JPH11305031A - カラ―フィルタ―および液晶表示装置 - Google Patents
カラ―フィルタ―および液晶表示装置Info
- Publication number
- JPH11305031A JPH11305031A JP3689999A JP3689999A JPH11305031A JP H11305031 A JPH11305031 A JP H11305031A JP 3689999 A JP3689999 A JP 3689999A JP 3689999 A JP3689999 A JP 3689999A JP H11305031 A JPH11305031 A JP H11305031A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- color filter
- liquid crystal
- patterns
- polyimide
- crystal display
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Optical Filters (AREA)
- Liquid Crystal (AREA)
- Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
- Macromolecular Compounds Obtained By Forming Nitrogen-Containing Linkages In General (AREA)
Abstract
カラーフィルターを提供する。あるいは、スペーサーレ
スの液晶表示装置を得る。 【解決手段】画素上に微細加工された突起パターンを有
し、本パターンを構成する材料の少なくとも一部がポリ
イミドからなることを特徴とするカラーフィルターを使
用する。
Description
れた突起パターンを有するカラーフィルターと該カラー
フィルターを有する液晶表示装置に関するものである。
は基本的にはカラーフィルターを有する基板とTFTア
レイ基板のような透明基板上に導電膜を形成した対向基
板からなっているものである。ここでカラーフィルター
の通常の製造方法としては、例えば特公平2−1311
に示されるごとく、まず透明基板上にブラックマトリッ
クス、次いで赤(R)、緑(G)、青(B)の画素を形
成せしめ、この上に必要に応じてオーバーコート膜を形
成させるものである。オーバーコート膜形成後、液晶を
電界で駆動させるために必要な導電膜が形成される。セ
ルの組立に際しては、この導電膜の上に配向膜を形成さ
せラビング処理を行ってセル組み立て工程へ送られ、対
向基板と貼り合わされ、液晶注入が行われるものであ
る。
液晶に対して、ネガ型液晶を使用したVA(垂直配向)
液晶表示装置の開発が進み、さらにこの改良型としてM
VA(配向分割垂直配向)液晶表示装置が開発された
(例えば、Electronic Journal 1
997年10月号、33ページ)。このMVA液晶表示
装置は広視野角に特徴を有し、カラーフィルターの画素
を分割するために、TFT基板とカラーフィルター基板
の表面に突起を設けることにより、液晶配列方向の制御
を自動的に行っているものである。本方式ではカラーフ
ィルター画素を分割する突起パターンの形成と構成が技
術的に重要となる。本突起パターンの断面形状としては
三角形状、半円形状ないし台形状であり、平面的には連
続線状パターンであることが好ましいが、三角錐ない
し、三角断面円錐、台形断面円錐のドット状パターンで
あっても良い。
に感光性アクリル樹脂を使用し、フォトリソグラフの手
法を適用する手法が用いられてきたが、この手法ではフ
ォトマスクのコンタクト露光が必要とされ、マスクの汚
れを防止するためにプロキシ露光が適用される生産プロ
セスに適用できないものであった。
表示特性と広視野角に特徴を有するMVA液晶表示装置
を与えるところのカラーフィルターを提供することにあ
り、特にカラーフィルター基板上突起パターンを生産工
程で形成するのに好適な材料を提供することにある。
細加工された突起パターンを有し、本パターンを構成す
る材料の少なくとも一部がポリイミドからなることを特
徴とするカラーフィルター、および該カラーフィルター
を有してなる液晶表示装置により、解決される。
々の材料と加工方法を検討した結果、突起パターン形成
材料として、ポリアミック酸溶液を選び、これをカラー
フィルタ基板の透明導電膜上に塗布・プリベークした
後、ポジレジストを使用してフォトリソ加工、硬化イミ
ド化することにより、目的とする突起パターンを有する
カラーフィルターを得ることができ、本カラーフィルタ
ーを使用したMVA液晶表示装置が良好な表示特性と広
視野角を示すことを見いだし、本発明に到達したもので
ある。
らず、同様技術でカラーフィルターのブラックマトリッ
クス上に独立突起を形成し、この独立突起をセル組み立
て時の均一なセルギャップ保持のスペーサー代用品とし
て使用し、表示性能の良好なスペーサーレスのTN方式
のカラー液晶表示装置を与えるカラーフィルターを得る
ためにも好適である。
ーフィルターの構成としては通常のカラーフィルターに
おける画素上に必要に応じて、透明保護膜層、さらに透
明導電層を介して特定の突起パターンを有するものであ
り、この突起の断面形状としては台形、半円形状または
三角形であることが好ましく、画素上のパターンとして
は対向基板の突起パターンとともに画素を2分割以上に
分割するものであれば特に限定されるものではない。M
VA液晶表示装置におけるカラーフィルター上の突起形
状とパターン構成および対向基板であるTFT基板上の
突起形状とパターン構成、また液晶表示装置の構成につ
いては、例えばSID(SOCIETY FORINF
ORMATION DISPLAY) 98 DIGE
STの1077〜1080ページに詳細が述べられてい
る。
ることは、特に生産ラインにおいてマスクの汚れを防止
するために露光ギャップをつけての露光を適用する場合
に難しくなり、通常の感光性樹脂レジストを使用すると
底辺の広がりが大きくなり過ぎて目的とする突起パター
ンを得ることはできない。かつ、得られた突起パターン
を有するカラーフィルターは配向膜塗布が行われること
から、突起パターンそのものについて高度の耐熱性、耐
溶剤性が要求されるとともに、配向膜薄膜を介して、極
性液晶にさらされることから、イオン性不純物の溶出が
少なく、また優れた電気特性が要求されるものである。
突起パターンを与える材料として、本発明者等はポリイ
ミド形成材料が優れていることを見いだしたものであ
り、加工材料としてはポリアミック酸溶液が使用でき
る。本発明においては使用するポリアミック酸の構造を
特に限定するものではないが、特に硬化体のガラス転移
温度が120〜250℃、好ましくは150〜230℃
の範囲にあるポリイミドを与えるポリアミック酸が本目
的の突起パターンを与える材料として、好ましく使用で
きるものである。このようなポリアミック酸は特に低温
硬化性に優れ、ポリイミドとしては低温度域である25
0℃以下の温度で硬化が進み、かつ耐熱性、耐溶剤性お
よび電気特性に優れたポリイミドパターンを与えるとと
もに、加工においても本発明の目的に即した材料とな
る。
方法は特に限定されるものでは無いが、好ましくは公知
のポリアミック酸と同様にテトラカルボン酸2無水物成
分とジアミン成分とをN−メチル−2−ピロリドン等の
非プロトン性極性溶剤中において、通常95℃以下で付
加重合させて得られるものである。ここで使用されるテ
トラカルボン酸2無水物成分としては公知のテトラカル
ボン酸2無水物を広く使用することができるが、具体的
にはピロメリット酸2無水物、3,3´,4,4´−ベ
ンゾフェノンテトラカルボン酸2無水物、3,3´,
4,4´−ビフェニルテトラカルボン酸2無水物、3,
3´,4,4´−ジフェニルスルフォンテトラカルボン
酸2無水物、4,4´−オキシ−ジフタル酸2無水物
(3,3´,4,4´−ジフェニルエ−テルテトラカル
ボン酸2無水物)、4,4´−ヘキサフルオロイソプロ
ピリデンビス(フタル酸無水物)、1,2,3,4−シ
クロブタンテトラカルボン酸2無水物、1,2,3,4
−ブタンテトラカルボン酸2無水物等が挙げられ、本発
明のポリアミック酸の製造においては特にテトラカルボ
ン酸2無水物成分の少なくとも一部がピロメリット酸2
無水物、3,3´,4,4´−ベンゾフェノンテトラカ
ルボン酸2無水物および4,4´−オキシ−ジフタル酸
2無水物から選ばれたテトラカルボン酸2無水物である
ことが好ましい。
ては特にジアミン成分の少なくとも一部としてエ−テル
結合を含有する脂肪族ないし脂環族ジアミンを使用する
ことが好ましく、このようなジアミン成分としては、ビ
ス[2−(3−アミノプロポキシ)エチル]エーテル、
1,4−ブタンジオール−ビス(3−アミノプロピル)
エ−テル、3、9−ビス(3−アミノプロピル)−2,
4,8,10−テトラオキサスピロ−5,5−ウンデカ
ン、1,2−ビス(2−アミノエトキシ)エタン、1,
2−ビス(3−アミノプロポキシ)エタン、トリエチレ
ングリコール−ビス(3−アミノプロピル)エーテル、
ポリエチレングリコール−ビス(3−アミノプロピル)
エーテル等、公知の脂肪族ないし脂環族ジアミンを使用
することができるが、特に得られたポリイミドの耐熱性
の見地から、3、9−ビス(3−アミノプロピル)−
2,4,8,10−テトラオキサスピロ−5,5−ウン
デカン、1,4−ブタンジオール−ビス(3−アミノプ
ロピル)エ−テルを使用することが好ましい。
いし脂環族ジアミンの他にp-フェニレンジアミン、m-フ
ェニレンジアミン、3,3´−ジアミノジフェニルエー
テル、4,4´−ジアミノジフェニルエーテル、3,4
´−ジアミノジフェニルエーテル、4,4´−ジアミノ
ジフェニルメタン、3,3´−ジアミノジフェニルスル
フォン、4,4´−ジアミノジフェニルスルフォン、
4,4´−ジアミノジフェニルサルファイド、1,3−
ビス(4−アミノフェノキシ)ベンゼン、1,4−ビス
(4−アミノフェノキシ)ベンゼン、2,2−ビス(ト
リフルオロメチル)ベンジジン等を使用することがで
き、特に塗布基板との接着性を上げるために4,4´−
ジアミノジフェニルエーテルあるいは3,3´−ジアミ
ノジフェニルスルフォン等の分子内にエーテル結合ある
いはスルフォン結合を有する芳香族ジアミンの併用が好
ましい。また、ビス(3−アミノプロピル)テトラメチ
ルジシロキサンのような主鎖にシロキサン構造を有する
ジアミンも使用できる。 エ−テル結合を含有する脂肪
族ないし脂環族ジアミンの使用量としては全ジアミン成
分の20〜100モル%であることが好ましく、より好
ましくは30〜90モル%である。
剤としてはN−メチルピロリドン、γブチロラクトン、
N,N−ジメチルアセトアミド等の極性溶剤が使用され
るが、分子内に少なくとも一個の水酸基を含有する沸点
100〜300℃の液体および/あるいは分子内に少な
くとも一個のエーテル結合を含有する沸点100〜30
0℃の液体が併用されても良く、また塗布性の良好なコ
−テイング用組成物を得るためにこれらの溶剤が稀釈溶
剤として好ましく使用される。このような有機溶剤成分
としては、例えば3−メチル−3−メトキシブタノ−
ル、3−メチル−3−メトキシブチルアセテ−ト、プロ
ピレングリコ−ル−モノ−メチルエ−テル、プロピレン
グリコ−ル−モノ−メチルエ−テルアセテ−ト、ジプロ
ピレングリコ−ル−モノ−メチルエ−テル、トリプロピ
レングリコ−ル−モノ−メチルエ−テル、プロピレング
リコ−ル−モノ−3級−ブチルエ−テル、イソブチルア
ルコ−ル、イソアミルアルコ−ル、エチルセロソルブ、
エチルセロソルブアセテ−ト、ブチルセロソルブ、ブチ
ルセロソルブアセテ−ト、メチルカルビト−ル、メチル
カルビト−ルアセテ−ト、エチルカルビト−ル、エチル
カルビト−ルアセテ−ト等が挙げられるがこれらに限定
されるものではない。
ターンを与えるポリアミック酸溶液はこのようにして得
ることができるが、本発明のポリアミック酸溶液の塗布
性をさらに改良するために公知の界面活性剤、その他の
添加剤を使用することができ、必要に応じて、公知の樹
脂、カーボンブラック、各種顔料、その他公知の充填剤
を入れることができる。
突起パターンにさらなる耐溶剤性が必要とされる場合に
はポリアミック酸溶液にアミノシラン系架橋剤を添加
し、硬化したポリイミドにシロキサン架橋構造を導入
し、突起パターンの極性溶剤耐性を改良することができ
る。好ましく使用されるアミノシラン系架橋剤としては
γーアミノプロピルトリメトキシシラン、γーアミノプ
ロピルトリエトキシシラン、γーアミノプロピルメチル
ジメトキシシラン、γーアミノプロピルメチルジエトキ
シシラン、Nーβ(アミノエチル)γーアミノプロピル
メチルジメトキシシラン、Nーβ(アミノエチル)γー
アミノプロピルトリメトキシシラン、Nーβ(アミノエ
チル)γーアミノプロピルトリエトキシシラン、Nーフ
ェニルーγーアミノプロピルトリメトキシシラン等のア
ミノアルコキシシラン類、あるいはこれらの加水分解縮
合体であり、さらに好ましくはこれらアミノアルコキシ
シラン類あるいはこれらの加水分解縮合体のアミノ基を
γブチロラクトンのようなラクトン類でブロックして安
定化し、加熱時にアミノ基が活性となるように設計した
ブロックアミノシラン系架橋剤が使用される。
ポリアミック酸に対して、0.01〜30重量%、好ま
しくは0.1ないし10重量%の割合で添加して使用す
ることができる。
度、低粘度であり、塗布性、保存安定性、水系現像液で
の現像性および低温硬化性に優れたものを得ることがで
き、通常は、従来のTFT用カラーフィルターの透明導
電層の上面に塗布後、加熱により硬化するものである。
あるいは基板塗布、セミキュアを行なった後、レジスト
塗布、乾燥、露光、現像、レジスト剥離して得たパター
ンを加熱により硬化し、ポリイミドとするものであり、
画素上に得られた突起パターンは特に優れた基板との密
着性を有し、良好な耐熱性、耐薬品性、透明性を兼ね備
え、電気特性も優れたものとなる。また、本発明のカラ
ーフィルターを使用して製造するMVA液晶表示装置
は、広い視野角を持ち、表示特性も優れたものとなる。
代替として利用することで、スペーサーレスのMVA液
晶表示装置も可能となる。
ックスおよびブラックマトリックス額縁上にスペーサー
代わりの突起を形成することで、通常のTN液晶使用の
スペーサーレスTFT液晶表示装置も製造することも可
能である。スペーサーレスの液晶表示装置はスペーサー
部の光漏れを無くすることができるので、表示特性が優
れたものとなる。
明する。 実施例1 3,9−ビス(3−アミノプロピル)−2,4,8,1
0−テトラオキサスピロ[5,5]ウンデカン233.
2g(0.850モル)、4,4´−ジアミノジフェニ
ルエーテル85.2g(0.425モル)、3,3´−
ジアミノジフェニルスルフォン84.5g(0.340
モル)およびビス(3−アミノプロピル)テトラメチル
ジシロキサン21.1g(0.0849モル)をN−メ
チル−2−ピロリドン1921.7gおよびγ−ブチロ
ラクトン1921.7gとともに仕込み、これを攪拌し
ながら3,3´,4,4´−ベンゾフェノンテトラカル
ボン酸2無水物272.3g(0.846モル)および
4,4´−オキシ−ジフタル酸2無水物263.7g
(0.850モル)を添加し、85℃で3時間反応させ
た後、無水マレイン酸0.83g(0.0085モル)
を加えてさらに85℃で3時間反応させた。このように
して、濃度20重量%、粘度1.5ポイズのポリアミッ
ク酸溶液を得た。このポリアミック酸溶液を100℃、
10分で予熱、240℃、30分硬化で乾式製膜して、
10μmのフィルムを得た。このフィルムのガラス転移
温度を示差熱分析機で測定すると195℃であった。
チル−2−ピロリドン35gとγブチロラクトン35
g、および3−メチルー3−メトキシブタノールアセテ
ート30gの混合液で稀釈して10.0重量%のポリイ
ミド前駆体溶液を得た。この溶液を孔径0.2μのフィ
ルタ−で濾過しコ−テイング塗液を調製した。この塗液
をTFT用のITO透明導電膜付きカラーフィルター上
にスピンコ−タで塗布し、150℃熱風乾燥機中で20
分間プレキュアして1.3μmの塗膜を形成させた。
製OFPR−800)を乾燥後の膜厚みが1.0μmと
なるようにスピナーで塗布、90℃熱風乾燥機中で10
分間乾燥した。キャノン (株)製紫外線露光機PLA
−501Fを用いて、クロム製のフォトマスクを介し
て、プロキシを100μとして110mj/cm2 の露
光を行なった。露光後、テトラメチルアンモニウムハイ
ドロオキサイド2.08%からなる現像液に浸漬し、フ
ォトレジストの現像、ポリイミド前駆体塗膜のエッチン
グを同時に行なった。エッチング後、不要となったフォ
トレジスト層をメチルセロソルブで剥離した。
ン塗膜を有するカラーフィルターを240℃で30分処
理して、ポリイミドに転換した。
ィルターの全画素を2分割する幅が4〜8μm、高さが
1〜1.1μm、テーパ角が30〜80度の台形ないし
三角形断面の突起パターンを有するカラーフィルターを
得た。
ろ、パターンエッジがシャープであり、良好なエッチン
グが行われていることを確認した。また、このパターン
断面を走査電子顕微鏡で観察し、底辺が7〜8μm、高
さが1〜1.1μm、テーパ角が35〜45度の台形形
状であることを確認した。
ーの表面にポリイミド系の配向膜を設け、同様に対向す
る薄膜トランジスタを備えた液晶表示素子用基板につい
ても突起とポリイミド系の配向膜を設け、この2枚の基
板を周辺額縁部のブラックマトリックスに塗布したシー
ル剤で貼りあわせた。シール部に設けられた注入口から
VA液晶を入れた後、注入口を封止した。このようにし
て得られた液晶注入セルの両側に偏光板を貼りつけて、
公知の手法により、液晶表示装置を作製した。
ものであり、140度以上の視野角を有しているものと
なった。 実施例2 1,4−ブタンジオ−ル−ビス(3−アミノプロピル)
エ−テル163.4g(0.80モル)、4,4´−ジ
アミノジフェニルエーテル120.2g(0.60モ
ル)、3,3´−ジアミノジフェニルスルフォン12
4.1g(0.50モル)およびビス(3−アミノプロ
ピル)テトラメチルジシロキサン24.9g(0.10
モル)をN−メチル−2−ピロリドン1944gおよび
γ−ブチロラクトン1944gとともに仕込み、これを
攪拌しながら3,3´,4,4´−ベンゾフェノンテト
ラカルボン酸二無水物320.3g(0.995モル)
およびピロメリット酸二無水物218.0g(1.00
モル)を添加し、83℃で3時間反応させた後、無水マ
レイン酸0.98g(0.010モル)を加えてさらに
83℃で1時間反応させた。このようにして、濃度20
重量%、粘度1.3ポイズのポリアミック酸溶液を得
た。このポリアミック酸溶液を100℃、10分で予
熱、240℃、30分硬化で乾式製膜して、10μmの
フィルムを得た。このフィルムのガラス転移温度を示差
熱分析機で測定すると176℃であった。
チル−2−ピロリドン35gとγブチロラクトン35
g、および3−メチルー3−メトキシブタノールアセテ
ート30gの混合液で稀釈して10.0重量%のポリイ
ミド前駆体溶液を得た。この溶液を孔径0.2μのフィ
ルタ−で濾過しコ−テイング塗液を調製した。この塗液
をTFT用のITO透明導電膜付きカラーフィルター上
にスピンコ−タで塗布し、145℃熱風乾燥機中で20
分間プレキュアして1.8μmの塗膜を形成させた。
製OFPR−800)を乾燥後の膜厚みが1.2μmと
なるようにスピナーで塗布、90℃熱風乾燥機中で10
分間乾燥した。キャノン(株)製紫外線露光機PLA−
501Fを用いて、クロム製のフォトマスクを介して1
10mj/cm2 の露光を行なった。露光後、テトラメ
チルアンモニウムハイドロオキサイド2.08%からな
る現像液に浸漬し、フォトレジストの現像、ポリイミド
前駆体塗膜のエッチングを同時に行なった。エッチング
後、不要となったフォトレジスト層をメチルセロソルブ
で剥離した。このようにして得られた画素を分割する図
2に示されるごとき平面パターン状塗膜を230℃で3
0分処理して、ポリイミドに転換した。得られたパター
ンを顕微鏡観察したところ、パターンエッジがシャープ
であり、良好なエッチングが行われていることを確認し
た。また、このパターン断面を走査電子顕微鏡で観察
し、底辺が5〜6μm、高さが1.5〜1.6μm、テ
ーパ角が35〜45度の台形形状であることを確認し
た。
ーの表面にポリイミド系の配向膜を設け、同様に対向す
る薄膜トランジスタを備えた液晶表示素子用基板につい
ても突起とポリイミド系の配向膜を設け、この2枚の基
板を周辺額縁部のブラックマトリックスに塗布したシー
ル剤で貼りあわせた。シール部に設けられた注入口から
VA液晶を入れた後、注入口を封止した。このようにし
て得られた液晶注入セルの両側に偏光板を貼りつけて、
公知の手法により、液晶表示装置を作製した。
ものであり、150度以上の視野角を有しているものと
なった。 実施例3 γーアミノプロピルメチルジエトキシシラン765.4
g(4モル)をγーブチロラクトン2270.6g及び
3−メチルー3−メトキシブタノール2270.6gの
混合液に加えこれを攪拌しながら、36gの水を添加
し、70℃で2時間加熱攪拌して、γーブチロラクトン
でアミノ基がブロックされたγーアミノプロピルメチル
ジエトキシシラン縮合体溶液であるアミノシラン系架橋
剤溶液を得た。
00gにこのアミノシラン系架橋剤溶液5gを添加した
後、N−メチル−2−ピロリドン35gとγブチロラク
トン35g、および3−メチルー3−メトキシブタノー
ルアセテート30gの混合液で稀釈して10.0重量%
の架橋剤添加ポリイミド前駆体溶液を得た。この溶液を
孔径0.2μのフィルタ−で濾過しコ−テイング塗液を
調製した。この塗液をTFT用のITO透明導電膜付き
樹脂ブラックマトリックスのカラーフィルター上にスピ
ンコ−タで塗布し、140℃熱風乾燥機中で20分間プ
レキュアして5.0μmの塗膜を形成させた。
製OFPR−800)を乾燥後の膜厚みが1.0μmと
なるようにスピナーで塗布、90℃熱風乾燥機中で10
分間乾燥した。キャノン (株)製紫外線露光機PLA
−501Fを用いて、所望のパターンを有するクロム製
のフォトマスクを介して、プロキシを100μとして1
10mj/cm2 の露光を行なった。露光後、テトラメ
チルアンモニウムハイドロオキサイド2.08%からな
る現像液に浸漬し、フォトレジストの現像、ポリイミド
前駆体塗膜のエッチングを同時に行なった。エッチング
後、不要となったフォトレジスト層をメチルセロソルブ
で剥離した。
ラックマトリックスあるいは額縁上に4点の独立突起
(底辺10×5μm、上辺7×3μm、高さ4μmの四
角錐状)を有するカラーフィルターを240℃で30分
処理して、ポリイミドに転換した。
ーの表面にNーメチルピロリドン溶媒ポリイミド系の配
向膜を設け、同様に対向する薄膜トランジスタを備えた
液晶表示素子用基板についてもポリイミド系の配向膜を
設け、この2枚の基板を周辺額縁部のブラックマトリッ
クスに塗布したシール剤で貼りあわせた。シール部に設
けられた注入口からTN液晶を入れた後、注入口を封止
した。このようにして得られた液晶注入セルの両側に偏
光板を貼りつけて、公知の手法により、液晶表示装置を
作製した。
表示装置と比較して、光漏れが生じることなく良好な表
示品位を示すものであった。 比較例1 感光性アクリル樹脂ワニス“オプトマーNN500”
(JSR社製、37.0重量%、0.16ポイズ)塗液
をTFT用のITO透明導電膜付きカラーフィルター上
にスピンコ−タで塗布し、80℃熱風乾燥機中で10分
間プレキュアして1.2μmの塗膜を形成させた。
PLA−501Fを用いて、クロム製のネガ用フォトマ
スクを介して、100μmプロキシで110mj/cm
2 の露光を行なった。露光後、テトラメチルアンモニウ
ムハイドロオキサイド0.11%からなる現像液に浸漬
し、アクリル未露光部のエッチングを行なった。このよ
うにして得られたパターンは目標幅が7μmに対して、
20μmと太りを生じていて、本用途の液晶表示装置に
は使用できないものであった。 比較例2 感光性アクリル樹脂ワニス“X4000”(東レ(株)
社試作品、27.0重量%、0.13ポイズ)塗液をT
FT用のITO透明導電膜付きカラーフィルター上にス
ピンコ−タで塗布し、80℃熱風乾燥機中で10分間プ
レキュアして1.2μmの塗膜を形成させた。
PLA−501Fを用いて、クロム製のネガ用フォトマ
スクを介して、100μmプロキシで200mj/cm
2 の露光を行なった。露光後、テトラメチルアンモニウ
ムハイドロオキサイド0.18%からなる現像液に浸漬
し、アクリル未露光部のエッチングを行なった。このよ
うにして得られたパターンは目標幅が7μmに対して、
17μmと太りを生じていて、本用途の液晶表示装置に
は使用できないものであった。 比較例3 実施例3において、アミノシラン系架橋剤を使用しない
ポリアミック酸を使用して同様の操作で液晶表示装置を
作製したところ、突起の一部が配向膜溶液に侵され、突
起高さに乱れが生じたことによる表示ムラが発生した。
有し、本パターンを構成する材料の少なくとも一部がポ
リイミドからなることを特徴とするカラーフィルターで
あり、本カラーフィルターを使用して、高視野角表示の
MVA液晶表示装置を得ることができる。さらにはカラ
ーフィルターのブラックマトリックス部及び額縁部の突
起を利用してスペーサーレス液晶表示装置を得ることが
できる。
ある。
ある。
Claims (5)
- 【請求項1】画素上に微細加工された突起パターンを有
し、本パターンを構成する材料の少なくとも一部がポリ
イミドからなることを特徴とするカラーフィルター。 - 【請求項2】突起パターンを構成するポリイミドがアミ
ノシラン系化合物で架橋された構造を有することを特徴
とする請求項1に記載のカラーフィルター。 - 【請求項3】突起パターンを構成するポリイミドのガラ
ス転移温度が120〜250℃の範囲にあることを特徴
とする請求項1に記載のカラーフィルター。 - 【請求項4】突起パターンを構成するポリイミドが主鎖
に脂肪族エ−テル結合あるいは脂環族エ−テル結合を含
有していることを特徴とする請求項1に記載のカラーフ
ィルター。 - 【請求項5】請求項1〜4のいずれかに記載のカラーフ
ィルターを用いたことを特徴とする液晶表示装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3689999A JPH11305031A (ja) | 1998-02-20 | 1999-02-16 | カラ―フィルタ―および液晶表示装置 |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP10-38518 | 1998-02-20 | ||
JP3851898 | 1998-02-20 | ||
JP3689999A JPH11305031A (ja) | 1998-02-20 | 1999-02-16 | カラ―フィルタ―および液晶表示装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH11305031A true JPH11305031A (ja) | 1999-11-05 |
Family
ID=26375991
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP3689999A Pending JPH11305031A (ja) | 1998-02-20 | 1999-02-16 | カラ―フィルタ―および液晶表示装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH11305031A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008106250A (ja) * | 2006-09-29 | 2008-05-08 | Toray Ind Inc | 黒色樹脂組成物、樹脂ブラックマトリクス、およびカラーフィルター |
JP2017119869A (ja) * | 2015-12-31 | 2017-07-06 | ドンジン セミケム カンパニー リミテッドDongjin Semichem Co., Ltd. | ポリイミドフィルム製造用組成物、その製造方法及びそれを用いたポリイミドフィルムの製造方法 |
Citations (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0659228A (ja) * | 1992-08-12 | 1994-03-04 | Toshiba Corp | 液晶表示素子の製造方法 |
JPH06298962A (ja) * | 1993-04-20 | 1994-10-25 | Shin Etsu Chem Co Ltd | ポリイミドフィルムの製造方法 |
JPH07225389A (ja) * | 1994-02-16 | 1995-08-22 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 液晶表示素子とその製造方法 |
JPH07325298A (ja) * | 1994-05-31 | 1995-12-12 | Hitachi Chem Co Ltd | カラー液晶表示装置 |
JPH08114809A (ja) * | 1994-10-14 | 1996-05-07 | Sony Corp | 液晶パネル及びその製造方法 |
JPH08239575A (ja) * | 1994-12-26 | 1996-09-17 | Toray Ind Inc | ポリアミド酸組成物、ポリアミド酸組成物の製造方法ならびにカラーフィルタおよびその製造方法 |
JPH0943425A (ja) * | 1995-08-02 | 1997-02-14 | Toray Ind Inc | カラーフィルタおよびそれを用いたカラー液晶表示装置 |
JPH0995533A (ja) * | 1995-09-29 | 1997-04-08 | Maruzen Petrochem Co Ltd | 無色透明性ポリイミド樹脂材料およびそれを用いたフィルムまたはコーティング膜 |
JPH09120063A (ja) * | 1995-08-18 | 1997-05-06 | Toray Ind Inc | カラーフィルタおよびそれを用いた液晶表示装置 |
JPH09143266A (ja) * | 1995-11-28 | 1997-06-03 | Mitsui Toatsu Chem Inc | ポリイミドフィルム及びそれを用いる接着方法 |
JPH09152612A (ja) * | 1995-09-29 | 1997-06-10 | Sony Corp | 液晶素子及びその製造方法 |
JPH1030026A (ja) * | 1996-07-16 | 1998-02-03 | Kanegafuchi Chem Ind Co Ltd | 熱可塑性ポリイミドフィルム |
JPH1048630A (ja) * | 1996-08-02 | 1998-02-20 | Toshiba Corp | 液晶表示装置 |
JPH11242225A (ja) * | 1997-06-12 | 1999-09-07 | Fujitsu Ltd | 液晶表示装置 |
-
1999
- 1999-02-16 JP JP3689999A patent/JPH11305031A/ja active Pending
Patent Citations (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0659228A (ja) * | 1992-08-12 | 1994-03-04 | Toshiba Corp | 液晶表示素子の製造方法 |
JPH06298962A (ja) * | 1993-04-20 | 1994-10-25 | Shin Etsu Chem Co Ltd | ポリイミドフィルムの製造方法 |
JPH07225389A (ja) * | 1994-02-16 | 1995-08-22 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 液晶表示素子とその製造方法 |
JPH07325298A (ja) * | 1994-05-31 | 1995-12-12 | Hitachi Chem Co Ltd | カラー液晶表示装置 |
JPH08114809A (ja) * | 1994-10-14 | 1996-05-07 | Sony Corp | 液晶パネル及びその製造方法 |
JPH08239575A (ja) * | 1994-12-26 | 1996-09-17 | Toray Ind Inc | ポリアミド酸組成物、ポリアミド酸組成物の製造方法ならびにカラーフィルタおよびその製造方法 |
JPH0943425A (ja) * | 1995-08-02 | 1997-02-14 | Toray Ind Inc | カラーフィルタおよびそれを用いたカラー液晶表示装置 |
JPH09120063A (ja) * | 1995-08-18 | 1997-05-06 | Toray Ind Inc | カラーフィルタおよびそれを用いた液晶表示装置 |
JPH0995533A (ja) * | 1995-09-29 | 1997-04-08 | Maruzen Petrochem Co Ltd | 無色透明性ポリイミド樹脂材料およびそれを用いたフィルムまたはコーティング膜 |
JPH09152612A (ja) * | 1995-09-29 | 1997-06-10 | Sony Corp | 液晶素子及びその製造方法 |
JPH09143266A (ja) * | 1995-11-28 | 1997-06-03 | Mitsui Toatsu Chem Inc | ポリイミドフィルム及びそれを用いる接着方法 |
JPH1030026A (ja) * | 1996-07-16 | 1998-02-03 | Kanegafuchi Chem Ind Co Ltd | 熱可塑性ポリイミドフィルム |
JPH1048630A (ja) * | 1996-08-02 | 1998-02-20 | Toshiba Corp | 液晶表示装置 |
JPH11242225A (ja) * | 1997-06-12 | 1999-09-07 | Fujitsu Ltd | 液晶表示装置 |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008106250A (ja) * | 2006-09-29 | 2008-05-08 | Toray Ind Inc | 黒色樹脂組成物、樹脂ブラックマトリクス、およびカラーフィルター |
JP2017119869A (ja) * | 2015-12-31 | 2017-07-06 | ドンジン セミケム カンパニー リミテッドDongjin Semichem Co., Ltd. | ポリイミドフィルム製造用組成物、その製造方法及びそれを用いたポリイミドフィルムの製造方法 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP2001051266A (ja) | カラーフィルタ及び液晶表示装置 | |
JP3458620B2 (ja) | 液晶表示装置用基板および液晶表示装置 | |
JPH11311789A (ja) | 分割配向用基板及びこれを用いた液晶表示装置 | |
JP3218830B2 (ja) | カラーフィルター、電子工業用カラーペースト、その製造方法、顔料分散液およびその製造方法 | |
JPH0772483A (ja) | 液晶素子用配向膜付基板およびその製造方法ならびに液晶素子 | |
JP2000329926A (ja) | 顔料分散樹脂溶液組成物、その製造方法およびカラーフィルター | |
JPH09329707A (ja) | カラーフィルターの製造方法およびカラーフィルター | |
JP2007010820A (ja) | カラーフィルタ及びこれを用いた液晶表示装置 | |
JPH11305031A (ja) | カラ―フィルタ―および液晶表示装置 | |
JP2001290023A (ja) | 液晶表示装置用ポリイミド位相差薄膜、及び該位相差薄膜を有するカラーフィルター、液晶表示装置 | |
JP4134362B2 (ja) | 液晶配向剤 | |
JP2000086906A (ja) | 熱硬化性樹脂溶液組成物、カラーフィルターおよび液晶表示装置 | |
JPH1048641A (ja) | 液晶表示素子用基板及びそれを含むカラー液晶表示素子 | |
JP3095100B2 (ja) | 液晶表示素子 | |
JP3889459B2 (ja) | 透明保護膜形成用熱硬化性樹脂組成物およびカラーフィルター | |
JPH1123836A (ja) | ブラックマトリクス、カラーフィルターおよび液晶表示装置 | |
JPH11242108A (ja) | カラーフィルターの製造方法、カラーフィルター、および液晶表示装置 | |
JP3663759B2 (ja) | 液晶表示装置の製造方法および液晶表示装置 | |
JP2003287617A (ja) | カラーフィルター用熱硬化性樹脂溶液組成物、カラーフィルター、および液晶表示装置 | |
JPH1192659A (ja) | 印刷用樹脂組成物及びパターニングされた印刷樹脂膜の製造法 | |
JP2004046279A (ja) | 液晶表示素子用基板及びそれを含むカラー液晶表示素子 | |
JP2002072189A (ja) | 分割配向用透明導電膜及びこれを用いた液晶表示装置 | |
JP3521663B2 (ja) | カラーペースト、カラーフィルター、および液晶表示装置 | |
JP2003292813A (ja) | 顔料分散熱硬化性樹脂溶液組成物、その製造方法およびカラーフィルター | |
JPH11271525A (ja) | カラ―フィルタ―用オ―バ―コ―ト、カラ―フィルタ―および液晶表示装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A711 | Notification of change in applicant |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A711 Effective date: 20041224 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821 Effective date: 20041224 |
|
RD02 | Notification of acceptance of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422 Effective date: 20050131 |
|
A711 | Notification of change in applicant |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A711 Effective date: 20050916 |
|
A711 | Notification of change in applicant |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A711 Effective date: 20050926 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821 Effective date: 20050926 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20051130 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20080926 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20081118 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20090814 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20091008 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20100824 |