RU2685211C2 - Жидкая фотополимеризующаяся композиция для лазерной стереолитографии - Google Patents

Жидкая фотополимеризующаяся композиция для лазерной стереолитографии Download PDF

Info

Publication number
RU2685211C2
RU2685211C2 RU2017135961A RU2017135961A RU2685211C2 RU 2685211 C2 RU2685211 C2 RU 2685211C2 RU 2017135961 A RU2017135961 A RU 2017135961A RU 2017135961 A RU2017135961 A RU 2017135961A RU 2685211 C2 RU2685211 C2 RU 2685211C2
Authority
RU
Russia
Prior art keywords
meth
acrylic
fpc
photoinitiator
mixture
Prior art date
Application number
RU2017135961A
Other languages
English (en)
Other versions
RU2017135961A3 (ru
RU2017135961A (ru
Inventor
Яков Михайлович Гуревич
Михаил Александрович Марков
Анатолий Николаевич Никитин
Михаил Михайлович Новиков
Александр Александрович Рыбин
Михаил Александрович Чугунов
Александр Игоревич Цыбин
Original Assignee
Федеральное государственное учреждение "Федеральный научно-исследовательский центр "Кристаллография и фотоника" Российской академии наук"
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Федеральное государственное учреждение "Федеральный научно-исследовательский центр "Кристаллография и фотоника" Российской академии наук" filed Critical Федеральное государственное учреждение "Федеральный научно-исследовательский центр "Кристаллография и фотоника" Российской академии наук"
Priority to RU2017135961A priority Critical patent/RU2685211C2/ru
Publication of RU2017135961A3 publication Critical patent/RU2017135961A3/ru
Publication of RU2017135961A publication Critical patent/RU2017135961A/ru
Application granted granted Critical
Publication of RU2685211C2 publication Critical patent/RU2685211C2/ru

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/0002Lithographic processes using patterning methods other than those involving the exposure to radiation, e.g. by stamping
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/027Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/027Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G03F7/028Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with photosensitivity-increasing substances, e.g. photoinitiators

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Macromonomer-Based Addition Polymer (AREA)

Abstract

Изобретение относится к жидкой фотополимеризующейся композиции (ФПК) для лазерной стереолитографии. Композиция содержит 96-98 вес.% смеси ди(мет)-акриловых олигомеров и (мет)акрилового мономера и 2-4 вес.% фотоинициатора 2,2′-диметокси-2-фенилацетофенона. Указанная смесь содержит 16-33 вес.% ди(мет)акрилового олигоэфира, 16-33 вес.% (мет)акрилового (фенил)эфирного мономера, 16-33 вес.% ди(мет)акрилового олигогликоля, 16-33 вес.% олигоуретан ди(мет)акрилата, формулы которых приведены в описании. Предложенная ФПК обладает стабильностью при хранении, хорошей текучестью и обеспечивает получение трехмерных моделей с повышенными физико-механическими свойствами. 3 ил., 2 табл., 1 пр.

Description

Изобретение представляет собой жидкую фотополимеризующуюся композицию (ФПК), предназначенную для использования в установках лазерной стереолитографии.
Фотополимеризующиеся композиции, как правило, состоят из полимеризующейся основы (мономеры и олигомеры, содержащие реакционоспособные группы - акриловые, виниловые, гетероциклические), фотоинициирующей системы (фотоинициатор либо фотосенсибилизатор) и иногда - разного рода ускорители процесса полимеризации и инертные добавки, непосредственно не участвующие в реакции полимеризации, но равномерно рспределяющиеся по трехмерной полимерной матрице и обеспечивающие конечному материалу или изделию нужный набор механических, физико-химических, биологических или прочих свойств.
Свойства неотвержденной ФПК и получаемой при ее фотополимеризации матрицы определяются свойствами входящих в ее состав олигомеров и модификаторов. Зачастую, на свойства отвержденного полимера влияет также и соотношение различных олигомерных структур. Как правило, фотоотверждаемая композиция представляет собой смесь компонентов с функциональными группами, близкими по своей реакционной способности. Такой выбор объясняется сопоставимой скоростью полимеризации систем, содержащих олигомеры с такими группами, пусть даже в составе различных олигомеров, и приводит в итоге к более равномерному распределению олигомерных фрагментов в отвержденном полимере в ходе процесса фотополимеризации. Свойства отвержденных полимеров, полученных из смеси жидких олигомеров с разными по структурными группами, могут значительно изменяться при изменении относительного содержания исходных компонентов в фотополимеризуемой смеси. Такие смеси, исходя из теоретических предпосылок, позволили бы получить продукт, у которого достоинства и недостатки, характерные для исходных компонентов, компенсировали бы друг друга (De Brito М., Allonas X., Croutxe - Barghorna С. et al Kinetic study of photoinduced quasi -simultaneous interpenetrating polymer networks // Progress in Organic Coatings. 73 (2012) p. 186-193). Сложность решения подобной задачи заключается в том, чтобы получить твердый однородный продукт в котором бы не происходило в процессе полимеризации вытеснения в жидкую фазу одного или нескольких олигомеров или мономеров, а оставшаяся в рабочей части полимеризационной емкости фотокомпозиция была по бы составу и свойствам такой же, как и ФПК, не подвергнувшейся фотополимеризации.
Большая потребность в ФПК объясняет активность появления новых материалов. Например, составы, описанные в российских патентах: RU 2244335, RU 2269416, RU 2127444; RU 2394856, RU 2401845, RU 2395827 или в патентах США: US 7211368, US 7232850, US 8293448, US 20100152314, US 7211368, US 6117612, US 20080070159, US 6203966.
Все заявленные композиции различаются и по составу, и по характеристикам. Благодаря большой востребованности данной технологии в самых разных областях, имеется постоянно растущая потребность в новых материалах с самыми разнообразными свойствами. Тенденция последних лет по внедрению «настольного производства» с помощью 3D принтеров, когда разного рода оборудование, использующее аддитивные технологии, применяется для создания не только прототипов изделий, но и самих изделий с нужным набором эксплуатационных свойств, делает эту проблему одной из самых актуальных в сфере развития современных производственных систем и технологий.
Из запатентованных составов ФПК единственной композицией, промышленно производимой и используемой в России, является состав в соответствии с российском патентом RU 2395827. Данный состав представляет из себя смесь метакриловых олигомеров, и по производительности и стоимости он наиболее близок к предлагаемому составу.
Данный патент принят за прототип настоящего изобретения.
Недостатком описываемой ФПК является довольно большая усадка и хрупкость отвержденной полимерной матрицы.
Задачей настоящего изобретения является преодоление недостатков прототипа.
Технический результат изобретения - создание стабильной при хранении ФПК с хорошей текучестью, обеспечивающей высокую производительность действующих стереолитографических установок отечественного и импортного производства, обладающую конкурентоспособной ценой, а также позволяющую получать трехмерные модели с механическими и физико-химическими свойствами выше, чем у трехмерных моделей, полученных на основе существующих в настоящий момент фотополимеризуемых композиций.
Поставленные техническая задача и достигаемый технический результат обеспечиваются тем, что в жидкой ФПК для лазерной стереолитографии, содержащей фотополимеризующуюся основу из смеси ди(мет)акриловых олигомеров и (мет)акриловых мономеров и фотоинициируюшую систему,
в состав фотополимеризующейся основы входят:
16-33 вес. % ди(мет)акрилового олигоэфира формулы
Figure 00000001
где где (R1=Н, СН3; R2=Н, СН3, С6Н5; R3 = орто-Cl, Н; а число звеньев n варьируется от 1 до 5,
16-33 вес. % (мет)акрилового (фенил)эфирного мономера формулы
Figure 00000002
где R4=Н, СН3, С6Н5; R5 = орто-СН3, орто-С4Н9, орто-Cl или пара-СН3, пара-С4Н9, пара-Cl),
16-33 вес. % ди(мет)акрлового олигогликоля формулы
Figure 00000003
где R=Н, СН3, а число звеньев в цепи варьируется от 2 до 4,
16-33 вес. % олигоуретан ди(мет)акрилата формулы
Figure 00000004
где n=1-2, а боковые звенья, заместители
Figure 00000005
Figure 00000006
Стоит отметить, что за исключением (мет)акрилового (фенил)эфирного мономера, три остальных компонента являются не мономолекулярными продуктами, а представляют собой смесь гомологов, содержащих различное число звеньев «n» в указанном диапазоне для каждого соединения.
В качестве фотоинициатора может служить любой известный фотоинициатор радикальной полимеризации (либо их смесь), имеющие максимумы поглощения светового излучения в области 300-370 нм, поскольку эффективность современных фотоинициаторов высока и разница только в спектральном максимуме поглощения. Мы остановили свой выбор на самом доступном с коммерческой точки зрения фотоинициаторе 2,2-диметокси 2-фенилацетофеноне.
Основа и названная система взяты в соотношении: фотополимеризующаяся основа (смесь всех олигомеров и мономеров) 96-98% вес. фотоинициатор 2-4% вес.
Настоящим изобретением предлагается состав фотополимеризуемой композиции на основе смеси реакционноспособных олигомеров/мономеров (мет)акрилового и уретан(мет)акрилового типа и фотоинициатора, запускающего процесс радикальной полимеризации при воздействии УФ-излучения.
Заявляемую ФПК получают механическим смешиванием в затемненном пмещении всех компонентов - олигомеров, мономеров и инициатора - до получения прозрачной однородной жидкости.
Применение предлагаемой композиции позволяет получать трехмерные изделия по технологии лазерной стереолитографии с использованием УФ-лазера или другого источника излучения света с длиной волны не выше 410 нм. Для случая использования HeCd-лазера (длина волны λ=325 нм) определены характеристики, позволяющие получать пленки фиксированной толщины при фиксированной экспозиционной дозе УФ-облучения (см. спектр поглощения предлагаемой ФПК на фиг. 3). Для других источников излучения такие характеристики могут быть определены экспериментально.
На фигурах и в таблицах приведены экспериментальные данные, полученные при исследовании предлагаемой композиции
Фиг. 1. Ультрафиолетовый и видимый спектр поглощения ФПК (жидкая пленка толщиной 0.01 мм)
Фиг. 2. Экспериментально полученная сенситометрическая зависимость для предлагаемой фотоплимеризующейся композиции толщины отверждаемой пленки h (мм) от экспозиционной дозы лазерного излучения Е (мДж/см2), с использованием HeCd лазера, λ=325 нм. Подобная зависимость позволяет определить необходимую экспозиционную дозу для любой толщины слоя, выбранной для изготовления модели. Так, например, если требования к качеству поверхности невысокие, то модель можно выращивать слоями до 1 мм, что сократит время изготовления, и наоборот, когда требования к качеству поверхности и точности деталировки высоки, можно использовать совсем тонкие слои, до 10 мкм. Информация, полученная из подобной зависимости, позволяет рассчитывать требуемую дозу облучения, чтобы избежать как переэкспозиции, так и недоэкспозиции ФПК.
Фиг. 3. Модели изготовленные из предлагаемой фотополимеризующейся композиции на лазерном стереолитографе ЛС 120.
Табл. 1 Параметры отверждения фотокомпозиции излучением HeCd лазера (325 нм)
Табл. 2 Физико-механические свойства фотокомпозиции после отверждения (среднее значение и разброс измерений)
Изобретение иллюстрируется следующими примерами.
Пример 1
Возможность использования описываемой ФПК в установках лазерной стереолитографии была опробована на действующем экспериментальном стенде - макете установки ЛС 120. Первоначально была проведена серия экспериментов по определению рабочих параметров композиции, без которых нельзя рассчитать скорость перемещения лазерного луча по поверхности неотвержденной ФПК, при которой будет формироваться монослой отвержденного фотополимера требуемой толщины. Суть таких экспериментов -в рисовании на поверхности ФПК однослойных объектов с известной площадью (1 кв.см) при различных задаваемых значениях скорости рисования лучом. Полученные таким образом зависимости (фиг. 2) описываются уравнением:
h=Dpln (Е/Ес)
где h - толщина пленки,
Е - экспозиционная доза,
Dp и Ес - экспериментально определяемые константы, характеризующие глубину проникновения инициирующего излучения в композицию и пороговое значение экспозиционной дозы соответственно. Значения данных параметров приведены в табл. 1.
Таким образом, зная мощность лазера и параметры его фокусировки, можно рассчитать скорость перемещения луча V по поверхности (А.В. Евсеев, С.В. Камаев, Е.В. Коцюба, и др., «Лазерные технологии быстрого прототипирования и прямой фабрикации трехмерных объектов», стр. 333-400 в сборнике «Лазерные технологии обработки материалов», М, Физматлит, 2009)
Приведенная в Примере ФПК содержит
25% вес. диметакрилового олигоэфира формулы
Figure 00000007
где (R1=СН3; R2=СН3; R3 = орто-Н; а число звеньев n варьируется от 1 до 5,
25% вес. диметакрлового олигогликоля формулы
Figure 00000008
где R=СН3, а число звеньев в цепи варьируется от 2 до 4,
24% вес. метакрилового (фенил) эфирного мономера формулы
Figure 00000009
где R4=СН3; R5 = орто-СН3,
24% вес. олигоуретан диметакрилата формулы
Figure 00000010
где n=1-2, а боковые звенья, а заместители
Figure 00000011
Figure 00000012
и 2% вес фотоиницииатора 2,2-диметокси 2-фенил ацетофенона (коммерческое название Irgacur 651). Фотографии тестовых моделей, изготовленных из данной ФПК, представлены на фиг. 3.
Применение предлагаемой композиции позволяет получать трехмерные изделия по технологии лазерной стереолитографии с использованием УФ-лазера или другого источника излучения света с длиной волны не выше 410 нм. Для случая использования HeCd-лазера (длина волны λ=325 нм) определены характеристики, позволяющие получать пленки фиксированной толщины при фиксированной экспозиционной дозе УФ-облучения (см. спектр поглощения предлагаемой ФПК на фиг. 1).
Изготовление тестовых моделей, которые были получены при использовании предлагаемой композиции, подтверждают промышленную применимость предлагаемого технического решения.
Figure 00000013
Табл. 1 Параметры отверждения патентуемой ФПК излучением HeCd лазера (325 нм). Dp и Ес - экспериментально определяемые константы, характеризующие глубину проникновения инициирующего излучения в композицию и пороговое значение экспозиционной дозы соответственно.
Figure 00000014
Таб. 2 Физико-механические свойства заявленной фотокомпозиции после отверждения (среднее значение и разброс измерений)
σи, МПа - предел прочности при статическом изгибе;
Еи, ГПа - модуль упругости при статическом изгибе;
σ+, МПа - предел прочности при растяжении;
Е+, ГПа - модуль упругости при растяжении.

Claims (19)

  1. Жидкая фотополимеризующаяся композиция для лазерной стереолитографии с использованием светового излучения, содержащая фотополимеризующуюся основу из смеси метакриловых и уретанметакриловых олигомеров и фотоинициатор, отличающаяся тем, что в качестве основы композиция содержит смесь ди(мет)акриловых олигомеров и (мет)акрилового мономера, содержащую:
  2. 16-33 вес.% ди(мет)акрилового олигоэфира формулы
  3. Figure 00000015
  4. где R1=Н, СН3; R2=Н, СН3, C6H5; R3 = орто-Cl, Н; число звеньев n варьируется от 1 до 5,
  5. 16-33 вес.% (мет)акрилового (фенил)эфирного мономера формулы
  6. Figure 00000016
  7. где R4=Н, СН3, C6H5; R5 = орто-СН3, орто-C4H9, орто-Cl или пара-СН3, пара-С4Н9, пара-Cl,
  8. 16-33 вес.% ди(мет)акрилового олигогликоля формулы
  9. Figure 00000017
  10. где R=Н, СН3, а число звеньев в цепи варьируется от 2 до 4,
  11. 16-33 вес.% олигоуретанди(мет)акрилата формулы
  12. Figure 00000018
  13. где n=1-2, а боковые звенья, заместители
  14. Figure 00000019
  15. Figure 00000020
    ,
  16. а также
  17. фотоинициатор 2,2′-диметокси-2-фенилацетофенон, причем основа и фотоинициатор взяты в соотношении, вес.%:
  18. фотополимеризующаяся основа - смесь всех олигомеров и мономеров 96-98;
  19. фотоинициатор 2-4.
RU2017135961A 2017-10-10 2017-10-10 Жидкая фотополимеризующаяся композиция для лазерной стереолитографии RU2685211C2 (ru)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
RU2017135961A RU2685211C2 (ru) 2017-10-10 2017-10-10 Жидкая фотополимеризующаяся композиция для лазерной стереолитографии

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
RU2017135961A RU2685211C2 (ru) 2017-10-10 2017-10-10 Жидкая фотополимеризующаяся композиция для лазерной стереолитографии

Publications (3)

Publication Number Publication Date
RU2017135961A3 RU2017135961A3 (ru) 2019-04-10
RU2017135961A RU2017135961A (ru) 2019-04-10
RU2685211C2 true RU2685211C2 (ru) 2019-04-16

Family

ID=66089462

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
RU2017135961A RU2685211C2 (ru) 2017-10-10 2017-10-10 Жидкая фотополимеризующаяся композиция для лазерной стереолитографии

Country Status (1)

Country Link
RU (1) RU2685211C2 (ru)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
RU2818758C1 (ru) * 2023-04-16 2024-05-03 Общество с ограниченой ответственостью "ПВК Форус-Пром" Полимерная композиция, способ ее приготовления и полимеризации

Citations (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO1996028763A1 (en) * 1995-03-11 1996-09-19 Zeneca Limited Liquid photocurable compositions
EP0985683A1 (en) * 1998-09-09 2000-03-15 Fuji Photo Film Co., Ltd. Photosensitive composition and method for manufacturing lithographic printing plate
US6130025A (en) * 1995-05-12 2000-10-10 Asahi Denka Kogyo Kabushiki Kaisha Stereolithographic resin composition and stereolithographic method
US20040131975A1 (en) * 2000-04-19 2004-07-08 Lastra S.P.A. Photosensitive lithographic printing plate and method for making a printing plate
US20040135292A1 (en) * 2003-01-07 2004-07-15 Coats Alma L. Stereolithography resins and methods
RU2244335C2 (ru) * 2002-12-10 2005-01-10 Московский государственный технический университет им. Н.Э. Баумана Фотополимеризующая композиция для лазерной стереолитографии видимого диапазона
WO2006107759A2 (en) * 2005-04-01 2006-10-12 3 Birds, Inc. Stereolithography resins and methods
WO2009070500A1 (en) * 2007-11-27 2009-06-04 Huntsman Advanced Materials Americas Inc. Photocurable resin composition for producing three dimensional articles having high clarity
RU2395827C2 (ru) * 2008-09-08 2010-07-27 Учреждение Российской академии наук Институт проблем лазерных и информационных технологий РАН Жидкая фотополимеризующаяся композиция для лазерной стереолитографии
JP2016084478A (ja) * 2011-03-11 2016-05-19 日立化成株式会社 液状硬化性樹脂組成物、これを用いた画像表示用装置の製造方法、及び画像表示用装置

Patent Citations (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO1996028763A1 (en) * 1995-03-11 1996-09-19 Zeneca Limited Liquid photocurable compositions
US6130025A (en) * 1995-05-12 2000-10-10 Asahi Denka Kogyo Kabushiki Kaisha Stereolithographic resin composition and stereolithographic method
EP0985683A1 (en) * 1998-09-09 2000-03-15 Fuji Photo Film Co., Ltd. Photosensitive composition and method for manufacturing lithographic printing plate
US20040131975A1 (en) * 2000-04-19 2004-07-08 Lastra S.P.A. Photosensitive lithographic printing plate and method for making a printing plate
RU2244335C2 (ru) * 2002-12-10 2005-01-10 Московский государственный технический университет им. Н.Э. Баумана Фотополимеризующая композиция для лазерной стереолитографии видимого диапазона
US20040135292A1 (en) * 2003-01-07 2004-07-15 Coats Alma L. Stereolithography resins and methods
WO2006107759A2 (en) * 2005-04-01 2006-10-12 3 Birds, Inc. Stereolithography resins and methods
WO2009070500A1 (en) * 2007-11-27 2009-06-04 Huntsman Advanced Materials Americas Inc. Photocurable resin composition for producing three dimensional articles having high clarity
RU2395827C2 (ru) * 2008-09-08 2010-07-27 Учреждение Российской академии наук Институт проблем лазерных и информационных технологий РАН Жидкая фотополимеризующаяся композиция для лазерной стереолитографии
JP2016084478A (ja) * 2011-03-11 2016-05-19 日立化成株式会社 液状硬化性樹脂組成物、これを用いた画像表示用装置の製造方法、及び画像表示用装置

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
RU2818758C1 (ru) * 2023-04-16 2024-05-03 Общество с ограниченой ответственостью "ПВК Форус-Пром" Полимерная композиция, способ ее приготовления и полимеризации

Also Published As

Publication number Publication date
RU2017135961A3 (ru) 2019-04-10
RU2017135961A (ru) 2019-04-10

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US5573889A (en) Process for adjusting the sensitivity to radiation of photopolymerizable compositions
O'Brien et al. Impact of oxygen on photopolymerization kinetics and polymer structure
Crivello et al. Photopolymer materials and processes for advanced technologies
JP3252331B2 (ja) アクリレートをベースとする感光性組成物
Cramer et al. Mechanism and modeling of a thiol− ene photopolymerization
JP3564650B2 (ja) とりわけステレオリトグラフィーのための、液体の、輻射線硬化性組成物
KR100294774B1 (ko) (시클로)지방족에폭시화합물
Vitale et al. Interfacial profile and propagation of frontal photopolymerization waves
EP2497084B1 (de) Auswahlverfahren für additive in photopolymeren
Zhang et al. Disubstituted aminoanthraquinone-based photoinitiators for free radical polymerization and fast 3D printing under visible light
AT500120A1 (de) Neue alpha-aminoacetophenon-photostarter
JPH08224790A (ja) 光学的立体造形用樹脂組成物
JP3985821B2 (ja) 硬化性含フッ素樹脂組成物およびそれを硬化してなる光学部材
JPH0814643B2 (ja) 形態屈折率双変調型位相格子の作製方法
JP2006348214A (ja) 光造形用光硬化性液状組成物、立体造形物及びその製造方法
JPS61500974A (ja) 2つの硬化タイプのプレポリマ−を含む光硬化性組成物
Chen et al. Synthesis of micropillar arrays via photopolymerization: An in Situ study of light-induced formation, growth kinetics, and the influence of oxygen inhibition
JP3724893B2 (ja) 光学的立体造形用樹脂組成物
Baralle et al. Iodinated polystyrene for polymeric charge transfer complexes: toward high-performance near-UV and visible light macrophotoinitiators
JP2010254810A5 (ru)
JPH09194540A (ja) 光学的立体造形用樹脂組成物
Dreyer et al. Application of LEDs for UV-curing
RU2685211C2 (ru) Жидкая фотополимеризующаяся композиция для лазерной стереолитографии
JPS6088005A (ja) 光硬化樹脂組成物
Kanokwijitsilp et al. Kinetics of Photocrosslinking and Surface Attachment of Thick Polymer Films