JPH11322555A - 口腔用組成物 - Google Patents
口腔用組成物Info
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- JPH11322555A JPH11322555A JP15217998A JP15217998A JPH11322555A JP H11322555 A JPH11322555 A JP H11322555A JP 15217998 A JP15217998 A JP 15217998A JP 15217998 A JP15217998 A JP 15217998A JP H11322555 A JPH11322555 A JP H11322555A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 高い微生物の付着抑制効果を示し、歯垢形成
を効果的に阻止し得る口腔疾患の予防に有効な口腔用組
成物を提供する。 【解決手段】 カチオン性デキストランを含有すること
を特徴とする口腔用組成物。
を効果的に阻止し得る口腔疾患の予防に有効な口腔用組
成物を提供する。 【解決手段】 カチオン性デキストランを含有すること
を特徴とする口腔用組成物。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、歯垢形成を抑制す
る効果を有する口腔用組成物に関する。
る効果を有する口腔用組成物に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、歯面を特定の薬剤等でコーティン
グすることにより微生物の付着を抑制し、歯垢形成を阻
害するという技術を利用した口腔用組成物の関連の提案
が下記のようになされている。 パーフルオロアルキル界面活性剤とベヒクルを配合し
た抗歯垢性口腔組成物（特開平１−９６１１５号公報） アクリル酸ポリマーを配合した口腔用組成物（特開平
３−１４５１１号公報） 特定のペプチドを配合した口腔用組成物（特開平３−
２６１７１７、３−２６１７１８号公報） フルオロアルキルリン酸エステルを配合した口腔用組
成物（特開平３−３８５１７号公報） シリコーン誘導体を配合した口腔用組成物（特開平４
−１２００１４号公報） 特定のアルキルベタインを配合した口腔用組成物（特
開平４−１３４０２５号公報） しかしながら、上記口腔用組成物は微生物の歯面への付
着抑制効果を十分に満足させるものではなく、それ故、
より高い微生物の付着抑制効果を有する口腔用組成物の
開発が望まれていた。
グすることにより微生物の付着を抑制し、歯垢形成を阻
害するという技術を利用した口腔用組成物の関連の提案
が下記のようになされている。 パーフルオロアルキル界面活性剤とベヒクルを配合し
た抗歯垢性口腔組成物（特開平１−９６１１５号公報） アクリル酸ポリマーを配合した口腔用組成物（特開平
３−１４５１１号公報） 特定のペプチドを配合した口腔用組成物（特開平３−
２６１７１７、３−２６１７１８号公報） フルオロアルキルリン酸エステルを配合した口腔用組
成物（特開平３−３８５１７号公報） シリコーン誘導体を配合した口腔用組成物（特開平４
−１２００１４号公報） 特定のアルキルベタインを配合した口腔用組成物（特
開平４−１３４０２５号公報） しかしながら、上記口腔用組成物は微生物の歯面への付
着抑制効果を十分に満足させるものではなく、それ故、
より高い微生物の付着抑制効果を有する口腔用組成物の
開発が望まれていた。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記事情に
鑑みなされたもので、高い微生物の付着抑制効果を示
し、歯垢形成を効果的に阻止し得る口腔疾患の予防に有
効な口腔用組成物を提供することをその課題とする。
鑑みなされたもので、高い微生物の付着抑制効果を示
し、歯垢形成を効果的に阻止し得る口腔疾患の予防に有
効な口腔用組成物を提供することをその課題とする。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、前記課題
を解決すべく鋭意検討を重ねた結果、安全性の高いカチ
オン性デキストランを含有させることにより微生物の歯
牙表面への大きな付着抑制効果が得られることを知見
し、本発明をなすに至った。即ち、本発明によれば、カ
チオン性デキストランを含有することを特徴とする口腔
用組成物が提供される。
を解決すべく鋭意検討を重ねた結果、安全性の高いカチ
オン性デキストランを含有させることにより微生物の歯
牙表面への大きな付着抑制効果が得られることを知見
し、本発明をなすに至った。即ち、本発明によれば、カ
チオン性デキストランを含有することを特徴とする口腔
用組成物が提供される。
【０００５】
【発明の実施の形態】本発明の口腔用組成物はカチオン
性デキストランを含有することを特徴とする。本発明で
用いるカチオン性デキストランは、デキストラン分子中
にカチオン性基を導入した構造のものである。この場合
のカチオン性基には、置換又は未置換のアンモニウム基
が包含される。本発明で好ましく用いられるカチオン性
デキストランは、下記構造式で表されるものである。
性デキストランを含有することを特徴とする。本発明で
用いるカチオン性デキストランは、デキストラン分子中
にカチオン性基を導入した構造のものである。この場合
のカチオン性基には、置換又は未置換のアンモニウム基
が包含される。本発明で好ましく用いられるカチオン性
デキストランは、下記構造式で表されるものである。
【化１】 前記式（１）において、Ｒは第４級アンモニウム基を含
有する基又は水素原子を示し、そのＲの少なくとも一部
は第４級アンモニウム基を含有する基である。ｎは重合
度を示す。前記第４級アンモニウム基を含有する基とし
ては、次の一般式（２）で表されるものを挙げることが
できる。
有する基又は水素原子を示し、そのＲの少なくとも一部
は第４級アンモニウム基を含有する基である。ｎは重合
度を示す。前記第４級アンモニウム基を含有する基とし
ては、次の一般式（２）で表されるものを挙げることが
できる。
【化２】 前記式中、Ｒ1、Ｒ2及びＲ3は同一又は異なっていても
よく、低級アルキル基を示し、Ｘは陰イオンを示す。前
記低級アルキル基において、その炭素数は１〜６、好ま
しくは１〜３である。このような低級アルキル基には、
メチル、エチル、プロピル、ブチル等が挙げられるが、
好ましくはメチルである。前記陰イオンは、カチオン性
窒素（Ｎ+）の対イオンを形成するもので、このような
陰イオンには、塩素イオンや臭素イオン等のハロゲンイ
オンの他、その他の無機酸イオンや有機酸イオンが包含
される。好ましい陰イオンは塩素イオン（Ｃｌ-）であ
る。
よく、低級アルキル基を示し、Ｘは陰イオンを示す。前
記低級アルキル基において、その炭素数は１〜６、好ま
しくは１〜３である。このような低級アルキル基には、
メチル、エチル、プロピル、ブチル等が挙げられるが、
好ましくはメチルである。前記陰イオンは、カチオン性
窒素（Ｎ+）の対イオンを形成するもので、このような
陰イオンには、塩素イオンや臭素イオン等のハロゲンイ
オンの他、その他の無機酸イオンや有機酸イオンが包含
される。好ましい陰イオンは塩素イオン（Ｃｌ-）であ
る。
【０００６】前記一般式（２）で表される第４級アンモ
ニウム基を有するカチオン性デキストランは、デキスト
ラン（前記一般式（１）において、Ｒ＝Ｈ）に対し、下
記一般式（３）又は（４）で表される化合物を反応させ
ることによって製造することができる。
ニウム基を有するカチオン性デキストランは、デキスト
ラン（前記一般式（１）において、Ｒ＝Ｈ）に対し、下
記一般式（３）又は（４）で表される化合物を反応させ
ることによって製造することができる。
【化３】 （式中、Ｘは前記と同じ意味を有する）
【化４】 （式中、Ｙはハロゲン原子を示し、Ｘは前記と同じ意味
を有する）
を有する）
【０００７】前記の反応において、その原料として用い
るデキストランの分子量は、数平均分子量で、３千〜５
００万であることが好ましく、より好ましくは１万〜１
００万である。本発明で用いるカチオン性デキストラン
において、そのカチオン性窒素原子の含有量は、カチオ
ン性デキストランに含まれる窒素原子の重量％で、０．
５〜８％、好ましくは１〜４％である。
るデキストランの分子量は、数平均分子量で、３千〜５
００万であることが好ましく、より好ましくは１万〜１
００万である。本発明で用いるカチオン性デキストラン
において、そのカチオン性窒素原子の含有量は、カチオ
ン性デキストランに含まれる窒素原子の重量％で、０．
５〜８％、好ましくは１〜４％である。
【０００８】前記カチオン性デキストランは、既に各糖
産業（株）から商品名「カチオン化デキストランＣＤＣ
−Ｌ」、「カチオン化デキストランＣＤＣ」、「カチオ
ン化デキストランＣＤＣ−Ｈ」、「カチオン化デキスト
ランＣＤＣ−３Ｍ」等として販売されており、本発明で
はそれらの販売品をそのまま使用することができる。
産業（株）から商品名「カチオン化デキストランＣＤＣ
−Ｌ」、「カチオン化デキストランＣＤＣ」、「カチオ
ン化デキストランＣＤＣ−Ｈ」、「カチオン化デキスト
ランＣＤＣ−３Ｍ」等として販売されており、本発明で
はそれらの販売品をそのまま使用することができる。
【０００９】本発明の口腔用組成物は、前記カチオン性
デキストランとともに、その助剤として、有機酸及びそ
の水溶性塩の中から選ばれる少なくとも１種を含有する
のが好ましい。この場合の有機酸の例としては、クエン
酸、リンゴ酸、マロン酸、マレイン酸、コハク酸、没食
子酸、グルコン酸、ニコチン酸、タンニン酸、シュウ
酸、Ｌ−アスコルビン酸、酒石酸、安息香酸、サリチル
酸、グリーコール酸などが挙げられ、また、これらの水
溶性塩としてはナトリウム、カリウム、マグネシュウ
ム、アンモニュウム塩などが挙げられる。それらの有機
酸又はその水溶性塩を助剤として添加することにより、
微生物の歯牙表面への付着抑制効果をさらに高めること
ができる。
デキストランとともに、その助剤として、有機酸及びそ
の水溶性塩の中から選ばれる少なくとも１種を含有する
のが好ましい。この場合の有機酸の例としては、クエン
酸、リンゴ酸、マロン酸、マレイン酸、コハク酸、没食
子酸、グルコン酸、ニコチン酸、タンニン酸、シュウ
酸、Ｌ−アスコルビン酸、酒石酸、安息香酸、サリチル
酸、グリーコール酸などが挙げられ、また、これらの水
溶性塩としてはナトリウム、カリウム、マグネシュウ
ム、アンモニュウム塩などが挙げられる。それらの有機
酸又はその水溶性塩を助剤として添加することにより、
微生物の歯牙表面への付着抑制効果をさらに高めること
ができる。
【００１０】本発明の口腔用組成物へのカチオン性デキ
ストランの配合量は、組成物全体の０．００５乃至２．
０重量％、特に０．０１乃至０．５重量％が好ましく、
０．００５重量％未満では十分な効果が得られない場合
があり、２．０重量％を超えると粘度が上昇し組成物へ
の配合が困難となる。また、その助剤としての有機酸又
はその水溶性塩の配合量は、酸として組成物全体の０．
００５乃至１０重量％、特に０．０１乃至５重量％が好
ましく、０．００５重量％未満では十分な効果向上が得
られない場合があり、１０重量％以上では溶解性に問題
を生じる。
ストランの配合量は、組成物全体の０．００５乃至２．
０重量％、特に０．０１乃至０．５重量％が好ましく、
０．００５重量％未満では十分な効果が得られない場合
があり、２．０重量％を超えると粘度が上昇し組成物へ
の配合が困難となる。また、その助剤としての有機酸又
はその水溶性塩の配合量は、酸として組成物全体の０．
００５乃至１０重量％、特に０．０１乃至５重量％が好
ましく、０．００５重量％未満では十分な効果向上が得
られない場合があり、１０重量％以上では溶解性に問題
を生じる。
【００１１】前記カチオン性デキストランと有機酸又は
その水溶性塩との配合割合は適宜選定されるが、両者の
合計量に対して、カチオン性デキストランは０．５〜９
９．５重量％、特に５〜９５重量％、有機酸又はその水
溶性塩は９９．５〜０．５重量％、特に９５〜５重量％
とすることが好ましい。
その水溶性塩との配合割合は適宜選定されるが、両者の
合計量に対して、カチオン性デキストランは０．５〜９
９．５重量％、特に５〜９５重量％、有機酸又はその水
溶性塩は９９．５〜０．５重量％、特に９５〜５重量％
とすることが好ましい。
【００１２】本発明の口腔用組成物は、前記成分以外に
その剤型に応じて適宜な任意成分を配合することができ
る。具体的には、練り歯磨き等の歯磨類の場合には、研
磨剤として、結晶質シリカ、非晶質シリカ、その他のシ
リカ系研磨剤、アルミノシリケート、酸化アルミニウ
ム、水酸化アルミニウム、不溶性メタリン酸ナトリウ
ム、不溶性メタリン酸カリウム、酸化チタン、第２リン
酸カルシウム・２水和物、重質炭酸カルシウム、軽質炭
酸カルシウム等を、また粘結剤として、カルボキシメチ
ルセルロース、メチルセルロース、ヒドロキシメチルセ
ルロース、カルボキシメチルヒドロキシメチルセルロー
スナトリウム等のセルロース誘導体、ポリビニルアルコ
ール、ポリビニルピロリドン等の合成粘結剤、ゲル化性
シリカ、ゲル化アルミニウムシリカ、ビーガント、ラポ
ナイト等の無機粘結剤等を、さらに粘稠剤として、ソル
ビット、グリセリン、エチレングリコール、プロピレン
グリコール、１，３−ブチレングリコール、ポリエチレ
ングリコール、ポリプロピレングリコール、キシリッ
ト、マルチット、ラクチット等を配合することができ
る。この場合、研磨剤の配合量は３〜９９重量％、粘結
剤の配合量は０．５〜１０重量％、そして粘稠剤の配合
量は１〜５０重量％である。
その剤型に応じて適宜な任意成分を配合することができ
る。具体的には、練り歯磨き等の歯磨類の場合には、研
磨剤として、結晶質シリカ、非晶質シリカ、その他のシ
リカ系研磨剤、アルミノシリケート、酸化アルミニウ
ム、水酸化アルミニウム、不溶性メタリン酸ナトリウ
ム、不溶性メタリン酸カリウム、酸化チタン、第２リン
酸カルシウム・２水和物、重質炭酸カルシウム、軽質炭
酸カルシウム等を、また粘結剤として、カルボキシメチ
ルセルロース、メチルセルロース、ヒドロキシメチルセ
ルロース、カルボキシメチルヒドロキシメチルセルロー
スナトリウム等のセルロース誘導体、ポリビニルアルコ
ール、ポリビニルピロリドン等の合成粘結剤、ゲル化性
シリカ、ゲル化アルミニウムシリカ、ビーガント、ラポ
ナイト等の無機粘結剤等を、さらに粘稠剤として、ソル
ビット、グリセリン、エチレングリコール、プロピレン
グリコール、１，３−ブチレングリコール、ポリエチレ
ングリコール、ポリプロピレングリコール、キシリッ
ト、マルチット、ラクチット等を配合することができ
る。この場合、研磨剤の配合量は３〜９９重量％、粘結
剤の配合量は０．５〜１０重量％、そして粘稠剤の配合
量は１〜５０重量％である。
【００１３】本発明の口腔用組成物には、界面活性剤を
本発明の目的を特に妨げない範囲で添加することができ
る。この場合の界面活性剤としては、ラウリル硫酸ナト
リウム、ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム、α−
スルホ脂肪酸アルキルエステル・ナトリウムなどのアニ
オン性界面活性剤、ショ糖脂肪酸エステル、ポリオキシ
エチレン硬化ヒマシ油、ポリグリセリン脂肪酸エステ
ル、アルキルグリコシド類、ソルビタン脂肪酸エステ
ル、ポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸エステル、ア
ルキルジメチルアミンオキシドなどの非イオン性界面活
性剤、アルキルジメチルアミノ酢酸ベタイン、脂肪酸ア
ミドプロピルジメチルアミノ酢酸ベタインなどの酢酸ベ
タイン型両性界面活性剤、Ｎ−脂肪酸アシル−Ｎ−カル
ボキシメチル−Ｎ−ヒドロキシエチルエチレンジアミン
塩などのイミダゾリン型両性界面活性剤が挙げられる。
本発明の目的を特に妨げない範囲で添加することができ
る。この場合の界面活性剤としては、ラウリル硫酸ナト
リウム、ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム、α−
スルホ脂肪酸アルキルエステル・ナトリウムなどのアニ
オン性界面活性剤、ショ糖脂肪酸エステル、ポリオキシ
エチレン硬化ヒマシ油、ポリグリセリン脂肪酸エステ
ル、アルキルグリコシド類、ソルビタン脂肪酸エステ
ル、ポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸エステル、ア
ルキルジメチルアミンオキシドなどの非イオン性界面活
性剤、アルキルジメチルアミノ酢酸ベタイン、脂肪酸ア
ミドプロピルジメチルアミノ酢酸ベタインなどの酢酸ベ
タイン型両性界面活性剤、Ｎ−脂肪酸アシル−Ｎ−カル
ボキシメチル−Ｎ−ヒドロキシエチルエチレンジアミン
塩などのイミダゾリン型両性界面活性剤が挙げられる。
【００１４】本発明の口腔用組成物としては、さらに各
種の任意成分を添加することができる。この場合の任意
成分としては、例えば、サッカリンナトリウム、ステビ
オサイド、ネオヘスペリジヒドロカルコン、グリチルリ
チン、ペリラルチン、タウマチン、アスパラチルフェニ
ルアラニンメチルエステル、ｐ−メトキシシンアミック
アルデヒド、ショ糖、果糖、サクラミン酸ナトリウム等
の甘味料、スペアミント油、ペパーミント油、ウインタ
ーグリーン油、サッサフラス油、チョウジ油、ユーカリ
油、セージ油、マヨナラ油、タイム油、レモン油、オレ
ンジ油、１−メントール、カルボン、アネトール、サリ
チル酸メチル等の香料、トリクロザン、塩化セチルピリ
ジニウム、塩化ベンザルコニウム、塩化ベンゼトニウム
等の殺菌剤、イプシロンアミノカプロン酸、トラネキサ
ム酸、デキストロナーゼ、アミラーゼ、プロテアーゼ、
ムタナーゼ、リゾチーム、溶菌酵素、リテックエンザイ
ム等の酵素、クロロヘキシジン塩類、ヒドロコレステロ
ール、グリチルレチン塩類、グリチルレチン酸、クロロ
フィガ、カロペプタイド、ビタミン類、アズレン、塩化
リゾチーム、歯石防止剤、歯垢防止剤、硝酸カリウム、
乳酸アルミニュウム等を挙げることができる。なお、こ
れらの任意成分の添加量は、本発明の目的を妨げない範
囲量とする。
種の任意成分を添加することができる。この場合の任意
成分としては、例えば、サッカリンナトリウム、ステビ
オサイド、ネオヘスペリジヒドロカルコン、グリチルリ
チン、ペリラルチン、タウマチン、アスパラチルフェニ
ルアラニンメチルエステル、ｐ−メトキシシンアミック
アルデヒド、ショ糖、果糖、サクラミン酸ナトリウム等
の甘味料、スペアミント油、ペパーミント油、ウインタ
ーグリーン油、サッサフラス油、チョウジ油、ユーカリ
油、セージ油、マヨナラ油、タイム油、レモン油、オレ
ンジ油、１−メントール、カルボン、アネトール、サリ
チル酸メチル等の香料、トリクロザン、塩化セチルピリ
ジニウム、塩化ベンザルコニウム、塩化ベンゼトニウム
等の殺菌剤、イプシロンアミノカプロン酸、トラネキサ
ム酸、デキストロナーゼ、アミラーゼ、プロテアーゼ、
ムタナーゼ、リゾチーム、溶菌酵素、リテックエンザイ
ム等の酵素、クロロヘキシジン塩類、ヒドロコレステロ
ール、グリチルレチン塩類、グリチルレチン酸、クロロ
フィガ、カロペプタイド、ビタミン類、アズレン、塩化
リゾチーム、歯石防止剤、歯垢防止剤、硝酸カリウム、
乳酸アルミニュウム等を挙げることができる。なお、こ
れらの任意成分の添加量は、本発明の目的を妨げない範
囲量とする。
【００１５】本発明の口腔用組成物には、口腔内に適用
される各種の製品が包含される。そのようなものとして
は、練歯磨、洗口剤、マウスウォッシュ、チューインガ
ム等が挙げられる。
される各種の製品が包含される。そのようなものとして
は、練歯磨、洗口剤、マウスウォッシュ、チューインガ
ム等が挙げられる。
【００１６】
【発明の効果】本発明の口腔用組成物は、歯面への微生
物の付着抑制効果に優れ、歯垢形成を効果的に阻止し得
るもので、口腔疾患の予防に有効に利用することが出来
る。
物の付着抑制効果に優れ、歯垢形成を効果的に阻止し得
るもので、口腔疾患の予防に有効に利用することが出来
る。
【００１７】
【実施例】以下、実験例及び実施例を示して本発明を具
体的に説明するが、本発明はそれらの実施例に制限され
るものではない。
体的に説明するが、本発明はそれらの実施例に制限され
るものではない。
【００１８】実験例１ 微生物による歯面での歯垢形成抑制実験として、表１に
示す成分を用い、人の唾液被覆ヒドロキシアパタイト板
上でのストレプトコッカス・サンギスＡＴＣＣ１０５５
８の付着抑制効果を下記方法で評価した。その結果を表
１に示す。 （１）歯のモデルとしてヒドロキシアパタイト片（旭光
学工業社製）を用い、人の濾過唾液に３７℃、２時間浸
漬した。 （２）表１に示すサンプルに３０分浸漬後、蒸留水で洗
浄した。 （３）ストレプトコッカス・サンギスをＯＤ550＝０．
２５で分散させた緩衝液（０．０５Ｍ ＫＣｌ、１ｍＭ
ＫＨ2ＰＯ4、ｌｍＭ ＣａＣｌ2、０．１ｍＭＭｇＣ
ｌ2）に３７℃、１８時間浸漬して菌を付着。 （４）蒸留水で洗浄後フクシン染色し、画像解析により
菌体付着面積を算出した。 （５）コントロールに対する菌付着抑制率を下記の式に
従って計算により求めた。
示す成分を用い、人の唾液被覆ヒドロキシアパタイト板
上でのストレプトコッカス・サンギスＡＴＣＣ１０５５
８の付着抑制効果を下記方法で評価した。その結果を表
１に示す。 （１）歯のモデルとしてヒドロキシアパタイト片（旭光
学工業社製）を用い、人の濾過唾液に３７℃、２時間浸
漬した。 （２）表１に示すサンプルに３０分浸漬後、蒸留水で洗
浄した。 （３）ストレプトコッカス・サンギスをＯＤ550＝０．
２５で分散させた緩衝液（０．０５Ｍ ＫＣｌ、１ｍＭ
ＫＨ2ＰＯ4、ｌｍＭ ＣａＣｌ2、０．１ｍＭＭｇＣ
ｌ2）に３７℃、１８時間浸漬して菌を付着。 （４）蒸留水で洗浄後フクシン染色し、画像解析により
菌体付着面積を算出した。 （５）コントロールに対する菌付着抑制率を下記の式に
従って計算により求めた。
【００１９】
【数式１】
【００２０】
【表１】
【００２１】前記表１に符号で示したカチオン化デキス
トラン（デキストラン塩化ヒドロキシプロピルトリメチ
ルアンモニウムエーテル）の具体的内容は以下の通りで
ある。 （１）ＣＤＣ−Ｈ カチオン性基：−ＣＨ2ＣＨ(ＯＨ)Ｎ+(ＣＨ3)3Ｃｌ-、
窒素含有量：約２．５％、数平均分子量（未カチオン化
デキストランの数平均分子量）：約１００万。 （２）ＣＤＣ カチオン性基：−ＣＨ2ＣＨ(ＯＨ)Ｎ+(ＣＨ3)3Ｃｌ-、
窒素含有量：約２．５％、数平均分子量（未カチオン化
デキストランの数平均分子量）：約４万。 （３）ＣＤＣ−Ｌ カチオン性基：−ＣＨ2ＣＨ(ＯＨ)Ｎ+(ＣＨ3)3Ｃｌ-、
窒素含有量：約２．７％、数平均分子量（未カチオン化
デキストランの数平均分子量）：約１万。
トラン（デキストラン塩化ヒドロキシプロピルトリメチ
ルアンモニウムエーテル）の具体的内容は以下の通りで
ある。 （１）ＣＤＣ−Ｈ カチオン性基：−ＣＨ2ＣＨ(ＯＨ)Ｎ+(ＣＨ3)3Ｃｌ-、
窒素含有量：約２．５％、数平均分子量（未カチオン化
デキストランの数平均分子量）：約１００万。 （２）ＣＤＣ カチオン性基：−ＣＨ2ＣＨ(ＯＨ)Ｎ+(ＣＨ3)3Ｃｌ-、
窒素含有量：約２．５％、数平均分子量（未カチオン化
デキストランの数平均分子量）：約４万。 （３）ＣＤＣ−Ｌ カチオン性基：−ＣＨ2ＣＨ(ＯＨ)Ｎ+(ＣＨ3)3Ｃｌ-、
窒素含有量：約２．７％、数平均分子量（未カチオン化
デキストランの数平均分子量）：約１万。
【００２２】表１の結果より、本発明のカチオン性デキ
ストランを含有する口腔用組成物は、歯牙表面への菌付
着を大きく低下させ、これにより歯垢形成を抑制し、腔
疾患の予防（う蝕予防及び歯周疾患予防）に有効な口腔
用組成物であることが確認された。
ストランを含有する口腔用組成物は、歯牙表面への菌付
着を大きく低下させ、これにより歯垢形成を抑制し、腔
疾患の予防（う蝕予防及び歯周疾患予防）に有効な口腔
用組成物であることが確認された。
【００２３】次に、各種口腔組成物についての具体的成
分組成を示す。 実施例１ 練歯磨 水酸化アルミニウム ４５重量％ ソルビット ２０ キシリトール １０ プルロニックＦ−１０８ ３．５ ポリオキシエチレン（６０）硬化ひまし油 ０．５ サッカリンナトリウム ０．１ プロピレングリコール ５ 香料 １．３ カチオン化デキストラン（ＣＤＣ−Ｈ） ０．５ 水 残量 ─────────────────────────────────── 計 １００．０重量％
分組成を示す。 実施例１ 練歯磨 水酸化アルミニウム ４５重量％ ソルビット ２０ キシリトール １０ プルロニックＦ−１０８ ３．５ ポリオキシエチレン（６０）硬化ひまし油 ０．５ サッカリンナトリウム ０．１ プロピレングリコール ５ 香料 １．３ カチオン化デキストラン（ＣＤＣ−Ｈ） ０．５ 水 残量 ─────────────────────────────────── 計 １００．０重量％
【００２４】 実施例２ 練歯磨 第２リン酸カルシウム・２水和物 ４０重量％ ソルビット ２０ グリセリン １０ ラウリル硫酸ナトリウム ０．９ サッカリンナトリウム ０．１ プロピレングリコール ５ 香料 １．３ モノフルオロリン酸ナトリウム ０．０５ トリクロサン ０．０５ カチオン化デキストラン（ＣＤＣ） １ グルコン酸ナトリウム １ 水 残量 ─────────────────────────────────── 計 １００．０重量％
【００２５】 実施例３ 練歯磨 シリカ ２０重量％ ソルビット ６０ プルロニックＦ−８８ ２ デカグリセリンモノラウレート １ サッカリンナトリウム ０．１５ プロピレングリコール ５ 香料 １．５ ポリビニルピロリドン ０．５ ＮａＦ ０．１ ポリオキシエチレングリコール＃４０００ ０．５ カチオン化デキストラン（ＣＤＣ−Ｈ） ０．５ トリクロサン ０．１ クエン酸３ナトリウム １ 水 残量 ─────────────────────────────────── 計 １００．０重量％
【００２６】 実施例５ 洗口剤 変性エタノール ７重量％ クエン酸 ０．０１ クエン酸３ナトリウム ０．３ サッカリンナトリウム ０．１ カチオン化デキストラン（ＣＤＣ−Ｈ） ０．０５ 香料 ０．５ グリセリン ５ キシリトール ５ 水 残量 ─────────────────────────────────── 計 １００．０重量％
【００２７】 実施例６ 洗口剤 エタノール １０重量％ サッカリンナトリウム ０．０５ 色素 ０．０１ 安息香酸ナトリウム ０．０５ 酸化防止剤 ０．０１ 香料 ０．３ プルロニック Ｆ１２７ ０．５ モノフルオロリン酸ナトリウム ０．０５ トリクロサン ０．０３ カチオン化デキストラン（ＣＤＣ−Ｈ） ０．０５ 水 残量 ─────────────────────────────────── 計 １００．０重量％
【００２８】 実施例７ マウスウォッシュ ９０％エタノール ２０重量％ プルロニック Ｆ１０８ ０．５ 香料 １．５ モノフルオロリン酸ナトリウム ０．０５ カチオン化デキストラン（ＣＤＣ） ０．０５ トリクロサン ０．０２ 水 残量 ─────────────────────────────────── 計 １００．０重量％
【００２９】 実施例８ チューインガム ガムベース ２０重量％ 香料 １ 水飴 ２０ キシリトール ３０ 粉糖 ２０ カチオン化デキストラン（ＣＤＣ） １ クエン酸３ナトリウム １．５ 水 残量 ─────────────────────────────────── 計 １００．０重量％
Claims (1)
- 【請求項１】 カチオン性デキストランを含有すること
を特徴とする口腔用組成物。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15217998A JPH11322555A (ja) | 1998-05-15 | 1998-05-15 | 口腔用組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15217998A JPH11322555A (ja) | 1998-05-15 | 1998-05-15 | 口腔用組成物 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11322555A true JPH11322555A (ja) | 1999-11-24 |
Family
ID=15534788
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15217998A Pending JPH11322555A (ja) | 1998-05-15 | 1998-05-15 | 口腔用組成物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11322555A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2021194806A1 (en) * | 2020-03-24 | 2021-09-30 | Dow Global Technologies Llc | Skin cleansing formulation |
| WO2021257786A1 (en) * | 2020-06-18 | 2021-12-23 | Nutrition & Biosciences USA 4, Inc. | Cationic poly alpha-1,6-glucan ethers and compositions comprising same |
| WO2023081341A1 (en) * | 2021-11-05 | 2023-05-11 | Nutrition & Biosciences USA 4, Inc. | Compositions comprising one cationic alpha- 1,6-glucan derivative and one alpha- 1,3-glucan |
-
1998
- 1998-05-15 JP JP15217998A patent/JPH11322555A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2021194806A1 (en) * | 2020-03-24 | 2021-09-30 | Dow Global Technologies Llc | Skin cleansing formulation |
| CN115461033A (zh) * | 2020-03-24 | 2022-12-09 | 陶氏环球技术有限责任公司 | 皮肤清洁制剂 |
| WO2021257786A1 (en) * | 2020-06-18 | 2021-12-23 | Nutrition & Biosciences USA 4, Inc. | Cationic poly alpha-1,6-glucan ethers and compositions comprising same |
| WO2023081341A1 (en) * | 2021-11-05 | 2023-05-11 | Nutrition & Biosciences USA 4, Inc. | Compositions comprising one cationic alpha- 1,6-glucan derivative and one alpha- 1,3-glucan |
| WO2023081346A1 (en) * | 2021-11-05 | 2023-05-11 | Nutrition & Biosciences USA 4, Inc. | Glucan derivatives for microbial control |
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