JPH11344527A - 高温ハンドラの測定機構 - Google Patents

高温ハンドラの測定機構

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JPH11344527A
JPH11344527A JP10152654A JP15265498A JPH11344527A JP H11344527 A JPH11344527 A JP H11344527A JP 10152654 A JP10152654 A JP 10152654A JP 15265498 A JP15265498 A JP 15265498A JP H11344527 A JPH11344527 A JP H11344527A
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JP
Japan
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shaft
measured
contact
temperature
pressing portion
Prior art date
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Application number
JP10152654A
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English (en)
Inventor
Yoshihiro Goto
吉宏 後藤
Katsuhiro Otaka
克浩 大高
Seiji Kuninobu
誠治 國信
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Ando Electric Co Ltd
Original Assignee
Ando Electric Co Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 恒温槽内の複数の被測定デバイスの温度をそ
れぞれ一定の温度範囲内に保ち、前記一定の温度範囲内
での各被測定デバイスの電気的特性の測定を可能にする
高温ハンドラの測定機構を提供する。 【解決手段】 高温ハンドラの測定機構を構成するコン
タクトプッシャ4は、昇降自在に保持された基部10
と、基部10に対して上下方向に移動可能なシャフト1
3と、シャフト13の下端に固定されIC1の上端面に
面で密着した状態で押圧することによりIC1を水平に
保つ第1押圧部11と、IC1のリード1aを押圧して
リード1aをICソケット2の接触子2aに接触させる
第2押圧部12とにより構成される。シャフト13及び
第1押圧部11は、熱伝導性に優れた金属により形成さ
れ、シャフト13の少なくとも一部が恒温槽7内部を循
環する空気中に配される。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、被測定デバイスを
加熱して高温環境での電気的特性を測定する高温測定機
能つきオートハンドラの測定機構に関する。
【0002】
【従来の技術】高温測定機能つきオートハンドラ(高温
ハンドラ)に備わる、従来の測定機構の構成について、
図5及び図6を参照しながら説明する。図5及び図6に
おいて、1はIC(被測定デバイス)、2はICソケッ
ト(ソケット)、3はキャリア、20はコンタクトプッ
シャである。従来の測定機構は、図5及び図6に示すよ
うに、IC1とICテスタを接続するICソケット2、
ICソケット2上にIC1を搬送するキャリア3、IC
1の測定に際してIC1のリード1aを押圧してICソ
ケット2の接触子2aに接触させるコンタクトプッシャ
20を備える。そして、ICソケット2、コンタクトプ
ッシャ20は、恒温槽(図示省略)の内部に配置されて
いる。コンタクトプッシャ20は、昇降自在に保持され
た基部10、基部10に対して上下方向に移動可能なシ
ャフト21、シャフト21の下端に固定されIC1の上
端面を押圧する押圧部22、シャフト21と基部10を
連結するスプリング14等から構成されている。そし
て、押圧部22は、ICテスタにより電気的特性を測定
する際に、IC1の上端面を押圧して、IC1のリード
1aとICソケット2の接触子2aとを互いに接触させ
る。その際に、複数あるリード1a間がショートしない
よう、押圧部22は導電性の低い合成樹脂材により製作
されている。また、従来の高温ハンドラでは、ヒータに
よって温められた空気をファンにより循環して、恒温槽
内を一定の温度に保つことにより、恒温槽内の複数のI
C1をある一定の温度範囲内に保っている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】ICテスタによりIC
1の電気的特性を測定する際には、IC1の温度をある
一定の温度範囲内に保つ必要がある。しかし、コンタク
トプッシャ20の押圧部22は、前述したように、複数
のリード1a同士がショートしないよう導電性の低い合
成樹脂材により製作されているため、熱伝導性が低い。
また、電気的特性を測定中のIC1は、図5に示すよう
に、ICソケット2、キャリア3及びコンタクトプッシ
ャ20の押圧部22に周囲を囲まれているため、恒温槽
内を循環している空気によって直接IC1を熱伝導する
ことが困難である。そのため、測定する各IC1の温度
が恒温槽内の循環空気の温度に、必ずしも一致するとは
限らず、複数のIC1を個々に前記一定の温度範囲内に
保つことが困難であった。
【0004】本発明は、上記のような問題点を解決する
ためになされたもので、恒温槽内の複数の被測定デバイ
スの温度をそれぞれ一定の温度範囲内に保ち、前記一定
の温度範囲内で各被測定デバイスの電気的特性を測定で
きる高温ハンドラの測定機構を提供することを目的とす
る。
【0005】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するた
め、請求項1記載の発明は、一定温度に保たれた恒温槽
内部に設置され、被測定デバイスとテスタを接続するソ
ケットと、前記恒温槽外部から前記被測定デバイスを前
記ソケット上まで搬送するキャリアと、前記被測定デバ
イスを押圧して前記被測定デバイスのリードを前記ソケ
ットの接触子に接触させるコンタクトプッシャと、を備
えた高温ハンドラの測定機構において、前記コンタクト
プッシャが、昇降自在に保持された基部と、前記基部に
対して上下方向に移動可能なシャフトと、前記シャフト
の下端に固定され、前記被測定デバイスの上端面に面で
密着した状態で押圧することにより前記被測定デバイス
を水平に保つ第1押圧部と、前記被測定デバイスのリー
ドを押圧して前記リードを前記ソケットの接触子に接触
させる第2押圧部と、により構成されていて、前記シャ
フト及び前記第1押圧部が、熱伝導性に優れた金属によ
り形成され、前記シャフトの少なくとも一部が前記恒温
槽内部を循環する空気中に配される構成とした。
【0006】請求項1記載の発明によれば、コンタクト
プッシャが、昇降自在に保持された基部と、基部に対し
て上下方向に移動可能なシャフトと、シャフトの下端に
固定され被測定デバイスの上端面に密着した状態で押圧
することにより被測定デバイスを水平に保つ第1押圧部
と、被測定デバイスのリードを押圧してリードをソケッ
トの接触子に接触させる第2押圧部とにより構成されて
いて、シャフト及び第1押圧部が熱伝導性に優れた金属
により形成され、シャフトの少なくとも一部が恒温槽内
部を循環する空気中に配されるため、例えば、被測定デ
バイスの電気的特性の測定に際して、恒温槽内部を循環
する空気の温度よりも被測定デバイスの温度が低い場合
には、恒温槽内部を循環する空気から金属製のシャフト
に熱が伝わり、その熱がシャフトの下端に固定される金
属製の第1押圧部を介して、第1押圧部に密着する被測
定デバイスへと伝導される。一方、恒温槽内部を循環す
る空気の温度よりも被測定デバイスの温度が高い場合に
は、被測定デバイスから被測定デバイスに密着する第1
押圧部に熱が伝わり、その熱が第1押圧部に固定される
シャフトを介して、恒温槽内を循環する空気中へと放熱
される。
【0007】従って、恒温槽内部を循環する空気の温度
と被測定デバイスの温度に差異があったとしても、被測
定デバイスの温度を恒温槽内の温度に近づけて、被測定
デバイスの測定条件である一定の温度範囲内に被測定デ
バイスの温度を保つことができ、前記一定の温度範囲内
で被測定デバイスの電気的特性を測定できる。また、恒
温槽内の複数の被測定デバイスの温度分布幅を小さくす
ることが容易となり、被測定デバイスの電気的特性の測
定精度を高めることができる。さらに、個々の被測定デ
バイスの温度を前記一定の温度範囲内に入れるために恒
温槽内部のダクトの向きや風量、風速等の調整が不要と
なり、温度調整時間を短縮できる。
【0008】請求項2記載の発明は、請求項1記載の高
温ハンドラの測定機構において、スプリングは前記基部
に対して前記第2押圧部が離間する方向に力を付勢し、
前記基部を下降し、前記第2押圧部が前記リードを押圧
状態のとき、前記シャフト及び前記第1押圧部の自重で
前記第1押圧部の下端面が前記被測定デバイスに密着す
る構成とした。
【0009】請求項2記載の発明によれば、第2押圧部
がリードを押圧状態のとき、シャフト及び第1押圧部の
自重で第1押圧部の下端面が被測定デバイスに密着する
ため、第1押圧部と被測定デバイスの間の熱伝導性が高
められる。
【0010】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て、図1〜図4の図面を参照しながら説明する。
【0011】図1及び図2は、本発明に係る高温ハンド
ラの測定機構を示す断面図である。図1は、ICを測定
している状態図であり、図2は、ICソケット上にIC
を搬送してきた状態図である。図3は、図1の高温ハン
ドラの測定機構を構成するICソケット、キャリア及び
コンタクトプッシャを示す斜視図である。また、図4
は、図1の測定機構が配置される恒温槽の構成を示す図
である。
【0012】図1〜図4において、1はIC(被測定デ
バイス)、2はICソケット(ソケット)、3はキャリ
ア、4はコンタクトプッシャ、7は恒温槽、8はダク
ト、9Aはヒータ、9Bはファンである。
【0013】この実施の形態の高温ハンドラは、被測定
デバイスであるIC1を加熱し、高温環境での電気的特
性を測定する高温測定機能を有する。その測定機構は、
図1に示すように、IC1とICテスタを接続するIC
ソケット2、ICソケット2上にIC1を搬送するキャ
リア3、IC1の測定に際してIC1を押圧してリード
1aをICソケット2の接触子2aに接触させるコンタ
クトプッシャ4を備える。ICソケット2及びコンタク
トプッシャ4は、図4に示すように、一定温度に保たれ
た恒温槽7の内部にそれぞれ複数配置されている。恒温
槽7の内部は、ヒータ9Aにより温められた空気をファ
ン9Bによって循環させることにより、一定温度に保た
れている。なお、上記測定機構を構成するキャリア3
は、恒温槽7の内外をIC1の搬送に伴い移動する。
【0014】図3に示すように、ICソケット2は、上
方が開口した中空部2bを有し、その中空部2b内に
は、IC1のリード1aに接触してIC1とICテスタ
の間の電気的インターフェースを行う複数の接触子2a
を備える。キャリア3は、IC1を位置決めして保持す
る保持部3aを備え、保持部3aの下端面には、収容す
るIC1のリード1aを下方から露出させる窓部3bが
形成されている。キャリア3は、移動機構(図示省略)
により恒温槽7の内外を往復移動するとともに、昇降機
構(図示省略)により下降、上昇して、ICソケット2
に結合、分離する。キャリア3がICソケット2に結合
した状態において、収容するIC1のリード1aは、前
記窓部3bを介して、ICソケット2の接触子2a上に
置かれる。
【0015】コンタクトプッシャ4は、ICソケット2
と対向する位置に配されていて、昇降機構4A(図4)
により上下方向に移動する。図1及び図2に示すよう
に、コンタクトプッシャ4は、昇降自在に保持された基
部10、基部10に対して上下方向に移動可能なシャフ
ト13、IC1の上端面を面で押圧してIC1を水平に
保つ第1押圧部11、IC1のリード1aを押圧してリ
ード1aをICソケット2の接触子2aに接触させる第
2押圧部12、第2押圧部12と基部10を連結するス
プリング14、シャフト13を支持する軸受15等によ
り構成されている。
【0016】基部10は、図4に示すように、昇降機構
4Aの下端に接合されていて、昇降機構4Aの駆動に伴
い上下方向に移動する。基部10には、上下方向に貫通
する複数の取付部10aが形成されている。図1に示す
ように、各取付部10aには、スプリング14を介して
軸受15が取り付けられている。軸受15は、内部にシ
ャフト13を挿通して、シャフト13を上下方向に摺動
可能な状態で保持している。また、軸受15の下端に
は、第2押圧部12が接合されていて、軸受15と第2
押圧部12が一体的に上下動するようになっている。シ
ャフト13の上端には、シャフト13の下方向への移動
を係止して制限する係止部13aが取り付けられてい
る。一方、シャフト13の下端には、第1押圧部11が
固着されていて、該第1押圧部11によってシャフト1
3の上方向への移動が制限されている。
【0017】第1押圧部11は、その下端面が、IC1
のパッケージの上端面に対応した形状に形成されてい
て、IC1の測定時には、IC1のリード1aを回避し
た状態で、IC1のパッケージの上端面に密着する。第
2押圧部12は、軸受15との接合部分から下方向に延
出する側壁面12aを有し、IC1の測定時には、側壁
面12aの下端部でIC1のリード1aを押圧する。ま
た、側壁面12aの内周側には、第1押圧部11を収容
する中空部が形成される。そして、第2押圧部12は、
リード1a同士のショートを防止するため、導電性の低
い合成樹脂材により形成される一方、第1押圧部11、
シャフト13及び係止部13aは、何れも、熱伝導性に
優れた金属により形成されている。また、係止部13a
及びシャフト13の上端側は、恒温槽7を循環する空気
中に配されていて、恒温槽7の空気との間で、放熱及び
受熱が可能な状態となっている。
【0018】以上のように構成されるコンタクトプッシ
ャ4は、通常時(IC1の測定時以外)には、図2に示
すように、スプリング14により、基部10に対して第
2押圧部12が離間する方向に力を付勢された状態とな
っている。図2では、シャフト13は、上端側が係止部
13aに係止され、一方、下端側が第1押圧部11に係
止されるため、上下方向に移動不能な状態となってい
る。
【0019】図2の状態から、IC1の測定に際して、
昇降機構4Aにより基部10が下方向に移動すると、図
1に示すように、基部10にスプリング14を介して連
結される軸受15が第2押圧部12とともに下降する。
このとき、第2押圧部12は、スプリング14の付勢力
を押圧力として、その下端で、IC1のリード1aを押
圧してリード1aをICソケット2の接触子2aに接触
させる。同時に、スプリング14が上記押圧力に対する
反力によって収縮するため、収縮した長さ分だけシャフ
ト13が上下方向に移動可能な状態となる。その結果、
シャフト13及び第1押圧部11が自重により下降し
て、第1押圧部11の下端面がIC1の上端面に密着し
た状態でIC1を押圧し、IC1を水平に保持する。
【0020】従って、IC1の電気的特性の測定に際し
て、例えば、IC1の温度が恒温槽7内を循環する空気
の温度より低い場合には、恒温槽7内部を循環する空気
から金属製のシャフト13に熱が伝わり、その熱がシャ
フト13の下端に固定される金属製の第1押圧部11を
介して、第1押圧部11に押圧されるIC1へと伝導さ
れる。即ち、恒温槽7内の各IC1の温度を恒温槽7内
の設定温度に近づけることができる。
【0021】次に、上記測定機構の動作について説明す
る。
【0022】先ず、キャリア3が、移動機構(図示省
略)により移動して、恒温槽7外部のIC1を恒温槽7
内部のICソケット2と対向する位置(図2の位置)に
搬送する。ここで、恒温槽7内の空気は循環して一定の
温度に保たれており、この空気に触れるIC1も前記一
定の温度に保たれる。そして、図2の位置において、キ
ャリア3が昇降機構(図示省略)により下降して、キャ
リア3の下端部がICソケット2の中空部2b内に嵌入
し、キャリア3とICソケット2が結合する。このと
き、キャリア3に収容されるIC1のリード1aは、窓
部3bを介して、ICソケット2の接触子2a上に置か
れる。
【0023】キャリア3とICソケット2が結合した
後、コンタクトプッシャ4が昇降機構4Aにより下降し
て、前述のように、コンタクトプッシャ4の第2押圧部
12がリード1aを押圧してリード1aを接触子2aに
接触させると同時に、第1押圧部11が自重によりIC
1の上端面をその下端面で押圧してIC1を水平に保
つ。
【0024】このとき、IC1の温度が恒温槽7内を循
環する空気の温度より低い場合には、恒温槽7内の空気
から、係止部13a、シャフト13及び第1押圧部11
を介してIC1へと熱が伝導し、一方、IC1の温度が
恒温槽7内の空気の温度より高い場合には、IC1か
ら、第1押圧部11を介してシャフト13及び係止部1
3aへと熱が伝導しシャフト13及び係止部13aから
恒温槽7内の空気中に放熱されるため、IC1の温度が
恒温槽7内の設定温度に近づけられる。そして、各IC
1の温度が一定の温度範囲内となったところで、図1の
状態で、ICテスタによりIC1の電気的特性が測定さ
れる。
【0025】以上のように、この実施の形態によれば、
コンタクトプッシャ4を構成するシャフト13及び第1
押圧部11が熱伝導性に優れた金属により形成され、シ
ャフト13の上端部が恒温槽7内部を循環する空気中に
配されるため、各IC1の電気的特性の測定に際して、
恒温槽7内部を循環する空気と各IC1の間に温度差が
生じたとしても、金属製のシャフト13及び第1押圧部
11を介して、高温部側から低温部側へと熱が伝導され
る。従って、各IC1の温度を恒温槽7内部を循環する
空気の温度に近づけることができ、IC1の測定条件で
ある一定の温度範囲内に各IC1の温度を保つことがで
きる。そのため、前記一定の温度範囲内で各IC1の電
気的特性を測定できる。また、従来とは異なり、第1押
圧部11と第2押圧部12を別体で設け、第1押圧部1
1を金属により形成し、一方、第2押圧部12を導電性
の低い合成樹脂材により形成したため、IC1の電気的
特性の測定に際して、IC1を押圧してもリード1a同
士がショートすることがない。
【0026】
【発明の効果】本発明によれば、恒温槽内部を循環する
空気の温度と被測定デバイスの温度に差異があったとし
ても、被測定デバイスの温度を恒温槽内の温度に近づけ
て、被測定デバイスの測定条件である一定の温度範囲内
に被測定デバイスの温度を保つことができ、前記一定の
温度範囲内で被測定デバイスの電気的特性を測定でき
る。また、恒温槽内の複数の被測定デバイスの温度分布
幅を小さくすることが容易となり、被測定デバイスの電
気的特性の測定精度を高めることができる。さらに、個
々の被測定デバイスの温度を前記一定の温度範囲内に入
れるために恒温槽内部のダクトの向きや風量、風速等の
調整が不要となり、温度調整時間を短縮できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に係る高温ハンドラの測定機構を示す断
面図で、ICを測定している状態を示している。
【図2】図1の高温ハンドラの測定機構を示す断面図
で、ICソケット上にICを搬送してきた状態を示して
いる。
【図3】図1の高温ハンドラの測定機構を構成するIC
ソケット、キャリア及びコンタクトプッシャを示す斜視
図である。
【図4】図1の測定機構が配置される恒温槽の構成を示
す図である。
【図5】従来技術における高温ハンドラの測定機構を示
す断面図で、ICを測定している状態を示している。
【図6】図5の高温ハンドラの測定機構を示す断面図
で、ICソケット上にICを搬送してきた状態を示して
いる。
【符号の説明】
1 IC(被測定デバイス) 1a リード 2 ICソケット(ソケット) 2a 接触子 3 キャリア 4 コンタクトプッシャ 7 恒温槽 8 ダクト 9A ヒータ 9B ファン 10 基部 11 第1押圧部 12 第2押圧部 13 シャフト 14 スプリング 15 軸受

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】一定温度に保たれた恒温槽内部に設置さ
    れ、被測定デバイスとテスタを接続するソケットと、 前記恒温槽外部から前記被測定デバイスを前記ソケット
    上まで搬送するキャリアと、 前記被測定デバイスを押圧して前記被測定デバイスのリ
    ードを前記ソケットの接触子に接触させるコンタクトプ
    ッシャと、 を備えた高温ハンドラの測定機構において、 前記コンタクトプッシャは、 昇降自在に保持された基部と、 前記基部に対して上下方向に移動可能なシャフトと、 前記シャフトの下端に固定され、前記被測定デバイスの
    上端面に面で密着した状態で押圧することにより前記被
    測定デバイスを水平に保つ第1押圧部と、 前記被測定デバイスのリードを押圧して前記リードを前
    記ソケットの接触子に接触させる第2押圧部と、により
    構成されていて、 前記シャフト及び前記第1押圧部は、熱伝導性に優れた
    金属により形成され、 前記シャフトの少なくとも一部が前記恒温槽内部を循環
    する空気中に配されることを特徴とする高温ハンドラの
    測定機構。
  2. 【請求項2】スプリングは前記基部に対して前記第2押
    圧部が離間する方向に力を付勢し、 前記基部を下降し、前記第2押圧部が前記リードを押圧
    状態のとき、前記シャフト及び前記第1押圧部の自重で
    前記第1押圧部の下端面が前記被測定デバイスに密着す
    ることを特徴とする請求項1記載の高温ハンドラの測定
    機構。
JP10152654A 1998-06-02 1998-06-02 高温ハンドラの測定機構 Pending JPH11344527A (ja)

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Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006125864A (ja) * 2004-10-26 2006-05-18 Yokogawa Electric Corp デバイスハンドラー装置
WO2007010610A1 (ja) * 2005-07-21 2007-01-25 Advantest Corporation プッシャ、プッシャユニットおよび半導体試験装置
JP2007113949A (ja) * 2005-10-18 2007-05-10 Genesis Technology Inc デバイス試験機構、ハンドラおよびデバイスの試験方法
WO2007094034A1 (ja) * 2006-02-13 2007-08-23 Advantest Corporation コンタクトプッシャ、コンタクトアーム及び電子部品試験装置
JP2008224682A (ja) * 2008-05-09 2008-09-25 Advantest Corp プッシャブロック

Cited By (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006125864A (ja) * 2004-10-26 2006-05-18 Yokogawa Electric Corp デバイスハンドラー装置
WO2007010610A1 (ja) * 2005-07-21 2007-01-25 Advantest Corporation プッシャ、プッシャユニットおよび半導体試験装置
US7804316B2 (en) 2005-07-21 2010-09-28 Advantest Corporation Pusher, pusher unit and semiconductor testing apparatus
JP2007113949A (ja) * 2005-10-18 2007-05-10 Genesis Technology Inc デバイス試験機構、ハンドラおよびデバイスの試験方法
WO2007094034A1 (ja) * 2006-02-13 2007-08-23 Advantest Corporation コンタクトプッシャ、コンタクトアーム及び電子部品試験装置
JPWO2007094034A1 (ja) * 2006-02-13 2009-07-02 株式会社アドバンテスト コンタクトプッシャ、コンタクトアーム及び電子部品試験装置
US7609052B2 (en) 2006-02-13 2009-10-27 Advantest Corporation Contact pusher, contact arm, and electronic device handling apparatus
JP4537394B2 (ja) * 2006-02-13 2010-09-01 株式会社アドバンテスト コンタクトプッシャ、コンタクトアーム及び電子部品試験装置
KR101042653B1 (ko) * 2006-02-13 2011-06-22 가부시키가이샤 아드반테스트 콘택트푸셔, 콘택트아암 및 전자부품 시험장치
JP2008224682A (ja) * 2008-05-09 2008-09-25 Advantest Corp プッシャブロック

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