JPH11513435A - 新規なシンナムアミド及びそれらの安定剤としての用途 - Google Patents

新規なシンナムアミド及びそれらの安定剤としての用途

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JPH11513435A JP9515056A JP51505697A JPH11513435A JP H11513435 A JPH11513435 A JP H11513435A JP 9515056 A JP9515056 A JP 9515056A JP 51505697 A JP51505697 A JP 51505697A JP H11513435 A JPH11513435 A JP H11513435A
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Abstract

(57)【要約】 本発明は、新規なシンナムアミド、それらの製造方法及びそれらのＵＶ吸収剤としての用途に関する。本発明のシンナムアミドは、ポリアミド（特にナイロン６及びナイロン６,６）、ポリカーボネート、ポリアセタール、ポリスルホン、ポリイミド、ポリアリールエーテルケトン、及びポリエステル（特に、ＰＥＴ及びＰＢＴ）並びにポリ塩化ビニル及びポリオレフィン（ポリエチレン及びポリプロピレン）のような他のポリマーのような種々のエンジニアリング樹脂にＵＶ吸収剤として用いることができる。

Description

【発明の詳細な説明】 新規なシンナムアミド及びそれらの安定剤としての用途 発明の背景 本発明は、新規なクラスのシンナムアミド、それらの製造方法及びそれらの紫 外（ＵＶ）安定剤としての用途に関する。紫外光（波長２８０〜４００ｎｍ）は 、曝された有機物を劣化させることが知られている。屋外用途並びに（ガラスを 通してＵＶ線に曝される）屋内用途に用いられる〔船舶の帆及びロープ、天幕、 テント、旗、室内装飾材料（自動車内の織布を含む）、カーペット、スポーツ機 器、軟質面を持った旅行荷物、シートベルトウェブ、動物管理用のウェブ及び着 衣を含む用途に用いるための〕繊維及び織物、〔自動車部品（ミラーハウジング 、ドアハンドル、ボディーパネル及びバンパーのようなもの）並びにスポーツ機 器及びツールハウジングを含む用途に用いるための〕成形プラスチック部品、〔 農業用途（温室の覆い、作物保護及び食品包装のようなもの）、及び化学製品（ 農薬及び化学肥料のようなもの）の包装を含む用途のための〕プラスチックフィ ルム、及び〔塗料を含む用途のための〕プラスチックコーティングのような物質 は、光化学的劣化に感受性である。 特に、ポリマーは好ましくない色又は曇りを呈し、続いてそれらの透明性、並 びに引張り強さ、柔軟性、光沢及び耐衝撃性のような物性を損なう。染料、顔料 及び鉱物質及びガラスを充填したプラスチック及び布（例えば、カーペット繊維 ）及び色彩含有プラスチック〔例えば、ナイロン６及びナイロン６,６を含む脂 肪族及び芳香族ポリアミド；ポリカーボネート；ポリエチレンテレフタレート（ ＰＥＴ）及びポリブチレンテレフタレート（ＰＢＴ）のようなポリエステル；ポ リエチレン、ポリプロピレンのようなポリオレフィン；アラミド；アクリレート ；アセテート；ポリ塩化ビニル；ポリイミド；フルオロポリマー；ポリウレタン ；ポリアセタール；ポリスルホン；及びポリアリールエーテルケトン〕は、退色 し、もろくなり、それらの弾性を失い、そして最後には完全に崩壊する。 その結果、プラスチック工業界は、ＵＶ劣化を阻止するための広範な安定剤を 開発してきた。これらには、中でも、ヒンダードアミン光安定剤（ＨＡＬＳ）、 ホスファイト及びフェノール系酸化防止剤（ＡＯ）、チオエーテル、金属ジチオ レート、スルホキシドのようなラジカルスカベンジャー、及びベンゾトリアゾー ル（ＢＺＴ）、ヒドロキシベンゾフェノン（ＨＢＰ）、シンナメート、マロン酸 ベンジリデン及びニッケルキレート化合物のような紫外光吸収剤が含まれる。こ れら及び他の安定剤の広範な委細は、J.F．Rabek，“Photostabilization of Po lymers; Principles and Applications”，Elsevier Applied Science，NY，199 0に見出すことができる。 プラスチック自体におけるＵＶ光の損傷作用に対する保護に加えて、ＵＶ吸収 性安定剤を透明包装材に用いてＵＶ光を吸収し、それによって（光誘発酸化が天 然油中に起こって望ましくない臭気及び悪臭を放つ食品又は薬物のような）包装 内容物への損傷を阻止することもできる。 プラスチック用途に有用であるためには、候補となるＵＶ光吸収剤は、２８０ 〜４００ｎｍの波長で強いＵＶ光吸収性を有し、無色で、光安定性で、加工及び 末端使用条件下で非揮発性で、貯蔵、加工及び使用状態にある間に化学的に不活 性でなければならず、そしてラジカル又は他の劣化過程を開始することなしに光 エネルギーを熱に変換する効率的なメカニズムを有さなければならない。低揮発 性、化学的不活性、及び熱安定性は、溶融加工条件がしばしば３００℃の温度に 達するか又は越えしかも滞留時間が長い、ポリエステル、ポリアミド、ポリカー ボネート、ポリアセタール、ポリスルホン、ポリイミド、及びポリアリールエー テルケトンのような“エンジニアリングプラスチック”にとって特に重要な要件 である。商業的に入手可能なＵＶ安定剤の殆どは、以下で説明する理由のために 、これら加工条件に持ち堪えることができない。 主要な２つのクラスの商業的に入手可能なＵＶ吸収剤は、ベンゾトリアゾール （ＢＺＴ）及びヒドロキシベンゾフェノン（ＨＢＰ）である。両者は、ヒドロキ シル基からの励起状態分子内プロトンの移動を利用して、紫外光の吸収の後に光 エネルギーを消散させるものである。いずも問題がない訳ではない。ＢＺＴ及び ＨＢＰの双方に必要なヒドロキシル基は、特に、ガラス及び鉱物を充填したポリ アミド又はポリエステルのような顔料が含まれた充填プラスチックに、しばしば 甚だしい着色をもたらす。しばしば、この着色は、顔料、着色剤、触媒又は充填 剤との錯体形成の結果である。塩基性媒体では、これら化合物のフェノール性ヒ ドロキシル基の脱プロトンが強い黄色の形成をもたらす。更に、ポリアミドのよ うな水素結合プラスチックでは、このヒドロキシル基が水素結合を介してポリマ ー基質と結び付いて、その安定剤の吸収力を低下させかつ吸収バンドを狭め、か くして、その安定剤についての有効波長を小さくして励起状態エネルギー消散の メカニズムを無くしてしまう。 加えて、多くの商業的に入手可能なベンゾトリアゾールは、あまりにも（プラ スチックに典型的に要求される充填量で）高価であり及び／又は揮発性であり、 かつ加工中に発煙する。低揮発性の高分子量ＢＺＴ二量体はコストが嵩み、かつ エステル結合を介して連結しているものは、エステル−エステル交換反応の結果 としてポリエステルの溶融加工中に分子量の損失を起こす。 プラスチックが３２０ｎｍ以下の波長に曝される用途については、ＢＺＴは、 それらの吸収力が、染料を含まないポリエステル及びポリカーボネート安定化の ための臨界吸収領域である３１５ｎｍ以下に低下するので、あまり効果的ではな い。３４０〜３６０ｎｍの広い領域で強く吸収するＨＢＰも、２９０〜３３０ｎ ｍの広い領域で低い吸収力しか持たなくなる。多くの商業的に入手可能なＨＢＰ も、多くの高温エンジニアリング樹脂中の加工についてあまりに揮発性でありか つポリエステルには黄色化を起こす。最後に、多くの市販のＨＢＰは鎖の分断を 起こすことによって、ＰＥＴやＰＢＴのようなポリエステルの分子量を加工（例 えば、紡糸）中に劣化させる。 他の２つの一般的クラスの吸収剤も市販されている。これらは、オキサニリド 及びシンナメート〔シンナム酸（桂皮酸）のエステル〕である。オキサニリドは 、アミド窒素からアミドカルボニルへの分子内励起状態プロトン移動によって、 ＵＶ光エネルギーを消散すると考えられる。従って、これら吸収剤は、ポリマー 樹脂、例えば、ポリアミドとの水素結合により潜在的に無効にされ得る。オキサ ニリドの吸収力は、他のＵＶ吸収剤に比べて幾分低い。シンナメート（日焼け止 めとして用いられる）は、高い吸収力を有しかつシンナメート二重結合のシス− トランス異性化を介して励起状態エネルギーを消散する（従って、水素結合ポリ マーによっては容易に無効にされ得ない）ので、これら同じ欠点を有さない。し か しながら、これら物質は、一般に、あまりにも揮発性過ぎて２５０〜３１５℃で の加工に持ち堪えられないか又はそれらは油性液体なので加工装置内で滑り（例 えば、押出機内でのスクリュー滑り）及び相分離を起こすかのいずれかである。 エステル−エステル交換反応は単量体シンナメートにとって問題であり、ポリ エステルポリマーの分子量を大きく低下させるので、それらを繊維のような溶融 加工ポリエステル目的に用いるのを妨げている。溶融押出されるポリアミドでは 、基本シンナメート発色団が破壊されるが、それは、その不飽和シンナメートエ ステルのβ位において親核攻撃を受けるという殆ど間違いのないメカニズムによ っている。シンナメートが、光化学的に誘発される種々の環化反応（２＋２光二 量化が主要な例である）を受けるということも周知である。この二量化は、ＵＶ 安定化に必要な発色団を破壊する。 種々のシンナムアミドが、エンジニアリング樹脂のＵＶ安定剤として、当該技 術分野において用いられてきた。General Aniline & Film Corporation への米 国特許第３,１７４,９３７号（'９３７特許）と第３,２７２,８５５号（'８５５ 特許）及び Olin Corporation への米国特許第４,８８３,６５３号（'６５３特 許）を参照のこと。'６５３特許のシンナム酸アミド二量体は、α位及びβ位に 水素置換を有するだけである。かくして、これら分子は、親核共役付加及び２＋ ２光二量化の両方を介して発色団の破壊を受け易い。同じことが'９３７特許に 開示されたシンナム酸二量体にも当てはまる。'８５５特許に開示された化合物 中に存在するアルコキシ（ＲＯ）置換は、十分にＵＶ−Ａ領域内の約３３５ｎｍ でベース吸収極大値をもたらす。'８５５特許におけるＸ1置換基は深色化（赤色 シフト）又は助色団化（赤色シフト及び吸収力の増加）を起こすように選ばれる ので、これら物質は、本発明の分子とは対照的にＵＶ−Ｂ波長を効果的に遮断す ることができない。 '９３７特許に開示されている化合物は、それらを加工中の親核共役付加に対 して感受性にするβ−水素置換とＵＶ−Ｂ領域（メトキシ置換ナフチル発色団） の効果的な遮断の無力化の両方を受ける。 本発明の独特なビス〔α,β−ジ置換シンナム酸アミド〕（シンナムアミド） は、高温（典型的には２００℃以上、最も典型的には２５０℃以上であり特定的 には２７５〜３２５℃）で加工されるエンジニアリング樹脂や他のポリマーの安 定剤として有用である。商業的に入手可能な安定剤とは違って、これらシンナム アミドは、高いＵＶ吸収力（２９５ｎｍ近辺のＵＶ−Ｂ領域を含む、これは染料 を含まないポリエステルやポリカーボネートのようなエンジニアリング樹脂につ いての作用スペクトルの極めて重要な部分である）と低い揮発性を有し、熱的及 び化学的に安定であり、エステル−エステル交換を起こさず、そして分子内プロ トン移動を伴わない光消散メカニズムとしてシス−トランス光異性化を利用する ものである。本発明のシンナムアミドは、安定化されるべきプラスチックにおい て見られる親核性末端基及び添加剤、特に塩基との反応性を阻止するために、β 位における置換により立体的に遮断されている。そのような安定剤の二重結合に 結合している官能基による立体障害は、光二量化をも阻止するであろう。 発明の説明 具体的には、本発明は、下記構造のビス〔α,β−ジ置換シンナム酸アミド〕 に向けられている。 〔式中、 ・Ａｒ1及びＡｒ2は、同じであっても異なっていてもよく、フェニル、複素環 芳香族、縮合（annelated）フェニル及び縮合複素環芳香族基からなる群から選 択され、そしてあらゆる位置で同じか又は異なる基で置換されていてもよく； ・Ｂ及びＤは、同じか又は異なる有機基であって、いずれも水素ではなく； ・Ａ及びＣは、同じか又は異なる有機基であり；そして ・Ｅは、２価又は３価の有機基である。 但し、次のいずれか１つの事項を前提とする： Ａｒ1及びＡｒ2が同じくフェニルであって−ＯＲ（Ｒは水素又は有機基である ）で置換されており、Ａ及びＣが同じくシアノてあり、Ｂ及びＤが同じく１〜３ ５炭素原子のアルキル又はアルケニルであり、そしてＥが２価の有機基である化 合物（その異性体を含む）を除く；なお、そのような化合物がこの除かれる構造 を 有さない上式の他の化合物と組み合わせて使用されるときは例外とする； Ａ及びＣが同じくシアノであり、Ｂ及びＤが同じく１〜３０炭素原子のアルキ ル又はアルケニルであり、Ｅが２価の有機基であり、そしてＡｒ1及びＡｒ2が同 じくフェニルであるときは、Ａｒ1及びＡｒ2の両方ともが−ＯＲ（Ｒは水素又は 有機基である）で置換されている訳ではない；なお、そのような化合物がこの除 かれる構造を有さない上式の他の化合物と組み合わせて使用されるときは例外と する； Ａ及びＣが同じくシアノであり、Ｂ及びＤが同じく１〜３０炭素原子のアルキ ル又はアルケニルであり、Ｅが２価の有機基であり、そしてＡｒ1及びＡｒ2が同 じくフェニルであるときは、Ａｒ1及びＡｒ2のいずれもが−ＯＲ（Ｒは水素又は 有機基である）で置換されていない；なお、そのような化合物がこの除かれる構 造を有さない上式の他の化合物と組み合わせて使用されるときは例外とする； Ａ及びＣが同じくシアノであり、Ｂ及びＤが同じく１〜３０炭素原子のアルキ ル又はアルケニルであり、Ｅが２価の有機基であり、そしてＡｒ1及びＡｒ2が同 じくフェニルであるときは、Ａｒ1、Ａｒ2、Ｂ及びＤのいずれもが、−ＯＲで置 換されていない；なお、そのような化合物がこの除かれる構造を有さない上式の 他の化合物と組み合わせて使用されるときは例外とする。〕 二重結合の配座異性体が可能である場合は、Ｅ又はＺ（シス及びトランス）異 性体のあらゆる組み合わせが許容されるものとし、簡便さのために単一の異性体 だけを記載しているが、全てのものがここに記載した構造により意味される。 Ａｒ1及びＡｒ2についての適する基には、フェニル又は、２−、３−又は４− ピリジルを含む複素環芳香族基、又はキノリニル若しくはイソキノリニル、１− 若しくは２−ナフチル、ピレニル及び他の多環系芳香族を含む縮合フェニル又は 縮合複素環芳香族基が含まれ、そして、あらゆる位置で、シアノアルキル、アル コキシアルキル、部分的又は完全に置換されたフッ素化又は塩素化アルキル（例 えば、クロロメチル又はトリフルオロメチル）を含むハロアルキル、モノ又はジ アルキルアミノアルキルのようなアミノアルキル、トリアルキルシリルアルキル を含むシリルアルキルを含む、置換及び無置換の１〜約２５炭素原子の直鎖状又 は分枝状アルキル；ビニル、アリル、メタアリル、−ＣＨ2ＣnＨ2n-1、クロチル 、 ２−ブテニル、３−ブテニル、２−メチルプロペニル、２−（又は３−又は４− 又は５−）ペンテニル、２−ヘキセニル、２−デセニルのような置換又は無置換 の２〜約２５炭素原子の直鎖状又は分枝状アルケニル（前記アルケニルが置換さ れているときは、それは、シアノ、アルコキシ、アミノ、シリル及びハロゲンを 含む基で置換されていてもよい）；ニトロ；フルオロ、クロロ又はブロモのよう なハロゲン；チオエーテル；アルキル又はアリールスルホン；スルホン酸エステ ル;−ＣＨ(ＯＣＨ3)2及び-ＣＨ(ＯＣＨ2ＣＨ3)2； ール；フェニル又は多置換フェニルを含む置換フェニル；ビフェニル又は置換ビ フェニル；２−、３−又は４−ピリジルを含むピリジル；複素環芳香族；及び− ＯＲ（Ｒは水素又はあらゆる置換若しくは無置換の有機基である）を含む、同じ か又は異なる基で置換されていてもよい。 好ましくは、Ａｒ1及びＡｒ2は次の基から選択される：フェニル又は置換フェ ニル；１−又は２−ナフチル；及び２−、３−又は４−ピリジル。より好ましい 態様においては、Ａｒ1及びＡｒ2はフェニル又は置換フェニルである。 Ｂ及びＤについての適する基には、シアノアルキル、アルコキシアルキル、部 分的にフッ素化又は塩素化されたアルキルのようなハロアルキル、モノ又はジア ルキルアミノアルキルのようなアミノアルキル、及びトリアルキルシリルアルキ ルを含むシリルアルキルを含む、置換又は無置換の１〜約２５炭素原子の直鎖及 び分枝鎖アルキル；アリル、メタアリル、−ＣＨ2ＣnＨ2n-1、クロチル、２−ブ テニル、３−ブテニル、２−メチルプロペニル、２−（又は３−又は４−又は５ −）ペンテニル、２−ヘキセニル、２−デセニルのような置換又は無置換の３〜 約２５炭素原子の直鎖状又は分枝状アルケニル（適する置換基には、シアノ、ア ルコキシ、ハロ、アミノ及びシリルが含まれる）；フェニル；トリル又はキシリ ルのようなアルキル置換フェニル；４−プロピルチオフェニル及び４−フェニル チオフェニルを含むチオエーテル置換フェニル；４−メトキシフェニルのような アルコキシ置換フェニルを含む−ＯＲ置換フェニル（Ｒは水素又はあらゆる有機 基である）；４−ビニルフェニルを含むアルケニル置換フェニル；４−シアノフ ェニルを含むシアノ置換フェニル；４−ニトロフェニルを含むニトロ置換フェニ ル；２−又は４−クロロ−、ブロモ−又はフルオロフェニルのようなハロ置換フ ェニル；クロロメチル−又はトリフルオロメチルのようなハロアルキルで置換さ れたフェニル；４−メチルスルホニルフェニルのようなアルキル−又はアリール スルホン置換フェニル；スルホン酸エステル置換フェニル；−ＣＨ(ＯＣＨ3)2及 び−ＣＨ(ＯＣＨ2ＣＨ3)2置換フェニル； ールで置換されたフェニル；上記の幾つかの置換基を有する多置換フェニル；ビ フェニル、２−、３−又は４−ピリジルを含むピリジル、キノリニル又はイソキ ノリニル、１−又は２−ナフチル、ピレニルのような置換又は無置換の多環系芳 香族及び複素環芳香族が含まれ、いずれも水素ではない。 好ましくは、Ｂ及びＤは、それらがβ位におけるカルボニルへの親核攻撃及び ２＋２光二量化の両方を阻止するのに十分な立体的嵩高さを有するように選ばれ る。適する立体的嵩高さは、分枝鎖アルキル、フェニル、置換フェニル、ピリジ ル、置換ピリジル及び縮合フェニル又は縮合複素環芳香族を用いて達成すること ができる。コスト上の観点から、フェニル、置換フェニル及びピリジル基が好ま しい。好ましい態様においては、Ｂ及びＤは次のものから選択される：フェニル 、置換フェニル、ピリジル、及び置換ピリジル。より好ましい態様においては、 Ｂ及びＤは、フェニル又はピリジルである。 Ａ及びＣについての適する基には、シアノ、エステル（−ＣＯ2Ｒ）（Ｒは１ 〜２０の炭素原子を有する直鎖状又は分枝状の脂肪族炭化水素又は芳香族基のよ うなあらゆる適合性の置換又は無置換の有機基であることができる）、及びアミ ド（ＣＯＮＨＲ）（Ｒは、水素又は１〜２０の炭素原子を有する直鎖状又は分枝 状の脂肪族又は芳香族基のような適合性の置換又は無置換の有機基であることが できる）が含まれる。好ましくは、Ａ及びＣはシアノ及びアミドから選択される 。より好ましい態様においては、ＡとＣはシアノである。 Ｅについての適する基には、エタンジイル、１,２−プロパンジイル、１,３− プロパンジイル、２−メチル−１,２−プロパンジイル、１,４−ブタンジイル、 １,４−シクロヘキサンジイル、１,５−ペンタンジイル、１,６−ヘキサメチレ ンジイル、１,８−オクタンジイル、１,９−ノナンジイル、１,８−メンタンジ イルを含む、２〜約２０炭素原子の置換又は無置換の直鎖又は分枝鎖の脂肪族で あって、適する置換基にシアノ、アルコキシ、ハロ、アミノ及びシリルが含まれ るもの；１,２−マレオニトリルジイル及び１,２−フマロニトリルジイルを含む 、置換又は無置換の２〜約２５炭素原子の直鎖又は分枝鎖アルケニル；２,３− トルエンジイル、２,４−トルエンジイル、２,５−トルエンジイル、２,６−ト ルエンジイル、３,４−トルエンジイル、ｐ−キシリレンジイル、ｍ−キシリレ ンジイル、４,４'−ビフェニルジイル、１,４−、２,３−及び１,８−ナフタレ ンジイル、２,４−ピリジンジイル、２,３−ピリジンジイル、２,６−ピリジン ジイル、２,４−ピリミジンジイル、１,２,４−トリアゾール−３,５−ジイル、 ４,５−ジメチル−１,２−フェニレンジイル、４,４'−オクタフルオロビフェニ ルジイル及び他のフッ素化芳香族を含む、芳香族又は複素環芳香族連結基；構造 −Ｒ'−Ｏ(Ｓｉ(Ｒ)2Ｏ)n−Ｒ'−（Ｒ及びＲ'は１〜約２０炭素原子の直鎖状又 は分枝状アルキル又は芳香族基からなる）のシロキサン又はポリシロキサン含有 ジイル；構造−Ｒ'−Ｏ(ＲＯ)n−Ｒ'−（Ｒ及びＲ'は１〜約２０炭素原子の直鎖 状又は分枝状アルキル又は芳香族基からなる）のエーテル又はポリエーテル含有 ジイルから選択される二価基が含まれる。シロキサン、及び対応するジアミンか ら得られる部分的又は完全にフッ素化されたアルキル、アルケニル及びアリール 連結基も許容できる。−(ＣＨ2)6−を含む直鎖脂肪族連結基から誘導される有機 ジイル、並びにｍ−キシリレンジイル及び２,４−トルエンジイルのような芳香 族が好ましい。以下に示す構造で示される、メラミンのようなトリアミンから誘 導される脂肪族及び芳香族連結基も許容てきる。 Ｒ3は、Ｂ及びＤについて記載したものを含むあらゆる有機基であることがで き、異なる基を選択することによって、溶解性及び（分散性）、又は（他の分子 、基質、ポリマー及び他の組成物への結合のための）化学反応性のような物性を 修飾することができる。Ｒ3についての好ましい基には、置換又は無置換の１〜 約２５炭素原子の直鎖状又は分枝状アルキル（前記アルキルが置換されていると きは、それは、シアノ、アルコキシ、ハロ、アミノ及びシリルからなる群から選 択される基で置換されている）；置換又は無置換の２〜約２５炭素原子の直鎖状 又は分枝状アルケニル（前記アルケニルが置換されているときは、それは、シア ノ、アルコキシ、ハロ、アミノ及びシリルからなる群から選択される基で置換さ れている）；シアノ；ニトロ；ハロ；チオエーテル；アルキル又はアリールスル ホン；スルホン酸エステル；アセタール、環状アセタール；ケタール、環状ケタ ール；フェニル、置換フェニル、多置換フェニル（前記フェニルは上記の如何な る基で置換されていてもよい）；ビフェニル、置換ビフェニル；ピリジル、置換 ピリジル及び複素環芳香族；及び−ＯＲ（Ｒは水素又はあらゆる有機基である） ；及び構造−Ｒ'−Ｏ(ＲＯ)n−Ｒ"（Ｒ、Ｒ'及びＲ"は、１〜約２０炭素原子の 置換又は無置換の直鎖又は分枝鎖アルキル又は芳香族基である）のエーテル又は ポリエーテルが含まれる。より好ましい態様は、置換及び無置換の直鎖又は分枝 鎖アルキル又は芳香族基及びシンナモイル基である。最も好ましい態様は、Ｒ3 が る態様であろう。 これら組成物において、Ｆは、Ａ又はＣに割り当てた有機基のいずれであって もよく、Ｇは、Ｂ又はＤに割り当てた有機基のいずれであってもよい。Ａｒ3は Ａｒ1及びＡｒ2と同じであっても異なってもよく、Ａｒ1及びＡｒ2に割り当てた 、置換又は無置換のフェニル又は複素環芳香族基又は縮合フェニル又は縮合複素 環 芳香族基のいずれであってもよく、そしてＡｒ1又はＡｒ2上の置換について特定 したのと同じ基でいずれの位置で置換されていてもよい。Ｅが三価の基であると きは、好ましくは、それは(−ＣＨ2ＣＨ2)3Ｎ及び２,４,６−メラミントリルか ら選択される。より好ましい態様においては、Ｅは２,４,６−メラミントリルで ある。 本発明の好ましいシンナムアミドには、次のものが含まれる： 本発明のシンナムアミドをＵＶ吸収剤として用いるときは、それらの置換基は 、それらが可視スペクトル領域内への吸収バンドの深色（赤色）シフトを起こさ ない結果、それらが光化学的に安定となるように選ばれなければならない。２− 及び４位におけるＡｒ1及びＡｒ2のジアルキルアミノ基のような強い電子供与基 での置換は、それらが吸収バンドを可視領域にシフトさせて着色物質を生成させ るので、一般に、安定剤用途には避けられるべきである。 本発明のシンナムアミドは、ポリ塩化ビニル（ＰＶＣ）、ポリエチレン及びポ リプロピレンのようなポリオレフィンのための、特にポリエステル、ポリアミド 、ポリカーボネート、ポリアセタール、ポリスルホン、及びポリアリールエーテ ルケトンを含むエンジニアリングプラスチックのためのＵＶ安定剤として有用で ある。これら安定剤及びエンジニアリングプラスチックを含有する配合物の組成 及びその配合物を調製するための方法は、選択れる樹脂及びその配合物が用いら れ る用途（例えば、食品包装、カーペット繊維、自動車部品）に依存するであろう 。そのような配合物及び方法は、当該技術分野で知られている。例えば、米国特 許第４,１７４,３５８号、５,３９１,６４０号、５,０７９,３３９号、５,０５ ５,３５５号、５,２０６,３０９号、４,３６２,５８５号、４,４２７,８２５号 、５,１３９,８７８号及び４,１７５,１４７号を参照のこと。なお、これら全て は、参照により本明細書に組み入れられるものとする。高温エンジニアリング樹 脂に用いるためには、シンナムアミドの諸基は、それらが高温加工に用いられる のに十分に熱的に安定となるように選択されなければならない。そのような基の 選択は、当業者には容易に分かるであろう。 本発明の化合物は、約２５０℃以上の温度で加工されるエンジニアリングプラ スチックに、（溶解性及びそのプラスチック中の充填剤、可塑剤及び他の特性変 性剤の程度に依存して）約０.０５〜約１０重量％の典型的な充填量で、より典 型的には約０.１〜約２重量％、最も典型的には約０.５〜約１.５重量％の充填 量で広く用いられるであろう。 本発明のシンナムアミド二量体は、２８０〜４００ｎｍの皮膚損傷性光線の殆 どを吸収するＵＶ−Ａ吸収性化合物とＵＶ−Ｂ吸収性化合物との組み合わせを典 型的に含む日焼け止め配合物においても用いることができる。本シンナムアミド は、当該技術分野に十分に通じている者に知られている化粧料で許容される基剤 中に溶解または分散させることができる。選んだシンナムアミド二量体が可溶性 でないなら、３ロール練りにより及び化粧オイル又は他の分散助剤を用いて分散 させることができる。日焼け止めローション及びオイルにおける好ましい濃度は １〜５０重量％であろう。より好ましい濃度は５〜２５重量％であろう。 上記の好ましいシンナムアミドは、ＵＶ−Ｂ（２８０〜３１５ｎｍ）スペクト ル領域におけるカバーを提供する。ＵＶ−Ａ（３１５〜４００ｎｍ）スペクトル 領域におけるカバーが望まれるなら、Ａｒ1、Ａｒ2、Ｂ又はＤの置換は、ＲＳ− 、Ｈ2Ｎ−又はＨＲＮ−のような１又はそれを越える電子供与置換基を包含すべ きである。それらは、吸収極大の深色（赤色）シフトを起こすであろう。 個別の標準的ＵＶ吸収剤だけを用いることによって、その分子（例えば、ベン ゾトリアゾール）内に存在する官能基の本来の吸収特性に基づく特定のスペクト ル領域だけをカバーすることができる。本発明の新規なシンナムアミドは、他の シンナムアミドと又は他の商業的に入手可能な安定剤と組み合わせて（典型的に は、２種又は３種で）用い、ＵＶ−Ａ及びＵＶ−Ｂスペクトル領域内の異なる区 域において吸収極大を提供することができる。例えば、全ＵＶ−Ａ及びＵＶ−Ｂ 領域にわたって保護したい場合には、約２９５ｎｍ、３２５ｎｍ及び３５０ｎｍ の吸収極大を有するシンナムアミドを選択すればよい。Ａｒ1、Ａｒ2、Ｂ又はＤ における置換基パターンを変動させると、そのような相補的な組を容易に生じさ せることができる。全てのものが類似の化学的、物理的及び光化学的特性を有す るそのような吸収剤の組を種々の比率で効果的に組み合わせて、劣化についての 作用スペクトルに基づき、所与のプラスチック、織物又は部品のカバーに最適な 吸収をもたらすことができよう。シンナムアミド（他の商業的に入手可能な安定 剤を含む）の選択及びそれぞれの比率は、当業者には容易に分かるであろう。典 型的には、本発明のシンナムアミドは、約０.１〜約５重量％の充填量で、全部 で約０.１〜約５重量％の他の安定剤と共に用いられるであろう。より典型的に は、本シンナムアミドは、約０.１〜約２重量％の充填量で、全部で約０.１〜約 ２重量％の添加剤と共に用いられるであろう。最も典型的には、本シンナムアミ ドは、約０.１〜約１重量％の充填量で、全部で約０.１〜約１重量％の添加剤と 共に用いられるであろう。 Ａｒ1及びＢ上の又はＡｒ2及びＤ上の置換基であって、シンナム酸部分のうち の１つの吸収極大をより長波長へとシフトさせる置換基を有する本発明の非対称 シンナムアミドは、ＵＶ−Ｂ領域と一部のＵＶ−Ａ領域の両方をカバーするであ ろう。これら物質は、先行技術よりも有意な利点を示すであろう。 本発明の新規なシンナムアミドと組み合わせることができる他の適する商業的 に入手可能な安定剤には、中でも、ヒンダードアミン光安定剤（ＨＡＬＳ）、ホ スファイト及びフェノール系酸化防止剤（ＡＯ）、チオエーテル、金属ジチオレ ート、スルホキシドのようなラジカルスカベンジャー、及びベンゾトリアゾール （ＢＺＴ）、ヒドロキシベンゾフェノン（ＨＢＰ）、シンナメート、マロン酸ベ ンジリデン及びニッケルキレート化合物のような紫外線吸収剤、オキサニリド及 び銅基剤熱安定剤、又はそれらの組み合わせが含まれる。有意な色変化を生ずる あらゆる組み合わせはもちろん避けられよう。本発明の新規なシンナムアミドＵ Ｖ光吸収剤と組み合わせて用いることができる他の安定剤は、J.F．Rabek，“Ph otostabilization of Polymers; Principles and Applications”，Elsevier Ap plied Science，NY，1990に見出すことができる。 本発明のシンナムアミドは商業的に入手することができない。それらは、一般 に、置換ベンゾフェノンの（α位においてシアノ基のような電子吸引性基で置換 された）適当なエステルとの Knoevenagle 縮合の後に、得られたα,β−ジ置換 シンナメートを対応するシンナム酸に加水分解し、更に塩化チオニル又は他の塩 素化剤を用いて酸クロリドに転換し、そして最後にその置換シンナモイルクロリ ドを適当なジアミン又はトリアミンと反応させることにより、高収率で得ること ができる。この合成ルートは、以下の実施例１及び２に明瞭に記載れている。他 の合成ルートは、当業者には容易に分かるであろう。 実施例１ ｍ−キシリレンジアミン−Ｎ,Ｎ’−ビス（２−シアノ−３,３−ジフェニルプ ロペンアミド）〔ＣＡｍＸ〕合成： 塩化メチレン（１０ｍＬ）中のｍ−キシリレンジアミン（２.６ｇ，０.０１９ モル）の溶液を窒素気流下で塩化メチレン（５４ｍＬ）中の２−シアノ−３,３ −ジフェニル−２−プロペノイルクロリド（１０.４ｇ，０.０３９モル）の攪拌 溶液に加えて１時間攪拌した。次いで、トリエチルアミン（３.９７ｇ，０.０３ ９モル）を加えて、その混合液を１８時間攪拌した。溶媒を留去してその白色生 成物を熱アセトニトリル（３００ｍＬ）中に溶解させで濾過し、不溶物を除去し た。冷却すると、微細なくすんだ白色析出物が生成した。アセトニトリルからの ２回目の再結晶で、２２７〜２２８℃の融点を有する白色物質が得られた。理論 の６７％で６.７ｇのｍ−キシリレンジアミン−Ｎ,Ｎ'−ビス（２−シアノ−３, ３−ジフェニルプロペンアミド）が得られた。マススペクトル及び1ＮＭＲで、 その生成物の構造を確認した。 実施例２ ３,４−ジアミノトルエン−Ｎ,Ｎ'−ビス（２−シアノ−３,３−ジフェニルプ ロペンアミド）〔ＣＡｍｐＴ〕合成： 塩化メチレン（１２ｍＬ）中の３,４−ジアミノトルエン（３.０５ｇ，０.０ ２５モル）の溶液を窒素気流下で塩化メチレン（１００ｍＬ）中の２−シアノ− ３,３−ジフェニル−２−プロペノイルクロリド（１３.９ｇ，０.０５モル）の 攪拌溶液に加えた。塩化メチレンをこの反応混合液に加えて溶媒の総容量を２５ ０ｍＬにして、その溶液を水（１００ｍＬ）で抽出した。有機層を回収して濃縮 し、１５.０ｇの粗生成物を得た。この粗生成物の一部（２.０ｇ）を熱酢酸エチ ル（４０ｍＬ）中に溶解させてから、ヘキサン（２０ｍＬ）を加えて冷却するこ とによって更に精製し、２５７〜２５９℃の融点を有する１.０ｇの微細な白色 析出物を得た。生成物である３,４−ジアミノトルエン−Ｎ,Ｎ’−ビス（２−シ アノ−３,３−ジフェニルプロペンアミド）の構造は、マススペクトル及び1ＮＭ Ｒにより確認した。 実施例３ １,６−ジアミノヘキサン−Ｎ,Ｎ’−ビス（２−シアノ−３,３−ジフェニル プロペンアミド）〔ＣＡＨＭ〕合成： 塩化メチレン（１２５ｍＬ）中のヘキサメチレンジアミン（６５.１１ｇ，０. ５６モル）の溶液を塩化メチレン（３Ｌ）中の２−シアノ−３,３−ジフェニル −２−プロペノイルクロリド（３００ｇ，１.１２モル）の溶液に１時間かけて 加えた。この反応混合液を更に４時間攪拌した時点でトリエチルアミン（１１３ .４０ｇ，１.１２モル）を滴下した。その反応液を２日間攪拌して濾過した。析 出物を塩化メチレン（１.５Ｌ）で３回洗浄して残った黄色分を除いた。次いで 、この析出物を慎重に２Ｌの熱水に加えて約４５分間沸騰させながら攪拌した。 その固体を濾取して２Ｌの追加の熱水で洗浄した。その固体を約４０分間熱アセ トンと攪拌して濾取した。その白色固体を６０℃の減圧オーブン内で乾燥して残 留アセトンを除去して、２８９.１５ｇの２３５〜２３８℃の融点を有する生成 物の１,６−ジアミノヘキサン−Ｎ,Ｎ’−ビス（２−シアノ−３,３−ジフェニ ルプロペンアミド）（理論の８９％）を得た。1ＮＭＲで構造を確認した。 実施例４ ２,４−ジアミノトルエン−Ｎ,Ｎ'-ビス（２−シアノ−３,３−ジフェニルプ ロペンアミド）〔ＣＡｏｐＴ〕合成： ２,４−ジアミノトルエン（３７.２５ｇ，３０４ミリモル）をクロロホルム（ ４００ｍＬ）中の２−シアノ−３,３−ジフェニル−２−プロペノイルクロリド （１６７.３３ｇ，６２５.０ミリモル）の０℃に冷却した溶液に等速で添加した 。クロロホルム（７５ｍＬ）中のＮ,Ｎ’−ジメチルアミノピリジン（３.７３ｇ ，３０.５ミリモル）の溶液をこの混合液に滴下した。反応液を３時間加熱還流 してから冷却してから、トリエチルアミン（６４.７９ｇ，６４０.３ミリモル） を滴下した。次いで、その反応液を一晩加熱還流した。冷却後、反応混合液を、 水、１Ｎ ＨＣｌ、１０％ＫＣＯ3及び最後に水で続けて洗浄した。有機層を硫酸 マグネシウムで乾燥して減圧濃縮した。こうして得られた固体を減圧乾燥し、１ ９０プルーフエタノールから再結晶した。その白色固体を６０℃の真空オーブン 内で乾燥して残留エタノールを除去して、１２８.００ｇの１３９〜１４１℃の 融点を有する生成物の２,４−ジアミノトルエン−Ｎ,Ｎ'−ビス（２−シアノ− ３,３−ジフェニルプロペンアミド）（理論の７１％）を得た。1ＮＭＲで構造を 確認した。 実施例５ ４,４'−ジアミノオクタフルオロビフェニル−Ｎ,Ｎ'−ビス（２−シアノ−３ ,３−ジフェニルプロペンアミド）〔ＣＡＦＢＰ〕合成： ５０％ジエチルエーテル：塩化メチレン（１００ｍＬ）中の４,４'−ジアミノ オクタフルオロビフェニル（４.９ｇ，０.０１５モル）の溶液を５０％ジエチル エーテル：塩化メチレン（７５ｍＬ）中の２−シアノ−３,３−ジフェニル−２ −プロペノイルクロリド（８.７ｇ，０.０３２モル）の０℃に冷却した溶液に加 える。塩化メチレン（４.０ｍＬ）中のＮ,Ｎ'−ジメチルアミノピリジン（０.１ ８ｇ，０.００１５モル）の溶液をこの混合液に滴下する。反応液を３時間加熱 還流してから冷却して、トリエチルアミン（３.２４ｇ，０.０３２モル）を滴下 する。次いで、還流を一晩続ける。冷却後、溶媒を減圧留去する。粗製固体を水 （１００ｍＬ）中に懸濁させて２０分間沸騰させながら攪拌する。その固体を濾 取して乾燥させる。生成物を更に再結晶により精製する。その固体を減圧乾燥し て、生成物の４,４'−ジアミノオクタフルオロビフェニル−Ｎ,Ｎ'−ビス（２− シアノ−３,３−ジフェニルプロペンアミド）を得た。 実施例６ この実施例は、本発明のシンナムアミド（サンプル１〜１２）が高温加工に持 ち堪えられるか否かを確認するために行った。以下の表１に挙げたシンナムアミ ドを Alliedsignal の商業的に入手可能な 8207F ナイロン６樹脂と１.０〜０. ５重量％の充填量でドライブレンドした。その組成物をコニカルフィードスクリ ューと混合部分とを備えた Haake TW-100 二軸スクリュー押出機で押出した。ポ リマー溶融物を２７３℃に維持してバレル部分をそれぞれ２１５、２３５、及び ２４０℃に加熱した。押出スクリューを５０ＲＰＭに維持すると、約１４００の トルクをもたらした。ポリマー溶融物を０.０２１インチのダイギャップを有す る２４０℃に維持された６インチのフィルムダイを用いてフィルムに成形し、０ .００１７ｃｍの呼称厚みを有するフィルムを得た。 そのフィルム中の添加剤の量を Beer の法則を用いて計算し、加工条件を持ち 堪えた全ての添加剤から得られた濃度の％として表した。全てのＵＶ／ＶＩＳス ペクトルを Cray 5E 分光光度計で得た。吸光係数を塩化メチレン又はＤＭＦア セトニトリル溶液中で測定した。フィルムの厚みは、Mitutoyo 293 デジタル式( digimatic)マイクロメーターを用いて最低５箇所で測定した。読取り値の平均値 を用いてフィルム中の添加剤の濃度を計算した。結果を以下の表１に示す。 *ビスＭＥＣＣＡは、先行技術のシンナムアミドである１,６−ジアミノヘキ サン−Ｎ,Ｎ'−ビス（２−シアノ−３−〔４−メトキシフェニル〕プロペンアミ ド）である。 **ビスＣＣＡは、先行技術のシンナムアミドである１,６−ジアミノヘキサ ン−Ｎ,Ｎ'−ビス（２−シアノ−３−フェニルプロペンアミド）である。 これら結果は、本発明のシンナムアミドが先行技術のものよりも有意に低揮発 性であることを示している。 実施例７ 本発明のシンナムアミドのナイロンフィルムの品質への効果を評価した。１ミ ルの厚さを有するフィルムを上記の実施例３に開示した方法と類似の方法で Tin uvin 327（Ｔ−３２７）、Tinuvin 234（Ｔ−２３４）（Tinuvin は、Ciba-Gei gy Corporation の商標である）、ＣＡｍＸ、及びＣＡＨＭそれぞれを１重量％ の充填量で用いて調製した。フィルムの品質は、曇り度（％）（ＡＳＴＭＤ １ ００３）、２０°光沢度（ＡＳＴＭ Ｄ２４５７）、異物／ゲルの目測比率、及 び黄色度指数（ＡＳＴＭ Ｄ１９２５，MacBeth ＣＩ−３１００）で判定した。 結果を以下の表２に示す。 これら結果は、本発明のシンナムアミドが商業的に入手可能な安定剤に匹敵す る（又は黄色度ではより良好な）性能を有することを示している。 実施例８ 本発明のシンナムアミドのポリエステルフィルムの品質への効果を評価した。 １ミルの厚さを有するポリエステル（ポリエチレンテレフタレート，ＰＥＴ）フ ィルムを上記の実施例６に開示した方法と類似の方法で Uvinul 3050（Ｕ−３０ ５０）（ＨＢＰ）、Uvinul 4050（Ｕ−４０５０）（ＨＡＬＳ）（Uvinul は、Ｂ ＡＳＦ Corporation の商標である）、Mixxim BB-200（ＢＢ−２００）（ＢＺＴ ） （Mixxim は、Fairmount Chemical Co.，Inc.の商標である）、ＣＡｍＸ、及び ＣＡＨＭそれぞれを１重量％の充填量で用いて調製した。フィルムは、透明性の 目視検査（良好、普通、悪い）及び黄色度指数（ＡＳＴＭ Ｄ１９２５，MacBeth ＣＩ−３１００）に基づいて判定した。結果を以下の表３に示す。 これら結果は、本発明のシンナムアミドが商業的に入手可能な安定剤に匹敵す る（又は黄色度でより良好な）性能を有することを示している。 実施例９ 本発明のシンナムアミドの光安定性を評価した。ＣＡｍＸ、ＣＡＨＭ、Tinuvi n P（ＢＺＴ）、及びシンナム酸メチル（ＭＣ）及びポリメタクリル酸メチル（ ＰＭＭＡ）をジメチルスルホキシド（ＤＭＦ）に溶解させ、１インチ石英光学ウ ィンドー上に、Headway Research Model 1-EC101D-R435スピンコーターを用いて ３５００〜７５００ｒｐｍの速度でスピンコーティングした。それぞれの成分を 混合した割合及びスピンコーター速度を以下の表４に示す。得られたフィルムを ９５℃で１５分間硬化させた。ポリマー中の添加剤の濃度を３００ｎｍ近辺の極 大吸収が０.４７〜０.６０になるように調節した。それらサンプルを２８０ｎｍ フイルターを有する Atlas SuncChex Fadeometer で０.５５Ｗ／ｍ2の輻射照度 及び６３℃の温度で照射した。データポイントを０、８、４０及び８８時間の輻 射照度で取った。それらデータを、それぞれの添加剤についての極大波長に おいて残存する光学密度（ＯＤ）の、照射前の同じ波長における光学密度に対す る存在として表した。結果を以下の表５に示す。 これら結果は、本発明のシンナムアミドが商業的に入手可能な安定剤と同等の 性能を有することを示している。 実施例１０ 本発明のシンナムアミドのポリエステルについてのＵＶ安定剤としての効果を 評価した。以下の表６に示したそれぞれの添加剤を０.２５、０.５及び１.０重 量％の充填量で AlliedSignal から商業的に入手可能な乾燥ポリエステルである ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）とタンブルブレンドした。これら混合物 を二軸スクリュー押出機で、２９０℃の溶融温度及び約１分の滞留時間で、約１ ／８インチのフィラメントにコンパウンド化し、標準的な装置を用いて冷却した 後にペレット化した。このコンパウンド化された物質を減圧下１６０℃で１６時 間乾燥した。この物質を、２９０℃の紡糸温度及び７.８ｌｂ／時の押出量で、 ０.０８１インチの長さと０.０２４インチの幅のオリフィスを有する紡糸口金を 通して３２本のフィラメントに押し出すことにより、繊維に紡糸した。その未延 伸フィラメントを空気急冷カラム内で固化させて、２７６ｍ／分の巻上げ速度で 引上げた。この未延伸繊維を慣用的な加熱ロール及び熱集束器を用いて１段階で 延伸した。第１ロールの温度は１００℃で、第２ロール及びそれらロール間に配 置された熱集束器の温度は２００℃であった。引上げ速度は１８３ｍ／分で、５ .７の延伸比となった。 上記の方法で調製した繊維の破断強さ保持率（breaking strength retention, ＢＳＲ）を 49 CFR Ch.V（10/1/86）Federal Motor Vehicle Standard No.209の 操作に従って測定した。表６に示したＢＳＲ値は５回測定した平均である。これ ら繊維のＢＳＲ値は、ＳＡＥ Ｊ１８８５試験における１１２、１５０、２２５ 、及び４５０ｋＪ／ｍ2線量をかけた後に測定した。 *Ｔ−２３４は Tinuvin 234 であり、Ｔ−８４０は Tinuvin 840 である（T inuvin は Ciba-Geigy Corporation の商標である。） **nd ＝未測定。 これら結果は、本発明のシンナムアミドが商業的に入手可能な安定剤よりも優 れているか又は同等の性能を有することを示している。 実施例１１ 以下の表７に挙げたそれぞれの添加剤の織物の退色抵抗性への効果を、米国特 許第４,３４９,５０１号に報告された方法に従って製造された繊維から織られた 標準的シートベルトウェブで試験した。なお、この特許は参照により本明細書中 に組み入れられるものとする。このポリエステル、つまりポリエチレンテレフタ レート（ＰＥＴ）樹脂は、未使用樹脂と、最終製品中への望ましい充填量を達成 するのに要求れる適当な量の５％マスターバッチとのペレットブレンド物から構 成された。このマスターバッチは、実施例１０におけるコンパウンド化された物 質の製造について記載されたマスターバッチと一致するやり方で形成された。北 アメリカ標準シートベルトウェブ仕様書に適合するように織られたポリエチレン テレフタレート（ＰＥＴ）の細いウェブを、全ての織物退色抵抗性試験に用いた 。ウェブの構成は、１００フィラメント数を有する１３００デニールの撚り数０ の繊維の３４２本のたて糸と、１７.６本／インチで編み込んでは編み返して織 られた５００又は８４０デニール（最も典型的には８４０デニール）の撚り数０ のポリエステルのよこ糸からなるものであった。この編まれたロッキングステッ チ（locking stitch）は、５００デニール、７０フィラメントの撚り数０のポリ エステル繊維から形成された。全てのウェブを Mueller needle loom，modelND で通常は幅が２インチで厚みが０.０４７インチであるように織った。全てのシ ートベルトウェブは、General Motors Engineering Standards Specification ＧＭ２７０４Ｍに加えて、Federal Motor Vehicle Standard No.209（ＦＭＶＳ Ｓ２０９）の要件も満たした。標準分散染料溶液を未漂白のＰＥＴシートベルト ウェブ上に付けた。染料を１回漬け／１回絞り法により染料浴から塗布してから 、そのウェブを１５０°Ｆ（７１℃）の温度の空気対流式予備乾燥機内に、商業 的な Benz サーモゾルレンジ（thermosol range）で標準的な２分の滞留時間で 通し た。次いで、染料及びコーティングされたウェブをゴム製ピンチバッキングロー ラーに通し、そして２１５℃に加熱された電気空気対流式サーモゾルオーブン内 に１ｙｄ／分の速度で通して、ウェブの染色を完了した。サーモゾルオーブン内 でのウェブの滞留時間は１.５〜２.０分であった。次いで、染色したウェブを２ ｇ／Ｌ苛性ソーダ及び２ｇ／Ｌ亜硫酸水素ナトリウムの明澄化浴中で８１°Ｆ（ ２７℃）で中和し、２つの別々の浴内の洗剤で２０５〜２１２°Ｆ（９６〜１０ ０℃）で洗浄し、熱水で２０５〜２１２°Ｆ（９６〜１００℃）で濯ぎ、次いで ５ｇ／Ｌ酢酸（ｐＨ４.５〜５.０）の冷溶液中で濯いだ。次いで、そのウェブを ２つの蒸気缶上に通すことによって乾燥し、そして染料耐光堅牢度及びＳＡＥ Ｊ１８８５試験法を用いる破断強さ保持率（ＢＳＲ）のＵＶ試験をするのために 引取った。CIE Lab の仕様書に従い、Hunter 比色計を用いてΔＥ測定を行った 。結果を以下の表７に示す。 *Ｔ−２３４は Tinuvin 234 であり、ＢＢ−２００は Mixxim BB-200 を表 わす。 これら結果は、本発明のシンナムアミドが諸対照に比べてウェブ破断強さを向 上させ、商業的に入手可能な安定剤に匹敵する性能を有することを示している。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 シュウィンド，デービッド・ビー アメリカ合衆国ニュージャージー州07825, ブレアースタウン，セメタリー・ロード 116

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 １．下式の少なくとも１種の化合物を含む組成物。 〔式中、 （ｉ） Ａｒ1及びＡｒ2は、同じであっても異なっていてもよく、フェニル、 複素環芳香族、縮合フェニル及び縮合複素環芳香族基からなる群から選択され、 そしてあらゆる位置で同じか又は異なる基で置換されていてもよく； （ii） Ｂ及びＤは、同じか又は異なる有機基であっていずれも水素ではなく ； （iii）Ａ及びＣは、同じか又は異なる有機基であり；そして （iv） Ｅは、２価又は３価の有機基である。 但し、Ａｒ1及びＡｒ2が同じくフェニルであって−ＯＲ（Ｒは水素又は有機基 である）で置換されており、Ａ及びＣが同じくシアノであり、Ｂ及びＤが同じく １〜３５炭素原子のアルキル又はアルケニルであり、そしてＥが２価の有機基で ある化合物及びその異性体を除く。なお、そのような化合物がこの除かれる構造 を有さない上式の他の化合物と組み合わせて使用されるときは例外とする。〕 ２．下式の少なくとも１種の化合物を含む組成物。 〔式中、 （ｉ） Ａｒ1及びＡｒ2は、同じであっても異なっていてもよく、フェニル、 複素環芳香族、縮合フェニル及び縮合複素環芳香族基からなる群から選択され、 そしてあらゆる位置で同じか又は異なる基で置換されていてもよく； （ii） Ｂ及びＤは、同じか又は異なる有機基であっていずれも水素ではなく ； （iii）Ａ及びＣは、同じであっても異なっていてもよく、シアノ、エステル （−ＣＯ2Ｒ）（Ｒはあらゆる有機基てある）、及びアミド（ＣＯＮＨＲ）（Ｒ は水素又はあらゆる有機基である）からなる群から選択され；そして （iv） Ｅは、２価又は３価の有機基である。 但し、Ａｒ1及びＡｒ2が同じくフェニルてあって−ＯＲ（Ｒは水素又は有機基 である）で置換されており、Ａ及びＣが同じくシアノであり、Ｂ及びＤが同じく １〜３５炭素原子のアルキル又はアルケニルであり、そしてＥが２価の有機基で ある化合物及びその異性体を除く。なお、それらがこの除かれる構造を有さない 上式の他の化合物と組み合わせて使用されるときは例外とする。〕 ３．下式の少なくとも１種の化合物を含む組成物。 〔式中、 （ｉ） Ａｒ1及びＡｒ2は、同じであっても異なっていてもよく、フェニル、 複素環芳香族、縮合フェニル及び縮合複素環芳香族基からなる群から選択され、 そしてあらゆる位置で、置換又は無置換の１〜約２５炭素原子の直鎖状又は分枝 状アルキル（前記アルキルが置換されているときは、それは、シアノ、アルコキ シ、ハロ、アミノ及びシリルからなる群から選択される基で置換されている）； 置換又は無置換の２〜約２５炭素原子の直鎖状又は分枝状アルケニル（前記アル ケニルが置換されているときは、それは、シアノ、アルコキシ、ハロ、アミノ及 びシリルからなる群から選択される基で置換されている）；シアノ；ニトロ；ハ ロ；チオエーテル；アルキル又はアリールスルホン；スルホン酸エステル；アセ タール、環状アセタール；ケタール、環状ケタール；フェニル、置換フェニル、 多置換フェニル（前記フェニルは上記の如何なる基で置換されていてもよい）； ビフェニル、置換ビフェニル；ピリジル、置換ピリジル及び複素環芳香族；及び −ＯＲ（Ｒは水素又はあらゆる有機基である）からなる群から選択される、同じ か又は異なる基で置換されていてもよく； （ii） Ｂ及びＤは、同じか又は異なる有機基であって、いずれも水素ではな く、置換又は無置換の１〜約２５炭素原子の直鎖状又は分枝状アルキル（前記ア ルキルが置換されているときは、それは、シアノ、アルコキシ、ハロ、アミノ及 びシ リルからなる群から選択される基で置換されている）；置換又は無置換の３〜約 ２５炭素原子の直鎖状又は分枝状アルケニルであって、その二重結合は該シンナ ムアミド発色団二重結合と共役していないアルケニル（前記アルケニルが置換さ れているときは、それは、シアノ、アルコキシ、ハロ、アミノ及びシリルからな る群から選択される基で置換されている）；シアノ；ニトロ；ハロ；チオエーテ ル；アルキル又はアリールスルホン；スルホン酸エステル；アセタール、環状ア セタール；ケタール、環状ケタール；フェニル、置換フェニル、多置換フェニル （前記フェニルは上記の如何なる基で置換されていてもよい）；ビフェニル、置 換ビフェニル；ピリジル、置換ピリジル及び複素環芳香族；及び−ＯＲ（Ｒは水 素又はあらゆる有機基である）からなる群から選択され； （iii）Ａ及びＣは、同じであっても異なっていてもよく、シアノ、エステル （ＣＯ2Ｒ）（Ｒは有機基であることができる）、及びアミド（ＣＯＮＨＲ）（ Ｒは水素又はあらゆる有機基である）からなる群から選択され；そして （iv） Ｅは、２価又は３価の有機基である。 但し、Ａｒ1及びＡｒ2が同じくフェニルであって−ＯＲ（Ｒは水素又は有機基 である）で置換されており、Ａ及びＣが同じくシアノであり、Ｂ及びＤが同じく １〜３５炭素原子のアルキル又はアルケニルであり、そしてＥが２価の有機基で ある化合物及びその異性体を除く。なお、前記化合物がこの除かれる構造を有さ ない上式の他の化合物と組み合わせて使用されるときは例外とする。〕 ４．下式の少なくとも１種の化合物を含む組成物。 〔式中、 （ｉ） Ａｒ1及びＡｒ2は、同じであっても異なっていてもよく、フェニル、 複素環芳香族、縮合フェニル及び縮合複素環芳香族基からなる群から選択され、 そしてあらゆる位置で同じか又は異なる基で置換されていてもよく； （ii） Ｂ及びＤは、同じか又は異なる有機基であっていずれも水素ではなく ； （iii）Ａ及びＣは、同じであっても異なっていてもよく、シアノ、エステル （ＣＯ2Ｒ）（Ｒはあらゆる有機基である）、及びアミド（ＣＯＮＨＲ）（Ｒは 水素又はあらゆる有機基である）からなる群から選択され；そして （iv） Ｅは、２価又は３価の有機基である。 但し、Ａｒ1、Ａｒ2、Ｂ及びＤは、−ＯＲで置換されていないものとする。〕 ５．下式の少なくとも１種の化合物を含む組成物。 〔式中、 （ｉ） Ａｒ1、Ａｒ2、Ｂ及びＤは、同じか又は異なるフェニル基であって、 あらゆる位置で、置換又は無置換の１〜約２５炭素原子の直鎖状又は分枝状アル キル（前記アルキルが置換されているときは、それは、シアノ、アルコキシ、ハ ロ、アミノ及びシリルからなる群から選択される基で置換されている）；置換又 は無置換の２〜約２５炭素原子の直鎖状又は分枝状アルケニル（前記アルケニル が置換されているときは、それは、シアノ、アルコキシ、ハロ、アミノ及びシリ ルからなる群から選択される基で置換されている）；シアノ；ニトロ；ハロ；チ オエーテル：アルキル又はアリールスルホン；スルホン酸エステル；アセタール 、環状アセタール；ケタール、環状ケタール；フェニル、置換フェニル、多置換 フェニル（前記フェニルは上記の如何なる基で置換されていてもよい）；ビフェ ニル、置換ビフェニル；ピリジル、置換ピリジル及び複素環芳香族；及び−ＯＲ （Ｒは水素又はあらゆる有機基である）からなる群から選択される、同じか又は 異なる基で置換されていてもよく； （ii） Ａ及びＣは、同じであっても異なっていてもよく、シアノ、エステル （ＣＯ2Ｒ）（Ｒは有機基である）、及びアミド（ＣＯＮＨＲ）（Ｒは水素又は あらゆる有機基である）からなる群から選択され；そして （iii）Ｅは、２〜約２０炭素原子の置換又は無置換の直鎖又は分枝鎖の脂肪 族基；置換又は無置換の芳香族又は複素環芳香族基；構造Ｒ'−Ｏ(Ｓｉ(Ｒ)2Ｏ)n −Ｒ'（Ｒ及びＲ'は１〜約２０炭素原子の直鎖状又は分枝状アルキル又は芳香 族基である）のシロキサン又はポリシロキサン含有二価基からなる群から選択さ れ る二価の有機基である。 但し、Ａｒ1及びＡｒ2が同じくフェニルであって−ＯＲ（Ｒは水素又は有機基 である）で置換されており、Ａ及びＣが同じくシアノであり、Ｂ及びＤが同じく １〜３５炭素原子のアルキル又はアルケニルであり、そしてＥが２価の有機基で ある化合物及びその異性体を除く。なお、前記化合物がこの除かれる構造を有さ ない上式の他の化合物と組み合わせて使用されるときは例外とする。〕 ６．下式の少なくとも１種の化合物を含む組成物。 〔式中、 （ｉ） Ａｒ1、Ａｒ2、Ｂ及びＤは、それぞれ無置換フェニル基であり； （ii） Ａ及びＣは、それぞれシアノであり；そして （iii）Ｅは、２〜約２０炭素原子の置換又は無置換の直鎖又は分枝鎖の脂肪 族基；置換又は無置換の芳香族又は複素環芳香族基；構造Ｒ'−Ｏ(Ｓｉ(Ｒ)2Ｏ)n −Ｒ'（Ｒ及びＲ'は１〜約２０炭素原子の直鎖状又は分枝状アルキル又は芳香 族基である）のシロキサン又はポリシロキサン含有二価基からなる群から選択さ れる二価の有機基である。〕 ７．更に、ヒンダードアミン、ホスファイト、フュノール系酸化防止剤、チ オエーテル、金属ジチオレート、スルホキシド、ベンゾトリアゾール、ヒドロキ シベンゾフェノン、シンナメート、マロン酸ベンジリデン、ニッケルキレート化 合物、オキサニリド、及び銅基剤熱安定剤からなる群から選択される少なくとも １種の化合物を含有する、請求項２の組成物。 ８．組成物を紫外線劣化に対して安定化する方法であって、請求項２の組成 物を安定化されるべき組成物に添加することを含む方法。 ９．請求項２の組成物を含むプラスチック含有物品。 １０．プラスチックが、ポリ塩化ビニル、ポリオレフィン、ポリエステル、ポ リアミド、ポリカーボネート、ポリアセタール、ポリスルホン、ポリイミド、及 びポリアリールエーテルケトンからなる群から選択される、請求項９の物品。
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