JPH1138019A - 走査型プローブ顕微鏡 - Google Patents
走査型プローブ顕微鏡Info
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- JPH1138019A JPH1138019A JP19275497A JP19275497A JPH1138019A JP H1138019 A JPH1138019 A JP H1138019A JP 19275497 A JP19275497 A JP 19275497A JP 19275497 A JP19275497 A JP 19275497A JP H1138019 A JPH1138019 A JP H1138019A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 試料の観察面が全体的に傾斜している場合で
も、その表面形状を正確に検出できるようにした走査型
プローブ顕微鏡を提供する。 【解決手段】 試料５２の表面と探針５４との間隙を目
標値と比較して誤差信号Ｓ２を発生する比較器７５と、
探針５４を試料５２に対して相対的にＸＹＺ方向へ微動
させるアクチュエータ５５および駆動増幅器７０と、誤
差信号Ｓ２に基づいて、試料表面と探針５４との間隙を
予定値に保つための制御信号Ｓ３を発生するＰＩ制御部
７６と、試料表面の傾斜角θを検出するＭＰＵ８８と、
ＭＰＵ８８からの通知に応答して傾き補正信号Ｓ４を発
生する傾き補正回路１００と、制御信号Ｓ３に傾き補正
信号Ｓ４を加算する加算回路８０とを設けた。
も、その表面形状を正確に検出できるようにした走査型
プローブ顕微鏡を提供する。 【解決手段】 試料５２の表面と探針５４との間隙を目
標値と比較して誤差信号Ｓ２を発生する比較器７５と、
探針５４を試料５２に対して相対的にＸＹＺ方向へ微動
させるアクチュエータ５５および駆動増幅器７０と、誤
差信号Ｓ２に基づいて、試料表面と探針５４との間隙を
予定値に保つための制御信号Ｓ３を発生するＰＩ制御部
７６と、試料表面の傾斜角θを検出するＭＰＵ８８と、
ＭＰＵ８８からの通知に応答して傾き補正信号Ｓ４を発
生する傾き補正回路１００と、制御信号Ｓ３に傾き補正
信号Ｓ４を加算する加算回路８０とを設けた。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、走査型原子間力顕
微鏡（ＡＦＭ： Atomic Force Microscope）に代表され
る走査型プローブ顕微鏡に係り、特に、試料の観察面が
全体的に傾斜している場合でも、その表面形状を正確に
検出できるようにした走査型プローブ顕微鏡に関する。
微鏡（ＡＦＭ： Atomic Force Microscope）に代表され
る走査型プローブ顕微鏡に係り、特に、試料の観察面が
全体的に傾斜している場合でも、その表面形状を正確に
検出できるようにした走査型プローブ顕微鏡に関する。
【０００２】
【従来の技術】ＡＦＭ等の走査型プローブ顕微鏡では、
試料表面と走査プローブとの間の相互作用を利用して試
料表面の微細な組織や構造を検出するために、片持ち梁
の先端に探針を装着したカンチレバーが走査プローブと
して使用される。このようなカンチレバーを用いると、
探針を試料表面で走査した際に試料表面と探針との間に
は原子間力に基づく引力または斥力が発生する。したが
って、この原子間力をカンチレバーの撓み量として検出
し、この撓み量が一定となるように、すなわち試料表面
と探針との間隙が一定となるように試料ステージをＺ軸
方向へ微動させる制御を実行すれば、その際の制御信号
あるいは検出された撓み量そのものが試料表面の形状を
代表するようになる。
試料表面と走査プローブとの間の相互作用を利用して試
料表面の微細な組織や構造を検出するために、片持ち梁
の先端に探針を装着したカンチレバーが走査プローブと
して使用される。このようなカンチレバーを用いると、
探針を試料表面で走査した際に試料表面と探針との間に
は原子間力に基づく引力または斥力が発生する。したが
って、この原子間力をカンチレバーの撓み量として検出
し、この撓み量が一定となるように、すなわち試料表面
と探針との間隙が一定となるように試料ステージをＺ軸
方向へ微動させる制御を実行すれば、その際の制御信号
あるいは検出された撓み量そのものが試料表面の形状を
代表するようになる。
【０００３】ここで、上記した構成の走査型プローブ顕
微鏡では、試料表面の凹凸が表示装置上では輝度の強弱
として観察されるため、解像度やＳＮ比を向上させるた
めには、表示装置へ供給される映像信号の最大振幅と当
該表示装置の入力定格とを略一致させることが望まし
い。一方、試料の表面形状が同じであっても、図６に示
したように試料表面が全体的に傾斜している場合と、図
７に示したように傾斜していない場合とを比較すると、
試料表面が傾斜していなければ、図７に示したように、
検出される振幅Δｄ２は試料表面の凹凸成分の振幅と一
致する。したがって、図８に示したように、振幅Δｄ２
が表示装置の定格と一致するように検出信号を増幅すれ
ば、解像度やＳＮ比の優れた画像を得ることができる。
微鏡では、試料表面の凹凸が表示装置上では輝度の強弱
として観察されるため、解像度やＳＮ比を向上させるた
めには、表示装置へ供給される映像信号の最大振幅と当
該表示装置の入力定格とを略一致させることが望まし
い。一方、試料の表面形状が同じであっても、図６に示
したように試料表面が全体的に傾斜している場合と、図
７に示したように傾斜していない場合とを比較すると、
試料表面が傾斜していなければ、図７に示したように、
検出される振幅Δｄ２は試料表面の凹凸成分の振幅と一
致する。したがって、図８に示したように、振幅Δｄ２
が表示装置の定格と一致するように検出信号を増幅すれ
ば、解像度やＳＮ比の優れた画像を得ることができる。
【０００４】これに対して、図６に示したように試料表
面が全体的に傾斜していると、検出信号には傾き成分が
含まれてしまうために変位量Δｄ１が比較的大きくなっ
てしまう。したがって、検出信号の増幅度を上げること
ができず、傾斜していない場合に比べて凹凸成分自体の
振幅が小さくなるので解像度やＳＮ比が低下してしまう
という問題があった。
面が全体的に傾斜していると、検出信号には傾き成分が
含まれてしまうために変位量Δｄ１が比較的大きくなっ
てしまう。したがって、検出信号の増幅度を上げること
ができず、傾斜していない場合に比べて凹凸成分自体の
振幅が小さくなるので解像度やＳＮ比が低下してしまう
という問題があった。
【０００５】このような問題点を解決するために、本発
明の発明者等は、試料表面の傾きを検出して補正する機
能を新たに設け、試料表面の凹凸のみを抽出できるよう
にした走査型プローブ顕微鏡を提案している。図９は、
傾き補正機能を備えた従来の走査型プローブ顕微鏡のブ
ロック図である。３次元試料ステージ５５上には試料５
２が載置され、試料５２の上方には、カンチレバー５３
の自由端に取り付けられた探針５４が対向して配置され
ている。カンチレバー５３の撓み量は、レーザ発生器７
１から放出されてカンチレバー５３の背面で反射された
レーザ光７２のスポット位置を位置検出器７３で測定す
ることにより検出される。
明の発明者等は、試料表面の傾きを検出して補正する機
能を新たに設け、試料表面の凹凸のみを抽出できるよう
にした走査型プローブ顕微鏡を提案している。図９は、
傾き補正機能を備えた従来の走査型プローブ顕微鏡のブ
ロック図である。３次元試料ステージ５５上には試料５
２が載置され、試料５２の上方には、カンチレバー５３
の自由端に取り付けられた探針５４が対向して配置され
ている。カンチレバー５３の撓み量は、レーザ発生器７
１から放出されてカンチレバー５３の背面で反射された
レーザ光７２のスポット位置を位置検出器７３で測定す
ることにより検出される。
【０００６】位置検出器７３は、例えば４分割された光
検出電極から構成されており、カンチレバー５３の撓み
量が０の時にはレーザ光７２のスポットが該４分割電極
の中央に来るように位置合わせされている。このため、
カンチレバー５３に撓みが発生すると、該レーザ光７２
のスポットが該４分割電極上を移動し、４分割電極から
出力される電圧に差が発生する。この電圧差は差動増幅
器７４によって増幅され、撓み量信号Ｓ１として比較器
７５の非反転入力端子（＋）に入力される。比較器７５
の反転入力端子（−）には、カンチレバー５３の撓み量
に関する目標値信号が目標値設定部７９から入力され
る。
検出電極から構成されており、カンチレバー５３の撓み
量が０の時にはレーザ光７２のスポットが該４分割電極
の中央に来るように位置合わせされている。このため、
カンチレバー５３に撓みが発生すると、該レーザ光７２
のスポットが該４分割電極上を移動し、４分割電極から
出力される電圧に差が発生する。この電圧差は差動増幅
器７４によって増幅され、撓み量信号Ｓ１として比較器
７５の非反転入力端子（＋）に入力される。比較器７５
の反転入力端子（−）には、カンチレバー５３の撓み量
に関する目標値信号が目標値設定部７９から入力され
る。
【０００７】比較器７５から出力される誤差信号Ｓ２は
比例積分（ＰＩ）制御部７６に入力され、誤差信号Ｓ２
およびその積分値を合成した信号が、観察像信号を兼ね
た制御信号Ｓ３として出力される。制御信号Ｓ３は増幅
器８１を介してＡ／Ｄ変換器８２へ供給され、ここでデ
ジタル信号（画像データ）に変換されて画像メモリ８３
の対応するアドレスに記憶される。ＭＰＵ８４は、同期
信号発生器８５から出力されるクロック信号に同期し
て、アドレス信号およびリード信号を画像メモリ８３へ
出力する。当該アドレス信号およびリード信号に応答し
て画像メモリ８３から出力された画像データはＲＡＭ−
ＤＡＣ８６へ供給される。ＲＡＭ−ＤＡＣ８６は、同期
信号発生器８５から供給される水平および垂直同期信号
に応答して画像データをアナログ信号に変換し、これを
モニタ装置８７へ出力する。
比例積分（ＰＩ）制御部７６に入力され、誤差信号Ｓ２
およびその積分値を合成した信号が、観察像信号を兼ね
た制御信号Ｓ３として出力される。制御信号Ｓ３は増幅
器８１を介してＡ／Ｄ変換器８２へ供給され、ここでデ
ジタル信号（画像データ）に変換されて画像メモリ８３
の対応するアドレスに記憶される。ＭＰＵ８４は、同期
信号発生器８５から出力されるクロック信号に同期し
て、アドレス信号およびリード信号を画像メモリ８３へ
出力する。当該アドレス信号およびリード信号に応答し
て画像メモリ８３から出力された画像データはＲＡＭ−
ＤＡＣ８６へ供給される。ＲＡＭ−ＤＡＣ８６は、同期
信号発生器８５から供給される水平および垂直同期信号
に応答して画像データをアナログ信号に変換し、これを
モニタ装置８７へ出力する。
【０００８】傾き検出ＭＰＵ９０は、Ａ／Ｄ変換器７８
によってデジタル信号に変換された制御信号Ｓ３に基づ
いて試料表面の傾き量を演算し、これを傾き補正回路８
９へ通知する。傾き補正回路８９は、通知された傾き量
を補正するための傾き補正信号Ｓ４を発生する。加算回
路８０は、制御信号Ｓ３に傾き補正信号Ｓ４を加算し、
これをアクチュエータ駆動信号Ｓ６としてアクチュエー
タ駆動増幅器７０へ供給する。
によってデジタル信号に変換された制御信号Ｓ３に基づ
いて試料表面の傾き量を演算し、これを傾き補正回路８
９へ通知する。傾き補正回路８９は、通知された傾き量
を補正するための傾き補正信号Ｓ４を発生する。加算回
路８０は、制御信号Ｓ３に傾き補正信号Ｓ４を加算し、
これをアクチュエータ駆動信号Ｓ６としてアクチュエー
タ駆動増幅器７０へ供給する。
【０００９】このような構成によれば、ＰＩ制御部７６
から出力される制御信号Ｓ３からは傾き成分が取り除か
れていることになるので、増幅器８１は制御信号Ｓ３を
十分に増幅することができ、鮮明でノイズの少ない画像
が得られるようになる。
から出力される制御信号Ｓ３からは傾き成分が取り除か
れていることになるので、増幅器８１は制御信号Ｓ３を
十分に増幅することができ、鮮明でノイズの少ない画像
が得られるようになる。
【００１０】
【発明が解決しようとする課題】上記した従来技術で
は、傾き補正用に高価なＭＰＵ９０やＡ／Ｄ変換器７８
を別途に設けなければならず、大きなコストアップが避
けられないという問題があった。また、上記した従来技
術では、傾き補正信号Ｓ４が一度に加算されてカンチレ
バーがＺ軸方向へ大きく移動してしまうため、移動方向
が探針と試料表面との間隙を狭める方向であると、両者
が接触して破損してしまう恐れがあった。
は、傾き補正用に高価なＭＰＵ９０やＡ／Ｄ変換器７８
を別途に設けなければならず、大きなコストアップが避
けられないという問題があった。また、上記した従来技
術では、傾き補正信号Ｓ４が一度に加算されてカンチレ
バーがＺ軸方向へ大きく移動してしまうため、移動方向
が探針と試料表面との間隙を狭める方向であると、両者
が接触して破損してしまう恐れがあった。
【００１１】さらに、上記した従来技術ではＰＩ制御部
７６から出力される制御信号Ｓ３をデジタル信号に変換
して演算しているが、制御信号Ｓ３は一般的に振幅が小
さいために傾き補正の精度が低いという問題があった。
本発明の目的は、上記した従来技術の問題点を解決し、
高価なＭＰＵやＡ／Ｄ変換器を別途に設けることなく、
また探針あるいは試料表面にダメージを与えることな
く、試料表面が全体的に傾斜している場合でも、その表
面形状を正確に検出できるようにした走査型プローブ顕
微鏡を提供することにある。
７６から出力される制御信号Ｓ３をデジタル信号に変換
して演算しているが、制御信号Ｓ３は一般的に振幅が小
さいために傾き補正の精度が低いという問題があった。
本発明の目的は、上記した従来技術の問題点を解決し、
高価なＭＰＵやＡ／Ｄ変換器を別途に設けることなく、
また探針あるいは試料表面にダメージを与えることな
く、試料表面が全体的に傾斜している場合でも、その表
面形状を正確に検出できるようにした走査型プローブ顕
微鏡を提供することにある。
【００１２】
【課題を解決するための手段】上記した目的を達成する
ために、本発明では、試料表面に探針を近接させ、両者
の間隙が予定値に保たれるように、探針および試料の少
なくとも一方をＺ方向へ微動させながら探針を試料表面
でＸＹ方向に走査させる走査型プローブ顕微鏡におい
て、画像処理用として従来から使用されているＭＰＵを
傾き検出用としても用いるようにした。また、検出され
た傾きを一度に補正せず、複数の走査ラインごとに徐々
に補正するようにした。
ために、本発明では、試料表面に探針を近接させ、両者
の間隙が予定値に保たれるように、探針および試料の少
なくとも一方をＺ方向へ微動させながら探針を試料表面
でＸＹ方向に走査させる走査型プローブ顕微鏡におい
て、画像処理用として従来から使用されているＭＰＵを
傾き検出用としても用いるようにした。また、検出され
た傾きを一度に補正せず、複数の走査ラインごとに徐々
に補正するようにした。
【００１３】上記した構成によれば、高価なＭＰＵを別
途に設けることなく、また探針あるいは試料表面にダメ
ージを与えることなく、試料表面が全体的に傾斜してい
る場合でも、その表面形状を正確に検出できるようにな
る。
途に設けることなく、また探針あるいは試料表面にダメ
ージを与えることなく、試料表面が全体的に傾斜してい
る場合でも、その表面形状を正確に検出できるようにな
る。
【００１４】
【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明を詳
細に説明する。図１は、本発明の一実施形態である走査
型プローブ顕微鏡のブロック図であり、前記と同一の符
号は同一または同等部分を表している。図９に関して説
明した従来技術のブロック図と比較すれば明らかなよう
に、本実施形態では、制御信号Ｓ３のデジタル信号に基
づいて観察像を出力するための種々の制御を行うＭＰＵ
８８が、当該デジタル信号に基づいて増幅器８１のゲイ
ンを調節すると共に試料の傾き量を演算し、演算結果を
傾き補正回路１００へ通知するようにしている。傾き補
正回路１００は、ＭＰＵ８８から通知された演算結果に
基づいて加算信号Ｓ４を生成する。
細に説明する。図１は、本発明の一実施形態である走査
型プローブ顕微鏡のブロック図であり、前記と同一の符
号は同一または同等部分を表している。図９に関して説
明した従来技術のブロック図と比較すれば明らかなよう
に、本実施形態では、制御信号Ｓ３のデジタル信号に基
づいて観察像を出力するための種々の制御を行うＭＰＵ
８８が、当該デジタル信号に基づいて増幅器８１のゲイ
ンを調節すると共に試料の傾き量を演算し、演算結果を
傾き補正回路１００へ通知するようにしている。傾き補
正回路１００は、ＭＰＵ８８から通知された演算結果に
基づいて加算信号Ｓ４を生成する。
【００１５】以下、ＭＰＵ８８および傾き補正回路１０
０の動作について説明する。ＭＰＵ８８は、後にフロー
チャートを参照して詳述するように、作業者が実際の観
察に先立って探針を試料表面でＸ方向へ走査した際に、
その走査ライン上での一端の高さと他端の高さを制御信
号Ｓ３に基づいて求め、検出された高さの偏差に基づい
てＸ方向に関する傾斜角θ（θX ）を求める。そして、
傾斜角θX をＸ走査信号に対するゲインとして傾き補正
回路１００に登録する。
０の動作について説明する。ＭＰＵ８８は、後にフロー
チャートを参照して詳述するように、作業者が実際の観
察に先立って探針を試料表面でＸ方向へ走査した際に、
その走査ライン上での一端の高さと他端の高さを制御信
号Ｓ３に基づいて求め、検出された高さの偏差に基づい
てＸ方向に関する傾斜角θ（θX ）を求める。そして、
傾斜角θX をＸ走査信号に対するゲインとして傾き補正
回路１００に登録する。
【００１６】Ｙ方向に関しても、探針を試料表面でＹ方
向へ走査した際に、走査開始直後および走査終了直前に
検出された制御信号Ｓ３に基づいてＹ方向に関する傾斜
角θY を求め、Ｙ走査信号に対するゲインとして傾き補
正回路１００に登録する。次いで、図２を参照して傾き
補正回路１００の動作を説明する。本発明の傾き補正回
路１００は、Ｘ方向およびＹ方向のそれぞれに対して傾
き補正信号を出力する傾き補正回路１００Ｘ，１００Ｙ
を備えているが、ここでは、Ｘ方向に関する動作のみを
説明し、Ｙ方向に関する動作説明は省略する。
向へ走査した際に、走査開始直後および走査終了直前に
検出された制御信号Ｓ３に基づいてＹ方向に関する傾斜
角θY を求め、Ｙ走査信号に対するゲインとして傾き補
正回路１００に登録する。次いで、図２を参照して傾き
補正回路１００の動作を説明する。本発明の傾き補正回
路１００は、Ｘ方向およびＹ方向のそれぞれに対して傾
き補正信号を出力する傾き補正回路１００Ｘ，１００Ｙ
を備えているが、ここでは、Ｘ方向に関する動作のみを
説明し、Ｙ方向に関する動作説明は省略する。
【００１７】傾き補正回路１００Ｘにおいて、オペアン
プＯＰ１は８ビット入力の乗算型ＤＡＣと共に０〜−１
倍の反転増幅器１０１Ｘを構成し、乗算型ＤＡＣのリフ
ァレンス入力端子ＲＥＦにはＸ走査信号ＶX が入力さ
れ、その電流出力端子ＯＵＴにはオペアンプＯＰ１が接
続され、そのフィードバック抵抗端子ＲＦＢにはオペア
ンプＯＰ１の出力端子が接続される。反転増幅器１０１
Ｘは、ＭＰＵ８８によって指示されたゲインでＸ走査信
号ＶX を増幅して出力する。この種の乗算型ＤＡＣとし
ては、たとえば×××社製のＡＤ７５２８を用いること
ができる。
プＯＰ１は８ビット入力の乗算型ＤＡＣと共に０〜−１
倍の反転増幅器１０１Ｘを構成し、乗算型ＤＡＣのリフ
ァレンス入力端子ＲＥＦにはＸ走査信号ＶX が入力さ
れ、その電流出力端子ＯＵＴにはオペアンプＯＰ１が接
続され、そのフィードバック抵抗端子ＲＦＢにはオペア
ンプＯＰ１の出力端子が接続される。反転増幅器１０１
Ｘは、ＭＰＵ８８によって指示されたゲインでＸ走査信
号ＶX を増幅して出力する。この種の乗算型ＤＡＣとし
ては、たとえば×××社製のＡＤ７５２８を用いること
ができる。
【００１８】Ｘ走査信号ＶX は抵抗値２ｒの抵抗Ｒ１を
介してオペアンプＯＰ２に入力され、反転増幅器１０１
Ｘの出力信号ＳX は抵抗値ｒの抵抗Ｒ２を介してオペア
ンプＯＰ２に入力される。したがって、Ｘ走査信号ＶX
および出力信号ＳX は、１／２対１の比率で加算されて
オペアンプＯＰ２から出力される。反転増幅器１０１Ｘ
は、ＭＰＵ８８によって演算されたゲインが“０”で、
そのデジタル値が“１２８”［８０Ｈ］のときに出力信
号ＳX が−１／２・ＶX となるように予め調整されてお
り、このときオペアンプＯＰ２から出力される傾き補正
信号Ｓ４は“０”となる。
介してオペアンプＯＰ２に入力され、反転増幅器１０１
Ｘの出力信号ＳX は抵抗値ｒの抵抗Ｒ２を介してオペア
ンプＯＰ２に入力される。したがって、Ｘ走査信号ＶX
および出力信号ＳX は、１／２対１の比率で加算されて
オペアンプＯＰ２から出力される。反転増幅器１０１Ｘ
は、ＭＰＵ８８によって演算されたゲインが“０”で、
そのデジタル値が“１２８”［８０Ｈ］のときに出力信
号ＳX が−１／２・ＶX となるように予め調整されてお
り、このときオペアンプＯＰ２から出力される傾き補正
信号Ｓ４は“０”となる。
【００１９】図１０は、ＭＰＵ８８によって演算された
ゲインＧと、傾き補正回路１００Ｘへ通知されるデジタ
ル値、反転増幅器１０１Ｘの出力信号ＳX 、および傾き
補正信号Ｓ４との関係を示した図である。ＭＰＵ８８で
演算されたゲインＧが“１２８／２５６”であると、通
知されるデジタル値は“２５６”（ＦＦＨ］となり、反
転増幅器１０１Ｘの出力は“０”となって傾き補正信号
Ｓ４は１／２・ＶX となる。また、演算されたゲインＧ
が“−１２８／２５６”であると、通知されるデジタル
値は“０”［００Ｈ］となり、反転増幅器１０１Ｘの出
力信号ＳX は“−ＶX ”となって傾き補正信号Ｓ４は−
１／２・ＶX となる。
ゲインＧと、傾き補正回路１００Ｘへ通知されるデジタ
ル値、反転増幅器１０１Ｘの出力信号ＳX 、および傾き
補正信号Ｓ４との関係を示した図である。ＭＰＵ８８で
演算されたゲインＧが“１２８／２５６”であると、通
知されるデジタル値は“２５６”（ＦＦＨ］となり、反
転増幅器１０１Ｘの出力は“０”となって傾き補正信号
Ｓ４は１／２・ＶX となる。また、演算されたゲインＧ
が“−１２８／２５６”であると、通知されるデジタル
値は“０”［００Ｈ］となり、反転増幅器１０１Ｘの出
力信号ＳX は“−ＶX ”となって傾き補正信号Ｓ４は−
１／２・ＶX となる。
【００２０】以下、ＭＰＵ８８による傾き補正ゲインの
設定方法を、図５のフローチャートを参照して説明す
る。ステップＳ１０では、傾き補正処理を何ステップに
分けて行うかを決定する補正ステップ数Ｎが設定され
る。すなわち、傾きを一度に全て補正しようとすると、
大きな傾き補正信号Ｓ４が制御信号Ｓ３に加算されてカ
ンチレバーがＺ軸方向へ大きく移動し、その移動方向が
探針と試料表面との間隙を狭める方向であると探針や試
料表面を破損してしまう。そこで、本発明では傾きを一
度に全て補正せず、複数の各走査ラインごとに徐々に補
正するようにしている。本実施形態では傾き補正を４ラ
インに分けて行うものとし、補正ステップ数Ｎとして
“４”が登録される。ステップＳ１２では、試料表面の
傾き量を計測するために、傾き補正信号Ｓ４を“０”と
するためのデジタル値［８０Ｈ］が傾き補正回路１００
Ｘの乗算型ＤＡＣへ登録される。
設定方法を、図５のフローチャートを参照して説明す
る。ステップＳ１０では、傾き補正処理を何ステップに
分けて行うかを決定する補正ステップ数Ｎが設定され
る。すなわち、傾きを一度に全て補正しようとすると、
大きな傾き補正信号Ｓ４が制御信号Ｓ３に加算されてカ
ンチレバーがＺ軸方向へ大きく移動し、その移動方向が
探針と試料表面との間隙を狭める方向であると探針や試
料表面を破損してしまう。そこで、本発明では傾きを一
度に全て補正せず、複数の各走査ラインごとに徐々に補
正するようにしている。本実施形態では傾き補正を４ラ
インに分けて行うものとし、補正ステップ数Ｎとして
“４”が登録される。ステップＳ１２では、試料表面の
傾き量を計測するために、傾き補正信号Ｓ４を“０”と
するためのデジタル値［８０Ｈ］が傾き補正回路１００
Ｘの乗算型ＤＡＣへ登録される。
【００２１】その後、探針５４が試料表面でＹ方向に関
して第１番目のラインをＸ方向へ走査されると、ステッ
プＳ１４では、第１ライン上での一端の高さが、走査開
始直後に検出された制御信号Ｓ３に基づいて求められ
る。ステップＳ１６では、同じ第１ライン上での他端の
高さが、走査終了直前に検出された制御信号Ｓ３に基づ
いて求められる。ステップＳ１８では、制御信号Ｓ３が
飽和しない範囲で増幅器８１のゲインが上げられる。
して第１番目のラインをＸ方向へ走査されると、ステッ
プＳ１４では、第１ライン上での一端の高さが、走査開
始直後に検出された制御信号Ｓ３に基づいて求められ
る。ステップＳ１６では、同じ第１ライン上での他端の
高さが、走査終了直前に検出された制御信号Ｓ３に基づ
いて求められる。ステップＳ１８では、制御信号Ｓ３が
飽和しない範囲で増幅器８１のゲインが上げられる。
【００２２】ステップＳ２０では、図３に示したよう
に、検出された高さの偏差ΔＺ0 とその間の走査距離と
に基づいてＸ方向に関する傾斜角θX が求められる。ス
テップＳ２２では、傾斜角θX をキャンセルするための
ゲインが、Ｘ走査信号ＶX に対するゲインＧとして求め
られる。このとき、図３に示したように傾きがＸ方向に
進むにしたがって高くなる正の傾きであると、ゲインＧ
として正の値が求められ、これとは逆に、Ｘ方向に進む
にしたがって低くなる負の傾きであると負の値が求めら
れる。
に、検出された高さの偏差ΔＺ0 とその間の走査距離と
に基づいてＸ方向に関する傾斜角θX が求められる。ス
テップＳ２２では、傾斜角θX をキャンセルするための
ゲインが、Ｘ走査信号ＶX に対するゲインＧとして求め
られる。このとき、図３に示したように傾きがＸ方向に
進むにしたがって高くなる正の傾きであると、ゲインＧ
として正の値が求められ、これとは逆に、Ｘ方向に進む
にしたがって低くなる負の傾きであると負の値が求めら
れる。
【００２３】ステップＳ２４では、次の走査ラインから
Ｎラインで傾き補正処理が完了するように、ゲインＧの
１／Ｎに相当する補正後ゲインＧa が演算されて傾き補
正回路１００の乗算型ＤＡＣに登録される。すなわち、
ゲインＧが“−６４／２５６”［４０Ｈ］であると、そ
の１／４に相当する“−１６／２５６”［７０Ｈ］が乗
算型ＤＡＣに登録される。この結果、次の第２ラインで
は、試料表面の傾斜量が全体の１／４だけ補正されるこ
とになる。ステップＳ２６では、補正ステップ数Ｎが
“１”だけデクリメントされて“３”となる。ステップ
Ｓ２８では、補正ステップ数Ｎが“０”か否かが判定さ
れ、ここでは“０”以外と判定されてステップＳ１４へ
戻る。
Ｎラインで傾き補正処理が完了するように、ゲインＧの
１／Ｎに相当する補正後ゲインＧa が演算されて傾き補
正回路１００の乗算型ＤＡＣに登録される。すなわち、
ゲインＧが“−６４／２５６”［４０Ｈ］であると、そ
の１／４に相当する“−１６／２５６”［７０Ｈ］が乗
算型ＤＡＣに登録される。この結果、次の第２ラインで
は、試料表面の傾斜量が全体の１／４だけ補正されるこ
とになる。ステップＳ２６では、補正ステップ数Ｎが
“１”だけデクリメントされて“３”となる。ステップ
Ｓ２８では、補正ステップ数Ｎが“０”か否かが判定さ
れ、ここでは“０”以外と判定されてステップＳ１４へ
戻る。
【００２４】次いで第２ラインが走査されると、ステッ
プＳ１４〜Ｓ２０では、前記と同様にして増幅器８１の
ゲインが調整されて傾斜角θX が求められるが、第２ラ
インの走査時には傾斜量が既に１／４だけ補正されてい
るので、ステップＳ２０で検出される傾斜角θX は小さ
くなっているはずである。このため、ステップＳ２２で
は、ゲインＧとして例えば“−４８／２５６”（理想的
には、最初に求められゲイン“−６４／２５６”の３／
４に相当する）が求められる。
プＳ１４〜Ｓ２０では、前記と同様にして増幅器８１の
ゲインが調整されて傾斜角θX が求められるが、第２ラ
インの走査時には傾斜量が既に１／４だけ補正されてい
るので、ステップＳ２０で検出される傾斜角θX は小さ
くなっているはずである。このため、ステップＳ２２で
は、ゲインＧとして例えば“−４８／２５６”（理想的
には、最初に求められゲイン“−６４／２５６”の３／
４に相当する）が求められる。
【００２５】ステップＳ２４では、今回のゲイン“−４
８／２５６”の１／Ｎ（Ｎ＝３）に相当する“−１６／
２５６”を前回の補正後ゲイン“−１６／２５６”に加
算したゲイン“−３２／２５６”［６０Ｈ］が、今回の
補正後ゲインＧa として傾き補正回路１００の乗算型Ｄ
ＡＣに登録される。この結果、次の第３ラインでは試料
表面の傾斜量が全体の１／２だけ補正されることにな
る。ステップＳ２６では補正ステップ数Ｎが“１”だけ
デクリメントされて“２”となり、ステップＳ２８で
は、補正ステップ数Ｎが“０”以外と判定されてステッ
プＳ１４へ戻る。
８／２５６”の１／Ｎ（Ｎ＝３）に相当する“−１６／
２５６”を前回の補正後ゲイン“−１６／２５６”に加
算したゲイン“−３２／２５６”［６０Ｈ］が、今回の
補正後ゲインＧa として傾き補正回路１００の乗算型Ｄ
ＡＣに登録される。この結果、次の第３ラインでは試料
表面の傾斜量が全体の１／２だけ補正されることにな
る。ステップＳ２６では補正ステップ数Ｎが“１”だけ
デクリメントされて“２”となり、ステップＳ２８で
は、補正ステップ数Ｎが“０”以外と判定されてステッ
プＳ１４へ戻る。
【００２６】次いで第３ラインが走査されると、ステッ
プＳ１４〜Ｓ２０では前記と同様にして傾斜角θX が求
められるが、第３ラインの走査時には傾斜量が既に１／
２だけ補正されているので、ステップＳ２２では、ゲイ
ンＧとして例えば“−３２／２５６”が求められる。ス
テップＳ２４では、今回のゲイン“−３２／２５６”の
１／Ｎ（Ｎ＝２）に相当する“−１６／２５６”を先の
補正後ゲイン“−３２／２５６”に加算したゲイン“−
４８／２５６”［５０Ｈ］が、今回の補正後ゲインＧa
として傾き補正回路１００の乗算型ＤＡＣに登録され
る。この結果、次の第４ラインでは試料表面の傾斜量が
全体の３／４だけ補正されることになる。ステップＳ２
６では、補正ステップ数Ｎが“１”だけデクリメントさ
れて“１”となり、ステップＳ２８では、補正ステップ
数Ｎが“０”以外と判定されてステップＳ１４へ戻る。
プＳ１４〜Ｓ２０では前記と同様にして傾斜角θX が求
められるが、第３ラインの走査時には傾斜量が既に１／
２だけ補正されているので、ステップＳ２２では、ゲイ
ンＧとして例えば“−３２／２５６”が求められる。ス
テップＳ２４では、今回のゲイン“−３２／２５６”の
１／Ｎ（Ｎ＝２）に相当する“−１６／２５６”を先の
補正後ゲイン“−３２／２５６”に加算したゲイン“−
４８／２５６”［５０Ｈ］が、今回の補正後ゲインＧa
として傾き補正回路１００の乗算型ＤＡＣに登録され
る。この結果、次の第４ラインでは試料表面の傾斜量が
全体の３／４だけ補正されることになる。ステップＳ２
６では、補正ステップ数Ｎが“１”だけデクリメントさ
れて“１”となり、ステップＳ２８では、補正ステップ
数Ｎが“０”以外と判定されてステップＳ１４へ戻る。
【００２７】次いで第４ラインが走査されると、ステッ
プＳ１４〜Ｓ２０では、前記と同様にして傾斜角θX が
求められるが、第４ラインの走査時には傾斜量が既に３
／４だけ補正されているので、ステップＳ２２では、ゲ
インＧとして例えば“−１６／２５６”が求められる。
ステップＳ２４では、今回のゲイン“−１６／２５６”
の１／Ｎ（Ｎ＝１）に相当する“−１６／２５６”を先
の補正後ゲイン“−４８／２５６”に加算したゲイン
“−６４／２５６”［４０Ｈ］が、今回の補正後ゲイン
Ｇa として傾き補正回路１００の乗算型ＤＡＣに登録さ
れる。この結果、次の第５ラインからは試料表面の傾斜
量が全て補正されることになる。ステップＳ２６では、
補正ステップ数Ｎが“１”だけデクリメントされて
“０”となり、ステップＳ２８では、補正ステップ数Ｎ
が“０”と判定されるので傾き補正処理は終了し、これ
以後は通常の観察が行われる。図１１は、各走査ライン
ごとにＭＰＵ８８から傾き補正回路１００の乗算型ＤＡ
Ｃへ登録されるゲインのデジタル値と、傾き補正信号Ｓ
４との関係を示した図である。
プＳ１４〜Ｓ２０では、前記と同様にして傾斜角θX が
求められるが、第４ラインの走査時には傾斜量が既に３
／４だけ補正されているので、ステップＳ２２では、ゲ
インＧとして例えば“−１６／２５６”が求められる。
ステップＳ２４では、今回のゲイン“−１６／２５６”
の１／Ｎ（Ｎ＝１）に相当する“−１６／２５６”を先
の補正後ゲイン“−４８／２５６”に加算したゲイン
“−６４／２５６”［４０Ｈ］が、今回の補正後ゲイン
Ｇa として傾き補正回路１００の乗算型ＤＡＣに登録さ
れる。この結果、次の第５ラインからは試料表面の傾斜
量が全て補正されることになる。ステップＳ２６では、
補正ステップ数Ｎが“１”だけデクリメントされて
“０”となり、ステップＳ２８では、補正ステップ数Ｎ
が“０”と判定されるので傾き補正処理は終了し、これ
以後は通常の観察が行われる。図１１は、各走査ライン
ごとにＭＰＵ８８から傾き補正回路１００の乗算型ＤＡ
Ｃへ登録されるゲインのデジタル値と、傾き補正信号Ｓ
４との関係を示した図である。
【００２８】図４は、傾き補正が完了した第５ライン以
降における傾き補正信号Ｓ４と制御信号Ｓ３との関係を
示した図であり、傾き補正回路１００はＸ方向に関する
各走査位置ｘの関数として傾き補正信号Ｓ４を発生し、
この傾き補正信号Ｓ４は加算回路８０によって前記制御
信号Ｓ３に加算される。したがって、ＰＩ制御部７６か
ら出力される制御信号Ｓ３からは試料表面の傾き成分が
取り除かれ、増幅器８１は入力信号（制御信号Ｓ３）を
十分に増幅することができるので、鮮明でノイズの少な
い画像が得られるようになる。
降における傾き補正信号Ｓ４と制御信号Ｓ３との関係を
示した図であり、傾き補正回路１００はＸ方向に関する
各走査位置ｘの関数として傾き補正信号Ｓ４を発生し、
この傾き補正信号Ｓ４は加算回路８０によって前記制御
信号Ｓ３に加算される。したがって、ＰＩ制御部７６か
ら出力される制御信号Ｓ３からは試料表面の傾き成分が
取り除かれ、増幅器８１は入力信号（制御信号Ｓ３）を
十分に増幅することができるので、鮮明でノイズの少な
い画像が得られるようになる。
【００２９】なお、上記した実施形態では、試料表面に
探針５４を近接させるための微動機構として試料ステー
ジ５５を用い、試料５２をカンチレバー５３に対して微
動させるものとして説明したが、本発明はこれのみに限
定されるものではなく、探針５４を試料５２に対して相
対的に微動されることができるのであれば、その駆動機
構はカンチレバー５３（または、探針５４そのもの）を
Ｚ軸方向へ駆動する機構であっても良い。
探針５４を近接させるための微動機構として試料ステー
ジ５５を用い、試料５２をカンチレバー５３に対して微
動させるものとして説明したが、本発明はこれのみに限
定されるものではなく、探針５４を試料５２に対して相
対的に微動されることができるのであれば、その駆動機
構はカンチレバー５３（または、探針５４そのもの）を
Ｚ軸方向へ駆動する機構であっても良い。
【００３０】また、上記した実施形態では、試料表面が
全体的に傾斜している場合を例にして本発明を説明した
が、Ｚ軸中心と探針５４とのずれによって試料表面が傾
いているように見える場合にも同様に適用することがで
きる。さらに、ボイスコイルモータはリニアリティに優
れるので、試料ステージ５５をＸＹＺ方向へ微動させる
駆動手段としてボイスコイルモータを利用すれば、本発
明による効果は更に顕著なものとなる。
全体的に傾斜している場合を例にして本発明を説明した
が、Ｚ軸中心と探針５４とのずれによって試料表面が傾
いているように見える場合にも同様に適用することがで
きる。さらに、ボイスコイルモータはリニアリティに優
れるので、試料ステージ５５をＸＹＺ方向へ微動させる
駆動手段としてボイスコイルモータを利用すれば、本発
明による効果は更に顕著なものとなる。
【００３１】さらに、上記した実施形態では傾き補正信
号Ｓ４が走査ラインごとに段階的に加算されるものとし
て説明したが、本発明はこれのみに限定されるものでは
なく、例えば図１２に示した第２実施形態のように、第
ｎ走査ライン［同図(a) ］で傾斜角θを求めた後、次の
第（ｎ＋１）走査ライン［同図(b) ］内において、補正
信号Ｓ４（補正量）を段階的に加算するようにしても良
い。さらに、図１３に示した第３実施形態のように、第
ｎ走査ライン［同図(a) ］で傾斜角θを求めた後、次の
第（ｎ＋１）走査ライン［同図(b) ］内では、補正信号
Ｓ４の値が“０”となる走査位置から補正信号Ｓ４の加
算を開始するようにしても良い。
号Ｓ４が走査ラインごとに段階的に加算されるものとし
て説明したが、本発明はこれのみに限定されるものでは
なく、例えば図１２に示した第２実施形態のように、第
ｎ走査ライン［同図(a) ］で傾斜角θを求めた後、次の
第（ｎ＋１）走査ライン［同図(b) ］内において、補正
信号Ｓ４（補正量）を段階的に加算するようにしても良
い。さらに、図１３に示した第３実施形態のように、第
ｎ走査ライン［同図(a) ］で傾斜角θを求めた後、次の
第（ｎ＋１）走査ライン［同図(b) ］内では、補正信号
Ｓ４の値が“０”となる走査位置から補正信号Ｓ４の加
算を開始するようにしても良い。
【００３２】
【発明の効果】本発明によれば、高価なＡ／Ｄ変換器や
ＭＰＵを新たに追加することなく、試料表面が全体的に
傾いていても、映像信号の増幅部へ供給される信号から
は傾き成分が取り除かれ、観察しようとする凹凸成分の
みが供給される。したがって、増幅部は入力信号を十分
に増幅することができ、鮮明でノイズの少ない画像が得
られるようになる。
ＭＰＵを新たに追加することなく、試料表面が全体的に
傾いていても、映像信号の増幅部へ供給される信号から
は傾き成分が取り除かれ、観察しようとする凹凸成分の
みが供給される。したがって、増幅部は入力信号を十分
に増幅することができ、鮮明でノイズの少ない画像が得
られるようになる。
【図１】本発明の一実施形態である走査型プローブ顕微
鏡のブロック図である。
鏡のブロック図である。
【図２】傾き補正回路の一実施形態のブロック図であ
る。
る。
【図３】傾き検出方法を模式的に表した図である。
【図４】図１の主要部の信号波形図である。
【図５】ＭＰＵによる傾き補正処理の動作を示したフロ
ーチャートである。
ーチャートである。
【図６】従来技術の問題点を説明するための図である。
【図７】従来技術の問題点を説明するための図である。
【図８】従来技術の問題点を説明するための図である。
【図９】傾き補正機能を備えた従来の走査型プローブ顕
微鏡のブロック図である。
微鏡のブロック図である。
【図１０】ゲインＧ、デジタル値、出力信号ＳX 、およ
び傾き補正信号Ｓ４との関係を示した図である。
び傾き補正信号Ｓ４との関係を示した図である。
【図１１】走査ラインごとに乗算型ＤＡＣへ登録される
ゲインのデジタル値と傾き補正信号Ｓ４との関係を示し
た図である。
ゲインのデジタル値と傾き補正信号Ｓ４との関係を示し
た図である。
【図１２】本発明の第２実施形態の動作を説明するため
の図である。
の図である。
【図１３】本発明の第３実施形態の動作を説明するため
の図である。
の図である。
５２ 試料 ５３ カンチレバー ５４ 探針 ７５ 比較器 ７６ 比例積分（ＰＩ）制御部 ８４，８８ ＭＰＵ ８９，１００ 傾き補正回路
【手続補正書】
【提出日】平成１０年８月６日
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正内容】
【００１７】傾き補正回路１００Ｘにおいて、オペアン
プＯＰ１は８ビット入力の乗算型ＤＡＣと共に０〜−１
倍の反転増幅器１０１Ｘを構成し、乗算型ＤＡＣのリフ
ァレンス入力端子ＲＥＦにはＸ走査信号ＶX が入力さ
れ、その電流出力端子ＯＵＴにはオペアンプＯＰ１が接
続され、そのフィードバック抵抗端子ＲＦＢにはオペア
ンプＯＰ１の出力端子が接続される。反転増幅器１０１
Ｘは、ＭＰＵ８８によって指示されたゲインでＸ走査信
号ＶX を増幅して出力する。
プＯＰ１は８ビット入力の乗算型ＤＡＣと共に０〜−１
倍の反転増幅器１０１Ｘを構成し、乗算型ＤＡＣのリフ
ァレンス入力端子ＲＥＦにはＸ走査信号ＶX が入力さ
れ、その電流出力端子ＯＵＴにはオペアンプＯＰ１が接
続され、そのフィードバック抵抗端子ＲＦＢにはオペア
ンプＯＰ１の出力端子が接続される。反転増幅器１０１
Ｘは、ＭＰＵ８８によって指示されたゲインでＸ走査信
号ＶX を増幅して出力する。
Claims (8)
- 【請求項１】 試料表面に探針を近接させ、両者の間隙
が予定値に保たれるように、探針および試料の少なくと
も一方をＺ方向へ微動させながら探針を試料表面でＸＹ
方向に走査させる走査型プローブ顕微鏡において、 前記走査型プローブ顕微鏡は観察像を表示するための表
示制御手段を含み、この表示制御手段の動作を制御する
ＭＰＵは、試料表面と探針との間隙を予定値に保つため
の制御信号に基づいて試料表面の傾き量を演算し、この
演算結果に基づいて試料表面の傾きを補正することを特
徴とする走査型プローブ顕微鏡。 - 【請求項２】 前記傾き補正は、試料表面の傾き量に基
づいて生成された傾き補正信号を前記制御信号に加算す
ることにより行われることを特徴とする請求項１に記載
の走査型プローブ顕微鏡。 - 【請求項３】 前記傾き補正信号は、段階的に制御信号
に加算されることを特徴とする請求項２に記載の走査型
プローブ顕微鏡。 - 【請求項４】 試料表面に探針を近接させ、両者の間隙
が予定値に保たれるように、探針および試料の少なくと
も一方をＺ方向へ微動させながら探針を試料表面でＸＹ
方向に走査させる走査型プローブ顕微鏡において、 ＸＹ走査信号に応答して探針を試料表面でＸＹ方向に走
査する走査手段と、 試料表面と探針との間隙を予定値に保つための制御信号
を発生するフィードバック制御手段と、 前記制御信号に基づいて観察像を表示するために、前記
制御信号を増幅する増幅手段、増幅された制御信号をデ
ジタルの画像データに変換するＡＤ変換手段、各画像デ
ータを記憶する画像メモリ、前記画像メモリから読み出
した画像データをアナログ信号に変換してモニタ装置へ
供給するＤＡ変換手段、および前記各構成の動作を制御
するＭＰＵを少なくとも含む表示制御手段と、 試料表面の傾き量を代表する信号に基づいて、傾き補正
信号を走査位置の関数として発生する傾き補正手段と、 前記制御信号に前記傾き補正信号を加算する加算手段
と、 前記加算手段の出力信号に応答して、探針を試料に対し
て相対的にＺ方向へ微動させる微動手段とを具備し、 前記表示制御手段のＭＰＵは前記制御信号に基づいて試
料の傾き量を演算し、演算結果を前記傾き量を代表する
信号として傾き補正手段へ提供することを特徴とする走
査型プローブ顕微鏡。 - 【請求項５】 前記傾き補正手段は、ＸＹ走査信号を前
記傾き量を代表する信号に応じた割合で増幅し、これを
傾き補正信号として出力することを特徴とする請求項４
に記載の走査型プローブ顕微鏡。 - 【請求項６】 前記傾き補正信号は、走査ラインごとに
段階的に加算されることを特徴とする請求項４または５
に記載の走査型プローブ顕微鏡。 - 【請求項７】 前記傾き補正信号は、走査ライン内で段
階的に加算されることを特徴とする請求項４または５に
記載の走査型プローブ顕微鏡。 - 【請求項８】 前記傾き補正信号は、その値が“０”と
なる走査位置から加算されることを特徴とする請求項４
または５に記載の走査型プローブ顕微鏡。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19275497A JPH1138019A (ja) | 1997-07-17 | 1997-07-17 | 走査型プローブ顕微鏡 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19275497A JPH1138019A (ja) | 1997-07-17 | 1997-07-17 | 走査型プローブ顕微鏡 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1138019A true JPH1138019A (ja) | 1999-02-12 |
Family
ID=16296502
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP19275497A Pending JPH1138019A (ja) | 1997-07-17 | 1997-07-17 | 走査型プローブ顕微鏡 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH1138019A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE102014212668A1 (de) | 2014-05-26 | 2015-11-26 | Sms Group Gmbh | Vorrichtung zum Wickeln eines Bandmaterials zu einem Coil |
| WO2018211563A1 (ja) * | 2017-05-15 | 2018-11-22 | オリンパス株式会社 | 原子間力顕微鏡 |
| KR20210034827A (ko) * | 2019-09-23 | 2021-03-31 | 전남대학교산학협력단 | Afm 이미지의 그림자 효과 제거를 위한 보정 시스템 및 그 방법 |
| WO2024014185A1 (ja) * | 2022-07-11 | 2024-01-18 | 株式会社島津製作所 | 画像処理方法、画像処理装置、走査型プローブ顕微鏡、およびプログラム |
-
1997
- 1997-07-17 JP JP19275497A patent/JPH1138019A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE102014212668A1 (de) | 2014-05-26 | 2015-11-26 | Sms Group Gmbh | Vorrichtung zum Wickeln eines Bandmaterials zu einem Coil |
| WO2018211563A1 (ja) * | 2017-05-15 | 2018-11-22 | オリンパス株式会社 | 原子間力顕微鏡 |
| US10928417B2 (en) | 2017-05-15 | 2021-02-23 | Olympus Corporation | Atomic force microscope, atomic force microscopy, and controlling method of an atomic force microscopy |
| KR20210034827A (ko) * | 2019-09-23 | 2021-03-31 | 전남대학교산학협력단 | Afm 이미지의 그림자 효과 제거를 위한 보정 시스템 및 그 방법 |
| WO2024014185A1 (ja) * | 2022-07-11 | 2024-01-18 | 株式会社島津製作所 | 画像処理方法、画像処理装置、走査型プローブ顕微鏡、およびプログラム |
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