JPH11348420A - 情報記録媒体 - Google Patents

情報記録媒体

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Publication number
JPH11348420A
JPH11348420A JP10156206A JP15620698A JPH11348420A JP H11348420 A JPH11348420 A JP H11348420A JP 10156206 A JP10156206 A JP 10156206A JP 15620698 A JP15620698 A JP 15620698A JP H11348420 A JPH11348420 A JP H11348420A
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JP
Japan
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recording medium
information recording
integer
recording
layer
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Pending
Application number
JP10156206A
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English (en)
Inventor
Naoki Saito
直樹 斎藤
Michihiro Shibata
路宏 柴田
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Fujifilm Holdings Corp
Original Assignee
Fuji Photo Film Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Fuji Photo Film Co Ltd filed Critical Fuji Photo Film Co Ltd
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  • Thermal Transfer Or Thermal Recording In General (AREA)
  • Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
  • Optical Recording Or Reproduction (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】レーザー光による記録再生ができ、かつ優れた
記録特性を有し、またその記録特性を長期にわたって十
分維持できるような高い耐光性を有する情報記録媒体を
提供する。 【解決手段】トラックピッチ0.6〜0.9μmのプレ
グルーブが形成された、厚さ0.6±0.1mmの透明
な円盤状基板上に下記一般式(1)で表される色素化合
物を含む記録層を有する情報記録媒体。 【化1】 式中A、B、CおよびDは、AとBのハメットのσp
の合計およびCとDのハメットのσp値の合計がそれぞ
れ0.6以上となる置換基であり、AとBもしくはCと
Dは非共役鎖で連結して環を形成していてもよく、R1
はメチン炭素上の置換基を表し、nは0〜5の整数を表
し、nが2以上の整数のとき、複数のR 1 は互いに同一
でも異なっていてもよく、Xk+はオニウムイオンを表
し、kは1から10の整数を表わす。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明はレーザー光による情
報書き込みが可能な情報記録媒体およびそれを用いた記
録方法に関するものである。特に本発明は波長600〜
700nmのレーザー光を用いて情報を記録するのに適
した追記型情報記録媒体に関するものである。
【0002】
【従来の技術】従来からレーザー光によって一回限りの
情報記録が可能な情報記録媒体(光ディスク)が知られ
ている。該情報記録媒体は追記型CD(いわゆるCD−
R)とも称され、従来のCD作製と比べて少量のCDを
手頃な価格でしかも迅速に提供できるという利点を有し
ており、最近のパーソナルコンピュータの普及に伴って
その需要も拡大している。CD−Rの基本的な構造は、
透明な円盤状基板上に有機色素から成る記録層、銀など
の金属から成る反射層、更に樹脂製の保護層をこの順に
積層したものである。光ディスクへの情報記録は、近赤
外域のレーザー光(通常、波長780nm付近)を照射し
て記録層を局所的に発熱変形させることによって行われ
る。一方情報の読取り(再生)は、通常記録用と同じ波
長のレーザー光を照射して、記録層が発熱変形された部
位(記録部分)と変形されない部位(未記録部分)との
反射率の違いを検出することによって行われる。
【0003】近年、コンピュータの取り扱うデータ量の
増大に伴って、記録密度のより高い情報記録媒体が求め
られている。記録密度を高めるには、情報記録のための
レーザー光の光径をできるだけ小さく絞ることが有効で
あるが、回折限界を超えて絞り込むことはできない。回
折限界はレーザー光の波長に依存しており、短波長であ
るほど小さいことが理論的に知られている。このため、
従来から用いられている780nmより短波長のレーザ
ー光を用いて記録再生が可能な光ディスクの開発が進め
られており、例えば追記型デジタル・ビデオ・ディスク
(いわゆるDVD−R)と称される光ディスクが提案さ
れている。この光ディスクは、トラックピッチがCD−
Rの1.6μmより狭い0.8μmのプレグルーブが形
成された透明な円盤状基板上に色素から成る記録層そし
て通常は該記録層上に更に反射層および保護層を設けて
成るディスク同士を2枚、あるいは該ディスクに加えて
同寸法の円盤状保護基板とを該記録層を内側にして接着
剤で貼り合わせた構造となるように製造されている。D
VD−Rは可視レーザー光(通常600〜700nmの
波長)を照射することによって記録再生が行われ、CD
−Rより高密度の記録が可能である。
【0004】DVD−Rは従来のCD−Rに比べて数倍
の情報量を記録するため、高い記録感度を有することは
勿論、特に大量の情報を高速で処理する必要から、高速
記録に対してもエラー発生率が低いことが望まれる。ま
た有機色素記録層は一般に熱や光に対する安定性が低い
という問題があり、それ故に耐熱性および耐光性に優れ
た有機色素記録層の開発が強く望まれてきた。
【0005】特開昭63−209995号広報にはオキ
ソノール色素からなる記録層が基板上に設けられた情報
記録媒体が開示されており、優れた記録特性とともに比
較的長期間にわたる安定した記録再生特性の維持を実現
しているが、未だ十分に満足すべき記録特性および安定
性を有する有機色素記録層が開発されていないのが現状
である。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】従って本発明の目的
は、CD−Rで用いられるよりも短波長のレーザー光、
特に600〜700nmの波長の可視レーザー光によっ
て記録再生が可能であり、かつ優れた記録特性を有し、
またその記録特性を長期にわたって十分維持できるよう
な高い安定性(特に耐光性)を有する情報記録媒体を提
供することである。
【0007】
【課題を解決するための手段】本発明の発明者は、種々
の色素構造を検討することによって上記目的を達成でき
ることを見出した。特にオキソノール色素とそれと対と
なるカチオンとの適宜な組合せが上記課題の解決に有効
であることを見出すに至った。
【0008】本発明の目的は、トラックピッチ0.6〜
0.9μmのプレグルーブが形成された、厚さ0.6±
0.1mmの透明な円盤状基板上にレーザー光による情
報記録が可能な記録層を有する情報記録媒体であって、
該記録層中に下記一般式(1)で表される色素化合物を
含むことを特徴とする情報記録媒体によって達成され
た。
【0009】
【化3】
【0010】(式中A、B、CおよびDは、AとBのハ
メットのσp 値の合計およびCとDのハメットのσp
の合計がそれぞれ0.6以上となる置換基であり、Aと
BもしくはCとDは非共役鎖で連結して環を形成してい
てもよく、R1 はメチン炭素上の置換基を表し、nは0
〜5の整数を表し、nが2以上の整数のとき、複数のR
1は互いに同一でも異なっていてもよく、Xk+はオニウ
ムイオンを表し、kは1から10の整数を表わす。)
【0011】また、本発明はトラックピッチ0.6〜
0.9μmのプレグルーブが形成された、厚さ0.6±
0.1mmの透明な円盤状基板の該プレグルーブが設け
られた側の表面に下記一般式(1)で表される色素化合
物を含む記録層が設けられて成る二枚の積層体を、ある
いはトラックピッチ0.6〜0.9μmのプレグルーブ
が形成された、厚さ0.6±0.1mmの透明な円盤状
基板の該プレグルーブが設けられた側の表面に下記一般
式(1)で表される色素化合物を含む記録層が設けられ
て成る積層体と円盤状保護板とをそれぞれの記録層が内
側となるように接合して成る厚さ1.2±0.2mmの
記録媒体にもある。
【0012】
【化4】
【0013】(式中A、B、CおよびDは、AとBのハ
メットのσp値の合計およびCとDのハメットのσp値の
合計がそれぞれ0.6以上となる置換基であり、AとB
もしくはCとDは非共役鎖で連結して環を形成していて
もよく、R1はメチン炭素上の置換基を表し、nは0〜
5の整数を表し、nが2以上の整数のとき、複数のR1
は互いに同一でも異なっていてもよく、Xk+はオニウム
イオンを表し、kは1から10の整数を表わす。)
【0014】更に本発明は、上記の情報記録媒体に波長
600〜700nmのレーザー光を照射することによる
情報の記録方法にもある。
【0015】本発明は以下の態様であることが好まし
い。 (1)一般式(1)においてXk+が4級アンモニウムイ
オンである。 (2)一般式(1)においてkが1〜4である。 (3)一般式(1)においてkが2である。 (4)上記(3)においてMk+が下記一般式(2)で表
されるオニウムイオンである。
【0016】
【化5】
【0017】(式中R2 およびR3 は各々独立にアルキ
ル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基または
ヘテロ環基を表し、R4 は置換基を表し、hは0から8の
整数を表し、hが2以上の整数のとき、複数個のR4
各々同一でも異なっていてもよく、また互いに連結して
環を形成していてもよい。) (5)記録層上に更に反射層が設けられている。
【0018】
【発明の実施の形態】本発明の情報記録媒体は下記一般
式(1)で表される色素化合物を含む記録層を基板上に
有する。
【0019】
【化6】
【0020】(式中A、B、CおよびDは、AとBのハ
メットのσp 値の合計およびCとDのハメットのσp
の合計がそれぞれ0.6以上となる置換基であり、Aと
BもしくはCとDは非共役鎖で連結して環を形成してい
てもよく、R1 はメチン炭素上の置換基を表し、nは0
〜5の整数を表し、nが2以上の整数のとき、複数のR
1は互いに同一でも異なっていてもよく、Xk+はオニウ
ムイオンを表し、kは1から10の整数を表わす。)
【0021】以下に本発明に用いられる上記色素化合物
について詳しく説明する。本発明の記録媒体に用いられ
る色素化合物は、アニオン部(色素成分)とカチオン部
(オニウム成分)から成る。先ず、アニオン部について
詳述する。
【0022】一般式(1)においてA、B、CおよびD
は、AとBのハメットのσp 値の合計およびCとDのハ
メットのσp 値の合計がそれぞれ0.6以上となる置換
基を表すが、ハメットのσp 値は例えばChem.Re
v.91,165(1991)に記載されている。A、
B、CおよびDはそれぞれ同一でもよく、また異なって
いてもよく、特に好ましいものは、シアノ、ニトロ、ア
シル、アルコキシカルボニル、カルバモイル、スルホニ
ル、スルファモイル、スルフィニル、ホスホリル、アル
コキシホスホリル、アゾリル、オキサゾリル、チアゾリ
ル、フェニル、2,2−ジシアノビニルである。AとB
もしくはCとDは非共役鎖で連結していてもよい。非共
役鎖とはπ共役によってAとB(またはCとD)を連結
しない連結鎖を意味する。
【0023】一般式(1)においてR1は、炭素数1〜
18のアルキル基、炭素数2〜18のアルケニル基、炭
素数2〜18のアルキニル基、炭素数6〜14のアリー
ル基、炭素数4〜9のヘテロ環基、−COR11、−SO
211、−SOR11、−CO211、−OR11、−S
11、−OCOR11、−OSO211、−CONR11
12、−SO2NR1112、−OCONR1112、−OS
2NR1112、−NR11 12、−NR11COR12、−
NR11SO212、−NR11CO212、−NR11CON
1213、−NR11SO2NR1213、ハロゲン原子、
ニトロ基、シアノ基から選ばれる置換基である。ここで
11、R12およびR13はそれぞれ独立に水素原子、炭素
数1〜18のアルキル基、炭素数2〜18のアルケニル
基、炭素数2〜18のアルキニル基、炭素数6〜14の
アリール基、炭素数4〜9のヘテロ環基を表す。なおR
1 、R2 およびR3 は置換基を有していてもよく、置換
基としてはR1 、R2 およびR3 として挙げた基を挙げ
ることができる。
【0024】一般式(1)においてR1として好ましい
ものは、アルキル基、アリール基、ヘテロ環基、アルコ
キシ基(−OR11)、アリールオキシ基(−OR11)で
ある。R1で表されるアルキル基として好ましいもの
は、炭素数1〜8の鎖状(直鎖もしくは分岐)または環
状のアルキル基であり、より好ましくは炭素数1〜4の
鎖状(直鎖もしくは分岐)アルキル基であり、例えばメ
チル、エチル、n-プロピル、イソプロピル、n-ブチル、
s-ブチル、イソブチル、t-ブチルを挙げることができる
が、特にメチルおよびエチルが好ましい。
【0025】R1で表されるアリール基として好ましい
ものは、炭素数6〜10のアリール基であり、例えばフ
ェニル、1−ナフチル、2−ナフチルを挙げることがで
きるが、特にフェニルが好ましい。
【0026】R1で表されるヘテロ環基として好ましい
ものは、炭素数4〜7の飽和または不飽和のヘテロ環で
あり、含有されるヘテロ原子としては窒素原子、酸素原
子、硫黄原子が好ましく、例えば4−ピリジル、2−ピ
リジル、2−ピラジル、2−イミダゾリル、2−フリ
ル、2−チオフェニル、2−ベンゾオキサゾリル、2−
ベンゾチオキサゾリルを挙げることができるが、特に4
−ピリジルが好ましい。
【0027】R1で表されるアルコキシ基として好まし
いものは、炭素数1〜8の鎖状(直鎖もしくは分岐)ま
たは環状のアルコキシ基であり、より好ましくは炭素数
1〜4の鎖状(直鎖もしくは分岐)アルコキシ基であ
り、例えばメトキシ、エトキシ、n−プロピルオキシ、
イソプロピルオキシ、n−ブトキシ、s−ブトキシ、イ
ソブトキシ、t−ブトキシを挙げることができるが、特
にメトキシが好ましい。R3で表されるアリールオキシ
基として好ましいものは、炭素数6〜10のアリールオ
キシ基であり、例えばフェノキシ、1−ナフトキシ、2
−ナフトキシを挙げることができるが、特にフェノキシ
が好ましい。
【0028】一般式(1)においてnは0〜3が好まし
く、0〜2が更に好ましく、特に0または1が好まし
い。nが1の時、R1 の置換位置は中央のメチン炭素上
(メソ位)が好ましく、このときR1としてはフェニ
ル、メトキシ、フェノキシが好ましく、特にフェニルが
好ましい。
【0029】次にカチオン部について詳述する。Xk+
表されるオニウムイオンとしては、例えばアンモニウム
イオン、オキソニウムイオン、スルホニウムイオン、ホ
スホニウムイオン、セレノニウムイオン、ヨードニウム
イオンが挙げられるが、中でも第4級アンモニウムイオ
ンが好ましい。
【0030】第4級アンモニウムは、一般に第3級アミ
ン(例えば、トリメチルアミン、トリエチルアミン、ト
リブチルアミン、トリエタノールアミン、N−メチルピ
ロリジン、N−メチルピペリジン、N,N−ジメチルピ
ペラジン、トリエチレンジアミン、N,N,N’,N’
−テトラメチルエチレンジアミン)あるいは含窒素複素
環(例えば、ピリジン、ピコリン、2,2’−ジピリジ
ル、4,4’−ジピリジル、1,10−フェナントロリ
ン、キノリン、オキサゾール、チアゾール、N−メチル
イミダゾール、ピラジン、テトラゾール)をアルキル化
(メンシュトキン反応)、アラルキル化、アルケニル
化、アルキニル化、アリール化あるいはヘテロ環化して
得られる。
【0031】Xk+で表される第4級アンモニウムイオン
としては、含窒素ヘテロ環からなる第4級アンモニウム
イオンが好ましく、特に第4級ピリジニウムイオンが好
ましい。kは1〜10の整数を表すが、1〜4が好まし
く、特に2が好ましい。
【0032】Xk+で表されるオニウムイオンは、下記一
般式(2)で表されるものが特に好ましい。これらの化
合物は、対応するジピリジルと目的の置換基を持つハロ
ゲン化物とのメンシュトキン反応(例えば、特開昭61
−148162号公報参照)、あるいは特開昭51−1
6675号公報および特開平1−96171号公報に記
載の方法に準ずるアリール化反応により容易に得ること
ができる。
【0033】
【化7】
【0034】(式中R2およびR3は各々独立にアルキル
基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基またはヘ
テロ環基を表し、R4は置換基を表し、hは0から8の整
数を表し、hが2以上の整数の場合、複数個のR4は各々
同一でも異なっていてよく、また互いに連結して環を形
成していてもよい。)
【0035】一般式(2)において、R2 もしくはR3
で表されるアルキル基は、炭素数1〜18が好ましく、
更に炭素数1〜8が好ましく、直鎖、分岐または環状で
あってもよく、例えばメチル、エチル、n−プロピル、
イソプロピル、n−ブチル、イソブチル、s−ブチル、
イソアミル、n−ヘキシル、シクロヘキシル、2−エチ
ルヘキシル、n−オクチルを挙げることができる。
【0036】一般式(2)において、R2もしくはR3
表されるアルケニル基は、炭素数2〜18が好ましく、
更に炭素数2〜8が好ましく、例えばビニル、2−プロ
ペニル、2−メチルプロペニル、1,3−ブタジエニル
を挙げることができる。
【0037】一般式(2)において、R2 もしくはR3
で表されるアルキニル基は、炭素数2〜18が好まし
く、更に炭素数2〜8が好ましく、例えばエチニル、プ
ロピニル、3,3−ジメチルブチニルを挙げることがで
きる。
【0038】一般式(2)において、R2 もしくはR3
で表されるアリール基は、炭素数6〜18が好ましく、
更に炭素数6〜10が好ましく、例えばフェニル、1−
ナフチル、2−ナフチルを挙げることができる。
【0039】一般式(2)において、R2 もしくはR3
で表されるヘテロ環基は、炭素数4〜7の飽和または不
飽和のヘテロ環基が好ましく、含有されるヘテロ原子と
しては窒素原子、酸素原子、硫黄原子が好ましく、例え
ば4−ピリジル、2−ピリジル、2−ピラジル、2−ピ
リミジル、4−ピリミジル、2−イミダゾリル、2−フ
リル、2−チオフェニル、2−ベンゾオキサゾリル、2
−ベンゾチオキサゾリルを挙げることができる。
【0040】一般式(2)のR2 およびR3 は更に置換
基を有していてもよく、置換基としては一般式(1)の
1 として挙げた基を挙げることができる。一般式
(2)においてR4 で表される置換基は、一般式(1)
のR1 と同義であり、好ましくは炭素数1〜18のアル
キル基であり、より好ましくは炭素数1〜8の無置換ア
ルキル基である。
【0041】一般式(2)においてhは、0〜4が好ま
しく、更に0〜2であることが好ましく、特に0が好ま
しい。一般式(2)において二つのピリジン環は、何れ
の位置で連結していてもよいが、ピリジン環の2位もし
くは4位で連結するのが好ましく、特に両ピリジン環の
4位同士で連結するのが好ましい。
【0042】本発明に用いられる一般式(1)で表され
る色素化合物の具体例を次に挙げるが、本発明はこれら
に限定されるものではない。
【0043】
【化8】
【0044】
【化9】
【0045】
【化10】
【0046】
【化11】
【0047】
【化12】
【0048】
【化13】
【0049】
【化14】
【0050】
【化15】
【0051】
【化16】
【0052】
【化17】
【0053】
【化18】
【0054】
【化19】
【0055】
【化20】
【0056】本発明の一般式(1)で表されるオキソノ
ール色素化合物は、色素部(アニオン部)の対塩交換反
応によって容易に合成することができる。色素部は、該
当する活性メチレン化合物とメチン源(メチン染料にメ
チン基を導入するために用いられる化合物)との縮合反
応によって合成することができる。この種の化合物につ
いての詳細は、特公昭39−22069号、同43−3
504号、同52−38056号、同54−38129
号、同55−10059号、同58−35544号、特
開昭49−99620号、同52−92716号、同5
9−16834号、同63−316853号、同64−
40827号各公報、ならびに英国特許第113398
6号、米国特許第3247127号、同4042397
号、同4181225号、同5213956号、同52
60179号各明細書を参照することができる。
【0057】具体的には、モノメチン基の導入にはオル
トギ酸エチル、オルト酢酸エチルなどのオルトエステル
類またはN,N−ジフェニルホルムアミジン塩酸塩等
が、トリメチン基の導入にはトリメトキシプロペン、
1,1,3,3−テトラメトキシプロパンまたはマロン
アルデヒドジアニル塩酸塩(あるいは、これらの誘導
体)等が、またペンタメチン鎖の導入にはグルタコンア
ルデヒドジアニル塩酸塩または1−(2,4−ジニトロ
フェニル)−ピリジニウムクロリド(あるいは、これら
の誘導体)等がそれぞれ使用される。
【0058】本発明に係わる上記一般式(1)で示され
る色素化合物は、単独で用いてもよく、あるいは二種以
上を併用してもよい。また本発明に係わる色素化合物と
これ以外の色素化合物とを併用してもよい。
【0059】本発明の情報記録媒体は、前記一般式
(1)で示される色素化合物を含む記録層が、トラック
ピッチ0.6〜0.9μmのプレグルーブが形成された
厚さ0.6±0.1mmの透明な円盤状基板の該プレグ
ルーブが設けられた側の表面に設けてなるものである。
本発明の情報記録媒体は、記録層の上に更に反射層が設
けられていることが好ましく、更に反射層の上には、保
護層を設けることもできる。
【0060】本発明の情報記録媒体は、具体的には、下
記の態様であることが好ましい。 (1)トラックピッチ0.6〜0.9μmのプレグルー
ブが形成された、厚さが0.6±0.1mmの透明な円
盤状基板の該プレグルーブが設けられた側の表面に、本
発明に係る前記一般式(1)で示される色素化合物を含
む記録層が設けられてなる二枚の積層体を、それぞれの
記録層が内側となるように接合してなる、厚さ1.2±
0.2mmの情報記録媒体。 (2)トラックピッチ0.6〜0.9μmのプレグルー
ブが形成された、厚さが0.6±0.1mmの透明な円
盤状基板の該プレグルーブが設けられた側の表面に、本
発明に係る前記一般式(1)で表される色素化合物を含
む記録層が設けられてなる積層体と、該円盤状基板と略
同じ寸法の円盤状保護板とを、記録層が内側となるよう
に接合してなる、厚さ1.2±0.2mmの情報記録媒
体。なお、上記の態様においても記録層の上には反射層
が設けられていることが好ましい。また反射層の上には
更に保護層が設けられていてもよい。
【0061】本発明の情報記録媒体の製造法について説
明する。本発明の情報記録媒体は、より高い記録密度を
達成するために、CD−Rに比べてより狭いトラックピ
ッチのプレグルーブが形成された基板を用いること以外
は、基本的にCD−R型の情報記録媒体の製造に用いら
れる材料を使用して製造することができる。即ち、DV
D−R型の情報記録媒体は、基板上に、記録層、及び反
射層、そして所望により保護層を順に形成した積層体を
二枚作成し、記録層を内側にしてこれらを接着剤により
接合することにより、あるいはまた、該積層体と、該積
層体の基板と略同じ寸法の円盤状保護基板とを同様にし
て接着剤により接合させることにより、製造することが
できる。
【0062】本発明の情報記録媒体は、例えば、以下に
述べるような方法により製造することができる。基板
(保護基板も含む)は、従来の情報記録媒体の基板とし
て用いられている各種の材料から任意に選択することが
できる。基板材料としては、例えば、ガラス;ポリカー
ボネート;ポリメチルメタクリレート等のアクリル樹
脂;ポリ塩化ビニル、塩化ビニル共重合体等の塩化ビニ
ル系樹脂;エポキシ樹脂;アモルファスポリオレフィン
およびポリエステル等を挙げることができ、所望により
それらを併用してもよい。なお、これらの材料はフィル
ム状としてまたは剛性のある基板として使うことができ
る。上記材料の中では、耐湿性、寸法安定性および価格
などの点からポリカーボネートが好ましい。
【0063】記録層が設けられる側の基板表面には、平
面性の改善および接着力の向上および記録層の変質防止
などの目的で、下塗層が設けられてもよい。下塗層の材
料としては例えば、ポリメチルメタクリレート、アクリ
ル酸・メタクリル酸共重合体、スチレン・無水マレイン
酸共重合体、ポリビニルアルコール、N−メチロールア
クリルアミド、スチレン・ビニルトルエン共重合体、ク
ロルスルホン化ポリエチレン、ニトロセルロース、ポリ
塩化ビニル、塩素化ポリオレフィン、ポリエステル、ポ
リイミド、酢酸ビニル・塩化ビニル共重合体、エチレン
・酢酸ビニル共重合体、ポリエチレン、ポリプロピレ
ン、ポリカーボネート等の高分子物質;およびシランカ
ップリング剤などの表面改質剤をあげることができる。
下塗層は、上記物質を適当な溶剤に溶解または分散して
塗布液を調製したのち、この塗布液をスピンコート、デ
ィップコート、エクストルージョンコートなどの塗布法
により基板表面に塗布することにより形成することがで
きる。下塗層の層厚は一般に0.005〜20μmの範
囲にあり、好ましくは0.01〜10μmの範囲であ
る。
【0064】また、基板(または下塗層)上には、トラ
ッキング用溝またはアドレス信号等の情報を表す凹凸
(プレグルーブ)が形成されている。このプレグルーブ
は、ポリカーボネートなどの樹脂材料を射出成形あるい
は押出成形する際に直接基板上に前記のトラックピッチ
で形成されることが好ましい。また、プレグルーブの形
成を、プレグルーブ層を設けることにより行ってもよ
い。プレグルーブ層の材料としては、アクリル酸のモノ
エステル、ジエステル、トリエステルおよびテトラエス
テルのうち少なくとも一種のモノマー(またはオリゴマ
ー)と光重合開始剤との混合物を用いることができる。
プレグルーブ層の形成は、例えば、まず精密に作られた
母型(スタンパー)上に上記のアクリル酸エステルおよ
び重合開始剤からなる混合液を塗布し、さらにこの塗布
液層上に基板を載せたのち、基板または母型を介して紫
外線を照射することにより塗布層を硬化させて基板と塗
布層とを固着させる。次いで、基板を母型から剥離する
ことにより得ることができる。プレグルーブ層の層厚
は、一般に0.05〜100μmの範囲にあり、好まし
くは0.1〜50μmの範囲である。
【0065】プレグルーブの深さは300〜2000Å
の範囲にあることが好ましく、またその半値幅は、0.
2〜0.9μmの範囲にあることが好ましい。またプレ
グルーブ層の深さを1500〜2000Åの範囲にする
ことにより反射率をほとんど低下させることなく感度を
向上させることができ、特に好ましい。従って、このよ
うな光ディスク(深いプレグルーブの基板に一般式
(1)の色素からなる記録層およびその上に反射層が形
成された光ディスク)は、高い感度を有することから、
低いレーザパワーでも記録が可能となり、これにより安
価な半導体レーザの使用が可能となる、あるいは半導体
レーザの使用寿命を延ばすことができる。
【0066】基板上(又は下塗層)のプレグルーブが形
成されているその表面上には、本発明に係る前記式で示
される色素化合物からなる記録層が設けられる。記録層
には、更に耐光性を向上させるために一重項酸素クエン
チャーとして従来から知られている種々の化合物を含有
することができる。クエンチャーの代表例としては、特
開平3−224793号公報に記載の一般式(III)、
(IV)もしくは(V)で表される金属錯体、ジインモニ
ウム塩、アミニウム塩や特開平2−300287号公報
や特開平2−300288号公報に示されているニトロ
ソ化合物などを挙げることができる。
【0067】記録層の形成は、本発明に係る色素、更に
所望によりクエンチャー、結合剤などを溶剤に溶解して
塗布液を調製し、次いでこの塗布液を基板表面に塗布し
て塗膜を形成したのち乾燥することにより行うことがで
きる。色素記録層形成用の塗布液の溶剤としては、酢酸
ブチル、乳酸エチル、セロソルブアセテートなどのエス
テル;メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、メチル
イソブチルケトンなどのケトン;ジクロルメタン、1,
2−ジクロルエタン、クロロホルムなどの塩素化炭化水
素;ジメチルホルムアミドなどのアミド;シクロヘキサ
ンなどの炭化水素;テトラヒドロフラン、エチルエーテ
ル、ジオキサンなどのエーテル;エタノ−ル、n−プロ
パノール、イソプロパノール、n−ブタノール、ジアセ
トンアルコールなどのアルコール;2,2,3,3−テ
トラフロロプロパノールなどのフッ素系溶剤;エチレン
グリコールモノメチルエーテル、エチレンングリコール
モノエチルエーテル、プロピレンングリコールモノメチ
ルエーテルなどのグリコールエーテル類などを挙げるこ
とができる。上記溶剤は使用する化合物の溶解性を考慮
して単独または二種以上組み合わせて用いることができ
る。塗布液中にはさらに酸化防止剤、UV吸収剤、可塑
剤、潤滑財などの各種の添加剤を目的に応じて添加して
もよい。
【0068】結合剤の例としては、例えばゼラチン、セ
ルロース誘導体、デキストラン、ロジン、ゴムなどの天
然有機高分子物質;およびポリエチレン、ポリプロピレ
ン、ポリスチレン、ポリイソブチレン等の炭化水素系樹
脂;ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリ塩化ビ
ニル・ポリ酢酸ビニル共重合体等のビニル系樹脂;ポリ
アクリル酸メチル、ポリメタクリル酸メチルなどのアク
リル樹脂;ポリビニルアルコール、塩素化ポリエチレ
ン、エポキシ樹脂、ブチラール樹脂、ゴム誘導体、フェ
ノール・ホルムアルデヒド樹脂等の熱硬化性樹脂の初期
縮合物などの合成有機高分子を挙げることができる。記
録層の材料として結合剤を併用する場合に、結合剤の使
用量は、色素に対して一般に0.01〜50倍量(重量
比)の範囲にあり、好ましくは0.1〜5倍量(重量
比)の範囲にある。このようにして調製される塗布液の
濃度は一般に0.01〜10重量%の範囲にあり、好ま
しくは0.1〜5重量%の範囲にある。
【0069】塗布方法としては、スプレー法、スピンコ
ート法、ディップ法、ロールコート法、ブレードコート
法、ドクターロール法、スクリーン印刷法などを挙げる
ことができる。記録層は単層でも重層でもよい。記録層
の層厚は一般に20〜500nmの範囲にあり、好まし
くは50〜300nmの範囲にある。
【0070】上記記録層の上に、情報の再生時における
反射率の向上の目的で、反射層が設けられる。反射層の
材料である光反射性物質はレーザ光に対する反射率が高
い物質であり、その例としては、Mg、Se、Y、T
i、Zr、Hf、V、Nb、Ta、Cr、Mo、W、M
n、Re、Fe、Co、Ni、Ru、Rh、Pd、I
r、Pt、Cu、Ag、Au、Zn、Cd、Al、G
a、In、Si、Ge、Te、Pb、Po、Sn、Bi
などの金属及び半金属あるいはステンレス鋼を挙げるこ
とができる。これらのうちで好ましいものは、Cr、N
i、Pt、Cu、Ag、Au、Alおよびステンレス鋼
であり、特に好ましいものはAgである。これらの物質
は単独で用いてもよいし、あるいは二種以上の組み合わ
せで、または合金として用いてもよい。反射層は、例え
ば上記反射性物質を蒸着、スパッタリングまたはイオン
プレーティングすることにより記録層の上に形成するこ
とができる。反射層の層厚は一般には10〜300nm
の範囲にあり、好ましくは50〜200nmの範囲であ
る。
【0071】反射層の上には、記録層などを物理的およ
び化学的に保護する目的で保護層が設けられていてもよ
い。この保護層は、基盤の記録層が設けられていない側
にも耐傷性、耐湿性を高める目的で設けられてもよい。
保護層に用いられる材料としては、例えば、SiO、S
iO2 、MgF2 、SnO2 、Si34 などの無機物
質、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、UV硬化性樹脂等の
有機物質を挙げることができる。保護層は、たとえばプ
ラスチックの押出加工で得られたフィルムを接着層を反
射層上及び/または基板上にラミネートすることにより
形成することができる。あるいは真空蒸着、スパッタリ
ング、塗布等の方法により設けられてもよい。また、熱
可塑性樹脂、熱硬化性樹脂の場合には、これらの適当な
溶剤に溶解して塗布液を調製したのち、この塗布液を塗
布し、乾燥することによっても形成することができる。
UV硬化性樹脂の場合には、そのままもしくは適当な溶
剤に溶解して塗布液を調製したのちこの塗布液を塗布
し、UV光を照射して硬化させることによっても形成す
ることができる。これらの塗布液中には、更に帯電防止
剤、酸化防止剤、UV吸収剤等の各種添加剤を目的に応
じて添加してもよい。保護層の層厚は一般には0.1〜
100μmの範囲にある。以上の工程により、基板上に
記録層、及び反射層、そして所望により保護層を設けた
積層体を作製することができる。上記のようにして二枚
の積層体を作製し、これらを、各々の記録層が内側とな
るように接着剤で貼り合わせることにより、二つの記録
層を持つDVD−R型の情報記録媒体を製造することが
できる。また得られた積層体と、該積層体の基板と略同
じ寸法の円盤状保護基板とを、その記録層が内側となる
ように接着剤で貼り合わせることにより、片側のみに記
録層を持つDVD−R型の情報記録媒体を製造すること
ができる。
【0072】本発明の情報記録方法は、上記情報記録媒
体を用いて、例えば、次のように行われる。まず、情報
記録媒体を定線速度(CDフォーマットの場合は1.2
〜14m/秒)または定角速度にて回転させながら、基
板側から半導体レーザ光などの記録用のレーザー光を照
射する。この光の照射により、記録層と反射層との界面
に空洞を形成(空洞の形成は、記録層または反射層の変
形、あるいは両層の変形を伴って形成される)するか、
基板が肉盛り変形する、あるいは記録層に変色、会合状
態の変化等により屈折率が変化することにより情報が記
録されると考えられる。記録光としては、可視域のレー
ザー光、通常600nm〜700nm(好ましくは62
0〜680nm、更に好ましくは、630〜650n
m)の範囲の発振波長を有する半導体レーザービームが
用いられる。上記のように記録された情報の再生は、情
報記録媒体を上記と同一の定線速度で回転させながら記
録時と同じ波長を持つ半導体レーザー光を基板側から照
射して、その反射光を検出することにより行うことがで
きる。
【0073】
【実施例】以下に、本発明の実施例及び比較例を記載す
る。
【0074】〔実施例1〕本発明に係る前記色素化合物
(例示化合物(1))3gを、2,2,3,3−テトラフル
オロ−1−プロパノール100mLに溶解し、記録層形
成用塗布液を得た。この塗布液を、表面にスパイラルプ
レグルーブ(トラックピッチ:0.8μm、グルーブ
幅:0.4μm、プレグルーブ深さ:0.15μm)が
射出成形により形成されたポリカーボネート基板(直
径:120mm、厚さ:0.6mm)のそのプレグルー
ブ面に、スピンコートにより塗布し、記録層を形成し
た。記録層の厚さは、プレグルーブ内で約200nmで
あった。次いで、記録層上に銀(Ag)をスパッタし
て、厚さ約100nmのAuからなる反射層を形成し、
基板上に、記録層及び反射層が順に設けられた積層体を
得た。
【0075】別に、ポリカーボネート保護基板(直径:
120mm、厚さ:0.6mm)を用意した。次いで、
上記積層体とポリカーボネート保護基板とを記録層が内
側となるように接着剤を用いて貼り合わせ、厚さ1.2
mmの本発明に従うDVD−R型の情報記録媒体(以
下、単にサンプルと称す)を製造した。
【0076】〔実施例2〜15〕実施例1において、前
記色素化合物(例示化合物(1))の代わりに、表1に示
す、本発明に係るオキソノール色素化合物を同量使用し
た以外は、実施例1と同様にして本発明に従うDVD−
R型の情報記録媒体を得た。
【0077】〔比較例1〜4〕実施例1の色素化合物
(例示化合物(1))の代わりに、下記各色素化合物
(比較色素化合物(A)、(B)、(C)、(D))を
それぞれ同量使用した以外は、実施例1と同様にして比
較用の情報記録媒体(比較例1〜4)を得た。
【0078】
【化21】
【0079】〔情報記録媒体の評価〕 (1)変調度 情報記録媒体に波長635nmの半導体レーザー光をNA
0.6のレンズで集光し、線速度3.68m/s、変調
周波数4MHz、記録レーザーパワー4〜15.5mWの
範囲で種々変えて、3Tおよび14TのEFM信号を記
録した。レーザーパワー0.5mWで再生し、最適記録
パワーにおける3Tと14Tの変調度を求めた。
【0080】(2)耐光性 上記のように記録された試料にXeランプ(14万ルッ
クス)を18時間または36時間照射し、照射後の変調
度を上記と同様に測定した。また照射後の試料の色の有
無を目視で観察し、下記の各水準にランク付けした。 AA:褪色していない。 BB:褪色しているが、色は残っており許容範囲であ
る。 CC:殆ど色が残っていない。 得られた評価結果を表1に示す。
【0081】
【表1】
【0082】表1の結果から、本発明の色素化合物を用
いた情報記録媒体は、従来から知られているシアニン色
素(A)を用いた比較例1、酸性核が環状共役構造であ
る色素化合物(A)〜(D)を用いた比較例2〜4と比
較して変調度および耐光性ともに優れていることが判
る。
【0083】
【発明の効果】酸性核を成す二つの基(一般式(1)に
おけるAとBまたはCとD)が互いに非共役である本発
明の色素化合物を用いることによって、優れた記録再生
特性と高い耐光性を有する情報記録媒体を提供すること
ができる。

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 トラックピッチ0.6〜0.9μmのプ
    レグルーブが形成された、厚さ0.6±0.1mmの透
    明な円盤状基板上にレーザー光による情報記録が可能な
    記録層を有する情報記録媒体であって、該記録層中に下
    記一般式(1)で表される色素化合物を含むことを特徴
    とする情報記録媒体。 【化1】 (式中A、B、CおよびDは、AとBのハメットのσp
    値の合計およびCとDのハメットのσp 値の合計がそれ
    ぞれ0.6以上となる置換基であり、AとBもしくはC
    とDは非共役鎖で連結して環を形成していてもよく、R
    1 はメチン炭素上の置換基を表し、nは0〜5の整数を
    表し、nが2以上の整数のとき、複数のR1 は互いに同
    一でも異なっていてもよく、Xk+はオニウムイオンを表
    し、kは1から10の整数を表わす。)
  2. 【請求項2】 Xk+が4級アンモニウムイオンである請
    求項1記載の情報記録媒体。
  3. 【請求項3】 Xk+が下記一般式(2)で表されるオニ
    ウムイオンである請求項1記載の情報記録媒体。 【化2】 (式中R2 およびR3 は各々独立にアルキル基、アルケ
    ニル基、アルキニル基、アリール基またはヘテロ環基を
    表し、R4 は置換基を表し、hは0から8の整数を表
    し、hが2以上の整数のとき、複数個のR4 は各々同一
    でも異なっていてもよく、また互いに連結して環を形成
    していてもよい。)
  4. 【請求項4】 記録層上に反射層が設けられている請求
    項1記載の情報記録媒体。
  5. 【請求項5】 請求項1〜4の何れかの項に記載の情報
    記録媒体に波長600〜700nmのレーザー光を照射
    することによる情報の記録方法。
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
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WO2008108406A1 (ja) 2007-03-05 2008-09-12 Fujifilm Corporation フォトレジスト用化合物、フォトレジスト液、およびこれを用いるエッチング方法

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