JPH11503770A - 組成物 - Google Patents

組成物

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JPH11503770A JP8527357A JP52735796A JPH11503770A JP H11503770 A JPH11503770 A JP H11503770A JP 8527357 A JP8527357 A JP 8527357A JP 52735796 A JP52735796 A JP 52735796A JP H11503770 A JPH11503770 A JP H11503770A
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Abstract

(57)【要約】 本発明は、(a)少なくとも3の官能性と少なくとも650の分子量とを有するモノマー性ポリ(メタ)アクリレート2〜20部;(b)2〜4の官能性と400〜10,000の分子量とを有するウレタン(メタ)アクリレート20〜60部;(c)ビスフェノールAまたはビスフェノールFに基づくモノマー性またはオリゴマー性ジ(メタ)アクリレート20〜80部;および、(d)光開始剤0.1〜10部を含み、全ての部が重量部であり、(a)+(b)+(c)+(d)の部の合計数が合計で100となる液体組成物に関する。本組成物は、三次元物品、例えば、機械および人体部材のモデルなどのステレオリソグラフィック製造用に適しており、それらがカールおよび収縮しにくく、硬化速度が速いので特に優れている。

Description

【発明の詳細な説明】 組成物 本発明は、光硬化可能な組成物、化学放射線照射によるそれらの重合方法、本 組成物からの三次元物品の製造方法並びにかくして製造される物品に関する。 複雑な三次元物品が液体光硬化可能な組成物からステレオリソグラフィー(st ereolithography)によって製造できることは公知である。このような方法の1 つは、Hullの米国特許 4,575,330に記載されている。物品は層中に形成され、樹 脂の各々の新たな硬化可能層は、UV/VIS光による予備的硬化によって先行 する予め硬化した層に固く付着する。三次元物品の全体の構造は、通常、コンピ ューターによって制御される。光硬化可能な組成物(例えば、液体樹脂および樹 脂混合物)およびそれらのコーチング剤、接着剤およびフォトレジストとしての 使用は公知である。しかし、このような組成物の大部分は、あるものは粘稠すぎ たり、また別のあるものは光感応性が不十分であったり、硬化が遅かったり、そ れらを硬化させる時に過度の収縮またはカーリングを生じたりするので、ステレ オリソグラフィーによる凝固された三次元物品の製造には適していない。 理想的には、ステレオリソグラフィー用の光硬化可能な組成物は、適度に早く 硬化し、液体から固体状態への変換において小さな体積収縮を有する。いわゆる 「カールファクター(curl factor)」は、収縮誘発変形の尺度として引用され ることが多く、30%のカールファクターは、物品が何であるかにもよるが、多 くは、許容可能な最大値であると考えられており、20%以下のカールファクタ ーが好ましい。 カナダ特許出願 2028541は、ステレオリソグラフィー用の光硬化可能な組成物 を示唆している。これらの組成物は機能するものの、これらは高いカール歪みと 高い粘度を有する傾向がある。 本発明に従えば、 (a)少なくとも3の官能性と少なくとも650の分子量とを有するモノマー性 ポリ(メタ)アクリレート2〜20部; (b)2〜4の官能性と400〜10,000の分子量とを有するウレタン(メ タ)アクリレート20〜60部; (c)ビスフェノールAまたはビスフェノールFに基づくモノマー性またはオリ ゴマー性ジ(メタ)アクリレート20〜80部;および、 (d)光開始剤0.1〜10部を含み、 全ての部が重量部であり、(a)+(b)+(c)+(d)の部の合計数が合 計で100となる液体組成物が提供される。 本発明の液体組成物は好ましくは、5〜18部、さらに好ましくは8〜16部 の成分(a);20〜50部、さらに好ましくは25〜45部の成分(b);2 0〜70部、さらに好ましくは30〜60部、特には35〜55部、さらに特に は40〜50部の成分(c);並びに、1〜9部、さらに好ましくは2〜8部、 特には3〜7部の成分(d)を含むか、または、本質的にそれらから成り、全て の部が重量部であり、(a)+(b)+(c)+(d)の部の合計数が合計で1 00となる液体組成物である。 特に好ましい態様においては、本発明の液体組成物は、8〜16部の成分(a );25〜45部の成分(b);40〜50部の成分(c);並びに、3〜7部 の成分(d)を含むか、または、本質的にそれらから成り、全ての部が重量部で あり、(a)+(b)+(c)+(d)の部の合計数は合計で100である。 成分(a)は好ましくは800より大きい、さらに好ましくは880〜120 0の範囲、特には900〜1100の範囲のMW(即ち、分子量)を有する。 成分(a)として使用することができる適当な化合物の例は、トリ−、テトラ −およびペンタ−(メタ)アクリレート(これらの混合物を含む)であり、特に は、式I、式IIおよび式III: [式中、R1は、水素原子、メチル、ヒドロキシルまたは、式(IV): {式中、R2は、式V: (式中、nは、3〜8、好ましくは4〜8であり、R3およびR4は、各々独立 に、水素またはメチルである。)で表される基である。} で表される基である。] で表されるものである。 特に好ましい式(I)〜式(III)で表される化合物は、R1がメチルまた は式(IV)で表される基であり、R2がnが4または5であり、R3およびR4 が上記定義した通りである式(V)で表される基である式(I)で表される化合 物である。 成分(a)として使用することができる化合物の例としては、高度にプロポキ シ化およびエトキシ化された1,1,1−トリメチロールプロパントリアクリレ ートまたはトリメタクリレートおよびこれらの混合物を挙げることができる。こ のタイプの化合物は公知であり、あるものは商業上入手可能であり、例えば、Cr ay Valley Co.Limited.Newport,Wales and Sartomer CompanyのSARTOM ER製品は、このような化合物をSR−9021およびSR−9035の製品名 の下に供給している。 本発明による組成物における成分(b)としては、公知のウレタンアクリレー ト類を使用することができ、これらは公知の方法で製造することができ、例えば 、ヒドロキシル末端ポリウレタンをアクリル酸またはメタクリル酸と反応させる ことによって対応するウレタン(メタ)アクリレートを得るか、または、イソシ アネート末端プレポリマーをヒドロキシアルキルアクリレート類またはメタクリ レート類と反応させることによってウレタン(メタ)アクリレートを得る。好適 な方法は、例えば公開ヨーロッパ特許出願114,982および133,908 に開示されている。このようなアクリレート類の分子量は、一般的には400〜 10,000の範囲内であり、好ましくは500〜7,000の範囲内である。 ウレタン(メタ)アクリレート類はまた、Zeneca Resinsからの NeoRad、UCBからのEBECRYL、Morton Thiokolか らのUvithaneおよびSartomer CompanyからのSR95 04、SR9600、SR9610、SR9620、SR9630、SR964 0、およびSR9650の商標名の下に商業上入手可能である。 脂肪族出発物質から誘導される分子量500〜7000のウレタンアクリレー ト類を使用することが好ましい。 成分(c)において、または成分(c)として使用することができるビスフェ ノールAおよびビスフェノールFに基づくジ(メタ)アクリレート類としては、 ビスフェノールAジアクリレート類およびジメタクリレート類、およびビスフェ ノールFジアクリレート類およびジメタクリレート類、およびアルコキシ化、好 ましくは、エトキシ化もしくはプロポキシル化されたビスフェノールAまたはF のジアクリレート類またはジメタクリレート類が挙げられる。ビスフェノールA またはビスフェノールFジグリシジルエーテルと(メタ)アクリル酸との反応に よって得ることができるアクリレート類もまた適しており、特に、エトキシ化さ れたビスフェノールAジアクリレートおよびエトキシ化されたビスフェノールA ジメタクリレートから成る混合物が適している。このタイプのモノマー性または オリゴマー性ジ(メタ)アクリレート類もまた公知であり、あるものは商業上入 手可能であり、その例としては、Sartomer Companyからエトキ シ化されたビスフェノールAジメタクリレートに対し製品名SR−348の下に 、エトキシ化されたビスフェノールAジアクリレートに対し製品名SR−349 の下に入手可能である。ビスフェノールAまたはFのジ(メタ)アクリレート類 およびエトキシ化されたビスフェノールAのジ(メタ)アクリレート類またはエ トキシ化されたビスフェノールFのジ(メタ)アクリレート類ならびにこれらの 混合物を成分(c)として使用することが好ましい。 好ましくは、成分(c)は300〜1000の分子量(MW)を有する。 照射した際に遊離基を形成する光開始剤はいずれのタイプであっても、本発明 による混合物中で成分(d)として好適に使用することができる。公知の光開始 剤の好適な類としては、ベンゾイン類;ベンゾインエーテル類、例えば、ベンゾ インメチルエーテル、エチルエーテルおよびイソプロピルエーテル、ベンゾイン フェニルエーテルおよびベンゾインアセテート;アセトフェノン類、例えば、ア セトフェノン、2,2−ジメトキシアセトフェノンおよび1,1−ジクロロアセ トフェノン;ベンジル;ベンジルケタール類、例えば、ベンジルジメチルケター ルおよびベンジルジエチルケタール;アントラキノン類、例えば、2−メチルア ントラキノン、2−エチルアントラキノン、2−tert−ブチルアントラキノン、 1−クロロアントラキノンおよび2−アミルアントラキノン;トリフェニルホス フィン;ベンゾイルホスフィンオキシド類、例えば、2,4,6−トリメチルベ ンゾイルジフェニルホスフィンオキシド(Luzirin TPO);ベンゾフェノン類、 例えば、ベンゾフェノンおよび4,4−ビス(N,N−ジメチルアミノ)−ベン ゾフェノン;チオキサントン類およびキサントン類;アクリジン誘導体;フェナ ジン誘導体;キノキサリン誘導体および1−フェニル−1,2−プロパンジオン −2−O−ベンゾイルオキシム;1−アミノフェニルケトン類および1−ヒドロ キシフェニルケトン類、例えば、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン 、フェニル1−ヒドロキシイソプロピルケトンおよび4−イソプロピルフェニル −1−ヒドロキシイソプロピルケトンが挙げられるが、これらは全て公知化合物 である。 化学放射線がHg−Cdレーザーからである場合、使用するのに特に適した光 開始剤は、アセトフェノン類、例えば、2,2−ジアルコキシベンゾフェノン類 、およびα−ヒドロキシフェニルケトン類、例えば、1−ヒドロキシシクロヘキ シルフェニルケトンおよび2−ヒドロキシイソプロピルフェニルケトン(=2− ヒドロキシ−2,2−ジメチルアセトフェノン)である。 アルゴンイオンレーザーに特に適した光開始剤(d)の類は、ベンジルケター ル類、例えば、ベンジルジメチルケタール、および、特にはα−ヒドロキシフェ ニルケトン、ベンジルジメチルケタールまたは2,4,6−トリメチルベンゾイ ルジフェニルホスフィンオキシドである。 好適な光開始剤(d)のもう1つの類は、化学放射線を吸収して、成分の重合 を開始する遊離基を生成することができる、イオン性染料−カウンターイオン化 合物である。イオン性染料カウンターイオン化合物を含有する本発明による混合 物は、波長400〜700nmを有する可視光でこのようにしてかなり変動可能 な様式で硬化させることができる。イオン性染料−カウンターイオン化合物およ びそれらの作用モードは、例えば、EP−A−0,223,587および米国特 許4,751,102、4,772,530および4,772,541から公知 である。挙げることができる適当なイオン性染料−カウンターイオン化合物の例 は、アニオン性染料−ヨードニウムイオン錯体、アニオン性染料−ピリリウムイ オン錯体および、特に、式VI: [式中、X+はカチオン性染料であり、R5、R6、R7およびR8は、各々独立 に、アルキル、アリール、アルカリール、アリル、アラルキル、アルケニルまた はアルキニル基、脂環式基または飽和もしくは不飽和ヘテロ環式基である。] で表されるカチオン性染料−ホウ酸塩アニオン化合物である。 光開始剤は、有効量、すなわち、成分(a)〜(d)の合計量に対して、約0 .1〜約10重量部の量で添加される。本発明による混合物がレーザー放射線が 使用されるステレオリソグラフィック法に対して使用される場合、組成物の吸収 能は、通常のレーザー速度における硬化の深さが約0.1〜2.5mmとなるよ うに、光開始剤のタイプおよび濃度によって調整されることが好ましい。 本発明による組成物は、異なる波長で異なる放射線感受性を有する複数の光開 始剤を含有することができる。これにより、例えば、異なる波長の放射線を放射 するUV/VIS光源をより良く利用することが可能になる。この場合、使用す る放射線の場合に均一な光吸収が生ずるような濃度で、各種の光開始剤を選択し て使用するのが有利である。 上述の記載および実施例から理解されるように、成分(a)〜(d)の特定量 は、定義した成分タイプの各々の重量部の合計数のことを言う。例えば、18部 のエトキシ化されたビスフェノールAジアクリレートと18部のエトキシ化され たビスフェノールAジメタクリレートとの混合物は合計で36部を構成し、かく して成分(c)に対する定義を満足する。 本発明の組成物に対しては、少量(0〜4重量パーセント、好ましくは、0パ ーセント)の脂肪族または環式脂肪族ジオールのジアクリレートおよびジメタク リレートエステル類を添加することができる。このようなジオール類の例は、1 ,3−ブチレングリコール、1,4−ブタンジオール、ネオペンチルグリコール 、1,6−ヘキサンジオール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール 、テトラエチレングリコール、ポリエチレングリコール400、ポリエチレング リコール600、トリプロピレングリコール、エトキシ化またはプロポキシ化さ れたネオペンチルグリコール、1,4−ジヒドロキシメチルシクロヘキサン、2 ,2−ビス−(4−ヒドロキシシクロヘキシル)−プロパンまたはビス−(4− ヒドロキシシクロヘキシル)−メタンである。しかし、本組成物は、脂肪族およ び 環式脂肪族ジオール類のジ(メタ)アクリレートエステル類を含まないのが好ま しい。 所望ならば、組成物に慣用的な添加剤、例えば、安定剤、具体的には、UV安 定剤、重合阻害剤、離型剤、湿潤剤、流動調節剤、赤外吸収剤、感応剤、抗沈降 剤、界面活性剤、染料、顔料および充填剤を加えることもできる。 本発明による組成物は、公知の方法で、例えば、個々の成分を予め混合し、続 いてこれらのプレミックスを混合することによるか、または、慣用的な装置、例 えば、撹拌容器によって、光の不在下において、そして適当ならば僅かに上昇し た温度において全ての成分を混合することによって製造することができる。 本発明による液体組成物は、例えば、電子ビームもしくはX線ビームまたはU VもしくはVIS光による、例えば、280〜650nmの波長範囲の放射線に よる、化学光の照射によって重合させることができる。HeCd、アルゴンイオ ンまたは窒素イオンおよび金属蒸気ならびに多重周波数(multiplied frequency) のNdYAGレーザーからのレーザー放射線が特に好適である。好適な光開始剤 を選択しなければならず、適当ならば、選択された各々の光源に感応させなけれ ばならないことは当業者に公知である。 本発明はまた、本発明による液体組成物に化学光を照射することによってそれ らを重合させるための方法に関する。 本発明による液体組成物は、好ましくは、30℃において300〜3000mP a.s、さらに好ましくは、400〜1300mPa.s、特には500〜1200mPa. sの粘度を有する。本発明による組成物は、意外なほど低い粘度を有し、このた めにステレオリソグラフィーにおいて迅速な処理時間が可能となる。この低い粘 度は、製造される物品の物理的または機械的性質に悪影響を及ぼすことなく達成 される。 本発明はまた、好ましくはステレオリソグラフィーによって、本発明による液 体組成物から三次元凝固した物品を製造するための方法に関する。好ましくは、 これは、(a)本発明による液体組成物の層の表面が、UV/VIS(すなわち 、紫外光または可視光)光源によって、層が照射領域に所望の層厚さで凝固され るように、全表面としてまたは予め定められたパターンで照射され;(b)本発 明 による組成物の新たな層が凝固した層上に形成され、これがまた、全表面として または予め定められたパターンで照射され;そして(c)工程(a)および(b )を繰り返すことによって、相互に接着された複数の凝固層から構成される三次 元物品が得られるように設定される。 得られる凝固した層の厚さおよび物品の寸法に応じて、多数回の工程(a)お よび(b)が繰り返される。かくして、工程(a)および(b)は、各々の凝固 した層が深さ1mmであり、物品が高さ1cmである場合には、10回繰り返さ れ、各々の凝固した層が深さ0.5mm、物品が高さ25cmである場合には、 500回繰り返される。好ましくは、凝固した層は、各々独立に、深さ0.1〜 1mmを有し、さらに好ましくは0.2〜0.6mm、特には0.25〜0.4 mmを有する。凝固した層は全てが同一の深さである必要はない。工程(a)お よび(b)の10〜10,000回の繰り返し、好ましくは、20〜2000回 繰り返しは、本発明の1つの側面を形成する。 三次元物品を形成するための方法は、好ましくは、ステレオリソグラフィー装 置、例えば、3D−Systemsによって供給されているSLA250または 500、または、EOSによって供給されているStereos300、400 および600を使用する。 三次元物品として何が可能であるかは特に制限はなく、例えば、装飾品および 工業的な物品ならびに植物および動物部材のモデルを形成するための方法を使用 することができる。工業的物品としては、機械部品、特に、自動車に使用される 部品、並びにモデルならびにそれらの原型が挙げられる。動物部材としては、骨 、器官、組織およびそれらの組み合わせが挙げられる。骨の例としては、関節[ 例えば、腰および肩のようなボール・アンド・ソケット関節(ball and socket joint)、膝および肘のようなヒンジ関節)]、頭蓋骨、顎の骨、背骨、肋骨、 鎖骨、肩甲骨、上腕骨、撓骨、尺骨、歯、指および手の骨、胸骨、大腿骨、脛骨 、および、腓骨が挙げられる。器官の例としては、肝臓、心臓、肺、腎臓、膀胱 、脳、眼、腸、膵臓および生殖器官が挙げられる。組織の例としては、筋肉およ び軟骨が挙げられる。 所望通りに、三次元物品は、本来の物品と同一寸法または小さい寸法あるいは 大きい寸法のモデルであることができる。低いカール歪みおよび高い硬化速度は 、このような物品が迅速かつ正確に製造できることを意味する。 本方法では放射線源としてレーザービームを使用することが好ましい。 本発明による組成物はまたコーチング剤としても使用することができ;透明で 硬質のコーチングを木材、紙、金属、セラミックスまたはその他の表面上に得る ことができる。被覆厚さは、広範囲、例えば、1マイクロメートルから1mmに わたって変化させることができる。印刷した回路または印刷板用のレリーフ画像 は、例えば、適当な波長のコンピューター制御レーザービームによるか、または 、フォトマスクおよび対応する光源を使用することにより混合物を照射すること によって本発明による組成物から直接製造することができる。 カールファクターは、ステレオリソグラフィック法によって製造した試験標品 について測定され、試験標品の自己支持部分の変形は収縮によって測定される。 カールファクターは、試験標品の変形、固定されたセグメントの高さと非変形セ グメントの高さの比である。 本発明はさらに、以下の実施例によって例示されるが、実施例において、特に 断りのない限り、部およびパーセンテージは全て重量部および重量%である。 粘度は、30℃において100rpmにおけるスピンドル27を使用し、ブル ックフィールド粘度計RVTV−IIで測定した。 引張弾性率、破断時の強度および破断時の伸びは、ISO527に調製した引 張試験バーを使用して測定し、1KN荷重セルに固定したINSTRON 11 22について試験した。 表面張力は、捩り平衡を使用して測定した。 硬化の際の線形収縮(L.S.)は、硬化前と後との樹脂の密度を測定するこ とによって計算した。線形収縮(%)は、式: によって計算した。 プロセシングパラメータEcおよびDpは、それぞれ、臨界硬化エネルギー( mJcm-2)および貫入深さ(ミル(mils))を意味し、3DシステムSLA250 ステレオリソグラフィー装置を使用して測定した。 硬化速度は、A.K.Davies in Radiation Curing Polymers 2,special publi cation No.89,Royal Society of Chemistry,ISBN 0-85186-377-9に記載のリ アルタイム赤外技術を使用して測定した。 実施例においては、以下の略号を使用する:− SR−348:Sartomerによって供給されているMW452のエトキシ化された ビスフェノールAジメタクリレート SR−349:Sartomerによって供給されているMW424のエトキシ化された ビスフェノールAジアクリレート SR−9035:Sartomerによって供給されているMW956のn=5であるCH3 CH2C-[CH2O(CH2CH2O)nCOCH=CH2]3 NR−2720:Zeneca Resins USによって供給されているMW950のn=2 である式(H2C=CHCO2CH2CH2(OCOC5H10)nOCONH-C6H10-)2-CH2-で表されるウレタン アクリレート DAR1173:式Ph-CO-C(CH3)2OHで表されるUV光開始剤 IRG:Irgacure 651,Ciba GeigyからのUV光開始剤 EB−270:UCB Chemicalsによって供給されているMW約1500の脂肪族 ウレタンアクリレート。 DC190:Dow Corning Ltd.によって供給されているシリコーンタイプの界面 活性剤実施例 1〜6 本発明による液体組成物は、以下の表1に示した成分の重量部数を室温で一緒 に撹拌することによって製造した。数時間撹拌後、均一な混合物を貯蔵用の別個 のボトルに移した。 比較のために、商業上入手可能な液体組成物をCiba−Geigy(XB5 143)およびDuPont(SOMOS3110)から入手した。試験 例として挙げた組成物および2つの商業上入手可能な樹脂XB5143および SOMOS 3110の粘度、引張弾性率、破断時における強さ、伸びおよび表 面張力を上記したように測定した。結果は、以下の表2に示す:− 硬化時の線形収縮、ショア硬度、Ec、Dp、硬化速度およびカールファクタ ーは、上記したように測定した。結果は以下の表3に示す:− 実施例 7〜19 以下の表4に示した配合を有するさらに別の液体組成物を製造することができ る。
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Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1. (a)少なくとも3の官能性と少なくとも650の分子量とを有するモノ マー性ポリ(メタ)アクリレート2〜20部; (b)2〜4の官能性と400〜10,000の分子量とを有するウレタン(メ タ)アクリレート20〜60部; (c)ビスフェノールAまたはビスフェノールFに基づくモノマー性またはオリ ゴマー性ジ(メタ)アクリレート20〜80部;および、 (d)光開始剤0.1〜10部: を含み、 全ての部が重量部であり、(a)+(b)+(c)+(d)の部の合計数が合 計で100となる液体組成物。 2. 成分(a)が880〜1200の範囲の分子量を有する、請求の範囲第1 項に記載の液体組成物。 3. 成分(a)が5〜18部の量で存在する、請求の範囲第1項または第2項 のいずれか1項に記載の液体組成物。 4. 成分(b)が20〜50部の量で存在する、請求の範囲第1項〜第3項の いずれか1項に記載の液体組成物。 5. 成分(c)が35〜55部の量で存在する、請求の範囲第1項〜第4項の いずれか1項に記載の液体組成物。 6. 成分(d)が2〜8部の量で存在する、請求の範囲第1項〜第5項のいず れか1項に記載の液体組成物。 7. 8〜16部の成分(a);25〜45部の成分(b);40〜50部の成 分(c);並びに3〜7部の成分(d)を含むかまたは本質的にそれらから成り 、全ての部が重量部であり、(a)+(b)+(c)+(d)の部の合計数が合 計で100となる、請求の範囲第1項に記載の液体組成物。 8. ビスフェノールAまたはビスフェノールFに基づくモノマー性またはオリ ゴマー性ジ(メタ)アクリレートが、エトキシ化されたビスフェノールAジアク リレートおよびエトキシ化されたビスフェノールAジメタクリレートから成る混 合物である、請求の範囲第1項〜第7項のいずれか1項に記載の液体組成物。 9. 30℃において300〜3000mPa.sの粘度を有する、請求の範囲第1 項〜第8項のいずれか1項に記載の液体組成物。 10. 三次元凝固した物品の製造のための、請求の範囲第1項〜第8項のいず れか1項に記載の液体組成物の使用。 11. ステレオリソグラフィーによって液体組成物から三次元凝固した物品を 製造するための方法であって、液体組成物が請求の範囲第1項〜第9項のいずれ か1項に定義されている通りであることを特徴とする上記の方法。 12. 三次元凝固した物品を製造するための方法であって、 (a)請求の範囲第1項〜第9項のいずれか1項に記載の液体組成物の層の表面 を紫外光または可視光光源によって、層が照射領域に所望される層厚さで凝固さ れるように、全表面としてまたは予め定めたパターンで照射し; (b)次いで、組成物の新しい層を前記凝固層上に形成し、これをまた、全表面 としてまたは予め定めたパターンで照射し; (c)工程(a)および(b)を繰り返すことによって、互いに接着した複数の 凝固した層から構成される三次元物品が得られる、 上記の方法。 13. 請求の範囲第1項〜第9項のいずれか1項による液体組成物から製造さ れるか、または、請求の範囲第11項または第12項による方法によって製造さ れる三次元凝固した物品。
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008189782A (ja) * 2007-02-02 2008-08-21 Cmet Inc 面露光による光学的立体造形用樹脂組成物
JP2017222176A (ja) * 2011-11-17 2017-12-21 ストラタシス リミテッド マルチマテリアル・アディティブ・マニュファクチャリングを使用して身体部位モデルを作製するシステムおよび方法
WO2018105463A1 (ja) * 2016-12-05 2018-06-14 Dic株式会社 光学的立体造形用光硬化性樹脂組成物

Families Citing this family (40)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5922821A (en) * 1996-08-09 1999-07-13 Alcon Laboratories, Inc. Ophthalmic lens polymers
EP0831372A1 (de) * 1996-09-23 1998-03-25 Siemens Aktiengesellschaft Photopolymere
KR20010021846A (ko) 1997-07-21 2001-03-15 베르너 훽스트, 지크프리트 포트호프 방사선 경화성 충전 조성물의 점도 안정화
US5891931A (en) * 1997-08-07 1999-04-06 Alcon Laboratories, Inc. Method of preparing foldable high refractive index acrylic ophthalmic device materials
US5994409A (en) * 1997-12-09 1999-11-30 U.S. Bioscience, Inc. Methods for treatment of neuro--and nephro--disorders and therapeutic toxicities using aminothiol compounds
US6762002B2 (en) 1998-07-10 2004-07-13 Dsm Desotech, Inc. Solid imaging compositions for preparing polypropylene-like articles
US20060154175A9 (en) * 1998-07-10 2006-07-13 Lawton John A Solid imaging compositions for preparing polypropylene-like articles
US6379866B2 (en) 2000-03-31 2002-04-30 Dsm Desotech Inc Solid imaging compositions for preparing polypropylene-like articles
US6287748B1 (en) 1998-07-10 2001-09-11 Dsm N.V. Solid imaging compositions for preparing polyethylene-like articles
US8026295B2 (en) * 2000-02-17 2011-09-27 Dentsply International, Inc. Dental composition with improved light stability
US20030225182A1 (en) * 2001-01-04 2003-12-04 Dentsply Detrey Gmbh Dental composition with improved light stability
US20040225029A1 (en) * 2000-02-17 2004-11-11 Uwe Walz Dental composition with improved light stability
US6375887B1 (en) 2000-04-18 2002-04-23 Victor Joyner Method and apparatus for creating cast parts and investment models
US6875640B1 (en) * 2000-06-08 2005-04-05 Micron Technology, Inc. Stereolithographic methods for forming a protective layer on a semiconductor device substrate and substrates including protective layers so formed
US20040171716A1 (en) * 2002-12-03 2004-09-02 Uwe Walz Dental compositions comprising bisacrylamides and use thereof
WO2002013767A2 (en) 2000-08-11 2002-02-21 Dentsply International Inc. Polyaminoester and their application in dental compositions
US20030069327A1 (en) * 2001-08-09 2003-04-10 Uwe Walz Dental compostions comprising bisacrylamides and use thereof
JP2004507063A (ja) * 2000-08-23 2004-03-04 ダナ・コーポレーション 燃料電池アセンブリ用エポキシニトリル絶縁体および密封体
US7220786B1 (en) 2000-08-23 2007-05-22 Dana Corporation Ultraviolet radiation curable coating for MLS head gasket applications
US7300690B2 (en) * 2001-03-29 2007-11-27 General Electric Company Radial tilt reduced media
US20030045604A1 (en) * 2001-08-13 2003-03-06 Klee Joachim E. Dental root canal filling cones
US6716505B2 (en) * 2001-08-31 2004-04-06 General Electric Company Storage medium for data with improved dimensional stability
US7196120B2 (en) * 2002-08-29 2007-03-27 Dana Corporation Ultraviolet radiation curable coating for MLS head gasket applications
US20040209990A1 (en) * 2003-04-15 2004-10-21 Uwe Walz Low shrinking polymerizable dental material
DE10328302A1 (de) * 2003-06-23 2005-01-27 Dreve Otoplastik Gmbh Niedrigviskose, strahlungshärtbare Formulierung, insbesondere für die Stereolithographie, zum Einsatz in der Medizintechnik, insbesondere zur Herstellung von Ohrstücken
US20050165127A1 (en) * 2003-12-31 2005-07-28 Dsm Desotech, Inc. Solid imaging compositions for preparing polyethylene-like articles
CA2593860C (en) * 2005-02-01 2013-09-10 Timothy P. Friel Ocular prosthesis and fabrication method of same
US7479247B2 (en) * 2005-05-12 2009-01-20 Victor Joyner Method and apparatus for creating sacrificial patterns and cast parts
CN101896868A (zh) * 2007-07-20 2010-11-24 新加坡科技研究局 使用光固化组合物的双光子立体光刻成型
WO2009072987A1 (en) * 2007-12-06 2009-06-11 Agency For Science, Technology And Research Integrated apparatus for conducting and monitoring chemical reactions
US8343443B2 (en) * 2008-03-31 2013-01-01 Agency For Science, Technology And Research Fluid processing and transfer using inter-connected multi-chamber device
US10357435B2 (en) * 2012-12-18 2019-07-23 Dentca, Inc. Photo-curable resin compositions and method of using the same in three-dimensional printing for manufacturing artificial teeth and denture base
DK2986654T3 (da) * 2013-04-18 2020-05-25 Dentca Inc Lyshærdende harpikssammensætninger og fremgangsmåde til anvendelse af disse til tredimensionel printning til fremstilling af kunstige tænder og tandprotesebase
US11584827B2 (en) 2017-07-25 2023-02-21 3M Innovative Properties Company Photopolymerizable compositions including a urethane component and a reactive diluent, articles, and methods
RU2685211C2 (ru) * 2017-10-10 2019-04-16 Федеральное государственное учреждение "Федеральный научно-исследовательский центр "Кристаллография и фотоника" Российской академии наук" Жидкая фотополимеризующаяся композиция для лазерной стереолитографии
US11904031B2 (en) 2017-11-22 2024-02-20 3M Innovative Properties Company Orthodontic articles comprising polymerized composition comprising at least two free-radical initiators
CN111372959B (zh) 2017-11-22 2022-09-02 3M创新有限公司 包含氨基甲酸酯组分和单官能反应性稀释剂的光致聚合型组合物、制品和方法
KR20210005628A (ko) 2018-04-20 2021-01-14 디에스엠 아이피 어셋츠 비.브이. 적층 제조용 복사선 경화성 조성물
EP3813763A1 (en) 2018-06-29 2021-05-05 3M Innovative Properties Company Orthodontic articles comprising cured free-radically polymerizable composition with improved strength in aqueous environment
US20220251250A1 (en) * 2021-02-08 2022-08-11 James R. Glidewell Dental Ceramics, Inc. Photocurable resin composition with low shrinkage and high accuracy for use in additive manufacturing processes

Family Cites Families (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4575330A (en) * 1984-08-08 1986-03-11 Uvp, Inc. Apparatus for production of three-dimensional objects by stereolithography
US4789620A (en) * 1986-03-03 1988-12-06 Mitsubishi Rayon Co. Ltd. Liquid photosensitive resin composition containing carboxylated epoxy acrylates or methacrylates
WO1989008021A1 (en) * 1988-03-02 1989-09-08 Desoto, Inc. Stereolithography using composition providing reduced distortion
US4945032A (en) * 1988-03-31 1990-07-31 Desoto, Inc. Stereolithography using repeated exposures to increase strength and reduce distortion
KR0147812B1 (ko) * 1989-01-10 1998-08-17 베르너 발대크 감광성 액체 수지 조성물 및 그로부터 3차원 물체를 제조하는 방법
DE59010008D1 (de) * 1989-10-27 1996-02-08 Ciba Geigy Ag Photoempfindliches Gemisch
EP0425440B1 (de) * 1989-10-27 1994-11-17 Ciba-Geigy Ag Verfahren zur Abstimmung der Strahlungsempfindlichkeit von photopolymerisierbaren Zusammensetzungen
EP0506616B1 (de) * 1991-03-27 1998-01-21 Ciba SC Holding AG Photoempfindliches Gemisch auf Basis von Acrylaten
EP0525578A1 (en) * 1991-08-02 1993-02-03 E.I. Du Pont De Nemours And Company Photopolymer composition for the production of three-dimensional objects
EP0536086A1 (de) * 1991-10-03 1993-04-07 Ciba-Geigy Ag Photoempfindliche Gemische
TW311923B (ja) * 1992-01-27 1997-08-01 Ciba Sc Holding Ag
CA2092131A1 (en) * 1992-03-27 1993-09-28 Victor Kadziela (Nmi) Low viscosity self-toughening acrylate composition
FR2689876B1 (fr) * 1992-04-08 1994-09-02 Hoechst France Dispersions silico-acryliques, leur procédé d'obtention, leur application en stéréophotolithographie et procédé de préparation d'objets en résine.

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008189782A (ja) * 2007-02-02 2008-08-21 Cmet Inc 面露光による光学的立体造形用樹脂組成物
JP2017222176A (ja) * 2011-11-17 2017-12-21 ストラタシス リミテッド マルチマテリアル・アディティブ・マニュファクチャリングを使用して身体部位モデルを作製するシステムおよび方法
JP2019194028A (ja) * 2011-11-17 2019-11-07 ストラタシス リミテッド マルチマテリアル・アディティブ・マニュファクチャリングを使用して身体部位モデルを作製するシステムおよび方法
WO2018105463A1 (ja) * 2016-12-05 2018-06-14 Dic株式会社 光学的立体造形用光硬化性樹脂組成物
JPWO2018105463A1 (ja) * 2016-12-05 2020-05-28 Dic株式会社 光学的立体造形用光硬化性樹脂組成物

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