JPH11307309A - チップ型サーミスタ - Google Patents
チップ型サーミスタInfo
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Abstract
プ型サーミスタを提供する。 【解決手段】 直方体形状のチップ状サーミスタ素体2
の下面の相対向する2つの端縁に沿って、一対の端子電
極6,6が設けられ、この端子電極6,6形成部以外の
サーミスタ素体の下面と上面が絶縁層4,7で被覆され
ているチップ型サーミスタ1。端子電極6は絶縁層7か
ら突出するバンプ構造である。
Description
等に表面実装されるチップ型サーミスタに係り、詳しく
は電子機器の温度補償用サーミスタや表面温度測定用セ
ンサに適し、温度上昇に伴って抵抗値が減少するチップ
型サーミスタであって、バンプ実装可能なチップ型サー
ミスタに関する。
は、図6(a)に示す如く、直方体形状のサーミスタ素
体21の両端部に端子電極22,23を有し、その実装
に当っては、いわゆるフィレット実装と呼ばれる表面実
装、即ち、図6(b)に示す如く基板24のプリント回
路25にはんだフィレット26で導通固着する方法が採
用されている。
レット実装による従来のチップ型サーミスタでは、 回路にはんだを用いて実装するため、実装の際の作
業数が多い。 実装に要する面積がサーミスタ素体の面積よりも大
きく(即ち、図6(b)において、サーミスタ素体の長
さLに対して実装長さAが長い)、電子機器の小型に不
向きである。といった不具合がある。特に、実装面積が
大きいことは、浮遊容量による高周波特性の低下、実装
の際のツームストーン現象(マンハッタン現象)の要因
となり、この点からも好ましくない。
薄型化に伴い、電子部品の実装方法として、実装面積の
狭小化という観点から、いわゆるバンプ実装(フィレッ
トレス実装)と称される実装法が用いられてきている
が、従来においては、バンプ実装対応可能な構造を有す
るチップ型サーミスタは提供されていない。
たものであって、バンプ実装対応可能なチップ型サーミ
スタを提供することを目的とする。
スタは、直方体形状のチップ状サーミスタ素体と、該サ
ーミスタ素体の下面の相対向する2つの端縁に沿って設
けられた一対の端子電極と、該サーミスタ素体の該端子
電極形成部を除く下面と上面とを被覆するように設けら
れた絶縁層とを備えてなるチップ型サーミスタであっ
て、該端子電極は、該絶縁層から突出するバンプ構造の
端子電極であることを特徴とする。
構造の端子電極が、サーミスタ素体の下面に突出して設
けられているため、バンプ実装法での実装が可能であ
る。
スタ素体と絶縁層との間に抵抗値調整用の電極層を設け
た構造とするのが好ましい。
施の形態を詳細に説明する。
タの断面図である。
のチップ状サーミスタ素体1を有し、その上面には一様
に抵抗値調整用の電極層3が設けられ、この電極層3の
表面は絶縁層4で覆われている。
向する側縁に沿って抵抗値調整と端子電極としての機能
を兼ねる電極層(金属電極層5Aとめっき電極層(Ni
めっき層とはんだめっき層)5B)5とはんだバンプよ
りなる端子電極部6が設けられ、この端子電極部6以外
のサーミスタ素体2の下面は絶縁層7で覆われ、端子電
極部6は絶縁層7から突出するバンプ構造となってい
る。
ば、図5に示す如く、基板24のプリント回路25上に
バンプ構造の端子電極部6が位置するように載置して、
端子電極部6のはんだ26を加熱して回路25と導通固
着することにより容易にバンプ実装することができ、そ
の実装面積の狭小化を図れる。即ち、図5において、実
装に要する長さはサーミスタ素体1の長さLと同等であ
り、基板25との接続に要する長さBはサーミスタ素体
1の長さLよりも短くて足りる。
スタの製造方法の一例を図2〜4を参照して説明する。
状サーミスタ素体)10を用意し、その一方の面(実装
時上面側となる面)の全面に導電層11を形成し、他方
の面(実装時下面側となる面)に所定のパターンで帯状
の導電層12を形成する(図2)。この導電層11は、
図1における抵抗値調整用の電極層3となり、導電層1
2は電極層5の金属電極層5Aとなる。
11形成面の全面に絶縁層13を形成すると共に、電極
層12形成面に所定のパターンで絶縁層14を形成する
(図3)。絶縁層14は、端子電極形成部に相当する部
分が絶縁層の非形成部(孔部14A)となるようなパタ
ーンで形成される。この絶縁層14は図1における絶縁
層7となり、絶縁層13は絶縁層4となる。
き層及びはんだ(Sn−Pb)めっき層を被層形成する
(図4の15)。このめっき層15は、図1のめっき電
極層5Bとなる。
るパターンマスク16及びスキージ17を用いた印刷法
ではんだ18を付着させた後、マスク16を取り外す。
これにより、はんだ18部分が突出したバンプ構造の端
子電極部6が形成される。
〜0.5mm程度のものを用いるのが好ましい。
2、絶縁層13,14等を形成した薄板状サーミスタ素
体10を所定の位置(図3,4の一点鎖点の位置)で切
断してチップ型サーミスタを得る。
−Cu系、Mn−Co−Fe系のものなどを用いること
ができる。
ペーストをスクリーン印刷等により印刷し、乾燥後焼き
付けすることにより形成される。
クリーン印刷等により印刷し、乾燥後焼き付けることに
より形成される。なお、絶縁体層は、一液性エポキシ配
合樹脂等の絶縁性樹脂材料を塗付することによっても形
成できる。この絶縁性樹脂材料を用いて絶縁体層を形成
した場合、導電層11,12は導電性樹脂材料を用いて
形成しても良い。
するプロセスによれば、特性の高精度化、形状の小型化
への対応が容易であり、また、薄板形状素体の段階で、
電極層、絶縁層、めっき層等を形成し、最後にチップ状
に切断するプロセスであるため、1005サイズ及び0
603サイズ等の超小型形状への対応も容易であり、大
量生産にも好適である。
プ型サーミスタの製造方法の一例であって、何ら本発明
を限定するものではない。例えば、バンプ構造の端子電
極の製造には、上記の方法以外に、ボールはんだ接合
法、インジェクションフロー法等を採用することもでき
る。
突出高さ(図1のH)は、チップ型サーミスタの大きさ
や使用目的等によっても異なるが、通常の場合、100
〜400μm程度とするのが好ましい。なお、上記のパ
ターンマスクを用いる印刷法では厚さが不足する場合に
は、印刷を繰り返し行えば良い。
ミスタを製造した。
薄板状サーミスタ素体(焼結体)10を用意し、その薄
板状サーミスタ素体10の両面に市販の導電性電極ペー
スト(Ag)を塗着して150℃で15分乾燥後、85
0℃で15分焼成して厚さ4μmの導電層11と厚さ4
μmの導電層12を形成した(図2)。導電層11は薄
板状サーミスタ素体10の全面に形成し、導電層12は
所定のパターンでスクリーン印刷法により印刷して形成
した。導電層12同士の間隔は0.2mmとした。
トを塗着して150℃で15分乾燥後、850℃で15
分焼成して厚さ15μmの絶縁層13と厚さ15μmの
絶縁層14を形成した(図3)。絶縁層13は導電層1
1上の全面に形成し、絶縁層14は所定のパターンでス
クリーン印刷法により印刷して形成した。
電解めっき法により、Niめっき層及びはんだめっき
(Sn−Pb)層を形成した(Niめっき層:1〜3μ
m、はんだめっき層:1〜5μm)(図3,図4)。
(厚さ0.2mm)を用いた印刷法により、はんだ(S
n−Pb)18を印刷し220℃で10秒加熱してはん
だボールを形成した。
電極パッド部では、濡れるので接合するが、その周囲に
はガラスが形成されているので表面張力によって球状と
なることにより形成される。
を、ダイシングマシーンを用いて、所定のチップ状とな
るように切断した。
大きさのチップ型サーミスタが得られた。このチップ型
サーミスタは、バンプ構造の端子電極が約150μm突
出しており、プリント回路基板に容易にバンプ実装する
ことができた。
ーミスタによれば、バンプ実装が可能であるため、実装
面積の狭小化が可能となり、サーミスタを用いる温度補
償型発振器(TCXO)や液晶等の電子機器の小型化が
実現できる上に、 端子電極が底面部のみに形成されている構造のた
め、従来構造の素子の場合より、熱衝撃性能等の信頼性
の向上が図れる。 素子と回路基板との接続面積が減るので浮遊容量に
起因する高周波特性が向上する。また、実装の際のツー
ムストーン現象等の不具合を回避できる。といった優れ
た効果が奏される。
す断面図である。
を示す斜視図である。
を示す断面斜視図である。
を示す断面図である。
正面図である。
視図、(b)図はこのチップ型サーミスタの実装構造を
示す正面図である。
Claims (2)
- 【請求項1】 直方体形状のチップ状サーミスタ素体
と、該サーミスタ素体の下面の相対向する2つの端縁に
沿って設けられた一対の端子電極と、該サーミスタ素体
の該端子電極形成部を除く下面と上面とを被覆するよう
に設けられた絶縁層とを備えてなるチップ型サーミスタ
であって、該端子電極は、該絶縁層から突出するバンプ
構造の端子電極であることを特徴とするチップ型サーミ
スタ。 - 【請求項2】 請求項1において、該サーミスタ素体と
絶縁層との間に抵抗値調整用の電極層が設けられている
ことを特徴とするチップ型サーミスタ。
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---|---|---|---|---|
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1998
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