JPH11322747A - 2,7−ジアザ−1,2,3,6,7,8−ヘキサヒドロピレン化合物とその製造方法 - Google Patents
2,7−ジアザ−1,2,3,6,7,8−ヘキサヒドロピレン化合物とその製造方法Info
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- JPH11322747A JPH11322747A JP12440398A JP12440398A JPH11322747A JP H11322747 A JPH11322747 A JP H11322747A JP 12440398 A JP12440398 A JP 12440398A JP 12440398 A JP12440398 A JP 12440398A JP H11322747 A JPH11322747 A JP H11322747A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 新規化合物である2,7−ジアザ−1,2,
3,6,7,8−ヘキサヒドロピレン化合物を提供す
る。 【解決手段】 2,7−ジアザ−1,2,3,6,7,
8−ヘキサヒドロピレン化合物。
3,6,7,8−ヘキサヒドロピレン化合物を提供す
る。 【解決手段】 2,7−ジアザ−1,2,3,6,7,
8−ヘキサヒドロピレン化合物。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、新規化合物である
2,7−ジアザ−1,2,3,6,7,8−ヘキサヒド
ロピレン化合物及びこの化合物の製造方法に関する。
2,7−ジアザ−1,2,3,6,7,8−ヘキサヒド
ロピレン化合物及びこの化合物の製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】従来から、ナフタレンのペリ位(1,8
位)に2−アザトリメチレン基(−CH2 −NH−C
H2 −)が環化した2−アザペリナフタン化合物は知ら
れている。しかしながら、ナフタレン環の、更に他のペ
リ位(4,5位)にも2−アザトリメチレン基が環化し
たビスペリ環式系の2,7−ジアザ−1,2,3,6,
7,8−ヘキサヒドロピレン化合物は骨格にヘテロ原子
が存在することによる各種の用途が期待されるにもかか
わらず、合成化学上の困難性から現在に至るまで未知化
合物である。
位)に2−アザトリメチレン基(−CH2 −NH−C
H2 −)が環化した2−アザペリナフタン化合物は知ら
れている。しかしながら、ナフタレン環の、更に他のペ
リ位(4,5位)にも2−アザトリメチレン基が環化し
たビスペリ環式系の2,7−ジアザ−1,2,3,6,
7,8−ヘキサヒドロピレン化合物は骨格にヘテロ原子
が存在することによる各種の用途が期待されるにもかか
わらず、合成化学上の困難性から現在に至るまで未知化
合物である。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】したがって本発明は、
新規化合物である2,7−ジアザ−1,2,3,6,
7,8−ヘキサヒドロピレン化合物及びこれら化合物の
製造方法を提供することを目的とするものである。
新規化合物である2,7−ジアザ−1,2,3,6,
7,8−ヘキサヒドロピレン化合物及びこれら化合物の
製造方法を提供することを目的とするものである。
【0004】
【課題を解決するための手段】本発明者らは上記課題を
解決すべく、ビスペリ置換ナフタレン化合物の反応につ
いて鋭意研究を重ねた結果、1,4,5,8−テトラキ
ス(ハロゲノメチル)ナフタレンとアミン類とを反応さ
せることにより、効率よく2,7−ジアザ−1,2,
3,6,7,8−ヘキサヒドロピレン骨格を合成しうる
ことを見いだし、この知見に基づき本発明をなすに至っ
た。すなわち、本発明は、 (1)下記式(I)で示される2,7−ジアザ−1,
2,3,6,7,8−ヘキサヒドロピレン。
解決すべく、ビスペリ置換ナフタレン化合物の反応につ
いて鋭意研究を重ねた結果、1,4,5,8−テトラキ
ス(ハロゲノメチル)ナフタレンとアミン類とを反応さ
せることにより、効率よく2,7−ジアザ−1,2,
3,6,7,8−ヘキサヒドロピレン骨格を合成しうる
ことを見いだし、この知見に基づき本発明をなすに至っ
た。すなわち、本発明は、 (1)下記式(I)で示される2,7−ジアザ−1,
2,3,6,7,8−ヘキサヒドロピレン。
【0005】式(I)
【化14】
【0006】(2)下記式(II)で示される2,7−ジ
アザ−1,2,3,6,7,8−ヘキサヒドロピレン化
合物。
アザ−1,2,3,6,7,8−ヘキサヒドロピレン化
合物。
【0007】式(II)
【化15】
【0008】(式中Rは、(a)ベンジル基、(b)ス
ルホニル基、(c)アシル基、又は(d)カルボアルコ
キシ基を示す。) (3)(1)項記載の式(I)で表される2,7−ジア
ザ−1,2,3,6,7,8−ヘキサヒドロピレンを酸
化剤で処理することを特徴とする下記式(III) で示され
る2,7−ジアザピレンの製造方法。
ルホニル基、(c)アシル基、又は(d)カルボアルコ
キシ基を示す。) (3)(1)項記載の式(I)で表される2,7−ジア
ザ−1,2,3,6,7,8−ヘキサヒドロピレンを酸
化剤で処理することを特徴とする下記式(III) で示され
る2,7−ジアザピレンの製造方法。
【0009】式(III)
【化16】
【0010】(4)下記式(IV)で示される1,4,
5,8−テトラキス(ハロゲノメチル)ナフタレンをベ
ンジルアミンで処理することを特徴とする下記式(IIa)
で表される2,7−ジベンジル−2,7−ジアザ−1,
2,3,6,7,8−ヘキサヒドロピレンの製造方法。
5,8−テトラキス(ハロゲノメチル)ナフタレンをベ
ンジルアミンで処理することを特徴とする下記式(IIa)
で表される2,7−ジベンジル−2,7−ジアザ−1,
2,3,6,7,8−ヘキサヒドロピレンの製造方法。
【0011】式(IV)
【化17】
【0012】式(IIa)
【化18】
【0013】(式中Xはハロゲン原子を示す。) (5)下記式(IV)で示される1,4,5,8−テトラ
キス(ハロゲノメチル)ナフタレンをパラトルエンスル
ホンアミドで処理することを特徴とする下記式(IIb)で
表される2,7−ジパラトルエンスルホニル−2,7−
ジアザ−1,2,3,6,7,8−ヘキサヒドロピレン
の製造方法。
キス(ハロゲノメチル)ナフタレンをパラトルエンスル
ホンアミドで処理することを特徴とする下記式(IIb)で
表される2,7−ジパラトルエンスルホニル−2,7−
ジアザ−1,2,3,6,7,8−ヘキサヒドロピレン
の製造方法。
【0014】式(IV)
【化19】
【0015】式(IIb)
【化20】
【0016】(式中Xはハロゲン原子を示す。) (6)(1)項記載の式(I)で示される2,7−ジア
ザ−1,2,3,6,7,8−ヘキサヒドロピレンを塩
化パラトルエンスルホニルで処理することを特徴とする
下記式(IIb)で表される2,7−ジパラトルエンスルホ
ニル−2,7−ジアザ−1,2,3,6,7,8−ヘキ
サヒドロピレンの製造方法。
ザ−1,2,3,6,7,8−ヘキサヒドロピレンを塩
化パラトルエンスルホニルで処理することを特徴とする
下記式(IIb)で表される2,7−ジパラトルエンスルホ
ニル−2,7−ジアザ−1,2,3,6,7,8−ヘキ
サヒドロピレンの製造方法。
【0017】式(IIb)
【化21】
【0018】(7)(1)項記載の式(I)で示される
2,7−ジアザ−1,2,3,6,7,8−ヘキサヒド
ロピレンを塩化ベンゾイルで処理することを特徴とする
下記式(IIc)で表される2,7−ジベンゾイル−
2,7−ジアザ−1,2,3,6,7,8−ヘキサヒド
ロピレンの製造方法。
2,7−ジアザ−1,2,3,6,7,8−ヘキサヒド
ロピレンを塩化ベンゾイルで処理することを特徴とする
下記式(IIc)で表される2,7−ジベンゾイル−
2,7−ジアザ−1,2,3,6,7,8−ヘキサヒド
ロピレンの製造方法。
【0019】式(IIc)
【化22】
【0020】(8)下記式(IIa)で示される2,7−ジ
ベンジル−2,7−ジアザ−1,2,3,6,7,8−
ヘキサヒドロピレンを塩化蟻酸エチルで処理することを
特徴とする下記式(IId)で表される2,7−ジカルボエ
トキシ−2,7−ジアザ−1,2,3,6,7,8−ヘ
キサヒドロピレンの製造方法。
ベンジル−2,7−ジアザ−1,2,3,6,7,8−
ヘキサヒドロピレンを塩化蟻酸エチルで処理することを
特徴とする下記式(IId)で表される2,7−ジカルボエ
トキシ−2,7−ジアザ−1,2,3,6,7,8−ヘ
キサヒドロピレンの製造方法。
【0021】式(IIa)
【化23】
【0022】式(IId)
【化24】
【0023】(9)下記式(IIb)で示される2,7−ジ
パラトルエンスルホニル−2,7−ジアザ−1,2,
3,6,7,8−ヘキサヒドロピレンを臭化水素酸で処
理することを特徴とする(1)項記載の式(I)で表さ
れる2,7−ジアザ−1,2,3,6,7,8−ヘキサ
ヒドロピレンの製造方法。
パラトルエンスルホニル−2,7−ジアザ−1,2,
3,6,7,8−ヘキサヒドロピレンを臭化水素酸で処
理することを特徴とする(1)項記載の式(I)で表さ
れる2,7−ジアザ−1,2,3,6,7,8−ヘキサ
ヒドロピレンの製造方法。
【0024】式(IIb)
【化25】
【0025】(10)下記式(IId)で示される2,
7−ジカルボエトキシ−2,7−ジアザ−1,2,3,
6,7,8−ヘキサヒドロピレンをアルカリ水溶液で処
理することを特徴とする(1)項記載の式(I)で表さ
れる2,7−ジアザ−1,2,3,6,7,8−ヘキサ
ヒドロピレンの製造方法。
7−ジカルボエトキシ−2,7−ジアザ−1,2,3,
6,7,8−ヘキサヒドロピレンをアルカリ水溶液で処
理することを特徴とする(1)項記載の式(I)で表さ
れる2,7−ジアザ−1,2,3,6,7,8−ヘキサ
ヒドロピレンの製造方法。
【0026】式(IId)
【化26】
【0027】を提供するものである。
【0028】
【発明の実施の形態】まず、本発明の一般式(II)の
2,7−ジアザ−1,2,3,6,7,8−ヘキサヒド
ロピレン化合物について説明する。Rのスルホニル基の
例としては、例えばメタンスルホニル基、エタンスルホ
ニル基、プロパンスルホニル基、ブタンスルホニル基な
どの、好ましくは炭素数1〜4のアルキルスルホニル
基、パラトルエンスルホニル基、パラブロモベンゼンス
ルホニル基、パラニトロベンゼンスルホニル基などの好
ましくは炭素数6〜10のアリールスルホニル基があげ
られる。またRのアシル基としては、ホルミル基、アセ
チル基、プロピオニル基、ブチリル基、デカノイル基な
どの好ましくは炭素数1〜10の脂肪族アシル基、ベン
ゾイル基、ナフトイル基などの好ましくは炭素数7〜1
1の芳香族アシル基があげられる。またRのカルボアル
コキシ基としてはカルボメトキシ基、カルボエトキシ
基、カルボブトキシ基などの好ましくは炭素数2〜5の
ものがあげられる。
2,7−ジアザ−1,2,3,6,7,8−ヘキサヒド
ロピレン化合物について説明する。Rのスルホニル基の
例としては、例えばメタンスルホニル基、エタンスルホ
ニル基、プロパンスルホニル基、ブタンスルホニル基な
どの、好ましくは炭素数1〜4のアルキルスルホニル
基、パラトルエンスルホニル基、パラブロモベンゼンス
ルホニル基、パラニトロベンゼンスルホニル基などの好
ましくは炭素数6〜10のアリールスルホニル基があげ
られる。またRのアシル基としては、ホルミル基、アセ
チル基、プロピオニル基、ブチリル基、デカノイル基な
どの好ましくは炭素数1〜10の脂肪族アシル基、ベン
ゾイル基、ナフトイル基などの好ましくは炭素数7〜1
1の芳香族アシル基があげられる。またRのカルボアル
コキシ基としてはカルボメトキシ基、カルボエトキシ
基、カルボブトキシ基などの好ましくは炭素数2〜5の
ものがあげられる。
【0029】次に、本発明に係る化合物の製造方法を具
体的に説明する。本発明の、一般式(II)においてRが
ベンジル基である、式(IIa)で示される2,7−ジベン
ジル−2,7−ジアザ−1,2,3,6,7,8−ヘキ
サヒドロピレンは、式(IV)で示される1,4,5,8
−テトラキス(ハロゲノメチル)ナフタレンにベンジル
アミンを作用させることにより製造できる。この2,7
−ジベンジル−2,7−ジアザ−1,2,3,6,7,
8−ヘキサヒドロピレンの製造において、まず原料の
1,4,5,8−テトラキス(ハロゲノメチル)ナフタ
レン(IV)を、アセトニトリルなどの有機溶媒ととも
に、ベンジルアミンおよび炭酸カリウムなどの塩基を含
む同上溶媒の有機溶液に加え、この混合液を加熱処理す
る。これにより化合物(IV)のペリ位のハロゲノメチル
基(−CH2 X)とベンジルアミン分子との間で閉環反
応が起こり、窒素原子を環内に含むナフタレンのビス−
ペリ−6−環式系の2,7−ジベンジル−2,7−ジア
ザ−1,2,3,6,7,8−ヘキサヒドロピレン(II
a)が生成する。この反応は、通常、溶媒の沸騰温度で行
われ、また、その反応時間は1〜2日で十分である。反
応収率を上げるためにたえず効果的に反応液を撹拌する
ことが好ましい。式(IV)で示される化合物とベンジル
アミンとの反応モル比は化学量論的に定めることができ
るが、通常1:2〜1:4であり、好ましくは1:2.
5〜1:3である。この反応において、反応液は初めの
白色懸濁液から、反応の進行とともに、薄黄色懸濁液へ
と変化する。反応終了後に、反応混合物を水で処理して
生じた沈殿物を濾過・捕集すれば、式(IIa)で示される
2,7−ジベンジル−2,7−ジアザ−1,2,3,
6,7,8−ヘキサヒドロピレンを得ることができる。
体的に説明する。本発明の、一般式(II)においてRが
ベンジル基である、式(IIa)で示される2,7−ジベン
ジル−2,7−ジアザ−1,2,3,6,7,8−ヘキ
サヒドロピレンは、式(IV)で示される1,4,5,8
−テトラキス(ハロゲノメチル)ナフタレンにベンジル
アミンを作用させることにより製造できる。この2,7
−ジベンジル−2,7−ジアザ−1,2,3,6,7,
8−ヘキサヒドロピレンの製造において、まず原料の
1,4,5,8−テトラキス(ハロゲノメチル)ナフタ
レン(IV)を、アセトニトリルなどの有機溶媒ととも
に、ベンジルアミンおよび炭酸カリウムなどの塩基を含
む同上溶媒の有機溶液に加え、この混合液を加熱処理す
る。これにより化合物(IV)のペリ位のハロゲノメチル
基(−CH2 X)とベンジルアミン分子との間で閉環反
応が起こり、窒素原子を環内に含むナフタレンのビス−
ペリ−6−環式系の2,7−ジベンジル−2,7−ジア
ザ−1,2,3,6,7,8−ヘキサヒドロピレン(II
a)が生成する。この反応は、通常、溶媒の沸騰温度で行
われ、また、その反応時間は1〜2日で十分である。反
応収率を上げるためにたえず効果的に反応液を撹拌する
ことが好ましい。式(IV)で示される化合物とベンジル
アミンとの反応モル比は化学量論的に定めることができ
るが、通常1:2〜1:4であり、好ましくは1:2.
5〜1:3である。この反応において、反応液は初めの
白色懸濁液から、反応の進行とともに、薄黄色懸濁液へ
と変化する。反応終了後に、反応混合物を水で処理して
生じた沈殿物を濾過・捕集すれば、式(IIa)で示される
2,7−ジベンジル−2,7−ジアザ−1,2,3,
6,7,8−ヘキサヒドロピレンを得ることができる。
【0030】また、本発明の、一般式(II)においてR
がカルボエトキシ基である、式(IId)で示される2,7
−ジカルボエトキシ−2,7−ジアザ−1,2,3,
6,7,8−ヘキサヒドロピレンは、式(IIa)の化合物
を塩化蟻酸エチルで処理することにより製造することが
できる。この2,7−ジカルボエトキシ−2,7−ジア
ザ−1,2,3,6,7,8−ヘキサヒドロピレン(II
d)の製造において、まず原料の式(IIa)の化合物をテト
ラヒドロフランなどの有機溶媒中、塩化蟻酸エチルとと
もに加熱処理する。これにより(IIa)分子と塩化蟻酸エ
チル分子との間で交換反応が起こり、(IIa)の2個のベ
ンジル基が塩化蟻酸エチルのカルボエトキシ基(−CO
OC2 H5 )で置換された2,7−ジカルボエトキシ−
2,7−ジアザ−1,2,3,6,7,8−ヘキサヒド
ロピレン(IId)が生成する。
がカルボエトキシ基である、式(IId)で示される2,7
−ジカルボエトキシ−2,7−ジアザ−1,2,3,
6,7,8−ヘキサヒドロピレンは、式(IIa)の化合物
を塩化蟻酸エチルで処理することにより製造することが
できる。この2,7−ジカルボエトキシ−2,7−ジア
ザ−1,2,3,6,7,8−ヘキサヒドロピレン(II
d)の製造において、まず原料の式(IIa)の化合物をテト
ラヒドロフランなどの有機溶媒中、塩化蟻酸エチルとと
もに加熱処理する。これにより(IIa)分子と塩化蟻酸エ
チル分子との間で交換反応が起こり、(IIa)の2個のベ
ンジル基が塩化蟻酸エチルのカルボエトキシ基(−CO
OC2 H5 )で置換された2,7−ジカルボエトキシ−
2,7−ジアザ−1,2,3,6,7,8−ヘキサヒド
ロピレン(IId)が生成する。
【0031】この反応は、通常、溶媒の沸騰温度で行わ
れ、また、その反応時間は1.5〜3時間で十分であ
る。式(IIa)で示される化合物と塩化蟻酸エチルとの反
応モル比は、化学量論的に定めることができるが、通常
1:2〜1:5であり、好ましくは1:3〜1:4であ
る。このようにして反応を行うと、反応の進行ととも
に、反応液は始めの白色懸濁液から薄茶色溶液へと変化
する。反応終了後に減圧下溶媒を除去して得られた残留
物を、シリカゲルのクロマトグラフィーおよび再結晶に
付して分離精製操作を行えば、式(IId)で示される2,
7−ジカルボエトキシ−2,7−ジアザ−1,2,3,
6,7,8−ヘキサヒドロピレンを得ることができる。
れ、また、その反応時間は1.5〜3時間で十分であ
る。式(IIa)で示される化合物と塩化蟻酸エチルとの反
応モル比は、化学量論的に定めることができるが、通常
1:2〜1:5であり、好ましくは1:3〜1:4であ
る。このようにして反応を行うと、反応の進行ととも
に、反応液は始めの白色懸濁液から薄茶色溶液へと変化
する。反応終了後に減圧下溶媒を除去して得られた残留
物を、シリカゲルのクロマトグラフィーおよび再結晶に
付して分離精製操作を行えば、式(IId)で示される2,
7−ジカルボエトキシ−2,7−ジアザ−1,2,3,
6,7,8−ヘキサヒドロピレンを得ることができる。
【0032】本発明の、一般式(II)においてRがパラ
トルエンスルホニル基の、式(IIb)で示される2,7−
ジパラトルエンスルホニル−2,7−ジアザ−1,2,
3,6,7,8−ヘキサヒドロピレンは、式(IV)で示
される1,4,5,8−テトラキス(ハロゲノメチル)
ナフタレンをパラトルエンスルホンアミドで処理するこ
とにより製造することができる。この2,7−ジパラト
ルエンスルホニル−2,7−ジアザ−1,2,3,6,
7,8−ヘキサヒドロピレン(IIb)の製造において、ま
ず原料の1,4,5,8−テトラキス(ハロゲノメチ
ル)ナフタレン(IV)を、パラトルエンスルホンアミド
とともに、炭酸カリウムなどの塩基を含む有機溶媒、例
えばDMFに加え、この混合液を加熱処理する。これに
より、(IV)のペリ位のハロゲノメチル基(−CH2
X)とパラトルエンスルホンアミド(H2 N−Ts)分
子との間で閉環反応が起こり、窒素原子を環内に含むナ
フタレンのビス−ペリ−6−環式系の2,7−ジパラト
ルエンスルホニル−2,7−ジアザ−1,2,3,6,
7,8−ヘキサヒドロピレン(IIb)が生成する。
トルエンスルホニル基の、式(IIb)で示される2,7−
ジパラトルエンスルホニル−2,7−ジアザ−1,2,
3,6,7,8−ヘキサヒドロピレンは、式(IV)で示
される1,4,5,8−テトラキス(ハロゲノメチル)
ナフタレンをパラトルエンスルホンアミドで処理するこ
とにより製造することができる。この2,7−ジパラト
ルエンスルホニル−2,7−ジアザ−1,2,3,6,
7,8−ヘキサヒドロピレン(IIb)の製造において、ま
ず原料の1,4,5,8−テトラキス(ハロゲノメチ
ル)ナフタレン(IV)を、パラトルエンスルホンアミド
とともに、炭酸カリウムなどの塩基を含む有機溶媒、例
えばDMFに加え、この混合液を加熱処理する。これに
より、(IV)のペリ位のハロゲノメチル基(−CH2
X)とパラトルエンスルホンアミド(H2 N−Ts)分
子との間で閉環反応が起こり、窒素原子を環内に含むナ
フタレンのビス−ペリ−6−環式系の2,7−ジパラト
ルエンスルホニル−2,7−ジアザ−1,2,3,6,
7,8−ヘキサヒドロピレン(IIb)が生成する。
【0033】この反応は、通常、溶媒の沸騰温度で行わ
れ、また、その反応時間は13〜18時間で十分であ
る。式(IV)で示される化合物とパラトルエンスルホン
アミドとの反応モル比は、化学量論的に定めることがで
きるが、通常1:2〜1:4であり、好ましくは1:2
〜1:2.5である。このようにして反応を行うと、反
応の進行とともに、反応液は始めの白色懸濁液から黄色
懸濁液へと変化する。反応終了後に、反応混合物を水で
処理して生じた沈殿物を濾過・捕集し、再結晶すれば、
式(IIb)で示される2,7−ジパラトルエンスルホニル
−2,7−ジアザ−1,2,3,6,7,8−ヘキサヒ
ドロピレンを得ることができる。
れ、また、その反応時間は13〜18時間で十分であ
る。式(IV)で示される化合物とパラトルエンスルホン
アミドとの反応モル比は、化学量論的に定めることがで
きるが、通常1:2〜1:4であり、好ましくは1:2
〜1:2.5である。このようにして反応を行うと、反
応の進行とともに、反応液は始めの白色懸濁液から黄色
懸濁液へと変化する。反応終了後に、反応混合物を水で
処理して生じた沈殿物を濾過・捕集し、再結晶すれば、
式(IIb)で示される2,7−ジパラトルエンスルホニル
−2,7−ジアザ−1,2,3,6,7,8−ヘキサヒ
ドロピレンを得ることができる。
【0034】本発明の式(I)で示される2,7−ジア
ザ−1,2,3,6,7,8−ヘキサヒドロピレンは、
式(IId)で示される2,7−ジカルボエトキシ−2,7
−ジアザ−1,2,3,6,7,8−ヘキサヒドロピレ
ンを、アルカリで処理することにより製造される。この
2,7−ジアザ−1,2,3,6,7,8−ヘキサヒド
ロピレン(I)の製造において、原料の2,7−ジカル
ボエトキシ−2,7−ジアザ−1,2,3,6,7,8
−ヘキサヒドロピレン(IId)を、水酸化ナトリウムや水
酸化カリウムなどのアルカリ水溶液とともに加熱処理す
る。これにより、アルカリの作用で、原料分子中の2個
のカルボエトキシ基の加水分解・脱炭酸反応が起こり、
2個の2級アミノ基(−NH−)をもつ2,7−ジアザ
−1,2,3,6,7,8−ヘキサヒドロピレン(I)
が生成する。
ザ−1,2,3,6,7,8−ヘキサヒドロピレンは、
式(IId)で示される2,7−ジカルボエトキシ−2,7
−ジアザ−1,2,3,6,7,8−ヘキサヒドロピレ
ンを、アルカリで処理することにより製造される。この
2,7−ジアザ−1,2,3,6,7,8−ヘキサヒド
ロピレン(I)の製造において、原料の2,7−ジカル
ボエトキシ−2,7−ジアザ−1,2,3,6,7,8
−ヘキサヒドロピレン(IId)を、水酸化ナトリウムや水
酸化カリウムなどのアルカリ水溶液とともに加熱処理す
る。これにより、アルカリの作用で、原料分子中の2個
のカルボエトキシ基の加水分解・脱炭酸反応が起こり、
2個の2級アミノ基(−NH−)をもつ2,7−ジアザ
−1,2,3,6,7,8−ヘキサヒドロピレン(I)
が生成する。
【0035】この反応は、通常、溶媒の沸騰温度で行わ
れ、また、その反応時間は18〜25時間で十分であ
る。このようにして反応を行うと、反応の進行ととも
に、反応液は始めの白色懸濁液から、黄色溶液、さらに
茶色溶液へと変化する。反応終了後に氷水で処理して析
出した固体を濾過・捕集し、得られた粗生成物を再結晶
して精製すると、式(I)で示される2,7−ジアザ−
1,2,3,6,7,8−ヘキサヒドロピレンを得るこ
とができる。本発明の、一般式(II)においてRがアシ
ル基の、2,7−ジアシル−2,7−ジアザ−1,2,
3,6,7,8−ヘキサヒドロピレンは、式(I)で示
される2,7−ジアザ−1,2,3,6,7,8−ヘキ
サヒドロピレンに、所定のアシル化剤を作用させること
により製造することができる。アシル化剤の使用量は、
式(I)の化合物1モルに対し、好ましくは3〜10モ
ル、より好ましくは5〜7モルである。アシル化剤とし
ては、塩化ベンゾイル、塩化アセチル、塩化ナフトイ
ル、塩化フロイル、塩化トルオイルなどのハロゲン化ア
シルや安息香酸無水物、無水酢酸、フタル酸無水物など
の酸無水物があげられる。
れ、また、その反応時間は18〜25時間で十分であ
る。このようにして反応を行うと、反応の進行ととも
に、反応液は始めの白色懸濁液から、黄色溶液、さらに
茶色溶液へと変化する。反応終了後に氷水で処理して析
出した固体を濾過・捕集し、得られた粗生成物を再結晶
して精製すると、式(I)で示される2,7−ジアザ−
1,2,3,6,7,8−ヘキサヒドロピレンを得るこ
とができる。本発明の、一般式(II)においてRがアシ
ル基の、2,7−ジアシル−2,7−ジアザ−1,2,
3,6,7,8−ヘキサヒドロピレンは、式(I)で示
される2,7−ジアザ−1,2,3,6,7,8−ヘキ
サヒドロピレンに、所定のアシル化剤を作用させること
により製造することができる。アシル化剤の使用量は、
式(I)の化合物1モルに対し、好ましくは3〜10モ
ル、より好ましくは5〜7モルである。アシル化剤とし
ては、塩化ベンゾイル、塩化アセチル、塩化ナフトイ
ル、塩化フロイル、塩化トルオイルなどのハロゲン化ア
シルや安息香酸無水物、無水酢酸、フタル酸無水物など
の酸無水物があげられる。
【0036】この反応は好ましくはピリジンなどの有機
溶媒中で行われ、その反応温度は、アシル化剤の種類に
より変わるが、一般には、アシル化剤添加直後が室温な
いし60℃、その後の放置温度が0℃〜室温の範囲であ
る。このようにして反応を行うと、反応の進行とともに
反応液は始めの無色から薄茶色に変化する。反応終了後
にこの溶液を水で処理して抽出操作を行うと、(I)の
2個のアミノ基(−NH−)の水素原子がアシル基で置
換された化合物(例えばアシル基がベンゾイル基の場合
には、−NH−がベンゾイルアミノ基(−N(COC6
H5 )−)に変換された、2,7−ジベンゾイル−2,
7−ジアザ−1,2,3,6,7,8−ヘキサヒドロピ
レン(IIc))が得られる。
溶媒中で行われ、その反応温度は、アシル化剤の種類に
より変わるが、一般には、アシル化剤添加直後が室温な
いし60℃、その後の放置温度が0℃〜室温の範囲であ
る。このようにして反応を行うと、反応の進行とともに
反応液は始めの無色から薄茶色に変化する。反応終了後
にこの溶液を水で処理して抽出操作を行うと、(I)の
2個のアミノ基(−NH−)の水素原子がアシル基で置
換された化合物(例えばアシル基がベンゾイル基の場合
には、−NH−がベンゾイルアミノ基(−N(COC6
H5 )−)に変換された、2,7−ジベンゾイル−2,
7−ジアザ−1,2,3,6,7,8−ヘキサヒドロピ
レン(IIc))が得られる。
【0037】本発明によれば、式(IIb)で示される2,
7−ジパラトルエンスルホニル−2,7−ジアザ−1,
2,3,6,7,8−ヘキサヒドロピレンは、上述した
ように、式(IV)の1,4,5,8−テトラキス(ハロ
ゲノメチル)ナフタレンをパラトルエンスルホンアミド
で処理することにより製造される以外に、式(I)で示
される2,7−ジアザ−1,2,3,6,7,8−ヘキ
サヒドロピレンを、塩化パラトルエンスルホニルで処理
しても製造することができる。
7−ジパラトルエンスルホニル−2,7−ジアザ−1,
2,3,6,7,8−ヘキサヒドロピレンは、上述した
ように、式(IV)の1,4,5,8−テトラキス(ハロ
ゲノメチル)ナフタレンをパラトルエンスルホンアミド
で処理することにより製造される以外に、式(I)で示
される2,7−ジアザ−1,2,3,6,7,8−ヘキ
サヒドロピレンを、塩化パラトルエンスルホニルで処理
しても製造することができる。
【0038】この反応は好ましくはピリジンなどの有機
溶媒中で行われ、その反応温度は、スルホニル化剤添加
直後が室温ないし60℃、その後の放置温度が0℃〜室
温の範囲である。式(I)で示される2,7−ジアザ−
1,2,3,6,7,8−ヘキサヒドロピレンと塩化パ
ラトルエンスルホニルとの反応モル比は化学量論的に定
めることができるが、通常1:2〜1:10、好ましく
は1:4〜1:6である。このようにして反応を行う
と、反応の進行とともに反応液は始めの白色懸濁液から
薄茶色懸濁液に変化する。反応終了後に反応液を水で処
理して析出した固体を集め、再結晶させて精製すると、
(I)の2個のアミノ基(−NH−)の水素原子がパラ
トルエンスルホニル基(−SO2 C6 H4 −pCH3 )
で置換された、2,7−ジパラトルエンスルホニル−
2,7−ジアザ−1,2,3,6,7,8−ヘキサヒド
ロピレン(IIb)が得られる。このようにして得た(IIb)
は、式(IV)の化合物をパラトルエンスルホンアミドで
処理して合成した、上記記載の(IIb)と一致した。
溶媒中で行われ、その反応温度は、スルホニル化剤添加
直後が室温ないし60℃、その後の放置温度が0℃〜室
温の範囲である。式(I)で示される2,7−ジアザ−
1,2,3,6,7,8−ヘキサヒドロピレンと塩化パ
ラトルエンスルホニルとの反応モル比は化学量論的に定
めることができるが、通常1:2〜1:10、好ましく
は1:4〜1:6である。このようにして反応を行う
と、反応の進行とともに反応液は始めの白色懸濁液から
薄茶色懸濁液に変化する。反応終了後に反応液を水で処
理して析出した固体を集め、再結晶させて精製すると、
(I)の2個のアミノ基(−NH−)の水素原子がパラ
トルエンスルホニル基(−SO2 C6 H4 −pCH3 )
で置換された、2,7−ジパラトルエンスルホニル−
2,7−ジアザ−1,2,3,6,7,8−ヘキサヒド
ロピレン(IIb)が得られる。このようにして得た(IIb)
は、式(IV)の化合物をパラトルエンスルホンアミドで
処理して合成した、上記記載の(IIb)と一致した。
【0039】本発明によれば、式(I)で示される2,
7−ジアザ−1,2,3,6,7,8−ヘキサヒドロピ
レンは、上記記載のように、式(IId)で示される2,7
−ジカルボエトキシ−2,7−ジアザ−1,2,3,
6,7,8−ヘキサヒドロピレンをアルカリで処理する
ことにより製造することができるほか、式(IIb)の化合
物を、臭化水素酸で処理することによっても製造するこ
とができる。本発明の式(I)の化合物の製造におい
て、原料の2,7−ジパラトルエンスルホニル−2,7
−ジアザ−1,2,3,6,7,8−ヘキサヒドロピレ
ン(IIb)を臭化水素酸とともに加熱処理する。これによ
り、酸の作用で加水分解反応が起こり、原料分子中の2
個のパラトルエンスルホニル基が離脱して2個の2級ア
ミノ基(−NH−)をもつ、2,7−ジアザ−1,2,
3,6,7,8−ヘキサヒドロピレン(I)が生成す
る。
7−ジアザ−1,2,3,6,7,8−ヘキサヒドロピ
レンは、上記記載のように、式(IId)で示される2,7
−ジカルボエトキシ−2,7−ジアザ−1,2,3,
6,7,8−ヘキサヒドロピレンをアルカリで処理する
ことにより製造することができるほか、式(IIb)の化合
物を、臭化水素酸で処理することによっても製造するこ
とができる。本発明の式(I)の化合物の製造におい
て、原料の2,7−ジパラトルエンスルホニル−2,7
−ジアザ−1,2,3,6,7,8−ヘキサヒドロピレ
ン(IIb)を臭化水素酸とともに加熱処理する。これによ
り、酸の作用で加水分解反応が起こり、原料分子中の2
個のパラトルエンスルホニル基が離脱して2個の2級ア
ミノ基(−NH−)をもつ、2,7−ジアザ−1,2,
3,6,7,8−ヘキサヒドロピレン(I)が生成す
る。
【0040】この反応は、通常、溶媒の沸騰温度で行わ
れ、また、その反応時間は18〜25時間で十分であ
る。酸の使用量は通常式(IIb)の化合物1モルに対し5
〜10モルであるが、酸自身を溶媒として用いることも
できる。によって定められる。このようにして反応を行
うと反応液は暗赤色に変化する。これを氷水で処理し、
常法にしたがって抽出操作を行い、得られた粗生成物を
再結晶して精製すると、式(I)の化合物を得ることが
できる。このようにして得た式(I)の化合物の物性
値、分析値などのデータは、式(IId)の化合物をアルカ
リ処理して合成した式(I)の化合物のデータと完全に
一致した。本発明において式(III) で示される2,7−
ジアザピレンは、式(I)で示される2,7−ジアザ−
1,2,3,6,7,8−ヘキサヒドロピレンを二酸化
マンガンで処理することにより製造される。
れ、また、その反応時間は18〜25時間で十分であ
る。酸の使用量は通常式(IIb)の化合物1モルに対し5
〜10モルであるが、酸自身を溶媒として用いることも
できる。によって定められる。このようにして反応を行
うと反応液は暗赤色に変化する。これを氷水で処理し、
常法にしたがって抽出操作を行い、得られた粗生成物を
再結晶して精製すると、式(I)の化合物を得ることが
できる。このようにして得た式(I)の化合物の物性
値、分析値などのデータは、式(IId)の化合物をアルカ
リ処理して合成した式(I)の化合物のデータと完全に
一致した。本発明において式(III) で示される2,7−
ジアザピレンは、式(I)で示される2,7−ジアザ−
1,2,3,6,7,8−ヘキサヒドロピレンを二酸化
マンガンで処理することにより製造される。
【0041】本発明の2,7−ジアザピレン(III) の製
造において、原料の式(I)の化合物をベンゼンなどの
不活性溶媒中、二酸化マンガンなどの酸化剤とともに加
熱処理する。すると、二酸化マンガンの酸化作用で脱水
素反応が起こり、原料の式(I)の化合物がヘキサデヒ
ドロ化された2,7−ジアザピレン(III) が生成する。
酸化剤の使用量は式(I)の化合物1モルに対し好まし
くは5〜20モル、より好ましくは8〜12モルであ
る。反応は、通常、溶媒の沸騰温度で行われ、また、そ
の反応時間は12〜18時間で十分である。このように
して反応を行い、反応終了後に反応液を濾過して触媒を
除き、溶媒を除去して得られた粗生成物を精製すると、
式(III) で示される2,7−ジアザピレンを得ることが
できる。
造において、原料の式(I)の化合物をベンゼンなどの
不活性溶媒中、二酸化マンガンなどの酸化剤とともに加
熱処理する。すると、二酸化マンガンの酸化作用で脱水
素反応が起こり、原料の式(I)の化合物がヘキサデヒ
ドロ化された2,7−ジアザピレン(III) が生成する。
酸化剤の使用量は式(I)の化合物1モルに対し好まし
くは5〜20モル、より好ましくは8〜12モルであ
る。反応は、通常、溶媒の沸騰温度で行われ、また、そ
の反応時間は12〜18時間で十分である。このように
して反応を行い、反応終了後に反応液を濾過して触媒を
除き、溶媒を除去して得られた粗生成物を精製すると、
式(III) で示される2,7−ジアザピレンを得ることが
できる。
【0042】
【実施例】次に本発明を実施例に基づいてさらに詳細に
説明する。 実施例1 1,4,5,8−テトラキス(ブロモメチル)ナフタレ
ン(IV)2.75g、ベンジルアミン1.2ml、炭酸
カリウム3.56gを含むアセトニトリル90mlの混
合液を2日間還流した。反応後、氷水で処理して析出し
た白色固体を集め、2.12g(収率99%)の2,7
−ジベンジル−2,7−ジアザ−1,2,3,6,7,
8−ヘキサヒドロピレン(IIa)が得られた。 Mp.213℃(分解) 質量分析(m/z);390(M+ ) IR(Nujol);3056,3030,1597,
1500,1455,1318,1095,985,8
25,740,695(cm-1)
説明する。 実施例1 1,4,5,8−テトラキス(ブロモメチル)ナフタレ
ン(IV)2.75g、ベンジルアミン1.2ml、炭酸
カリウム3.56gを含むアセトニトリル90mlの混
合液を2日間還流した。反応後、氷水で処理して析出し
た白色固体を集め、2.12g(収率99%)の2,7
−ジベンジル−2,7−ジアザ−1,2,3,6,7,
8−ヘキサヒドロピレン(IIa)が得られた。 Mp.213℃(分解) 質量分析(m/z);390(M+ ) IR(Nujol);3056,3030,1597,
1500,1455,1318,1095,985,8
25,740,695(cm-1)
【0043】実施例2 塩化蟻酸エチル1.00gのテトラヒドロフラン溶液5
mlを、2,7−ジベンジル−2,7−ジアザ−1,
2,3,6,7,8−ヘキサヒドロピレン(IIa)0.3
98gを含むテトラヒドロフラン溶液5mlに加え、混
合液を55℃で2時間撹拌した。反応後、溶媒を減圧下
除去して得られた固体をシリカゲルのクロマトグラフィ
ー、次いでベンゼン−ヘキサンの混合液から再結晶して
精製すると、無色微結晶として、0.31g(収率86
%)の2,7−ジカルボエトキシ−2,7−ジアザ−
1,2,3,6,7,8−ヘキサヒドロピレン(IId)が
得られた。 Mp.186〜189℃ Rf(シリカゲル/ジクロロメタン);0.13 元素分析;測定値;C,67.50, H,6.53 計算値;C,67.78, H,6.26(C20H22O4 N2 ) 質量分析(m/z);354(M+ ) IR(Nujol);3026,2986,1695,1603,1521,1 263,1235,1109,1040,893,830,760cm-1 1H−NMR(重クロロホルム);δ 1.27(t,J=7.2Hz,6H,CH3)、 4.17(q,J=7.2Hz,4H,Ethyl-CH2)、 4.89(s,8H,ArCH2N)、 7.23(s,4H,ArH)
mlを、2,7−ジベンジル−2,7−ジアザ−1,
2,3,6,7,8−ヘキサヒドロピレン(IIa)0.3
98gを含むテトラヒドロフラン溶液5mlに加え、混
合液を55℃で2時間撹拌した。反応後、溶媒を減圧下
除去して得られた固体をシリカゲルのクロマトグラフィ
ー、次いでベンゼン−ヘキサンの混合液から再結晶して
精製すると、無色微結晶として、0.31g(収率86
%)の2,7−ジカルボエトキシ−2,7−ジアザ−
1,2,3,6,7,8−ヘキサヒドロピレン(IId)が
得られた。 Mp.186〜189℃ Rf(シリカゲル/ジクロロメタン);0.13 元素分析;測定値;C,67.50, H,6.53 計算値;C,67.78, H,6.26(C20H22O4 N2 ) 質量分析(m/z);354(M+ ) IR(Nujol);3026,2986,1695,1603,1521,1 263,1235,1109,1040,893,830,760cm-1 1H−NMR(重クロロホルム);δ 1.27(t,J=7.2Hz,6H,CH3)、 4.17(q,J=7.2Hz,4H,Ethyl-CH2)、 4.89(s,8H,ArCH2N)、 7.23(s,4H,ArH)
【0044】実施例3 1,4,5,8−テトラキス(ブロモメチル)ナフタレ
ン(IV) 0.497g、パラトルエンスルホンアミド
0.342g、無水炭酸カリウム1.38gを含むDM
F溶液12mlを15時間還流した。反応液を氷水で処
理して得られた固体をクロロホルムから結晶化させて、
無色微結晶として、0.210g(収率41%)の2,
7−ジパラトルエンスルホニル−2,7−ジアザ−1,
2,3,6,7,8−ヘキサヒドロピレン(IIb)を得
た。 Mp.300〜302℃(分解) Rf(シリカゲル/ジクロロメタン);0.32 元素分析;測定値;C 64.50, H 4.91 計算値;C 64.86, H 5.05(C28H26O4 S2 N2 ) 質量分析(m/z);518(M+ ) IR(Nujol);3026,1600,1338,1160,954,81 3,770,663,570,544cm-1 1H−NMR(重クロロホルム);δ 2.32(s,6H,CH3)、4.54(s,8H,ArCH2N)、 7.10(ABd,J=8.3Hz,4H,p-CH3C6H4-H3',5') 、 7.12(s,4H,ナフタレンH)、 7.57(ABd,J=8.3Hz,4H,p-CH3C6H4-H2',6')
ン(IV) 0.497g、パラトルエンスルホンアミド
0.342g、無水炭酸カリウム1.38gを含むDM
F溶液12mlを15時間還流した。反応液を氷水で処
理して得られた固体をクロロホルムから結晶化させて、
無色微結晶として、0.210g(収率41%)の2,
7−ジパラトルエンスルホニル−2,7−ジアザ−1,
2,3,6,7,8−ヘキサヒドロピレン(IIb)を得
た。 Mp.300〜302℃(分解) Rf(シリカゲル/ジクロロメタン);0.32 元素分析;測定値;C 64.50, H 4.91 計算値;C 64.86, H 5.05(C28H26O4 S2 N2 ) 質量分析(m/z);518(M+ ) IR(Nujol);3026,1600,1338,1160,954,81 3,770,663,570,544cm-1 1H−NMR(重クロロホルム);δ 2.32(s,6H,CH3)、4.54(s,8H,ArCH2N)、 7.10(ABd,J=8.3Hz,4H,p-CH3C6H4-H3',5') 、 7.12(s,4H,ナフタレンH)、 7.57(ABd,J=8.3Hz,4H,p-CH3C6H4-H2',6')
【0045】実施例4 2,7−ジカルボエトキシ−2,7−ジアザ−1,2,
3,6,7,8−ヘキサヒドロピレン(IId)1.78
g、水酸化ナトリウム3.3g、ジオキサン50ml、
および水70mlの混合液を22時間加熱還流した。反
応後、生じた茶色溶液を氷水で処理し、析出した固体を
集めて、希塩酸200mlと0℃で1時間撹拌した。不
溶性物質を濾過して除き、さらにジクロロメタン可溶物
質を除去した後、水溶液をアルカリ性として、常法にし
たがい抽出処理した。このようにして得られた粗生成物
をジクロロメタンから結晶化して、無色微結晶として、
0.742g(収率71%)の2,7−ジアザ−1,
2,3,6,7,8−ヘキサヒドロピレン(I)を得
た。 Mp.214℃(分解) Rf(シリカゲル/ジクロロメタン−メタノール,1:1);0.17 元素分析;測定値;C 79.70, H 6.59 計算値;C 79.96, H 6.71(C14H14N2 ) 質量分析(m/z);210(M+ ) IR(Nujol);3180,3060,1598,1309,910,82 5cm-1 1H−NMR(重クロロホルム);δ 4.28(s,10H,ArCH2NH) 、7.11(s,4H,ArH)
3,6,7,8−ヘキサヒドロピレン(IId)1.78
g、水酸化ナトリウム3.3g、ジオキサン50ml、
および水70mlの混合液を22時間加熱還流した。反
応後、生じた茶色溶液を氷水で処理し、析出した固体を
集めて、希塩酸200mlと0℃で1時間撹拌した。不
溶性物質を濾過して除き、さらにジクロロメタン可溶物
質を除去した後、水溶液をアルカリ性として、常法にし
たがい抽出処理した。このようにして得られた粗生成物
をジクロロメタンから結晶化して、無色微結晶として、
0.742g(収率71%)の2,7−ジアザ−1,
2,3,6,7,8−ヘキサヒドロピレン(I)を得
た。 Mp.214℃(分解) Rf(シリカゲル/ジクロロメタン−メタノール,1:1);0.17 元素分析;測定値;C 79.70, H 6.59 計算値;C 79.96, H 6.71(C14H14N2 ) 質量分析(m/z);210(M+ ) IR(Nujol);3180,3060,1598,1309,910,82 5cm-1 1H−NMR(重クロロホルム);δ 4.28(s,10H,ArCH2NH) 、7.11(s,4H,ArH)
【0046】実施例5 2,7−ジパラトルエンスルホニル−2,7−ジアザ−
1,2,3,6,7,8−ヘキサヒドロピレン(IIb)
0.130g、フェノール0.140g、プロピオン酸
3mlおよび臭化水素酸20mlの混合液を20時間加
熱還流した。室温に冷却後、ジエチルエーテル可溶物質
を除き、水溶液をアルカリ性としてジクロロメタンで抽
出した。このようにして得た粗生成物をジクロロメタン
から結晶化して、0.014g(収率27%)の2,7
−ジアザ−1,2,3,6,7,8−ヘキサヒドロピレ
ン(I)を得た。 Mp.206℃(分解)。 本実施例で得られた上記2,7−ジアザ−1,2,3,
6,7,8−ヘキサヒドロピレン(I)の物性値、分析
値およびスペクトルデータは、実施例4で得られた
(I)のデータと一致した。
1,2,3,6,7,8−ヘキサヒドロピレン(IIb)
0.130g、フェノール0.140g、プロピオン酸
3mlおよび臭化水素酸20mlの混合液を20時間加
熱還流した。室温に冷却後、ジエチルエーテル可溶物質
を除き、水溶液をアルカリ性としてジクロロメタンで抽
出した。このようにして得た粗生成物をジクロロメタン
から結晶化して、0.014g(収率27%)の2,7
−ジアザ−1,2,3,6,7,8−ヘキサヒドロピレ
ン(I)を得た。 Mp.206℃(分解)。 本実施例で得られた上記2,7−ジアザ−1,2,3,
6,7,8−ヘキサヒドロピレン(I)の物性値、分析
値およびスペクトルデータは、実施例4で得られた
(I)のデータと一致した。
【0047】実施例6 2,7−ジアザ−1,2,3,6,7,8−ヘキサヒド
ロピレン(I)0.040gのピリジン溶液2mlに、
塩化ベンゾイル0.600gを含むピリジン溶液2ml
を添加した。混合液を60℃で20分間、次いで室温で
3日間反応させた後、氷水で処理してジクロロメタンで
抽出した。溶媒を減圧下除去して得られた残留物を、ヘ
キサン−クロロホルムの混合溶媒を用いて結晶化して、
無色微結晶として、0.051g(収率66%)の2,
7−ジベンゾイル−2,7−ジアザ−1,2,3,6,
7,8−ヘキサヒドロピレン(IIc)を得た。 Mp.277℃(分解) Rf(シリカゲル/ベンゼン−メタノール);0.32 元素分析;測定値;C 80.50, H 5.45 計算値;C 80.36, H 5.30(C28H22O2 N2 ) 質量分析(m/z);418(M+ ) IR(Nujol);3050,1630,1600,1580,1412,1 268,1145,1010,830,800,730,700,650cm-1 1H−NMR(重クロロホルム);δ 5.04(s,8H,ArCH2N)、7.23(s,4H,ナフタレンH) 7.43(s,10H,フェニルH)
ロピレン(I)0.040gのピリジン溶液2mlに、
塩化ベンゾイル0.600gを含むピリジン溶液2ml
を添加した。混合液を60℃で20分間、次いで室温で
3日間反応させた後、氷水で処理してジクロロメタンで
抽出した。溶媒を減圧下除去して得られた残留物を、ヘ
キサン−クロロホルムの混合溶媒を用いて結晶化して、
無色微結晶として、0.051g(収率66%)の2,
7−ジベンゾイル−2,7−ジアザ−1,2,3,6,
7,8−ヘキサヒドロピレン(IIc)を得た。 Mp.277℃(分解) Rf(シリカゲル/ベンゼン−メタノール);0.32 元素分析;測定値;C 80.50, H 5.45 計算値;C 80.36, H 5.30(C28H22O2 N2 ) 質量分析(m/z);418(M+ ) IR(Nujol);3050,1630,1600,1580,1412,1 268,1145,1010,830,800,730,700,650cm-1 1H−NMR(重クロロホルム);δ 5.04(s,8H,ArCH2N)、7.23(s,4H,ナフタレンH) 7.43(s,10H,フェニルH)
【0048】実施例7 2,7−ジアザ−1,2,3,6,7,8−ヘキサヒド
ロピレン(I)0.044gのピリジン溶液2mlに、
塩化パラトルエンスルホニル0.360gを含むピリジ
ン溶液3mlを添加した。混合液を60℃で30分間、
次いで室温で4日間反応させた後、氷水で処理した。析
出した固体を濾過して集めクロロホルムから結晶化させ
て、0.93g(収率86%)の2,7−ジパラトルエ
ンスルホニル−2,7−ジアザ−1,2,3,6,7,
8−ヘキサヒドロピレン(IIb)を得た。 Mp.300〜301℃。 本実施例で得られた上記2,7−ジパラトルエンスルホ
ニル−1,2,3,6,7,8−ヘキサヒドロピレン
(IIb)の物性値、分析値およびスペクトルデータは、実
施例3で得られた(IIb)のデータと一致した。
ロピレン(I)0.044gのピリジン溶液2mlに、
塩化パラトルエンスルホニル0.360gを含むピリジ
ン溶液3mlを添加した。混合液を60℃で30分間、
次いで室温で4日間反応させた後、氷水で処理した。析
出した固体を濾過して集めクロロホルムから結晶化させ
て、0.93g(収率86%)の2,7−ジパラトルエ
ンスルホニル−2,7−ジアザ−1,2,3,6,7,
8−ヘキサヒドロピレン(IIb)を得た。 Mp.300〜301℃。 本実施例で得られた上記2,7−ジパラトルエンスルホ
ニル−1,2,3,6,7,8−ヘキサヒドロピレン
(IIb)の物性値、分析値およびスペクトルデータは、実
施例3で得られた(IIb)のデータと一致した。
【0049】実施例8 2,7−ジアザ−1,2,3,6,7,8−ヘキサヒド
ロピレン(I)0.240g、二酸化マンガン1.10
g、ベンゼン80mlからなる混合液を15時間加熱還
流した。反応後、反応液から二酸化マンガンを濾過して
除き、溶媒を減圧下除去すると茶色の残留物が得られ
た。このようにして得た粗生成物をシリカゲルのクロマ
トグラフィー、次いで、クロロホルム−メタノールの混
合溶媒から再結晶して精製すると、緑色微結晶として、
0.070g(収率49%)の2,7−ジアザピレン
(III)が得られた。 Mp.275〜277℃ Rf(シリカゲル/クロロホルム−メタノール);0.40 元素分析;測定値;C 82.45, H 4.20 計算値;C 82.33, H 3.95(C14H8 N2 ) 質量分析(m/z);204(M+ ) IR(Nujol);3040,3010,1574,1392,1035,8 92,717cm-1 1H−NMR(重クロロホルム);δ 8.15(s,4H,ArH4,5,9,10) 9.49(s,4H,ArH1,3,6,8)
ロピレン(I)0.240g、二酸化マンガン1.10
g、ベンゼン80mlからなる混合液を15時間加熱還
流した。反応後、反応液から二酸化マンガンを濾過して
除き、溶媒を減圧下除去すると茶色の残留物が得られ
た。このようにして得た粗生成物をシリカゲルのクロマ
トグラフィー、次いで、クロロホルム−メタノールの混
合溶媒から再結晶して精製すると、緑色微結晶として、
0.070g(収率49%)の2,7−ジアザピレン
(III)が得られた。 Mp.275〜277℃ Rf(シリカゲル/クロロホルム−メタノール);0.40 元素分析;測定値;C 82.45, H 4.20 計算値;C 82.33, H 3.95(C14H8 N2 ) 質量分析(m/z);204(M+ ) IR(Nujol);3040,3010,1574,1392,1035,8 92,717cm-1 1H−NMR(重クロロホルム);δ 8.15(s,4H,ArH4,5,9,10) 9.49(s,4H,ArH1,3,6,8)
【0050】
【発明の効果】本発明によれば、新規化合物として、
2,7−ジアザ−1,2,3,6,7,8−ヘキサヒド
ロピレンとその2,7−ジ置換誘導体が得られる。この
ような化合物は、窒素原子に由来する特異な反応性を有
するとともに、2個のヘテロ原子がビスペリ位に位置す
るという特異な分子環境を有することから、ペリ位を架
橋とする新規ポリマー用モノマーとして有用であるほ
か、重金属捕捉剤や界面活性剤製造原料としても利用で
きる。
2,7−ジアザ−1,2,3,6,7,8−ヘキサヒド
ロピレンとその2,7−ジ置換誘導体が得られる。この
ような化合物は、窒素原子に由来する特異な反応性を有
するとともに、2個のヘテロ原子がビスペリ位に位置す
るという特異な分子環境を有することから、ペリ位を架
橋とする新規ポリマー用モノマーとして有用であるほ
か、重金属捕捉剤や界面活性剤製造原料としても利用で
きる。
Claims (10)
- 【請求項1】 下記式(I)で示される2,7−ジアザ
−1,2,3,6,7,8−ヘキサヒドロピレン。式
(I) 【化1】 - 【請求項2】 下記式(II)で示される2,7−ジアザ
−1,2,3,6,7,8−ヘキサヒドロピレン化合
物。式(II) 【化2】 (式中Rは、(a)ベンジル基、(b)スルホニル基、
(c)アシル基、又は(d)カルボアルコキシ基を示
す。) - 【請求項3】 請求項1記載の式(I)で表される2,
7−ジアザ−1,2,3,6,7,8−ヘキサヒドロピ
レンを酸化剤で処理することを特徴とする下記式(III)
で示される2,7−ジアザピレンの製造方法。 式(III) 【化3】 - 【請求項4】 下記式(IV)で示される1,4,5,8
−テトラキス(ハロゲノメチル)ナフタレンをベンジル
アミンで処理することを特徴とする下記式(IIa)で表さ
れる2,7−ジベンジル−2,7−ジアザ−1,2,
3,6,7,8−ヘキサヒドロピレンの製造方法。 式(IV) 【化4】 式(IIa) 【化5】 (式中Xはハロゲン原子を示す。) - 【請求項5】 下記式(IV)で示される1,4,5,
8−テトラキス(ハロゲノメチル)ナフタレンをパラト
ルエンスルホンアミドで処理することを特徴とする下記
式(IIb)で表される2,7−ジパラトルエンスルホニル
−2,7−ジアザ−1,2,3,6,7,8−ヘキサヒ
ドロピレンの製造方法。 式(IV) 【化6】 式(IIb) 【化7】 (式中Xはハロゲン原子を示す。) - 【請求項6】 請求項1記載の式(I)で示される2,
7−ジアザ−1,2,3,6,7,8−ヘキサヒドロピ
レンを塩化パラトルエンスルホニルで処理することを特
徴とする下記式(IIb)で表される2,7−ジパラト
ルエンスルホニル−2,7−ジアザ−1,2,3,6,
7,8−ヘキサヒドロピレンの製造方法。 式(IIb) 【化8】 - 【請求項7】 請求項1記載の式(I)で示される2,
7−ジアザ−1,2,3,6,7,8−ヘキサヒドロピ
レンを塩化ベンゾイルで処理することを特徴とする下記
式(IIc)で表される2,7−ジベンゾイル−2,7−ジ
アザ−1,2,3,6,7,8−ヘキサヒドロピレンの
製造方法。 式(IIc) 【化9】 - 【請求項8】 下記式(IIa)で示される2,7−ジ
ベンジル−2,7−ジアザ−1,2,3,6,7,8−
ヘキサヒドロピレンを塩化蟻酸エチルで処理することを
特徴とする下記式(IId)で表される2,7−ジカルボエ
トキシ−2,7−ジアザ−1,2,3,6,7,8−ヘ
キサヒドロピレンの製造方法。 式(IIa) 【化10】 式(IId) 【化11】 - 【請求項9】 下記式(IIb)で示される2,7−ジ
パラトルエンスルホニル−2,7−ジアザ−1,2,
3,6,7,8−ヘキサヒドロピレンを臭化水素酸で処
理することを特徴とする請求項1記載の式(I)で表さ
れる2,7−ジアザ−1,2,3,6,7,8−ヘキサ
ヒドロピレンの製造方法。 式(IIb) 【化12】 - 【請求項10】 下記式(IId)で示される2,7−ジカ
ルボエトキシ−2,7−ジアザ−1,2,3,6,7,
8−ヘキサヒドロピレンをアルカリ水溶液で処理するこ
とを特徴とする請求項1記載の式(I)で表される2,
7−ジアザ−1,2,3,6,7,8−ヘキサヒドロピ
レンの製造方法。 式(IId) 【化13】
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP12440398A JP2893182B1 (ja) | 1998-05-07 | 1998-05-07 | 2,7−ジアザ−1,2,3,6,7,8−ヘキサヒドロピレン化合物とその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP12440398A JP2893182B1 (ja) | 1998-05-07 | 1998-05-07 | 2,7−ジアザ−1,2,3,6,7,8−ヘキサヒドロピレン化合物とその製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2893182B1 JP2893182B1 (ja) | 1999-05-17 |
JPH11322747A true JPH11322747A (ja) | 1999-11-24 |
Family
ID=14884595
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP12440398A Expired - Lifetime JP2893182B1 (ja) | 1998-05-07 | 1998-05-07 | 2,7−ジアザ−1,2,3,6,7,8−ヘキサヒドロピレン化合物とその製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2893182B1 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN103059271A (zh) * | 2012-12-20 | 2013-04-24 | 华南理工大学 | 含5,10-二酮-4,9-二氮杂芘共轭聚合物及制备 |
-
1998
- 1998-05-07 JP JP12440398A patent/JP2893182B1/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN103059271A (zh) * | 2012-12-20 | 2013-04-24 | 华南理工大学 | 含5,10-二酮-4,9-二氮杂芘共轭聚合物及制备 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2893182B1 (ja) | 1999-05-17 |
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