RU2685211C2 - Жидкая фотополимеризующаяся композиция для лазерной стереолитографии - Google Patents
Жидкая фотополимеризующаяся композиция для лазерной стереолитографии Download PDFInfo
- Publication number
- RU2685211C2 RU2685211C2 RU2017135961A RU2017135961A RU2685211C2 RU 2685211 C2 RU2685211 C2 RU 2685211C2 RU 2017135961 A RU2017135961 A RU 2017135961A RU 2017135961 A RU2017135961 A RU 2017135961A RU 2685211 C2 RU2685211 C2 RU 2685211C2
- Authority
- RU
- Russia
- Prior art keywords
- meth
- acrylic
- fpc
- photoinitiator
- mixture
- Prior art date
Links
- 239000000203 mixture Substances 0.000 title claims abstract description 44
- 239000007788 liquid Substances 0.000 title claims abstract description 8
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 17
- 239000000178 monomer Substances 0.000 claims abstract description 14
- USIUVYZYUHIAEV-UHFFFAOYSA-N diphenyl ether Chemical compound C=1C=CC=CC=1OC1=CC=CC=C1 USIUVYZYUHIAEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 5
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims abstract description 3
- QKTWWGYCVXCKOJ-UHFFFAOYSA-N 2-methoxy-1-(2-methoxyphenyl)-2-phenylethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(OC)C(=O)C1=CC=CC=C1OC QKTWWGYCVXCKOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract 2
- 230000005855 radiation Effects 0.000 claims description 10
- 125000005395 methacrylic acid group Chemical group 0.000 claims description 3
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 claims description 3
- 239000000126 substance Substances 0.000 abstract description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 abstract description 2
- 238000003860 storage Methods 0.000 abstract description 2
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 7
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 7
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 6
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 5
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 4
- 239000000463 material Substances 0.000 description 4
- 238000000862 absorption spectrum Methods 0.000 description 3
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 3
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 3
- KWVGIHKZDCUPEU-UHFFFAOYSA-N 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(OC)(OC)C(=O)C1=CC=CC=C1 KWVGIHKZDCUPEU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 2
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 2
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 2
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 2
- 230000000977 initiatory effect Effects 0.000 description 2
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 2
- 238000000034 method Methods 0.000 description 2
- 230000035515 penetration Effects 0.000 description 2
- 238000010526 radical polymerization reaction Methods 0.000 description 2
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 2
- 230000003068 static effect Effects 0.000 description 2
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 2
- 238000009281 ultraviolet germicidal irradiation Methods 0.000 description 2
- GXGJIOMUZAGVEH-UHFFFAOYSA-N Chamazulene Chemical group CCC1=CC=C(C)C2=CC=C(C)C2=C1 GXGJIOMUZAGVEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N Ethyl urethane Chemical compound CCOC(N)=O JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 230000002860 competitive effect Effects 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- 239000012634 fragment Substances 0.000 description 1
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000623 heterocyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 1
- 239000007791 liquid phase Substances 0.000 description 1
- 239000003607 modifier Substances 0.000 description 1
- 239000003504 photosensitizing agent Substances 0.000 description 1
- 239000003211 polymerization photoinitiator Substances 0.000 description 1
- 230000000379 polymerizing effect Effects 0.000 description 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 1
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 1
- 238000009827 uniform distribution Methods 0.000 description 1
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/0002—Lithographic processes using patterning methods other than those involving the exposure to radiation, e.g. by stamping
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
- G03F7/028—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with photosensitivity-increasing substances, e.g. photoinitiators
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Macromonomer-Based Addition Polymer (AREA)
Abstract
Изобретение относится к жидкой фотополимеризующейся композиции (ФПК) для лазерной стереолитографии. Композиция содержит 96-98 вес.% смеси ди(мет)-акриловых олигомеров и (мет)акрилового мономера и 2-4 вес.% фотоинициатора 2,2′-диметокси-2-фенилацетофенона. Указанная смесь содержит 16-33 вес.% ди(мет)акрилового олигоэфира, 16-33 вес.% (мет)акрилового (фенил)эфирного мономера, 16-33 вес.% ди(мет)акрилового олигогликоля, 16-33 вес.% олигоуретан ди(мет)акрилата, формулы которых приведены в описании. Предложенная ФПК обладает стабильностью при хранении, хорошей текучестью и обеспечивает получение трехмерных моделей с повышенными физико-механическими свойствами. 3 ил., 2 табл., 1 пр.
Description
Изобретение представляет собой жидкую фотополимеризующуюся композицию (ФПК), предназначенную для использования в установках лазерной стереолитографии.
Фотополимеризующиеся композиции, как правило, состоят из полимеризующейся основы (мономеры и олигомеры, содержащие реакционоспособные группы - акриловые, виниловые, гетероциклические), фотоинициирующей системы (фотоинициатор либо фотосенсибилизатор) и иногда - разного рода ускорители процесса полимеризации и инертные добавки, непосредственно не участвующие в реакции полимеризации, но равномерно рспределяющиеся по трехмерной полимерной матрице и обеспечивающие конечному материалу или изделию нужный набор механических, физико-химических, биологических или прочих свойств.
Свойства неотвержденной ФПК и получаемой при ее фотополимеризации матрицы определяются свойствами входящих в ее состав олигомеров и модификаторов. Зачастую, на свойства отвержденного полимера влияет также и соотношение различных олигомерных структур. Как правило, фотоотверждаемая композиция представляет собой смесь компонентов с функциональными группами, близкими по своей реакционной способности. Такой выбор объясняется сопоставимой скоростью полимеризации систем, содержащих олигомеры с такими группами, пусть даже в составе различных олигомеров, и приводит в итоге к более равномерному распределению олигомерных фрагментов в отвержденном полимере в ходе процесса фотополимеризации. Свойства отвержденных полимеров, полученных из смеси жидких олигомеров с разными по структурными группами, могут значительно изменяться при изменении относительного содержания исходных компонентов в фотополимеризуемой смеси. Такие смеси, исходя из теоретических предпосылок, позволили бы получить продукт, у которого достоинства и недостатки, характерные для исходных компонентов, компенсировали бы друг друга (De Brito М., Allonas X., Croutxe - Barghorna С. et al Kinetic study of photoinduced quasi -simultaneous interpenetrating polymer networks // Progress in Organic Coatings. 73 (2012) p. 186-193). Сложность решения подобной задачи заключается в том, чтобы получить твердый однородный продукт в котором бы не происходило в процессе полимеризации вытеснения в жидкую фазу одного или нескольких олигомеров или мономеров, а оставшаяся в рабочей части полимеризационной емкости фотокомпозиция была по бы составу и свойствам такой же, как и ФПК, не подвергнувшейся фотополимеризации.
Большая потребность в ФПК объясняет активность появления новых материалов. Например, составы, описанные в российских патентах: RU 2244335, RU 2269416, RU 2127444; RU 2394856, RU 2401845, RU 2395827 или в патентах США: US 7211368, US 7232850, US 8293448, US 20100152314, US 7211368, US 6117612, US 20080070159, US 6203966.
Все заявленные композиции различаются и по составу, и по характеристикам. Благодаря большой востребованности данной технологии в самых разных областях, имеется постоянно растущая потребность в новых материалах с самыми разнообразными свойствами. Тенденция последних лет по внедрению «настольного производства» с помощью 3D принтеров, когда разного рода оборудование, использующее аддитивные технологии, применяется для создания не только прототипов изделий, но и самих изделий с нужным набором эксплуатационных свойств, делает эту проблему одной из самых актуальных в сфере развития современных производственных систем и технологий.
Из запатентованных составов ФПК единственной композицией, промышленно производимой и используемой в России, является состав в соответствии с российском патентом RU 2395827. Данный состав представляет из себя смесь метакриловых олигомеров, и по производительности и стоимости он наиболее близок к предлагаемому составу.
Данный патент принят за прототип настоящего изобретения.
Недостатком описываемой ФПК является довольно большая усадка и хрупкость отвержденной полимерной матрицы.
Задачей настоящего изобретения является преодоление недостатков прототипа.
Технический результат изобретения - создание стабильной при хранении ФПК с хорошей текучестью, обеспечивающей высокую производительность действующих стереолитографических установок отечественного и импортного производства, обладающую конкурентоспособной ценой, а также позволяющую получать трехмерные модели с механическими и физико-химическими свойствами выше, чем у трехмерных моделей, полученных на основе существующих в настоящий момент фотополимеризуемых композиций.
Поставленные техническая задача и достигаемый технический результат обеспечиваются тем, что в жидкой ФПК для лазерной стереолитографии, содержащей фотополимеризующуюся основу из смеси ди(мет)акриловых олигомеров и (мет)акриловых мономеров и фотоинициируюшую систему,
в состав фотополимеризующейся основы входят:
16-33 вес. % ди(мет)акрилового олигоэфира формулы
где где (R1=Н, СН3; R2=Н, СН3, С6Н5; R3 = орто-Cl, Н; а число звеньев n варьируется от 1 до 5,
16-33 вес. % (мет)акрилового (фенил)эфирного мономера формулы
где R4=Н, СН3, С6Н5; R5 = орто-СН3, орто-С4Н9, орто-Cl или пара-СН3, пара-С4Н9, пара-Cl),
16-33 вес. % ди(мет)акрлового олигогликоля формулы
где R=Н, СН3, а число звеньев в цепи варьируется от 2 до 4,
16-33 вес. % олигоуретан ди(мет)акрилата формулы
где n=1-2, а боковые звенья, заместители
Стоит отметить, что за исключением (мет)акрилового (фенил)эфирного мономера, три остальных компонента являются не мономолекулярными продуктами, а представляют собой смесь гомологов, содержащих различное число звеньев «n» в указанном диапазоне для каждого соединения.
В качестве фотоинициатора может служить любой известный фотоинициатор радикальной полимеризации (либо их смесь), имеющие максимумы поглощения светового излучения в области 300-370 нм, поскольку эффективность современных фотоинициаторов высока и разница только в спектральном максимуме поглощения. Мы остановили свой выбор на самом доступном с коммерческой точки зрения фотоинициаторе 2,2-диметокси 2-фенилацетофеноне.
Основа и названная система взяты в соотношении: фотополимеризующаяся основа (смесь всех олигомеров и мономеров) 96-98% вес. фотоинициатор 2-4% вес.
Настоящим изобретением предлагается состав фотополимеризуемой композиции на основе смеси реакционноспособных олигомеров/мономеров (мет)акрилового и уретан(мет)акрилового типа и фотоинициатора, запускающего процесс радикальной полимеризации при воздействии УФ-излучения.
Заявляемую ФПК получают механическим смешиванием в затемненном пмещении всех компонентов - олигомеров, мономеров и инициатора - до получения прозрачной однородной жидкости.
Применение предлагаемой композиции позволяет получать трехмерные изделия по технологии лазерной стереолитографии с использованием УФ-лазера или другого источника излучения света с длиной волны не выше 410 нм. Для случая использования HeCd-лазера (длина волны λ=325 нм) определены характеристики, позволяющие получать пленки фиксированной толщины при фиксированной экспозиционной дозе УФ-облучения (см. спектр поглощения предлагаемой ФПК на фиг. 3). Для других источников излучения такие характеристики могут быть определены экспериментально.
На фигурах и в таблицах приведены экспериментальные данные, полученные при исследовании предлагаемой композиции
Фиг. 1. Ультрафиолетовый и видимый спектр поглощения ФПК (жидкая пленка толщиной 0.01 мм)
Фиг. 2. Экспериментально полученная сенситометрическая зависимость для предлагаемой фотоплимеризующейся композиции толщины отверждаемой пленки h (мм) от экспозиционной дозы лазерного излучения Е (мДж/см2), с использованием HeCd лазера, λ=325 нм. Подобная зависимость позволяет определить необходимую экспозиционную дозу для любой толщины слоя, выбранной для изготовления модели. Так, например, если требования к качеству поверхности невысокие, то модель можно выращивать слоями до 1 мм, что сократит время изготовления, и наоборот, когда требования к качеству поверхности и точности деталировки высоки, можно использовать совсем тонкие слои, до 10 мкм. Информация, полученная из подобной зависимости, позволяет рассчитывать требуемую дозу облучения, чтобы избежать как переэкспозиции, так и недоэкспозиции ФПК.
Фиг. 3. Модели изготовленные из предлагаемой фотополимеризующейся композиции на лазерном стереолитографе ЛС 120.
Табл. 1 Параметры отверждения фотокомпозиции излучением HeCd лазера (325 нм)
Табл. 2 Физико-механические свойства фотокомпозиции после отверждения (среднее значение и разброс измерений)
Изобретение иллюстрируется следующими примерами.
Пример 1
Возможность использования описываемой ФПК в установках лазерной стереолитографии была опробована на действующем экспериментальном стенде - макете установки ЛС 120. Первоначально была проведена серия экспериментов по определению рабочих параметров композиции, без которых нельзя рассчитать скорость перемещения лазерного луча по поверхности неотвержденной ФПК, при которой будет формироваться монослой отвержденного фотополимера требуемой толщины. Суть таких экспериментов -в рисовании на поверхности ФПК однослойных объектов с известной площадью (1 кв.см) при различных задаваемых значениях скорости рисования лучом. Полученные таким образом зависимости (фиг. 2) описываются уравнением:
h=Dpln (Е/Ес)
где h - толщина пленки,
Е - экспозиционная доза,
Dp и Ес - экспериментально определяемые константы, характеризующие глубину проникновения инициирующего излучения в композицию и пороговое значение экспозиционной дозы соответственно. Значения данных параметров приведены в табл. 1.
Таким образом, зная мощность лазера и параметры его фокусировки, можно рассчитать скорость перемещения луча V по поверхности (А.В. Евсеев, С.В. Камаев, Е.В. Коцюба, и др., «Лазерные технологии быстрого прототипирования и прямой фабрикации трехмерных объектов», стр. 333-400 в сборнике «Лазерные технологии обработки материалов», М, Физматлит, 2009)
Приведенная в Примере ФПК содержит
25% вес. диметакрилового олигоэфира формулы
где (R1=СН3; R2=СН3; R3 = орто-Н; а число звеньев n варьируется от 1 до 5,
25% вес. диметакрлового олигогликоля формулы
где R=СН3, а число звеньев в цепи варьируется от 2 до 4,
24% вес. метакрилового (фенил) эфирного мономера формулы
где R4=СН3; R5 = орто-СН3,
24% вес. олигоуретан диметакрилата формулы
где n=1-2, а боковые звенья, а заместители
и 2% вес фотоиницииатора 2,2-диметокси 2-фенил ацетофенона (коммерческое название Irgacur 651). Фотографии тестовых моделей, изготовленных из данной ФПК, представлены на фиг. 3.
Применение предлагаемой композиции позволяет получать трехмерные изделия по технологии лазерной стереолитографии с использованием УФ-лазера или другого источника излучения света с длиной волны не выше 410 нм. Для случая использования HeCd-лазера (длина волны λ=325 нм) определены характеристики, позволяющие получать пленки фиксированной толщины при фиксированной экспозиционной дозе УФ-облучения (см. спектр поглощения предлагаемой ФПК на фиг. 1).
Изготовление тестовых моделей, которые были получены при использовании предлагаемой композиции, подтверждают промышленную применимость предлагаемого технического решения.
Табл. 1 Параметры отверждения патентуемой ФПК излучением HeCd лазера (325 нм). Dp и Ес - экспериментально определяемые константы, характеризующие глубину проникновения инициирующего излучения в композицию и пороговое значение экспозиционной дозы соответственно.
Таб. 2 Физико-механические свойства заявленной фотокомпозиции после отверждения (среднее значение и разброс измерений)
σи, МПа - предел прочности при статическом изгибе;
Еи, ГПа - модуль упругости при статическом изгибе;
σ+, МПа - предел прочности при растяжении;
Е+, ГПа - модуль упругости при растяжении.
Claims (19)
- Жидкая фотополимеризующаяся композиция для лазерной стереолитографии с использованием светового излучения, содержащая фотополимеризующуюся основу из смеси метакриловых и уретанметакриловых олигомеров и фотоинициатор, отличающаяся тем, что в качестве основы композиция содержит смесь ди(мет)акриловых олигомеров и (мет)акрилового мономера, содержащую:
- 16-33 вес.% ди(мет)акрилового олигоэфира формулы
- где R1=Н, СН3; R2=Н, СН3, C6H5; R3 = орто-Cl, Н; число звеньев n варьируется от 1 до 5,
- 16-33 вес.% (мет)акрилового (фенил)эфирного мономера формулы
- где R4=Н, СН3, C6H5; R5 = орто-СН3, орто-C4H9, орто-Cl или пара-СН3, пара-С4Н9, пара-Cl,
- 16-33 вес.% ди(мет)акрилового олигогликоля формулы
- где R=Н, СН3, а число звеньев в цепи варьируется от 2 до 4,
- 16-33 вес.% олигоуретанди(мет)акрилата формулы
- где n=1-2, а боковые звенья, заместители
- а также
- фотоинициатор 2,2′-диметокси-2-фенилацетофенон, причем основа и фотоинициатор взяты в соотношении, вес.%:
- фотополимеризующаяся основа - смесь всех олигомеров и мономеров 96-98;
- фотоинициатор 2-4.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
RU2017135961A RU2685211C2 (ru) | 2017-10-10 | 2017-10-10 | Жидкая фотополимеризующаяся композиция для лазерной стереолитографии |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
RU2017135961A RU2685211C2 (ru) | 2017-10-10 | 2017-10-10 | Жидкая фотополимеризующаяся композиция для лазерной стереолитографии |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
RU2017135961A RU2017135961A (ru) | 2019-04-10 |
RU2017135961A3 RU2017135961A3 (ru) | 2019-04-10 |
RU2685211C2 true RU2685211C2 (ru) | 2019-04-16 |
Family
ID=66089462
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
RU2017135961A RU2685211C2 (ru) | 2017-10-10 | 2017-10-10 | Жидкая фотополимеризующаяся композиция для лазерной стереолитографии |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
RU (1) | RU2685211C2 (ru) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
RU2818758C1 (ru) * | 2023-04-16 | 2024-05-03 | Общество с ограниченой ответственостью "ПВК Форус-Пром" | Полимерная композиция, способ ее приготовления и полимеризации |
Citations (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO1996028763A1 (en) * | 1995-03-11 | 1996-09-19 | Zeneca Limited | Liquid photocurable compositions |
EP0985683A1 (en) * | 1998-09-09 | 2000-03-15 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Photosensitive composition and method for manufacturing lithographic printing plate |
US6130025A (en) * | 1995-05-12 | 2000-10-10 | Asahi Denka Kogyo Kabushiki Kaisha | Stereolithographic resin composition and stereolithographic method |
US20040131975A1 (en) * | 2000-04-19 | 2004-07-08 | Lastra S.P.A. | Photosensitive lithographic printing plate and method for making a printing plate |
US20040135292A1 (en) * | 2003-01-07 | 2004-07-15 | Coats Alma L. | Stereolithography resins and methods |
RU2244335C2 (ru) * | 2002-12-10 | 2005-01-10 | Московский государственный технический университет им. Н.Э. Баумана | Фотополимеризующая композиция для лазерной стереолитографии видимого диапазона |
WO2006107759A2 (en) * | 2005-04-01 | 2006-10-12 | 3 Birds, Inc. | Stereolithography resins and methods |
WO2009070500A1 (en) * | 2007-11-27 | 2009-06-04 | Huntsman Advanced Materials Americas Inc. | Photocurable resin composition for producing three dimensional articles having high clarity |
RU2395827C2 (ru) * | 2008-09-08 | 2010-07-27 | Учреждение Российской академии наук Институт проблем лазерных и информационных технологий РАН | Жидкая фотополимеризующаяся композиция для лазерной стереолитографии |
JP2016084478A (ja) * | 2011-03-11 | 2016-05-19 | 日立化成株式会社 | 液状硬化性樹脂組成物、これを用いた画像表示用装置の製造方法、及び画像表示用装置 |
-
2017
- 2017-10-10 RU RU2017135961A patent/RU2685211C2/ru active
Patent Citations (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO1996028763A1 (en) * | 1995-03-11 | 1996-09-19 | Zeneca Limited | Liquid photocurable compositions |
US6130025A (en) * | 1995-05-12 | 2000-10-10 | Asahi Denka Kogyo Kabushiki Kaisha | Stereolithographic resin composition and stereolithographic method |
EP0985683A1 (en) * | 1998-09-09 | 2000-03-15 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Photosensitive composition and method for manufacturing lithographic printing plate |
US20040131975A1 (en) * | 2000-04-19 | 2004-07-08 | Lastra S.P.A. | Photosensitive lithographic printing plate and method for making a printing plate |
RU2244335C2 (ru) * | 2002-12-10 | 2005-01-10 | Московский государственный технический университет им. Н.Э. Баумана | Фотополимеризующая композиция для лазерной стереолитографии видимого диапазона |
US20040135292A1 (en) * | 2003-01-07 | 2004-07-15 | Coats Alma L. | Stereolithography resins and methods |
WO2006107759A2 (en) * | 2005-04-01 | 2006-10-12 | 3 Birds, Inc. | Stereolithography resins and methods |
WO2009070500A1 (en) * | 2007-11-27 | 2009-06-04 | Huntsman Advanced Materials Americas Inc. | Photocurable resin composition for producing three dimensional articles having high clarity |
RU2395827C2 (ru) * | 2008-09-08 | 2010-07-27 | Учреждение Российской академии наук Институт проблем лазерных и информационных технологий РАН | Жидкая фотополимеризующаяся композиция для лазерной стереолитографии |
JP2016084478A (ja) * | 2011-03-11 | 2016-05-19 | 日立化成株式会社 | 液状硬化性樹脂組成物、これを用いた画像表示用装置の製造方法、及び画像表示用装置 |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
RU2818758C1 (ru) * | 2023-04-16 | 2024-05-03 | Общество с ограниченой ответственостью "ПВК Форус-Пром" | Полимерная композиция, способ ее приготовления и полимеризации |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
RU2017135961A (ru) | 2019-04-10 |
RU2017135961A3 (ru) | 2019-04-10 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US5573889A (en) | Process for adjusting the sensitivity to radiation of photopolymerizable compositions | |
O'Brien et al. | Impact of oxygen on photopolymerization kinetics and polymer structure | |
Crivello et al. | Photopolymer materials and processes for advanced technologies | |
JP3252331B2 (ja) | アクリレートをベースとする感光性組成物 | |
Cramer et al. | Mechanism and modeling of a thiol− ene photopolymerization | |
JP3564650B2 (ja) | とりわけステレオリトグラフィーのための、液体の、輻射線硬化性組成物 | |
Vitale et al. | Interfacial profile and propagation of frontal photopolymerization waves | |
KR100294774B1 (ko) | (시클로)지방족에폭시화합물 | |
Zhang et al. | Disubstituted aminoanthraquinone-based photoinitiators for free radical polymerization and fast 3D printing under visible light | |
EP2497084B1 (de) | Auswahlverfahren für additive in photopolymeren | |
AT500120A1 (de) | Neue alpha-aminoacetophenon-photostarter | |
JPH08224790A (ja) | 光学的立体造形用樹脂組成物 | |
JP3985821B2 (ja) | 硬化性含フッ素樹脂組成物およびそれを硬化してなる光学部材 | |
JP2006348214A (ja) | 光造形用光硬化性液状組成物、立体造形物及びその製造方法 | |
JPS61500974A (ja) | 2つの硬化タイプのプレポリマ−を含む光硬化性組成物 | |
Chen et al. | Synthesis of micropillar arrays via photopolymerization: An in Situ study of light-induced formation, growth kinetics, and the influence of oxygen inhibition | |
JP3668310B2 (ja) | 光学的立体造形用樹脂組成物 | |
JP3724893B2 (ja) | 光学的立体造形用樹脂組成物 | |
JP2010254810A5 (ru) | ||
RU2685211C2 (ru) | Жидкая фотополимеризующаяся композиция для лазерной стереолитографии | |
JPS6088005A (ja) | 光硬化樹脂組成物 | |
JP2008248026A (ja) | 光造形用光硬化性組成物及びセラミック造形物 | |
RU2699556C1 (ru) | Отверждаемая полимерная композиция и способ изготовления из неё отверждённого продукта | |
Gibson et al. | Vat photopolymerization | |
Aydin et al. | “Mono” and “bifunctional” aromatic esterificated benzophenone photoinitiators for free radical polymerization |