JPH11501920A - ヘテロシクロカルボニルアミノ酸ヒドロキシエチルアミノスルホンアミドレトロウイルスプロテアーゼインヒビター - Google Patents

ヘテロシクロカルボニルアミノ酸ヒドロキシエチルアミノスルホンアミドレトロウイルスプロテアーゼインヒビター

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JPH11501920A
JPH11501920A JP8527647A JP52764796A JPH11501920A JP H11501920 A JPH11501920 A JP H11501920A JP 8527647 A JP8527647 A JP 8527647A JP 52764796 A JP52764796 A JP 52764796A JP H11501920 A JPH11501920 A JP H11501920A
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Abstract

(57)【要約】 式(I)で表わされる選択されたヘテロシクロカルボニルアミノ酸ヒドロキシエチルアミノスルホンアミド化合物はレトロウイルスプロテアーゼインヒビターとして、特にHIVプロテアーゼのインヒビターとして有効である。

Description

【発明の詳細な説明】 ヘテロシクロカルボニルアミノ酸ヒドロキシエチルアミノスルホン アミドレトロウイルスプロテアーゼインヒビター関連出願 本出願は1995年3月10日付けで出願された共同出願である審査中の出願 Serial No.08/402,419の継続出願であり、この出願を引用してその全 体をここに組み入れる。発明の背景 本発明はレトロウイルスプロテアーゼインヒビターに関し、さらに特にヒト免 疫不全ウイルス(HIV)プロテアーゼなどのレトロウイルスプロテアーゼを阻 害する新規化合物、製剤および方法に関する。本発明は特に、レトロウイルスプ ロテアーゼを阻害し、レトロウイルス感染またはレトロウイルスの蔓延を予防的 に防止し、かつまたレトロウイルス感染、例えばHIV感染を処置するためのヘ テロシクロカルボニルアミノ酸ヒドロキシエチルアミンスルホンアミドプロテア ーゼインヒビター化合物、製剤および方法に関する。本発明の主題はまた、これ らの化合物の製造方法およびこれらの方法に有用な中間体化合物に関する。 レトロウイルスの複製サイクル中に、gagおよびgag−pol遺伝子転写 産物が蛋白質として翻訳される。これらの蛋白質を引き続いて、ウイルスにより コードされるプロテアーゼ(またはプロテイナーゼ)によりプロセスされて、ウ イルス酵素およびウイルスコアの構造蛋白質を生成させる。最も通常的に、ga g前駆蛋白質はコア蛋白質にプロセスされ、そしてpol前駆蛋白質はウイルス 酵素、例えば逆転写酵素およびレトロウイルスプロテアーゼにプロセスされる。 感染性ビリオン(virons)のアッセンブリーにはレトロウイルスプロテアーゼによ る前駆蛋白質の正しいプロセッシングが必要であることが証明されている。例え ば、HIVのpol遺伝子のプロテアーゼ領域におけるフレームシフト変異はg ag前駆蛋白質のプロセッシングを妨害することが証明されている。HIVプロ テアーゼ活性部位のアスパラギン酸残基の部位−指向変異によりgag前駆 蛋白質のプロセッシングが妨害されることも証明されている。従って、レトロウ イルスプロテアーゼの作用を抑制することによって、ウイルス複製を抑制すると いう試みがなされている。 レトロウイルスプロテアーゼ阻害には代表的に、遷移状態模倣体(transition- state mimetic)が包含され、ここではレトロウイルスプロテアーゼが模倣体化 合物にさらされる。この模倣体化合物はgagおよびgag−pol蛋白質と競 合して酵素に結合し(代表的には可逆的状態で)、これにより構造蛋白質の特定 のプロセッシングおよびレトロウイルスプロテアーゼそれ自体の放出が抑制され る。この様相で、レトロウイルス複製プロテアーゼが効果的に阻害される。 特にプロテアーゼを阻害する、例えばHIVプロテアーゼを阻害する数種の群 の化合物が提案されている。このような化合物には、ヒドロキシエチルアミン等 配電子体化合物(isosteres)および還元アミド等配電子体化合物が包含される。 例えば、EPO346847;EPO342541;Roberts 等による“Ration al Design of Peptide−Based Proteinase Inhibitors”,Science,248,3 58(1990);およびErickson等による“Design Activity,and2.8A° Crystal Structure of a C2 Symmetric Inhibitor Complexed to HIV− 1 Protease”,Science,249,527(1990)参照。US5,157, 041,WO94/04491,WO94/04492,WO94/04493 ,WO94/05639,WO92/08701および1994年8月23日付 けで出願された米国特許出願Serial No.08/294,468(これらの各々を 引用して、その全文をここに組み入れる)には、レトロウイルスプロテアーゼイ ンヒビターを包含する、例えばヒドロキシエチルアミン、ヒドロキシエチル尿素 またはヒドロキシエチルスルホンアミド等配電子体化合物が記載されている。 数種の群の化合物が蛋白質分解性酵素レニンのインヒビターとして有用である ことが知られている。例えば、U.S.No.4,599,198;U.K.2 ,184,730;G.B.2,209,752;EPO264795;G.B .2,200,115およびU.S.SIR H725参照。これらの中で、G .B.2,200,115;G.B.2,209,752;EPO264795 ; U.S.SIR H725およびU.S.No.4,599,198には、尿素 含有ヒドロキシエチルアミンレニンインヒビターが記載されている。EP468 641はレニンインヒビターおよびこのインヒビターを製造するための中間体化 合物を開示しており、これらにはスルホンアミド含有ヒドロキシエチルアミン化 合物、例えば3−(t−ブトキシカルボニル)アミノ−シクロヘキシル−1−( フェニルスルホニル)アミノ−2(5)−ブタノールが包含される。G.B.2 ,200,115はまた、スルファモイル含有ヒドロキシエチルアミンレニンイ ンヒビターを開示しており、そしてEPO264795はスルホンアミド含有ヒ ドロキシエチルアミンレニンインヒビターを開示している。しかしながら、レニ ンとHIVプロテアーゼとは両方ともにアスパルチルプロテアーゼではあるけれ ども、有効なレニンインヒビターである化合物が一般に、効果的なHIVプロテ アーゼインヒビターを予測させるものではないことが知られている。発明の簡単な説明 本発明は選択されたレトロウイルスプロテアーゼインヒビター化合物、類縁体 およびその医薬として許容される塩類、エステル類およびプロドラッグに関する 。これらの目的化合物は、ヘテロシクロカルボニルアミノ酸ヒドロキシエチルア ミンスルホンアミドインヒビター化合物であると特徴付けることができる。本発 明の化合物は、レトロウイルスプロテアーゼ、例えばヒト免疫不全ウイルス(H IV)プロテアーゼを効果的に阻害する。従って、本発明はまた、医薬製剤、レ トロウイルスプロテアーゼ阻害方法およびレトロウイルス感染、例えばHIV感 染の処置または予防方法を包含する。本発明の主題はまた、これらの化合物の製 造方法およびこれらの方法に有用な中間体化合物に関する。発明の詳細な説明 本発明に従い、下記式で表わされるレトロウイルスプロテアーゼ阻害性化合物 、その医薬として許容される塩類、プロドラッグまたはエステル類が提供される : 式中、 nは0または1であり; R1は、アルキル、アルケニル、アルキニル、ヒドロキシアルキル、アルコキ シアルキル、シアノアルキル、イミダゾリルメチル、−CH2CONH2、−CH2 CH2CONH2、−CH2S(O)2NH2、−CH2SCH3、−CH2S(O) CH3、−CH2S(O)2CH3、−C(CH32SCH3、−C(CH32S( O)CH3または−C(CH32S(O)2CH3基を表わし;好ましくは、R1は 、炭素原子1〜5個を有するアルキル、炭素原子2〜5個を有するアルケニル、 炭素原子2〜5個を有するアルキニル、炭素原子1〜3個を有するヒドロキシア ルキル、1〜3個のアルキル炭素原子および1〜3個のアルコキシ炭素原子を有 するアルコキシアルキル、1〜3個のアルキル炭素原子を有するシアノアルキル 、イミダゾリルメチル、−CH2CONH2、−CH2CH2CONH2、−CH2S (O)2NH2、−CH2SCH3、−CH2S(O)CH3、−CH2S(O)2CH3 、−C(CH32SCH3、−C(CH32S(O)CH3または−C(CH32 S(O)2CH3基を表わし;さらに好ましくは、R1は、炭素原子1〜4個を有 するアルキル、炭素原子2〜3個を有するアルケニル、炭素原子3〜4個を有す るアルキニル、シアノメチル、イミダゾリルメチル、−CH2CONH2、−CH2 CH2CONH2、−CH2S(O)2NH2、−CH2SCH3、−CH2S(O) CH3、−CH2S(O)2CH3、−C(CH32SCH3、−C(CH32S( O)CH3または−C(CH32S(O)2CH3基を表わし;そして最も好まし くは、R1は、sec−ブチル、tert−ブチル、イソプロピル、3−プロピ ニルまたは−C(CH32S(O)2CH3基を表わし; R2は、アルキル、アラルキル、アルキルチオアルキル、アリールチオアルキ ルまたはシクロアルキルアルキル基を表わし;好ましくはR2は、炭素原子1〜 5個を有するアルキル、1〜3個のアルキル炭素原子を有するアラルキル、1〜 3個のアルキル炭素原子を有するアルキルチオアルキル、1〜3個のアルキル炭 素原子を有するアリールチオアルキルまたは1〜3個のアルキル炭素原子および 3〜6個の環員炭素原子を有するシクロアルキルアルキルを表わし;さらに好ま しくはR2は、炭素原子3〜5個を有するアルキル、アリールメチル、1〜3個 のアルキル炭素原子を有するアルキルチオアルキル、アリールチオメチルまたは 5〜6個の環員炭素原子を有するシクロアルキルメチル基を表わし;さらに好ま しくはR2は、イソブチル、n−ブチル、CH3SCH2CH2−、ベンジル、フェ ニルチオメチル、(2−ナフチルチオ)メチル、4−メトキシフェニルメチル、 4−ヒドロキシフェニルメチル、4−フルオロフェニルメチルまたは4−シクロ ヘキシルメチル基を表わし;さらに好ましくはR2は、ベンジル、4−フルオロ フェニルメチルまたはシクロヘキシルメチル基を表わし;最も好ましくはR2は 、ベンジルを表わし; R3は、アルキル、シクロアルキルまたはシクロアルキルアルキル基を表わし ;好ましくはR3は、炭素原子1〜5個を有するアルキル基、5〜8個の環員を 有するシクロアルキルまたは3〜6個の環員を有するシクロアルキルメチル基を 表わし;さらに好ましくはR3は、プロピル、イソアミル、イソブチル、ブチル 、シクロペンチルメチル、シクロヘキシルメチル、シクロヘキシルまたはシクロ ヘプチル基を表わし;さらに好ましくはR3は、イソブチルまたはシクロペンチ ルメチル基を表わし; R4は、アリール、ヘテロアリールまたはヘテロシクロ基を表わし;好ましく はR4は、アリール、ベンゾ縮合した5〜6個の環員を有するヘテロアリールま たはベンゾ縮合した5〜6個の環員を有するヘテロシクロ基を表わし;あるいは R4は、下記式で表わされる基を表わし: (式中、AおよびBはそれぞれ独立して、O、S、SOまたはSO2を表わし; 好ましくはAおよびBはそれぞれ、Oを表わし; R6は、ジュウテリウム、アルキルまたはハロゲン基を表わし;好ましくはR5 は、ジュウテリウム、炭素原子1〜5個を有するアルキル、フルオロまたはクロ ロ基を表わし;さらに好ましくはR6は、ジュウテリウム、メチル、エチル、プ ロピル、イソプロピルまたはフルオロ基を表わし; R7は、水素、ジュウテリウム、アルキルまたはハロゲン基を表わし;好まし くはR7は、水素、ジュウテリウム、炭素原子1〜3個を有するアルキル、フル オロまたはクロロ基を表わし;さらに好ましくはR7は、水素、ジュウテリウム 、メチルまたはフルオロ基を表わし;あるいはR6およびR7はそれぞれ独立して 、フルオロまたはクロロ基を表わし;そして好ましくはR6およびR7はそれぞれ 、フルオロ基を表わす);あるいは R4は下記式で表わされる基を表わし: (式中、Zは、O、SまたはNHを表わし;そしてR9は下記式で表わされる基 を表わし: これらの基において、Yは、O、SまたはNHを表わし;Xは結合、Oまたは NR21を表わし; R20は、水素、アルキル、アルケニル、アルキニル、アラルキル、ヘテロアラ ルキル、ヘテロシクロアルキル、アミノアルキル、N−モノ置換−またはN,N −ジ置換アミノアルキル基[この置換基はアルキルまたはアラルキル基である] 、カルボキシアルキル、アルコキシカルボニルアルキル、シアノアルキルまたは ヒドロキシアルキル基を表わし;好ましくはR20は、水素、炭素原子1〜5個を 有するアルキル、炭素原子2〜5個を有するアルケニル、炭素原子2〜5個を有 するアルキニル、1〜5個のアルキル炭素原子を有するアラルキル、5〜6個の 環 員および1〜5個のアルキル炭素原子を有するヘテロアラルキル、5〜6個の環 員および1〜5個のアルキル炭素原子を有するヘテロシクロアルキル、炭素原子 2〜5個を有するアミノアルキル、2〜5個のアルキル炭素原子を有するN−モ ノ置換−またはN,N−ジ置換アミノアルキル基[この置換基は炭素原子1〜3 個を有するアルキル、1〜3個のアルキル炭素原子を有するアラルキル、炭素原 子1〜5個を有するカルボキシアルキル、1〜5個のアルキル炭素原子を有する アルコキシカルボニルアルキル、炭素原子1〜5個を有するシアノアルキルまた は炭素原子2〜5個を有するヒドロキシアルキルである]を表わし;さらに好ま しくはR20は、水素、炭素原子1〜5個を有するアルキル、1〜3個のアルキル 炭素原子を有するフェニルアルキル、5〜6個の環員および1〜3個のアルキル 炭素原子を有するヘテロシクロアルキル、あるいは2〜3個の炭素原子を有する N−モノ置換−またはN,N−ジ置換アミノアルキル基[この置換基は炭素原子 1〜3個を有するアルキル基である]を表わし;そして最も好ましくはR20は、 水素、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、イソブチル、ベンジル、2− (1−ピロリジニル)エチル、2−(1−ピペリジニル)エチル、2−(1−ピ ペラジニル)エチル、2−(4−メチルピペラジン−1−イル)エチル、2−( 1−モルホリニル)エチル、2−(1−チアモルホリニル)エチルまたは2−( N,N−ジメチルアミノ)エチル基を表わし; R21は、水素またはアルキル基を表わし;好ましくはR21は、水素基または炭 素原子1〜3個を有するアルキル基を表わし;さらに好ましくはR21は、水素ま たはメチル基を表わし;そして最も好ましくはR21は、水素基を表わし;あるい は 式−NR2021で表わされる基はヘテロシクロ基を表わし;好ましくは式−N R2021で表わされる基は、5〜6個の環員を有するヘテロシクロを表わし;さ らに好ましくは式−NR2021で表わされる基は、ピロリジニル、ピペリジニル 、ピペラジニル、4−メチルピペラジニル、4−ベンジルピペラジニル、モルホ リニルまたはチアモルホリニル基を表わし;そして R22は、アルキルまたはR2021N−アルキル基を表わし;好ましくはR22は 、アルキルまたはR2021N−アルキル基[ここで、アルキルは炭素原子1〜3 個 を有する]を表わし;さらに好ましくはR22は、炭素原子1〜3個を有するアル キルを表わす);そして 好ましくはR4は、フェニル、2−ナフチル、4−メトキシフェニル、4−ヒ ドロキシフェニル、3,4−ジメトキシフェニル、3−アミノフェニル、4−ア ミノフェニル、ベンゾチアゾール−5−イル、ベンゾチアゾール−6−イル、2 −アミノ−ベンゾチアゾール−5−イル、2−(メトキシカルボニルアミノ)ベ ンゾチアゾール−5−イル、2−アミノベンゾチアゾール−6−イル、2−(メ トキシカルボニルアミノ)ベンゾチアゾール−6−イル、5−ベンズオキサゾリ ル、6−ベンズオキサゾリル、6−ベンゾピラニル、3,4−ジヒドロベンゾピ ラン−6−イル、7−ベンゾピラニル、3,4−ジヒドロベンゾピラン−7−イ ル、2,3−ジヒドロベンゾフラン−5−イル、ベンゾフラン−5−イル、1, 3−ベンゾジオキソール−5−イル、2−メチル−1,3−ベンゾジオキソール −5−イル、2,2−ジメチル−1,3−ベンゾジオキソール−5−イル、2, 2−ジジュウテロ−1,3−ベンゾジオキソール−5−イル、2,2−ジフルオ ロ−1,3−ベンゾジオキソール−5−イル、1,4−ベンゾジオキサン−6− イル、5−ベンズイミダゾリル、2−(メトキシカルボニルアミノ)ベンズイミ ダゾール−5−イル、6−キノリニル、7−キノリニル、6−イソキノリニルま たは7−イソキノリニル基を表わし;さらに好ましくはR4は、フェニル、2− ナフチル、4−メトキシフェニル、4−ヒドロキシフェニル、ベンゾチアゾール −5−イル、ベンゾチアゾール−6−イル、ベンズオキサゾール−5−イル、2 ,3−ジヒドロベンゾフラン−5−イル、ベンゾフラン−5−イル、1,3−ベ ンゾジオキソール−5−イル、2−メチル−1,3−ベンゾジオキソール−5− イル、2,2−ジメチル−1,3−ベンゾジオキソール−5−イル、2,2−ジ ジュウテロ−1,3−ベンゾジオキソール−5−イル、2,2−ジフルオロ−1 ,3−ベンゾジオキソール−5−イル、1,4−ベンゾジオキサン−6−イル、 2−(メトキシカルボニルアミノ)ベンゾチアゾール−5−イル、2−(メトキ シカルボニルアミノ)ベンゾチアゾール−6−イルまたは2−(メトキシカルボ ニルアミノ)ベンズイミダゾール−5−イル基を表わし;最も好ましくはR4は 、フェニル、4−メトキシフェニル、4−ヒドロキシフェニル、ベンゾチアゾー ル −5−イル、ベンゾチアゾール−6−イル、2,3−ジヒドロベンゾフラン−5 −イル、ベンゾフラン−5−イル、1,3−ベンゾジオキソール−5−イル、2 −メチル−1,3−ベンゾジオキソール−5−イル、2,2−ジメチル−1,3 −ベンゾジオキソール−5−イル、2,2−ジジュウテロ−1,3−ベンゾジオ キソール−5−イル、2,2−ジフルオロ−1,3−ベンゾジオキソール−5− イル、1,4−ベンゾジオキサン−6−イル、2−(メトキシカルボニルアミノ )ベンゾチアゾール−6−イルまたは2−(メトキシカルボニルアミノ)ベンズ イミダゾール−5−イル基を表わし; R10は、水素、炭素原子1〜3個を有するアルキル、ベンジル、フェニルメト キシカルボニル、tert−ブトキシカルボニルまたは4−メトキシフェニルメ トキシカルボニル基を表わし;好ましくはR10は、水素、メチルまたはベンジル 基を表わし;さらに好ましくはR10は、水素基を表わし; R11は、水素、ヒドロキシアルキルまたはアルコキシアルキル基を表わし(こ の基中のアルキルは炭素原子1〜3個を有する);さらに好ましくはR11は水素 基を表わし; R12およびR13はそれぞれ独立して、水素、ヒドロキシ、アルコキシ、2−ヒ ドロキシアルコキシ、ヒドロキシアルキルまたはアルコキシアルキル基を表わし ;好ましくはR12およびR13はそれぞれ独立して、水素、ヒドロキシ、アルコキ シ、2−ヒドロキシエトキシ、ヒドロキシアルキルまたはアルコキシアルキル基 を表わし(この基中のアルキルは炭素原子1〜3個を有する);さらに好ましく はR12およびR13それぞれ独立して、水素、ヒドロキシ、メトキシまたはエトキ シ基を表わし;あるいは R11とR12またはR12とR13は、これらが結合している炭素原子と一緒になっ て、ベンゾ基を表わし、この基は置換基として少なくとも1個のヒドロキシまた は炭素原子1〜3個を有するアルコキシ基を有していてもよく;好ましくはR11 とR12は、これらが結合している炭素原子と一緒になって、ベンゾ基を表わし、 この基は置換基として少なくとも1個のヒドロキシまたはメトキシ基を有してい てもよい。 −CH(OH)−基の炭素原子の不斉立体化学配置は好ましくは(R)である 。 −CH(R1)−基の炭素原子の絶対立体化学配置は好ましくは(S)である。 −CH(R2)−基の炭素原子の絶対立体化学配置は好ましくは(S)である。 式I内の特に重要な化合物の1群は下記式で表わされる化合物あるいはその医 薬として許容される塩類、プロドラッグまたはエステル類である: 式中、n、R1、R2、R3、R4およびR10は上記定義のとおりである。 式II内のさらに重要な化合物の1群は下記式で表わされる化合物あるいはその 医薬として許容される塩類、プロドラッグまたはエステル類である: 式中、n、R1、R2、R3、R4およびR10は上記定義のとおりである。 式III内の化合物のさらに好適な1群は、nが1を表わし; R1がsec−ブチル、tert−ブチル、イソプロピル、3−プロピニルま たは−C(CH32S(O)2CH3基を表わし; R2がベンジルを表わし; R3がプロピル、イソアミル、イソブチル、ブチル、シクロヘキシル、シクロ ヘプチル、シクロペンチルメチルまたはシクロヘキシルメチル基を表わし;そし て R4が上記定義のとおりであり;そして R10が水素、メチルまたはベンジル基である。 化合物あるいはその医薬として許容される塩類、プロドラッグまたはエステル類 である。 重要な化合物には、下記の化合物が包含される: 2S−[[(ピロリジン−2−イル)カルボニル]アミノ]−N−[2R−ヒ ドロキシ−3−[[(1,3−ベンゾジオキソール−5−イル)スルホニル]( 2−メチルプロピル)アミノ]−1S−(フェニルメチル)プロピル]−3,3 −ジメチル−ブタンアミド; 2S−[[(ピロリジン−2−イル)カルボニル]アミノ]−N−[2R−ヒ ドロキシ−3−[[(1,3−ベンゾジオキソール−5−イル)スルホニル]( 2−メチルプロピル)アミノ]−1S−(フェニルメチル)プロピル]−3−メ チル−ブタンアミド; 2S−[[(ピロリジン−2−イル)カルボニル]アミノ]−N−[2R−ヒ ドロキシ−3−[[(1,3−ベンゾジオキソール−5−イル)スルホニル]( 2−メチルプロピル)アミノ]−1S−(フェニルメチル)プロピル]−3S− メチル−ペンタンアミド; 2S−[[(ピロリジン−2−イル)カルボニル]アミノ]−N−[2R−ヒ ドロキシ−3−[[(1,3−ベンゾジオキソール−5−イル)スルホニル]( 2−メチルプロピル)アミノ]−1S−(フェニルメチル)プロピル]−4−ペ ンチンアミド; 2S−[[(ピロリジン−2−イル)カルボニル]アミノ]−N−[2R−ヒ ドロキシ−3−[[フェニルスルホニル](2−メチルプロピル)アミノ]−1 S−(フェニルメチル)プロピル]−3,3−ジメチル−ブタンアミド; 2S−[[(ピロリジン−2−イル)カルボニル]アミノ]−N−[2R−ヒ ドロキシ−3−[[フェニルスルホニル](2−メチルプロピル)アミノ]−1 S−(フェニルメチル)プロピル]−3−メチル−ブタンアミド; 2S−[[(ピロリジン−2−イル)カルボニル]アミノ]−N−[2R−ヒ ドロキシ−3−[[フェニルスルホニル](2−メチルプロピル)アミノ]−1 S−(フェニルメチル)プロピル]−3S−メチル−ペンタンアミド; 2S−[[(ピロリジン−2−イル)カルボニル]アミノ]−N−[2R−ヒ ドロキシ−3−[[フェニルスルホニル](2−メチルプロピル)アミノ]−1 S−(フェニルメチル)プロピル]−4−ペンチンアミド; 2S−[[(ピロリジン−2−イル)カルボニル]アミノ]−N−[2R−ヒ ドロキシ−3−[[(4−メトキシフェニル)スルホニル](2−メチルプロピ ル)アミノ]−1S−(フェニルメチル)プロピル]−3,3−ジメチル−ブタ ンアミド; 2S−[[(ピロリジン−2−イル)カルボニル]アミノ]−N−[2R−ヒ ドロキシ−3−[[(4−メトキシフェニル)スルホニル](2−メチルプロピ ル)アミノ]−1S−(フェニルメチル)プロピル]−3−メチル−ブタンアミ ド; 2S−[[(ピロリジン−2−イル)カルボニル]アミノ]−N−[2R−ヒ ドロキシ−3−[[(4−メトキシフェニル)スルホニル](2−メチルプロピ ル)アミノ]−1S−(フェニルメチル)プロピル]−3S−メチル−ペンタン アミド; 2S−[[(ピロリジン−2−イル)カルボニル]アミノ]−N−[2R−ヒ ドロキシ−3−[[(4−メトキシフエニル)スルホニル](2−メチルプロピ ル)アミノ]−1S−(フェニルメチル)プロピル]−4−ペンチンアミド; 2S−[[(ピロリジン−2−イル)カルボニル]アミノ]−N−[2R−ヒ ドロキシ−3−[[(2,3−ジヒドロベンゾフラン−5−イル)スルホニル] (2−メチルプロピル)アミノ]−1S−(フェニルメチル)プロピル]−3, 3−ジメチル−ブタンアミド; 2S−[[(ピロリジン−2−イル)カルボニル]アミノ]−N−[2R−ヒ ドロキシ−3−[[(2,3−ジヒドロベンゾフラン−5−イル)スルホニル] (2−メチルプロピル)アミノ]−1S−(フェニルメチル)プロピル]−3− メチル−ブタンアミド; 2S−[[(ピロリジン−2−イル)カルボニル]アミノ]−N−[2R−ヒ ドロキシ−3−[[(2,3−ジヒドロベンゾフラン−5−イル)スルホニル] (2−メチルプロピル)アミノ]−1S−(フェニルメチル)プロピル]−3S −メチル−ペンタンアミド; 2S−[[(ピロリジン−2−イル)カルボニル]アミノ]−N−[2R−ヒ ドロキシ−3−[[(2,3−ジヒドロベンゾフラン−5−イル)スルホニル] (2−メチルプロピル)アミノ]−1S−(フェニルメチル)プロピル]−4− ペンチンアミド; 2S−[[(ピロリジン−2−イル)カルボニル]アミノ]−N−[2R−ヒ ドロキシ−3−[[(ベンゾチアゾール−6−イル)スルホニル](2−メチル プロピル)アミノ]−1S−(フェニルメチル)プロピル]−3,3−ジメチル −ブタンアミド; 2S−[[(ピロリジン−2−イル)カルボニル]アミノ]−N−[2R−ヒ ドロキシ−3−[[(ベンゾチアゾール−6−イル)スルホニル](2−メチル プロピル)アミノ]−1S−(フェニルメチル)プロピル]−3−メチル−ブタ ンアミド; 2S−[[(ピロリジン−2−イル)カルボニル]アミノ]−N−[2R−ヒ ドロキシ−3−[[(ベンゾチアゾール−6−イル)スルホニル](2−メチル プロピル)アミノ]−1S−(フェニルメチル)プロピル]−3S−メチル−ペ ンタンアミド; 2S−[[(ピロリジン−2−イル)カルボニル]アミノ]−N−[2R−ヒ ドロキシ−3−[[(ベンゾチアゾール−6−イル)スルホニル](2−メチル プロピル)アミノ]−1S−(フェニルメチル)プロピル]−4−ペンチンアミ ド; 2S−[[(ピロリジン−2−イル)カルボニル]アミノ]−N−[2R−ヒ ドロキシ−3−[[(2−ナフチル)スルホニル](2−メチルプロピル)アミ ノ]−1S−(フェニルメチル)プロピル]−3,3−ジメチル−ブタンアミド ; 2S−[[(ピロリジン−2−イル)カルボニル]アミノ]−N−[2R−ヒ ドロキシ−3−[[(2−ナフチル)スルホニル](2−メチルプロピル)アミ ノ]−1S−(フェニルメチル)プロピル]−3−メチル−ブタンアミド; 2S−[[(ピロリジン−2−イル)カルボニル]アミノ]−N−[2R−ヒ ドロキシ−3−[[(2−ナフチル)スルホニル](2−メチルプロピル)アミ ノ]−1S−(フェニルメチル)プロピル]−3S−メチル−ペンタンアミド; 2S−[[(ピロリジン−2−イル)カルボニル]アミノ]−N−[2R−ヒ ドロキシ−3−[[(2−ナフチル)スルホニル](2−メチルプロピル)アミ ノ]−1S−(フェニルメチル)プロピル]−4−ペンチンアミド; 2S−[[(ピロリジン−2−イル)カルボニル]アミノ]−N−[2R−ヒ ドロキシ−3−[[(1,4−ベンゾジオキサン−6−イル)スルホニル](2 −メチルプロピル)アミノ]−1S−(フェニルメチル)プロピル]−3,3− ジメチル−ブタンアミド; 2S−[[(ピロリジン−2−イル)カルボニル]アミノ]−N−[2R−ヒ ドロキシ−3−[[(1,4−ベンゾジオキサン−6−イル)スルホニル](2 −メチルプロピル)アミノ]−1S−(フェニルメチル)プロピル]−3−メチ ル−ブタンアミド; 2S−[[(ピロリジン−2−イル)カルボニル]アミノ]−N−[2R−ヒ ドロキシ−3−[[(1,4−ベンゾジオキサン−6−イル)スルホニル](2 −メチルプロピル)アミノ]−1S−(フェニルメチル)プロピル]−3S−メ チル−ペンタンアミド;および 2S−[[(ピロリジン−2−イル)カルボニル]アミノ]−N−[2R−ヒ ドロキシ−3−[[(1,4−ベンゾジオキサン−6−イル)スルホニル](2 −メチルプロピル)アミノ]−1S−(フェニルメチル)プロピル]−4−ペン チンアミド。 本明細書で使用されているものとして、「アルキル」の用語は、単独でまたは 組合わされて、好ましくは炭素原子1〜8個、さらに好ましくは炭素原子1〜5 個、最も好ましくは炭素原子1〜3個を有する直鎖状または分枝鎖状のアルキル 基を意味する。このような基の例には、メチル、エチル、n−プロピル、イソプ ロピル、n−ブチル、イソブチル、sec−ブチル、tert−ブチル、ペンチ ル、イソアミル、ヘキシル、オクチルなどが包含される。「アルケニル」の用語 は、単独でまたは組合わされて、1個または2個以上の二重結合を含有し、かつ また好ましくは炭素原子2〜10個、さらに好ましくは炭素原子2〜8個、最も 好ましくはを炭素原子2〜5個有する直鎖状または分枝鎖状の炭化水素基を意味 する。適当なアルケニル基の例には、エテニル、プロペニル、2−メチルプロペ ニル、1,4−ブタジエニルなどが包含される。「アルキニル」の用語は、単独 でまたは組合わされて、1個または2個以上の三重結合を有し、かつまた好まし くは炭素原子2〜10個、さらに好ましくは炭素原子2〜5個を含有する直鎖状 または分枝鎖状の炭化水素基を意味する。アルキニル基の例には、エチニル、プ ロピニル(プロパルギル)、ブチニルなどが包含される。「アルコキシ」の用語 は、単独でまたは組合わされて、そのアルキル部分が上記定義のとおりであるア ルキルエーテル基を意味する。適当なアルキルエーテル基の例には、メトキシ、 エトキシ、n−プロポキシ、イソプロポキシ、n−ブトキシ、イソブトキシ、s ec−ブトキシ、tert−ブトキシなどが包含される。「シクロアルキル」の 用語は、単独でまたは組合わされて、飽和または部分的飽和の一環状、二環状ま たは三環状アルキル基であって、各環状部分が好ましくは、3〜8個の炭素原子 環員、さらに好ましくは3〜7個の炭素原子環員、最も好ましくは5〜6個の炭 素原子環員を有し、かつまたベンゾ縮合環系であることもでき、このベンゾ縮合 環系はアリールの定義に関して本明細書で定義されているとおりに置換されてい てもよい基を意味する。このようなシクロアルキル基の例には、シクロプロピル 、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチル、オクタヒ ドロナフチル、2,3−ジヒドロ−1H−インデニル、アダマンチルなどが包含 される。 本明細書で使用されているものとして、「二環状」および「三環状」の用語は 両方ともに、縮合環系、例えばナフチルおよびβ−カルボリニル、および置換環 系、例えばビフェニル、フェニルピリジル、ナフチルおよびジフェニルピペラジ ニルを包含するものとする。「シクロアルキルアルキル」の用語は、上記定義の とおりのシクロアルキル基により置換されている上記定義のとおりのアルキル基 を意味する。このようなシクロアルキルアルキル基の例には、シクロプロピルメ チル、シクロブチルメチル、シクロペンチルメチル、シクロヘキシルメチル、1 −シクロペンチルエチル、1−シクロヘキシルエチル、2−シクロペンチルエチ ル、2−シクロヘキシルエチル、シクロブチルプロピル、シクロペンチルプロピ ル、シクロヘキシルブチルなどが包含される。「ベンゾ」の用語は、単独でまた は組合わされて、ベンゼンから誘導される二価の基C64=を意味する。「アリ ール」の用語は、単独でまたは組合わされて、1個または2個以上の置換基を有 していてもよいフェニルまたはナフチル基を意味し、この置換基はアルキル、ア ルコキシ、ハロゲン、ヒドロキシ、アミノ、ニトロ、シアノ、ハロアルキル、 カルボキシ、アルコキシカルボニル、シクロアルキル、ヘテロシクロ、アルカノ イルアミノ、アミド、アミジノ、アルコキシカルボニルアミノ、N−アルキルア ミジノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、N−アルキルアミド、N,N−ジ アルキルアミド、アラルコキシカルボニルアミノ、アルキルチオ、アルキルスル フィニル、アルキルスルホニルなどからから選択される。アリール基の例には、 フェニル、p−トリル、4−メトキシフェニル、4−(t−ブトキシ)フェニル 、3−メチル−4−メトキシフェニル、4−フルオロフェニル、4−クロロフェ ニル、3−ニトロフェニル、3−アミノフェニル、3−アセトアミドフェニル、 4−アセトアミドフェニル、2−メチル−3−アセトアミドフェニル、4−CF3 −フェニル、2−メチル−3−アミノフェニル、3−メチル−4−アミノフェ ニル、2−アミノ−3−メチルフェニル、2,4−ジメチル−3−アミノフェニ ル、4−ヒドロキシフェニル、3−メチル−4−ヒドロキシフェニル、1−ナフ チル、2−ナフチル、3−アミノ−1−ナフチル、2−メチル−3−アミノ−1 −ナフチル、6−アミノ−2−ナフチル、4,6−ジメトキシ−2−ナフチル、 ピペラジニルフェニルなどが包含される。「アラルキル」および「アラルコキシ 」の用語は、単独でまたは組合わされて、その少なくとも1個の水素原子が上記 定義のとおりのアリール基により置換されている上記定義のとおりのアルキルま たはアルコキシ基、例えばベンジル、ベンジルオキシ、2−フェニルエチル、ジ ベンジルメチル、ヒドロキシフェニルメチル、メチルフェニルメチル、ジフェニ ルメチル、ジフェニルメトキシ、4−メトキシフェニルメトキシなどを意味する 。「アラルコキシカルボニル」の用語は、単独でまたは組合わされて、式アラル キル−O−C(O)−で表わされる基を意味し、この式において、「アラルキル 」は上記定義の意味を有する。アラルコキシカルボニル基の例には、ベンジルオ キシカルボニルおよび4−メトキシフェニルメトキシカルボニルがある。「アリ ールオキシ」の用語は、式アリール−O−で表わされる基を意味し、この式にお いて、アリールの用語は上記定義の意味を有する。「アルカノイル」の用語は、 単独でまたは組合わされて、アルカンカルボン酸から誘導されるアシル基を意味 し、この基の例には、アセチル、プロピオニル、ブチリル、バレリル、4−メチ ルバレリルなどが包含される。「シクロアルキルカルボニル」の用語は、式シク ロアル キル−C(O)−で表わされる基を意味し、この式において、「シクロアルキル 」の用語は上記定義の意味を有し、例えばシクロプロピルカルボニル、シクロヘ キシルカルボニル、アダマンチルカルボニル、1,2,3,4−テトラヒドロ− 2−ナフトイル、2−アセトアミド−1,2,3,4−テトラヒドロ−2−ナフ トイル、1−ヒドロキシ−1,2,3,4−テトラヒドロ−6−ナフトイルなど を意味する。「アラルカノイル」の用語は、アリール置換アルカンカルボン酸か ら誘導されるアシル基、例えばフェニルアセチル、3−フェニルプロピオニル( ヒドロシンナモイル)、4−フェニルブチリル、(2−ナフチル)アセチル、4 −クロロヒドロシンナモイル、4−アミノヒドロシンナモイル、4−メトキシヒ ドロシンナモイルなどを意味する。「アロイル」の用語は、アリールカルボン酸 から誘導されるアシル基を意味し、ここで「アリール」は上記の意味を有する。 このようなアロイル基の例には、置換または未置換のベンゾイルまたはナフトイ ル、例えばベンゾイル、4−クロロベンゾイル、4−カルボキシベンゾイル、4 −(ベンジルオキシカルボニル)ベンゾイル、1−ナフトイル、2−ナフトイル 、6−カルボキシ−2−ナフトイル、6−(ベンジルオキシカルボニル)−2− ナフトイル、3−ベンジルオキシ−2−ナフトイル、3−ヒドロキシ−2−ナフ トイル、3−(ベンジルオキシホルムアミド)−2−ナフトイルなどを意味する 。「ヘテロシクロ」の用語は、単独でまたは組合わされて、飽和または部分的不 飽和の一環状、二環状または三環状ヘテロシクロ基であって、少なくとも1個、 好ましくは1〜4個、さらに好ましくは1個または2個の窒素、酸素または硫黄 原子環員を含有し、かつまた好ましくは各環が3〜8個の環員、さらに好ましく は各環が3〜7個の環員、最も好ましくは各環が5〜6個の環員を有するヘテロ シクロ基を意味する。「ヘテロシクロ」はスルホン、スルホキシド、三級窒素環 員のN−オキサイドおよび炭素環縮合したおよびベンゾ縮合した環系を包含する 。このようなヘテロシクロ基は、少なくとも1個、好ましくは1〜4個、さらに 好ましくは1〜2個の炭素原子部位でハロゲン、アルキル、アルコキシ、ヒドロ キシ、オキソ、アリール、アラルキル、ヘテロアリール、ヘテロアラルキル、ア ミジノ、N−アルキルアミジノ、アルコキシカルボニルアミノ、アルキルスルホ ニルアミノなどにより置換されていてもよく、および(または)二級窒素原子( す なわち、−NH−)の部位でヒドロキシ、アルキル、アラルコキシカルボニル、 アルカノイル、ヘテロアラルキル、フェニルまたはフェニルアルキルにより置換 されていてもよく、および(または)三級窒素原子(すなわち、=N−)の部位 でオキシドにより置換されていてもよい。「ヘテロシクロアルキル」は、少なく とも1個の水素原子が上記定義のとおりのヘテロシクロ基により置き換えられて いる上記定義のとおりのアルキル基を意味し、例えばピロリジニルメチル、テト ラヒドロチエニルメチル、ピリジルメチルなどを意味する。「ヘテロアリール」 の用語は、単独でまたは組合わされて、上記定義のとおりの芳香族ヘテロシクロ 基を意味し、この基はアリールおよびヘテロシクロの定義に関して定義されてい るとおりに置換されていてもよい。このようなヘテロシクロおよびヘテロアリー ル基の例には、ピロリジニル、ピペリジニル、ピペラジニル、モルホリニル、チ アモルホリニル、ピロリル、イミダゾリ(例えば、イミダゾール−4−イル、1 −ベンジルオキシカルボニルイミダゾール−4−イルなど)、ピラゾリル、ピリ ジル(例えば、2−(1−ピペリジニル)ピリジルおよび2−(4−ベンジルピ ペラジン−1−イル)−1−ピリジニルなど)、ピラジニル、ピリミジニル、フ リル、テトラヒドロフリル、チエニル、テトラヒドロチエニルおよぴそのスルホ キシドおよびスルホン誘導体、トリアゾリル、オキサゾリル、チアゾリル、イン ドリル(例えば、2−インドリルなど)、キノリニル(例えば、2−キノリニル 、3−キノリニル、1−オキシド−2−キノリニルなど)、イソキノリニル(例 えば、1−イソキノリニル、3−イソキノリニルなど)、テトラヒドロキノリニ ル(例えば、1,2,3,4−テトラヒドロ−2−キノリルなど)、1,2,3 ,4−テトラヒドロイソキノリニル(例えば、1,2,3,4−テトラヒドロ− 1−オキソ−イソキノリニルなど)、キノキサリニル、β−カルボリニル、2− ベンゾフランカルボニル、1−、2−、4−または5−ベンズイミダゾリル、メ チレンジオキシフェン−4−イル、メチレンジオキシフェン−5−イル、エチレ ンジオキシフェニル、ベンゾチアゾリル、ベンゾピラニル、ベンゾフリル、2, 3−ジヒドロベンゾフリル、ベンズオキサゾリル、チオフェニルなどがある。「 シクロアルキルアルコキシカルボニル」の用語は、式シクロアルキルアルキル− O−COOHで表わされるシクロアルキルアルコキシカルボン酸から誘導される ア シル基を意味し、この式において、シクロアルキルアルキルは上記の意味を有す る。「アリールオキシアルカノイル」の用語は、式アリール−O−アルカノイル のアシル基を意味し、この式において、アリールおよびアルカノイルは上記の意 味を有する。「ヘテロシクロアルコキシカルボニル」の用語は、ヘテロシクロア ルキル−O−COOHから誘導されるアシル基を意味し、この式において、ヘテ ロシクロアルキルは上記定義のとおりである。「ヘテロシクロアルカノイル」の 用語は、ヘテロシクロアルキルカルボン酸から誘導されるアシル基を意味し、こ こでヘテロシクロは上記の意味を有する。「ヘテロシクロアルコキシカルボニル 」の用語は、ヘテロシクロアルキル−O−COOHから誘導されるアシル基を意 味し、この式において、ヘテロシクロは上記の意味を有する。「ヘテロアリール オキシカルボニル」の用語は、ヘテロアリール−O−COOHにより表わされる カルボン酸から誘導されるアシル基を意味し、この式において、ヘテロアリール は上記の意味を有する。「アミノカルボニル」の用語は、単独でまたは組合わさ れて、アミノ置換カルボニル(カルバモイル)基を意味し、この基において、ア ミノ基はアルキル、アリール、アラルキル、シクロアルキル、シクロアルキルア ルキル基などから選択される置換基を含有する一級、二級または三級のアミノ基 であることができる。「アミノアルカノイル」の用語は、アミノ置換アルキルカ ルボン酸から誘導されるアシル基を意味し、このアミノ基はアルキル、アリール 、アラルキル、シクロアルキル、シクロアルキルアルキル基などから選択される 置換基を含有する一級、二級または三級のアミノ基であることができる。「ハロ ゲン」の用語は、フッ素、塩素、臭素またはヨウ素を意味する。「ハロアルキル 」の用語は、その1個または2個以上の水素がハロゲンにより置き換えられてい る上記定義の意味を有するアルキル基を意味する。このようなハロアルキル基の 例には、クロロメチル、1−ブロモエチル、フルオロメチル、ジフルオロメチル 、トリフルオロメチル、1,1,1−トリフルオロエチルなどが包含される。「 脱離性基」(LまたはW)の用語は一般に、求核性基、例えばアミン、チオール またはアルコール求核性基により容易に置き換えられる基を意味する。このよう な脱離性基は当業者にとって周知である。このような脱離性基の例には、これら に制限されないものとして、N−ヒドロキシスクシンイミド、N−ヒドロキシ ベンゾトリアゾール、ハライド、トリフレート、トシレートなどが包含される。 好適脱離性基は本明細書の該当部分に指示されている。 式Iで表わされる化合物の製造方法を下記に示す。この一般的方法は特定の立 体化学配置を有する化合物の製造に関して示されており、例えばヒドロキシル基 にかかわる絶対立体化学配置は(R)であるとして指定されていることに留意さ れるべきである。しかしながら、このような方法は一般に、反対の配置を有する 化合物、例えばヒドロキシル基にかかわる絶対立体化学配置が(S)である化合 物に対しても適用することができる。さらに、(R)絶対立体化学配置を有する 化合物を利用して、(S)絶対立体化学配置を有する化合物を製造することもで きる。例えば、(R)絶対立体化学配置を有する化合物を周知の方法によって、 (S)絶対立体化学配置を有する化合物に変換することができる。式Iで表わされる化合物の製造 式Iで表わされる本発明による化合物は、反応経路IおよびIIに図解式に示さ れている下記の一般的方法を利用して製造することができる。 式: 式中、Pはアミノ保護基を表わし、そしてR2は上記定義のとおりである、を 有するアミノ酸のN−保護したクロロケトン誘導体を、適当な還元剤を用いて対 応するアルコールに還元する。適当なアミノ保護基は当業者にとって周知であり 、カルボベンゾキシ、t−ブトキシカルボニルなどを包含する。好適アミノ保護 基はカルボベンゾキシである。好適なN−保護したクロロケトンは、N−ベンジ ルオキシカルボニル−L−フェニルアラニンクロロメチルケトンである。好適還 元剤はホウ水素化ナトリウムである。この還元反応は、−10℃〜約25℃の温 度で、好ましくは約0℃で、例えばテトラヒドロフランなどのような適当な溶媒 系中において行なわれる。N−保護したクロロケトン化合物は市販されており、 例えばBachem,Inc.,Torrance,California から市販されている。別法として、 このクロロケトン化合物は、S.J.Fittkau によるJ.Prakt.Chem.,315,1 037(1973)に記載の方法により製造することができ、引続いて当業者に 周知の方法を使用して、N−保護することができる。 ハロアルコール化合物は、以下に示すように、あるいは好ましくは、直接利用 することができ、好ましくは室温において、適当な溶媒系中で適当な塩基と反応 させ、式: 式中、PおよびR2は上記定義のとおりである、 で表わされるN−保護アミノエポキシド化合物を生成させる。アミノエポキシド 化合物の生成に適当な溶媒系は、エタノール、メタノール、イソプロパノール、 テトラヒドロフラン、ジオキサンなどを包含し、その混合物も包含される。還元 したクロロケトン化合物からのエポキシド化合物の生成に適する塩基には、水酸 化カリウム、水酸化ナトリウム、カリウムt−ブトキシド、DBUなどが包含さ れる。好適塩基は、水酸化カリウムである。 別法として、保護アミノエポキシド化合物は、共同出願人による審査中のPC T特許出願Serial No.PCT/US93/04804(WO93/23388) およびPCT/US94/12201、ならびに米国特許出願Attorney Docket, No. C−2860(これら各刊行物の全体を引用してここに組入れる)に記載の 方法により製造することができ、ここにはDL−、D−またはL−アミノ酸から 出発して、このアミノ酸を適当な溶媒系中で適当なアミノ保護基と反応させ、ア ミノ保護アミノ酸エステル化合物を生成させる、レトロウイルスプロテアーゼイ ンヒビターの製造に有用なキラルエポキシド化合物、キラルシアノヒドリン化合 物、キラルアミン化合物およびその他のキラル中間体を製造する方法が記載され ている。例示の目的で、下記式を有する保護L−アミノ酸を、本発明のインヒビ ターの製造に使用することができる: 式中、P3はカルボキシル−保護基、例えばメチル、エチル、ベンジル、te rt−ブチル、4−メトキシフェニルメチルなどを表わし;R2は上記定義のと おりであり;そしてP1およびP2および(または)P′は独立して、これらに制 限されないものとして、アラルキル、置換アラルキル、シクロアルケニルアルキ ルおよび置換シクロアルケニルアルキル、アリル、置換アリル、アシル、アルコ キシカルボニル、アラルコキシカルボニルおよびシリルを包含するアミノ保護基 から選択される。アラルキルの例は、これらに制限されないものとして、ベンジ ル、オルト−メチルベンジル、トリチルおよびベンズヒドリルを包含し、これら の基はハロゲン、C1〜C8アルキル、アルコキシ、ヒドロキシ、ニトロ、アルキ レン、アミノ、アルキルアミノ、アシルアミノおよびアシル、あるいはそれらの 塩類、例えばホスホニウムおよびアンモニウム塩により置換されていても よい。アリール基の例には、フェニル、ナフタレニル、インダニル、アントラセ ニル、デュレニル、9−(9−フェニルフルオレニル)およびフェナントレニル 、C6〜C10のシクロアルキルを含有するシクロアルケニルアルキルまたは置換 シクロアルキレニルアルキル基が包含される。適当なアシル基には、カルボベン ゾキシ、t−ブトキシカルボニル、イソブトキシカルボニル、ベンゾイル、置換 ベンゾイル、ブチリル、アセチル、トリ−フルオロアセチル、トリ−クロロアセ チル、フタロイルなどが包含される。好ましくは、P1およびP2は独立して、ア ラルキルおよび置換アラルキルから選択される。さらに好ましくは、P1および P2はそれぞれ、ベンジルである。 別様には、P1および(または)P2および(または)P′保護基は、これらが 結合している窒素とともにヘテロシクロ環、例えば1,2−ビス(メチレン)ベ ンゼン、フタルイミジル、スクシンイミジル、マレイミジルなどを形成すること ができ、これらのヘテロシクロ基は隣接するアリールおよびシクロアルキル環を 包含することもできる。さらにまた、このヘテロシクロ基は1個、2個または3 個の置換基を有することもでき、例えばニトロフタルイミジルであることができ る。シリルの用語は、1個または2個以上のアルキル、アリールおよびアラルキ ル基により置換されていてもよいケイ素原子を意味する。 適当なシリル保護基には、これらに制限されないものとして、トリメチルシリ ル、トリエチルシリル、トリ−イソプロピルシリル、tert−ブチルジメチル シリル、ジメチルフェニルシリル、1,2−ビス(ジメチルシリル)ベンゼン、 1,2−ビス(ジメチルシリル)エタンおよびジフェニルメチルシリルが包含さ れる。モノ−またはジ−ジシリルアミンを生成させるためのアミン官能性基のシ リル化は、アミノアルコール、アミノ酸、アミノ酸エステルおよびアミノ酸アミ ドの誘導体を生成させることができる。アミノ酸、アミノ酸エステルおよびアミ ノ酸アミドの場合に、そのカルボニル官能性基を還元すると、所望のモノ−また はジ−シリルアミノアルコールが得られる。このアミノアルコールをシリル化す ると、N.N,O−トリ−シリル誘導体を得ることができる。このシリルエーテ ル官能性基からのシリル官能性基の分離は、例えば金属水酸化物またはアンモニ ウムフルオライド試薬を用いて、分離した反応として、またはアミノアルデヒド 反応剤製造中にその場で処理することによって容易に達成することができる。適 当なシリル化剤は、例えばトリメチルシリルクロライド、tert−ブチ−ジメ チルシリルクロライド、フェニルジメチルシリルクロライド、ジフェニルメチル シリルクロライドまたはそれらのイミダゾールまたはDMFとの組合わせ生成物 である。このアミン化合物のシリル化方法およびシリル保護基の分離方法は、当 業者にとって周知である。対応するアミノ酸、アミノ酸エステルまたはアミノ酸 アミドからのこれらのアミン誘導体の製造方法は、アミノ酸/アミノ酸エステル またはアミノアルコール化学を包含する有機化学の当業者にとって周知である。 アミノ保護したL−アミノ酸エステル化合物を次いで、対応するアルコールに 還元する。例えば、アミノ保護したL−アミノ酸エステル化合物は、−78℃に おいてトルエンなどの適当な溶媒中で、水素化ジイソブチルアルミニウムを用い て還元することができる。好適還元剤は、水素化リチウムアルミニウム、ホウ水 素化リチウム、ホウ水素化ナトリウム、ボラン、水素化リチウムトリ−tert −ブトキシアルミニウム、ボラン/THF錯体を包含する。最も好ましくは、こ の還元剤は、トルエン中の水素化ジイソブチルアルミニウム(DiBAL−H) である。生成するアルコール化合物は次いで、例えばスヴァーン(Swern)酸化法 により式: 式中、P1、P2およびR2は上記定義のとおりである、 で表わされる対応するアルデヒド化合物に変換する。この場合に、アルコール化 合物のジクロロメタン溶液を、ジクロロメタンおよびDMSO中のオキザリルク ロライドの冷却した(−75〜−68℃)溶液に添加し、次いで35分間撹拌す る。 許容される酸化剤には、例えば三酸化硫黄−ピリジン錯体とDMSO、オキザ リルクロライドとDMSO、アセチルクロライドまたは無水物とDMSO、トリ フルオロアセチルクロライドまたは無水物とDMSO、メタンスルホニルクロラ イドとDMSOまたはテトラヒドロチアフェン−S−オキサイド、トルエンスル ホニルブロマイドとDMSO、無水トリフルオロメタンスルホニル[無水トリフ リル(triflic anhydride)]とDMSO、五塩化リンとDMSO、ジメチルホス ホリルクロライドとDMSOおよびイソブチルクロロホーメートとDMSOが包 含される。Reetz 等により開示されている[Angew.Chem.,99,p.1186( 1987)],Angew.Chem.Int.Ed.Engl.,26,p.1141,1987]酸 化条件は、−78℃でオキザリルクロライドとDMSOを使用する。 本発明で開示されている好適酸化方法は、室温で三酸化硫黄−ピリジン錯体、 トリエチルアミンおよびDMSOである。この反応系は、精製を必要とすること なく使用することができる所望のキラル保護アミノアルデヒド化合物を優れた収 率でもたらす。すなわち、クロマトグラフイによるキログラム単位の中間体の精 製を省略させ、かつまた大規模操作を危険の少ないものとする。室温における反 応はまた、低温反応器を使用する必要性をなくして、当該方法を商業的製造に適 するものにする。 この反応は、窒素またはアルゴンあるいは普通のまたは乾燥した空気などの不 活性雰囲気で大気圧において、または正の加圧下にシールした反応容器内で行う ことができる。窒素雰囲気が好適である。別種のアミン塩基には、例えばトリブ チルアミン、トリイソプロピルアミン、N−メチルピペリジン、N−メチルモル ホリン、アザビシクロノナン、ジイソプロピルエチルアミン、2,2,6,6− テトラメチルピペリジン、N,N−ジメチルアミノピリジン、あるいはこれらの 塩基の混合物が包含される。トリエチルアミンは好適塩基である。純粋なDMS Oの代わりに使用される溶媒として、DMSOと非プロトン溶媒またはハロゲン 化溶媒、例えばテトラヒドロフラン、酢酸エチル、トルエン、キシレン、ジクロ ロメタン、エチレンジクロライドなどとの混合物が包含される。双極性非プロト ン補助溶媒には、アセトニトリル、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミ ド、アセトアミド、テトラメチル尿素およびその環状類縁体、N−メチルピロリ ドン、スルホランなどが包含される。アルデヒド前駆化合物としては、N,N− ジベンジルフェニルアラニノールよりも、前述のフェニルアラニノール誘導体を 使用して、対応するN−モノ置換[P1またはP2=H]あるいはN.N−ジ置 換アルデヒド化合物を得ることができる。 さらに、対応するベンジル(またはその他の適当な保護基)窒素保護フェニル アラニンのアミドまたはエステル誘導体、置換フェニルアラニンまたはフェニル アラニン誘導体のシクロアルキル類縁体を水素化物による還元に付すことができ 、これによりアルデヒド化合物を得ることができる。水素化物の転移、すなわち オッペンナウアー(Oppenauer)酸化法は、アルデヒド縮合が回避される条件下に おけるアルデヒド合成のもう一つの方法である。 この方法のアルデヒド化合物はまた、保護フェニルアラニンおよびフェニルア ラニン類縁体、あるいはそれらのアミドまたはエステル誘導体の還元方法によっ て、例えばエタノール中のHClとともにナトリウムアマルガムを使用するかま たはアンモニア中のリチウムまたはナトリウムまたはカリウムまたはカルシウム を用いて製造することができる。この反応温度は約−20℃から約45℃、好ま しくは約5℃から約25℃であることができる。窒素保護アルデヒド化合物を得 るための2つの追加の方法は、対応するアルコール化合物を触媒量の2,2,6 ,6−テトラメチル−1−ピリジルオキシフリーラディカルの存在下での晒粉( ブリーチ)による酸化を包含する。第二の方法では、アルコール化合物のアルデ ヒド化合物への酸化は、触媒量のテトラプロピルアンモニウムペルルテネートを 用いてN−メチルモルホリン−N−オキサイドの存在下に行われる。 別法として、前記の保護フェニルアラニンまたはフェニルアラニン誘導体の酸 クロライド誘導体は、水素および炭酸バリウムまたは硫酸バリウム上のPdなど の触媒を用いて、追加の触媒調整剤、例えば硫黄またはチオールを使用して、ま たは使用することなく、還元することができる[ローゼンムンド(Rosenmund)還 元法]。 スヴァーン酸化から生成するアルデヒド化合物は次いで、ハロメチルリチウム 試薬と反応させる。この試薬は、アルキルリチウムまたはアリールリチウム化合 物を式X1CH22(式中、X1およびX2は独立して、I、BrまたはClを表 わす)で表わされるジハロメタンと反応させることによってその場で生成させる ことができる。一例として、THF中のアルデヒド化合物およびクロロヨウドメ タンの溶液を、−78℃に冷却させ、次いでヘキサン中のn−ブチルリチウ ムの溶液を添加する。生成する生成物は式: で表わされる対応するアミノ−保護エポキシドのジアステレオマー混合物である 。 このジアステレオマーは、例えばクロマトグラフイにより分離することができ 、あるいは別法として、後続の工程で一度反応させ、そのジアステレオマー生成 物を分離することができる。R2に結合した炭素の部位に(S)立体化学配置を 有する化合物を製造するためには、L−アミノ酸の代わりにD−アミノ酸を使用 することができる。 キラルアミノアルデヒドにクロロメチルリチウムまたはブロモメチルリチウム を付加すると、格別のジアステレオマー選択性が得られる。好ましくは、クロロ メチルリチウムまたはブロモメチルリチウムは、ジハロメタンとn−ブチルリチ ウムとの反応からその場で生成させる。許容されるメチレン化性ハロメタン化合 物には、クロロヨウドメタン、ブロモクロロメタン、ジブロモメタン、ジヨウド メタン、ブロモフルオロメタンなどが包含される。例えばホルムアルデヒドへの 臭化水素の付加生成物のスルホネートエステルはまた、メチレン化剤である。テ トラヒドロフランは好適溶媒であるが、トルエン、ジメトキシエタン、エチレン ジクロライド、メチレンクロライドなどの別の溶媒を純粋溶媒として、または混 合物として使用することもできる。アセトニトリル、DMF、N−メチルピロリ ドンなどの双極性非プロトン溶媒も溶媒としてまたは溶媒混合物の一部として有 用である。この反応は、窒素またはアルゴンなどの不活性雰囲気下で行うことが できる。n−ブチルリチウムの代わりに、メチルリチウム、tert−ブチルリ チウム、sec−ブチルリチウム、フェニルリチウム、フェニルナトリウムなど の別種の有機金属反応剤を使用することができる。この反応は、約−80℃〜0 ℃、好ましくは約−80℃〜−20℃の温度で行うことができる。最も好適な反 応温度は、−40℃〜−15℃である。反応剤は、一回で添加することができる が、或る条件の下では多回添加すると好ましい。この反応の好適圧力は大気圧で あるが、正の圧力も或る条件の下では、例えば高湿度条件の下では有用である。 本発明のエポキシド化合物への別の変換方法には、別種の帯電したメチレン化 前駆化合物の置換、引続く塩基によるそれらの処理を包含し、これにより類縁ア ニオンが生成される。この種の化合物の例には、トリメチルスルホキソニウムト シレートまたはトリフレート、テトラメチルアンモニウムハライド、メチルジフ ェニルスルホキソニウムハライドが包含され、ここでハライドはクロライド、ブ ロマイドまたはヨウダイドである。 本発明のアルデヒド化合物のそれらのエポキシド誘導体への変換はまた、多工 程で行うこともできる。一例として、例えばブチルまたはアリールリチウム反応 剤から生成されるチオアニソールのアニオンを保護アミノアルデヒドに付加し、 生成する保護アミノスルフィドアルコールを周知の酸化剤、例えば過酸化水素、 tert−ブチルハイポクロライト、晒粉または過ヨウ素酸ナトリウムにより酸 化すると、スルホキシドが生成される。このスルホキシドを有機または無機塩基 の存在下に、例えばメチルヨウダイドまたはブロマイド、メチルトシレート、メ チルメシレート、メチルトリフレート、エチルブロマイド、イソプロピルブロマ イド、ベンジルクロライドなどによりアルキル化する。別法として、保護したア ミノスルフィドアルコール化合物は、例えば上記アルキル化剤によりアルキル化 し、スルホニウム塩を生成させることができ、次いでtert−アミンまたは鉱 物塩基により目的エポキシド化合物に変換することができる。 所望のエポキシド化合物は最も好適な条件を用いて、少なくとも約85:15 比(S:R)の比率のジアステレオマー選択性で生成される。この生成物は、ク ロマトグラフイにより精製し、ジアステレオマーとしておよびエナンチオマーと して純粋な生成物を得ることができるが、精製することなく直接に使用して、レ トロウイルスプロテアーゼインヒビターを良好に製造することができる。前記方 法は、光学異性体の混合物および分割した化合物に適用することができる。特定 の光学異性体が所望される場合には、出発物質を選択することによって、例えば L−フェニルアラニン、D−フェニルアラニン、L−フェニルアラニノール、D −フェニルアラニノール、D−ヘキサヒドロフェニルアラニノールなどを選ぶこ とによって選択することができ、あるいは分割は中間段階でまたは最終工程とし て生じさせることができる。キラル補助剤、例えば1または2当量のカンファー スルホン酸、クエン酸、樟脳酸、2−メトキシフェニル酢酸などを使用して、本 発明の化合物の塩類、エステル類またはアミド類を生成させることができる。こ れらの化合物または誘導体は結晶化させることができ、あるいは当業者に充分に 知られているように、キラルまたは非キラルカラムを使用するクロマトグラフイ により分離することができる。 このアミノエポキシド化合物を次いで、適当な溶媒系中で等量または好ましく は過剰量の式R3NH2(式中、R3は水素であるか、または上記定義のとおりで ある)で表わされる所望のアミン化合物と反応させる。この反応は広い温度範囲 にわたり、例えば約10℃から約100℃までの温度で、必須ではないが好まし くは溶媒が還流を開始する温度で行うことができる。適当な溶媒系はプロトン有 機溶媒、非プロトン有機溶媒および双極性非プロトン有機溶媒を包含する。この ような溶媒の例には、メタノール、エタノール、イソプロパノールなどのアルコ ール類、テトラヒドロフラン、ジオキサンなどのエーテル類、およびトルエン、 N,N−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシドならびにその混合物があ る。好適溶媒はイソプロパノールである。生成する生成物は、3−(N−保護ア ミノ)−3−(R2)−1−(NHR3)−プロパン−2−オール誘導体であり( この化合物を以後、アミノアルコールと称する)、この化合物は下記式で表わす ことができる: 式中、P、P1、P2、R2およびR3は上記定義のとおりである。 別様には、アミノエポキシド化合物の代わりに、ハロアルコール化合物を使用す ることもできる。 上記定義のとおりのアミノアルコール化合物を次いで、適当な溶媒中で、好ま しくは酸捕獲剤の存在下に、スルホニルクロライドR4SO2Cl、スルホニルブ ロマイドR4SO2Brまたは対応する無水スルホニルと反応させる。この反 応を行うことができる適当な溶媒には、メチレンクロライド、テトラヒドロフラ ンなどが包含される。適当な酸捕獲剤には、トリエチルアミン、ピリジンなどが 包含される。生成するスルホンアミド誘導体は、使用したエポキシドに依存して 、下記式で表わすことができる: 式中、P、P1、P2、R2、R3およびR4は上記定義のとおりである。これら の中間体化合物は、本発明のインヒビター化合物の製造に有用である。 式R4SO2Xで表わされるスルホニルハライド化合物は、適当なアリール、ヘ テロアリールおよびベンゾ縮合ヘテロシクログリニヤール反応剤またはリチウム 反応剤とスルフリルクロライドまたは二酸化硫黄とを反応させ、次いでハロゲン 、好ましくは塩素により酸化することによって製造することができる。アリール 、ヘテロアリールおよびベンゾ縮合ヘテロシクログリニヤール反応剤またはリチ ウム反応剤は、それらの対応するハライド(例えば、クロロまたはブロモ)化合 物から製造することができ、これらのハライド化合物は市販されているか、また は当業者に公知の方法を使用して市販出発物質から容易に製造することができる 。また、チオール化合物は、注意深く制御した条件下に水を存在させて、塩素を 使用し、スルホニルクロライド化合物に酸化することができる。さらにまた、ア リールスルホン酸などのスルホン酸化合物は、PCl5、SOCl2、ClC(O )C(O)Clなどの反応剤を使用して、スルホニルハライド化合物に、および また適当な脱水剤を使用して無水物に変換することができる。このスルホン酸化 合物はまた、当業者に周知の方法を使用して製造することができる。数種のスル ホン酸化合物は市販されている。−SO2−部分がそれぞれ−SO−または−S −部分で置き換えられている化合物を製造するためには、スルホニルハライド化 合物の代わりに、スルフィニルハライド化合物(R4SOX)またはスルフェニ ルハライド化合物(R4SX)を使用することができる。アリールスルホン酸化 合物、ベンゾ縮合ヘテロシクロスルホン酸化合物またはヘテロアリールスル ホン酸化合物は、当業者に周知の方法によって、例えば硫酸、SO3、SO3錯体 (例えば、DMF(SO3)、ピリジン(SO3)、N,N−ジメチルアセトアミド( SO3)など)との反応によって、その芳香族環をスルホン化することにより製造 することができる。好ましくは、アリールスルホニルハライド化合物は、DMF (SO3)およびSOCl2またはClC(O)C(O)Clとの反応によって、芳 香族化合物から製造される。この反応は段階的に、または単独のポットで行うこ とができる。 アリールスルホン酸化合物、ベンゾ縮合ヘテロシクロスルホン酸化合物、ヘテ ロアリールスルホン酸化合物、アリールメルカプタン化合物、ベンゾ縮合ヘテロ シクロメルカプタン化合物、ヘテロアリールメルカプタン化合物、アリールハラ イド化合物、ベンゾ縮合ヘテロシクロハライド化合物、ヘテロアリールハライド 化合物などは市販されており、あるいは当業者に周知の標準的方法を使用して、 市販出発物質から容易に製造することができる。一例として、式: 式中、A、B、Z、R6、R7およびR9は上記定義のとおりである、 で表わされる多くのスルホン酸化合物(R4SO3H)は、1,2−ベンゼンジチ オール、2−メルカプタンフェノール、1,2−ベンゼンジオール、2−アミノ ベンゾチアゾール、ベンゾチアゾール、2−アミノベンズイミダゾール、ベンズ イミダゾールなどから製造されており、これらの出発化合物はCarterによる米国 特許4,595,407;Ehrenfreund らによる米国特許4,634,465; Yoder らによるJ.Heterocycl.Chem.4:166〜167(1967);Coleら によるAust.J.Chem.,33:675〜680(1980);Cabiddu らによる Synthesis,797〜798(1976);Ncube らによるTet.Letters,234 5〜2348(1978);Ncube らによるTet.Letters,255〜256;An sinkおよびCerfontainによるRec.Trav.Chim.Pays−Bas,108:395〜4 03(1989);およびKajiharaおよびTsuchiyaによるEP638564A1 により市場で入手することができる(これらの刊行物をそれぞれ引用して、 それらの全記載をここに組入れる)。一例として、1,2−ベンゼンジチオール 、2−メルカプタンフェノールまたは1,2−ベンゼンジオールは、水酸化物な どの塩基の存在下にR67C(L′)2(式中、L′は以下で定義されるとおりで あり、好ましくはBrまたはIである)と、あるいはトルエンスルホン酸または P25などの酸の存在下にR67C=Oと反応させて、式: で表わされる置換ベンゾ縮合ヘテロシクロ化合物を生成させることができ、この 生成化合物は次いで、上記スルホン酸化合物にスルホニル化することができる。 一例として、CF2Br2またはCD2Br2を、塩基の存在下に、1,2−ベンゼ ンジチオール、2−メルカプタンフェノールまたは1,2−ベンゼンジオールと 反応させて、それぞれ、 式中、AおよびBはOまたはSであり、そしてDはジュウテリウム原子である 、で表わされる化合物を生成させることができる。また、Aおよび(または)B がSを表わす場合には、この硫黄を以下で説明する方法を使用して、スルホンま たはスルホキシド誘導体に酸化することができる。 スルホンアミド誘導体の製造に続いて、そのアミノ保護基PまたはP1および P2アミノ保護基を、分子内の残りの部分に影響しない条件下に除去する。これ らの方法は当業者にとって周知であり、酸加水分解、水素添加分解などを包含す る。好適方法には、アルコール、酢酸などの適当な溶媒系またはその混合物中で 炭素上パラジウムを用いる水素添加分解による保護基の分離、例えばカルボベン ゾキシ基の分離が包含される。保護基がt−ブトキシカルボニル基である場合に は、ジオキサンまたはメチレンクロライドなどの適当な溶媒系中で無機酸または 有機酸、例えばHClまたはトリフルオロ酢酸を使用して分離することができる 。生成する生成物はアミン塩誘導体である。 塩を中和した後に、このアミン化合物を次いで、式PNHCH(R1)COOH (式中、PおよびR1は上記定義のとおりである)に相当するDL−、D−また はL−アミノ酸にカプリングさせ、次いで上記のとおりにしてアミン化合物を脱 保護化し、次いで式: (式中、n、P、R10、R11、R12およびR13は上記定義のとおりであり、そし てLはハライド、無水物、活性エステルなどの脱離性基である) で表わされる環状−アミノ酸化合物にカプリングさせる。一例として、R11、R12 およびR13がそれぞれ水素基である場合には、N−保護またはN−置換プロリ ンHOBT活性エステル、N−保護またはN−置換ピペコリン酸N−ヒドロキシ スクシンアミド活性エステルなどを使用することができる。 別法として、中間体: は、R10L(式中、R10はアルキルまたはベンジルである)あるいは対応するア ルデヒドまたはケトンとの反応により脱保護化することができ、次いでシアノホ ウ水素化ナトリウムなどにより還元して、 (式中、n、R1、R2、R3、R4、R10、R11、R12およびR13は上記定義のと おりである) を生成させることができる。 式: で表わされる環状−アミノ酸化合物、例えばプロリン、4−ヒドロキシプロリン 、N−メチルプロリン、インドリン−2−カルボン酸などは市販されており;あ るいは当業者に周知の標準的方法を使用して、プロリン、4−ヒドロキシプロリ ン、4−ヒドロキシプロリン−2−カルボン酸、3−ヒドロキシピコリン酸、イ ンドリン−2−カルボン酸、5−メトキシインドール−2−カルボン酸、カイニ ン酸、4−メトキシ−2−キノリンカルボン酸などの市販されている出発物質か ら容易に製造することができる。 別法として、反応経路IIIに示されているように、環状−アミノ酸化合物は、 アミン含有アルファ−ケトンカルボン酸化合物またはエステルを環状−イミンに 環化し、次いでシアノホウ水素化ナトリウムなどにより環状−アミノ酸化合物還 元することにより製造することができ、あるいは別法として、反応経路IVに示さ れているように、適当な脱離性基、例えばクロロ、ブロモ、トシレート、メシレ ートなどを有するアミノ酸化合物を環化することにより製造することができる( 各式中、n、P3、R11、R12およびR13は上記定義のとおりである)。このア ルファ−ケトンカルボン酸化合物またはエステルおよびアミノ酸化合物出発物質 は市販されているか、または当業者に周知の方法および操作を使用して、市販の 物質から容易に製造することができる。 別法として、上記塩を中和した後に、このアミン化合物を次いで、式: (式中、n、P、R1、R10、R11、R12およびR13は上記定義のとおりである )に相当するDL−、D−またはL−アミノ酸にカプリングさせる。このアミノ 酸化合物は、式NH2CH(R1)COOP3(式中、P3およびR1は上記定義のと おりである)に相当するDL−、D−またはL−アミノ酸化合物から前記カプリ ング方法と同様の方法で製造することができる。 式PNHCH(R1)COOHまたは式NH2CH(R1)COOP3(各式中、P、 P3およびR1は上記定義のとおりである)に相当するDL−、D−またはL−ア ミノ酸化合物は市販されているか(Sigma Chemical Co.)、または容易に入手でき る出発物質から当業者に周知の標準的方法を使用して容易に製造することができ る。好ましくは、Pはベンジルオキシカルボニルまたはt−ブトキシカルボニル 基であり、そしてP3はベンジルまたはtert−ブチル基である。標準的カプ リング方法を使用して、アミノ酸化合物とアミン化合物とをカプリングさせるこ とができる。周知の方法および条件を使用して、そのカルボン酸基を反応 させ、無水物、混合無水物、酸ハライド(例えば、クロライドまたはブロマイド )あるいは活性エステル(例えば、N−ヒドロキシスクシンイミドのエステル、 HOBTなど)を生成させる。適当な溶媒系は、テトラヒドロフラン、エチルエ ーテル、メチル−tert−ブチルエーテル、メチレンクロライド、N,N−ジ メチルホルムアミドなどであり、その混合物も包含される。 別法として、エポキシド開環からの保護アミノアルコールは、新しく導入され たアミノ基の部分で、アミノ保護基PまたはP1およびP2の分離に際して分離さ れない保護基P′によりさらに保護することができる。例えば、P′は選択的に 分離することができる。当業者は、P′、P、P1およびP2の適当な組合わせを 選択することができる。一例として、適当な組合わせには、P=CbZとP′= Boc;P′=CbZとP=Boc;P1=CbZ、P2=ベンジルとP′=Bo c;およびP1=P2=ベンジルとP′=Bocがある。式: で表わされる生成する化合物を当該合成法の残りの部分に付して、式: または (各式中、n、p、p′、R1、R2、R3、R10、R11、R12およびR13は上記 定義のとおりである) で表わされる化合物を得ることができる。上記合成法の残りの部分は、所望の残 基または基を一度に付加するか、または1個以上の残基または基からなる予め形 成されている分子を1工程で付加することによって所望に応じて行うことができ る。前者の方法は、順次的合成法であり、そして後者の方法は集中法である。こ の工程はまた、合成的転換方法であることもできる。この保護基P′は次いで、 選択的に分離することができ、生成するアミン化合物を、好ましくは酸捕獲剤の 存在下に、スルホニルクロライドR4SO2Cl、スルホニルブロマイドR4SO2 Brまたは対応する無水スルホニルと反応させ、本発明による化合物: (式中、n、R1、R2、R3、R4、R10、R11、R12およびR13は上記定義のと おりである) で表わされる化合物を生成させる。この選択的脱保護およびスルホンアミドへの 変換は、合成の最終段階で、または所望により、いずれか適当な中間段階で行う ことができる。 上記化学反応は一般に、本発明の化合物の製造に係わりそれらの最も広い適用 範囲の観点から説明されている。場合により、諸反応は開示範囲内に包含される 各化合物に対して説明通りに適用できないこともある。このような状況が生じる ような化合物は当業者が容易に認識することができる。このような場合は全て、 反応を当業者に公知の慣用の変法によって、例えば干渉性基を適当に保護するこ とにより、別種の慣用の反応剤に変更することにより、反応条件を慣例に従い修 正することによるなどして、あるいはまた本明細書に記載の別の方法または別段 の慣用の方法を本発明の対応する化合物の製造に採用することによって成功裏に 行うことができる。全製造方法において、出発物質は全て、公知であるか、また は公知出発物質から容易に製造することができる。 追加の努力を要することなく、当業者は前記説明を使用して、本発明をその完 全範囲にまで利用することができるものと信じる。従って、下記の好適な特定の 例は単に説明のためのものであり、如何なる点に関しても説明の残りの部分を制 限しようとするものではない。 全反応剤は、精製することなく入手したままで使用した。プロトンおよび炭素 NMRスペクトルの全部は、Varian VXR−300またはVXR−400核磁 気共鳴スペクトル分析機で得た。 下記の例は本発明のインヒビター化合物および本発明のインヒビター化合物の 製造に有用な中間体化合物の製造を例示するものである。 例1 2S−[ビス(フェニルメチル)アミノ]ベンゼンプロパノールの製造 方法1:N,N−ビス(フェニルメチル)−L−フェニルアラニンフェニルメチ ルエステルのDIBAL還元からの2S−[ビス(フェニルメチル)アミノ]ベ ンゼンプロパノール 工程1: 水(500ml)中のL−フェニルアラニン(50.0g,0.302モル)、 水酸化ナトリウム(24.2g,0.605モル)および炭酸カリウム(83. 6g,0.605モル)の溶液を、97℃に加熱した。ベンジルブロマイド(1 08.5ml,0.605モル)を次いでゆっくり添加した(添加時間:〜25分 間)。この混合物を97℃で窒素雰囲気下に30分間撹拌した。この溶液を室温 まで冷却させ、次いでトルエン(2×250ml)により抽出した。集めた有機層 を水およびブラインで洗浄し、硫酸マグネシウム上で乾燥させ、濾過し、次いで 油状物に濃縮した。この生成物の同定は下記のとおりにして確認した。分析用T LC(10%酢酸エチル/ヘキサン、シリカゲル)は、Rf値=0.32に所望 のトリベンジル化化合物、N,N−ビス(フェニルメチル)−L−フェニルアラ ニンフェニルメチルエステルである主要成分を示した。この化合物はカラムクロ マトグラフイ(シリカゲル、15%酢酸エチル/ヘキサン)により精製すること ができる。通常、この生成物は、さらに精製することなく後続の工程で直接使用 するのに充分の純度を有する。1H NMRスペクトルは公開刊行物と一致した 。1H NMR(CDCl3)δ,3.00および3.14(ABX−系、2H,JAB =14.1Hz,JAx=7.3HzおよびJBx=5.9Hz),3.54およ び3.92(AB−系、4H,JAB=13.9Hz),3.71(t,1H,J =7.6Hz),5.11および5.23(AB−系、2H,JAB=12.3Hz ),および7.18(m,20H)。EIMS:m/z434(M−1)。 工程2: 前反応からのベンジル化フェニルアラニンフェニルメチルエステル(0.30 2モル)を、トルエン(750ml)中に溶解し、次いで−55℃に冷却させた。 トルエン中のDIBALの1.5M溶液(443.9ml,0.666モル)を、 温度が−55〜−50℃に維持されるような速度で添加した(添加時間:〜1時 間)。この混合物を窒素雰囲気下に20分間撹拌し、次いでメタノール(37ml )をゆっくり添加することによって−55℃で冷却させた。この冷たい溶液を次 いで、冷たい(5℃)1.5N HCl溶液(1.8リットル)中に注ぎ入れた 。沈殿した固形物(約138g)を濾別し、次いでトルエンで洗浄した。この固 形生成物をトルエン(400ml)と水(100ml)との混合物中に懸濁した。こ の混合物を5℃に冷却させ、次いで2.5N NaOH(186ml)で処理し、 次いで室温で撹拌して、固形物を溶解させた。このトルエン層を水性層から分離 し、水およびブラインで洗浄し、硫酸マグネシウム上で乾燥させ、濾過し、次い で75mlの容積まで濃縮した(89g)。この残留物に酢酸エチル(25ml)お よびヘキサン(25ml)を添加すると、所望のアルコール生成物が結晶化し始め た。30分後に、追加のヘキサン50mlを添加して、結晶化をさらに促進させた 。2回目の収穫物(5.6g)が母液の再濾過により単離された。2回の収穫物 を集め、酢酸エチル(20ml)およびヘキサン(30ml)から再結晶させ、βS −2 −[ビス(フェニルメチル)アミノ]ベンゼンプロパノール40gを得た、L− フェニルアラニンからの収率40%。濃縮した母液の再結晶から追加の生成物7 g(7%)が得られた。生成物のTLC:Rf=0.23(10%酢酸エチル/ ヘキサン、シリカゲル);1H NMR(CDCl3)δ,2.44(m,1H), 3.09(m,2H),3.33(m,1H),3.48および3.92(AB −系、4H,JAB=13.3Hz),3.52(m,1H)および7.23(m, 15H);[α]D 25+42.4(c 1.45,CH2Cl2);DSC: 77 .67℃;分析値:C2325ONに対する計算値:C,83.34; H,7.6 0;N,4.23。実測値:C,83.43;H,7.59;N,4.22。キ ラル固定相上でのHPLC:Cyclobond I SPカラム(250×4.6mmI. D.),移動相:メタノール/トリエチルアンモニウムアセテート緩衝液pH4. 2(58:42,v/v),流速:0.5ml/分、230nmおよび0℃の温度に おいて検出機で検出。保有時間:11.25分、所望の生成物エナンチオマーの 保有時間:12.5分。 方法2:L−フェニルアラニノールのN,N−ジベンジル化からのβS−2−[ ビス(フェニルメチル)アミノ]ベンゼンプロパノールの製造 L−フェニルアラニノール(176.6g,1.168モル)を、水710ml 中の炭酸カリウム(484.6g,3.506モル)の撹拌溶液に添加した。こ の混合物を窒素雰囲気下に65℃に加熱した。3Aエタノール(305ml)中の ベンジルブロマイド(400g,2.339モル)の溶液を、温度が60〜68 ℃に維持される速度で添加した。この2相溶液を65℃で55分間撹拌し、次い で激しく撹拌しながら10℃に冷却させた。この油状生成物は小型の粒子に固化 した。この生成物を水道水2.0リットルにより稀釈し、次いで5分間撹拌し、 無機副生成物を溶解した。この生成物を減圧濾過により単離し、pHが7になるま で水で洗浄した。得られた粗製生成物を一夜にわたり空気乾燥させ、半乾燥した 固形物(407g)を得た。この固形物を酢酸エチル/ヘプタン(容積により1 :10)1.1リットルから再結晶させた。この生成物を濾過により単離し(− 8℃において)、冷(−10℃)酢酸エチル/ヘプタン(容積により1:10) 1.6リットルで洗浄し、次いで空気乾燥させ、βS−2−[ビス(フェニ ルメチル)アミノ]ベンゼンプロパノール339g(収率88%)を得た、融点 =71.5〜73.0℃。必要に応じて、追加の生成物を母液から得ることがで きる。その他の分析学的特徴は、方法1に記載のとおりにして製造された化合物 と同一であった。 例2 2S−[ビス(フェニルメチル)アミノ]ベンゼンプロパンアルテヒドの製造 方法1: 2S−[ビス(フェニルメチル)アミノ]ベンゼン−プロパノール(200g ,0.604モル)を、トリエチルアミン(300ml,2.15モル)中に溶解 した。この混合物を12℃に冷却し、次いでDMSO(1.6リットル)中の三 酸化硫黄/ピリジン錯体(380g,2.39モル)の溶液を、温度が8〜17 ℃に維持される速度で添加した(添加時間:〜1.0時間)。この溶液を窒素雰 囲気下に室温で1.5時間撹拌した。この時点で、反応はTLC分析(33%酢 酸エチル/ヘキサン、シリカゲル)により完了していた。この反応混合物を氷水 で冷却させ、次いで冷水(10〜15℃)1.6リットルで45分間かけて冷却 させた。精製した溶液を酢酸エチル(2.0リットル)により抽出し、5%クエ ン酸(2.0リットル)およびブライン(2.2リットル)で洗浄し、MgSO4 (280g)上で乾燥させ、次いで濾過した。35〜40℃で回転蒸発器にお いて溶媒を除去し、次いで減圧乾燥させ、2S−[ビス(フェニルメチル)アミ ノ]ベンゼンプロパンアルテヒド198.8gを淡黄色油状物として得た(99 .9%)。得られた粗製生成物は、精製することなく後続の工程で直接使用する のに充分に純粋であった。この化合物の分析データは公開刊行物と一致した。 [α]D 25=−92.9°(c 1.87,CH2Cl2);1H NMR(400 MHz,CDCl3)δ,2.94および3.15(ABX−系、2H,JAB=1 3.9Hz,JAx=7.3HzおよびJBx=6.2Hz),3.56(t,1H,7. 1Hz),3.69および3.82(AB−系、4H,JAB=13.7Hz),7. 25(m,15H)および9.72(s,1H)。C2324NOに対して計算し たHRMS:330.450,実測値:330.1836;分析値:C2323O Nに対する計算値:C,83.86;H,7.04;N,4.25。実測値:C ,83.64;H,7.42;N,4.19。キラル固定相上でのHPLC:( S,S)Pirkle−Whelk−O 1 カラム(250×4.6mmI.D.),移動 相:ヘキサン/イソプロパノール(99.5:0.5,v/v),流速:1.5 ml/分、210nmにおいてUV検出機で検出。所望のS−異性体の保有時間:8 .75分、R−エナンチオマーの保有時間:10.62分。 方法2: ジクロロメタン(240ml)中のオキザリルクロライド(8.4ml,0.09 6モル)の溶液を−74℃に冷却した。ジクロロメタン(50ml)中のDMSO (12.0ml,0.155モル)の溶液を次いで、温度が−74℃に維持される 速度でゆっくり添加した(添加時間:〜1.25時間)。この混合物を5分間撹 拌し、次いでジクロロメタン100ml中のβS−[ビス(フェニルメチル)アミ ノ]ベンゼン−プロパノール(0.074モル)の溶液を添加した(添加時間: 〜20分間、温度:−75℃〜−68℃)。この溶液を窒素雰囲気下に−78℃ で35分間撹拌した。トリエチルアミン(41.2ml,0.295モル)を10 分かけて添加した。この時点で、アンモニウム塩が沈殿した(−78℃〜−68 ℃)。この冷たい混合物を30分間撹拌し、次いで水(225ml)を添加した。 このジクロロメタン層を水性層から分離し、水、ブラインで洗浄し、硫酸マグネ シウム上で乾燥させ、濾過し、次いで濃縮した。この残留物を酢酸エチルおよび ヘキサンで稀釈し、次いで濾過して、アンモニウム塩をさらに分離した。この濾 液を濃縮し、αS−[ビス(フェニルメチル)アミノ]ベンゼンプロパンアルデ ヒドを得た。このアルデヒドは精製することなく後続の工程に移した。 方法3: βS−2−[ビス(フェニルメチル)アミノ]ベンゼンプロパノール1.0g (3.0ミリモル)、N−メチルモルホリン0.531g(4.53ミリモル) 、 分子篩(4A)2.27gおよびアセトニトリル9.1mlの混合物に、テトラプ ロピルアンモニウムペルルテネート(TPAP)53mg(0.15ミリモル)を 添加した。この混合物を室温で40分間撹拌し、次いで減圧で濃縮した。この残 留物を酢酸エチル15ml中に懸濁し、シリカゲルパッドに通して濾過した。この 濾液を減圧濃縮し、約50%のαS−2−[ビス(フェニルメチル)アミノ]ベ ンゼンプロパンアルデヒドを含有する生成物を淡黄色油状物として得た。 方法4: トルエン9.0ml中のβS−2−[ビス(フェニルメチル)アミノ]ベンゼン プロパノール1.0g(3.02ミリモル)の溶液に、2,2,6,6−テトラ メチル−1−ピペリジニルオキシ、フリーラディカル(TEMPO)4.69mg (0.03ミリモル)、臭化ナトリウム0.32g(3.11ミリモル)、酢酸 エチル9.0mlおよび水1.5mlを添加した。この混合物を0℃に冷却させ、次 いで重炭酸ナトリウム0.735g(8.75ミリモル)および水8.53mlを 含有する5%家庭用晒粉2.87mlの水性溶液を25分かけてゆっくり添加した 。この混合物を0℃で60分間撹拌した。晒粉をさらに2回添加し(各回1.4 4ml)、次いで10分間撹拌した。この2相混合物を分離させた。この水性相を 酢酸エチル20mlにより2回抽出した。集めた有機層をヨウ化カリウム25mgお よび水(4.0ml)を含有する溶液4.0ml、10%水性チオ硫酸ナトリウム溶 液20ml、次いでブライン溶液で洗浄した。この有機溶液を硫酸マグネシウム上 で乾燥させ、濾過し、次いで減圧濃縮し、少量の所望のアルデヒド生成物、αS −[ビス(フェニルメチル)アミノ]ベンゼンプロパンアルデヒドを含有する粗 製油状物1.34gを得た。 方法5: 3当量の三酸化硫黄/ピリジン錯体を使用する以外は、本例の方法1に記載の 方法と同一の方法に従い、αS−[ビス(フェニルメチル)アミノ]ベンゼンプ ロパンアルデヒドを匹敵しうる収率で単離した。 例3 N,N−ジベンジル−3(S)−アミノ−1,2−(S)−エポキシ−4−フ ェニルブタンの製造 方法1: テトラヒドロフラン(1.8リットル)中のαS−[ビス(フェニルメチル) アミノ]ベンゼンプロパンアルデヒド(191.7g,0.58モル)およびク ロロヨウドメタン(56.4ml,0.77モル)の溶液を、ステンレス鋼反応器 内で窒素雰囲気下に−30〜−35℃に冷却した(−70℃のようなさらに低温 でも良好に動作するが、温度が温かいほど、大規模操作が容易に達成できる)。 ヘキサン中のn−ブチルリチウムの溶液(1.6M,365ml,0.58モル) を次いで、温度が−25℃以下に維持される速度で添加した。添加後に、この混 合物を−30〜−35℃で10分間撹拌した。反応剤の追加添加を次のように行 った:(1)追加のクロロヨウドメタン(17ml)を添加し、次いでn−ブチル リチウム(110ml)を<−25℃で添加した。添加後に、この混合物を−30 〜−35℃で10分間撹拌した。この操作をもう一度反復した。(2)追加のク ロロヨウドメタン(8.5ml,0.11モル)を添加し、次いでn−ブチルリチ ウム(55ml,0.088モル)を<−25℃で添加した。添加後に、この混合 物を−30〜−35℃で10分間撹拌した。この操作を5回反復した。(3)追 加のクロロヨウドメタン(8.5ml,0.11モル)を添加し、次いでn−ブチ ルリチウム(37ml,0.059モル)を<−25℃で添加した。添加後に、こ の混合物を−30〜−35℃で10分間撹拌した。この操作をもう1度反復した 。外部からの冷却を止め、この混合物を4〜16時間かけて室温まで温めた。こ の時点で、TLC(シリカゲル、20%酢酸エチル/ヘキサン)は反応の完了を 示した。この反応混合物を10℃に冷却させ、次いで温度を23℃以下に維持し な がら、16%塩化アンモニウム溶液1452g(この溶液は水1220ml中に塩 化アンモニウム232gを溶解させることによって調製する)により冷却させた 。この混合物を10分間撹拌し、有機層と水性層とに分離した。この水性層を酢 酸エチル(2×500ml)により抽出した。酢酸エチル層をテトラヒドロフラン 層と一緒に集めた。この集めた溶液を硫酸マグネシウム(220g)上で乾燥さ せ、濾過し、次いで65℃において回転蒸発器上で濃縮した。この褐色油状残留 物を70℃で減圧(0.8バール)において1時間乾燥させ、粗製生成物222 .8gを得た。(この粗製生成物の重量は>100%であった。この生成物はシ リカゲル上で比較的不安定であることから、粗製生成物は通常、精製することな く次の工程で直接使用する)。この粗製混合物のジアステレオマー比をプロトン NMRにより測定した:(2S)/(2R):86:14。この混合物で、少量 エポキシドジアステレオマーおよび主要エポキシドジアステレオマーの特徴をt lc分析(シリカゲル、10%酢酸エチル/ヘキサン)により測定した、それぞ れRf=0.29および0.32。各ジアステレオマーの分析試料をシリカゲル クロマトグラフイ(3%酢酸エチル/ヘキサン)で精製することによって得た。 この特徴を下記に示す: N,N−αS−トリス(フェニルメチル)−2S−オキシランメタンアミン 1H NMR(400MHz,CDCl3)δ,2.49および2.51(AB−系 、1H,JAB=2.82),2.76および2.77(AB−系、1H,JAB= 4.03),2.83(m,2H),2.99および3.03(AB−系、1H ,JAB=10.1Hz),3.15(m,1H),3.73および3.84(AB −系、4H,JAB=14.00),7.21(m,15H);13C NMR(4 00MHz,CDCl3)δ,139.55,129.45,128.42,128 .14,128.09,126.84,125.97,60.32,54.23 ,52.13,45.99,33.76;C2426NO(M+1)に対して計算 したHRMS:344.477,実測値:344.2003。 N,N,αS−トリス(フェニルメチル)−2R−オキシランメタンアミン 1H NMR(300MHz,CDCl3)δ,2.20(m,1H),2.59 (m,1H),2.75(m,2H),2.97(m,1H),3.14 (m,1H),3.85(AB−系、4H),7.25(m,15H);キラル 固定相上でのHPLC:Pirkle−Whelk−O 1 カラム(250×4.6mmI. D.),移動相:ヘキサン/イソプロパノール(99.5:0.5,v/v), 流速:1.5ml/分、210nmにおいてUV検出機で検出。(8)の保有時間: 9.38分、(4)の保有時間:13.75分。 方法2: 粗製アルデヒド0.074モルおよびクロロヨウドメタン(7.0ml,0.0 96モル)のテトラヒドロフラン(285ml)中の溶液を、窒素雰囲気下に−7 8℃に冷却させた。ヘキサン中のn−ブチルリチウムの1.6M溶液(25ml, 0.040モル)を次いで、温度が−75℃に維持される速度で添加した(添加 時間:〜15分)。1回目の添加の後に、追加のクロロヨウドメタン(1.6ml ,0.022モル)を再度添加し、次いでn−ブチルリチウム(23ml,0.0 37モル)を−75℃の温度を維持しながら再度添加した。この混合物を15分 間撹拌した。各反応剤、クロロヨウドメタン(0.70ml,0.010モル)お よびn−ブチルリチウム(5ml,0.008モル)を−75℃で45分かけてさ らに4回添加した。冷却浴を取り除き、この溶液を22℃まで1.5時間かけて 温めた。この混合物を飽和水性塩化アンモニウム溶液300ml中に注ぎ入れた。 このテトラヒドロフラン層を分離した。水性相を酢酸エチルにより抽出した(1 ×300ml)。集めた有機層をブラインで洗浄し、硫酸マグネシウム上で乾燥さ せ、濾過し、次いで濃縮し、褐色油状物(27.4g)を得た。この生成物は精 製することなく後続の工程で使用することができた。所望のジアステレオマーは 、引続く工程で再結晶により精製することができる。この生成物はまた、クロマ トグラフイにより精製することもできる。 方法3: テトラヒドロフラン(1.8リットル)中のαS−[ビス(フェニルメチル) アミノ]ベンゼンプロパンアルデヒド(178.84g,0.54モル)および ブロモクロロメタン(46ml,0.71モル)の溶液を、ステンレス鋼反応器内 で窒素雰囲気下に−30〜−35℃に冷却した(−70℃のようなさらに低温で も良好に動作するが、温度が温かいほど、大規模操作が容易に達成できる)。ヘ キサン中n−ブチルリチウム溶液(1.6M,340ml,0.54モル)を次い で、温度が−25℃以下に維持される速度で添加した。添加後に、この混合物を −30〜−35℃で10分間撹拌した。反応剤の追加添加を次のように行った: (1)追加のブロモクロロメタン(14ml)を添加し、次いでn−ブチルリチウ ム(102ml)を<−25℃で添加した。添加後に、この混合物を−30〜−3 5℃で10分間撹拌した。この操作をもう一度反復した。(2)追加のブロモク ロロメタン(7ml,0.11モル)を添加し、次いでn−ブチルリチウム(51 ml,0.082モル)を<−25℃で添加した。添加後に、この混合物を−30 〜−35℃で10分間撹拌した。この操作を5回反復した。(3)追加のブロモ クロロメタン(7ml,0.11モル)を添加し、次いでn−ブチルリチウム(5 1ml,0.082モル)を<−25℃で添加した。添加後に、この混合物を−3 0〜−35℃で10分間撹拌した。この操作をもう1度反復した。外部からの冷 却を止め、この混合物を4〜16時間かけて室温まで温めた。この時点で、TL C(シリカゲル、20%酢酸エチル/ヘキサン)は反応の完了を示した。この反 応混合物を10℃に冷却させ、次いで温度を23℃以下に維持しながら、16% 塩化アンモニウム溶液1452g(この溶液は水1220ml中に塩化アンモニウ ム232gを溶解させることによって調製する)により冷却させた。この混合物 を10分間撹拌し、有機層と水性層とを分離した。この水性層を酢酸エチル(2 ×500ml)により抽出した。この酢酸エチル層をテトラヒドロフラン層と一緒 に集めた。集めた溶液を硫酸マグネシウム(220g)上で乾燥させ、濾過し、 次いで65℃において回転蒸発器上で濃縮した。この褐色油状残留物を70℃で 減圧(0.8バール)において1時間乾燥させ、粗製物質222.8gを得た。 方法4: 反応温度が−20℃であった以外は本例の方法3に記載の方法と同一の方法に 従った。生成するN,N,αS−トリス(フェニルメチル)−2S−オキシラン メタンアミンは方法3の生成物に比較して純度が低いジアステレオマー混合物で あった。 方法5: 反応温度が−70〜−78℃であった以外は本例の方法3に記載の方法と同一 の方法に従った。生成するN,N,αS−トリス(フェニルメチル)−2S−オ キシランメタンアミンはジアステレオマー混合物であった。この生成物は精製す ることなく後続の工程に直接使用した。 方法6: ブロモクロロメタンおよびn−ブチルリチウムの連続添加を−30〜35℃で 使用した以外は本例の方法3に記載の方法と同一の方法に従った。本例の方法3 に記載の反応および仕上げ処理の後に、N,N,αS−トリス(フェニルメチル )−2S−オキシランメタンアミンが匹敵する収率および純度で単離された。 方法7: クロロヨウドメタンの代わりにジブロモメタンを使用した以外は本例の方法2 に記載の方法と同一の方法に従った。本例の方法2に記載の反応および仕上げ処 理の後に、所望のN,N,αS−トリス(フェニルメチル)−2S−オキシラン メタンアミンが単離された。 例4 N−[3(S)−[N,N−ビス(フェニルメチル)アミノ]−2(R)−ヒ ドロキシ−4−フェニルブチル]−N−イソブチルアミンの製造 イソプロパノール(2.7リットル)(または酢酸エチル)中の粗製N,N− ジベンジル−3(S)−アミノ−1,2(S)−エポキシ−4−フェニルブタン (388.5g.1.13モル)の溶液に、イソブチルアミン(1.7kg,23 .1モル)を2分間かけて添加した。温度は25℃から30℃に上昇した。この 溶液を82℃に加熱し、次いでこの温度で1.5時間撹拌した。この温かい溶液 を65℃で減圧下に濃縮した。この褐色油状残留物を3−リットル フラスコに 移し、減圧(0.8mmHg)で16時間乾燥させ、3S−[N,N−ビス(フェニ ル メチル)アミノ]−4−フェニルブタン−2R−オール450gを粗製油状物と して得た。 少量の粗製生成物をシリカゲルクロマトグラフイ(40%酢酸エチル/ヘキサ ン)により精製することによって所望の主要ジアステレオマー生成物の分析試料 を得た。TLC分析:シリカゲル、40%酢酸エチル/ヘキサン;Rf=0.2 8;HPLC分析:ウルトラスフェアーODSカラム、25%トリエチルアミノ −/ホスフェート緩衝剤pH3−アセトニトリル、流速:1ml/分、UV検出機; 保有時間:7.49分;C28272O(M+1)に対して計算したHRMS: 417.616,実測値:417.2887。少量ジアステレオマー生成物、3 S−[N,N−ビス(フェニルメチル)アミノ]−1−(2−メチルプロピル) アミノ−4−フェニルブタン−2S−オールの分析試料をまた、粗製生成物の少 量の試料をシリカゲルクロマトグラフイ(40%酢酸エチル/ヘキサン)により 精製することによって得た。 例5 N−[3(S)−[N,N−ビス(フェニルメチル)アミノ]−2(R)−ヒ ドロキシ−4−フェニルブチル]−N−イソブチルアミン・シュウ酸塩の製造 粗製3(S)−[N,N−ビス(フェニルメチル)アミノ]−1−(2−メチ ルプロピル)アミノ−4−フェニルブタン−2(R)−オール(39.68g、 これは約25.44g(61.01ミリモル)の3(S),2(R)異性体およ び約4.49g(10.78ミリモル)の3(S),2(S)異性体を含有する )の酢酸エチル(90ml)中の溶液を、メタノール(76ml)中のシュウ酸(8 .08g,89.72ミリモル)の溶液に15分かけて添加した。この混合物を 室温で約2時間撹拌した。固形物を濾別し、酢酸エチルにより抽出し(2× 20ml)、次いで減圧で約1時間乾燥させ、ジアステレオマーとして97%の純 度を有する塩(HPLCピーク領域に基づく)21.86g(70.7%異性体 回収率)を得た。HPLC分析:Vydec−ペプチド/蛋白質C18カラム、25 4nmUV検出機、流速:2ml/分、勾配(A=水中0.05%トリフルオロ酢酸 、B=アセトニトリル中0.05%トリフルオロ酢酸、0分、75%A/25% B、30分、10%A/90%B、35分、10%A/90%B、37分、75 %A/25%B);保有時間:10.68分(3(S),2(R)異性体)およ び9.73分(3(S),2(S)異性体)。融点=174.99℃;微量分析 :計算値:C,71.05%,H,7.50%,N,5.53%;実測値:C, 71.71%,H,7.75%,N,5.39%。 別法として、機械撹拌機および滴下ロートを備えた5000ml丸底フラスコに 、シュウ酸2水和物(119g,0.94モル)を導入した。メタノール(10 00ml)を添加し、次いでこの混合物を撹拌して、溶解を完了させた。酢酸エチ ル中の3(S)−[N,N−ビス(フェニルメチル)アミノ]−1−(2−メチ ルプロピル)アミノ−4−フェニルブタン−2(R)−オールの溶液(1800 ml,0.212gアミノアルコール異性体/ml,0.9160モル)を20分か けて添加した。この混合物を18時間撹拌し、固形生成物を400Gにおける遠 心分離により6部で単離した。各部分を酢酸エチル125mlで洗浄した。この塩 を次いで、採取し、一夜にわたり1トールで乾燥させ、生成物336.3gを得 た(総アミノアルコールに基づき71%)。HPLC/MS(電子スプレイ)は 所望の生成物と一致した(m/z417[M+H]+)。 別法として、粗製3(S)−[N,N−ビス(フェニルメチル)アミノ]−1 −(2−メチルプロピル)アミノ−4−フェニルブタン−2(R)−オール(5 g)をメチル−tert−ブチルエーテル(MTBE)(10ml)中に溶解し、 次いでメタノール(4ml)中のシュウ酸(1g)を添加した。この混合物を約2 時間撹拌した。生成する固形物を濾別し、冷MTBEで洗浄し、次いで乾燥させ 、約98.9%のジアステレオマー純度(HPLCピーク領域に基づく)を有す る白色固形物2.1gを得た。 例6 N−[3(S)−[N,N−ビス(フェニルメチル)アミノ]−2(R)−ヒ ドロキシ−4−フェニルブチル]−N−イソブチルアミン・酢酸塩の製造 メチル−tert−ブチルエーテル(MTBE)中の粗製3(S)−[N,N −ビス(フェニルメチル)アミノ]−1−(2−メチルプロピル)アミノ−4− フェニルブタン−2(R)−オールの溶液(45ml,1.1gアミノアルコール 異性体/ml)に、酢酸(6.9ml)を滴下して添加した。この混合物を室温で約 1時間撹拌した。溶媒を減圧で分離し、約85%のジアステレオマー純度(HP LCピーク領域に基づく)を有する生成物である褐色油状物を得た。この褐色油 状物を下記のとおりに結晶化させた:油状物0.2gを第一の溶剤中に加熱しな がら溶解し、清明な溶液を得た。溶液が混濁し始めるまで、第二の溶剤を添加し 、この混合物を再加熱して、清明にし、約99%ジアステレオマー純度を有する 生成物を接種し、室温まで冷却させ、次いで冷蔵庫で一夜にわたり保存した。こ の結晶を濾別し、第二溶剤で洗浄し、次いで乾燥させた。この結晶のジアステレ オマー純度はHPLCピーク領域から計算した。この結果を表1に示す。 別法として、粗製3(S)−[N,N−ビス(フェニルメチル)アミノ]−1 −(2−メチルプロピル)アミノ−4−フェニルブタン−2(R)−オール(5 0.0g、これは約30.06g(76.95ミリモル)の3(S),2(R) 異性体および約5.66g(13.58ミリモル)の3(S),2(S)異性体 を含有する)を、メチル−tert−ブチルエーテル(45.0ml)中に溶解し た。この溶液に、酢酸(6.90ml,120.6ミリモル)を約10分かけて添 加した。この混合物を室温で約1時間撹拌し、減圧で濃縮した。この油状残留物 をメチル−tert−ブチルエーテル(32ml)およびヘプタン(320ml)か ら再結晶させることにより精製した。この固形物を濾別し、冷ヘプタンで洗浄し 、次いで減圧で約1時間乾燥させ、96%のジアステレオマー純度(HPLCピ ーク領域に基づく)を有する1酢酸塩21.34g(異性体収率58.2%)を 得た。融点=105〜106℃;微量分析:計算値:C,75.53%,H,8 .39%,N,5.87%;実測値:C,75.05%,H,8.75%,N, 5.71%。 例7 N−[3(S)−[N,N−ビス(フェニルメチル)アミノ]−2(R)−ヒ ドロキシ−4−フェニルブチル]−N−イソブチルアミン・L−酒石酸塩の製造 粗製3(S)−[N,N−ビス(フェニルメチル)アミノ]−1−(2−メチ ルプロピル)アミノ−4−フェニルブタン−2(R)−オール(10.48g、 これは約6.72g(16.13ミリモル)の3(S),2(R)異性体および 約1.19g(2.85ミリモル)の3(S),2(S)異性体を含有する)を 、テトラヒドロフラン(10.0ml)中に溶解した。この溶液に、メタノール( 5.0ml)中のL−酒石酸(2.85g,19ミリモル)の溶液を約5分かけて 添加した。この混合物を室温で約10分間撹拌し、減圧で濃縮した。この油状残 留物にメチル−tert−ブチルエーテル(20.0ml)を添加し、この混合物 を室温で約1時間撹拌した。この固形物を濾別し、粗製塩7.50gを得た。こ の粗製塩を室温で酢酸エチルおよびヘプタンから再結晶させることにより精製し 、95%のジアステレオマー純度(HPLCピーク領域に基づく)を有するL− 酒石酸塩4.13g(異性体収率45.2%)を得た。微量分析:計算値:C, 67.76%,H,7.41%,N,4.94%;実測値:C,70.06%, H,7.47%,N,5.07%。 例8 N−[3(S)−[N,N−ビス(フェニルメチル)アミノ]−2(R)−ヒ ドロキシ−4−フェニルブチル]−N−イソブチルアミン・2塩酸塩の製造 粗製3(S)−[N,N−ビス(フェニルメチル)アミノ]−1−(2−メチ ルプロピル)アミノ−4−フェニルブタン−2(R)−オール(10.0g、こ れは約6.41g(15.39ミリモル)の3(S),2(R)異性体および約 1.13g(2.72ミリモル)の3(S),2(S)異性体を含有する)を、 テトラヒドロフラン(20.0ml)中に溶解した。この溶液に、塩酸(20ml, 6.0N)を約5分かけて添加した。この混合物を室温で約1時間撹拌し、次い で減圧で濃縮した。この残留物を0℃でエタノールから再結晶させ、98%のジ アステレオマー純度(HPLCピーク領域に基づく)を有する2塩酸塩3.20 g(異性体収率42.7%)を得た。微量分析:計算値:C,68.64%,H ,7.76%,N,5.72%;実測値:C,68.79%,H,8.07%, N,5.55%。 例9 N−[3(S)−[N,N−ビス(フェニルメチル)アミノ]−2(R)−ヒ ドロキシ−4−フェニルブチル]−N−イソブチルアミン・トルエンスルホン酸 塩の製造 粗製3(S)−[N,N−ビス(フェニルメチル)アミノ]−1−(2−メチ ルプロピル)アミノ−4−フェニルブタン−2(R)−オール(5.0g、これ は約3.18g(7.63ミリモル)の3(S),2(R)異性体および約0. 56g(1.35ミリモル)の3(S),2(S)異性体を含有する)を、メチ ル−tert−ブチルエーテル(10.0ml)中に溶解した。この溶液に、メチ ル−tert−ブチルエーテル(2.0ml)中のトルエンスルホン酸(2.28 g,12ミリモル)の溶液を添加し、次いでメタノール(2.0ml)を約5分か けて添加した。この混合物を室温で約2時間撹拌し、次いで減圧で濃縮した。こ の残留物を0℃においてメチル−tert−ブチルエーテルおよびヘプタンから 再結晶させ、濾過し、冷ヘプタンで洗浄し、次いで減圧で乾燥させ、97%のジ アステレオマー純度(HPLCピーク領域に基づく)を有する1トルエンスルホ ン酸塩1.85g(異性体収率40.0%)を生成した。 例10 N−[3(S)−[N,N−ビス(フェニルメチル)アミノ]−2(R)−ヒ ドロキシ−4−フェニルブチル]−N−イソブチルアミン・メタンスルホン酸塩 の製造 粗製3(S)−[N,N−ビス(フェニルメチル)アミノ]−1−(2−メチ ルプロピル)アミノ−4−フェニルブタン−2(R)−オール(10.68g、 これは約6.85g(16.44ミリモル)の3(S),2(R)異性体および 約1.21g(2.90ミリモル)の3(S),2(S)異性体を含有する)を 、テトラヒドロフラン(10.0ml)中に溶解した。この溶液に、メタンスルホ ン酸(1.25ml,19.26ミリモル)を添加した。この混合物を室温で約2 時間撹拌し、次いで減圧で濃縮した。この油状残留物を0℃でメタノールおよび 水から再結晶させ、濾過し、冷メタノール/水(1:4)で洗浄し、次いで減圧 で乾燥させ、98%のジアステレオマー純度(HPLCピーク領域に基づく)を 有する1メタンスルホン酸塩2.40g(異性体収率28.5%)を得た。 例11 N−ベンジル−L−フェニルアラニノールの製造 方法1: L−フェニルアラニノール(89.51g,0.592モル)を不活性雰囲気 下にメタノール375ml中に溶解し、氷酢酸35.52g(0.592モル)お よびメタノール50mlを添加し、次いでメタノール100ml中のベンズアルデヒ ド62.83g(0.592モル)の溶液を添加した。この混合物を約15℃に 冷却させ、次いでメタノール700ml中のシアノホウ水素化ナトリウム134. 6g(2.14モル)の溶液を、温度を15℃〜25℃に維持しながら、約40 分かけて添加した。この混合物を室温で18時間撹拌した。この混合物を減圧で 濃縮し、次いで2M水酸化アンモニウム溶液1リットルとエーテル2リットルと に分配した。このエーテル層を1M水酸化アンモニウム溶液1リットルで、水5 00mlで2回、次いでブライン500mlで洗浄し、硫酸マグネシウム上で1時間 乾燥させた。エーテル層を濾別し、減圧で濃縮し、粗製固形生成物を酢酸エチル 110mlおよびヘキサン1.3リットルから再結晶させ、N−ベンジル−L−フ ェニルアラニノール115g(収率81%)を白色固形物として得た。 方法2: L−フェニルアラニノール(5g,33ミリモル)およびベンズアルデヒド3 .59g(33.83ミリモル)を、パール(Parr)振盪機内で不活性雰囲気下に 3Aエタノール55ml中に溶解し、この混合物を60℃に2.7時間温めた。こ の混合物を約25℃に冷却させ、次いで炭素上5%パラジウム0.99gを添加 し、この混合物を60psi の水素圧および40℃で10時間水素添加した。触媒 を濾別し、生成物を減圧で濃縮し、この粗製固形生成物をヘプタン150mlから 再結晶させ、N−ベンジル−L−フェニルアラニノール3.83g(収率48% )を白色固形物として得た。 例12 N−(t−ブトキシカルボニル)−N−ベンジル−L−フェニルアラニノール の製造 N−ベンジル−L−フェニルアラニノール(2.9g,12ミリモル)をトリ エチルアミン3mlおよびメタノール27mlに溶解し、次いでジ−tert−ブチ ルジカーボネート5.25g(24.1ミリモル)を添加した。この混合物を6 0℃に35分間温め、次いで減圧濃縮した。この残留物を酢酸エチル150mlに 溶解し、次いで冷(0〜5℃)稀塩酸(pH2.5〜3)10ml、水15ml、ブラ イン10mlで洗浄し、硫酸マグネシウム上で乾燥させ、濾過し、次いで減圧濃縮 した。この粗製油状生成物をシリカゲルクロマトグラフイ(溶離液として酢酸エ チル:ヘキサン、12:3)により精製し、無色油状物3.98g(収率97% )を得た。 例13 N−(t−ブトキシカルボニル)−N−ベンジル−L−フェニルアラニナルの 製造 方法1: トルエン2.8ml中のN−(t−ブトキシカルボニル)−N−ベンジル−L− フェニルアラニノール0.32g(0.94ミリモル)の溶液に、2,2,6, 6−テトラメチル−1−ピペリジニルオキシ、フリーラジカル(TEMPO)2 ,4mg(0.015ミリモル)、臭化ナトリウム0.1g(0.97ミリモル) 、 酢酸エチル2.8mlおよび水0.34mlを添加した。この混合物を0℃に冷却さ せ、次いで重炭酸ナトリウム0.23g(3.0ml,2.738ミリモル)を含 有する5%家庭用晒粉4.2mlの水性溶液を30分かけてゆっくり添加した。こ の混合物を0℃で10分間撹拌した。さらに3回、晒粉を添加し(各回0.4ml )、各添加後に10分間撹拌し、出発物質の全部を消費させた。この2相混合物 を分離させた。この水性層はトルエン8mlで抽出した。集めた有機層をヨウ化カ リウム0.075g、重硫酸ナトリウム(0.125g)および水(1.1ml) を含有する溶液1.25ml、10%水性チオ硫酸ナトリウム溶液1.25ml、pH 7リン酸塩緩衝剤1.25mlおよびブライン溶液1.5mlで洗浄した。この有機 溶液を硫酸マグネシウム上で乾燥させ、濾過し、次いで減圧で濃縮し、N−(t −ブトキシカルボニル)−N−ベンジル−L−フェニルアラニナル0.32g( 収率100%)を得た。 方法2: トリエチルアミン3.8ml(27.2ミリモル)中のN−(t−ブトキシカル ボニル)−N−ベンジル−L−フェニルアラニノール2.38g(6.98ミリ モル)の溶液に、10℃において、ジメチルスルホキシド17ml中の三酸化硫黄 /ピリジン錯体4.33g(27.2ミリモル)の溶液を添加した。この混合物 を室温まで温め、次いで1時間撹拌した。水(16ml)を加え、この混合物を酢 酸エチル20mlにより抽出した。この有機層を5%クエン酸20ml、水20ml、 ブライン20mlで洗浄し、硫酸マグネシウム上で乾燥させ、次いで濾過した。こ の濾液を減圧で濃縮し、N−(t−ブトキシカルボニル)−N−ベンジル−L− フェニルアラニナル2.37g(収率100%)を得た。 例14 3(S)−[N−(t−ブトキシカルボニル)−N−ベンジルアミノ]−1, 2−(S)−エポキシ−4−フェニルブタンの製造 方法1: THF35ml中のN−(t−ブトキシカルボニル)−N−ベンジル−L−フェ ニルアラニナル2.5g(7.37ミリモル)およびクロロヨウドメタン0.7 2mlの溶液を−78℃に冷却させた。温度を−70℃以下に維持しながら、n− ブチルリチウムの溶液(ヘキサン中1.6M,7.42ミリモル)4.64mlを ゆっくり添加した。この混合物を−70〜−75℃で10分間撹拌した。追加の クロロヨウドメタン0.22mlおよびn−ブチルリチウム1.4mlを2回順次添 加し、各添加後に、混合物を−70〜−75℃で10分間撹拌した。追加のクロ ロヨウドメタン0.11mlおよびn−ブチルリチウム0.7mlを4回順次添加し 、各添加後に、混合物を−70〜−75℃で10分間撹拌した。この混合物を室 温に3.5時間温めた。生成物を氷冷水24mlにより5℃以下に冷却した。2相 層を分離させ、水性層を酢酸エチル30mlにより抽出した。集めた有機層を水1 0mlで3回、次いでブライン10mlで洗浄し、硫酸ナトリウム上で乾燥させ、濾 過し、次いで減圧で濃縮し、黄色粗製油状物2.8gを得た。この粗製油状物( 収率>100%)はジアステレオマー形エポキシドN,αS−ビス(フェニルメ チル)−N−(t−ブトキシカルボニル)−2S−オキシランメタンアミンおよ びN,αS−ビス(フェニルメチル)−N−(t−ブトキシカルボニル)−2R −オキシランメタンアミンの混合物であった。この粗製混合物は精製することな く後続の工程で直接使用した。 方法2: アセトニトリル45ml中のトリメチルスルホキソニウムヨウダイド2.92g (13.28ミリモル)の溶液に、カリウムt−ブトキシド1.49g(13. 28ミリモル)を添加した。アセトニトリル18ml中のN−(t−ブトキシカル ボニル)−N−ベンジル−L−フェニルアラニナル3.0g(8.85ミリモル )の溶液を添加し、混合物を室温で1時間撹拌した。この混合物を水150mlで 稀釈し、次いで酢酸エチル200mlで2回抽出した。この有機層を集め、水10 0ml、ブライン50mlで洗浄し、硫酸ナトリウム上で乾燥させ、濾過し、次い で減圧で濃縮し、黄色粗製油状物3.0gを得た。この粗製生成物をシリカゲル クロマトグラフイ(溶離液として酢酸エチル/ヘキサン:1:8)により精製し 、2種のジアステレオマーの混合物、N,αS−ビス(フェニルメチル)−N− (t−ブトキシカルボニル)−2S−オキシランメタンアミンおよびN,αS− ビス(フェニルメチル)−N−(t−ブトキシカルボニル)−2R−オキシラン メタンアミンの混合物1.02g(収率32.7%)を得た。 方法3: アセトニトリル18ml中のトリメチルスルホニウムヨウダイド0.90g(4 .42ミリモル)の懸濁液に、カリウムt−ブトキシド0.495g(4.42 ミリモル)を添加した。アセトニトリル7ml中のN−(t−ブトキシカルボニル )−N−ベンジル−L−フェニルアラニナル1.0g(2.95ミリモル)の溶 液を添加し、混合物を室温で1時間撹拌した。この混合物を水80mlで稀釈し、 次いで酢酸エチル80mlで2回抽出した。この有機層を集め、水100ml、ブラ イン30mlで洗浄し、硫酸ナトリウム上で乾燥させ、濾過し、次いで減圧で濃縮 し、黄色粗製油状物1.04gを得た。この粗製生成物は、2種のジアステレオ マーの混合物、N,αS−ビス(フェニルメチル)−N−(t−ブトキシカルボ ニル)−2S−オキシランメタンアミンおよびN,αS−ビス(フェニルメチル )−N−(t−ブトキシカルボニル)−2R−オキシランメタンアミンの混合物 であった。 例15 3(S)−[N−(t−ブトキシカルボニル)−N−(フェニルメチル)アミ ノ]−1−(2−メチルプロピル)アミノ−4−フェニルブタン−2R−オール の製造 イソプロパノール0.98ml中の粗製エポキシド500mg(1.42ミリモル )(これは2種のジアステレオマー、N,αS−ビス(フェニルメチル)−N− (t−ブトキシカルボニル)−2S−オキシランメタンアミンおよびN,αS− ビス(フェニルメチル)−N−(t−ブトキシカルボニル)−2R−オキシラン メタンアミンの混合物である)の溶液に、イソブチルアミン0.71ml(7.1 4ミリモル)を添加した。この混合物を85℃〜90℃で還流下に1.5時間温 めた。この混合物を減圧で濃縮し、この油状生成物をシリカゲルクロマトグラフ イ(溶離溶剤としてクロロホルム:メタノール、100:6)により精製し、3 (S)−[N−(t−ブトキシカルボニル)−N−(フェニルメチル)アミノ] −1−(2−メチルプロピル)アミノ−4−フェニルブタン−2R−オール33 0mgを無色油状物として得た(収率54.5%)。3(S)−[N−(t−ブト キシカルボニル)−N−(フェニルメチル)アミノ]−1−(2−メチルプロピ ル)アミノ−4−フェニルブタン−2S−オールがまた単離された。出発物質と して精製したN,αS−ビス(フェニルメチル)−N−(t−ブトキシカルボニ ル)−2S−オキシランメタンアミンを使用すると、3(S)−[N−(t−ブ トキシカルボニル)−N−(フェニルメチル)アミノ]−1−(2−メチルプロ ピル)アミノ−4−フェニルブタン−2R−オールがクロマトグラフイによる精 製の後に、86%の収率で単離された。 例16 3(S)−(N−t−ブトキシカルボニル)アミノ−4−フェニルブタン−1 ,2R−ジオールの製造 THF50ml中の2S−(N−t−ブトキシカルボニル)アミノ−1S−ヒド ロキシ−3−フェニルブタン酸1g(3.39ミリモル)(この化合物は日本火 薬、日本国から入手できる)の溶液に0℃において、温度を5℃以下に維持しな がらボラン−THF錯体(液体、THF中1.0M)50mlを添加した。この反 応混合物を室温まで温め、16時間撹拌した。この混合物を0℃に冷却させ、次 いで温度を12℃以下に維持しながら、水20mlをゆっくり添加し、過剰のBH3 を分解させ、かつまた生成混合物を冷却させた。この冷却した混合物を20分 間撹拌し、次いで減圧で濃縮した。生成した混合物を酢酸エチル60mlで3回抽 出した。有機層を集め、水20ml、飽和塩化ナトリウム溶液25mlで洗浄し、次 いで減圧で濃縮し、粗製油状物1.1gを得た。この粗製生成物をシリカゲルク ロマトグラフイ(溶離液としてクロロホルム:メタノール、10:6)により精 製し、3(S)−(N−t−ブトキシカルボニル)アミノ−4−フェニルブタン −1,2R−ジオール900mgを白色固形物として得た(収率94.4%)。 例17 3S−(N−t−ブトキシカルボニル)アミノ−2R−ヒドロキシ−4−フェ ニルブト−1−イル トルエンスルホネートの製造 ピリジン13ml中の3(S)−(N−t−ブトキシカルボニル)アミノ−4− フェニルブタン−1,2R−ジオール744.8mg(2.65ミリモル)の溶液 に、トルエンスルホニルクロライド914mgを一度に添加した。この混合物を0 ℃〜5℃で5時間撹拌した。この反応混合物に酢酸エチル6.5mlと5%水性重 炭酸ナトリウム溶液15mlとの混合物を添加し、次いで5分間撹拌した。この生 成混合物を、酢酸エチル50mlで3回抽出した。この有機層を集め、次いで水1 5ml、飽和塩化ナトリウム溶液10mlで洗浄し、次いで減圧で濃縮し、黄色の重 質固形物約1.1gを得た。この粗製生成物をシリカゲルクロマトグラフイ(溶 離液として酢酸エチル/ヘキサン、1:3)により精製し、3S−(N−t−ブ トキシカルボニル)アミノ−2R−ヒドロキシ−4−フェニルブト−1−イルト ルエンスルホネート850mgを白色固形物として得た(収率74%)。 例18 3S−[N−(t−ブトキシカルボニル)アミノ]−1−(2−メチルプロピ ル)アミノ−4−フェニルブタン−2R−オールの製造 イソプロパノール0.143mlおよびトルエン0.5ml中の3S−(N−t− ブトキシカルボニル)アミノ−2R−ヒドロキシ−4−フェニルブト−1−イル トルエンスルホネート90mg(0.207ミリモル)の溶液に、イソブチルア ミン0.103ml(1.034ミリモル)を添加した。この混合物を80〜85 ℃に温め、次いで1.5時間撹拌した。生成した混合物を40〜50℃で減圧下 に濃縮し、次いでシリカゲルクロマトグラフイ(溶離液としてクロロホルム/メ タノール、10:1)により精製し、3S−[N−(t−ブトキシカルボニル) アミノ]−1−(2−メチルプロピル)アミノ−4−フェニルブタン−2R−オ ール54.9mg(収率76.8%)を白色固形物として得た。 例19 N−[3(S)−ベンジルオキシカルボニルアミノ−2(R)−ヒドロキシ− 4−フェニルブチル]−N−イソブチルアミンの製造 工程A: メタノール807mlとテトラヒドロフラン807mlとの混合物中のN−ベンジ ルオキシカルボニル−L−フェニルアラニンクロロメチルケトン75.0g(0 .226モル)の溶液に、−2℃において、固形ホウ水素化ナトリウム13.1 7g(0.348モル、1.54当量)を100分かけて添加した。溶媒を40 ℃において減圧で分離し、残留物を酢酸エチル(約1リットル)中に溶解した。 この溶液を1M硫酸水素ナトリウム、飽和重炭酸ナトリウム、次いで飽和塩化ナ トリウム溶液により順次洗浄した。無水硫酸マグネシウム上で乾燥させ、次いで 濾過した後に、この溶液を減圧で分離した。生成する油状物に、ヘキサン(約1 リットル)を添加し、この混合物を撹拌しながら60℃に温めた。室温に冷却さ せた後に、固形物を採取し、次いでヘキサン2リットルで洗浄した。生成する固 形物を熱い酢酸エチルおよびヘキサンから再結晶させ、N−ベンジルオキシカル ボニル−3(S)−アミノ−1−クロロ−4−フェニル−2(S)−ブタノール 32.2g(収率43%)を得た、融点:150−151℃およびM+Li+= 340。 工程B: 無水エタノール968ml中の水酸化カリウム6.52g(0.116モル、1 .2当量)の溶液に、室温において、N−CBZ−3(S)−アミノ−1−クロ ロ−4−フェニル−2(S)−ブタノール32.3g(0.097モル)を添加 した。15分間撹拌した後に、溶媒を減圧で分離し、この固形物を次いでメチレ ンクロライド中に溶解した。水で洗浄し、硫酸マグネシウム上で乾燥させ、濾過 し、次いで蒸留した後に、白色固形物27.9gが得られた。熱い酢酸エチルお よびヘキサンから再結晶させ、N−ベンジルオキシカルボニル−3(S)−アミ ノ−1,2(S)−エポキシ−4−フェニルブタン22.3g(収率77%)を 得た、融点:102〜103℃およびMH+=298。 工程C: イソプロピルアルコール10ml中のN−ベンジルオキシカルボニル−3(S) −アミノ−1,2(S)−エポキシ−4−フェニルブタン(1.00g,3.3 6ミリモル)およびイソブチルアミン(4.90g,67.2ミリモル、20当 量)の溶液を、1.5時間加熱還流させた。この溶液を室温まで冷却させ、減圧 で濃縮し、次いで撹拌されているヘキサン100ml中に注ぎ入れると、生成物が 溶液から結晶化した。この生成物を濾過により単離し、空気乾燥させ、N−[( 3(S)−フェニルメチルカルバモイル)アミノ−2(R)−ヒドロキシ−4− フェニルブチル]−N−[(2−メチルプロピル)]アミン1.18g、95% を得た、C223023、融点=108.0〜109.5℃、MH+m/z=3 71。 例20 フェニルメチル [2R−ヒドロキシ−3−[(3−メチルブチル)(フェニ ルスルホニル)アミノ]−1S−(フェニルメチル)プロピル]カルバメートの 製造 N−[3(S)−ベンジルオキシカルボニルアミノ−2(R)−ヒドロキシ− 4−フェニルブチル]−N−イソアミルアミン(1.47g,3.8ミリモル) 、トリエチルアミン(528μl,3.8ミリモル)およびベンゼンスルホニル クロライド(483μl,3.8ミリモル)の反応から、フェニルメチル[2R −ヒドロキシ−3−[(3−メチルブチル)(フェニルスルホニル)アミノ]− 1S−(フェニルメチル)プロピル]カルバメートを得た。シリカゲル上でカラ ムクロマトグラフイに付し、1%エタノール含有クロロホルムにより溶離して、 純粋な生成物を得た。分析値:C293625Sに対する計算値:C,66.3 9;H,6.92;N,5.34。実測値:C,66.37;H,6.93;N ,5.26。 例21 2R−ヒドロキシ−3−[[(4−アミノフェニル)スルホニル](2−メチ ルプロピル)アミノ]−1S−(フェニルメチル)プロピルアミンの製造 工程A:カルバミン酸、2R−ヒドロキシ−3−[[(4−ニトロフェニル)ス ルホニル](2−メチルプロピル)アミノ]−1S−(フェニルメチル)プロピ ル−、フェニルメチルエステルの製造 無水メチレンクロライド50ml中のN−[3S−ベンジルオキシカルボニルア ミノ−2(R)−ヒドロキシ−4−フェニル]−N−イソブチルアミン4.0g (10.8ミリモル)の溶液に、トリエチルアミン4.5ml(3.27g,32 4ミリモル)を添加した。この溶液を0℃に冷却させ、4−ニトロベンゼンスル ホニルクロライド2.63g(11.9ミリモル)を添加し、0℃で30分間、 次いで室温で1時間撹拌した。酢酸エチルを添加し、5%クエン酸、飽和重炭酸 ナトリウム、ブラインで洗浄し、乾燥させ、次いで濃縮し、粗製生成物5.9g を得た。この生成物を酢酸エチル/ヘキサンから再結晶させ、純粋なカルバミン 酸、[2R−ヒドロキシ−3−[[(4−ニトロフェニル)スルホニル](2− メチルプロピル)アミノ]−1S−(フェニルメチル)プロピル−、フェニルメ チルエステル4.7gを得た、m/e=556(M+H)。 工程B:2R−ヒドロキシ−3−[[(4−アミノフェニル)スルホニル](2 −メチルプロピル)アミノ]−1S−(フェニルメチル)プロピルアミンの製造 酢酸エチル20ml中のカルバミン酸、2R−ヒドロキシ−3−[[(4−ニト ロフェニル)スルホニル](2−メチルプロピル)アミノ]−1S−(フェニル メチル)プロピル−、フェニルメチルエステル3.0g(5.4ミリモル)の溶 液を、35psigの水素圧下に炭素上10%パラジウム触媒1.5g上で3.5時 間水素添加に付した。触媒を濾過により分離し、この溶液を濃縮し、所望の2R −ヒドロキシ−3−[[(4−アミノフェニル)スルホニル](2−メチルプロ ピル)アミノ]−1S−(フェニルメチル)プロピルアミン2.05gを得た、 m/e=392(M+H)。 例22 2R−ヒドロキシ−3−[[(3−アミノフェニル)スルホニル](2−メチ ルプロピル)アミノ]−1S−(フェニルメチル)プロピルアミンの製造 工程A:カルバミン酸、[2R−ヒドロキシ−3−[(3−ニトロフェニルスル ホニル)(2−メチルプロピル)アミノ]−1S−(フェニルメチル)プロピル −、フェニルメチルエステルの製造 無水メチレンクロライド15ml中のN−[3S−ベンジルオキシカルボニルア ミノ−2(R)−ヒドロキシ−4−フェニル]−N−イソブチルアミン1.1g (3.0ミリモル)の溶液に、トリエチルアミン1.3ml(0.94g,9.3 ミリモル)を添加した。この溶液を0℃に冷却させ、次いで3−ニトロベンゼン スルホニルクロライド0.67g(3.0ミリモル)を添加し、0℃で30分間 、次いで室温で1時間撹拌した。酢酸エチルを添加し、5%クエン酸、飽和重炭 酸ナトリウム、ブラインで洗浄し、乾燥させ、次いで濃縮し、粗製生成物1.7 4gを得た。この生成物を酢酸エチル/ヘキサンから再結晶させ、純粋なカルバ ミン酸、[2R−ヒドロキシ−3−[(3−ニトロフェニルスルホニル)(2− メチルプロピル)アミノ]−1S−(フェニルメチル)プロピル−、フェニルメ チルエステル1.40gを得た、m/e=562(M+Li)。 工程B:[2R−ヒドロキシ−3−[[(3−アミノフェニル)スルホニル]( 2−メチルプロピル)アミノ]−1S−(フェニルメチル)プロピルアミンの 製造 1:1メタノール/テトラヒドロフラン40ml中のカルバミン酸、[2R−ヒ ドロキシ−3−[(3−ニトロフェニルスルホニル)(2−メチルプロピル)ア ミノ]−1S−(フェニルメチル)プロピル−、フェニルメチルエステル1.3 3g(2.5ミリモル)の溶液を、40psigの水素圧下に炭素上10%パラジウ ム触媒0.70g上で1.5時間水素添加に付した。触媒を濾過により分離し、 この溶液を濃縮し、所望の[2R−ヒドロキシ−3−[[(3−アミノフェニル )スルホニル](2−メチルプロピル)アミノ]−1S−(フェニルメチル)プ ロピルアミン0.87gを得た。 例23 2R−ヒドロキシ−3−[[(2,3−ジヒドロベンゾフラン−5−イル)ス ルホニル](2−メチルプロピル)アミノ]−1S−(フェニルメチル)プロピ ルアミンの製造 工程A:5−(2,3−ジヒドロベンゾフラニル)スルホニルクロライドの製造 無水N,N−ジメチルホルムアミド3.35gの溶液に、0℃で窒素雰囲気下 に、スルフリルクロライド6.18gを添加し、固形物を生成させた。15分間 撹拌した後に、2,3−ジヒドロベンゾフラン4.69gを添加し、この混合物 を100℃で2時間加熱した。この反応混合物を冷却させ、氷水中に注ぎ入れ、 メチレンクロライドにより抽出し、硫酸マグネシウム上で乾燥させ、濾過し、次 いで粗製生成物に濃縮した。この生成物を酢酸エチルから再結晶させ、5−(2 ,3−ジヒドロベンゾフラニル)スルホニルクロライド2.45gを得た。 工程B:カルバミン酸、2R−ヒドロキシ−3−[[(2,3−ジヒドロベンゾ フラン−5−イル)スルホニル](2−メチルプロピル)アミノ]−1S−(フ ェニルメチル)プロピル−,フェニルメチルエステルの製造 無水メチレンクロライド20ml中のN−[3S−ベンジルオキシカルボニルア ミノ−2R−ヒドロキシ−4−フェニル]−N−イソブチルアミン1.11g( 3.0ミリモル)の溶液に、トリエチルアミン1.3ml(0.94g,9.3ミ リモル)を添加した。この溶液を0℃に冷却させ、5−(2,3−ジヒドロベン ゾフラニル)スルホニルクロライド0.66gを添加し、0℃で15分間撹拌し 、次いで室温で2時間撹拌した。酢酸エチルを添加し、5%クエン酸、飽和重炭 酸ナトリウム、ブラインで洗浄し、乾燥させ、次いで濃縮し、粗製生成物1.6 2gを得た。この生成物をジエチルエーテルから再結晶させ、純粋なカルバミン 酸、[2R−ヒドロキシ−3−[[(2,3−ジヒドロベンゾフラン−5−イル )スルホニル](2−メチルプロピル)アミノ]−1S−(フェニルメチル)プ ロピル−,フェニルメチルエステル1.17gを得た。 工程C:[2R−ヒドロキシ−3−[[(2,3−ジヒドロベンゾフラン−5− イル)スルホニル](2−メチルプロピル)アミノ]−1S−(フェニルメチル )プロピルアミンの製造 テトラヒドロフラン30ml中のカルバミン酸、[2R−ヒドロキシ−3−[[ (2,3−ジヒドロベンゾフラン−5−イル)スルホニル](2−メチルプロピ ル)アミノ]−1S−(フェニルメチル)プロピル−,フェニルメチルエステル 2.86gの溶液を、炭素上10%パラジウム0.99gの存在下に50psigの 水素の下で16時間水素添加した。触媒を濾過により除去し、この濾液を濃縮し 、所望の[2R−ヒドロキシ−3−[[(2,3−ジヒドロベンゾフラン−5− イル)スルホニル](2−メチルプロピル)アミノ]−1S−(フェニルメチル )プロピルアミン1.99gを得た。 例24 N−[(1,1−ジメチルエトキシ)カルボニル]−N−[2−メチルプロピ ル]−3S−[N1−(フェニルメトキシカルボニル)アミノ]−2R−ヒドロ キシ−4−フェニルブチルアミンの製造 無水テトラヒドロフラン67ml中のN−[3S−[(フェニルメトキシカルボ ニル)アミノ]−2R−ヒドロキシ−4−フェニルブチル]−2−メチルプロピ ルアミン7.51g(20.3ミリモル)の溶液に、トリエチルアミン2.25 g(22.3ミリモル)を添加した。0℃に冷却させた後に、ジ−tert−ブ チルジカーボネート4.4g(20.3ミリモル)を添加し、次いで室温で21 時間撹拌を続けた。揮発性物質を減圧で除去し、酢酸エチルを添加し、次いで5 %クエン酸、飽和重炭酸ナトリウム、ブラインで洗浄し、硫酸マグネシウム上で 乾燥させ、濾過し、次いで濃縮し、粗製生成物9.6gを得た。30%酢酸エチ ル/ヘキサンを使用し、シリカゲル上でクロマトグラフイに付し、純粋なN−[ [3S−(フェニルメチルカルバモイル)アミノ]−2R−ヒドロキシ−4−フ ェニル]−1−[(2−メチルプロピル)アミノ−2−(1,1−ジメチルエト キシ)カルボニル]ブタン8.2gを得た、質量スペクトルm/e=477(M +Li)。 例25 1−[2R−ヒドロキシ−3−[N2−(3−メチル−ブチル)−N2−(フ ェニルスルホニル)アミノ]−1S−(フェニルメチル)プロピル]−2S−ア ミノ−3,3−ジメチルブタンアミドの製造 工程A: DMF(10ml)中のN−CBZ−L−tert−ロイシン(450mg,1. 7ミリモル)およびN−ヒドロキシベンゾトリアゾール(260mg,1.7ミリ モル)の溶液に、EDC(307mg,1.6ミリモル)を添加した。この溶液を 室温で60分間撹拌し、次いでDMF(2ml)中の2R−ヒドロキシ−3−[N −(3−メチルブチル)−N−(フェニルスルホニル)アミノ]−1S−(フェ ニルメチル)プロピルアミン(585mg,1.5ミリモル)を添加した。この反 応混合物を室温で16時間撹拌し、次いで重炭酸ナトリウムの50%飽和溶液( 200ml)中に注ぎ入れた。この水性混合物を酢酸エチルにより3回抽出した( 50ml)。集めた酢酸エチル層を水(50ml)および飽和NaCl溶液(50ml )で洗浄し、硫酸マグネシウム上で乾燥させた。濾過し、次いで濃縮し、生成し た油状物をシリカゲル(50mg)上でクロマトグラフイに付し、ヘキサン中20 %酢酸エチルにより溶離した。フェニルメチル[1S−[[[2R−ヒドロキシ −3−[(3−メチルブチル)(フェニルスルホニル)アミノ]−1S−(フェ ニルメチル)プロピル]アミノ]カルボニル]−2,2−ジメチルプロピル]カ ルバメートが固形物として得られた;分析値:C354736Sに対する計算値 :C,65.91;H,7.43;N,6.59、実測値:C,65.42;H ,7.24;N,6.55。 工程B: メタノール(15ml)中のフェニルメチル [1S−[[[2R−ヒドロキシ −3−[(3−メチルブチル)(フェニルスルホニル)アミノ]−1S−(フェ ニルメチル)プロピル]アミノ]カルボニル]−2,2−ジメチルプロピル]カ ルバメート(200mg,0.31ミリモル)の溶液を、炭素上10%パラジウム 上で2時間水素添加した。この反応混合物をケイソウ土に通して濾過し、次いで 油状物に濃縮した。 例26 1−[2R−ヒドロキシ−3−[N2−(2−メチルブチル)−N2−(フェ ニルスルホニル)アミノ]−1S−(フェニルメチル)プロピル]−2S− アミノ−3S−メチルペンタンアミド・塩酸塩の製造 工程A: ジオキサン27ml中の2R−ヒドロキシ−3−[N−(3−メチルブチル)− N−(フェニルスルホニル)アミノ]−1S−(フェニルメチル)プロピルアミ ン(2.79g,7.1ミリモル)の溶液に、N−t−ブトキシカルボニル−L −イソロイシン−N−ヒドロキシスクシンアミドエステル(2.3g,7.1ミ リモル)を添加し、この反応混合物を窒素雰囲気下に16時間撹拌した。この反 応の内容物を減圧で濃縮し、残留物を酢酸エチルに溶解し、硫酸水素カリウム( 5%水性)、飽和重炭酸ナトリウムおよび飽和塩化ナトリウムで洗浄した。この 有機層を硫酸マグネシウム上で乾燥させ、濾過し、次いで濃縮し、粗製生成物4 .3gを得た。この生成物を3:1酢酸エチル:ヘキサンを使用するクロマトグ ラフイに付し、ペンタンアミド、2S−[[(1,1−ジメチルエトキシ)カル ボニル)アミノ]−N−[2R−ヒドロキシ−3−[(3−メチルブチル)フェ ニルスルホニル)アミノ]−1S−(フェニルメチル)プロピル]−3−メチル −3.05g(72%収率)を生成した。 工程B: 工程Aからの生成物(3.05g,5.0ミリモル)をジオキサン中4N H Cl20ml中に溶解し、次いで窒素雰囲気下に、1.5時間撹拌した。この内容 物を減圧で濃縮し、次いでジエテルエーテルとすり混ぜた。この粗製塩酸塩を1 mmHgで圧縮乾燥させ、生成物2.54gをその塩酸塩として得た。 例27 1−[2R−ヒドロキシ−3−[N2−(2−メチルプロピル)−N2−(4 −メトキシフェニホニル)アミノ]−1S−(フェニルメチル)プロピル]−2 S−アミノ−3S−メチルペンタンアミドの製造 工程A: ジクロロメタン40ml中の2R−ヒドロキシ−3−[(2−メチルプロピル) (4−メトキシフェニルスルホニル)アミノ]−1S−(フェニルメチル)プロ ピルアミン(1.70g,4.18ミリモル)の溶液に、N−カルボベンジルオ キシ−L−イソロイシン−N−ヒドロキシスクシンアミドエステル(1.51g ,4.18ミリモル)を添加し、この溶液を窒素雰囲気下に16時間撹拌した。 この内容物を減圧で濃縮し、残留物を酢酸エチルに再溶解した。この酢酸エチル 溶液を、5%KHSO4の水溶液、飽和重炭酸ナトリウムおよび飽和塩化ナトリ ウムで洗浄し、硫酸マグネシウム上で乾燥させ、濾過し、次いで濃縮し、粗製生 成物2.47gを得た。この生成物を12:1ヘキサン:酢酸エチル溶離液を使 用するシリカゲルクロマトグラフイに付すことによって精製し、2S−[(カル ボベンジルオキシ)アミノ]−N−[2R−ヒドロキシ−3−[(3−メチルブ チル)(4−メトキシフェニルスルホニル)アミノ]−1S−(フェニルメチル )プロピル]−3−メチルペンタンアミド2.3g(84%収率)を生成した。 工程B: 工程Aからの生成物(1.18g,1.8ミリモル)をメタノール50ml中に 溶解し、ここに窒素流の下に、炭素上10%パラジウム250mgを添加した。こ の懸濁液を50psigの水素下に20時間水素添加した。この内容物を窒素で 浄化し、次いでセライトに通して濾過し、次いで減圧で濃縮し、2S−(アミノ )−N−[2R−ヒドロキシ−3−[(3−メチルプロピル)(4−メトキシフ ェニルスルホニル)アミノ]−1S−(フェニルメチル)プロピル]−3S−ア ミノペンタンアミド935mgを得た。この生成物はさらに精製することなく使用 した。 例28 カルバミン酸,2R−ヒドロキシ−3−[[(2−アミノベンゾチアゾール− 6−イル)スルホニル](2−メチルプロピル)アミノ]−1S−(フェニルメ チル)プロピル−,フェニルメチルエステルの製造 カルバミン酸,2R−ヒドロキシ−3−[[(4−アミノフェニル)スルホニ ル](2−メチルプロピル)アミノ]−1S−(フェニルメチル)プロピル−, フェニルメチルエステル0.30g(0.571ミリモル)を、無水硫酸銅(1 .20g)およびチオシアン酸カリウム(1.50g)の充分に混合した粉末に 添加し、次いで乾燥メタノール(6ml)を添加し、生成する黒−褐色懸濁液を2 時間加熱還流させた。この反応混合物を濾過し、この濾液を水(5ml)で稀釈し 、次いで加熱還流させた。この反応混合物にエタノールを添加し、冷却させ、次 いで濾過した。この濾液を濃縮し、得られた残留物をクロマトグラフイに付し( 酢酸エチル:ヘキサン80:20)、所望の化合物0.26g(78%)を固形 物として得た。 例29 カルバミン酸,2R−ヒドロキシ−3−[[(ベンゾチアゾール−6−イル) スルホニル](2−メチルプロピル)アミノ]−1S−(フェニルメチル)プ ロピル−,フェニルメチルエステルの製造 方法1: カルバミン酸,2R−ヒドロキシ−3−[[(2−アミノベンゾチアゾール− 6−イル)スルホニル](2−メチルプロピル)アミノ]−1S−(フェニルメ チル)プロピル−,フェニルメチルエステル(0.25g,0.429ミリモル )を、ジオキサン(5ml)中のイソアミルニトリル(0.116ml,0.858 ミリモル)の溶液に添加し、この混合物を85℃で加熱した。窒素の発生が止ん だ後に、この反応混合物を濃縮し、残留物をクロマトグラフイ(ヘキサン:酢酸 エチル5:3)により精製し、所望の生成物0.130g(53%)を固形物と して得た。 方法2: 酢酸エチル(100ml)中の粗製ベンゾチアゾール−6−スルホニルクロライ ドを、N−[3S−ベンジルオキシカルボニルアミノ−2R−ヒドロキシ−4− フェニル]−N−イソブチルアミン(1.03g,2.78ミリモル)に添加し 、次いでN−メチルモルホリン(4ml)を添加した。室温で18時間撹拌した後 に、この反応混合物を酢酸エチル(100ml)で稀釈し、クエン酸(5%、10 0ml)、重炭酸ナトリウム(飽和、100ml)およびブラインで洗浄し、乾燥さ せ(MgSO4)、次いで減圧で濃縮した。この残留物をクロマトグラフイに付 し(シリカゲル、酢酸エチル:ヘキサン1:1)、所望の生成物0.340g( 23%)を得た。 例30 および カルバミン酸,2R−ヒドロキシ−3−[[(2−アミノベンゾチアゾール− 5−イル)スルホニル](2−メチルプロピル)アミノ]−1S−(フェニルメ チル)プロピル−,フェニルメチルエステル;およびカルバミン酸,2R−ヒド ロキシ−3−[[(2−アミノベンゾチアゾール−7−イル)スルホニル](2 −メチルプロピル)アミノ]−1S−(フェニルメチル)プロピル−,フェニル メチルエステルの製造 カルバミン酸,2R−ヒドロキシ−3−[(3−アミノフェニルスルホニル) (2−メチルプロピル)アミノ]−1S−(フェニルメチル)プロピル−,フェ ニルメチルエステル0.36g(0.685ミリモル)を、無水硫酸銅(1.4 4g)およびチオシアン酸カリウム(1.80g)の充分に混合した粉末に添加 し、次いで乾燥メタノール(10ml)を添加し、生成する黒−褐色懸濁液を2時 間加熱還流させた。この反応混合物を濾過し、この濾液を水(5ml)で稀釈し、 次いで加熱還流させた。この反応混合物にエタノールを添加し、冷却させ、次い で濾過した。この濾液を濃縮し、得られた残留物をクロマトグラフイに付し(酢 酸エチル:ヘキサン1:1)、7−異性体0.18g(45%)を固形物として 得た。このカラムを(酢酸エチル:ヘキサン3:2)によりさらに溶離し、5− 異性体0.80g(20%)を固形物として得た。 例31 3S−アミノ−1−[N−(2−メチルプロピル)−N−(4−メトキシフェ ニルスルホニル)アミノ]−4−フェニル−2R−ブタノールの製造 工程A:N−ベンジルオキシカルボニル−3(S)−アミノ−1−クロロ−4− フェニル−2(S)−ブタノール メタノール800mlとテトラヒドロフラン800mlとの混合物中のN−ベンジ ルオキシカルボニル−L−フェニルアラニンクロロメチルケトン(75g,0. 2モル)の溶液に、ホウ水素化ナトリウム(13.17g,0.348モル1. 54当量)を100分かけて添加した。この溶液を室温で2時間撹拌し、次いで 減圧で濃縮した。この残留物を酢酸エチル1000mlに溶解し、次いで1N K HSO4、飽和水性NaHCO3、飽和水性NaClで洗浄し、無水MgSO4上 で乾燥させ、濾過し、次いで減圧で濃縮し、油状物を得た。この粗製生成物を6 0℃でヘキサン1000mlに溶解し、次いで室温に冷却させた。生成された結晶 を濾過により採取し、次いで大量のヘキサンで洗浄した。この固形物を次いで、 熱い酢酸エチルおよびヘキサンから再結晶させ、N−ベンジルオキシカルボニル −3(S)−アミノ−1−クロロ−4−フェニル−2(S)−ブタノール32. 3g(43%)を生成した、融点:150〜151℃、FAB MS:MLi+ =340。 工程B:3(S)−[N−(ベンジルオキシカルボニル)アミノ]−1,2(S )−エポキシ−4−フェニルブタン 無水エタノール970ml中の水酸化カリウム(6.52g,0.116モル, 1.2当量)の溶液を、N−ベンジルオキシカルボニル−3(S)−アミノ−1 −クロロ−4−フェニル−2(S)−ブタノール(32.3g,0.097モル )で処理した。この溶液を室温で15分間撹拌し、次いで減圧で濃縮し、白色固 形物を得た。この固形物をジクロロメタンに溶解し、次いで水で洗浄し、無水M gSO4上で乾燥させ、濾過し、次いで減圧で濃縮し、白色固形物を得た。この 固形物をヘキサンおよび酢酸エチルから結晶化させ、3(S)−[N−(ベンジ ルオキシカルボニル)アミノ]−1,2(S)−エポキシ−4−フェニルブタン 22.3g(77%)を得た、融点:102〜103℃、FAB MS:MH+ =298。 工程C:N−[3(S)−ベンジルオキシカルボニルアミノ−2(R)−ヒドロ キシ−4−フェニル]−N−イソブチルアミン イソプロピルアルコール650ml中のN−ベンジルカルボニル−3(S)−ア ミノ−1,2(S)−エポキシ−4−フェニルブタン(50.0g,0.168 モル)およびイソブチルアミン(246g,3.24モル,20当量)の溶液を 、1.25時間加熱還流させた。この溶液を室温に冷却させ、減圧で濃縮し、次 いで撹拌されているヘキサン1リットル中に注ぎ入れた。生成物は溶液から晶出 した。この生成物を濾過により単離し、空気乾燥させ、N−[3(S)−ベンジ ルオキシカルボニルアミノ−2(R)−ヒドロキシ−4−フェニル]−N−イソ ブチルアミン57.56g(92%)を得た、融点:108.0〜109.5℃ 、MH+m/z=371。 工程D:フェニルメチル [2(R)−ヒドロキシ−3−[N−(2−メチルプ ロピル)−N−(4−メトキシフェニルスルホニル)アミノ]−1S−(フェニ ルメチル)プロピル]カルバメート 工程Cからのアミン(936.5mg,2.53ミリモル)およびトリエチルア ミン(2.88.5mg,2.85ミリモル)をジクロロメタン20mlに溶解し、 次いで4−メトキシベンゼンスルホニルクロライド(461mg,2.61ミリモ ル)で処理した。この溶液を室温で16時間撹拌し、次いで減圧で濃縮した。こ の残留物を酢酸エチルに溶解し、この溶液を1N KHSO4、飽和水性NaH CO3、ブラインで洗浄し、無水MgSO4上で乾燥させ、濾過し、次い で濃縮し、清明な油状物1.234gを得た。この油状物をエーテルとヘキサン との混合物から結晶化させた、729.3mg(56.5%)、融点:95〜99 ℃、FAB MS:MH+=511。 工程E:3S−アミノ−1−[N−(2−メチルプロピル)−N−(4−メトキ シフェニルスルホニル)アミノ]−4−フェニル−2R−ブタノール メタノール10ml中の工程Dからのフェニルメチル [2(R)−ヒドロキシ −3−[N−(2−メチルプロピル)−N−(4−メトキシフェニルスルホニル )アミノ]−1S−(フェニルメチル)プロピルカルバメート(671.1mg, 1.31ミリモル)の溶液を、炭素上10%パラジウム50mg上で40psigにお いて室温で15時間水素添加した。触媒をケイソウ土に通す濾過により分離し、 この濾液を濃縮し、白色泡状物474.5mg(96%)を得た、FAB MS: MH+=377。 例32 1,3−ベンゾジオキソール−5−スルホニルクロライドの製造 方法1: 無水N,N−ジメチルホルムアミド4.25gの溶液に、窒素雰囲気下に0℃ で、スルフリルクロライド7.84gを添加した。固形物が生成された。15分 間撹拌した後に、1,3−ベンゾジオキソール6.45gを添加し、この混合物 を100℃で2時間加熱した。この反応混合物を冷却させ、氷水中に注ぎ入れ、 メチレンクロライドにより抽出し、硫酸マグネシウム上で乾燥させ、濾過し、次 いで濃縮し、粗製生成物7.32gを黒色油状物として得た。この生成物をシリ カゲル上で20%メチレンクロライド/ヘキサンを使用するクロマトグラフイに 付し、(1,3−ベンゾジオキソール−5−イル)スルホニルクロライド1.9 gを得た。 方法2: 機械撹拌機、冷却コンデンサー、加熱マントルおよび圧力均衡滴下ロートを備 えた22リットル丸底フラスコに、三酸化硫黄/DMF錯体(2778g,18 .1モル)を導入した。ジクロロメタン(4リットル)を次いで添加し、撹拌を 開始した。次いで、1,3−ベンゾジオキソール(1905g,15.6モル) を滴下ロートにより5分間かけて添加した。温度を次いで、75℃に上昇させ、 22時間維持した(NMRは反応が9時間後に完了したことを示した)。この反 応混合物を26°に冷却させ、温度が40℃以下に維持されるような速度でオキ ザリルクロライド(2290g,18.1モル)を添加した(1.5時間)。こ の混合物を67℃に5時間加熱し、次いで氷浴により16℃に冷却させた。この 反応を水(5リットル)により温度を20℃以下に維持しながら静止させた。水 の添加が完了した後に、この混合物を10分間撹拌した。層を分離させ、有機層 を水(5リットル)で2回洗浄した。この有機層を硫酸マグネシウム(500g )で乾燥させ、次いで濾過して、乾燥剤を除去した。溶媒を減圧で50℃におい て分離した。生成する温かい液体を冷却させると、固形物が生成し始めた。1時 間後に、この固形物をヘキサン(400ml)で洗浄し、濾過し、次いで乾燥させ 、所望のスルホニルクロライド(2823g)を得た。このヘキサン洗浄液を濃 縮し、生成する固形物をヘキサン400mlで洗浄し、追加のスルホニルクロライ ド(464g)を得た。総収量は3287gであった(1,3−ベンゾジオキソ −ルに基づき95.5%)。 方法3: EP583960(引用してここに組入れる)に記載の方法に従い、1,4− ベンゾジオキサン−6−スルホニルクロライドを製造した。 例33 1−[N−[(1,3−ベンゾジオキソール−5−イル)スルホニル]−N− (2−メチルプロピル)アミノ]−3(S)−[ビス(フェニルメチル)アミノ ]−4−フェニル−2(R)−ブタノールの製造 方法1: 機械撹拌機を備えた5000ml、三ッ頸フラスコに、N−[3(S)−[N, N−ビス(フェニルメチル)アミノ]−2(R)−ヒドロキシ−4−フェニルブ チル]−N−イソブチルアミン・シュウ酸塩(354.7g,0.7モル)およ び1,4−ジオキサン(2000ml)を導入した。水(250ml)中の炭酸カリ ウム(241.9g,1.75モル)の溶液を次いで添加した。生成した不均質 混合物を室温で2時間撹拌し、次いで1,4−ジオキサン(250ml)中に溶解 した1,3−ベンゾジオキソール−5−スルホニルクロライド(162.2g, 0.735モル)を15分かけて添加した。この反応混合物を室温で18時間撹 拌した。酢酸エチル(1000ml)および水(500ml)を反応容器に導入し、 撹拌をさらに1時間続けた。水性層を分離し、酢酸エチル(200ml)でさらに 抽出した。集めた酢酸エチル層を25%ブライン溶液(500ml)で洗浄し、無 水硫酸マグネシウム上で乾燥させた。濾過し、硫酸マグネシウムを酢酸エチル( 200ml)により洗浄した後に、濾液中の溶媒を減圧で除去し、粘性の黄色発泡 油状物として所望のスルホンアミドを生成した(440.2g,収率105%) 。HPLC/MS(電子スプレイ)(m/z601[M+H]+)。 例34 1−[N−[(1,3−ベンゾジオキソール−5−イル)スルホニル]−N− (2−メチルプロピル)アミノ]−3(S)−アミノ−4−フェニル−2(R) −ブタノール・メタンスルホン酸塩の製造 方法1: 粗製1−[N−[(1,3−ベンゾジオキソール−5−イル)スルホニル]− N−(2−メチルプロピル)アミノ]−3(S)−[ビス(フェニルメチル)ア ミノ]−4−フェニル−2(R)−ブタノール(6.2g,0.010モル)を メタノール(40ml)に溶解した。この溶液に、メタンスルホン酸(0.969 g,0.010モル)および水(5ml)を次いで添加した。この混合物を、炭素 上20%Pd(OH)2(255mg,50%水含有)を含有するパール(Paar)水 素添加ボトルに入れた。このボトルを水素発生機内に入れ、窒素で5回浄化し、 次いで水素で5回浄化した。反応を63PSI水素圧下に35℃で18時間進行 させた。追加の触媒(125mg)を添加し、次いで浄化後に、水素添加をさらに 20時間継続した。この混合物をセライトに通して濾過し、メタノール(2×1 0ml)で洗浄した。このメタノールの約1/3を減圧で除去した。残りのメタノ ールを80トールでトルエンとの共沸により除去した。トルエンは15、10、 10および10ml部づつ添加した。この混合物から生成物が晶出した。この生成 物を濾別し、各回10mlのトルエンで2回洗浄した。この固形物を室温で1トー ルにおいて6時間乾燥させ、アミン塩(4.5g,84%)を得た。HPLC/ MS(電子スプレイ)は所望の生成物と一致した(m/z421[M+H]+) 。 方法2: 工程A:N−[3(S)−[N,N−ビス(フェニルメチル)アミノ]−2(R )−ヒドロキシ−4−フェニルブチル]−N−イソブチルアミン・シュウ酸塩( 2800g,5.53モル)およびTHF(4リットル)を、機械撹拌機を備え た22リットル丸底フラスコに導入した。炭酸カリウム(1921g,13.9 モル)を水(2.8リットル)に溶解し、上記THFスラリーに添加した。この 混合物を次いで、1時間撹拌した。1,3−ベンゾジオキソール−5−スルホニ ルクロライド(1281g,5.8モル)をTHF(1.4リットル)中に溶解 し、反応混合物に25分かけて添加した。追加のTHF200mlを使用して、添 加ロートを洗浄した。この反応混合物を4時間撹拌し、次いで水(4リットル) を添加した。この混合物を30分間撹拌し、次いで層を分離させた。層を分離し 、水性層はTHF(500ml)で2回洗浄した。集めたTHF層を硫酸マグ ネシウム(500g)上で1時間乾燥させた。この溶液を濾過して、乾燥剤を除 去し、次いで後続の反応に使用した。 工程B:粗製1−[N−[(1,3−ベンゾジオキソール−5−イル)スルホニ ル]−N−(2−メチルプロピル)アミノ]−3(S)−[ビス(フェニルメチ ル)アミノ]−4−フェニル−2(R)−ブタノールのTHF溶液に、水(50 0ml)を添加し、次いでメタンスルホン酸(531g,5.5モル)を添加した 。この溶液を撹拌して、完全混合を確保し、5ガロンオートクレーブに入れた。 このオートクレーブに、THF(500ml)を用いて、パールマン(Pearlman) の触媒(C上20%Pd(OH)2/50%水の200g)を添加した。この反応 容器を、窒素で4回浄化し、次いで水素で4回浄化した。この反応容器に60ps igの水素を導入し、450rmp で撹拌を開始した。16時間後に、HPLCは少 量のモノ−ベンジル中間体が依然として存在することを示した。追加の触媒(5 0g)を添加し、反応を一夜にわたり進行させた。この溶液を次いで、セライト (500g)に通して濾過し、触媒を除去し、5部に分けて減圧で濃縮した。各 部にトルエン(500ml)を添加し、次いで残留する水を共沸的に減圧で除去し た。生成する固形物を3部に分け、それぞれをメチルt−ブチルエーテル(2リ ットル)で洗浄し、次いで濾過した。残留溶媒を減圧オーブン内で室温において 1トールより低い圧力下に除去し、所望の塩2714gを得た。 所望により、この生成物は次の方法によりさらに精製することができる。メタ ノール500mlおよび上記からの生成物170gの全部を加熱還流させ、全部を 溶解させた。この溶液を冷却させ、イソプロパノール200mlを添加し、次いで ヘキサン1000〜1300mlを添加した。白色固形物が沈殿した。0℃に冷却 させた後に、この沈殿を採取し、ヘキサンで洗浄し、所望の生成物123gを得 た。この方法によって、アルコールジアステレオマーの95:5混合物である元 の物質は所望のジアステレオマーの99:1に増加した。 例35 2R−ヒドロキシ−3−[[(1,3−ベンゾジオキソール−5−イル)スル ホニル](2−メチルプロピル)アミノ]−1(S)−(フェニルメチル)プロ ピルアミンの製造 工程A:2R−ヒドロキシ−3−[[(1,3−ベンゾジオキソール−5−イル )スルホニル](2−メチルプロピル)アミノ]−1(S)−(フェニルメチル )プロピルカルバミン酸フェニルメチルエステルの製造 無水メチレンクロライド40ml中のN−[3S−ベンジルオキシカルボニルア ミノ−2R−ヒドロキシ−4−フェニル]−N−イソブチルアミン3.19g( 8.6ミリモル)の溶液に、トリエチルアミン0.87gを添加した。この溶液 を0℃に冷却させ、次いで(1,3−ベンゾジオキソール−5−イル)スルホニ ルクロライド1.90gを添加し、0℃で15分間、次いで室温で17時間撹拌 した。酢酸エチルを添加し、5%クエン酸、飽和重炭酸ナトリウム、ブラインで 洗浄し、乾燥させ、次いで濃縮して、粗製生成物を得た。この生成物をジエチル エーテル/ヘキサンから再結晶させ、純粋な2R−ヒドロキシ−3−[[(1, 3−ベンゾジオキソール−5−イル)スルホニル](2−メチルプロピル)アミ ノ]−1(S)−(フェニルメチル)プロピルカルバミン酸フェニルメチルエス テル4.77gを得た。 工程B:2R−ヒドロキシ−3−[[(1,3−ベンゾジオキソール−5−イル )スルホニル](2−メチルプロピル)アミノ]−1S−(フェニルメチル)プ ロピルアミンの製造 テトラヒドロフラン45mlおよびメタノール25ml中のカルバミン酸、2R− ヒドロキシ−3−[[(1,3−ベンゾジオキソール−5−イル)スルホニル] (2−メチルプロピル)アミノ」−1S−(フェニルメチル)プロピル−,フェ ニルメチルエステル4.11gの溶液を、50psigの水素圧下に10%炭素上パ ラジウム1.1g上で16時間水素添加した。触媒を濾過により除去し、濾液を 濃縮し、所望の2R−ヒドロキシ−3−[[(1,3−ベンゾジオキソール−5 −イル)スルホニル](2−メチルプロピル)アミノ]−1S−(フェニルメチ ル)プロピルアミン1.82gを得た。 例36 ベンゾチアゾール−6−スルホニルクロライドの製造 工程A:N−(4−スルホンアミドフェニル)チオ尿素の製造 スルファニルアミド(86g,0.5モル)、チオシアン酸アンモニウム(7 6.0g,0.5モル)および稀塩酸(1.5N,1リットル)の混合物を、機 械的に撹拌し、次いで2時間、加熱還流させた。約200mlの水を留去し、反応 混合物を濃縮し、固形物を得た。この固形物を濾別し、冷水で洗浄し、空気乾燥 させ、所望の生成物67.5g(59%)を白色粉末として得た。 工程B:2−アミノ−6−スルホンアミドベンゾチアゾールの製造 クロロホルム(200ml)中の臭素(43.20g,0.27モル)を、クロ ロホルム(800ml)中のN−(4−スルホンアミドフェニル)チオ尿素(27 .72,0.120モル)の懸濁液に1時間かけて添加した。添加後に、この反 応混合物を4.5時間加熱還流させた。クロロホルムを減圧で除去し、残留物を 追加量のクロロホルムを用いて繰り返し蒸留した。得られた固形物を水(600 ml)で処理し、次いで水酸化アンモニウム(塩基性にする量)で処理し、次いで 1時間加熱還流させた。冷却した反応混合物を濾過し、水で洗浄し、次いで空気 乾燥させ、所望の生成物22.0g(80%)を白色粉末として得た。 工程C:ベンゾチアゾール−6−スルホン酸の製造 ジオキサン(300ml)中の2−アミノ−6−スルホンアミド−ベンゾチアゾ ール(10.0g,43.67ミリモル)の懸濁液を、加熱還流させた。この反 応混合物に、イソアミルニトリル(24ml)を2回に分けて添加した。激しいガ スの発生が見られた(この反応は予防のために背後を遮蔽して行った)。次いで 2時間後に、赤色沈殿が反応容器に沈降した。この反応混合物を熱いうちに濾過 し、この固形物をジオキサンで洗浄し、次いで乾燥させた。この固形物をメタノ ール−水から再結晶させた。少量の沈殿がまた、2日後に生成された。この沈殿 を濾別し、その母液を減圧で濃縮し、純粋な生成物の淡赤色固形物(8.0g, 85%)を得た。 工程D:6−クロロスルホニルベンゾチアゾールの製造 ジクロロメタン(15ml)中のベンゾチアゾール−6−スルホン酸(0.60 g,2.79ミリモル)の懸濁液に、チオニルクロライド(4ml)を添加し、こ の反応混合物を加熱還流させ、この反応混合物にジメチルホルムアミド(5ml) を添加して、清明な溶液を生成した。1.5時間還流させた後に、溶媒を減圧で 除去し、次いで過剰のHClおよびチオニルクロライドをジクロロエタンととも に蒸発させることによって除去した。 例37 N−[2R−ヒドロキシ−3−[[(1,3−ベンゾジオキソール−5−イル )スルホニル](2−メチルプロピル)アミノ]−1S−(フェニルメチル)プ ロピル]−2S−[(2S−ピロリジニルカルボニル)アミノ]−3,3−ジメ チルブタンアミド・塩酸塩の製造 工程A:N−[2R−ヒドロキシ−3−[[(1,3−ベンゾジオキソール−5 −イル)スルホニル](2−メチルプロピル)アミノ]−1S−(フェニルメチ ル)プロピル]−2S−[(フェニルメトキシカルボニル)アミノ]−3,3− ジメチルブタンアミドの製造 無水DMF750ml中のN−ヒドロキシベンゾトリアゾール118.8g(0 .776モル)およびN−カルボベンジルオキシカルボニル−L−tert−ロ イシン137.1g(0.52モル)の溶液に、0℃で窒素雰囲気下に、EDC 109.1g(0.57モル)を添加した。0℃で2時間撹拌した後に、4−メ チルモルホリン228ml(210g,2.08モル)により予め中和した、2R −ヒドロキシ−3−[[(1,3−ベンゾジオキソール−5−イル)スルホニル ](2−メチルプロピル)アミノ]−1S−(フェニルメチル)プロピルアミン メタンスルホネート273g(0.53モル)の無水DMF250ml溶液を添加 した。0℃で30分間撹拌した後に、この混合物を室温で18時間撹拌した。溶 媒を減圧で45℃において除去し、酢酸エチル1.5リットルを添加し、5%ク エン酸、飽和重炭酸ナトリウム、ブラインで洗浄し、無水硫酸マグネシウム上で 乾燥させ、濾過し、次いで濃縮し、粗製生成物400gを得た。この生成物を3 バッチで、Prep2000クロマトグラムにおいて、シリカゲル上で溶離液として 20%〜50%酢酸エチル/ヘキサンを使用するクロマトグラフイに付し、精製 した生成物320gを得た、m/e=674(M+Li),HPLCにより98 %。 工程B:N−[2R−ヒドロキシ−3−[[(1,3−ベンゾジオキソール−5 −イル)スルホニル](2−メチルプロピル)アミノ]−1S−(フェニルメチ ル)プロピル]−2S−アミノ−3,3−ジメチルブタンアミドの製造 テトラヒドロフラン1リットル中の上記Cbz化合物312gの溶液を、炭素 上4%パラジウム触媒100gを存在させて、60psigの水素下に室温で6時間 、水素添加した。触媒を濾過により分離し、次いで溶媒を減圧で除去し、所望の 化合物240gを得た。 工程C:N−[2R−ヒドロキシ−3−[[(1,3−ベンゾジオキソール−5 −イル)スルホニル](2−メチルプロピル)アミノ]−1S−(フェニルメチ ル)プロピル]−2S−[[1−(フェニルメトキシカルボニル)ピロリジン− 2S−イルカルボニル]アミノ]−3,3−ジメチルブタンアミドの製造 磁気撹拌棒およびN2導入口を備えた250ml丸底フラスコに、DMF400m l中のCbz−L−プロリン1.6g(1.15当量)を導入した。この反応混 合物を0℃に冷却させ、次いでHoBt0.88g(1.5当量)およびEDC 1.25g(1.15当量)を導入した。この反応混合物を室温で40分間撹拌 し、次いでDMF40ml中の2R−ヒドロキシ−3−[[(1,3−ベンゾジオ キソール−5−イル)スルホニル](2−メチルプロピル)アミノ]−1S−( フェニルメチル)プロピルアミン3.0gおよびN−メチルモルホリン1.85 ml(3.0当量)の溶液を添加した。この反応混合物を一夜にわたり撹拌した。 この反応混合物を減圧で濃縮し、残留物を酢酸エチルと飽和水性重炭酸ナトリウ ムとに分配した。この有機層を5%水性硫酸水素カリウムおよびブラインで洗浄 し、Na2SO4上で乾燥させ、次いで減圧で濃縮し、白色泡状物4.25g(9 5%)を得た;RP HPLC:>97%純度。 工程D:N−[2R−ヒドロキシ−3−[[(1,3−ベンゾジオキソール−5 −イル)スルホニル](2−メチルプロピル)アミノ]−1S−(フェニルメチ ル)プロピル]−2S−[(2S−ピロリジニルカルボニル)アミノ]−3,3 −ジメチルブタンアミド・塩酸塩の製造 磁気撹拌棒を備えた300mlフィッシャー−ポーター容器に、MeOH150 ml中のN−[2R−ヒドロキシ−3−[[(1,3−ベンゾジオキソール−5− イル)スルホニル](2−メチルプロピル)アミノ]−1S−(フェニルメチル )プロピル]−2S−[[1−(フェニルメトキシカルボニル)ピロリジン−2 S−イルカルボニル]アミノ]−3,3−ジメチルブタンアミド(1.15g) および10%Pd−C(含水)を導入した。この反応混合物を50psiで6時間 水素添加し、セライトに通して濾過した。この濾液を減圧で濃縮し、白色泡状物 3.36gを得た。この残留物をCH3CN 50ml中に取り入れ、次いで濃H Cl 0.96ml(2当量)で処理した。この反応混合物を減圧で濃縮し、得ら れた固形物をエーテルとすり混ぜ、次いで濾過し、純粋な所望の生成物3.1g を得た。 例37A N−[2R−ヒドロキシ−3−[[(1,3−ベンゾジオキソール−5−イル )スルホニル](2−メチルプロピル)アミノ]−1S−(フェニルメチル)プ ロピル]−2S−[(2S−ピロリジニルカルボニル)アミノ]−3,3−ジメ チルブタンアミド・塩酸塩の製造 工程A:N−[2R−ヒドロキシ−3−[(2−メチルプロピル)アミノ]−1 S−(フェニルメチル)プロピル]−2S−[[1−(フェニルメトキシカルボ ニル)ピロリジン−2S−イルカルボニル]アミノ]−3,3−ジメチルブタン アミドの製造 例43からのビス保護化合物: をジオキサン/HClに溶解し、次いで室温で約2時間撹拌した。溶媒を除去し 、残留物を減圧乾燥させ、アミン: を生成した。 工程B:工程Aからのアミン残留物を酢酸エチル中で撹拌し、例32からの1, 3−ベンゾジオキソール−5−イルスルホニルクロライドを添加し、次いでトリ エチルアミンを添加した。この混合物をほぼ室温で撹拌した。この反応混合物を 酢酸エチルで稀釈し、飽和重炭酸ナトリウムおよびブラインで洗浄し、乾燥させ (MgSO4)、次いで濃縮し、粗製生成物を得た。さらに精製することが望ま れる場合には、この残留物をクロマトグラフイに付す: 工程C:磁気撹拌棒を備えた300mlフィッシャー−ポーター容器に、MeOH 150ml中のN−[2R−ヒドロキシ−3−[[(1,3−ベンゾジオキソール −5−イル)スルホニル](2−メチルプロピル)アミノ]−1S−(フェニル メチル)プロピル]−2S−[[1−(フェニルメトキシカルボニル)ピロリジ ン−2S−イルカルボニル]アミノ]−3,3−ジメチルブタンアミド(1.1 5g): および10%Pd−C(含水)を導入した。この反応混合物を50psi で6時間 水素添加し、次いでセライトに通して濾過した。この濾液を減圧で濃縮し、白色 泡状物3.36gを得た。この残留物をCH3CN 50ml中に取り入れ、次い で濃HCl 0.96ml(2当量)で処理した。この反応混合物を減圧で濃縮し 、得られた固形物をエーテルとすり混ぜ、次いで濾過し、純粋な所望の生成物3 . 1gを得た: 例38 N−[2R−ヒドロキシ−3−[[(1,3−ベンゾジオキソール−5−イル )スルホニル](2−メチルプロピル)アミノ]−1S−(フェニルメチル)プ ロピル]−2S−アミノ−3S−メチルペンタンアミド・塩酸塩の製造 工程A:N−[2R−ヒドロキシ−3−[[(1,3−ベンゾジオキソール−5 −イル)スルホニル](2−メチルプロピル)アミノ]−1S−(フェニルメチ ル)プロピル]−2S−[[(1,1−ジメチルエトキシ)カルボニル]アミノ ]−3S−メチルペンタンアミドの製造 N,N−ジメチルホルムアミド17ml中のN−t−Boc−L−イソロイシン 2.02g(8.74ミリモル)およびN−ヒドロキシベンゾトリアゾール2. 00g(13.11ミリモル)の冷却した溶液に、EDC 1.84g(9.6 1ミリモル)を添加し、次いで0℃で1時間撹拌した。この溶液に、N,N−ジ メチルホルムアミド6ml中の2R−ヒドロキシ−3−[[(1,3−ベンゾジオ キソール−5−イル)スルホニル](2−メチルプロピル)アミノ]−1S−( フェニルメチル)プロピルアミン3.67g(8.74ミリモル)の溶液を添加 し、この溶液を16時間撹拌した。溶媒を減圧で除去し、酢酸エチルで置き換え 、次いで飽和重炭酸ナトリウム、5%クエン酸およびブラインで洗浄した。この 有機層を硫酸マグネシウム上で乾燥させ、濾過し、次いで濃縮し、粗製生成物6 .1gを得た。この生成物を、シリカゲル上で溶離液として1:1酢酸エチル: ヘキサンを使用するクロマトグラフイに付し、N−[2R−ヒドロキシ−3−[ [(1,3−ベンゾジオキソール−5−イル)スルホニル](2−メチルプロピ ル)アミノ]−1S−(フェニルメチル)プロピル]−2S−[[(1,1−ジ メチルエトキシ)カルボニル]アミノ]−3S−メチルペンタンアミド4.3g (収率78%)を得た。 工程B:N−[2R−ヒドロキシ−3−[[(1,3−ベンゾジオキソール−5 −イル)スルホニル](2−メチルプロピル)アミノ]−1S−(フェニルメチ ル)プロピル]−2S−アミノ−3S−メチルペンタンアミド・塩酸塩の製造 N−[2R−ヒドロキシ−3−[[(1,3−ベンゾジオキソール−5−イル )スルホニル](2−メチルプロピル)アミノ]−1S−(フェニルメチル)プ ロピル]−2S−[[(1,1−ジメチルエトキシ)カルボニル]アミノ]−3 S−メチルペンタンアミド(4.29g,6.77ミリモル)を、ジオキサン中 の4N HCl 20mlに溶解し、次いで20分間撹拌した。沈殿した生成物を ジエチルエーテルから2回蒸留し、この粗製塩酸塩を後続の反応に使用した。 例39 N−[2R−ヒドロキシ−3−[[(1,3−ベンゾジオキソール−5−イル )スルホニル](2−メチルプロピル)アミノ]−1S−(フェニルメチル)プ ロピル]−2S−[(2S−ピロリジニルカルボニル)アミノ]−3S−メチル ペンタンアミドの製造 工程A:N−[2R−ヒドロキシ−3−[[(1,3−ベンゾジオキソール−5 −イル)スルホニル](2−メチルプロピル)アミノ]−1S−(フェニルメチ ル)プロピル]−2S−[[1−(フェニルメトキシカルボニル)(ピロリジン −2S−イルカルボニル)アミノ]−3S−メチルペンタンアミドの製造 無水DMF 10ml中のN−CBZ−L−プロリン0.5g(2.2mM)の溶 液を0℃に冷却させ、次いでHOBT 0.4g(2.8mM)およびEDC 0 .4g(2.2mM)を導入した。20後に氷浴を取り除き、撹拌をさらに40分 間続けた。無水DMF 15ml中のN−[2R−ヒドロキシ−3−[[(1,3 −ベンゾジオキソール−5−イル)スルホニル](2−メチルプロピル)アミノ ]−1S−(フェニルメチル)プロピル]−2S−アミノ−3S−メチルペンタ ンアミド・塩酸塩1.0g(1.9mM)および4−メチルモルホリン0.6g( 5.6mM)の溶液を導入し、この混合物を15時間撹拌した。溶媒を減圧で除去 し、残留物を酢酸エチル150mlと5%硫酸水素カリウム溶液50mlとに分配し た。層を分離させ、その有機層を各50mlの飽和重炭酸ナトリウム溶液、水およ びブ ラインで洗浄し、次いで無水硫酸マグネシウム上で乾燥させ、濾過し、次いで減 圧で濃縮し、粗製生成物1.5gを得た。この生成物を、70〜80%酢酸エチ ル/ヘキサンを使用するシリカゲル上のフラッシュクロマトグラフイに付すこと によって精製を行い、所望の生成物1.3g(90%)を白色固形物として得た ;m/e=771(M+Li)。 工程B:N−[2R−ヒドロキシ−3−[[(1,3−ベンゾジオキソール−5 −イル)スルホニル](2−メチルプロピル)アミノ]−1S−(フェニルメチ ル)プロピル]−2S−[(2S−ピロリジニルカルボニル)アミノ]−3S− メチルペンタンアミドの製造 磁気撹拌棒を備えたフィッシャー−ポーターボトルに、工程Aからの生成物1 .2g(1.5mM)およびTHF25mlを導入した。この溶液を、炭素上10% パラジウム触媒(50重量%水含有)1gの存在下に水素50psi で室温におい て16時間水素添加した。触媒を濾過により除去し、次いで溶媒を減圧で除去し 、粗製生成物0.9gを得た。1〜4%メタノール/メチレンクロライドを使用 するシリカゲル上でのフラッシュクロマトグラフイを行うことによって精製し、 所望の生成物0.8g(80%)を得た;m/e=637(M+H)。 例40 N−[[2R−ヒドロキシ−3−[(1,3−ベンゾジオキソール−5−イル )スルホニル](2−メチルプロピル)アミノ]−1S−(フェニルメチル)プ ロピル]−2S−アミノ−3−メチルブタンアミドの製造 工程A:N−[[2R−ヒドロキシ−3−[(1,3−ベンゾジオキソール−5 −イル)スルホニル](2−メチルプロピル)アミノ]−1S−(フェニルメチ ル)プロピル]−2S−[(フェニルメトキシカルボニル)アミノ]−3−メチ ルブタンアミドの製造 磁気撹拌棒を備えた250ml丸底フラスコに、DMF 20ml中のN−Cbz −L−バリン(4.22g,16.8ミリモル)を導入した。この溶液を0℃に 冷却させ、次いでHoBt(2.96,21.9ミリモル)およびEDC(3. 22g,16.8ミリモル)を導入し、1時間撹拌した。この反応混合物に、N −メチルモルホリン(1.7g,16.8ミリモル)、DMF30ml中の2R− ヒドロキシ−3−[[(1,3−ベンゾジオキソール−5−イル)スルホニル] (2−メチルプロピル)アミノ]−1S−(フェニルメチル)プロピルアミン( 7.55g,14.6ミリモル)を導入した。この反応混合物を室温で一夜にわ たり撹拌し、減圧で濃縮し、次いで酢酸エチルと5%クエン酸とに分配した。集 めた有機層を飽和重炭酸ナトリウムおよびブラインで洗浄し、次いで硫酸ナトリ ウム上で乾燥させた。減圧で濃縮し、粗製生成物10gを得た。この生成物をPr epHPLC(20〜40%酢酸エチル/ヘキサン)により精製し、所望の生成物 5.8g(61%)を得た。 工程B:N−[[2R−ヒドロキシ−3−[(1,3−ベンゾジオキソール−5 −イル)スルホニル](2−メチルプロピル)アミノ]−1S−(フェニルメチ ル)プロピル]−2S−アミノ−3−メチルブタンアミドの製造 磁気撹拌棒を備えた300mlフィッシャー−ポーター容器に、テトラヒドロフ ラン75ml中の10%Pd−C 2.3g、N−[[2R−ヒドロキシ−3−[( 1,3−ベンゾジオキソール−5−イル)スルホニル](2−メチルプロピル) アミノ]−1S−(フェニルメチル)プロピル]−2S−[(フェニルメトキシ カルボニル)アミノ]−3−メチルブタンアミド(5.8g)を導入した。この 反応混合物に50psi でH2を導入し、一夜にわたり水素添加した。この反応混 合物をセライトに通して濾過し、次いで減圧で濃縮し、白色泡状物4.4gを得 た。この生成物はさらに精製することなく後続の反応に使用した。 例41 N−[[2R−ヒドロキシ−3−[(1,3−ベンゾジオキソール−5−イル )スルホニル](2−メチルプロピル)アミノ]−1S−(フェニルメチル)プ ロピル]−2S−アミノ−3−(メチルスルホニル)プロパンアミド・塩酸塩の 製造 工程A:N−[[2R−ヒドロキシ−3−[(1,3−ベンゾジオキソール−5 −イル)スルホニル](2−メチルプロピル)アミノ]−1S−(フェニルメチ ル)プロピル]−2S−[[(1,1−ジメチルエトキシ)カルボニル]アミノ ]−3−(メチルチオ)プロパンアミドの製造 N−t−Boc−S−メチル−(L)−システイン(2.80g,11.9ミ リモル)、1−ヒドロキシベンゾトリアゾール水和物(1.92g,12.5ミ リモル)および1−(3−ジメチルアミノプロピル)−3−エチルカルボジイミ ド塩酸塩(2.27g,11.9ミリモル)を、N,N−ジメチルホルムアミド (30.0ml)中で0℃において10分間混合した。N−メチルモルホリン(3 .03g,33.0ミリモル)を添加し、この溶液を0℃でさらに10分間撹拌 した。2R−ヒドロキシ−3−[[(1,3−ベンゾジオキソール−5−イル) スルホニル](2−メチルプロピル)アミノ]−1S−(フェニルメチル)プロ ピルアミン(5.00g,11.9ミリモル)を添加し、この溶液を室温に温め 、2時間撹拌した。この反応混合物を酢酸エチル(500ml)中に注ぎ入れ、次 いで10%水性塩酸(3×100ml)、飽和水性重炭酸ナトリウム(3×100 ml)およびブライン(2×100ml)で洗浄した。この有機層を硫酸ナトリウム 上で乾燥させ、シリカゲル(50g)のパッドに通して濾過した。溶剤を減圧で 除去することによって、所望の生成物(7.13g,11.19ミリモル,93 %収率)を白色固形物として得た;m/e:計算値:637、実測値(M+Li ):644。 工程B:N−[[2R−ヒドロキシ−3−[(1,3−ベンゾジオキソール−5 −イル)スルホニル](2−メチルプロピル)アミノ]−1S−(フェニルメチ ル)プロピル]−2S−[[(1,1−ジメチルエトキシ)カルボニル]アミノ ]−3−(メチルスルホニル)プロパンアミドの製造 N−[[2R−ヒドロキシ−3−[(1,3−ベンゾジオキソール−5−イル )スルホニル](2−メチルプロピル)アミノ]−1S−(フェニルメチル)プ ロピル]−2S−[[(1,1−ジメチルエトキシ)カルボニル]アミノ]− 3−(メチルチオ)プロパンアミド(7.10g,11.1ミリモル)をメタノ ール(150ml)に溶解した。この溶液に、室温で1.5時間かけて、水(15 0ml)中のオキソン(oxone)(登録商標名)(20.8g,33.9ミリモル )を滴下して添加した。この溶液は濁り、この添加中に沈殿が生成された。この 反応混合物をさらに1時間撹拌し、次いでテトラヒドロフラン(200ml)を添 加した。さらに1時間混合した後に、この溶液を酢酸エチル(1000ml)中に 注ぎ入れ、水(3×200ml)で、次いでブライン(2×300ml)で洗浄した 。この有機層を無水硫酸ナトリウム上で乾燥させ、次いで溶剤を減圧で除去した 。所望の生成物(5.75g,8.86ミリモル,79%収率)がオフホワイト 色固形物として得られた;m/e:計算値:669;実測値(M+H):670 。 工程C:N−[[2R−ヒドロキシ−3−[(1,3−ベンゾジオキソール−5 −イル)スルホニル](2−メチルプロピル)アミノ]−1S−(フェニルメチ ル)プロピル]−2S−アミノ−3−(メチルスルホニル)プロパンアミド・塩 酸塩の製造 N−[[2R−ヒドロキシ−3−[(1,3−ベンゾジオキソール−5−イル )スルホニル](2−メチルプロピル)アミノ]−1S−(フェニルメチル)プ ロピル]−2S−[[(1,1−ジメチルエトキシ)カルボニル]アミノ]−3 −(メチルスルホニル)プロパンアミド(5.5g,8.20ミリモル)を、室 温でジクロロメタン(100ml)に溶解した。この溶液に15分間、無水塩酸を 泡立てて通した。この溶液を室温で2時間撹拌し、次いで溶媒を減圧で除去した 。所望の生成物(4.91g,8.10ミリモル,99%収率)が白色固形物と して得られた;m/e:計算値:569;実測値(M+Li):576。 例42 N−[[2R−ヒドロキシ−3−[(1,3−ベンゾジオキソール−5−イル )スルホニル](2−メチルプロピル)アミノ]−1S−(フェニルメチル)プ ロピル]−2S−アミノ−3−メチル−3−(メチルスルホニル)ブタンアミド ・塩酸塩の製造 工程A:N−[[2R−ヒドロキシ−3−[(1,3−ベンゾジオキソール−5 −イル)スルホニル](2−メチルプロピル)アミノ]−1S−(フェニルメチ ル)プロピル]−2S−[[(1,1−ジメチルエトキシ)カルボニル]アミノ ]−3−メチル−3−(メチルチオ)ブタンアミドの製造 N−t−boc−S−メチル−L−ペニシラミン ジシクロヘキシルアミン塩 (4.00g,9.00ミリモル)、1−ヒドロキシベンゾトリアゾール水和物 (1.69g,11.00ミリモル)および1−(3−ジメチルアミノプロピル )−3−エチルカルボジイミド塩酸塩(1.71g,9.00ミリモル)を、ジ メチルホルムアミド(60.0ml)中で室温において混合した。この不均質な混 合物を1時間撹拌し、次いで2R−ヒドロキシ−3−[[(1,3−ベンゾジオ キソール−5−イル)スルホニル](2−メチルプロピル)アミノ]−1S−( フェニルメチル)プロピルアミン(3.78g,9.00ミリモル)を添加し、 この不均質な混合物を16時間撹拌した。この溶液を酢酸エチル(600ml)中 に注ぎ入れ、次いで10%水性酢酸(2×300ml)、飽和水性重炭酸ナトリウ ム(2×300ml)およびブライン(300ml)で洗浄した。この溶液を硫酸ナ トリウム上で乾燥させ、次いで溶剤を減圧で除去した。所望の生成物をフラッシ ュクロマトグラフイ(シリカゲル上、0〜80%酢酸エチル/ヘキサン)により 精製した。生成物(5.21g,7.83ミリモル,87%収率)が白色泡状物 として得られた;m/e:計算値:665;実測値(M+Li):672。 工程B:N−[[2R−ヒドロキシ−3−[(1,3−ベンゾジオキソール−5 −イル)スルホニル](2−メチルプロピル)アミノ]−1S−(フェニルメチ ル)プロピル]−2S−[[(1,1−ジメチルエトキシ)カルボニル]アミノ ]−3−メチル−3−(メチルスルホニル)ブタンアミドの製造 N−[[2R−ヒドロキシ−3−[(1,3−ベンゾジオキソール−5−イル )スルホニル](2−メチルプロピル)アミノ]−1S−(フェニルメチル)プ ロピル]−2S−[[(1,1−ジメチルエトキシ)カルボニル]アミノ]−3 −メチル−3−(メチルチオ)ブタンアミド(5.01g,7.53ミリモル) をテトラヒドロフラン(250ml)に溶解した。この溶液に、室温で2時間かけ て、水(250ml)中のオキソン(oxone)(登録商標名)(13.8g,22 .6ミリモル)を滴下して添加した。この溶液は濁り、この添加中に沈殿が生成 された。この溶液を酢酸エチル(500ml)中に注ぎ入れ、水(3×200ml) で、次いでブライン(2×300ml)で洗浄した。この有機層を無水硫酸ナトリ ウム上で乾燥させ、次いで溶剤を減圧で除去した。生成物(4.72g,6.7 7ミリモル,89%収率)が白色泡状物として得られた;m/e:計算値:69 7;実測値(M+Li):704。 工程C:N−[[2R−ヒドロキシ−3−[(1,3−ベンゾジオキソール−5 −イル)スルホニル](2−メチルプロピル)アミノ]−1S−(フェニルメチ ル)プロピル]−2S−アミノ−3−メチル−3−(メチルスルホニル)ブタン アミド・塩酸塩の製造 N−[[2R−ヒドロキシ−3−[(1,3−ベンゾジオキソール−5−イル )スルホニル](2−メチルプロピル)アミノ]−1S−(フェニルメチル)プ ロピル]−2S−[[(1,1−ジメチルエトキシ)カルボニル]アミノ]−3 −メチル−3−(メチルスルホニル)ブタンアミド(4.51g,6.46ミリ モル)を、室温でジクロロメタン(200ml)に溶解した。この溶液に30分間 、無水塩酸を泡立てて通した。この溶液を室温で1時間撹拌し、次いで溶媒を減 圧で除去した。生成物(4.02g,6.35ミリモル,99%収率)が白色固 形物として得られた;m/e:計算値:697;実測値(M+Li):704。 例43 N−[2R−ヒドロキシ−3−[[(1,1−ジメチルエトキシ)カルボニル ](2−メチルプロピル)アミノ]−1S−(フェニルメチル)プロピル]−2 S−[[1−(フェニルメトキシカルボニル)ピロリジン−2S−イルカルボニ ル]アミノ]−3,3−ジメチルブタンアミドの製造 工程A:N−[(1,1−ジメチルエトキシ)カルボニル]−N−[2−メチル プロピル]−3S−[N1−(フェニルメトキシカルボニル)アミノ]−2R− ヒドロキシ−4−フェニルブチルアミンの製造 テトラヒドロフラン(400ml)中のN−[3S−[N1−(ベンジルオキシ カルボニル)アミノ]−2R−ヒドロキシ−4−フェニルブチル]−N−(2− メチルプロピル)アミン(18.5g,50ミリモル)、BOC−ON(12. 35g,50ミリモル)およびトリエチルアミン(7ml)の溶液を、室温で18 時間撹拌し、次いで減圧で濃縮した。この残留物をジクロロメタン(1リットル )に溶解し、次いで水酸化ナトリウム(5%,2×200ml)およびブラインで 洗浄し、乾燥させ(MgSO4)、次いで減圧で濃縮し、純粋な所望の生成物2 3.5g(定量的収率)を得た。 工程B:N−[2R−ヒドロキシ−3−[[(1,1−ジメチルエトキシ)カル ボニル](2−メチルプロピル)アミノ]−1S−(フェニルメチル)プロピル ]−2S−[(フェニルメトキシカルボニル)アミノ]−3,3−ジメチルブタ ンアミドの製造 エタノール中のN−[(1,1−ジメチルエトキシ)カルボニル]−N−[2 −メチルプロピル]−3S−[N1−(フェニルメトキシカルボニル)アミノ] −2R−ヒドロキシ−4−フェニルブチルアミンを、45psigの水素で5%Pd (C)触媒の存在下に水素添加し、N−[(1,1−ジメチルエトキシ)カルボ ニル]−N−[2−メチルプロピル]−3S−[N1−(フェニルメトキシカル ボニル)アミノ]−2R−ヒドロキシ−4−フェニルブチルアミンを生成した。 標準的仕上げ処理の後に、この粗製アミン(12.24g,36.42ミリモル )を、DMF(300ml)中のN−カルボベンジルオキシカルボニル−L−te rt−ロイシン(9.67g,36.42ミリモル)、HOBT(4.92g, 36.42ミリモル)およびEDC(6.98g,36.42ミリモル)の混合 物に添加し、この混合物を室温で1時間撹拌した。この混合物をさらに18時間 撹拌した。DMFを減圧で除去し、残留物をジクロロメタン(500ml)に溶解 し、水酸化ナトリウム(5%,2×200ml)およびブライン(200ml)で洗 浄し、乾燥させ、次いで濃縮し、所望の生成物21g(定量的収率)を得た。 工程C:N−[2R−ヒドロキシ−3−[[(1,1−ジメチルエトキシ)カル ボニル](2−メチルプロピル)アミノ]−1S−(フェニルメチル)プロピル ]−2S−アミノ−3,3−ジメチルブタンアミドの製造 メタノール(250ml)中のN−[2R−ヒドロキシ−3−[[(1,1−ジ メチルエトキシ)カルボニル](2−メチルプロピル)アミノ]−1S−(フェ ニルメチル)プロピル]−2S−[(フェニルメトキシカルボニル)アミノ]− 3,3−ジメチルブタンアミド(20g,34.29ミリモル)を、室温でPd /C(10%,5g)の存在下に水素添加した。触媒を濾別し、濾液を濃縮し、 純粋な所望の生成物13.8g(90%)を得た。 工程D:N−[2R−ヒドロキシ−3−[[(1,1−ジメチルエトキシ)カル ボニル](2−メチルプロピル)アミノ]−1S−(フェニルメチル)プロピル ]−2S−[[1−(フェニルメトキシカルボニル)ピロリジン−2S−イルカ ルボニル]アミノ]−3,3−ジメチルブタンアミドの製造 Cbz−L−プロリンをDMF中に、窒素雰囲気下に約0℃において撹拌しな がら溶解した。ヒドロキシベンゾトリアゾール(HBT)を添加し、次いでED Cを添加した。この反応混合物を室温で撹拌し、工程Cからのアミンを添加し、 次いでN−メチル−モルホリンを添加した。この反応混合物を約1日間撹拌した 。この反応混合物を減圧で濃縮し、残留物を酢酸エチルと飽和水性重炭酸ナトリ ウムとに分配した。この有機層を5%水性硫酸水素カリウムおよびブラインで洗 浄し、Na2SO4上で乾燥させ、次いで減圧で濃縮し、 を得た。 例44 2R−ヒドロキシ−3−[[(1,4−ベンゾジオキサン−6−イル)スルホ ニル](2−メチルプロピル)アミノ]−1S−(フェニルメチル)プロピルカ ルバミン酸フェニルメチルエステルの製造 Et3N(0.35ml,2.5ミリモル)を含有するCH2Cl2(5.0ml) 中のN−[3S−[(フェニルメトキシカルボニル)アミノ]−2R−ヒドロキ シ−4−フェニルブチル]−N−(2−メチルプロピル)アミン(0.5g,1 .35ミリモル)の溶液に、1,4−ベンゾジオキサン−6−スルホニルクロラ イド(0.34g,1.45ミリモル)を添加し、0℃で30分間撹拌した。室 温で1時間撹拌した後に、この反応混合物をCH2Cl2(20ml)で稀釈し、冷 1N HCl(3×20ml)、水(2×20ml)、飽和NaHCO3(2×20m l)および水(3×20ml)で洗浄し、乾燥させ(Na2SO4)、次いで減圧で 濃縮した。生成する残留物をヘキサン中35%EtOAcを使用するフラッシュ クロマトグラフイに付すことによって精製し、所望の生成物を白色無定形固形物 として得た。この生成物をMeOHから白色粉末として結晶化させた(0.65 g,84%収率);融点:82〜84℃;HRMS−FAB:C303727S に対する計算値:569.2321(MH+)、実測値:569.2323。 例45 [2R−ヒドロキシ−3−[(ベンゾチアゾール−6−スルホニル)−(2− メチルプロピル)アミノ]−1S−(フェニルメチル)プロピルアミン・塩酸塩 の製造 工程A:[2R−ヒドロキシ−3−[(4−アミノフェニルスルホニル)(2− メチルプロピル)アミノ]−1S−(フェニルメチル)プロピルカルバミン酸t −ブチルエステルの製造 [2R−ヒドロキシ−3−[(4−アミノフェニルスルホニル)(2−メチル プロピル)アミノ]−1S−(フェニルメチル)プロピルアミン3.7g(9. 45ミリモル)およびテトラヒドロフラン(60ml)中のBOC−ON(2.3 3g,9.45ミリモル)およびトリエチルアミン(0.954g,9.45ミ リモル)の混合物を、16時間撹拌し、次いで減圧で濃縮した。この残留物をジ クロロメタン(200ml)に溶解し、水酸化ナトリウム(1N,100ml)およ びクエン酸(5%,100ml)で洗浄し、乾燥させ(MgSO4)、次いで濃縮 し、所望の生成物1.18g(94%)を白色固形物として得た。 工程B:[2R−ヒドロキシ−3−[[(2−アミノベンゾチアゾール−6−イ ル)スルホニル](2−メチルプロピル)アミノ]−1S−(フェニルメチル) プロピルカルバミン酸t−ブチルエステルの製造 [2R−ヒドロキシ−3−[(4−アミノフェニルスルホニル)(2−メチル プロピル)アミノ]−1S−(フェニルメチル)プロピルカルバミン酸t−ブチ ルエステル(1.12g,2.279ミリモル)を、無水硫酸銅(4.48g) およびチオシアン酸カリウム(5.60g)の充分に混合した粉末に添加し、次 いで乾燥メタノール(35ml)を添加し、生成する黒−褐色懸濁液を2時間加熱 還流させた。この反応混合物は灰色に変った。この反応混合物を濾過し、濾液を 水(50ml)で稀釈し、次いで加熱還流させた。この反応混合物にエタノールを 添加し、冷却させ、次いで濾過した。この濾液を濃縮し、得られた残留物をクロ マトグラフイに付し(酢酸エチル:メタノール90:10)、脱保護した化合物 0.80g(78%)を固形物として得た。この生成物を次の方法により直接に 再保護した:テトラヒドロフラン(20ml)中の(2.25g,5.005ミリ モル)、BOC−ON(1.24g)およびトリエチルアミン(0.505g, 5.005ミリモル)を室温で18時間撹拌した。この反応混合物を濃縮し、残 留物をジクロロメタン(200ml)に溶解し、次いで水酸化ナトリウム(1N, 100ml)およびクエン酸(5%,100ml)で洗浄し、乾燥させ(MgSO4 )、次いで濃縮し、得られた残留物をクロマトグラフイに付し(酢酸エチル:ヘ キサン3:1)、所望の生成物1.8g(65%)を固形物として得た。 工程C:[2R−ヒドロキシ−3−[[(ベンゾチアゾール−6−イル)スルホ ニル](2−メチルプロピル)アミノ]−1S−(フェニルメチル)プロピルカ ルバミン酸t−ブチルエステルの製造 [2R−ヒドロキシ−3−[[(2−アミノベンゾチアゾール−6−イル)ス ルホニル](2−メチルプロピル)アミノ]−1S−(フェニルメチル)プロピ ルカルバミン酸t−ブチルエステル(1.80g,3.2755ミリモル)を、 ジオキサン(20ml)中の硝酸イソアミル(0.88ml)の溶液に添加し、この 混合物を85℃で加熱した。窒素の発生が止まつた後に、この反応混合物を濃縮 し、残留物をクロマトグラフイにより精製し(ヘキサン:酢酸エチル1:1)、 所望の生成物1.25g(78%)を固形物として得た。 工程D:[2R−ヒドロキシ−3−[[(ベンゾチアゾール−6−イル)スルホ ニル](2−メチルプロピル)アミノ]−1S−(フェニルメチル)プロピルア ミン・塩酸塩の製造 [2R−ヒドロキシ−3−[[(ベンゾチアゾール−6−イル)スルホニル] (2−メチルプロピル)アミノ]−1S−(フェニルメチル)プロピルカルバミ ン酸t−ブチルエステル(1.25g,2.3385ミリモル)を、ジオキサン /HCl(4N,10ml)に添加し、室温で2時間撹拌し、次いで濃縮した。過 剰のHClをトルエンにより除去し、所望の生成物1.0g(定量的収率)を得 た。 例46 2S−アミノ−N−[2R−ヒドロキシ−3−[[(1,3−ベンゾジオキソ ール−5−イル)スルホニル](2−メチルプロピル)アミノ]−1S−(フェ ニルメチル)プロピル]ペント−4−インアミドの製造 工程A:2S−[[(1,1−ジメチルエトキシ)カルボニル]アミノ]−N− [2R−ヒドロキシ−3−[[(1,3−ベンゾジオキソール−5−イル)スル ホニル](2−メチルプロピル)アミノ]−1S−(フェニルメチル)プロピル ]ペント−4−インアミドの製造 N−t−Boc−L−プロパルギルグリシン(5.0g,23.4ミリモル) およびN−ヒドロキシベンゾトリアゾール4.7g(1.5当量)のN,N−ジ メチルホルムアミド40ml中の冷却した溶液に、EDC 4.6g(23.4ミ リモル)を添加し、次いで0℃で1時間撹拌した。ここに、N,N−ジメチルホ ルムアミド6ml中の2R−ヒドロキシ−3−[[(1,3−ベンゾジオキソール −5−イル)スルホニル](2−メチルプロピル)アミノ]−1S−(フェニル メチル)プロピルアミン12.10g(23.4ミリモル)の溶液を添加し、こ の溶液を16時間撹拌した。溶媒を回転蒸発により除去し、酢酸エチルで置き換 え、次いで飽和重炭酸ナトリウム、5%クエン酸およびブラインで洗浄した。こ の有機層を硫酸マグネシウム上で乾燥させ、濾過し、次いで濃縮し、粗製生成物 13.3gを得た。この生成物をジエチルエーテル:酢酸エチルから結晶化させ 、2S−[[(1,1−ジメチルエトキシ)カルボニル]アミノ]−N−[2R −ヒドロキシ−3−[[(1,3−ベンゾジオキソール−5−イル)スルホニル ](2−メチルプロピル)アミノ]−1S−(フェニルメチル)プロピル]ペン ト−4−インアミド6.9gを生成した。 工程B:2S−アミノ−N−[2R−ヒドロキシ−3−[[(1,3−ベンゾジ オキソール−5−イル)スルホニル]2−メチルプロピル)アミノ]−1S−( フェニルメチル)プロピル]ペント−4−インアミドの製造 工程Aからの生成物5.0g(8.12ミリモル)を、ジオキサン中4N H Cl 20mlに溶解し、30分間撹拌した。沈殿した生成物をジエチルエーテル から2回蒸留し、この粗製塩酸塩は引続く反応に使用した。 例47 N−[2R−ヒドロキシ−3−[[(ベンゾチアゾール−6−イル)スルホニ ル](2−メチルプロピル)アミノ]−1S−(フェニルメチル)プロピル]− 2S−(アミノ)−3,3−ジメチルブタンアミド・2臭化水素酸塩の製造 工程A:N−[2R−ヒドロキシ−3−[[(ベンゾチアゾール−6−イル)ス ルホニル](2−メチルプロピル)アミノ]−1S−(フェニルメチル)プロピ ル]−2S−[[(N−ベンジルオキシ)カルボニル]アミノ]−3,3−ジメ チルブタンアミドの製造 DMF(20ml)中のN−ベンジルオキシカルボニル−t−ブチルグリシン( 2.0g,7.538ミリモル)、HOBT(1.02g,7.55ミリモル) およびEDC(1.45g,7.55ミリモル)の混合物を室温で1時間撹拌し た。次いで、[2R−ヒドロキシ−3−[[(ベンゾチアゾール−6−イル)ス ルホニル](2−メチルプロピル)アミノ]−1S−(フェニルメチル)プロピ ルアミン塩酸塩(3.825g,7.54ミリモル)およびN−メチルモルホリ ン(3.80g)を添加し、18時間撹拌を続けた。DMFを減圧で除去し、残 留物をジクロロメタン(500ml)に溶解し、次いでクエン酸(1N,100ml )、重炭酸ナトリウム(100ml)、ブライン(200ml)で洗浄し、乾燥させ 、濾過し、次いで濃縮し、純粋なN−[2R−ヒドロキシ−3−[[(ベンゾチ アゾール−6−イル)スルホニル](2−メチルプロピル)アミノ]−1S−( フェニルメチル)プロピル]−2S−[N−(フェニルメトキシカルボニル)ア ミノ]−3,3−ジメチルブタンアミド4.69g(91%)を得た。 工程B:N−[2R−ヒドロキシ−3−[[(ベンゾチアゾール−6−イル)ス ルホニル](2−メチルプロピル)アミノ]−1S−(フェニルメチル)プロピ ル]−2S−(アミノ)−3,3−ジメチルブタンアミド・2臭化水素酸塩の製 造 ジクロロエタン(200ml)中のN−[2R−ヒドロキシ−3−[[(ベンゾ チアゾール−6−イル)スルホニル](2−メチルプロピル)アミノ]−1S− (フェニルメチル)プロピル]−2S−[N−(フェニルメトキシカルボニル) アミノ]−3,3−ジメチルブタンアミド(4.69g,6.89ミリモル)の 溶液を、HBr(酢酸中48%、7.1ml)で処理し、この反応混合物を室温で 2時間撹拌した。この反応混合物を濃縮し、残留物をジエチルエーテルにより数 回洗浄し、所望の2臭化水素酸塩生成物4.88gを粉末として得た;高分解F AB−MS:C2738442に対する計算値:547.2413、実測値: 547.2429(M+H)。 例48 5−クロロスルホニル−2−カルボメトキシアミノベンズイミダゾールの製造 クロロスルホン酸(35.00ml)中の2−カルボメトキシアミノ−ベンズイ ミダゾール(5.0g,0.026モル)の溶液を、0℃で30分間撹拌し、次 いで室温で3時間撹拌した。生成した濃色の反応混合物を氷−水混合物(200 ml)中に注ぎ入れ、室温で30分間撹拌した。生成する沈殿を濾別し、次いで冷 水(500ml)で洗浄した。この固形物をデシケーターにおいてNaOHペレッ ト上で高減圧下に一夜にわたり乾燥させ、5−クロロスルホニル−2−カルボメ トキシアミノ−ベンズイミダゾール(5.9g,78%)を灰色粉末として得た 。1H NMR(CDSO−d6)d:3.89(s,3H)、7.55(d,J =8.4Hz,1H)、7.65(d,J=8.4Hz,1H)、7.88(s,1 H)。(ドイツ国特許DE3826036)。 例49 N−[2R−ヒドロキシ−3−[N1−[(2−カルボメトキシアミノベンズ イミダゾール−5−イル)スルホニル]−N1−(2−メチルプロピル)アミノ ]−1S−(フェニルメチル)プロピル]カルバミン酸フェニルメチルエステル の製造 ジクロロメタン(70ml)中のN−[3S−[(フェニルメトキシカルボニル )アミノ]−2R−ヒドロキシ−4−フェニルブチル]−N−(2−メチルプロ ピル)アミン(5.0g,13.5ミリモル)の冷たい溶液に、トリエチルアミ ン(5.95g,54.0ミリモル)を添加し、次いで5−クロロスルホニル− 2−カルボメトキシアミノベンズイミダゾール(4.29g,14.85ミリモ ル)を固形物として少しづつ添加した。この反応混合物を0℃で30分間、次い で室温で2.5時間撹拌した。この時点で、アミノアルコールの反応は完了した 。この混合物を冷却させ、濾過し、次いで濾液を濃縮した。生成する残留物をE tOAc(200ml)に溶解し、冷5%クエン酸(3×50ml)、飽和水性重炭 酸ナトリウム(3×50ml)および水(3×100ml)で順次洗浄し、次いで乾 燥させ(Na2SO4)、濃縮し、次いで減圧乾燥させた。この残留物をメタノー ルとすり混ぜ、冷却し、濾過し、MeOH−EtOAc(1:1、v/v)で洗 浄し、次いでデシケーター内で乾燥させ、純粋なN−[2R−ヒドロキシ−3− [[(2−カルボメトキシアミノ−ベンズイミダゾール−5−イル)スルホニル ](2−メチルプロピル)アミノ]−1S−(フェニルメチル)プロピル]カル バミン酸フェニルメチルエステル(6.02g,72%)を明るい褐色の粉末と して得た;FABMS:m/z=630(M+Li);HRMS:C31385 7S(M+H)に対する計算値:624.2429、実測値:624.248 8。 例50 2R−ヒドロキシ−3−[[(2−アミノ−ベンズイミダゾール−5−イル) スルホニル](2−メチルプロピル)アミノ]−1S−(フェニルメチル)プロ ピルアミンの製造 2.5Nメタノール性KOH(2.00ml)中のN−[2R−ヒドロキシ−3 −[[(2−カルボメトキシアミノ−ベンズイミダゾール−5−イル)スルホニ ル](2−メチルプロピル)アミノ]−1S−(フェニルメチル)プロピル]カ ルバミン酸フェニルメチルエステル(0.36g,0.58ミリモル)の溶液を 、窒素雰囲気下に70℃で3時間加熱した。この反応混合物を水(10ml)で稀 釈し、次いでEtOAc(3×15ml)により抽出した。集めた有機抽出液をブ ラインで洗浄し、乾燥させ(Na2SO4)、次いで濃縮した。生成する残留物を 逆相HPLCにより10〜90%CH3CN/H2O勾配を70ml/分の流速で使 用することにより精製した(30分間)。相当するフラクションを集め、凍結乾 燥させ、純粋な2R−ヒドロキシ−3−[[(2−アミノ−ベンズイミダゾール −5−イル)スルホニル](2−メチルプロピル)アミノ]−1S−(フェニル メチル)プロピルアミン(0.22g,58%)を白色粉末として得た;FAB −MS:m/z=432(M+H);HRMS:C213053S(M+H)に 対する計算値:432.2069、実測値:432.2071。 例51 N−[2R−ヒドロキシ−3−[[(2−アミノ−ベンズイミダゾール−5− イル)スルホニル](2−メチルプロピル)アミノ]−1S−(フェニルメチル )プロピル]カルバミン酸フェニルメチルエステルの製造 THF(3.00ml)中の2R−ヒドロキシ−3−[[(2−アミノ−ベンズ イミダゾール−5−イル)スルホニル](2−メチルプロピル)アミノ]−1S −(フェニルメチル)プロピルアミン(0.22g,0.33ミリモル)の溶液 に、トリエチルアミン(0.11g,1.1ミリモル)およびベンジルオキシカ ルボニルスクシンイミド(0.09g,0.36ミリモル)を添加し、この反応 混合物を室温で16時間撹拌した。この溶液を濃縮し、残留物をEtOAc(1 5ml)と飽和水性重炭酸ナトリウムとに分配した。この有機層をブラインで洗浄 し、乾燥させ(Na2SO4)、次いで濃縮した。生成する残留物を逆相HPLC により10〜90%CH3CN/H2O勾配を70ml/分の流速で使用することに より精製した(30分間)。相当するフラクションを集め、凍結乾燥させ、純粋 なN−[2R−ヒドロキシ−3−[[(2−アミノ−ベンズイミダゾール−5− イル)スルホニル](2−メチルプロピル)アミノ]−1S−(フェニルメチル )プロピル]カルバミン酸フェニルメチルエステル(0.12g,61%)を白 色粉末として得た;FAB−MS:m/z=566(M+H);HRMS:C29 3655Sに対する計算値:566.2437(M+H)、実測値:566. 2434。 例52 2R−ヒドロキシ−3−[[(2−カルボメトキシアミノ−ベンズイミダゾー ル−5−イル)スルホニル](2−メチルプロピル)アミノ]−1S−(フェニ ルメチル)プロピルアミンの製造 MeOH(10ml)およびTHF(50ml)中のN−[2R−ヒドロキシ−3 −[[(2−カルボメトキシアミノ−ベンズイミダゾール−5−イル)スルホニ ル](2−メチルプロピル)アミノ]−1S−(フェニルメチル)プロピル]カ ルバミン酸フェニルメチルエステル(2.5g,0.4ミリモル)の溶液を、1 0%Pd/C(1.2g)の存在下に室温で60psi において16時間水素添加 した。触媒を濾過により除去し、濾液を減圧で濃縮した。生成する残留物をエー テルとすり混ぜ、次いで濾過した。このようにして得られた固形物質をエーテル で洗浄し、次いで減圧で乾燥させ、純粋な2R−ヒドロキシ−3−[[(2−カ ルボメトキシアミノ−ベンズイミダゾール−5−イル)スルホニル](2−メチ ルプロピル)アミノ]−1S−(フェニルメチル)プロピルアミン(1.5g, 77%)をオフホワイト色粉末として得た;Rt=12.8分;FAB−MS: m/z=490(M+H);HRMS:C233255Sに対する計算値:49 0.2124(M+H)、実測値:490.2142。 例53 N−[2R−ヒドロキシ−3−[[(2−カルボメトキシアミノ−ベンズイミ ダゾール−5−イル)スルホニル](2−メチルプロピル)アミノ]−1S−( フェニルメチル)プロピル]−2S−アミノ−3,3−ジメチルブタンアミドの 製造 工程A:N−[2R−ヒドロキシ−3−[N1−[(2−カルボメトキシアミノ −ベンズイミダゾール−5−イル)スルホニル]−N1−(2−メチルプロピル )アミノ]−1S−(フェニルメチル)プロピル−2S−[(フェニルメトキシ −カルボニル)アミノ]−3,3−ジメチルブタンアミドの製造 DMF(10ml)中のN−カルボベンジルオキシカルボニル−L−tert− ロイシン(0.65g,2.45ミリモル)の溶液に、HOBt(0.5g,3 .22ミリモル)およびEDC(0.49g,2.55ミリモル)を添加し、生 成する混合物を0℃で2時間撹拌した。次いで、DMF(4ml)中の2R−ヒド ロキシ−3−[[(2−カルボメトキシアミノ−ベンズイミダゾール−5−イル )スルホニル](2−メチルプロピル)アミノ]−1S−(フェニルメチル)プ ロピルアミン(1.2g,2.45ミリモル)およびN−メチルモルホリン(0 .74g,7.3ミリモル)を添加し、この混合物を室温で16時間撹拌した。 DMFを次いで、減圧で留去し、残存する残留物を冷1N水性HCl(100ml )とEtOAc(200ml)とに分配した。この有機層を冷1N HCl(2× 50ml)、ブライン(2×50ml)、0.25N NaOH(3×50ml)、ブ ラインで洗浄し、乾燥させ(Na2SO4)、次いで減圧で濃縮した。生成する残 留物を、溶離剤としてEtOAcを用いるシリカゲルフラッシュカラムクロマト グラフイにより精製し、純粋なN−[2R−ヒドロキシ−3−[[(2−カルボ メトキシアミノ−ベンズイミダゾール−5−イル)スルホニル](2−メチルプ ロピル)アミノ]−1S−(フェニルメチル)プロピル−2S−[(フェニルメ トキシ−カルボニル)アミノ]−3,3−ジメチルブタンアミド1.5g(83 %)を得た:Rt=21.2分;FAB−MS:m/z=737(M+H);H RMS:C374968Sに対する計算値:737.3333(M+H)、実測 値:737.3334。 工程B:N−[2R−ヒドロキシ−3−[[(2−カルボメトキシアミノ−ベン ズイミダゾール−5−イル)スルホニル](2−メチルプロピル)アミノ]−1 S−(フェニルメチル)プロピル]−2S−アミノ−3,3−ジメチルブタンア ミドの製造 MeOH(15ml)およびTFH(65ml)中のN−[2R−ヒドロキシ−3 −[[(2−カルボメトキシアミノ−ベンズイミダゾール−5−イル)スルホニ ル](2−メチルプロピル)アミノ]−1S−(フェニルメチル)プロピル−2 S−[(フェニルメトキシカルボニル)アミノ]−3,3−ジメチルブタンアミ ド(4.0g,5.4ミリモル)の溶液を、10%Pd/C(2.0g)の存在 下に室温で50psi において16時間水素添加した。触媒を濾過により除去し、 濾液を減圧で濃縮した。生成する残留物をエーテルとすり混ぜ、次いで濾過した 。この固形残留物をエーテルで洗浄し、次いで減圧で乾燥させ、N−[2R−ヒ ドロキシ−3−[[(2−カルボメトキシアミノ−ベンズイミダゾール−5−イ ル)スルホニル](2−メチルプロピル)アミノ]−1S−(フェニルメチル) プロピル]−2S−アミノ−3,3−ジメチルブタンアミド(2.9g,88% )を淡黄色粉末として得た。この生成物の一部を逆相HPLCにより10〜90 %CH3CN/H2O勾配を70ml/分の流速で使用することにより精製した(3 0分間)。相当するフラクションを集め、凍結乾燥させ、純粋なN−[2R−ヒ ドロキシ−3−[[(2−カルボメトキシアミノ−ベンズイミダゾール−5−イ ル)スルホニル](2−メチルプロピル)アミノ]−1S−(フェニルメチル) プロピル]−2S−アミノ−3,3−ジメチルブタンアミドを白色粉末として得 た;Rt=13.9分;FAB−MS:m/z=609(M+Li)、603( M+H);HRMS:C294366Sに対する計算値:603.2965(M +H)、実測値:603.2972。 例54 前記例の方法に従い、表2〜19に記載の化合物を製造することができる。 例55 本発明化合物は、効果的なHIVプロテアーゼ阻害因子である。後述する酵素 検定法を用いたところ、本明細書中に開示された実施例に記載の化合物はHIV 酵素を阻害した。本発明に係る特に適当な化合物ならびにそれらのIC50計算値 (50%阻害濃度、即ち阻害剤化合物が酵素活性を50%だけ減少させる濃度) を表10に示す。酵素法を下に記述する。基質は2−Ile−Nle−Phe( p−NO2)−Gln−ArgNH2である。正の対照はMVT−101(Miller ,M 等,Science, 246,1149(1989))である。検定法の条件は次 の通りである: 検定緩衝液 20mM リン酸ナトリウム、pH6.4 20%グリセリン 1mM EDTA 1mM DTT 0.1% CHAPS 上記基質をDMSOに溶かし、次に検定緩衝液で10倍希釈した。検定における 最終基質濃度は80μM である。HIVプロテアーゼを検定緩衝液で、分子量1 0,780に基づき12.3ナノモルの最終酵素濃度に希釈した。 DMSOの最終濃度は14%であり、グリセリンの最終濃度は18%である。 試験化合物をDMSOに溶かし、試験濃度の10×までDMSOで希釈する。酵 素調製物10μl を加え、材料を混合し、次に混合物を室温で15分インキュベ ートする。酵素反応は基質40μl の添加により開始させる。蛍光増加を室温で 四つの時間点(0分、8分、16分および24分)でモニターする。各検定法を 二重のウェルで行なった。 一般的にあるいは特定的に述べた本発明に係る反応体および(または)操作条 件を、前記諸例で用いたものの代りに使用することによって前記実施例を繰り返 し同様な成功を収めることができる。例56 上記酵素検定法およびCEM細胞検定法で種々な化合物の有効性を測定した。 急性的に感染させた細胞のHIV阻害検定法は、Pauwles 等、J .Virol. Methods, 20,309−321(1988)により本質的に報告された、自動 化されたテトラゾリウムを基本とする比色検定法である。検定は96−穴組織培 養板で行なった。CEM細胞(CD4+細胞系)を、10%ウシ胎児血清で補な ったRPMI−1640培地(Gibco)で培養し、次にポリブレン(2μg/ml)で 処理した。1×104個の細胞を含む培地80μl 容を組織培養板の各穴に分配 した。各穴へ、望む最終濃度を達成するように組織培養培地(あるいは試験化合 物を含まない対照としての培地)に溶かした試験化合物100μl 容を加え、細 胞を37℃で1時間インキュベートした。HIV−1の冷凍培養を、培地で5× 104 TCID50/ml(TCID50=組織培養中の細胞の50%に感染するウ ィルス量)の濃度に希釈し、ウィルス試料(1000TCID50のウィルスを含 む)20μl 容を、試験化合物を含む穴および培地だけを含む(感染対照細胞) 穴へ加えた。幾つかの穴にはウィルスを含まない培地(未感染対照細胞)を加え た。同様に、試験化合物を含む幾つかの穴へ、ウィルスを含まない培地を加える ことにより試験化合物の固有の毒性を測定した。要約すると、組織培養板は下記 の実験を含む。 実験2と4における試験化合物の最終濃度は、1、10、100および500 μg/mlとした。アジドチミジン(AZT)またはジデオキシイノシン(ddI )はいずれも正の薬物対照として含めた。試験化合物はDMSOに溶解し、最終 DMSO濃度が、如何なる場合にも1.5%を超えないように、組織培養培地中 に希釈されるようにした。すべての対照穴へDMSOを適当な濃度で加えた。 ウィルスの添加後、湿気を与えた5%CO2雰囲気中37℃で、細胞を7日間 インキュベートした。試験化合物は、必要に応じ、0日目、2日目および5日目 に加えた。感染後、7日目に各穴の細胞を再浮遊させ、各細胞浮遊液の100μ l 試料を取り除き検定に供した。3−(4,5−ジメチルチアゾール−2−イル )−2,5−ジフェニルテトラゾリウムブロミド(MTT)の5mg/ml溶液20 μl 容を各100μl 細胞浮遊液へ加え、細胞を5%CO2環境中27℃で4時 間インキュベートした。このインキュベーション中に、MTTは生きている細胞 によって代謝的に還元され、着色ホルマザン生成物をもつ細胞を生ずる。各試料 へ0.01N HCl中10%ドデシル硫酸ナトリウム100μl を加えて細胞 を破壊し、試料を一晩インキュベートした。各試料に対し Molecular Devicesマ イクロプレート リーダーを使用することにより590nmにおける吸光度を測定 した。各穴セットの吸光度値を比較してウィルスによる対照感染、未感染対照細 胞応答ならびに細胞毒性および抗ウィルス効力による試験化合物の評価を行なっ た。 本発明化合物は、上に示されるように、効果的な抗ウィルス性化合物であり、 とりわけ効果的なレトロウィルス阻害剤である。従って、本発明化合物は効果的 なHIVプロテアーゼ阻害因子である。本発明化合物は、他のレトロウィルス、 例えば他のレンチウィルス(lentivirus)、とりわけ他のHIV株、例えばHI V−2、ヒトT−細胞白血病ウィルス、呼吸器シンシチウム(syncitial)ウィ ルス、サル免疫不全ウィルス、ネコ白血病ウィルス、ネコ免疫不全ウィルス、ヘ パドナウィルス(hepadnavirus)、サイトメガロウィルスおよびピコルナウィル スも抑制することが企図されている。従って、本発明化合物はレトロウィルス感 染症の治療、予防および(または)レトロウィルス感染症の蔓延の防止に有効で ある。 本発明化合物は、溶液中でレトロウィルスの増殖を防止するにも有効である。 ヒトおよび動物両方の細胞培養、例えば、T−リンパ球培養、はキャリブレータ ーおよび対照を含めて研究および診断法のようなよく知られた種々な目的に対し て利用される。細胞培養の発育および貯蔵の前および途中において、細胞培養の 中に偶然に、気付かずに、あるいは故意に存在するかも知れないレトロウィルス の予期せざる、あるいは望まない複製を防止するために、本発明化合物を細胞培 養の培地へ有効濃度で添加することができる。ウィルスは細胞培養中に最初から 存在するかもしれず、例えばHIVは、それを血液中に検出できるずっと以前か ら、あるいはウィルスへの曝露によって、ヒトT−リンパ球の中に存在すること が知られている。本発明化合物のこの使用法は、潜在的に致命的なレトロウィル スに、研究者または臨床医が気付かずに、あるいは偶然にさらされることを防止 するものである。 本発明化合物は、1個以上の不斉炭素原子をもち、従って光学異性体の形で、 またそのラセミ混合物あるいは非ラセミ混合物の形で存在できる。光学異性体は 、通常の方法によるラセミ混合物の分割により、例えば光学活性な酸または塩基 での処理によってジアステレオ異性体の塩を形成させることにより、得ることが できる。適当な酸の例は、酒石酸、ジアセチル酒石酸、ジベンゾイル酒石酸、ジ トルオイル酒石酸およびショウノウスルホン酸であり、次にジアステレオ異性体 の混合物を結晶化によって分離し、続いてこれら塩から光学活性塩基を遊離させ る。 光学異性体の異なる分離法は、鏡像体の分離が最大となるように最適に選ばれた キラルなクロマトグラフィーカラムの使用である。更に他の利用できる方法は、 式Iの化合物を活性化形の光学的に純粋な酸と、あるいは光学的に純粋なイソシ アネートと反応させることにより、共有結合によるジアステレオ異性体分子を合 成する方法である。合成されたジアステレオ異性体は通常の手段、例えばクロマ トグラフィー、蒸留、結晶化または昇華により分けることができ、次に加水分解 して鏡像体的に純粋な化合物を供給できる。式Iの光学活性化合物は、同様に、 光学活性な出発原料を利用することにより得ることができる。これら異性体は遊 離酸、遊離塩基、エステルまたは塩の形をとることができる。 本発明化合物は、無機酸または有機酸から誘導される塩の形で使用できる。こ れら塩の例として下記のものが挙げられるが、これらに限定されない:酢酸塩、 アジピン酸塩、アルギン酸塩、クエン酸塩、アスパラギン酸塩、安息香酸塩、ベ ンゼンスルホン酸塩、重硫酸塩、酪酸塩、ショウノウ酸塩、ショウノウスルホン 酸塩、ジクルコン酸塩、シクロペンタンプロピオン酸塩、ドデシル硫酸塩、エタ ンスルホン酸塩、グルコヘプタン酸塩、グリセロリン酸塩(グリセロホスフェー ト)、半硫酸塩、ヘプタン酸塩、ヘキサン酸塩、フマル酸塩、塩酸塩、臭化水素 酸塩、ヨウ化水素酸塩、2−ヒドロキシエタンスルホン酸塩、乳酸塩、マレイン 酸塩、メタンスルホン酸塩、ニコチン酸塩、2−ナフタレンスルホン酸塩、シュ ウ酸塩、パルモエート(palmoate)、ペクチニン酸塩、過硫酸塩、3−フェニル プロピオン酸塩、ピクリン酸塩、ピバリン酸塩、プロピオン酸塩、コハク酸塩、 酒石酸塩、チオシアン酸塩、p−トルエンスルホン酸塩、メシレートおよびウン デカン酸塩。また、塩基性窒素含有基は、低級ハロゲン化アルキル、例えばメチ ル、エチル、プロピル、およびブチルクロリド、ブロミド、およびヨージド;ジ アルキルサルフェート、例えばジメチル、ジエチル、ジブチル、およびジアミル サルフェート、長鎖ハロゲン化物、例えばデシル、ラウリル、ミリスチルおよび ステアリルクロリド、ブロミドおよびヨウジド、ハロゲン化アルアルキル、例え ばベンジルおよびフェネチルブロミド、その他のような試剤で四級化できる。そ れにより水または油に溶ける、あるいは分散しうる生成物が得られる。 製薬上容認しうる酸付加塩をつくるために使用できる酸の例として、無機酸、 例えば塩酸、硫酸およびリン酸、ならびに有機酸、例えばシュウ酸、マレイン酸 、コハク酸およびクエン酸が挙げられる。他の例にはアルカリ金属またはアルカ リ土類金属、例えばナトリウム、カリウム、カルシウムまたはマグネシウムとの 塩あるいは有機塩基との塩がある。 患者に対して一回分量として、あるいは分割された量として投与される合計の 1日分量は、例えば体重1キログラム当り毎日0.001から10mg、更に普通 には0.01から1mgの量でよい。投与単位組成物は1日分量を構成する約量と いった量を含むことができる。 担体材料と合わせて単一剤形をつくる活性成分の量は、処置を受ける患者およ び個々の投与様式によって変化するであろう。 本発明化合物および(または)組成物による病状治療のための投与計画は、種 種な因子、例えば患者のタイプ、年令、体重、性別、日常の食事および医学的状 態、病気の重篤さ、投与経路、薬理学的考慮事項、例えば用いた特定化合物の活 性、効力、薬物動力学的および毒物学的プロフィル、どのような薬物投与系を用 いるか、また化合物を薬物コンビネーションの一部として投与するかどうかに従 って選ばれる。従って、実際に用いられる投与計画は広く変化することができ、 そのため上に述べた特に適当な投与計画からそれることがある。 本発明化合物は、必要に応じ通常の製薬上容認しうる無毒性担体、補助剤、お よびビヒクルを含む投与単位製剤として、経口的に、非経口的に、吸入スプレー により、直腸内に、または局所的に投与できる。局所投与はまた経皮投与、例え ば経皮パッチあるいはイオン導入装置を使用することがある。本明細書中で用い た非経口という用語は、皮下注射、静脈内、筋肉内、胸骨内注射、あるいは注入 技術を包含する。 注射製剤、例えば無菌注射用の水性あるいは油性懸濁系は公知の技術に従い、 適当な分散剤あるいは湿潤剤および懸濁剤を用いて処方できる。無菌注射製剤は また製薬上容認しうる希釈剤あるいは溶媒中の無菌注射用溶液あるいは懸濁系、 例えば1,3−ブタンジオール中の溶液でもよい。使用可能な容認できるビヒク ルおよび溶媒には水、リンゲル溶液および等張塩化ナトリウム溶液である。更に また、無菌の固定油も溶媒または懸濁媒質として従来から使用されている。この 目的に対し、合成モノ−またはジグリセリドを含めて口当りのよい固定油はどれ も用いられる。更にまた、オレイン酸のような脂肪酸は注射剤の製造に使用でき る。 薬剤の直腸投与に適する座剤は薬物を適当な無刺激性賦形薬、例えばカカオ脂 およびポリエチレングリコールと混合することにより調製できる。これら賦形薬 は常温では固体であるが直腸温度では液体であり、従って直腸内で融けて薬物を 放出する。 経口投与用の固体剤形には、カプセル、錠剤、丸剤、粉末、および顆粒剤があ る。このような固体剤形においては、活性化合物を少なくとも1種の不活性希釈 剤、例えばショ糖、乳糖またはデンプンと混合する。このような剤形は、通常の 習慣として、不活性希釈剤の外に更に他の物質、例えば滑沢剤、例えばステアリ ン酸マグネシウム、を含むことができる。カプセル、錠剤、および丸剤の場合、 これら剤形は緩衝剤も含むことがある。錠剤および丸剤は更に腸溶性被覆をつけ て製造できる。 経口投与用の液体剤形の例として、この分野で常用される水のような不活性希 釈剤を含む、製薬上容認しうる乳濁系、溶液、懸濁系、シロップ、およびエリキ シルを挙げることができる。このような組成物は補助剤、例えば湿潤剤、乳化剤 および懸濁剤、ならびに甘味剤、フレーバ剤、および着香剤も含有することがで きる。 本発明化合物を唯一の活性医薬剤として投与することができるが、これらは1 種以上の免疫調節剤、抗ウィルス剤または他の感染防止剤とのコンビネーション としても使用できる。例えば、本発明化合物は、エイズの予防および(または) 治療のため、AZT、DDI、DDCと、あるいはグルコシダーゼ阻害剤、例え ばN−ブチル−1−デオキシノジリマイシンまたはそのプロドラッグ、とのコン ビネーションとして投与できる。コンビネーションとして投与する場合、治療剤 を別個の組成物として処方して、それらを同時に与えるか、または異なる時間に 投与することができ、あるいは治療剤を単一組成物として投与することができる 。 上記説明は単に本発明の例示に過ぎないのであって、本発明をここに開示され た化合物に限定しようとするものではない。当業者にとって明白な変法および変 更は、請求の範囲に定義された本発明の範囲と本質の中に包含されるものとする 。 上記説明から、当業者は本発明の本質的な特徴を容易に確認することができ、 そして本発明の主旨と範囲から離れることなく本発明の種々な変化と修飾を行な って、これを各種の使用法および条件に適合させることができる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (81)指定国 EP(AT,BE,CH,DE, DK,ES,FI,FR,GB,GR,IE,IT,L U,MC,NL,PT,SE),OA(BF,BJ,CF ,CG,CI,CM,GA,GN,ML,MR,NE, SN,TD,TG),AP(KE,LS,MW,SD,S Z,UG),UA(AM,AZ,BY,KG,KZ,MD ,RU,TJ,TM),AL,AM,AT,AU,AZ ,BB,BG,BR,BY,CA,CH,CN,CZ, DE,DK,EE,ES,FI,GB,GE,HU,I S,JP,KE,KG,KP,KR,KZ,LK,LR ,LS,LT,LU,LV,MD,MG,MK,MN, MW,MX,NO,NZ,PL,PT,RO,RU,S D,SE,SG,SI,SK,TJ,TM,TR,TT ,UA,UG,US,UZ,VN (72)発明者 デクレセンゾ,ゲイリー エイ. アメリカ合衆国 63376 ミズーリ州セン トピーター,シュレイダー ファーム ド ライブ 536 (72)発明者 フレスコス,ジョン エヌ. アメリカ合衆国 63105 ミズーリ州クレ イトン,ヨーク 7572 (72)発明者 バズクェズ,マイケル エル. アメリカ合衆国 60031 イリノイ州ガー ニー,サラトガ コート 233 (72)発明者 シコルスキー,ジェームズ エイ. アメリカ合衆国 63131 ミズーリ州デス ペレス,イースト ロイヤル コート 2313 (72)発明者 デバダス,バレクドル アメリカ合衆国 63017 ミズーリ州チェ スターフィールド,パラソル ドライブ 2175 (72)発明者 ナガラヤン,スリニバサン アメリカ合衆国 63005 ミズーリ州チェ スターフィールド,フォレスト メドウズ ドライブ 16209 (72)発明者 ブラウン,デビッド エル. アメリカ合衆国 63017 ミズーリ州チェ スターフィールド,ツィンゲイト 15504 (72)発明者 マクドナルド,ジョセフ ジェイ. アメリカ合衆国 63021 ミズーリ州ボー ルウィン,ヨハンナ ドライブ 1036

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1.下記式で表わされる化合物、あるいはその医薬として許容される塩、プロ ドラッグまたはエステル: 式中、 nは、0または1を表わし; R1は、炭素原子1〜5個を有するアルキル、炭素原子2〜5個を有するアル ケニル、炭素原子2〜5個を有するアルキニル、炭素原子1〜3個を有するヒド ロキシアルキル、1〜3個のアルキル炭素原子および1〜3個のアルコキシ炭素 原子を有するアルコキシアルキル、1〜3個のアルキル炭素原子を有するシアノ アルキル、イミダゾリルメチル、−CH2CONH2、−CH2CH2CONH2、 −CH2S(O)2NH2、−CH2SCH3、−CH2S(O)CH3、−CH2S( O)2CH3、−C(CH32SCH3、−C(CH32S(O)CH3または−C (CH32S(O)2CH3基を表わし; R2は、炭素原子1〜5個を有するアルキル、1〜3個のアルキル炭素原子を 有するアラルキル、1〜3個のアルキル炭素原子を有するアルキルチオアルキル 、1〜3個のアルキル炭素原子を有するアリールチオアルキルまたは1〜3個の アルキル炭素原子および3〜6個の環員炭素原子を有するシクロアルキルアルキ ル基を表わし; R3は、炭素原子1〜5個を有するアルキル基、5〜8個の環員を有するシク ロアルキルまたは3〜6個の環員を有するシクロアルキルメチル基を表わし; R4は、アリール、ベンゾ縮合した5〜6個の環員を有するヘテロアリールま たはベンゾ縮合した5〜6個の環員を有するヘテロシクロ基を表わし;あるいは R4は、下記式で表わされる基を表わし: (式中、AおよびBはそれぞれ独立して、O、S、SOまたはSO2を表わし; R6は、ジュウテリウム、炭素原子1〜5個を有するアルキル、フルオロまたは クロロ基を表わし;R7は、水素、ジュウテリウム、メチル、フルオロまたはク ロロ基を表わす);あるいは R4は下記式で表わされる基を表わし: (式中、Zは、O、SまたはNHを表わし;そしてR9は下記式で表わされる基 を表わし: これらの基において、Yは、O、SまたはNHを表わし;Xは結合、Oまたは NR21を表わし; R20は、水素、炭素原子1〜5個を有するアルキル、炭素原子2〜5個を有す るアルケニル、炭素原子2〜5個を有するアルキニル、1〜5個のアルキル炭素 原子を有するアラルキル、5〜6個の環員および1〜5個のアルキル炭素原子を 有するヘテロアラルキル、5〜6個の環員および1〜5個のアルキル炭素原子を 有するヘテロシクロアルキル、炭素原子2〜5個を有するアミノアルキル、2〜 5個のアルキル炭素原子を有するN−モノ置換−またはN,N−ジ置換アミノア ルキル基[この置換基は炭素原子1〜3個を有するアルキル、1〜3個のアルキ ル炭素原子を有するアラルキル、炭素原子1〜5個を有するカルボキシアルキル 、1〜5個のアルキル炭素原子を有するアルコキシカルボニルアルキル、炭素原 子1〜5個を有するシアノアルキルまたは炭素原子2〜5個を有するヒドロキシ ア ルキルである]を表わし; R21は、水素基または炭素原子1〜3個を有するアルキル基を表わし;あるい は式−NR2021で表わされる基は5〜6個の環員を有するヘテロシクロ基を表 わし;そして R22は、炭素原子1〜3個を有するアルキル基または1〜3個のアルキル炭素 原子を有するR2021N−アルキル基を表わす); R10は、水素、炭素原子1〜3個を有するアルキル、ベンジル、フェニルメト キシカルボニル、tert−ブトキシカルボニルまたは(4−メトキシフェニル メトキシ)カルボニル基を表わし; R11は、水素、ヒドロキシアルキルまたはアルコキシアルキル基(この基中の アルキルは炭素原子1〜3個を有する)を表わし;そして R12およびR13はそれぞれ独立して、水素、ヒドロキシ、アルコキシ、2−ヒ ドロキシエトキシ、ヒドロキシアルキルまたはアルコキシアルキル基(これらの 基中のアルキルは炭素原子1〜3個を有する)を表わし;あるいはR11とR12ま たはR12とR13は、これらが結合している炭素原子と一緒になって、ベンゾ基を 表わし、この基は置換基として少なくとも1個のヒドロキシまたは炭素原子1〜 3個を有するアルコキシ基を有していてもよい。 2.R1は、炭素原子1〜4個を有するアルキル、炭素原子2〜3個を有する アルケニル、炭素原子3〜4個を有するアルキニル、シアノメチル、イミダゾリ ルメチル、−CH2CONH2、−CH2CH2CONH2、−CH2S(O)2NH2 、−CH2SCH3、−CH2S(O)CH3、−CH2S(O)2CH3、−C(C H32SCH3、−C(CH32S(O)CH3または−C(CH32S(O)2 CH3基を表わし;そして R2は、炭素原子3〜5個を有するアルキル、アリールメチル、1〜3個のア ルキル炭素原子を有するアルキルチオアルキル、アリールチオメチルまたは5〜 6個の環員炭素原子を有するシクロアルキルメチル基を表わし; R3は、炭素原子1〜5個を有するアルキル基、3〜6個の環員を有するシク ロアルキルメチル、シクロヘキシルまたはシクロヘプチル基を表わし; R4は、フェニル、2−ナフチル、4−メトキシフェニル、4−ヒドロキシフ ェニル、3,4−ジメトキシフェニル、3−アミノフェニル、4−アミノフェニ ル、2−アミノ−ベンゾチアゾール−5−イル、2−アミノ−ベンゾチアゾール −6−イル、ベンゾチアゾール−5−イル、ベンゾチアゾール−6−イル、ベン ズオキサゾール−5−イル、2,3−ジヒドロベンゾフラン−5−イル、ベンゾ フラン−5−イル、1,3−ベンゾジオキソール−5−イルまたは1,4−ベン ゾジオキサン−6−イル基を表わし;あるいはR4は、下記式で表わされる基を 表わし: (式中、AおよびBはそれぞれ、Oを表わし;R6は、ジュウテリウム、メチル 、エチル、プロピル、イソプロピルまたはフルオロ基を表わし;そしてR7は、 水素、ジュウテリウム、メチルまたはフルオロ基を表わす);あるいはR4は下 記式で表わされる基を表わす: (式中、Zは、O、SまたはNHを表わし;そしてR9は下記式で表わされる基 を表わし: これらの基において、Yは、O、SまたはNHを表わし;Xは結合、Oまたは NR21を表わし; R20は、水素、炭素原子1〜5個を有するアルキル、1〜3個のアルキル炭素 原子を有するフェニルアルキル、5〜6個の環員および1〜3個のアルキル炭素 原子を有するヘテロシクロアルキル、あるいは2〜3個のアルキル炭素原子を有 するN−モノ置換−またはN,N−ジ置換アミノアルキル基[この置換基は炭素 原子1〜3個を有するアルキル基である]を表わし;そして R21は、水素またはメチル基を表わし;あるいは式−NR2021で表わされる 基は、ピロリジニル、ピペリジニル、ピペラジニル、4−メチルピペラジニル、 4−ベンジルピペラジニル、モルホリニルまたはチアモルホリニル基を表わし; そして R22は、炭素原子1〜3個を有するアルキルを表わす)、 化合物、あるいはその医薬として許容される塩、プロドラッグまたはエステルで ある請求項1に記載の化合物。 3.nは0であり; R1は、イソプロピル、sec−ブチル、tert−ブチル、3−プロピニル 、イミダゾリルメチル、−CH2CONH2、−CH2SCH3、−CH2S(O) CH3、−CH2S(O)2CH3、−C(CH32SCH3、−C(CH32S( O)CH3または−C(CH32S(O)2CH3基を表わし; R2は、イソブチル、n−ブチル、CH3SCH2CH2−、フェニルチオメチル 、(2−ナフチルチオ)メチル、ベンジル、4−メトキシフェニルメチル、4− ヒドロキシフェニルメチル、4−フルオロフェニルメチルまたはシクロヘキシル メチル基を表わし; R3は、プロピル、イソアミル、イソブチル、ブチル、シクロヘキシル、シク ロヘプチル、シクロペンチルメチルまたはシクロヘキシルメチル基を表わし; R4は、フェニル、2−ナフチル、4−メトキシフェニル、4−ヒドロキシフ ェニル、ベンゾチアゾール−5−イル、ベンゾチアゾール−6−イル、ベンズオ キサゾール−5−イル、2,3−ジヒドロベンゾフラン−5−イル、ベンゾフラ ン−5−イル、1,3−ベンゾジオキソール−5−イル、2−メチル−1,3− ベンゾジオキソール−5−イル、2,2−ジメチル−1,3−ベンゾジオキソー ル−5−イル、2,2−ジジュウテロ−1,3−ベンゾジオキソール−5−イル 、2,2−ジフルオロ−1,3−ベンゾジオキソール−5−イルまたは1,4− ベンゾジオキサン−6−イル基を表わし;あるいはR4は、下記式で表わされる 基を表わし: (式中、Zは、O、SまたはNHを表わし;そしてR9は下記式で表わされる基 を表わし: これらの基において、Yは、O、SまたはNHを表わし;Xは結合、Oまたは NR21を表わし; R20は、水素、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、イソブチル、ベン ジル、2−(1−ピロリジニル)エチル、2−(1−ピペリジニル)エチル、2 −(1−ピペラジニル)エチル、2−(4−メチルピペラジン−1−イル)エチ ル、2−(1−モルホリニル)エチル、2−(1−チアモルホリニル)エチルま たは2−(N,N−ジメチルアミノ)エチル基を表わし; R21は、水素基を表わし;そして R22は、メチル基を表わす)、 R10は、水素、メチルまたはベンジル基を表わし; R11は、水素基を表わし;そして R12およびR13はそれぞれ独立して、水素、ヒドロキシまたはメトキシ基を表 わし;あるいはR11とR12は、これらが結合している炭素原子と一緒になって、 ベンゾ基を表わし、この基は置換基として少なくとも1個のヒドロキシまたはメ トキシ基を有していてもよい)、 化合物、あるいはその医薬として許容される塩、プロドラッグまたはエステルで ある請求項2に記載の化合物。 4.R1は、sec−ブチル、tert−ブチル、イソプロピル、3−プロピ ニルまたは−C(CH32S(O)2CH3基を表わし; R2は、ベンジル、4−フルオロフェニルメチルまたはシクロヘキシルメチル 基を表わし; R4は、フェニル、4−メトキシフェニル、4−ヒドロキシフェニル、ベンゾ チアゾール−5−イル、ベンゾチアゾール−6−イル、2,3−ジヒドロベンゾ フラン−5−イル、ベンゾフラン−5−イル、1,3−ベンゾジオキソール−5 −イル、2−メチル−1,3−ベンゾジオキソール−5−イル、2,2−ジメチ ル−1,3−ベンゾジオキソール−5−イル、2,2−ジジュウテロ−1,3− ベンゾジオキソール−5−イル、2,2−ジフルオロ−1,3−ベンゾジオキソ ール−5−イル、1,4−ベンゾジオキサン−6−イル、2−(メトキシカルボ ニルアミノ)ベンゾチアゾール−6−イルまたは2−(メトキシカルボニルアミ ノ)ベンズイミダゾール−5−イル基を表わし; R10は、水素またはメチル基を表わし; R12は、水素またはヒドロキシ基を表わし;そして R13は、水素基を表わす、 化合物、あるいはその医薬として許容される塩、プロドラッグまたはエステルで ある請求項3に記載の化合物。 5.上記医薬として許容される塩が、塩酸塩、硫酸塩、リン酸塩、シュウ酸塩 、マレイン酸塩、コハク酸塩、クエン酸塩またはメタンスルホン酸塩である請求 項1に記載の化合物。 6.上記医薬として許容される塩が、塩酸塩、シュウ酸塩、クエン酸塩または メタンスルホン酸塩である請求項5に記載の化合物。 7.下記の化合物である、請求項1に記載の化合物: 2S−[[(ピロリジン−2−イル)カルボニル]アミノ]−N−[2R−ヒ ドロキシ−3−[[(1,3−ベンゾジオキソール−5−イル)スルホニル]( 2−メチルプロピル)アミノ]−1S−(フェニルメチル)プロピル]−3,3 −ジメチル−ブタンアミド; 2S−[[(ピロリジン−2−イル)カルボニル]アミノ]−N−[2R−ヒ ドロキシ−3−[[(1,3−ベンゾジオキソール−5−イル)スルホニル]( 2−メチルプロピル)アミノ]−1S−(フェニルメチル)プロピル]−3−メ チル−ブタンアミド; 2S−[[(ピロリジン−2−イル)カルボニル]アミノ]−N−[2R−ヒ ドロキシ−3−[[(1,3−ベンゾジオキソール−5−イル)スルホニル]( 2−メチルプロピル)アミノ]−1S−(フェニルメチル)プロピル]−3S− メチル−ペンタンアミド; 2S−[[(ピロリジン−2−イル)カルボニル]アミノ]−N−[2R−ヒ ドロキシ−3−[[(1,3−ベンゾジオキソール−5−イル)スルホニル]( 2−メチルプロピル)アミノ]−1S−(フェニルメチル)プロピル]−4−ペ ンチンアミド; 2S−[[(ピロリジン−2−イル)カルボニル]アミノ]−N−[2R−ヒ ドロキシ−3−[[フェニルスルホニル](2−メチルプロピル)アミノ]−1 S−(フェニルメチル)プロピル]−3,3−ジメチル−ブタンアミド; 2S−[[(ピロリジン−2−イル)カルボニル]アミノ]−N−[2R−ヒ ドロキシ−3−[[フェニルスルホニル](2−メチルプロピル)アミノ]−1 S−(フェニルメチル)プロピル]−3−メチル−ブタンアミド; 2S−[[(ピロリジン−2−イル)カルボニル]アミノ]−N−[2R−ヒ ドロキシ−3−[[フェニルスルホニル](2−メチルプロピル)アミノ]−1 S−(フェニルメチル)プロピル]−3S−メチル−ペンタンアミド; 2S−[[(ピロリジン−2−イル)カルボニル]アミノ]−N−[2R−ヒ ドロキシ−3−[[フェニルスルホニル](2−メチルプロピル)アミノ]−1 S−(フェニルメチル)プロピル]−4−ペンチンアミド; 2S−[[(ピロリジン−2−イル)カルボニル]アミノ]−N−[2R−ヒ ドロキシ−3−[[(4−メトキシフェニル)スルホニル](2−メチルプロピ ル)アミノ]−1S−(フェニルメチル)プロピル]−3,3−ジメチル−ブタ ンアミド; 2S−[[(ピロリジン−2−イル)カルボニル]アミノ]−N−[2R−ヒ ドロキシ−3−[[(4−メトキシフェニル)スルホニル](2−メチルプロピ ル)アミノ]−1S−(フェニルメチル)プロピル]−3−メチル−ブタンアミ ド; 2S−[[(ピロリジン−2−イル)カルボニル]アミノ]−N−[2R−ヒ ドロキシ−3−[[(4−メトキシフェニル)スルホニル](2−メチルプロピ ル)アミノ]−1S−(フェニルメチル)プロピル]−3S−メチル−ペンタン アミド; 2S−[[(ピロリジン−2−イル)カルボニル]アミノ]−N−[2R−ヒ ドロキシ−3−[[(4−メトキシフェニル)スルホニル](2−メチルプロピ ル)アミノ]−1S−(フェニルメチル)プロピル]−4−ペンチンアミド; 2S−[[(ピロリジン−2−イル)カルボニル]アミノ]−N−[2R−ヒ ドロキシ−3−[[(2,3−ジヒドロベンゾフラン−5−イル)スルホニル] (2−メチルプロピル)アミノ]−1S−(フェニルメチル)プロピル]−3, 3−ジメチル−ブタンアミド; 2S−[[(ピロリジン−2−イル)カルボニル]アミノ]−N−[2R−ヒ ドロキシ−3−[[(2,3−ジヒドロベンゾフラン−5−イル)スルホニル] (2−メチルプロピル)アミノ]−1S−(フェニルメチル)プロピル]−3− メチル−ブタンアミド; 2S−[[(ピロリジン−2−イル)カルボニル]アミノ]−N−[2R−ヒ ドロキシ−3−[[(2,3−ジヒドロベンゾフラン−5−イル)スルホニル] (2−メチルプロピル)アミノ]−1S−(フェニルメチル)プロピル]−3S −メチル−ペンタンアミド; 2S−[[(ピロリジン−2−イル)カルボニル]アミノ]−N−[2R−ヒ ドロキシ−3−[[(2,3−ジヒドロベンゾフラン−5−イル)スルホニル] (2−メチルプロピル)アミノ]−1S−(フェニルメチル)プロピル]−4− ペンチンアミド; 2S−[[(ピロリジン−2−イル)カルボニル]アミノ]−N−[2R−ヒ ドロキシ−3−[[(ベンゾチアゾール−6−イル)スルホニル](2−メチル プロピル)アミノ]−1S−(フェニルメチル)プロピル]−3,3−ジメチル −ブタンアミド; 2S−[[(ピロリジン−2−イル)カルボニル]アミノ]−N−[2R−ヒ ドロキシ−3−[[(ベンゾチアゾール−6−イル)スルホニル](2−メチル プロピル)アミノ]−1S−(フェニルメチル)プロピル]−3−メチル−ブタ ンアミド; 2S−[[(ピロリジン−2−イル)カルボニル]アミノ]−N−[2R−ヒ ドロキシ−3−[[(ベンゾチアゾール−6−イル)スルホニル](2−メチル プロピル)アミノ]−1S−(フェニルメチル)プロピル]−3S−メチル−ペ ンタンアミド; 2S−[[(ピロリジン−2−イル)カルボニル]アミノ]−N−[2R−ヒ ドロキシ−3−[[(ベンゾチアゾール−6−イル)スルホニル](2−メチル プロピル)アミノ]−1S−(フェニルメチル)プロピル]−4−ペンチンアミ ド; 2S−[[(ピロリジン−2−イル)カルボニル]アミノ]−N−[2R−ヒ ドロキシ−3−[[(2−ナフチル)スルホニル](2−メチルプロピル)アミ ノ]−1S−(フェニルメチル)プロピル]−3,3−ジメチル−ブタンアミド ; 2S−[[(ピロリジン−2−イル)カルボニル]アミノ]−N−[2R−ヒ ドロキシ−3−[[(2−ナフチル)スルホニル](2−メチルプロピル)アミ ノ]−1S−(フェニルメチル)プロピル]−3−メチル−ブタンアミド; 2S−[[(ピロリジン−2−イル)カルボニル]アミノ]−N−[2R−ヒ ドロキシ−3−[[(2−ナフチル)スルホニル](2−メチルプロピル)アミ ノ]−1S−(フェニルメチル)プロピル]−3S−メチル−ペンタンアミド; 2S−[[(ピロリジン−2−イル)カルボニル]アミノ]−N−[2R−ヒ ドロキシ−3−[[(2−ナフチル)スルホニル](2−メチルプロピル)アミ ノ]−1S−(フェニルメチル)プロピル]−4−ペンチンアミド; 2S−[[(ピロリジン−2−イル)カルボニル]アミノ]−N−[2R−ヒ ドロキシ−3−[[(1,4−ベンゾジオキサン−6−イル)スルホニル](2 −メチルプロピル)アミノ]−1S−(フェニルメチル)プロピル]−3,3− ジメチル−ブタンアミド; 2S−[[(ピロリジン−2−イル)カルボニル]アミノ]−N−[2R−ヒ ドロキシ−3−[[(1,4−ベンゾジオキサン−6−イル)スルホニル](2 −メチルプロピル)アミノ]−1S−(フェニルメチル)プロピル]−3−メチ ル−ブタンアミド; 2S−[[(ピロリジン−2−イル)カルボニル]アミノ]−N−[2R−ヒ ドロキシ−3−[[(1,4−ベンゾジオキサン−6−イル)スルホニル](2 −メチルプロピル)アミノ]−1S−(フェニルメチル)プロピル]−3S−メ チル−ペンタンアミド;または 2S−[[(ピロリジン−2−イル)カルボニル]アミノ]−N−[2R−ヒ ドロキシ−3−[[(1,4−ベンゾジオキサン−6−イル)スルホニル](2 −メチルプロピル)アミノ]−1S−(フェニルメチル)プロピル]−4−ペン チンアミド。 8.請求項1に記載の化合物および医薬上で許容される担体からなる組成物。 9.有効量の請求項1に記載の化合物を投与することからなるレトロウイルス プロテアーゼの阻害方法。 10.有効量の請求項8に記載の組成物を投与することからなるレトロウイルス 感染の処置方法。 11.有効量の請求項1に記載の化合物を投与することからなるレトロウイルス の複製を防止する方法。 12.有効量の請求項1に記載の化合物を投与することからなるインビトロにお けるレトロウイルスの複製を防止する方法。 13.有効量の請求項8に記載の組成物を投与することからなるAIDSの処置 方法。
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