JPH11317093A - 修復可能半導体メモリ・デバイスでの冗長ワ―ド線置換のための方法および装置 - Google Patents

修復可能半導体メモリ・デバイスでの冗長ワ―ド線置換のための方法および装置

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JPH11317093A
JPH11317093A JP11077466A JP7746699A JPH11317093A JP H11317093 A JPH11317093 A JP H11317093A JP 11077466 A JP11077466 A JP 11077466A JP 7746699 A JP7746699 A JP 7746699A JP H11317093 A JPH11317093 A JP H11317093A
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キリハタ・トシアキ
John K Debrosse
ジョン・ケイ・デブロッス
Yoji Watanabe
陽二 渡辺
Hing Wong
ヒン・ウォン
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 半導体メモリ・デバイスを修復するための方
法および装置を提供すること。 【解決手段】 ノーマル真ワード線およびノーマル補ワ
ード線の対Ui、Ujを同時に置換するために、冗長真ワ
ード線および冗長補ワード線の対RUk、RU2からなる
行冗長置換配置を提供する。ワード線セレクタ回路50
6として実施され、冗長性制御論理508およびアドレ
ス入力510によって制御されるアドレス並べ換え方式
を用いて、修復を行う時に、冗長真(補)ワード線でノ
ーマル真(補)ワード線を置換できるようにする。この
冗長置換配置では、メモリ・デバイスがノーマル・モー
ドと冗長モードのどちらで動作しているかに無関係に、
ビット・マップの一貫性が常に維持されることが保証さ
れる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、全般的にはDRA
Mの設計に関し、具体的には、冗長要素を使用する時の
物理的スクランブルの一貫性を維持するための方法およ
び装置に関する。
【0002】
【従来の技術】通常、半導体メモリ・セル・アレイは、
行と列に配置された複数のメモリ・セルMCを含み、ビ
ット線対BL1/BL1バー(「バー」は補状態を表すも
のとする)、BL2/BL2バー、BL3/BL3バー、
…、BLm/BLmバーと交差する複数のワード線W
1、WL2、…、およびWLnを有する。通常の配置を
図1に示す。メモリ・セルは、ワード線WLと、複数の
ビット線対のビット線BLとの交点に置かれる。各メモ
リ・セルには、データを記憶するキャパシタと、スイッ
チング用のMOSトランジスタが含まれる。複数のセン
ス・アンプを含むセンス・アンプ・セクション2は、列
選択信号CSLに応答し、選択されたメモリ・セルとデ
ータ線対DL/DLバーの間でデータを転送する。
【0003】アドレス・バッファ(図示せず)は、外部
アドレス信号を受け取り、この信号は、行デコーダ4お
よび列デコーダ6によってデコードされる。行デコーダ
4は、ワード線選択信号RSLをワード線ドライバ8に
供給し、ワード線ドライバ8は、アドレス信号に従って
選択されたワード線を駆動する。列デコーダ6は、列選
択信号CSLをセンス・アンプ・セクション2に供給し
て、データ線DL、DLバーと、アドレッシングされた
信号に従って選択された列のBL、BLバーの間でデー
タ転送を行わせる。
【0004】図2は、図1に示された配置の一部の詳細
を示す図である。図2を参照すると、ワード線WL
iは、メモリ・セルMC1のMOSスイッチング・トラ
ンジスタQsのゲートに接続される。メモリ・セルMC
1のトランジスタQsが、ワード線WLiの信号によっ
てオンに切り替えられた時に、データ信号が、メモリ・
セルMC1のキャパシタCsとメモリ・セルMC1に接
続されたビット線BLjの間で転送される。読取動作の
際には、たとえば、図示されたビット線対のビット線B
jおよびBLjバーが、プリチャージ電圧1/2Vdd
までプリチャージされる(1/2Vddセンシング)。
同様に、ワード線WLjは、メモリ・セルMC2のMO
Sスイッチング・トランジスタQsのゲートに接続され
る。メモリ・セルMC2のトランジスタQsがワード線
WLjの信号によってオンに切り替えられた時に、デー
タ信号が、メモリ・セルMC2のキャパシタCsとメモ
リ・セルMC2に接続されたビット線BLjバーの間で
転送される。メモリ・セルのうちの1つに記憶されたデ
ータが、ビット線のうちの1つで読み取られる時には、
ビット線対のビット線BLjとBLjバーの間で電位差が
生成される。ビット線対BLj/BLjバーに接続された
ビット線センス・アンプSAは、この電位差を感知し、
増幅する。図2からわかるように、センス・アンプSA
には、ビット線BLjとBLjバーの間に接続されたCM
OSフリップ・フロップが含まれる。トランジスタQ
1、Q2、Q3およびQ4を含むCMOSフリップ・フ
ロップは、PMOSトランジスタQ11を介して電源V
ddに、NMOSトランジスタQ12を介してグラウン
ドVssに接続される。トランジスタQ11のゲートは
トリガ信号S0バー、Q12のゲートはトリガ信号S0
受け取る。データ信号は、列デコーダ6(図1)から入
出力ゲート・トランジスタQ5およびQ6に供給される
信号CSLjに応答して、列jが選択されている時にビ
ット線BLjとデータ線DLの間およびビット線BLj
ーとデータ線DLバーの間で転送される。
【0005】半導体メモリ・デバイスの容量が増えるに
つれて、デバイスに1つまたは複数の欠陥メモリ・セル
が含まれる可能性も高まる。この問題は、半導体メモリ
・デバイス製造プロセスの歩留まりに悪影響を及ぼす。
この問題に対処する技法の1つが、半導体メモリ・デバ
イス内に設けられる冗長メモリ・セルを使用して、デバ
イス・テスト中に欠陥であると判定されたメモリ・セル
を置換することである。したがって、欠陥メモリ・セル
が接続されたワード線またはビット線は、冗長メモリ・
セルに接続された冗長信号線によって置換される可能性
がある。欠陥メモリ・セルのアドレスは、冗長性制御回
路内のヒューズのうちの適切なヒューズを溶断すること
によってプログラミングすることができる。冗長メモリ
・セルは、欠陥メモリ・セルに対応するアドレスが入力
された時に選択される。
【0006】図3は、行冗長性を有する従来のダイナミ
ック・ランダム・アクセス・メモリ(DRAM)の一部
を示す図である。このようなメモリ配置は、Toshiaki K
irihata他に発行され本発明の譲受人に譲渡された米国
特許第5555212号明細書に記載されており、同明
細書は参照によって本明細書に組み込まれる。このメモ
リの部分には、メモリ・セルMC1、MC2および冗長
メモリ・セルRMC1が含まれる。メモリ・セルMC1
およびMC2は、それぞれデータ記憶キャパシタCsお
よび転送トランジスタQsによって形成される。冗長メ
モリ・セルRMC1は、データ記憶キャパシタCrおよ
び転送トランジスタQrによって形成される。メモリ・
セルMC1およびMC2の転送トランジスタQsのゲー
トは、それぞれワード線WLiまたはWLjに接続され
る。冗長メモリ・セルRMC1の転送トランジスタQr
のゲートは、冗長ワード線RDWLiに接続される。外
部アドレス信号は、アドレス・バッファ(図示せず)を
介して行デコーダに供給され、行デコーダは、ワード線
選択信号(RSLi、RSLjなど)を生成する。アドレ
ス・バッファは、アドレス信号を冗長性制御回路RRD
Nに転送する。RRDNは、ワード線駆動信号WDバー
および冗長ワード線駆動信号RDWD1バー、RDWD2
バー、…、RDWDiバー、…およびRDWDjバーを生
成する。WDは、ノーマル・ワード線上のメモリ・セル
がアクセスされる時にアクティブにされるが、RDWD
バーのうちの1つは、冗長ワード線上の冗長メモリ・セ
ルのうちの1つがアクセスされる時にアクティブにな
る。信号WDバーと、RDWD1バー、RDWD2バー、
…、およびRDWDjバーは、それぞれワード線ドライ
バWDRおよび冗長ワード線ドライバRWDRに転送さ
れる。ワード線ごとに、ワード線ドライバWDRが、A
NDゲートとして実装される。各ANDゲートでは、そ
れぞれのワード線選択信号RSLによってWDがゲーテ
ィングされる。ワード線WLiがワード線ドライバWD
Rによって駆動される時に、ビット線BLjを介してメ
モリ・セルMC1のデータ記憶キャパシタCsからデー
タを読み出すか書き込むことができる。同様に、ワード
線WLjがワード線ドライバWDRによって駆動される
時に、ビット線BLjバーを介してメモリ・セルMC2
のデータ記憶キャパシタCsからデータを読み出すか書
き込むことができる。冗長メモリ・セルRMC1は、メ
モリ・セルMC1またはMC2のいずれかが欠陥である
と判定された場合に、そのセルを置換することができ
る。しかし、冗長メモリ・セルRMC1がメモリ・セル
MC2を置換する場合、所与の論理データ・ビットを表
す、冗長メモリ・セルRMC1のキャパシタCrに記憶
される物理データは、同一の所与の論理データ・ビット
を表すメモリ・セルMC2のキャパシタCsに記憶され
た物理データに関して反転されることがわかる。一般
に、DRAMなどの半導体メモリ・セル・デバイスで
は、2つの論理状態が、メモリ・セル・アレイの配置お
よび構成に対応する。メモリ・セルの半数は、読み書き
されるデータの真の状態と等しく、残りの半数は、補の
状態に対応する。
【0007】欠陥メモリ・セルが検出され、冗長メモリ
・セルによって置換される時には、代用になる冗長メモ
リ・セルに所与のビットが記憶される際の物理データ状
態(すなわちビット・パターン)は、置換されるメモリ
・セルに所与のビットが記憶される際の物理データ状態
と異なる(すなわち反転される)可能性がある。
【0008】図4には、ワード線ドライバ20、ワード
線WLiを含むメモリ・セル・アレイ、冗長ワード線R
DWLjを含む冗長メモリ・セル・アレイおよびセンス
・アンプ30が示されている。この配置によれば、RD
WLjなどの冗長ワード線が、欠陥のあるワード線WLi
と置換される可能性がある。RDWLjでWLiを置換す
る時には、ワード線WLiに結合されたメモリ・セルの
物理データ状態とRDWLjに結合されたメモリ・セル
の物理データ状態が相補的なので、ビット情報が反転さ
れる。その結果、このアーキテクチャでは、元々の物理
的ビット情報を維持できない。その結果、半導体メモリ
・デバイスのテスト中に、たとえば冗長メモリ・セルを
含むすべてのメモリ・セルに物理1のデータを書き込む
ためには、メモリ・デバイスに論理1と論理0の両方の
データを供給しなければならない。同様に、冗長メモリ
・セルを含むすべてのメモリ・セルに物理0のデータを
書き込むためには、メモリ・デバイスに論理1と論理0
の両方のデータを供給しなければならない。したがっ
て、このような方式のテスト時間は長い。
【0009】この問題を克服するために成功裡に使用さ
れてきた従来の手法は、前述の米国特許第555521
2号明細書にさらに記載されているが、その手法では、
ビット・マップの矛盾が発生する時に、DL対のデータ
・パターンが操作される。たとえば、BLとDLをCS
Lに結合するWLjが、BLバーとDLバーをCSLに
結合するRDWLjに置換される時には、DLとDLバ
ーのデータ・パターンが交換される。対応するBLバー
に対して反転されたデータ・パターンが転送され、ビッ
ト・マップの一貫性を維持できるようになる。しかし、
この手法では、データ経路に論理を組み込む必要があ
り、その結果、列アクセス速度に対するかなりのペナル
ティが生じる。
【0010】
【発明が解決しようとする課題】したがって、本発明の
主目的は、DRAMをフォールト・トレラントにするこ
とである。
【0011】本発明のもう1つの目的は、アレイの一部
が冗長要素によって置換される場合に、DRAM内の物
理スクランブル能力を維持することである。
【0012】本発明のもう1つの目的は、列アクセス速
度に影響せずにビット・マップの一貫性を保証する冗長
アーキテクチャを提供することである。
【0013】本発明のもう1つの目的は、置換を必要と
する同数の真/補数(TC)副要素と、冗長要素の適当
なデコードとを有し、これによってデータ反転の必要を
なくす冗長要素を使用することである。
【0014】本発明のもう1つの目的は、DRAMにデ
ータを記憶し、DRAMからデータを取り出す時の電気
的な対応関係を維持するためのワード線アドレス交換を
提供することである。
【0015】本発明のより具体的な目的は、ビット・マ
ップの一貫性を保証することによってテスト時間を短縮
することである。
【0016】
【課題を解決するための手段】本発明による例示の半導
体デバイスには、行と列に配置されたメモリ・セルが含
まれ、このメモリ・セルには、ノーマル・メモリ・セル
と、ノーマル・メモリ・セルのうちの欠陥メモリ・セル
を置換するための冗長メモリ・セルが含まれる。ビット
線対がメモリ・セルに接続され、各ビット線対は、列の
うちの対応する1つのメモリ・セルにそれぞれ接続され
る第1ビット線および第2ビット線からなる。ワード線
には、それぞれが行のうちの対応する1つのノーマル・
メモリ・セルに接続される通常のワード線と、それぞれ
が行のうちの対応する1つの冗長メモリ・セルに接続さ
れる冗長ワード線が含まれる。
【0017】現在使用されている従来の単一WL置換と
は異なり、修復を行うために、少なくとも2本がBLお
よびBLバーに結合される複数のWLが、少なくとも2
本がBLおよびBLバーに結合される複数のRWLによ
って置換され、この置換は同時に行われる。ワード線ま
たは冗長ワード線のいずれかがイネーブルされた時に、
その線のアドレッシング・シーケンスを並べ換えるため
の回路が含まれる。アドレッシング・シーケンスは、矛
盾が発生した場合にビット・マップの一貫性を維持する
ために並べ換えられる。
【0018】本発明によれば、列アクセス速度のペナル
ティがなくなり、テスト時間が短縮されると同時に、元
々の物理データ情報が維持される。たとえば、NMOS
およびPMOSのアレイで物理1または物理0のどちら
かのデータだけがテストされるので、テスト時間を半分
に短縮できる。信号マージンのテスト時間も、基準セル
またはビット線により高い基準電圧またはより低い基準
電圧だけを印加することによって物理1または物理0の
データのマージンをテストできるので、半分に削減でき
る。
【0019】
【発明の実施の形態】下ではダイナミック・ランダム・
アクセス・メモリ(DRAM)に関して本発明を説明す
るが、本発明は、SRAM、ROM、EPROM、EE
PROM、フラッシュRAM、FRAM、CAMなどの
他の種類の半導体メモリ・デバイスにも拡張される。た
とえば、好ましい実施例では、ハーフピッチ非ツイスト
型ビット線を使用するDRAMに対処するが、その結論
は、ツイスト型ビット線または1/4ピッチ・レイアウ
トを有するものを含む、すべてのDRAMアーキテクチ
ャまたはメモリ・アーキテクチャにも拡張される。
【0020】図5は、それぞれが対応するワード線WL
およびビット線BLに結合されたメモリ・セル(MC)
500、ワード線ドライバ(WD)502、行デコーダ
(RDEC)504、ワード線選択回路(WLSEL)
506、それぞれが対応する冗長ワード線(RWL)お
よびビット線(BLまたはBLバー)に結合された冗長
メモリ・セル(RMC)501、冗長ワード線ドライバ
(RWD)503、行冗長性制御回路(RRDN)50
8、センス・アンプ(SA)509およびアドレス・バ
ッファ(ADDBUF)510を含む半導体メモリ・デ
バイス520を示す図である。列デコーダなどの列関連
回路、第2センス・アンプ、入出力回路は、この説明に
は関係がないので、図示しない。しかし、これらの回路
は、実際の設計実装には必要である。
【0021】修復を行うためには、それぞれBLまたは
BLバーに結合された2つのWL(ユニットUを形成す
る)を、それぞれBLまたはBLバーに結合された2つ
のRWL(冗長ユニットRUを形成する)に同時に置換
する。対WLi/WLi+1および対WLj/WLj+1は、ユ
ニットUiおよびUjを構成する。ここで、nが整数であ
るものとして、iは4n、jは4n+2である。同様
に、冗長ワード線RWL kおよびRWLk+1によって形成
される対とRWLlおよびRWLl+1によって形成される
対は、冗長ユニットRUkおよびRUlを構成する。ここ
で、nが整数であるものとして、kは4n、lは4n+
2である。
【0022】冗長置換を行う場合、以下の4つの事例の
うちの1つが適用可能である。 (1)RUkがUiを置換する (2)RUkがUjを置換する (3)RUlがUiを置換する (4)RUlがUjを置換する
【0023】以下の説明では、各ユニットU(またはR
U)内のWL(またはRWL)のアドレッシング・シー
ケンスが、WLnおよびWLn+1(ただし、Uの場合はn
=iまたはj、RUの場合はn=kまたはl)によって
制御されると仮定する。従来の置換を行う時には、従来
のアドレッシング・シーケンスで常時行われているよう
に、事例2で、RWLk(BLに結合される)がWL
j(BLバーに結合される)と置換され、RWLk+1(B
Lバーに結合される)がWLj+1(BLに結合される)
と置換される時に、ビット・マップの矛盾が発生する。
同様に、従来の置換を行う時には、事例3で、RWLl
(BLバーに結合される)がWLi(BLに結合され
る)と置換され、RWLl+1(BLに結合される)がW
i+1(BLバーに結合される)と置換される時に、ビ
ット・マップの矛盾が発生する。事例2および3で提示
された問題を克服するために、RU内のRWLアドレッ
シングを、置換の事例番号に従って並べ換える。具体的
に言うと、対応するユニットRU内のRWLのアドレッ
シング・シーケンスを、RWLnおよびRWLn+1からR
WLn+ 1およびRWLn(ただし、n=kまたはl)に並
べ換える。この並べ換えによって、事例2でRWLk+1
(BLバーに結合される)がWLj(BLバーに結合さ
れる)と置換され、RWLk(BLに結合される)がW
j+1(BLに結合される)と置換される場合であって
も、置換の完了時にビット・マップの矛盾の問題が克服
される。同様に、この並べ換えによって、事例3でRW
l+1(BLに結合される)がWLi(BLに結合され
る)と置換され、RWLl(BLバーに結合される)が
WLi+1(BLバーに結合される)と置換される場合で
あっても、置換の後にビット・マップの矛盾の問題が克
服される。
【0024】図5を参照すると、ADDBUF510
は、外部アドレス信号VADDと内部アドレス信号AD
Dを受け取り、これらの信号は、RDEC504、WL
SEL506およびRRDN508に供給される。RR
DN508は、冗長置換をイネーブルするためにADD
と所定のアドレスを比較する。ノーマル・モードの時
に、入力ADDが所定のアドレスと一致しない場合、ブ
ロックRRDNは信号WLEバーをアクティブにし、こ
れによってRDEC504とWLSEL506がイネー
ブルされる。RDEC504は、信号ADDをデコード
し、信号WDEバーをアクティブにし、この信号WDE
バーによって、WD502がイネーブルされる。WLS
EL506は、信号WLSEL0またはWLSEL1の
いずれかをアクティブにする。WLSEL0は、最下位
アドレス0がロウに切り替わった時にアクティブにされ
る。一方、WLSEL1は、最下位アドレス0がハイに
切り替わった時にアクティブにされる。
【0025】以下の説明では、信号WDEiバーがRD
EC504によってアクティブにされると仮定する。W
LSEL0がアクティブである時には、対応するWLi
が、その結果の信号WDEiバーの選択と、WD502
でのWLSEL0のアクティブ化とによってトリガされ
る。WLSEL1がアクティブである時には、対応する
WLi+1が、その結果の信号WDEiバーの選択とWLS
EL1のアクティブ化とによってアクティブにされる。
対応するWLの選択が行われた後に、SA509は、B
L対上の読取データを増幅し、そのデータは、通常の形
でデータ線DL対に転送される。しかし、ノーマル・モ
ードの時にはRWDEバーがイネーブルされないので、
RWLはアクティブにならない。
【0026】冗長モードの時には、入力ADDが所定の
アドレスと一致する場合に、RRDN508が信号RW
DEバーを生成し、これによってRWD503内の回路
のうちの1つがイネーブルされる。RWLEkバー(ま
たはRWLElバー)がRRDN508によってアクテ
ィブにされる時に、RWLEkバーは、修復ユニットR
kが置換物として使用される時にアクティブになる。
その代わりに、修復ユニットRUlが置換物として使用
される時には、RWLElバーがアクティブになる。こ
の例では、2つの冗長ユニットRUだけを説明したが、
この概念は、あらゆる個数のRUに適用可能である。
【0027】入力RWLEkバーまたはRWLElバーの
いずれかは、ワード線選択回路WLSELをイネーブル
する。この回路は、アドレス・シーケンシングの順序を
管理して、WLSEL0またはWLSEL1のいずれか
を並べ換えることによって、ビット・マップの一貫性を
保証する。ビット・マップの矛盾が発生しない時(たと
えば、事例1および事例4)には、当技術分野で一般的
に実践されているように、最下位アドレス0がロウに切
り替わった時にWLSEL0がアクティブにされ、最下
位アドレス0がハイに切り替わった時にWLSEL1が
アクティブにされる。
【0028】以下の議論では、修復ユニットRUkが置
換ユニットとして働くと仮定する。RRDN508は、
信号RWDEkバーおよびRWLEkバーをアクティブに
する。ワード線選択回路WLSELは、修復ユニットR
kに含まれるRWLkおよびRWLk+1のアドレス・シ
ーケンシングの順序を判定して、WLSEL0またはW
LSEL1のいずれかをアクティブにする。WLSEL
0がアクティブにされる時には、冗長ワード線RWLk
が、その結果のRWDEkバーの選択およびWLSEL
0のアクティブ化によってアクティブにされる。WLS
EL1がアクティブにされる時には、冗長ワード線RW
k+1が、その結果のRWDEkバーの選択およびWLS
EL1のアクティブ化によってアクティブにされる。R
WLが適当にアクティブにされた後に、SA509は、
BL対上の読取データを増幅し、そのデータは、当技術
分野で一般的に実践されているように、データ線DL対
に転送される。WD502は、WLEバーがアクティブ
ではないので動作しない。このため、アドレス入力(A
DD)に無関係にWLがディスエーブルされる。
【0029】図6は、メモリ・セル(MC)600、ワ
ード線ドライバ(WD)602、行デコーダ(RDE
C)604、冗長メモリ・セル(RMC)601、冗長
ワード線ドライバ(RWD)603、センス・アンプ
(SA)609、ワード線選択回路(WLSEL)60
6、行冗長性制御回路(RRDN)608およびアドレ
ス・バッファ(ADDBUF)610のゲート・レベル
の表現である。
【0030】RDEC604は、NANDゲートを使用
して構成されることが好ましい複数の行デコーダRDE
i、…、RDECjからなる。行デコーダRDECの入
力は、それぞれが異なるアドレスの組合せを有し、一意
のアドレス入力に従って、それに対応する1つのRDE
Cだけがアクティブになる。RRDN608には、2つ
の行冗長性制御回路RRDKkおよびRRDNlならびに
ワード線イネーブル・ジェネレータWLEGNが含まれ
る。
【0031】チップ620は、行アドレス・ストローブ
RASバーがロウに切り替わった時にアクティブにされ
る。RASバーは、ADDBUF610をイネーブル
し、信号ADDを駆動する。RASバーは、RRDN6
08もイネーブルする。ノーマル・モードでは、RRD
N608はWLEバーをアクティブにする。信号RWL
kバーおよびRWLElをハイにすることによって、冗
長動作がディスエーブルされる。RDEC604は、信
号WLEバーがロウに切り替わった時にオンになる。し
たがって、RDEC604内の対応する行冗長性制御回
路RDEC(すなわち、RDECiまたはRDECj)が
アクティブにされ、対応する出力信号WDEバー(すな
わち、WDEiバーまたはWDEjバー)がアクティブに
なる。それと同時に、WLSEL606が、WLSEL
0またはWLSEL1のいずれかをアクティブにする。
【0032】以下の説明では、WDEiバーがRDECi
によってアクティブにされ、WLSEL0がWLSEL
606によってオンになると仮定する。WD602を参
照すると、WDEiバーがCMOSワード線ドライバW
iのゲートに結合され、信号WLSELがCMOSワ
ード線ドライバWDiのPMOSソースに結合されてい
る結果として、対応するワード線WLiがオンになる。
信号RWDEkバーおよびRWDElバーはハイのままな
ので、RWLはオンにならない。
【0033】冗長モードでは、信号WLEバーがハイに
保持され、ADD入力の2進値に無関係にRDEC60
4がディスエーブルされる。その一方で、RRDN60
8は、RWD603のRWDEバーの1つすなわち、R
WDEkバーまたはRWDElバーをオンにする。ワード
線選択回路WLSELは、信号WLSEL0およびWL
SEL1のアクティビティ・シーケンシングを並べ換え
ることによって、各RU内のRWL選択のシーケンスを
変更する。たとえば、RWLkとRWLk+1からなるRU
kが、WLiとWLi+1からなるUiを置換する時には、信
号WLSEL0およびWLSEL1のアドレッシング順
序は、ノーマル・モードか冗長モードかに無関係に、ま
ずWLSEL0、次にWLSEL1になる。RWLk
RWLk+1からなるRUkが、WLjとWLj+1からなるU
jを置換する時には、信号WLSEL0およびWLSE
L1のアドレッシング順序は、冗長モードの時には、ま
ずWLSEL1、次にWLSEL0の順序に反転され
る。同様に、RWLlとRWLl +1からなるRUlが、W
iとWLi+1からなるUiを置換する時には、信号WL
SEL0およびWLSEL1のアドレッシング順序は、
冗長モードの時にはまずWLSEL1、次にWLSEL
0の順序に反転される。RWLlとRWLl+1からなるR
lが、WLjとWLj+1からなるUjを置換する時には、
信号WLSEL0およびWLSEL1のアドレッシング
順序は、ノーマル・モードか冗長モードかに無関係に、
まずWLSEL0、次にWLSEL1の順序に保たれ
る。冗長ワード線RWL(すなわち、RWLk、RWL
k+1、RWLlまたはRWLl+1)は、対応する信号RW
DEバー(RWDEjバーまたはRWDElバー)および
対応する信号WLSEL(WLSEL0またはWLSE
L1)の両方がアクティブの時に、RWD603によっ
てアクティブにされる。
【0034】図7は、図5および図6に示された回路の
一部の詳細を示す図であり、具体的には、入力として最
下位アドレスADD0およびADD1と信号WLEバ
ー、RWLEkバーおよびRWLElバーを使用するワー
ド線選択回路(WLSEL)700を示す図である。ノ
ーマル・モードの時には、信号WLEバーが論理0に切
り替えられ、RWLEkバーおよびRWLElバーがハイ
に保たれる。最下位アドレスADD0が論理0の時に
は、信号W0は、ゲート702によってアクティブにさ
れる。W0が論理1に切り替わった時に、ゲート720
がWLSEL0をアクティブにする。最下位アドレスA
DD0が1の時には、W1がゲート704によってアク
ティブにされる。W1が1に切り替わった時に、ゲート
722がWLSEL1をアクティブにする。ゲート71
2、714、716および718は、信号RWLEk
ーおよびRWLElバーが1に保たれる限り、ディスエ
ーブルされたままになる。信号WLSELのアドレッシ
ング・シーケンスは、ノーマル・モード時には、WLS
EL0から始まり、WLSEL1が続く。冗長モード時
には、WLEバーが論理1のままになり、ゲート702
および704がディスエーブルされる。その一方で、R
WLEkバーまたはRWLElバーのいずれかが0に切り
替わる。以下の説明では、RWLEkバーが0にシフト
することによって、ゲート712および714がイネー
ブルされると仮定する。ADD0とADD1の両方がロ
ウまたは両方がハイの時には、R0kがアクティブにな
る。ADD0がハイでADD1がロウ、または、ADD
0がロウでADD1がハイの時には、R 1kがアクティブ
になる。したがって、信号WLSELのアドレッシング
・シーケンスは、WLSEL0とWLSEL1について
前に説明したノーマル・モードのシーケンスと同一にな
るが、この場合、WLSEL0とWLSEL1の順序が
反転される。この並べ換えによって、冗長ユニットRU
kが、反転したビット・マップを有するユニットUjを置
換する場合であってもビット・マップの一貫性が保証さ
れる。同様に、RWLElバーがロウに切り替わった時
には、ゲート716および718がアクティブになる。
ADD0とADD1の両方がロウまたは両方がハイの時
には、R1lがアクティブになる。ADD0がハイでAD
D1がロウ、または、ADD0がロウでADD1がハイ
の時には、R0lがアクティブになる。したがって、信号
WLSELのアドレッシング・シーケンスは、WLSE
L1の次にWLSEL0になり、ノーマル・モードにつ
いて説明したWLSEL0およびWLSEL1の順序と
逆になる。この並べ換えによって、並べ換え方式を実施
しない場合に逆転したビット・マップを有するUiをR
lが置換する時でも、ビット・マップの一貫性が可能
になる。
【0035】図8は、行冗長性制御回路RRDNのゲー
ト・レベルの概略図である。行冗長性ブロック800
は、行冗長性制御回路であるRRDNk810、RRD
l820およびワード線イネーブル・ジェネレータ
(WLEGN)830からなる。RRDNは、複数のヒ
ューズ・ラッチ(FLAT)814と、NANDゲート
812からなる。各FLAT814は、アドレス入力A
DDと、欠陥アドレスを識別する事前にプログラミング
されたアドレスを比較する。これらが一致する時には、
FADDの出力が論理1に切り替わる。そうでない場合
には、FADDの出力はロウのままになる。信号RAS
バーがロウに切り替わった時に、NANDゲート812
がイネーブルされる。信号RASバーが論理0に切り替
わった時にRRDNk810の信号FADDのすべてが
論理1の場合に、RRDNk810がRWDEkバーをア
クティブにする。RWDEkバーは、ゲート834によ
って駆動され、したがって、RWLEkバーがアクティ
ブになる。WLEバーは、ハイのままになる。というの
は、WLEバーが遅延RASバーによってイネーブルさ
れた時にRWDEkバーが論理0であり、これによって
NANDゲート832がディスエーブルされるからであ
る。同様に、RASバーがロウに切り替わった時にRR
DNl820の信号FADDのすべてが論理1の場合に
は、RRDNl820がRWDElバーをアクティブにす
る。RWDElバーは、ゲート834によって駆動さ
れ、RWLElバーがアクティブになる。WLEバー
は、遅延RASバーによてイネーブルされる時に、RW
DElバーが論理0のままであり、NANDゲート83
2がディスエーブルされるので、論理1のままになる。
少なくとも1つのアドレス入力が、事前にプログラミン
グされたアドレスと一致しない場合には、FLATは、
FADDの出力をロウ電位に保ち、RWDEバー(すな
わちRWDEkバーまたはRWDElバー)をハイのまま
にする。RWDEkバーとRWDElバーの両方がハイの
ままである場合、RWLEkバーとRWLElバーも、ハ
イのまま、すなわち、ノーマル・モードの動作になる。
NANDゲート832は、遅延RASバーが0に切り替
わった時にWLEバーを0にする。
【0036】図9は、FLATのゲート・レベルの概略
図である。チップに電力が供給されている時、ノードN
1は、FPUPバーとFPUNがロウの時にPMOSに
よってプル・アップされる。FPUPバーとFPUN
は、ハイに切り替わった時に、PMOS904をディス
エーブルし、NMOS906をイネーブルする。ヒュー
ズ902が破断されていない場合、ノードN1は放電し
てロウになる。ヒューズ902が破断されている場合、
ノードN1はハイのままになる。インバータ908に関
連する信号N1および反転信号N2は、CMOSのパッ
シング・ゲート910および912に結合される。N1
がロウ、N2がハイ(ヒューズが溶断されていない)の
時には、パッシング・ゲート912がオープンし、イン
バータ914に関連して反転された信号ADDが出力F
ADDに結合される。N1がハイ、N2がロウすなわ
ち、ヒューズが溶断されている時には、パッシング・ゲ
ート910がオープンし、信号ADDが出力FADDに
結合される。出力FADDの極性は、信号ADDと、事
前にプログラミングされたヒューズの状態によって決定
され、冗長一致検出を得ることが可能になっている。
【0037】図10を参照すると、回路WLSELの第
2の実施例が示されている。WLSELのこの実施例に
使用されているアレイ構成は、図6に示されたものと同
一である。
【0038】図10では、動作モードに無関係に、すな
わち、ノーマル・モードであっても冗長モードであって
も、WLSEL0とWLSEL1が並べ換えられる。図
7に示された第1の実施例とは異なって、Uj内のアド
レッシング・シーケンスはWLj+1からWLjの順に反転
される。同様に、RUlのアドレッシング・シーケンス
も、RWLl+1からRWLlに反転される。Ui内のアド
レッシング・シーケンスは、前に述べたものと同一のW
iからWLi+1の順である。同様に、RUk内のアドレ
ッシング・シーケンスは、前の事例と同一のRWLk
らRWLk+1の順である。UjとRUlを並べかえること
によって、すべてのユニットUおよびRUで、検討中の
置換方式に関してビット・マップの一貫性を保証でき
る。
【0039】図10を参照すると、本発明の第2の実施
例を示すために、ワード線選択回路WLSELのゲート
・レベルの概略が示されている。ノーマル・モードの動
作では、WLEバーがロウに切り替わり、ゲート100
4および1006がイネーブルされる。ADD0および
ADD1の両方がロウまたは両方がハイの時には、ゲー
ト1002からの出力がロウのままになり、ゲート10
04がアクティブになる。信号W0がハイに切り替わ
り、WLSEL0がアクティブになる。ADD0がロウ
でADD1がハイ、または、ADD0がハイでADD1
がロウの時には、ゲート1002からの出力がハイに切
り替わり、ゲート1006がアクティブになる。W1が
ハイに切り替わり、WLSEL1がアクティブになる。
冗長モードの動作では、RWLEkバーまたはRWLEl
バーのいずれかがロウに切り替わる。信号RWLEk
ーがロウに切り替わる時には、ゲート1010および1
012がアクティブになる。ADD0がロウに戻った時
に、ゲート1010がR0kをアクティブにする。R0k
ハイに切り替わると、ゲート1020がアクティブにな
り、WLSEL0がイネーブルされる。ADD0がハイ
の時には、ゲート1012が信号R1kをアクティブにす
る。R1kがハイに切り替わると、ゲート1022がアク
ティブになり、これによってWLSEL1がアクティブ
になる。RWLElバーがロウに切り替わった時には、
ゲート1014および1016がイネーブルされる。A
DD0がロウの時には、ゲート1014がR1lをアクテ
ィブにする。R1lがハイに切り替わると、ゲート102
2がアクティブになり、これによってWLSEL1がア
クティブになる。ADD0がハイの時には、ゲート10
16がR0lをアクティブにする。R0lがハイに切り替わ
ると、ゲート1020がアクティブになり、WLSEL
0がアクティブになる。
【0040】本発明のもう1つの実施例では、動作モー
ドに無関係に、すなわち、ノーマル・モードであっても
冗長モードであっても、WLSEL0とWLSEL1を
ブロックWDおよびRWDに再配線することによって、
同一のビット・マップが実施される。第1および第2の
実施例とは異なって、WDiおよびRWDkは、WLSE
L1に結合され、WDi+1およびRWDk+1は、WLSE
L0に結合される。
【0041】図11は、回路WLSELの第1および第
2の実施例を説明するのに使用された図6に示されたも
のに類似のアレイ構成の詳細を示す図であるが、WLS
EL0はWDi+1およびWDjに結合され、WLSEL1
はWDiおよびWDj+1に結合されている。同様に、WL
SEL0は、RWDk+1およびRWDlに結合され、WL
SEL1は、RWDkおよびRWDl+1に結合される。こ
の再配線によって、WLSEL0とWLSEL1のシー
ケンスを並べ換えずにビット・マップの一貫性を達成す
ることが可能になる。
【0042】図12は、WLSEL0とWLSEL1の
シーケンスを制御するためのWLSELのゲート・レベ
ルの表現を示す図である。ノーマル・モードでも冗長モ
ードでも、信号WLEバー、RWLEkバーまたはRW
LElバーのうちの1つがロウに切り替わった時に、ゲ
ート1202がターン・オンし、これによって、ゲート
1204および1206がイネーブルされる。ADD0
が0の時には、WLSEL0が1になる。ADD0が1
の時には、WLSEL1が1になる。
【0043】説明を簡単にするために、2つのRUユニ
ット(すなわち、RUkとRUl)だけが存在すると仮定
してきたが、これは必須条件ではない。たとえば、4つ
のRU(RUk、RUl、RUm、RUn)を制御するため
には、対応するRWDEバー(RWDEkバー、RWD
lバー、RWDEmバー、RWDEnバー)を設計する
必要がある。RWLEkバーは、RUkとRUmを制御
し、RWLElバーは、RU lとRUnを制御する。
【0044】本発明の具体的な実施例を説明してきた
が、基礎となる発明の趣旨および範囲から逸脱せずに、
ワード線とビット線の交換、本明細書でワード線に関し
て説明した冗長性に関する類似の配置へのデータ線の適
応などの変更を行うことができるので、当業者は、本発
明がこの実施例に制限されないことを理解するであろ
う。
【0045】まとめとして、本発明の構成に関して以下
の事項を開示する。
【0046】(1)ノーマル・メモリ・セルと前記ノー
マル・メモリ・セルのうちの欠陥メモリ・セルを置換す
るための冗長メモリ・セルとを含む、行と列に配置され
たメモリ・セルと、各対が、前記列のうちの対応する列
の真データを記憶するためのメモリ・セルに接続された
第1ビット線および前記対応する列の補データを記憶す
るためのメモリ・セルに接続された第2ビット線からな
る、前記メモリ・セルに接続された複数のビット線対
と、前記行のうちの対応する行のノーマル・メモリ・セ
ルにそれぞれ接続された複数のノーマル・ワード線と、
前記行のうちの対応する行の冗長メモリ・セルにそれぞ
れ接続された複数の冗長ワード線とを含み、前記ノーマ
ル・ワード線が、前記ビット線対の前記第1ビット線に
接続される真データを記憶するための第1ノーマル・メ
モリ・セルを選択するための第1ノーマル・ワード線
と、前記ビット線対の前記第2ビット線に接続される補
データを記憶するための第2ノーマル・メモリ・セルを
選択するための第2ノーマル・ワード線とを含み、前記
冗長ワード線が、前記ビット線対の前記第1ビット線に
接続される真データを記憶するための第1冗長メモリ・
セルを選択するための第1冗長ワード線と、前記ビット
線対の前記第2ビット線に接続される補データを記憶す
るための第2冗長メモリ・セルを選択するための第2冗
長ワード線とを含む、ワード線とを含み、前記第1ノー
マル・ワード線が、同一の数の前記第1冗長ワード線に
よって置換され、前記第1ノーマル・ワード線の順序付
けが、前記第1冗長ワード線の順序付けと独立であり、
前記第2ノーマル・ワード線が、同一の数の前記第2冗
長ワード線によって置換され、前記第2ノーマル・ワー
ド線の順序付けが、前記第2冗長ワード線の順序付けと
独立である半導体メモリ・デバイス。 (2)前記第1ノーマル・ワード線および前記第2ノー
マル・ワード線が、同時に置換される、上記(1)に記
載の半導体メモリ・デバイス。 (3)さらに、前記第1冗長ワード線および前記第2冗
長ワード線の前記順序付けを実行する時に、ビット・マ
ップの一貫性を維持するための手段を含む、上記(1)
に記載の半導体メモリ・デバイス。 (4)前記ビット・マップの一貫性を維持するための前
記手段が、デコード手段を含み、前記デコード手段が、
前記ワード線のアドレッシング・シーケンスを並べ換え
ることによって、前記ビット・マップの前記一貫性を達
成する、上記(3)に記載の半導体メモリ・デバイス。 (5)前記デコード手段が、セレクタ回路を含み、前記
セレクタ回路が、ワード線イネーブル信号、少なくとも
1つの冗長ワード線イネーブル信号および少なくとも1
つのアドレス入力に応答し、前記セレクタ回路が、少な
くとも2つのワード線選択信号を生成する、上記(4)
に記載の半導体メモリ・デバイス。 (6)前記ワード線イネーブル信号および前記冗長ワー
ド線イネーブル信号が、冗長性制御回路によって制御さ
れ、前記冗長性制御回路が、冗長性一致検出論理を含
み、前記冗長性制御回路が、前記ワード線イネーブル信
号または前記冗長ワード線イネーブル信号のうちの1つ
のいずれかをアクティブにする、上記(5)に記載の半
導体メモリ・デバイス。 (7)前記冗長性一致検出論理が、複数のアドレス入力
を所定のアドレス入力と比較することによって制御され
る、上記(6)に記載の半導体メモリ・デバイス。 (8)前記アドレスおよび前記所定のアドレスの比較
が、ヒューズ・ラッチ回路によってイネーブルされる、
上記(7)に記載の半導体メモリ・デバイス。 (9)前記ヒューズ・ラッチが、少なくとも1つのヒュ
ーズからなり、前記ヒューズが、レーザー・プログラム
可能ヒューズ、電気的プログラム可能ヒューズおよびソ
フトウェア・プログラム可能ヒューズからなるグループ
から選択される、上記(8)に記載の半導体メモリ・デ
バイス。 (10)前記ワード線イネーブル信号が、複数の行デコ
ーダを制御し、前記行デコーダが、少なくとも1つのア
ドレスによってデコードされ、前記行デコーダが、ワー
ド線ドライバのうちの対応する1つをアクティブにす
る、上記(5)または(6)に記載の半導体メモリ・デ
バイス。 (11)前記ワード線ドライバが、さらに、前記ワード
線選択信号によってデコードされ、前記ワード線ドライ
バが、前記ワード線のうちの対応する1つをアクティブ
にする、上記(10)に記載の半導体メモリ・デバイ
ス。 (12)前記冗長ワード線イネーブル信号が、冗長ワー
ド線ドライバのうちの対応する1つをアクティブにす
る、上記(5)または(6)に記載の半導体メモリ・デ
バイス。 (13)前記ワード線ドライバが、さらに、前記ワード
線選択信号によってデコードされ、前記冗長ワード線ド
ライバが、前記冗長ワード線のうちの対応する1つをア
クティブにする、上記(12)に記載の半導体メモリ・
デバイス。 (14)前記ビット・マップの前記一貫性が、少なくと
も2つの選択信号線の配線によって達成され、前記少な
くとも2つの選択信号線のそれぞれが、対応するワード
線ドライバに結合され、前記ワード線ドライバが、前記
ワード線または前記冗長ワード線のうちの対応する1つ
をアクティブにする、上記(4)に記載の半導体メモリ
・デバイス。 (15)ノーマル・メモリ・セルと前記ノーマル・メモ
リ・セルのうちの欠陥メモリ・セルを置換するための冗
長メモリ・セルとを含む、行と列に配置されたメモリ・
セルと、各対が、前記列のうちの対応する列の真データ
を記憶するためのメモリ・セルに接続された第1ビット
線および前記対応する列の補データを記憶するためのメ
モリ・セルに接続された第2ビット線からなる、前記メ
モリ・セルに接続された複数のビット線対と、それぞれ
が前記行のうちの対応する行のノーマル・メモリ・セル
に接続された複数のノーマル・ワード線と、それぞれが
前記行のうちの対応する行の冗長メモリ・セルに接続さ
れた複数の冗長ワード線とを含み、前記ノーマル・ワー
ド線が、前記ビット線対の前記第1ビット線に接続され
る真データを記憶するための第1ノーマル・メモリ・セ
ルを選択するための第1ノーマル・ワード線と、前記ビ
ット線対の前記第2ビット線に接続される補データを記
憶するための第2ノーマル・メモリ・セルを選択するた
めの第2ノーマル・ワード線とを含み、前記冗長ワード
線が、前記ビット線対の前記第1ビット線に接続される
真データを記憶するための第1冗長メモリ・セルを選択
するための第1冗長ワード線と、前記ビット線対の前記
第2ビット線に接続される補データを記憶するための第
2冗長メモリ・セルを選択するための第2冗長ワード線
とを含む、ワード線とを含み、前記第1ノーマル・ワー
ド線が、同一の数の前記第1冗長ワード線によって置換
され、前記第1ノーマル・ワード線の順序付けが、前記
第1冗長ワード線の順序付けと独立であり、前記第2ノ
ーマル・ワード線が、同一の数の前記第2冗長ワード線
によって置換され、前記第2ノーマル・ワード線の順序
付けが、前記第2冗長ワード線の順序付けと独立であ
り、前記第1ノーマル・ワード線および前記第2ノーマ
ル・ワード線のアドレッシング・シーケンスの前記順序
付けを変更するためのアドレス順序付け手段を含む半導
体メモリ・デバイス。 (16)ノーマル・メモリ・セルと前記ノーマル・メモ
リ・セルのうちの欠陥メモリ・セルを置換するための冗
長メモリ・セルとを含む、行と列に配置されたメモリ・
セルと、各対が、前記列のうちの対応する列の真データ
を記憶するためのメモリ・セルに接続された第1ビット
線および前記対応する列の補データを記憶するためのメ
モリ・セルに接続された第2ビット線からなる、前記メ
モリ・セルに接続された複数のビット線対と、それぞれ
が前記行のうちの対応する行のノーマル・メモリ・セル
に接続された複数のノーマル・ワード線と、それぞれが
前記行のうちの対応する行の冗長メモリ・セルに接続さ
れた複数の冗長ワード線とを含み、前記ノーマル・ワー
ド線が、前記ビット線対の前記第1ビット線に接続され
る真データを記憶するための第1ノーマル・メモリ・セ
ルを選択するための第1ノーマル・ワード線と、前記ビ
ット線対の前記第2ビット線に接続される補データを記
憶するための第2ノーマル・メモリ・セルを選択するた
めの第2ノーマル・ワード線とを含み、前記冗長ワード
線が、前記ビット線対の前記第1ビット線に接続される
真データを記憶するための第1冗長メモリ・セルを選択
するための第1冗長ワード線と、前記ビット線対の前記
第2ビット線に接続される補データを記憶するための第
2冗長メモリ・セルを選択するための第2冗長ワード線
とを含む、ワード線とを含み、前記第1ノーマル・ワー
ド線が、同一の数の前記第1冗長ワード線によって置換
され、前記第1ノーマル・ワード線の順序付けが、前記
第1冗長ワード線の順序付けと独立であり、前記第2ノ
ーマル・ワード線が、同一の数の前記第2冗長ワード線
によって置換され、前記第2ノーマル・ワード線の順序
付けが、前記第2冗長ワード線の順序付けと独立であ
り、前記第1冗長ワード線および前記第2冗長ワード線
のアドレッシング・シーケンスの前記順序付けを変更す
るためのアドレス順序付け手段を含む半導体メモリ・デ
バイス。 (17)ノーマル・メモリ・セルと前記ノーマル・メモ
リ・セルのうちの欠陥メモリ・セルを置換するための冗
長メモリ・セルとを含む、行と列に配置されたメモリ・
セルと、各対が、前記列のうちの対応する列の真データ
を記憶するためのメモリ・セルに接続された第1ビット
線および前記対応する列の補データを記憶するためのメ
モリ・セルに接続された第2ビット線からなる、前記メ
モリ・セルに接続された複数のビット線対と、それぞれ
が前記行のうちの対応する行のノーマル・メモリ・セル
に接続された複数のノーマル・ワード線と、それぞれが
前記行のうちの対応する行の冗長メモリ・セルに接続さ
れた複数の冗長ワード線とを含み、前記ノーマル・ワー
ド線が、前記ビット線対の前記第1ビット線に接続され
る真データを記憶するための第1ノーマル・メモリ・セ
ルを選択するための第1ノーマル・ワード線と、前記ビ
ット線対の前記第2ビット線に接続される補データを記
憶するための第2ノーマル・メモリ・セルを選択するた
めの第2ノーマル・ワード線とを含み、前記冗長ワード
線が、前記ビット線対の前記第1ビット線に接続される
真データを記憶するための第1冗長メモリ・セルを選択
するための第1冗長ワード線と、前記ビット線対の前記
第2ビット線に接続される補データを記憶するための第
2冗長メモリ・セルを選択するための第2冗長ワード線
とを含む、ワード線とを含み、前記第1ノーマル・ワー
ド線が、同一の数の前記第1冗長ワード線によって置換
され、前記第1ノーマル・ワード線の順序付けが、前記
第1冗長ワード線の順序付けと独立であり、前記第2ノ
ーマル・ワード線が、同一の数の前記第2冗長ワード線
によって置換され、前記第2ノーマル・ワード線の順序
付けが、前記第2冗長ワード線の順序付けと独立であ
り、前記第1ノーマル・ワード線および前記第1冗長ワ
ード線と、前記第2ノーマル・ワード線および前記第2
冗長ワード線のアドレッシング・シーケンスの前記順序
付けを変更するためのアドレス順序付け手段を含む半導
体メモリ・デバイス。 (18)行と列に配置され、ビット線に接続されたメモ
リ・セルを有し、前記メモリ・セルが、ノーマル・メモ
リ・セルおよび冗長メモリ・セルを含み、前記ノーマル
・メモリ・セルが、第1ノーマル・ワード線および第2
ノーマル・ワード線に接続され、前記冗長メモリ・セル
が、第1冗長ワード線および第2冗長ワード線に接続さ
れる、半導体メモリ・デバイスを修復する方法におい
て、前記第1ノーマル・ワード線の順序付けが前記第1
冗長ワード線の順序付けと独立であることを保証しつ
つ、同一の数の前記第1冗長ワード線によって前記第1
ノーマル・ワード線を置換するステップと、前記第2ノ
ーマル・ワード線の順序付けが前記第2冗長ワード線の
順序付けと独立であることを保証しつつ、同一の数の前
記第2冗長ワード線によって前記第2ノーマル・ワード
線を置換するステップとを含み、前記第1ノーマル・ワ
ード線および前記第2ノーマル・ワード線が同時に置換
される方法。 (19)さらに、前記第1冗長ワード線および前記第2
冗長ワード線の前記順序付けを実行する時に、ビット・
マップの一貫性を維持するステップを含む、上記(1
8)の方法。
【図面の簡単な説明】
【図1】従来の半導体メモリ・アーキテクチャを示す図
である。
【図2】図1による従来の半導体メモリ・アーキテクチ
ャの詳細を示す図である。
【図3】行冗長性および行冗長性制御回路を有する従来
のDRAMの一部を示す図である。
【図4】従来の行冗長性アーキテクチャを示す図であ
る。
【図5】本発明による、冗長信号線置換配置を設けられ
たフォールト・トレラント半導体デバイスのメモリ・ア
レイ構成を示す図である。
【図6】NANDゲートを使用する、図5のフォールト
・トレラント・メモリ・デバイスの一部を詳細に示す図
である。
【図7】図5に示されたワード線選択回路WLSELの
ゲート・レベルの概略図である。
【図8】図5に示された行冗長性ブロックRRDNのゲ
ート・レベルの概略図である。
【図9】ヒューズ・ラッチ・アセンブリFLATのゲー
ト・レベルの概略図である。
【図10】図6に示されたビット・マップに類似したビ
ット・マップを使用する、ワード線選択回路WLSEL
の第2の実施例のゲート・レベルの概略図である。
【図11】ワード線選択回路WLSELの第3の実施例
のゲート・レベルの概略図である。
【図12】WLSEL0およびWLSEL1のシーケン
スを制御するワード線選択回路WLSELのゲート・レ
ベルの表現を示す図である。
【符号の説明】
500 メモリ・セル(MC) 501 冗長メモリ・セル(RMC) 502 ワード線ドライバ(WD) 503 冗長ワード線ドライバ(RWD) 504 行デコーダ(RDEC) 506 ワード線選択回路(WLSEL) 508 行冗長性制御回路(RRDN) 509 センス・アンプ(SA) 510 アドレス・バッファ(ADDBUF) 520 半導体メモリ・デバイス 600 メモリ・セル(MC) 601 冗長メモリ・セル(RMC) 602 WLドライバ(WD) 603 RWLドライバ(RWD) 604 行デコーダ(RDEC) 606 ワード線選択回路(WLSEL) 608 行冗長性制御回路(RRDN) 609 センス・アンプ(SA) 610 アドレス・バッファ(ADDBUF) 620 チップ
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 キリハタ・トシアキ アメリカ合衆国12603 ニューヨーク州ポ ーキープシー ミスティー・リッジ・サー クル 10 (72)発明者 ジョン・ケイ・デブロッス アメリカ合衆国05401 バーモント州バー リントン ホーム・アベニュー 59 (72)発明者 渡辺 陽二 神奈川県川崎市幸区堀川町580番1号 株 式会社東芝 半導体システム技術センター 内 (72)発明者 ヒン・ウォン アメリカ合衆国94041 カリフォルニア州 マウンテン・ビュー カルデロン・アベニ ュー 151 ナンバー38

Claims (19)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】ノーマル・メモリ・セルと前記ノーマル・
    メモリ・セルのうちの欠陥メモリ・セルを置換するため
    の冗長メモリ・セルとを含む、行と列に配置されたメモ
    リ・セルと、 各対が、前記列のうちの対応する列の真データを記憶す
    るためのメモリ・セルに接続された第1ビット線および
    前記対応する列の補データを記憶するためのメモリ・セ
    ルに接続された第2ビット線からなる、前記メモリ・セ
    ルに接続された複数のビット線対と、 前記行のうちの対応する行のノーマル・メモリ・セルに
    それぞれ接続された複数のノーマル・ワード線と、前記
    行のうちの対応する行の冗長メモリ・セルにそれぞれ接
    続された複数の冗長ワード線とを含み、前記ノーマル・
    ワード線が、前記ビット線対の前記第1ビット線に接続
    される真データを記憶するための第1ノーマル・メモリ
    ・セルを選択するための第1ノーマル・ワード線と、前
    記ビット線対の前記第2ビット線に接続される補データ
    を記憶するための第2ノーマル・メモリ・セルを選択す
    るための第2ノーマル・ワード線とを含み、前記冗長ワ
    ード線が、前記ビット線対の前記第1ビット線に接続さ
    れる真データを記憶するための第1冗長メモリ・セルを
    選択するための第1冗長ワード線と、前記ビット線対の
    前記第2ビット線に接続される補データを記憶するため
    の第2冗長メモリ・セルを選択するための第2冗長ワー
    ド線とを含む、ワード線とを含み、 前記第1ノーマル・ワード線が、同一の数の前記第1冗
    長ワード線によって置換され、前記第1ノーマル・ワー
    ド線の順序付けが、前記第1冗長ワード線の順序付けと
    独立であり、 前記第2ノーマル・ワード線が、同一の数の前記第2冗
    長ワード線によって置換され、前記第2ノーマル・ワー
    ド線の順序付けが、前記第2冗長ワード線の順序付けと
    独立である半導体メモリ・デバイス。
  2. 【請求項2】前記第1ノーマル・ワード線および前記第
    2ノーマル・ワード線が、同時に置換される、請求項1
    に記載の半導体メモリ・デバイス。
  3. 【請求項3】さらに、前記第1冗長ワード線および前記
    第2冗長ワード線の前記順序付けを実行する時に、ビッ
    ト・マップの一貫性を維持するための手段を含む、請求
    項1に記載の半導体メモリ・デバイス。
  4. 【請求項4】前記ビット・マップの一貫性を維持するた
    めの前記手段が、デコード手段を含み、前記デコード手
    段が、前記ワード線のアドレッシング・シーケンスを並
    べ換えることによって、前記ビット・マップの前記一貫
    性を達成する、請求項3に記載の半導体メモリ・デバイ
    ス。
  5. 【請求項5】前記デコード手段が、セレクタ回路を含
    み、前記セレクタ回路が、ワード線イネーブル信号、少
    なくとも1つの冗長ワード線イネーブル信号および少な
    くとも1つのアドレス入力に応答し、前記セレクタ回路
    が、少なくとも2つのワード線選択信号を生成する、請
    求項4に記載の半導体メモリ・デバイス。
  6. 【請求項6】前記ワード線イネーブル信号および前記冗
    長ワード線イネーブル信号が、冗長性制御回路によって
    制御され、前記冗長性制御回路が、冗長性一致検出論理
    を含み、前記冗長性制御回路が、前記ワード線イネーブ
    ル信号または前記冗長ワード線イネーブル信号のうちの
    1つのいずれかをアクティブにする、請求項5に記載の
    半導体メモリ・デバイス。
  7. 【請求項7】前記冗長性一致検出論理が、複数のアドレ
    ス入力を所定のアドレス入力と比較することによって制
    御される、請求項6に記載の半導体メモリ・デバイス。
  8. 【請求項8】前記アドレスおよび前記所定のアドレスの
    比較が、ヒューズ・ラッチ回路によってイネーブルされ
    る、請求項7に記載の半導体メモリ・デバイス。
  9. 【請求項9】前記ヒューズ・ラッチが、少なくとも1つ
    のヒューズからなり、前記ヒューズが、レーザー・プロ
    グラム可能ヒューズ、電気的プログラム可能ヒューズお
    よびソフトウェア・プログラム可能ヒューズからなるグ
    ループから選択される、請求項8に記載の半導体メモリ
    ・デバイス。
  10. 【請求項10】前記ワード線イネーブル信号が、複数の
    行デコーダを制御し、前記行デコーダが、少なくとも1
    つのアドレスによってデコードされ、前記行デコーダ
    が、ワード線ドライバのうちの対応する1つをアクティ
    ブにする、請求項5または6に記載の半導体メモリ・デ
    バイス。
  11. 【請求項11】前記ワード線ドライバが、さらに、前記
    ワード線選択信号によってデコードされ、前記ワード線
    ドライバが、前記ワード線のうちの対応する1つをアク
    ティブにする、請求項10に記載の半導体メモリ・デバ
    イス。
  12. 【請求項12】前記冗長ワード線イネーブル信号が、冗
    長ワード線ドライバのうちの対応する1つをアクティブ
    にする、請求項5または6に記載の半導体メモリ・デバ
    イス。
  13. 【請求項13】前記ワード線ドライバが、さらに、前記
    ワード線選択信号によってデコードされ、前記冗長ワー
    ド線ドライバが、前記冗長ワード線のうちの対応する1
    つをアクティブにする、請求項12に記載の半導体メモ
    リ・デバイス。
  14. 【請求項14】前記ビット・マップの前記一貫性が、少
    なくとも2つの選択信号線の配線によって達成され、前
    記少なくとも2つの選択信号線のそれぞれが、対応する
    ワード線ドライバに結合され、前記ワード線ドライバ
    が、前記ワード線または前記冗長ワード線のうちの対応
    する1つをアクティブにする、請求項4に記載の半導体
    メモリ・デバイス。
  15. 【請求項15】ノーマル・メモリ・セルと前記ノーマル
    ・メモリ・セルのうちの欠陥メモリ・セルを置換するた
    めの冗長メモリ・セルとを含む、行と列に配置されたメ
    モリ・セルと、 各対が、前記列のうちの対応する列の真データを記憶す
    るためのメモリ・セルに接続された第1ビット線および
    前記対応する列の補データを記憶するためのメモリ・セ
    ルに接続された第2ビット線からなる、前記メモリ・セ
    ルに接続された複数のビット線対と、 それぞれが前記行のうちの対応する行のノーマル・メモ
    リ・セルに接続された複数のノーマル・ワード線と、そ
    れぞれが前記行のうちの対応する行の冗長メモリ・セル
    に接続された複数の冗長ワード線とを含み、前記ノーマ
    ル・ワード線が、前記ビット線対の前記第1ビット線に
    接続される真データを記憶するための第1ノーマル・メ
    モリ・セルを選択するための第1ノーマル・ワード線
    と、前記ビット線対の前記第2ビット線に接続される補
    データを記憶するための第2ノーマル・メモリ・セルを
    選択するための第2ノーマル・ワード線とを含み、前記
    冗長ワード線が、前記ビット線対の前記第1ビット線に
    接続される真データを記憶するための第1冗長メモリ・
    セルを選択するための第1冗長ワード線と、前記ビット
    線対の前記第2ビット線に接続される補データを記憶す
    るための第2冗長メモリ・セルを選択するための第2冗
    長ワード線とを含む、ワード線とを含み、 前記第1ノーマル・ワード線が、同一の数の前記第1冗
    長ワード線によって置換され、前記第1ノーマル・ワー
    ド線の順序付けが、前記第1冗長ワード線の順序付けと
    独立であり、 前記第2ノーマル・ワード線が、同一の数の前記第2冗
    長ワード線によって置換され、前記第2ノーマル・ワー
    ド線の順序付けが、前記第2冗長ワード線の順序付けと
    独立であり、 前記第1ノーマル・ワード線および前記第2ノーマル・
    ワード線のアドレッシング・シーケンスの前記順序付け
    を変更するためのアドレス順序付け手段を含む半導体メ
    モリ・デバイス。
  16. 【請求項16】ノーマル・メモリ・セルと前記ノーマル
    ・メモリ・セルのうちの欠陥メモリ・セルを置換するた
    めの冗長メモリ・セルとを含む、行と列に配置されたメ
    モリ・セルと、 各対が、前記列のうちの対応する列の真データを記憶す
    るためのメモリ・セルに接続された第1ビット線および
    前記対応する列の補データを記憶するためのメモリ・セ
    ルに接続された第2ビット線からなる、前記メモリ・セ
    ルに接続された複数のビット線対と、 それぞれが前記行のうちの対応する行のノーマル・メモ
    リ・セルに接続された複数のノーマル・ワード線と、そ
    れぞれが前記行のうちの対応する行の冗長メモリ・セル
    に接続された複数の冗長ワード線とを含み、前記ノーマ
    ル・ワード線が、前記ビット線対の前記第1ビット線に
    接続される真データを記憶するための第1ノーマル・メ
    モリ・セルを選択するための第1ノーマル・ワード線
    と、前記ビット線対の前記第2ビット線に接続される補
    データを記憶するための第2ノーマル・メモリ・セルを
    選択するための第2ノーマル・ワード線とを含み、前記
    冗長ワード線が、前記ビット線対の前記第1ビット線に
    接続される真データを記憶するための第1冗長メモリ・
    セルを選択するための第1冗長ワード線と、前記ビット
    線対の前記第2ビット線に接続される補データを記憶す
    るための第2冗長メモリ・セルを選択するための第2冗
    長ワード線とを含む、ワード線とを含み、 前記第1ノーマル・ワード線が、同一の数の前記第1冗
    長ワード線によって置換され、前記第1ノーマル・ワー
    ド線の順序付けが、前記第1冗長ワード線の順序付けと
    独立であり、 前記第2ノーマル・ワード線が、同一の数の前記第2冗
    長ワード線によって置換され、前記第2ノーマル・ワー
    ド線の順序付けが、前記第2冗長ワード線の順序付けと
    独立であり、 前記第1冗長ワード線および前記第2冗長ワード線のア
    ドレッシング・シーケンスの前記順序付けを変更するた
    めのアドレス順序付け手段を含む半導体メモリ・デバイ
    ス。
  17. 【請求項17】ノーマル・メモリ・セルと前記ノーマル
    ・メモリ・セルのうちの欠陥メモリ・セルを置換するた
    めの冗長メモリ・セルとを含む、行と列に配置されたメ
    モリ・セルと、 各対が、前記列のうちの対応する列の真データを記憶す
    るためのメモリ・セルに接続された第1ビット線および
    前記対応する列の補データを記憶するためのメモリ・セ
    ルに接続された第2ビット線からなる、前記メモリ・セ
    ルに接続された複数のビット線対と、 それぞれが前記行のうちの対応する行のノーマル・メモ
    リ・セルに接続された複数のノーマル・ワード線と、そ
    れぞれが前記行のうちの対応する行の冗長メモリ・セル
    に接続された複数の冗長ワード線とを含み、前記ノーマ
    ル・ワード線が、前記ビット線対の前記第1ビット線に
    接続される真データを記憶するための第1ノーマル・メ
    モリ・セルを選択するための第1ノーマル・ワード線
    と、前記ビット線対の前記第2ビット線に接続される補
    データを記憶するための第2ノーマル・メモリ・セルを
    選択するための第2ノーマル・ワード線とを含み、前記
    冗長ワード線が、前記ビット線対の前記第1ビット線に
    接続される真データを記憶するための第1冗長メモリ・
    セルを選択するための第1冗長ワード線と、前記ビット
    線対の前記第2ビット線に接続される補データを記憶す
    るための第2冗長メモリ・セルを選択するための第2冗
    長ワード線とを含む、ワード線とを含み、 前記第1ノーマル・ワード線が、同一の数の前記第1冗
    長ワード線によって置換され、前記第1ノーマル・ワー
    ド線の順序付けが、前記第1冗長ワード線の順序付けと
    独立であり、 前記第2ノーマル・ワード線が、同一の数の前記第2冗
    長ワード線によって置換され、前記第2ノーマル・ワー
    ド線の順序付けが、前記第2冗長ワード線の順序付けと
    独立であり、 前記第1ノーマル・ワード線および前記第1冗長ワード
    線と、前記第2ノーマル・ワード線および前記第2冗長
    ワード線のアドレッシング・シーケンスの前記順序付け
    を変更するためのアドレス順序付け手段を含む半導体メ
    モリ・デバイス。
  18. 【請求項18】行と列に配置され、ビット線に接続され
    たメモリ・セルを有し、前記メモリ・セルが、ノーマル
    ・メモリ・セルおよび冗長メモリ・セルを含み、前記ノ
    ーマル・メモリ・セルが、第1ノーマル・ワード線およ
    び第2ノーマル・ワード線に接続され、前記冗長メモリ
    ・セルが、第1冗長ワード線および第2冗長ワード線に
    接続される、半導体メモリ・デバイスを修復する方法に
    おいて、 前記第1ノーマル・ワード線の順序付けが前記第1冗長
    ワード線の順序付けと独立であることを保証しつつ、同
    一の数の前記第1冗長ワード線によって前記第1ノーマ
    ル・ワード線を置換するステップと、 前記第2ノーマル・ワード線の順序付けが前記第2冗長
    ワード線の順序付けと独立であることを保証しつつ、同
    一の数の前記第2冗長ワード線によって前記第2ノーマ
    ル・ワード線を置換するステップとを含み、 前記第1ノーマル・ワード線および前記第2ノーマル・
    ワード線が同時に置換される方法。
  19. 【請求項19】さらに、前記第1冗長ワード線および前
    記第2冗長ワード線の前記順序付けを実行する時に、ビ
    ット・マップの一貫性を維持するステップを含む、請求
    項18の方法。
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