JP3356105B2 - 光学スキャナの位置補正方法及び光学スキャナ補正装置 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、レーザなどのレー
ザビーム光を、例えば、対象物に照射して加工し、又
は、照射／加工による対象物の画像を得る際の光学スキ
ャナの位置補正方法及び光学スキャナ補正装置に関し、
特に、位置決め駆動や外部からの振動の影響による微小
の位置変化量（以下、「微動量」とも記載する。）を光
学スキャナにフィードバックして、ステージ上の対象物
に対するレーザビーム光の照射位置を補正するための光
学スキャナの位置補正方法及び光学スキャナ補正装置に
関する。

【０００２】

【従来の技術】従来、レーザなどのレーザビーム光を、
例えば、対象物に照射して加工し、又は、照射／加工に
よる対象物の画像を得る際に光学スキャナの位置を補正
することが行われている。図６は従来の光学スキャナで
のスキャン変位動作を説明するためのブロック図であ
る。図６において、ステージ１における駆動部１３をＣ
ＰＵ３が制御してステージ１を移動させる。この際、ス
テージ１上に配置された対象物１４を光学スキャナ１２
のレーザビーム光１１のスキャンニング位置に停止させ
る。また、ＣＰＵ３が光学スキャナ位置設定回路６に光
学スキャナ１２の位置データを送出する。

【０００３】光学スキャナ位置設定回路６は、光学スキ
ャナドライブ回路８に位置信号を出力する。光学スキャ
ナドライブ回路８が、入力される位置信号に基づいて光
学スキャナ駆動機構９での光学スキャナ１２のスキャン
変位を駆動（適宜、単に「光学スキャナ１２の駆動」と
記載する）している。これによってレーザビーム光１１
が対象物１４上にスキャンして照射される。

【０００４】この場合、停止しているステージ１上の対
象物１４に対して光学スキャナ１２でレーザビーム光１
１をスキャンニングする場合、対象物１４上のレーザビ
ーム光１１の位置決めは、光スキャナ１２での位置決め
精度とステージ１の駆動部１３での駆動及びＣＰＵ３の
制御での位置決め精度とに依存する。

【０００５】したがって、光スキャナ１２の位置決めを
高精度に行っても、外部からの振動や駆動部１３におけ
るサーボモータなどの位置制御によって、ステージ１で
微動が生じた場合は、その微動量だけ対象物１４上に照
射されるレーザビーム光１１の照射位置がずれてしま
う。この結果、レーザビーム光１１で対象物１４を加工
する場合は、その対象物１４の加工位置が微動量だけず
れることになる。また、レーザビーム光１１の照射／反
射を通じて対象物１４の画像を得る場合、微動量だけ検
出位置がずれるため、この画像に基づいて、例えば、ミ
クロン（μｍ）単位の微細加工を行う場合のように、特
に高精度な位置決めが必要な場合は大きな問題となる。

【０００６】この種のレーザビーム光の位置決め制御に
かかる多種の提案が行われている。例えば、特開平５−
８０５２５号「描画装置」公報例では、ステージの移動
誤差などに起因するレーザビーム光スポットの位置ズレ
を、より高精度で補正して高精度の描画を可能にしてい
る。また、特開平５−１３２２６６号「レーザ加工装
置」公報例では、レーザビーム光を用いてレーザ加工を
行う際に、被加工物上での照射位置を高速走査できるよ
うにしている。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】このように上記従来例
では、外部からの振動や駆動部１３におけるサーボモー
タなどの位置制御によって、ステージ１で微動が生じた
場合は、その微動量だけ対象物１４上に照射されるレー
ザビーム光１１の照射位置がずれてしまい、特に、微細
加工などのように高精度な位置決めが必要な場合は、所
定の高精度が得られないという欠点があった。

【０００８】本発明は、このような従来の技術における
課題を解決するものであり、位置決め駆動や外部から加
わった振動によるステージの微小な位置変化量を光学ス
キャナにフィードバックして、ステージ上の対象物に対
するレーザビーム光の放射を同一位置に高精度に制御で
きるようになり、例えば、ミクロン単位の微細加工など
のように高精度な位置決めが必要な場合に所定の高精度
が確実に得られる光学スキャナの位置補正方法及び光学
スキャナ補正装置の提供を目的とする。

【０００９】

【課題を解決するための手段】上記課題を達成するため
に、本発明の光学スキャナの位置補正方法は、光学スキ
ャナによりスキャンされたレーザビーム光が照射される
対象物を搭載したステージの微小な位置変化量を、当該
光学スキャナへフィードバックして、当該レーザビーム
光のスキャン変位を補正する、光学スキャナの位置補正
方法であって、ステージの設定位置を示す設定データを
設定しておき、ステージの位置を検出して検出データを
生成し、検出データと設定データとを比較して、当該ス
テージの位置変化量を求め、位置変化量を、光学スキャ
ナによるスキャン変位の分解能に対応したゲインに調整
して変位データを生成し、変位データと光学スキャナの
位置信号とから、スキャン変位を補正した駆動信号を生
成し、光学スキャンを駆動する方法としてある。

【００１０】また、本発明の光学スキャナ位置補正装置
は、光学スキャナによりスキャンされたレーザビーム光
が照射される対象物を搭載したステージの微小な位置変
化量を、当該光学スキャナへフィードバックして、当該
レーザビーム光のスキャン変位を補正する、光学スキャ
ナの位置補正装置であって、ステージの位置を検出して
検出データを生成する高精度位置検出手段と、ステージ
の設定位置示す設定データと前記検出データとを比較し
て、当該ステージの位置変化量を求めるとともに、当該
位置変化量を前記光学スキャナによるスキャン変位の分
解能に対応したゲインに調整して変位データを生成し、
当該変位データと光学スキャナの位置信号とから、スキ
ャン変位を補正した駆動信号を生成する補正手段とを備
える構成としてある。

【００１１】前記高精度位置検出手段として、干渉計測
定長システム又はリニアスケールを含む位置検出装置を
用いる構成としてある。

【００１２】前記補正手段として、前記ステージの設定
位置を示す設定データを設定する設定手段と、ステージ
の設定位置示す設定データと検出データとを比較して、
当該ステージの位置変化量を得る微動取得手段と、位置
変化量を光学スキャナでのスキャン変位の分解能に対応
したゲインに調整して、変位データを出力するゲイン調
整手段と、変位データと光学スキャナの位置信号とか
ら、スキャン変位を補正した駆動信号を生成する駆動信
号生成手段とを備える構成としてある。

【００１３】前記ゲイン調整手段として、可変増幅器、
アッテネータを含むゲイン調整器を用いる構成としてあ
る。

【００１４】前記補正手段として、光学スキャナでのス
キャン変位における位置を設定し、かつ、前記光学スキ
ャナでのスキャン変位の駆動制御を行うためのＣＰＵ
と、ＣＰＵの制御でステージの設定位置が設定されるス
テージ位置設定回路と、検出データと設定データとか
ら、ステージの位置変化量を出力する比較器と、ＣＰＵ
の制御で設定された光学スキャナの位置信号を出力する
光学スキャナ位置設定回路と、比較器から出力された位
置変化量を、光学スキャナでのスキャン変位の分解能に
ゲインを調整して出力するゲイン調整回路と、ゲイン調
整回路からの信号と光学スキャナ位置設定回路からの位
置信号とを加算して駆動信号を出力する加算器と、駆動
信号に基づいて光学スキャナへ出力する光学スキャナド
ライブ回路とを備える構成としてある。

【００１５】前記ステージに加わった振動による微動と
して、少なくとも位置決め駆動及び外部からの振動の影
響による微小の位置変化とする構成としてある。また、
前記光学スキャナを、ガルバノメータにミラーを取り付
けてレーザビーム光をスキャンするスキャナとする構成
としてある。

【００１６】このような本発明の光学スキャナの位置補
正方法及び光学スキャナ補正装置は、ステージを高精度
で検出した位置と設定したステージの位置とを比較して
ステージの微動量を得るとともに、この得られた微動量
を光学スキャナでのスキャン変位の分解能に対応したゲ
インに調整する。さらに、ゲイン調整したステージの微
動量と光学スキャナの位置信号からステージの微動量を
補正した光学スキャナを駆動するための信号を生成して
いる。

【００１７】この結果、位置決め駆動や外部から加わっ
た振動による微小な位置変化量を光学スキャナにフィー
ドバックして、ステージ上の対象物に対するレーザビー
ム光の放射を同一位置に高精度に制御できるようにな
り、特に、ミクロン単位の微細加工などのように高精度
な位置決めが必要な場合に所定の高精度が確実に得られ
るようになる。

【００１８】

【発明の実施の形態】次に、本発明の光学スキャナの位
置補正方法及び光学スキャナ補正装置の実施の形態を図
面を参照して詳細に説明する。なお、以下の文及び図に
あって前記した図６と同一の構成要素には同一の符号を
付した。

【００１９】図１は本発明の光学スキャナの位置補正方
法及び光学スキャナ補正装置の実施形態における構成を
示すブロック図であり、図２は図１の要部構成を模式的
に示す図である。図１及び図２において、この光学スキ
ャナ補正装置は、例えば、Ｘ，Ｙ軸上で移動するステー
ジ１と、光学スキャナ１２のスキャン（例えば、往復）
変位における位置を光学スキャナ位置設定回路６に設定
し、かつ、駆動部１３を駆動して光学スキャナ１２のス
キャン変位を制御するためのＣＰＵ３と、このＣＰＵ３
の制御で高精度位置検出手段としての干渉計測長システ
ム１５からのデータと比較でいるように換算されたステ
ージ１の設定位置を示す設定データが設定されるステー
ジ位置設定回路４とを備えている。

【００２０】また、この光学スキャナ補正装置は、干渉
計測長システム１５で検出したステージ１の検出データ
とＣＰＵ３がステージ位置設定回路４に設定した設定デ
ータとからステージ１の微動量ΔＰを出力する比較器５
と、光学スキャナ１２の位置信号を出力する光学スキャ
ナ位置設定回路６と、ゲイン調整回路１０からの変位デ
ータ信号と光学スキャナ位置設定回路６からの位置信号
との加算信号（補正された駆動信号）を光学スキャナド
ライブ回路８に出力する加算器７とを備えている。

【００２１】さらに、この光学スキャナ補正装置は、加
算器７からの加算信号に基づいて光学スキャナ１２を駆
動するための駆動信号を出力する光学スキャナドライブ
回路８と、光学スキャナ１２でのスキャン変位の駆動を
行う光学スキャナ駆動機構９と、比較器５からのデータ
に対して光学スキャナ１２のスキャン変位の分解能にゲ
インを調整して加算器７へ出力するゲイン調整回路１０
と、ガルバノメータにミラーを取り付けたレーザビーム
光１１をスキャンする光学スキャナ１２とを備えてい
る。

【００２２】また、この光学スキャナ補正装置は、ステ
ージ１を、例えば、Ｘ，Ｙ軸上で移動させるための駆動
を行う駆動部１３と、ステージ１上に配置され、レーザ
ビーム光１１が照射される対象物１４と、高精度による
位置検出を行ってステージ１の移動を光学スキャナ１２
のスキャンニング方向と同一軸（以後、Ｘ軸と記載す
る）とする干渉計測長システム（高精度位置検出器）１
５と備えている。

【００２３】なお、干渉計測長システム（高精度位置検
出器）１５は、この干渉計によるもの以外に、例えば、
ステージ１の変位の相対位置を検出するリニアスケール
などの高精度位置検出器を用いても良い。このリニアス
ケールとしては、ステージ１の変位に伴う磁気極性の変
化信号（例えば、サイン信号及びコサイン信号）から相
対位置を検出するリニアスケールなどが周知である。

【００２４】次に、この実施形態の動作について説明す
る。まず、概略の動作について説明する。図１及び図２
において、ＣＰＵ３は、ステージ位置設定回路４に干渉
計測長システム１５のデータに換算したステージ１の位
置を示す設定データ［Ｘ１］を設定しておく。そして、
干渉計測長システム１５は、ステージ１の位置を高精度
に検出して、検出データの［Ｌ１］を生成する。外部の
振動やステージの位置決め駆動による微動量をΔＬとす
ると、これらのデータ間には、次式（１）が成立する。

【００２５】 Ｌ１−Ｘ１＝ΔＬ …（１）

【００２６】この微動量ΔＬは比較器５で生成される。
また、ゲイン調整回路１０は比較器５からのデータを、
光学スキャナ１２のスキャン変位の分解能に対応したゲ
インに調整して変位データを生成し、この変位データの
信号（微動量ΔＰ）を加算器７へ出力する。加算器７に
は、ゲイン調整回路１０からのステージ１の微動量ΔＰ
と光学スキャナ位置設定回路６からの光学スキャナ１２
の位置信号Ｓとが入力される。加算器７では、ステージ
１の微動量ΔＬを補正した光学スキャナ位置Ｐを次式
（２）に基づいて算出する。

【００２７】 Ｓ＋ΔＰ＝Ｐ …（２）

【００２８】この生成した光学スキャナ位置信号Ｐに基
づいて、光学スキャナドライブ回路８が光学スキャナ１
２でのスキャン変位に対する駆動を行う。

【００２９】この動作を詳細に説明する。図２におい
て、ステージ１上に配置された対象物１４に光学スキャ
ナ１２がスキャンしたレーザビーム光１１を照射（スキ
ャンニング）する。ステージ１及びステージ１上の対象
物１４に対するそれぞれの破線は、外部の振動や駆動部
１３の位置決め制御によって微動ΔｌだけＸ軸方向に対
する変位が生じた状態を示している。この図２では、ス
テージ１で微動が生じた場合、光学スキャナ１２による
レーザビーム光１１の照射位置が対象物１４の外になっ
ている。

【００３０】ＣＰＵ３が駆動部１３を制御してステージ
１を位置Ｐ１に移動させる。干渉計測長システム１５
は、ステージ１が微動している位置Ｌ１を検出し、この
検出信号を比較器５に出力する。なお、比較器５への検
出信号は、後段の比較器５などの構成がアナログ処理の
場合は、Ｄ／Ａ変換器を設けて、アナログ信号に変換し
て出力する。

【００３１】ＣＰＵ３は、予め測定した干渉計測長シス
テム１５とステージ１の位置関係に基づいて計算を行
う。すなわち、干渉計測長システム１５での測定位置に
換算した値をＸ１としてステージ位置設定回路４に設定
する。このステージ位置設定回路４が設定値Ｘ１を出力
する。ステージ位置設定回路４の出力信号は、後段の処
理形態（デジタル処理又はアナログ処理）に対応して、
例えば、Ｄ／Ａ変換を行う。この後段でも同様に処理形
態に対応してＤ／Ａ変換を行う。

【００３２】比較器５は、干渉計測長システム１５の出
力信号Ｌ１とステージ位置設定回路４の出力である設定
値Ｘ１とを比較して、この比較差に対応するステージ１
の微動量ΔＬを出力する。なお、比較器５は、干渉計測
長システム１５の出力信号がデジタル信号の場合はデジ
タル処理で比較演算を行い、また、干渉計測長システム
１５の出力信号がアナログ信号の場合はアナログ処理で
比較値を得る。この比較演算は、前記した（数１）によ
る「Ｌ１−Ｘ１＝ΔＬ」で実行する。

【００３３】次に、ＣＰＵ３は、光学スキャナ位置設定
回路６に光学スキャナ１２の移動位置を設定する制御を
実行する。光学スキャナ位置設定回路６は、図示しない
メモリを内蔵しており、このメモリに光学スキャナ１２
でのスキャン変位における移動位置に対応する波形デー
タが設定される。この波形データに基づいて光学スキャ
ナ位置設定回路６が、光学スキャナ１２でのスキャン変
位に対応する信号を連続的に出力する。

【００３４】図３は光学スキャナ位置設定回路６での設
定波形による光学スキャナ１２に対するドライブ信号Ｓ
を示す図である。図３において、この光学スキャナ１２
でのスキャン変位に対応するドライブ信号Ｓは、ゼロク
ロスの鋸歯状波（上側に凸となるように屈曲した、山形
の波形）であり、Ｘ軸と同じ右方向を「＋」、また、左
方向を「−」としている。

【００３５】予め微動量ΔＬの分解能と光学スキャナ位
置設定の分解能とを調べ、ゲイン調整回路１０におい
て、微動量ΔＬの分解能が光学スキャナ位置設定の分解
能と同一になるようにゲインを設定し、この出力信号Δ
Ｐを送出する。この設定処理を行う構成としては、可変
増幅器、アッテネータを用いる例が周知である。ゲイン
調整回路１０が、デジタル処理の場合、次式（３）によ
る演算を行う。

【００３６】 ΔＬ×α＝ΔＰ …（３） α：ゲイン定数

【００３７】図４はゲイン調整回路１０でのゲイン調整
に対応する出力信号ΔＰの時間的変化を示す図である。
図４において、出力信号ΔＰはゼロクロスする波形であ
り、図中のｘ軸の右方向を「＋」、左方向を「−」とし
ている。

【００３８】加算器７は、ステージ１の微動量ΔＬを示
したゲイン調整回路１０の出力信号ΔＰと光学スキャナ
位置設定回路６の出力信号Ｓとが入力され、ステージ１
の微動を補正した信号Ｐを光学スキャナドライブ回路８
に出力する。この補正は（数２）で示した「ΔＰ＋Ｓ＝
Ｐ」によって演算する。なお、この光学スキャナドライ
ブ回路８の出力信号は、入力信号がデジタル信号の場合
はデジタル信号で出力し、又は、Ｄ／Ａ変換によるアナ
ログ信号を出力し、入力信号がアナログ信号の場合はア
ナログ信号で出力する。

【００３９】図５は加算器７からのステージ１の微動量
を補正した信号Ｐの時間的変化を示す図である。図５で
は、図中のｘ軸の右方向を「＋」、左方向を「−」とし
て、ステージ１の微動量を示したゲイン調整回路１０の
出力信号ΔＰと光学スキャナ位置設定回路６の出力信号
Ｓとからステージ１の微動量を補正した信号Ｐの時間的
変化を示している。

【００４０】光学スキャナドライブ回路８は、加算器７
からのステージ１の微動量を補正した信号Ｐを、光学ス
キャナ１２でのスキャン変位を駆動するための信号に変
換して光学スキャナ駆動機構９に送出し、この光学スキ
ャナ駆動機構９が光学スキャナ１２での駆動（スキャン
変位）を行う。なお、光学スキャナドライブ回路８は、
入力信号がデジタル信号の場合はＤ／Ａ変換したアナロ
グ信号を光学スキャナ機構９に供給する。

【００４１】光学スキャナ駆動機構９は、レーザビーム
光１１を、ステージ１の微動をキャンセルするように補
正した信号Ｐで対象物１４に対してスキャンニングによ
る照射を行う。

【００４２】このように、この実施形態では、駆動部１
３での位置決め駆動や外部から加わった振動による微小
な位置変化量を、光学スキャナ１２にフィードバックし
て、ステージ１上の対象物１４に対するレーザビーム光
１１を同一位置に高精度に制御できるようになる。

【００４３】

【発明の効果】以上の説明から明らかなように、本発明
の光学スキャナの位置補正方法及び光学スキャナ補正装
置によれば、ステージを高精度で検出した位置と設定し
たステージの位置とを比較してステージの位置変化量を
得る。この得られた位置変化量を光学スキャナでのスキ
ャン変位の分解能に対応したゲインに調整し、このゲイ
ン調整したステージの微動量と光学スキャナの位置信号
から、光学スキャナでのスキャン変位を補正した駆動信
号を生成する。

【００４４】この結果、位置決め駆動や外部から加わっ
た振動による微小な位置変化量を光学スキャナにフィー
ドバックして、ステージ上の対象物に対するレーザビー
ム光の照射位置を補正することができる。特に、ミクロ
ン単位の微細加工などのように高精度な位置決めが必要
な場合に所定の高精度が確実に得られるようになる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の光学スキャナの位置補正方法及び光学
スキャナ補正装置の実施形態における構成を示すブロッ
ク図である。

【図２】図１における要部構成を模式的に示し、補正動
作を説明するための図である。

【図３】図１中の光学スキャナ位置設定回路での設定波
形によるドライブ信号を示す図である。

【図４】図１中のはゲイン調整回路でのゲイン調整に対
応する出力信号の時間的変化を示す図である。

【図５】図１中の加算器からのステージの微動量を補正
した信号の時間的変化を示す図である。

【図６】従来の光学スキャナにおけるスキャン変位を行
うための構成を示すブロック図である。

【符号の説明】

１ ステージ ３ ＣＰＵ ４ ステージ位置設定回路 ５ 比較器 ６ 光学スキャナ位置設定回路 ７ 加算器 ８ 光学スキャナドライブ回路 ９ 光学スキャナ駆動機構 １０ ゲイン調整回路 １１ レーザビーム光 １２ 光学スキャナ １３ 駆動部 １４ 対象物 １５ 干渉計測長システム

Claims (8)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 光学スキャナによりスキャンされたレー
   ザビーム光が照射される対象物を搭載したステージの微
   小な位置変化量を、当該光学スキャナへフィードバック
   して、当該レーザビーム光のスキャン変位を補正する、
   光学スキャナの位置補正方法であって、 前記ステージの設定位置を示す設定データを設定してお
   き、 前記ステージの位置を検出して検出データを生成し、 前記検出データと前記設定データとを比較して、当該ス
   テージの位置変化量を求め、 前記位置変化量を、前記光学スキャナによるスキャン変
   位の分解能に対応したゲインに調整して変位データを生
   成し、 前記変位データと光学スキャナの位置信号とから、前記
   スキャン変位を補正した駆動信号を生成し、前記光学ス
   キャンを駆動することを特徴とする光学スキャンの位置
   補正方法。
2. 【請求項２】 光学スキャナによりスキャンされたレー
   ザビーム光が照射される対象物を搭載したステージの微
   小な位置変化量を、当該光学スキャナへフィードバック
   して、当該レーザビーム光のスキャン変位を補正する、
   光学スキャナの位置補正装置であって、 前記ステージの位置を検出して検出データを生成する高
   精度位置検出手段と、 前記ステージの設定位置示す設定データと前記検出デー
   タとを比較して、当該ステージの位置変化量を求めると
   ともに、当該位置変化量を前記光学スキャナによるスキ
   ャン変位の分解能に対応したゲインに調整して変位デー
   タを生成し、当該変位データと光学スキャナの位置信号
   とから、前記スキャン変位を補正した駆動信号を生成す
   る補正手段と、 を備えることを特徴とする光学スキャナ補正装置。
3. 【請求項３】 前記高精度位置検出手段として、 干渉計測定長システム又はリニアスケールを含む位置検
   出装置を用いることを特徴とする請求項２記載の光学ス
   キャナ補正装置。
4. 【請求項４】 前記補正手段として、 前記ステージの設定位置を示す設定データを設定する設
   定手段と、 前記ステージの設定位置示す設定データと前記検出デー
   タとを比較して、当該ステージの位置変化量を得る微動
   取得手段と、 前記位置変化量を光学スキャナでのスキャン変位の分解
   能に対応したゲインに調整して、変位データを出力する
   ゲイン調整手段と、 前記変位データと光学スキャナの位置信号とから、前記
   スキャン変位を補正した駆動信号を生成する駆動信号生
   成手段と、 を備えることを特徴とする請求項２又は３記載の光学ス
   キャナ補正装置。
5. 【請求項５】 前記ゲイン調整手段として、 可変増幅器、アッテネータを含むゲイン調整器を用いる
   ことを特徴とする請求項３記載の光学スキャナ補正装
   置。
6. 【請求項６】 前記補正手段として、 光学スキャナでのスキャン変位における位置を設定し、
   かつ、前記光学スキャナでのスキャン変位の駆動制御を
   行うためのＣＰＵと、 前記ＣＰＵの制御で前記設定位置が設定されるステージ
   位置設定回路と、 前記検出データと前記設定データとから、前記ステージ
   の位置変化量を出力する比較器と、 前記ＣＰＵの制御で設定された光学スキャナの位置信号
   を出力する光学スキャナ位置設定回路と、 前記比較器から出力された位置変化量を、光学スキャナ
   でのスキャン変位の分解能にゲインを調整して出力する
   ゲイン調整回路と、 前記ゲイン調整回路からの信号と前記光学スキャナ位置
   設定回路からの位置信号とを加算して駆動信号を出力す
   る加算器と、 前記駆動信号に基づいて光学スキャナへ出力する光学ス
   キャナドライブ回路と、 を備えることを特徴とする請求項２記載の光学スキャナ
   補正装置。
7. 【請求項７】 前記ステージの位置変化が、 少なくとも位置決め駆動及び外部からの振動の影響によ
   る微小の位置変化によるものであることを特徴とする請
   求項２記載の光学スキャナ補正装置。
8. 【請求項８】 前記光学スキャナが、 ガルバノメータにミラーを取り付けてレーザビーム光を
   スキャンするスキャナであることを特徴とする請求項２
   記載の光学スキャナ補正装置。