JPH11513075A - 半導体ポリマー - Google Patents

半導体ポリマー

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JPH11513075A
JPH11513075A JP10504974A JP50497498A JPH11513075A JP H11513075 A JPH11513075 A JP H11513075A JP 10504974 A JP10504974 A JP 10504974A JP 50497498 A JP50497498 A JP 50497498A JP H11513075 A JPH11513075 A JP H11513075A
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phenylene
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エドスコ エンノ ハフィンガ
クラウス アレクサンダー ミューレン
トーマス ソクツカ−グス
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フィリップス エレクトロニクス ネムローゼ フェンノートシャップ
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    • H01ELECTRIC ELEMENTS
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    • H01B1/06Conductors or conductive bodies characterised by the conductive materials; Selection of materials as conductors mainly consisting of other non-metallic substances
    • H01B1/12Conductors or conductive bodies characterised by the conductive materials; Selection of materials as conductors mainly consisting of other non-metallic substances organic substances
    • H01B1/124Intrinsically conductive polymers
    • H01B1/128Intrinsically conductive polymers comprising six-membered aromatic rings in the main chain, e.g. polyanilines, polyphenylenes

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Abstract

(57)【要約】 本発明は、半導体ポリマーおよび半導体ポリマーの製造方法に関する。本発明に係るポリマーは、繰返し単位−(−A−NH−B−S−)−(式中、AおよびBは共役基である)を有する。該ポリマーは、AおよびBが飽和された置換基を有しない場合であっても、通常の有機溶剤に容易に可溶であることが判明し、そしてドーピング後約1S/cmの電気伝導度を有する。本発明方法により、本発明に係る半導体ポリマーが得られ、この半導体ポリマーは高分子量を有しそして位相的欠陥は殆ど有しない。

Description

【発明の詳細な説明】 半導体ポリマー 本発明は、共役繰返し単位を含んでなる半導体ポリマーに関する。 本発明は、更にそのような半導体ポリマーの製造方法に関する。 半導体ポリマーは、多くの電子および電子光学の応用において使用できる。そ のような応用の例は、帯電防止層、「電磁遮蔽」層、耐蝕層、バッテリー、エレ クトロルミネッセント装置であり、そして電子回路、例えばトランジスタの導電 トラックにおけるものである。 半導体ポリマーは、共役繰返し単位の連続した共役鎖を含んでなる。それらは また、導電性又は共役ポリマーとして称されるか、又はもしも鎖が短い長さを有 する場合導電性又は共役オリゴマーと称される。共役鎖の大きさのために、ポリ マーは比較的容易に電子を受けとることができ及び/又は与えることもできる。 ポリマーの電気伝導は、例えば電極からホール又は電子の電荷注入により、又は 酸化剤又は還元剤の形態でドーパントを用いることによって増加できる。 最初の節において言及したタイプのポリマーは、自体公知である。例えば、カ オ等によって出版されたSyth.Met.48(1992)、91頁には、ポ リアニリン(PANI)と称される半導体ポリマーが記載されている。該ポリマ ーのエメラルジン(emeraldine)塩形から形成された層は、ショウノ ウスルホン酸又はドデシルベンゼンスルホン酸をドーパントとして用いる場合、 約100s/cmまでの電気伝導を示す。一般に、ポリマーの加工性は、大きな 共役鎖の存在によって悪影響を受ける。例えば、ポリアニリンのドープされてい ない電気的絶縁形、すなわちエメラルジンベース形の溶液からの加工性は、溶剤 としてN−メチルピロリドン、アミン又は強酸、例えば濃硫酸の使用を必要とす る。これらの溶剤は、工業的規模で使用するには魅力的でない。また、溶剤の選 択が制限されることは、ポリマーの広範囲の応用にとって妨げとなる。大きな共 役系の存在にもかかわらず、通常の有機溶剤中で満足できる溶融性並びにドーピ ング後満足できる電気伝導度を示す半導体ポリマーに対する要求が、業界におい ては存在する。 本発明の目的の一つは、このような要求に合致させることである。更に詳しく は、本発明は次の新規な半導体ポリマーを提供することを目的としている;すな わちこの新規な半導体ポリマーは、未ドープ形において、そしてたとえ該ポリマ ーが高分子量を有していても、共役鎖に結合した置換基の不存在においてさえ、 通常の有機溶剤中に容易に溶解でき、そして加えて該ポリマーはドープされた形 で満足できる電気伝導度を示す。 この目的は、最始の節で言及されたタイプのポリマーによって達成され、そし て本発明に従ってこのポリマーは以下の内容を特徴とする;すなわち繰返し単位 基(部分)である)に従って選ばれる。以下の内容が見出された;すなわち共役 中に交互に存在する硫黄原子および窒素原子は、共役鎖に結合した置換基の不存 在下、通常の有機溶剤中で良好な溶解性をもたらす。硫黄原子および窒素原子の 双方は、孤立電子対を有し、この孤立電子対は共役系の一部を形成し、これによ り連続した共役鎖を形成し、その結果ドーピング後良好な電気伝導度が達成され る。AおよびBに対し、未置換の1,4−フェニレン基が用いられた典型的例に おいて、以下の内容が見出された;すなわち分子量Mn109000を有するポ リマーは、ジメチルホルムアミド、テトラヒドロフラン、N−メチルピロリドン およびジメチルアセトニトリルの如き溶剤中に少なくとも20重量%まで溶解で き、そして該ポリマーはジメチルスルホキシドに容易に溶解できた。塩化鉄(II I)でドーピング後、電気伝導度は1S/cmであった。以下の内容は有利であ る;すなわち共役鎖に結合した置換基は、必ずしも満足できる溶解度を達成する 必要はない。その結果として、異なる鎖間の電荷輸送は、平均してより容易にな される;と言うのは鎖間の距離が減少するからである。置換基の選択が、溶解度 に関する因子によってもはや決定されないという事実は、置換基の選択のより大 きい自由度をもたらし、これはポリマーの他の性質に影響を与えるために使用で きる。例えば、置換基を用いて、特に、酸化電位、還元電位、吸収スペクトル、 ポリマーから形成される層の形態学、他のポリマーとの相溶性又は或る基板に対 する接着性に影響を与えることができる。 原則的には、共役AおよびBの選択は自由である;但し、該共役AおよびBは 、交互に存在する硫黄原子および窒素原子の溶解度増加作用が破壊される程その ように大きくないことを条件とする。基A又はBは、別個の分子として考慮した とき、もしも該分子が対応する分子の溶解度が望ましい溶剤中に溶解できない場 合、大きすぎる。 本発明に係る半導体ポリマーの好ましい態様は、AおよびBが同一であるか又 は異なるように選択され、そしてAおよびBがせいぜい2,5−エチニル、2, 5−ピリル(pyrryl)、1,4−フェニレン又は1,4−フェニレンビニ レンのテトラマーであることを特徴とする。前記オリゴマーから誘導されるポリ マー、ポリチオフェン、ポリピロール、ポリ−1,4−フェニレンおよびポリ− p−フェニレンビニレンは、ドーピング後良好な電気伝導度を示す周知のポリマ ーである。しかし、もしも、例えば溶解度を高める置換基が分与されると、該ポ リマーは未ドープ形で不溶性でありそして従って扱いにくい。しかし本発明に係 るポリマーに、前記オリゴマーを適用することにより、連続した共役系を有する 、可溶性の変異体を形成することができる。6を超える繰返し単位を有するオリ ゴマーの固有溶解度は、すでに許容できない程度低く、オリゴマーはせいぜいテ トラマーであるべきである。 本発明に係る半導体ポリマーの特定の態様は、AおよびBが1,4−フェニレ ンに等しくあるように選ばれることを特徴とする。 たとえ分子量Mnが100000を超えても、該ポリマー、すなわちポリ−1 ,4−フェニレンスルフィド−1,4−フェニレンアミン(PPSA)は、ジメ チルホルムアミド、テトラヒドロフラン、N−メチルピロリドンおよびジメチル アセトニトリルの如き溶剤中に少なくとも20重量%まで溶解でき、そして該ポ リマーはジメチルスルホキシドに容易に溶解できる。更に、該ポリマーは、38 0℃までの温度で安定である。1.3GPaの弾性率を有する、光学的に澄明な 自立層は溶液から製造できる。ポリマー層は、金属、特に金に極めて良好に接着 する。公知の酸化剤を用いることにより、PPSAはドープできp−型物質を形 成する。SbCl5でPPSAの自立層をドーピングすると、0.18S/cm の電気伝導度が得られ、一方塩化鉄(III)でドーピングすると、0.8S/cm の電気伝導度を得る。 本発明は、又そのような半導体ポリマーの製造方法に関する。本発明に係る方 法は、次式H−A−NH−B−SO−CH3(式中、Aは1,4−フェニレンに 相当しそしてBは同一であるか又は異なる共役単位である)によって表されるス ーを形成することを特徴とする。本発明に係る方法は、本発明に係る半導体ポリ マーを製造するために極めて好都合に使用できる。出発化合物H−A−NH−B −CH3を好都合に選択することにより、硫黄原子および窒素原子が鎖中に交互 に存在するポリマーが形成される。このようにして得られた半導体ポリマーは、 良好に規制された構造と高分子量を有する。例えば、アニリンの酸化によって得 られるポリアニリンと異なり、共役鎖は位相的欠点を殆ど含まず、そして網状構 造の形成は生起せず、これはポリマーの溶解度および製造の再現性に関する好ま しい効果を有する。例えば、ポリマー溶液の粘度は、網状構造形成の程度によっ て実質的に制御される。 好都合な強酸は、例えば硫酸、パーフルオロアルキルスルホン酸、アルキルス ルホン酸、例えばメチルスルホン酸であるが、好ましくは過塩素酸である。好都 合な脱メチル化剤は、アルカノラートおよびアミンである。特に好適な脱メチル 化剤は、ピリジンである。 本発明に係るポリマーは、光学および電子応用、例えば帯電防止層、半導体装 置における半導体物質、電磁遮蔽層、耐蝕層、バッテリー、エレクトロルミネッ セント製造において並びに電子回路、例えばトランジスタの導電トラックにおい て極めて好都合に使用できる。本発明に係るポリマーは又、難燃剤、金属用の接 着剤、凝集剤および紙補強剤として好都合に使用できる。 本発明のこれらのおよび他の面は、以下に記載の態様から明らかであろうしか つそれを参照して明らかにされる。 図面において、唯一の図は本発明のわく組み内において合成された幾つかの化 合物の構造式を示す。 例1 4−ヨード−チオアニソールの合成 4−アミノチオアニソール(25g、0.18モル)を、100mlの半濃硫 酸中に懸濁させる。氷/塩の混合物を用いて、その懸濁液をゆっくり0℃に冷却 し、しかる後NaNO2の溶液を、反応混合物の温度が5℃を超えないような遅 い速度で添加する。過剰のNaNO2を分解するため、スパチュラ一杯のウレウ ム(ureum)を添加し次いで混合物を5分間攪拌する。連続的に冷却しそし て温度を正確に制御しながら、50mlの水に溶解したヨウ化ナトリウム(27 g、0.18モル)の溶液を、温度が5℃を超えないような方法で滴下する。該 溶液を添加した後、冷却装置を除去し次いで3時間攪拌し続ける。250mlの ジクロロメタンで2回抽出工程を行い、しかる後有機相を飽和した通常の塩溶液 を用いて洗浄し次いで硫酸マグネシウムで乾燥する。回転膜蒸発器を用いて溶剤 を除去した後、分別蒸留を行う。80〜82℃(0.005ミリバール)で、3 6g(80%)量のうす茶色のオイルを得る。1 H-NMR(200MHz,d6-DMSO):7.59,6.98(d,4H,arom.A2B2-システム,J(H,H=8.5Hz),2.44(s ,3H,CH3)13 C-NMR(50Mhz,d6-DMSO):139.1,138.1,128.9,88.8,18.2 IR(KBr,ν/[cm-1]):3080-2910,1587,1469,1425,1092,801 MS(EI,70eV,m/z):249.9(M,100%),234.8(M-CH3,15%) 元素分析実測値 %(計算値 %):(C7H7SI)C 33.60(33.61),H 2.81(2.82),S 12.64( 12.79),I 50.49(50.78) 例2 4−トルエンメチルスルホキシド(式1)の合成 250mlのエルレンマイヤーフラスコ中で、アンモニウムセリウム(VI) ニトレート(27.5g、50ミリモル)を150mlのアセトニトリル中に溶 解する。50mlの水を添加した後、12.5ミリモルの4−メチル−チオアニ ソールを添加して、反応混合物を室温で3分間攪拌する。該反応混合物を500 mlの水に注ぎ、連続してジエチルエーテル(2×100ml)及びクロロホル ム(100ml)により抽出する。連合した有機層をマグネシウムスルフェート により乾燥させて、溶剤を回転膜蒸発器により除去する。このようにして得られ た、式1で示される生成物(収率70〜80%)の純度は、以下の転化に対して 十分なものである。分析純度のサンプルは、再結晶によりエタノールから得るこ とができる。1 H-NMR(200MHz,CDCl3):7.76,7.38(4H,arom.A2B2-システム,J(H,H=7.9Hz),2.73(3H,S( O)-CH3),2.49(3H,-CH3)13 C-NMR(50Mhz,d6-DMSO):146.3,145.5,130.7,124.4,43.3,22.3 IR(KBr,ν/[cm-1]):3051-2920,1596,1498,1458,1041,813 MS(EI,70eV,m/z):150.0(M,77%),138.9(M-CH3,100%) 元素分析実測値 %(計算値 %):(C8H10OS)C 62.05(62.30),H 6.59(6.54),S 21.01 (20.79) 4−ブロモフェニルメチルスルホキシド(式2)の合成 4−メチルチオアニソールを4−ブロモチオアニソールに代えた以外は、4− トルエンメチルスルホキシドの合成と同様に行う。1 H-NMR(200MHz,d6-DMSO):7.80,7.65(d,4H,arom.A2B2-システム,J(H,H=8.3Hz),2.73(s ,3H,-CH3)13 C-NMR(50Mhz,d6-DMSO):146.2,134.2,126.1,124.4,43.4 IR(KBr,ν/[cm-1]):3000-2910,1570,1471,1458,1043,817 MS(EI,70eV,m/z):219.8(M,70%),204.7(M-CH3,100%) 元素分析実測値 %(計算値 %):(C7H7OSBr)C 38.47(38.37),H 3.32(3.22)S 14.80 (14.63),Br 36.53(36.47) 4−ヨードフェニルメチルスルホキシド(式3)の合成 4−メチルチオアニソールを4−ヨードチオアニソールに代えた以外は、4− トルエンメチルスルホキシドの合成と同様に行う。1 H-NMR(200MHz,d6-DMSO):7.96,7.48(d,4H,arom.A2B2-システム,J(H,H=8.4Hz),2.74(s ,3H,S(O)-CH3)13 C-NMR(50MHz,d6-DMSO):146.7,138.2,125.9,97.9,43.4 IR(KBr,ν/[cm-1]):2990-2910,1570,1469,1420,1036,811 MS(EI,70eV,m/z):265.9(M,78%),250.7(M-CH3,100%) 元素分析実測値 %(計算値 %):(C7H7OSI)C 31.60(31.59),H 2.63(2.65),S 12.02 (12.02),147.92(47.69) 例3 4−メチルスルホキシ−フェニルトリルアミン(式4)の合成 100mlの丸底フラスコ中で、30ミリモル量の4−ブロモ又は4−ヨード フェニルメチルスルホキシド及び63ミリモルのトルイジン並びに炭酸カリウム (4.0g)とヨウ化銅(1)(0.67g、3.5ミリモル)を、190℃で 、50mlの乾燥1,3−ジメチルテトラヒドロ−2(1H)−ピリミジノン中 18時間、不活性ガス下で加熱する。冷却した後、該反応混合物を水に注ぎ、ジ クロロメタン(3×100ml)で抽出する。連合した有機層を100mlの水 で洗浄し、マグネシウムスルフェートによって乾燥させる。 溶剤を回転膜蒸発器(末端をホイルポンプを用いて排気することにより)によ り除去する。残りのブラックオイルをエチルアセテート/メタノール(35:1 )を用いてシリカゲル上でクロマトグラフにかける(Rr0.67)。当該プロ セスの収率は35〜45%の範囲であり、式4で示されるベージュの微結晶性の 固体材料が得らる。1 H-NMR(200MHz,d6-DMSO):7.42(d,2H,arom.,J(H,H)=8.5Hz),7.06-6.98(m.6H,arom .),2.63(s,3H,SO-CH3),2.828(s,3H,-CH3)13 C-NMR(50MHz,d6-DMSO):148.5,139.2,133.8,132.9,130.4,126.1,121.3,115.9,4 4.0,21.3 IR(KBr,ν/[cm-1]):3265,3150-2810,1592,1531,1497,1343,1034,808 MS(FD,m/z):245.4 元素分析実測値 %,(計算値 %):(C14H15NOS,245.1)C 68.31(68.55),H 6.15(6.17 ),N 5.52(5.71),S 13.14(13.05) 4−メチルスルホキシ−ジフェニルアミン(式5)の合成 アニリンをトルイジンの代わりに用いた以外は、4−メチルスルホキシ−フェ ニルトリルアミン(式4)の合成と同様に行う。13 C-NMR(50MHz,d6-DMSO):115.8,118.8,121.5,125.7,129.8,135.0,142.3,146.8,4 3.5 MS(FD,m/z):231.4 元素分析実測値 %,(計算値 %):(C13H13ONS,231.1)C 67.53(67.50),H 5.65(5.66 ),N 6.04(6.06),S 13.88(13.86) 例4 4−4′−ジ(4−メチルスルホニウムトリル)ジフェニルアミンパークロレ ート(式6)の合成 10ミリモルの量の4−トルエンメチルスルホキシドを15mlの過塩素酸( 70%)中でジフェニルアミン(0.854g、5ミリモル)といっしょに、4 8時間室温で、湿分を追い出しながら攪拌する。得られた混合物を徐々に氷冷水 に注ぎ3時間攪拌する。次いで、該混合物を取り出し、水と過剰のメタノールで 洗浄する。オイルポンプにより得られる減圧下において乾燥した後には、収率9 0〜98%の所望する過塩素酸塩が、式6で示される無色の微結晶性の化合物形 態で得られる。1 H-NMR(200MHz,d6-DMSO):9.58(s,1H,NH),7.92,7.93(d,4H.arom.A2B2-システム,J(H, H)=8.7Hz),7.91,7,54(d.4H,arom.A2B2-システム,J(H,H)=8.4Hz),3.73(s,6H,S-CH3)13 C-NMR(50MHz,d6-DMSO):146.6,144.6,132.1,131.5,129.6,125.3,118.8,116.8,2 7.5,21.2 IR(KBr,ν/[cm-1]):3630-3248,3240-2930,1587,1493,1342,809 UV/VIS(DMF(6% HCLO4),λmax(ε)):343nm(42000) 元素分析実測値 %,(計算値 %):(C28H29NS2O8Cl2):C 52.18(52.34),H 4.86(4.55 ),N 2.13(2.18),S 9.21(9.98),Cl 11.60(11.03) 4−4′−ジ(4−メチル−4′−メチルスルホニウムジフェニルアミン)ジ フェニルアミンパークロレート(式7)の合成 10ミリモルの量の4−メチルスルホキシ−フェニルトリルアミン4を15m lの過塩素酸(70%)中でジフェニルアミン(0.854g、5ミリモル)と いっしょに、48時間室温で、湿分を追い出しながら攪拌する。該混合物を徐々 に氷冷水に注ぎ3時間攪拌し、然る後該混合物を取り出し、次いで水と過剰のメ タノールで洗浄する。オイルポンプにより得られる減圧下において乾燥した後に は、収率90〜98%の所望する過塩素酸塩が、式7で示される無色の微結晶性 の化合物形態で得られる。1 H-NMR(200MHz,d6-DMSO):9.52(s,1H,NH),8.87(s,2H,NH),7.90-7.75(m,8H,arom.) ,7.40-7.36(m,4H,arom.),7.20-7.06(m,12H,arom.),3.65(s,6H,S-CH3),2.29(s,6H ,-CH3)13 C-NMR 50MHz,d6-DMSO):150.1,148.4,137.9,132.6,131.9,131.3,130.2,121.2,1 18.7,118.4,115.3,112.2,28.1,20.7 IR(KBr,ν/[cm-1]):3355;3267-2855;1588,1494;1339;820 UV/VIS(DMF(6% HCLO4),λmax(ε)):350nm(57900) 元素分析実測値 %,(計算値 %):(C40H39N3S2Cl2O8)C 57.33(58.25),H4.89(4.77) ,N 4.79(5.09),S 8.86(7.77),Cl 8.53(8.60) 例5 4−4′−ジ(4−トルエン−スルフィド)ジフェニルアミン(式8)の合成 7.5ミリモル量のスルホニウム化合物6を25mlの乾燥ピリジン中に導入 して、アルゴン中で5時間還流する。冷却した後、該混合物を100mlの氷冷 水に注ぎ、若干の時間攪拌する。所望する場合には、数滴の塩酸を添加すること により沈殿物をよりコンパクトな形態に転化することができる。次いで、該生成 物を濾過し、水及び過剰のメタノールで洗浄する。収率95〜98%の所望する 生成物8が、式8で示される無色から灰色の微結晶粉末の形態で得られる。1 H-NMR(200MHz,d6-DMSO):8.58(s,1H,NH),7.31,7.12(d,4H,arom.A2B2-システム,J(H, H)=8.5Hz),7.14(m,4H,arom.),2.27(s,6H,-CH3)13 C-NMR(50MHz,d6-DMSO):143.2,136.1,134.3,134.1,130.1,129.2,123.5,118.1,2 0.8 IR(KBr,ν/[cm-1]):3413,3020-2850,1594,1491,1502,1302,810 UV/VIS(DMF,λmax(ε)):315nm(38300) MS(FD,m/z):413.5(M,100%) 元素分析実測値 %,(計算値 %):(C26H23NS2,413.6)C75.69(75.51),H5.65(5.51), N3.30(3.39),S15.65(15.50) 4−4′−ジ(4−メチル−4′−ジフェニルアミンスルフィド)ジフェニル アミン(式9)の合成 式7で示されるスルホニウム化合物を式6で示されるスルホニウム化合物の代 わりに用いた以外は、4,4′−ジ(4−トルエン−スルフィド)ジフェニルア ミン(式8)の合成と同様に行う。1 H-NMR(200MHz,d6DMSO):8.37(s,1H,NH),8.15(s,2H,NH),7.24-7.16(m,8H,arom.), 7.10-6.97(m,16H,arom.),2.24(s,6H,-CH3)13 C-NMR(50MHz,d6-DMSO);144.3,142.5,140.2,133.3,131.9,129.9,129.8,126.5,1 23.5,118.6,117.9,116.5,20.58 IR(KBr,ν/[cm-1]):3410,3030-2910,1594,1517,1494,1517,1311,820 UV/VIS(DMF,λmax(ε)):318nm(62300) MS(FD,m/z):595.7(M,100%) 元素分析実測値 %,(計算値 %):(C38H33N3S2,595.8)C 76.60(76.60),H 5.46(5.5 8),N 6.93(7.05),S 11.01(10.76) 例6 ポリ(1,4−フェニレン−メチルスルホニウム−1,4−フェニレンアミン )メチルスルホネート(式10)の合成 4−メチルスルホキシ−ジフェニルアミン(式5)(2g、9.6ミリモル) を30mlのメチルスルホン酸中に溶解し、室温で24時間攪拌する。反応混合 物を徐々に氷水に注ぎ、1晩攪拌する。これにより赤味がかった青色から無色に 脱色される。生成物を濾過し、過剰の水で洗浄する。得られたポリマーは式10 で示される繰返し単位を有し、該ポリマーを48時間50℃で、オイルポンプに よって得られた減圧下で乾燥する。 生成物の分析は、化合物10の過塩素酸塩により実施した。これは、かかる塩 が明確な形態で、より容易に得ることができるからである。1 H-NMR(200MHz,d6-DMSO):9.58(s,1H,NH),7.95,7.41(d,4H,arom.A2B2-システム,J(H, H)=8.7Hz),3.70(s,3H,S-CH3)13 C-NMR(50MHz,d6-DMSO):146.6,131.8,118.7,117.4,117.4,24.0 IR(KBr,ν/[cm-1]):3441,3275-2810,1573,1491,1334,820 元素分析実測値 %,(計算値 %):(C13H12NSClO4,(313.8))C 48.61(49.77),H 4.07 (3.86),N 4.36(4.46),S 10.53(10.22),Cl 11.0(11.30) 例7 ポリ(1,4−フェニレンスルフィド−1,4−フェニレンアミン)(式11 )の合成 ポリ(1,4−フェニレン−メチルスルホニウム−1,4−フェニレンアミン )メチルスルホネート10(1.5g)を、50mlの乾燥ピリジン中で6時間 、還流しながら加熱する。透明な溶液を冷却し、次いで水を注ぎ、50℃で数時 間加熱した。得られた無色のポリマーは式11で示される繰返し単位を有し、該 ポリマー(1.25g、94〜98%)を濾過し、過剰の水及びメタノールで洗 浄し、オイルポンプにより得られた減圧下で乾燥する。1 H-NMR(200MHz,d6-DMSO):8.41(s,1H,NH),7.03,7.21(d,4H,arom.A2B2-システム,J(H, H)=9.2Hz)13 C-NMR(50MHz,d6-DMSO):142.7,132.8,125.7,118.0 IR(KBr,ν/[cm-1]):3390,3250-2810,1581,1490,1439,1318,1083,815 UV/VIS(DMF,λmax(ε)):332nm(25300) GPC(THF,PS-検定):Mn=119.000gmol-1,Mw=206.000gmol-1 肢浸透圧法(DMF,カットオフ 5000gmol-1):Mn=110.000gmol-1,n=545 元素分析実測値 %,(計算値 %):((C12H9NS)n,(199.1)n)C 72.46(72.35),H 4.63( 4.85),N 6.88(7.04),S 16.21(16.06).

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1.共役繰返し単位を含んでいる半導体ポリマーであって、該繰返し単位が次式 である)に従って選ばれる、前記半導体ポリマー。 2.AおよびBが、同一であるか又は異なるものであるように選ばれ、そしてA およびBは多くても2,5−エチニル、2,5−ピリル、1,4−フェニレン又 は1,4−フェニレンビニレンのテトラマーである、請求の範囲第1項記載の半 導体ポリマー。 3.AおよびBが1,4−フェニレンに相当するように選ばれる、請求の範囲第 2項記載の半導体ポリマー。 4.請求の範囲第1項記載の半導体ポリマーの製造方法であって、次式H−A− NH−B−SO−CH3(式中、Aは1,4−フェニレンに相当しそしてBは同 一であるか又は異なる共役単位である)によって表されるスルホキシドモノ 触させ、これにより繰返し単位(A−NH−B−S)を有するポリマーを形成す ることを特徴とする、前記製造方法。 5.帯電防止層における、請求の範囲第1項記載の半導体ポリマーの使用。 6.半導体装置における、半導体物質として、請求の範囲第1項記載の半導体ポ リマーの使用。 7.耐蝕層における、請求の範囲第1項記載の半導体ポリマーの使用。
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