ｍｇを加えた。窒素気流下で４時間１
００℃に加熱した後に２００ｍｌのメタノールに注入し
て、化学式（Ｐ−２２）で示される重合体を沈殿させ
た。この重合体をクロロホルムからメタノールに再沈殿
させて精製した。
下、カヤラッドＲ−６０４（日本化薬株式会社製のハー
ドコート剤）１．６３ｇと４，４‘−ジヨードビフェニ
ル２．０３ｇと１，８−ビス（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミ
ノ）ナフタレン（２．８９ｇ）とを窒素気流下で２０ｍ
ｌのＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミドに溶解し、酢酸派ラ
ジウム（ＩＩ）１１．３ｍｇ、トリ−ｍ−トルイルフォ
スフィン６０．９ｍｇを加えた。窒素気流下で４時間１
００℃に加熱した後に２００ｍｌのメタノールに注入し
て、化学式（Ｐ−２２）で示される重合体を沈殿させ
た。この重合体をクロロホルムからメタノールに再沈殿
させて精製した。
【００４６】〔樹脂層および位相差板の製造〕ポリビニ
ルシンナメートに代えて、上記で得た化学式（Ｐ−２
２）で示される重合体を用いた以外は、実施例１と同様
に操作して、樹脂層を得、位相差板を得た。この位相差
板における角（θ）と位相差板の位相差（レターデーシ
ョン）との関係を図９に示す。
ルシンナメートに代えて、上記で得た化学式（Ｐ−２
２）で示される重合体を用いた以外は、実施例１と同様
に操作して、樹脂層を得、位相差板を得た。この位相差
板における角（θ）と位相差板の位相差（レターデーシ
ョン）との関係を図９に示す。
【図１】位相差板を製造する工程を示す模式図である。
【図２】位相差板を製造する工程を示す模式図である。
【図３】位相差板の位相差の角度依存性の測定方法を示
す模式図である。
す模式図である。
【図４】実施例１で得た位相差板の、角（θ）と位相差
との関係を示す図である。
との関係を示す図である。
【図５】実施例２で得た位相差板の、角（θ）と位相差
との関係を示す図である。
との関係を示す図である。
【図６】実施例３で得た位相差板の、角（θ）と位相差
との関係を示す図である。
との関係を示す図である。
【図７】実施例４で得た位相差板の、角（θ）と位相差
との関係を示す図である。
との関係を示す図である。
【図８】実施例５で得た位相差板の、角（θ）と位相差
との関係を示す図である。
との関係を示す図である。
【図９】実施例６で得た位相差板の、角（θ）と位相差
との関係を示す図である。
との関係を示す図である。
１：高圧水銀ランプ ２：凸レンズ ３：平行光 ４：樹脂層 ５：ガラス基板 ６：照射傾斜軸 ７：基準線 ８：位相差板の法線方向 ９：位相差板 θ：位相差板の法線方向と基準線とのなす角 １０：樹脂層の法線方向 １１：棒状の高圧水銀ランプ １２：平行光型反射鏡 １３：ルーバー １４：平行光 １５：平行光と樹脂層の法線とのなす角度
Claims (10)
- 【請求項１】光反応性置換基を有する樹脂層に平行光を
照射することを特徴とする位相差板の製造方法。 - 【請求項２】樹脂層が光反応性置換基を有する重合体か
らなる樹脂層である請求項１に記載の位相差板。 - 【請求項３】樹脂層が、光反応性置換基を有する重合体
と他の重合体との混合物からなる請求項２に記載の位相
差板。 - 【請求項４】光反応性置換基が、光を照射されることに
よって互いに結合する置換基である請求項１に記載の位
相差板の製造方法。 - 【請求項５】光反応性置換基がシンナモイル基である請
求項１に記載の位相差板の製造方法。 - 【請求項６】光反応性置換基が、光を照射されることに
よってシス−トランス異性化する置換基である請求項１
に記載の位相差板の製造方法。 - 【請求項７】平行光が平行な紫外線である請求項１に記
載の位相差板の製造方法。 - 【請求項８】平行光の照射エネルギーが１Ｊ／ｃｍ2〜
１０ｋＪ／ｃｍ2である請求項１に記載の位相差板の製
造方法。 - 【請求項９】光反応性置換基を有する樹脂層に平行光が
照射されてなることを特徴とする位相差板。 - 【請求項１０】光反応性置換基を有する樹脂層に平行光
が照射されてなる位相差板であって、遅相軸を回転軸と
して回転させた場合に法線方向に対して非対称のレター
デーションを示す位相差板。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15806498A JP4182563B2 (ja) | 1997-06-06 | 1998-06-05 | 位相差板の製造方法 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9-149267 | 1997-06-06 | ||
| JP14926797 | 1997-06-06 | ||
| JP15806498A JP4182563B2 (ja) | 1997-06-06 | 1998-06-05 | 位相差板の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1152134A true JPH1152134A (ja) | 1999-02-26 |
| JP4182563B2 JP4182563B2 (ja) | 2008-11-19 |
Family
ID=26479202
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15806498A Expired - Fee Related JP4182563B2 (ja) | 1997-06-06 | 1998-06-05 | 位相差板の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP4182563B2 (ja) |
Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003128632A (ja) * | 2001-10-19 | 2003-05-08 | Wakayama Prefecture | 熱的に安定なフェルラ酸誘導体、その製造方法およびそれを有効成分として含有する紫外線吸収剤 |
| JP2003307617A (ja) * | 2002-04-17 | 2003-10-31 | Hayashi Telempu Co Ltd | 位相差フィルムとその製造方法、およびこの位相差フィルムを装着した液晶表示装置 |
| JP2005215029A (ja) * | 2004-01-27 | 2005-08-11 | Jsr Corp | 光学フィルム |
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