JPH11305031A - カラ―フィルタ―および液晶表示装置 - Google Patents

カラ―フィルタ―および液晶表示装置

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JPH11305031A
JPH11305031A JP3689999A JP3689999A JPH11305031A JP H11305031 A JPH11305031 A JP H11305031A JP 3689999 A JP3689999 A JP 3689999A JP 3689999 A JP3689999 A JP 3689999A JP H11305031 A JPH11305031 A JP H11305031A
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JP
Japan
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color filter
liquid crystal
patterns
polyimide
crystal display
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JP3689999A
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English (en)
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Masaharu Taniguchi
雅治 谷口
Haruki Nonaka
晴支 野中
Takeshi Tanaka
剛 田中
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Toray Industries Inc
Original Assignee
Toray Industries Inc
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】 【課題】ネガ型液晶を使用したMVA液晶表示装置用の
カラーフィルターを提供する。あるいは、スペーサーレ
スの液晶表示装置を得る。 【解決手段】画素上に微細加工された突起パターンを有
し、本パターンを構成する材料の少なくとも一部がポリ
イミドからなることを特徴とするカラーフィルターを使
用する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は画素上に微細加工さ
れた突起パターンを有するカラーフィルターと該カラー
フィルターを有する液晶表示装置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】従来のカラー液晶表示装置のセルの構造
は基本的にはカラーフィルターを有する基板とTFTア
レイ基板のような透明基板上に導電膜を形成した対向基
板からなっているものである。ここでカラーフィルター
の通常の製造方法としては、例えば特公平2−1311
に示されるごとく、まず透明基板上にブラックマトリッ
クス、次いで赤(R)、緑(G)、青(B)の画素を形
成せしめ、この上に必要に応じてオーバーコート膜を形
成させるものである。オーバーコート膜形成後、液晶を
電界で駆動させるために必要な導電膜が形成される。セ
ルの組立に際しては、この導電膜の上に配向膜を形成さ
せラビング処理を行ってセル組み立て工程へ送られ、対
向基板と貼り合わされ、液晶注入が行われるものであ
る。
【0003】近年、従来のTN方式に使用されるポジ型
液晶に対して、ネガ型液晶を使用したVA(垂直配向)
液晶表示装置の開発が進み、さらにこの改良型としてM
VA(配向分割垂直配向)液晶表示装置が開発された
(例えば、Electronic Journal 1
997年10月号、33ページ)。このMVA液晶表示
装置は広視野角に特徴を有し、カラーフィルターの画素
を分割するために、TFT基板とカラーフィルター基板
の表面に突起を設けることにより、液晶配列方向の制御
を自動的に行っているものである。本方式ではカラーフ
ィルター画素を分割する突起パターンの形成と構成が技
術的に重要となる。本突起パターンの断面形状としては
三角形状、半円形状ないし台形状であり、平面的には連
続線状パターンであることが好ましいが、三角錐ない
し、三角断面円錐、台形断面円錐のドット状パターンで
あっても良い。
【0004】従来、このようなパターンを形成するため
に感光性アクリル樹脂を使用し、フォトリソグラフの手
法を適用する手法が用いられてきたが、この手法ではフ
ォトマスクのコンタクト露光が必要とされ、マスクの汚
れを防止するためにプロキシ露光が適用される生産プロ
セスに適用できないものであった。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】本発明の課題は優れた
表示特性と広視野角に特徴を有するMVA液晶表示装置
を与えるところのカラーフィルターを提供することにあ
り、特にカラーフィルター基板上突起パターンを生産工
程で形成するのに好適な材料を提供することにある。
【0006】
【課題を解決するための手段】上記課題は、画素上に微
細加工された突起パターンを有し、本パターンを構成す
る材料の少なくとも一部がポリイミドからなることを特
徴とするカラーフィルター、および該カラーフィルター
を有してなる液晶表示装置により、解決される。
【0007】上記課題を解決するために本発明者等は種
々の材料と加工方法を検討した結果、突起パターン形成
材料として、ポリアミック酸溶液を選び、これをカラー
フィルタ基板の透明導電膜上に塗布・プリベークした
後、ポジレジストを使用してフォトリソ加工、硬化イミ
ド化することにより、目的とする突起パターンを有する
カラーフィルターを得ることができ、本カラーフィルタ
ーを使用したMVA液晶表示装置が良好な表示特性と広
視野角を示すことを見いだし、本発明に到達したもので
ある。
【0008】さらに本発明はMVA液晶表示装置のみな
らず、同様技術でカラーフィルターのブラックマトリッ
クス上に独立突起を形成し、この独立突起をセル組み立
て時の均一なセルギャップ保持のスペーサー代用品とし
て使用し、表示性能の良好なスペーサーレスのTN方式
のカラー液晶表示装置を与えるカラーフィルターを得る
ためにも好適である。
【0009】
【発明の実施の形態】MVA液晶表示装置におけるカラ
ーフィルターの構成としては通常のカラーフィルターに
おける画素上に必要に応じて、透明保護膜層、さらに透
明導電層を介して特定の突起パターンを有するものであ
り、この突起の断面形状としては台形、半円形状または
三角形であることが好ましく、画素上のパターンとして
は対向基板の突起パターンとともに画素を2分割以上に
分割するものであれば特に限定されるものではない。M
VA液晶表示装置におけるカラーフィルター上の突起形
状とパターン構成および対向基板であるTFT基板上の
突起形状とパターン構成、また液晶表示装置の構成につ
いては、例えばSID(SOCIETY FORINF
ORMATION DISPLAY) 98 DIGE
STの1077〜1080ページに詳細が述べられてい
る。
【0010】このような突起パターンを寸法精度良く得
ることは、特に生産ラインにおいてマスクの汚れを防止
するために露光ギャップをつけての露光を適用する場合
に難しくなり、通常の感光性樹脂レジストを使用すると
底辺の広がりが大きくなり過ぎて目的とする突起パター
ンを得ることはできない。かつ、得られた突起パターン
を有するカラーフィルターは配向膜塗布が行われること
から、突起パターンそのものについて高度の耐熱性、耐
溶剤性が要求されるとともに、配向膜薄膜を介して、極
性液晶にさらされることから、イオン性不純物の溶出が
少なく、また優れた電気特性が要求されるものである。
【0011】このような加工性および要求特性を有する
突起パターンを与える材料として、本発明者等はポリイ
ミド形成材料が優れていることを見いだしたものであ
り、加工材料としてはポリアミック酸溶液が使用でき
る。本発明においては使用するポリアミック酸の構造を
特に限定するものではないが、特に硬化体のガラス転移
温度が120〜250℃、好ましくは150〜230℃
の範囲にあるポリイミドを与えるポリアミック酸が本目
的の突起パターンを与える材料として、好ましく使用で
きるものである。このようなポリアミック酸は特に低温
硬化性に優れ、ポリイミドとしては低温度域である25
0℃以下の温度で硬化が進み、かつ耐熱性、耐溶剤性お
よび電気特性に優れたポリイミドパターンを与えるとと
もに、加工においても本発明の目的に即した材料とな
る。
【0012】本発明におけるポリアミック酸溶液の調製
方法は特に限定されるものでは無いが、好ましくは公知
のポリアミック酸と同様にテトラカルボン酸2無水物成
分とジアミン成分とをN−メチル−2−ピロリドン等の
非プロトン性極性溶剤中において、通常95℃以下で付
加重合させて得られるものである。ここで使用されるテ
トラカルボン酸2無水物成分としては公知のテトラカル
ボン酸2無水物を広く使用することができるが、具体的
にはピロメリット酸2無水物、3,3´,4,4´−ベ
ンゾフェノンテトラカルボン酸2無水物、3,3´,
4,4´−ビフェニルテトラカルボン酸2無水物、3,
3´,4,4´−ジフェニルスルフォンテトラカルボン
酸2無水物、4,4´−オキシ−ジフタル酸2無水物
(3,3´,4,4´−ジフェニルエ−テルテトラカル
ボン酸2無水物)、4,4´−ヘキサフルオロイソプロ
ピリデンビス(フタル酸無水物)、1,2,3,4−シ
クロブタンテトラカルボン酸2無水物、1,2,3,4
−ブタンテトラカルボン酸2無水物等が挙げられ、本発
明のポリアミック酸の製造においては特にテトラカルボ
ン酸2無水物成分の少なくとも一部がピロメリット酸2
無水物、3,3´,4,4´−ベンゾフェノンテトラカ
ルボン酸2無水物および4,4´−オキシ−ジフタル酸
2無水物から選ばれたテトラカルボン酸2無水物である
ことが好ましい。
【0013】また本発明のポリアミック酸の製造におい
ては特にジアミン成分の少なくとも一部としてエ−テル
結合を含有する脂肪族ないし脂環族ジアミンを使用する
ことが好ましく、このようなジアミン成分としては、ビ
ス[2−(3−アミノプロポキシ)エチル]エーテル、
1,4−ブタンジオール−ビス(3−アミノプロピル)
エ−テル、3、9−ビス(3−アミノプロピル)−2,
4,8,10−テトラオキサスピロ−5,5−ウンデカ
ン、1,2−ビス(2−アミノエトキシ)エタン、1,
2−ビス(3−アミノプロポキシ)エタン、トリエチレ
ングリコール−ビス(3−アミノプロピル)エーテル、
ポリエチレングリコール−ビス(3−アミノプロピル)
エーテル等、公知の脂肪族ないし脂環族ジアミンを使用
することができるが、特に得られたポリイミドの耐熱性
の見地から、3、9−ビス(3−アミノプロピル)−
2,4,8,10−テトラオキサスピロ−5,5−ウン
デカン、1,4−ブタンジオール−ビス(3−アミノプ
ロピル)エ−テルを使用することが好ましい。
【0014】これらのエ−テル結合を含有する脂肪族な
いし脂環族ジアミンの他にp-フェニレンジアミン、m-フ
ェニレンジアミン、3,3´−ジアミノジフェニルエー
テル、4,4´−ジアミノジフェニルエーテル、3,4
´−ジアミノジフェニルエーテル、4,4´−ジアミノ
ジフェニルメタン、3,3´−ジアミノジフェニルスル
フォン、4,4´−ジアミノジフェニルスルフォン、
4,4´−ジアミノジフェニルサルファイド、1,3−
ビス(4−アミノフェノキシ)ベンゼン、1,4−ビス
(4−アミノフェノキシ)ベンゼン、2,2−ビス(ト
リフルオロメチル)ベンジジン等を使用することがで
き、特に塗布基板との接着性を上げるために4,4´−
ジアミノジフェニルエーテルあるいは3,3´−ジアミ
ノジフェニルスルフォン等の分子内にエーテル結合ある
いはスルフォン結合を有する芳香族ジアミンの併用が好
ましい。また、ビス(3−アミノプロピル)テトラメチ
ルジシロキサンのような主鎖にシロキサン構造を有する
ジアミンも使用できる。 エ−テル結合を含有する脂肪
族ないし脂環族ジアミンの使用量としては全ジアミン成
分の20〜100モル%であることが好ましく、より好
ましくは30〜90モル%である。
【0015】ポリアミック酸の製造に使用される有機溶
剤としてはN−メチルピロリドン、γブチロラクトン、
N,N−ジメチルアセトアミド等の極性溶剤が使用され
るが、分子内に少なくとも一個の水酸基を含有する沸点
100〜300℃の液体および/あるいは分子内に少な
くとも一個のエーテル結合を含有する沸点100〜30
0℃の液体が併用されても良く、また塗布性の良好なコ
−テイング用組成物を得るためにこれらの溶剤が稀釈溶
剤として好ましく使用される。このような有機溶剤成分
としては、例えば3−メチル−3−メトキシブタノ−
ル、3−メチル−3−メトキシブチルアセテ−ト、プロ
ピレングリコ−ル−モノ−メチルエ−テル、プロピレン
グリコ−ル−モノ−メチルエ−テルアセテ−ト、ジプロ
ピレングリコ−ル−モノ−メチルエ−テル、トリプロピ
レングリコ−ル−モノ−メチルエ−テル、プロピレング
リコ−ル−モノ−3級−ブチルエ−テル、イソブチルア
ルコ−ル、イソアミルアルコ−ル、エチルセロソルブ、
エチルセロソルブアセテ−ト、ブチルセロソルブ、ブチ
ルセロソルブアセテ−ト、メチルカルビト−ル、メチル
カルビト−ルアセテ−ト、エチルカルビト−ル、エチル
カルビト−ルアセテ−ト等が挙げられるがこれらに限定
されるものではない。
【0016】本発明のカラーフィルターにおける突起パ
ターンを与えるポリアミック酸溶液はこのようにして得
ることができるが、本発明のポリアミック酸溶液の塗布
性をさらに改良するために公知の界面活性剤、その他の
添加剤を使用することができ、必要に応じて、公知の樹
脂、カーボンブラック、各種顔料、その他公知の充填剤
を入れることができる。
【0017】また使用する配向膜溶液の極性に応じて、
突起パターンにさらなる耐溶剤性が必要とされる場合に
はポリアミック酸溶液にアミノシラン系架橋剤を添加
し、硬化したポリイミドにシロキサン架橋構造を導入
し、突起パターンの極性溶剤耐性を改良することができ
る。好ましく使用されるアミノシラン系架橋剤としては
γーアミノプロピルトリメトキシシラン、γーアミノプ
ロピルトリエトキシシラン、γーアミノプロピルメチル
ジメトキシシラン、γーアミノプロピルメチルジエトキ
シシラン、Nーβ(アミノエチル)γーアミノプロピル
メチルジメトキシシラン、Nーβ(アミノエチル)γー
アミノプロピルトリメトキシシラン、Nーβ(アミノエ
チル)γーアミノプロピルトリエトキシシラン、Nーフ
ェニルーγーアミノプロピルトリメトキシシラン等のア
ミノアルコキシシラン類、あるいはこれらの加水分解縮
合体であり、さらに好ましくはこれらアミノアルコキシ
シラン類あるいはこれらの加水分解縮合体のアミノ基を
γブチロラクトンのようなラクトン類でブロックして安
定化し、加熱時にアミノ基が活性となるように設計した
ブロックアミノシラン系架橋剤が使用される。
【0018】これらのアミノシラン系架橋剤の使用量は
ポリアミック酸に対して、0.01〜30重量%、好ま
しくは0.1ないし10重量%の割合で添加して使用す
ることができる。
【0019】発明のポリアミック酸溶液は概して、高濃
度、低粘度であり、塗布性、保存安定性、水系現像液で
の現像性および低温硬化性に優れたものを得ることがで
き、通常は、従来のTFT用カラーフィルターの透明導
電層の上面に塗布後、加熱により硬化するものである。
あるいは基板塗布、セミキュアを行なった後、レジスト
塗布、乾燥、露光、現像、レジスト剥離して得たパター
ンを加熱により硬化し、ポリイミドとするものであり、
画素上に得られた突起パターンは特に優れた基板との密
着性を有し、良好な耐熱性、耐薬品性、透明性を兼ね備
え、電気特性も優れたものとなる。また、本発明のカラ
ーフィルターを使用して製造するMVA液晶表示装置
は、広い視野角を持ち、表示特性も優れたものとなる。
【0020】さらにはこれら突起の一部をスペーサーの
代替として利用することで、スペーサーレスのMVA液
晶表示装置も可能となる。
【0021】また、カラーフィルターのブラックマトリ
ックスおよびブラックマトリックス額縁上にスペーサー
代わりの突起を形成することで、通常のTN液晶使用の
スペーサーレスTFT液晶表示装置も製造することも可
能である。スペーサーレスの液晶表示装置はスペーサー
部の光漏れを無くすることができるので、表示特性が優
れたものとなる。
【0022】
【実施例】次に、実施例により本発明をさらに詳細に説
明する。 実施例1 3,9−ビス(3−アミノプロピル)−2,4,8,1
0−テトラオキサスピロ[5,5]ウンデカン233.
2g(0.850モル)、4,4´−ジアミノジフェニ
ルエーテル85.2g(0.425モル)、3,3´−
ジアミノジフェニルスルフォン84.5g(0.340
モル)およびビス(3−アミノプロピル)テトラメチル
ジシロキサン21.1g(0.0849モル)をN−メ
チル−2−ピロリドン1921.7gおよびγ−ブチロ
ラクトン1921.7gとともに仕込み、これを攪拌し
ながら3,3´,4,4´−ベンゾフェノンテトラカル
ボン酸2無水物272.3g(0.846モル)および
4,4´−オキシ−ジフタル酸2無水物263.7g
(0.850モル)を添加し、85℃で3時間反応させ
た後、無水マレイン酸0.83g(0.0085モル)
を加えてさらに85℃で3時間反応させた。このように
して、濃度20重量%、粘度1.5ポイズのポリアミッ
ク酸溶液を得た。このポリアミック酸溶液を100℃、
10分で予熱、240℃、30分硬化で乾式製膜して、
10μmのフィルムを得た。このフィルムのガラス転移
温度を示差熱分析機で測定すると195℃であった。
【0023】このポリアミック酸溶液100gをN−メ
チル−2−ピロリドン35gとγブチロラクトン35
g、および3−メチルー3−メトキシブタノールアセテ
ート30gの混合液で稀釈して10.0重量%のポリイ
ミド前駆体溶液を得た。この溶液を孔径0.2μのフィ
ルタ−で濾過しコ−テイング塗液を調製した。この塗液
をTFT用のITO透明導電膜付きカラーフィルター上
にスピンコ−タで塗布し、150℃熱風乾燥機中で20
分間プレキュアして1.3μmの塗膜を形成させた。
【0024】この後、ポジ型レジスト(東京応化(株)
製OFPR−800)を乾燥後の膜厚みが1.0μmと
なるようにスピナーで塗布、90℃熱風乾燥機中で10
分間乾燥した。キャノン (株)製紫外線露光機PLA
−501Fを用いて、クロム製のフォトマスクを介し
て、プロキシを100μとして110mj/cm2 の露
光を行なった。露光後、テトラメチルアンモニウムハイ
ドロオキサイド2.08%からなる現像液に浸漬し、フ
ォトレジストの現像、ポリイミド前駆体塗膜のエッチン
グを同時に行なった。エッチング後、不要となったフォ
トレジスト層をメチルセロソルブで剥離した。
【0025】得られた図1に示されるごとき平面パター
ン塗膜を有するカラーフィルターを240℃で30分処
理して、ポリイミドに転換した。
【0026】このようにして対向基板と併せてカラーフ
ィルターの全画素を2分割する幅が4〜8μm、高さが
1〜1.1μm、テーパ角が30〜80度の台形ないし
三角形断面の突起パターンを有するカラーフィルターを
得た。
【0027】得られたパターンを顕微鏡観察したとこ
ろ、パターンエッジがシャープであり、良好なエッチン
グが行われていることを確認した。また、このパターン
断面を走査電子顕微鏡で観察し、底辺が7〜8μm、高
さが1〜1.1μm、テーパ角が35〜45度の台形形
状であることを確認した。
【0028】この突起パターンを有するカラーフィルタ
ーの表面にポリイミド系の配向膜を設け、同様に対向す
る薄膜トランジスタを備えた液晶表示素子用基板につい
ても突起とポリイミド系の配向膜を設け、この2枚の基
板を周辺額縁部のブラックマトリックスに塗布したシー
ル剤で貼りあわせた。シール部に設けられた注入口から
VA液晶を入れた後、注入口を封止した。このようにし
て得られた液晶注入セルの両側に偏光板を貼りつけて、
公知の手法により、液晶表示装置を作製した。
【0029】この液晶表示装置は良好な表示品位を示す
ものであり、140度以上の視野角を有しているものと
なった。 実施例2 1,4−ブタンジオ−ル−ビス(3−アミノプロピル)
エ−テル163.4g(0.80モル)、4,4´−ジ
アミノジフェニルエーテル120.2g(0.60モ
ル)、3,3´−ジアミノジフェニルスルフォン12
4.1g(0.50モル)およびビス(3−アミノプロ
ピル)テトラメチルジシロキサン24.9g(0.10
モル)をN−メチル−2−ピロリドン1944gおよび
γ−ブチロラクトン1944gとともに仕込み、これを
攪拌しながら3,3´,4,4´−ベンゾフェノンテト
ラカルボン酸二無水物320.3g(0.995モル)
およびピロメリット酸二無水物218.0g(1.00
モル)を添加し、83℃で3時間反応させた後、無水マ
レイン酸0.98g(0.010モル)を加えてさらに
83℃で1時間反応させた。このようにして、濃度20
重量%、粘度1.3ポイズのポリアミック酸溶液を得
た。このポリアミック酸溶液を100℃、10分で予
熱、240℃、30分硬化で乾式製膜して、10μmの
フィルムを得た。このフィルムのガラス転移温度を示差
熱分析機で測定すると176℃であった。
【0030】このポリアミック酸溶液100gをN−メ
チル−2−ピロリドン35gとγブチロラクトン35
g、および3−メチルー3−メトキシブタノールアセテ
ート30gの混合液で稀釈して10.0重量%のポリイ
ミド前駆体溶液を得た。この溶液を孔径0.2μのフィ
ルタ−で濾過しコ−テイング塗液を調製した。この塗液
をTFT用のITO透明導電膜付きカラーフィルター上
にスピンコ−タで塗布し、145℃熱風乾燥機中で20
分間プレキュアして1.8μmの塗膜を形成させた。
【0031】この後、ポジ型レジスト(東京応化(株)
製OFPR−800)を乾燥後の膜厚みが1.2μmと
なるようにスピナーで塗布、90℃熱風乾燥機中で10
分間乾燥した。キャノン(株)製紫外線露光機PLA−
501Fを用いて、クロム製のフォトマスクを介して1
10mj/cm2 の露光を行なった。露光後、テトラメ
チルアンモニウムハイドロオキサイド2.08%からな
る現像液に浸漬し、フォトレジストの現像、ポリイミド
前駆体塗膜のエッチングを同時に行なった。エッチング
後、不要となったフォトレジスト層をメチルセロソルブ
で剥離した。このようにして得られた画素を分割する図
2に示されるごとき平面パターン状塗膜を230℃で3
0分処理して、ポリイミドに転換した。得られたパター
ンを顕微鏡観察したところ、パターンエッジがシャープ
であり、良好なエッチングが行われていることを確認し
た。また、このパターン断面を走査電子顕微鏡で観察
し、底辺が5〜6μm、高さが1.5〜1.6μm、テ
ーパ角が35〜45度の台形形状であることを確認し
た。
【0032】この突起パターンを有するカラーフィルタ
ーの表面にポリイミド系の配向膜を設け、同様に対向す
る薄膜トランジスタを備えた液晶表示素子用基板につい
ても突起とポリイミド系の配向膜を設け、この2枚の基
板を周辺額縁部のブラックマトリックスに塗布したシー
ル剤で貼りあわせた。シール部に設けられた注入口から
VA液晶を入れた後、注入口を封止した。このようにし
て得られた液晶注入セルの両側に偏光板を貼りつけて、
公知の手法により、液晶表示装置を作製した。
【0033】この液晶表示装置は良好な表示品位を示す
ものであり、150度以上の視野角を有しているものと
なった。 実施例3 γーアミノプロピルメチルジエトキシシラン765.4
g(4モル)をγーブチロラクトン2270.6g及び
3−メチルー3−メトキシブタノール2270.6gの
混合液に加えこれを攪拌しながら、36gの水を添加
し、70℃で2時間加熱攪拌して、γーブチロラクトン
でアミノ基がブロックされたγーアミノプロピルメチル
ジエトキシシラン縮合体溶液であるアミノシラン系架橋
剤溶液を得た。
【0034】実施例1で得られたポリアミック酸溶液1
00gにこのアミノシラン系架橋剤溶液5gを添加した
後、N−メチル−2−ピロリドン35gとγブチロラク
トン35g、および3−メチルー3−メトキシブタノー
ルアセテート30gの混合液で稀釈して10.0重量%
の架橋剤添加ポリイミド前駆体溶液を得た。この溶液を
孔径0.2μのフィルタ−で濾過しコ−テイング塗液を
調製した。この塗液をTFT用のITO透明導電膜付き
樹脂ブラックマトリックスのカラーフィルター上にスピ
ンコ−タで塗布し、140℃熱風乾燥機中で20分間プ
レキュアして5.0μmの塗膜を形成させた。
【0035】この後、ポジ型レジスト(東京応化(株)
製OFPR−800)を乾燥後の膜厚みが1.0μmと
なるようにスピナーで塗布、90℃熱風乾燥機中で10
分間乾燥した。キャノン (株)製紫外線露光機PLA
−501Fを用いて、所望のパターンを有するクロム製
のフォトマスクを介して、プロキシを100μとして1
10mj/cm2 の露光を行なった。露光後、テトラメ
チルアンモニウムハイドロオキサイド2.08%からな
る現像液に浸漬し、フォトレジストの現像、ポリイミド
前駆体塗膜のエッチングを同時に行なった。エッチング
後、不要となったフォトレジスト層をメチルセロソルブ
で剥離した。
【0036】このようにして得られた、各画素周辺のブ
ラックマトリックスあるいは額縁上に4点の独立突起
(底辺10×5μm、上辺7×3μm、高さ4μmの四
角錐状)を有するカラーフィルターを240℃で30分
処理して、ポリイミドに転換した。
【0037】この突起パターンを有するカラーフィルタ
ーの表面にNーメチルピロリドン溶媒ポリイミド系の配
向膜を設け、同様に対向する薄膜トランジスタを備えた
液晶表示素子用基板についてもポリイミド系の配向膜を
設け、この2枚の基板を周辺額縁部のブラックマトリッ
クスに塗布したシール剤で貼りあわせた。シール部に設
けられた注入口からTN液晶を入れた後、注入口を封止
した。このようにして得られた液晶注入セルの両側に偏
光板を貼りつけて、公知の手法により、液晶表示装置を
作製した。
【0038】この液晶表示装置はスペーサー使用の液晶
表示装置と比較して、光漏れが生じることなく良好な表
示品位を示すものであった。 比較例1 感光性アクリル樹脂ワニス“オプトマーNN500”
(JSR社製、37.0重量%、0.16ポイズ)塗液
をTFT用のITO透明導電膜付きカラーフィルター上
にスピンコ−タで塗布し、80℃熱風乾燥機中で10分
間プレキュアして1.2μmの塗膜を形成させた。
【0039】この後、キャノン (株)製紫外線露光機
PLA−501Fを用いて、クロム製のネガ用フォトマ
スクを介して、100μmプロキシで110mj/cm
2 の露光を行なった。露光後、テトラメチルアンモニウ
ムハイドロオキサイド0.11%からなる現像液に浸漬
し、アクリル未露光部のエッチングを行なった。このよ
うにして得られたパターンは目標幅が7μmに対して、
20μmと太りを生じていて、本用途の液晶表示装置に
は使用できないものであった。 比較例2 感光性アクリル樹脂ワニス“X4000”(東レ(株)
社試作品、27.0重量%、0.13ポイズ)塗液をT
FT用のITO透明導電膜付きカラーフィルター上にス
ピンコ−タで塗布し、80℃熱風乾燥機中で10分間プ
レキュアして1.2μmの塗膜を形成させた。
【0040】この後、キャノン (株)製紫外線露光機
PLA−501Fを用いて、クロム製のネガ用フォトマ
スクを介して、100μmプロキシで200mj/cm
2 の露光を行なった。露光後、テトラメチルアンモニウ
ムハイドロオキサイド0.18%からなる現像液に浸漬
し、アクリル未露光部のエッチングを行なった。このよ
うにして得られたパターンは目標幅が7μmに対して、
17μmと太りを生じていて、本用途の液晶表示装置に
は使用できないものであった。 比較例3 実施例3において、アミノシラン系架橋剤を使用しない
ポリアミック酸を使用して同様の操作で液晶表示装置を
作製したところ、突起の一部が配向膜溶液に侵され、突
起高さに乱れが生じたことによる表示ムラが発生した。
【0041】
【発明の効果】画素上に微細加工された突起パターンを
有し、本パターンを構成する材料の少なくとも一部がポ
リイミドからなることを特徴とするカラーフィルターで
あり、本カラーフィルターを使用して、高視野角表示の
MVA液晶表示装置を得ることができる。さらにはカラ
ーフィルターのブラックマトリックス部及び額縁部の突
起を利用してスペーサーレス液晶表示装置を得ることが
できる。
【0042】
【図面の簡単な説明】
【図1】実施例1で得られたパターン状塗膜を表す図で
ある。
【図2】実施例2で得られたパターン状塗膜を表す図で
ある。
【符号の説明】
1、3:画素のパターン 2、4:微細突起のパターン

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】画素上に微細加工された突起パターンを有
    し、本パターンを構成する材料の少なくとも一部がポリ
    イミドからなることを特徴とするカラーフィルター。
  2. 【請求項2】突起パターンを構成するポリイミドがアミ
    ノシラン系化合物で架橋された構造を有することを特徴
    とする請求項1に記載のカラーフィルター。
  3. 【請求項3】突起パターンを構成するポリイミドのガラ
    ス転移温度が120〜250℃の範囲にあることを特徴
    とする請求項1に記載のカラーフィルター。
  4. 【請求項4】突起パターンを構成するポリイミドが主鎖
    に脂肪族エ−テル結合あるいは脂環族エ−テル結合を含
    有していることを特徴とする請求項1に記載のカラーフ
    ィルター。
  5. 【請求項5】請求項1〜4のいずれかに記載のカラーフ
    ィルターを用いたことを特徴とする液晶表示装置。
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