JPH1129881A - ウェハのエッチング処理装置 - Google Patents

ウェハのエッチング処理装置

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JPH1129881A
JPH1129881A JP18947697A JP18947697A JPH1129881A JP H1129881 A JPH1129881 A JP H1129881A JP 18947697 A JP18947697 A JP 18947697A JP 18947697 A JP18947697 A JP 18947697A JP H1129881 A JPH1129881 A JP H1129881A
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JP
Japan
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wafer
etching
tank
cleaning
immersed
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JP18947697A
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Ryuzo Shiraki
隆三 白木
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Original Assignee
Sharp Corp
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Abstract

(57)【要約】 【課題】ウェハを薬液に浸漬してエッチング処理する際
に、各ウェハをムラなく均一にエッチング処理すること
ができる。 【解決手段】周回移動可能に設けられたウェハ搬送ベル
ト31は、エッチング槽11内の薬液内に浸漬された後
に、洗浄槽21の洗浄水に浸漬されるようになってい
る。ウェハ搬送ベルト31上には、ウェハ40が1枚ず
つ載置されて搬送され、エッチング槽11内の薬液にて
順次エッチング処理された後に、洗浄槽21内の洗浄水
にて順次水洗処理される。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体集積回路等
の半導体装置の製造に使用されるウェハを、薬液によっ
てエッチング処理する際に使用されるウェハのエッチン
グ処理装置に関する。
【0002】
【従来の技術】半導体装置の製造に使用されるウェハ
は、通常、図3に示すエッチング処理装置によってエッ
チング処理されるようになっている。このエッチング処
理装置では、円板状をした複数のウェハ40が、水平方
向に一定の間隔をあけてそれぞれ垂直状態で保持するウ
ェハキャリア41内に収容された状態で取り扱われるよ
うになっており、このウェハキャリア41が、複数のウ
ェハ40を保持した状態で、ローダー部73上に載置さ
れる。ローダー部73上に載置されたウェハキャリア4
1は、ウェハ搬送機構74によって、エッチング槽61
に搬送されて、エッチング槽61内に収容された薬液内
に浸漬される。ウェハキャリア41内に収容された各ウ
ェハ40は、所定時間にわたってエッチング槽61内の
薬液に浸漬されることよって、それぞれエッチング処理
される。
【0003】エッチング槽61にて、ウェハキャリア4
1に収容された各ウェハ40が、所定時間にわたって薬
液に浸漬されると、各ウェハ40が収容されたウェハキ
ャリア41が、ウェハ搬送機構74によって、洗浄槽6
7に搬送されて、洗浄槽67内の洗浄液(純水)に浸漬
されて水洗処理される。そして、ウェハキャリア41に
収容された各ウェハ40が、洗浄槽67内の洗浄水に所
定時間にわたって洗浄水に浸漬されることによって水洗
処理されると、各ウェハ40を収容したウェハキャリア
41が、ウェハ搬送機構74によって、スピンドライ装
置71に搬送され、スピンドライ装置71によってスピ
ン乾燥される。スピンドライ装置71にて各ウェハ40
がスピン乾燥されると、ウェハキャリア41は、ウェハ
搬送機構74によって、スピンドライ装置71からアン
ローダー部72上に搬送される。エッチング槽61は、
薬液オーバーフロー槽62内に適当な間隔をあけて収容
された状態になっており、エッチング槽61の底面と薬
液オーバーフロー槽62との底面との間に、薬液循環路
63が設けられている。エッチング槽61内には、薬液
循環路63内の薬液が薬液供給ポンプ64によって供給
されており、エッチング槽61に供給された薬液は、薬
液オーバーフロー槽62にオーバーフローして、薬液循
環路63内に流入している。
【0004】薬液循環路63には、ドレインバルブ66
を介して薬液排出管65が接続されており、エッチング
槽61および薬液循環路63内の薬液が、所定枚数のウ
ェハ40をエッチング処理すると、ドレインバルブ66
が開放されて、排出管65を通して排出される。そし
て、新たな薬液が、エッチング処理槽61内に投入され
る。
【0005】洗浄槽67は、洗浄水オーバーフロー槽6
8内に、適当な間隔をあけて収容されている。洗浄槽6
7には、洗浄水供給管69によって洗浄水が供給され
て、洗浄水オーバーフロー槽68内にオーバーフローす
るようになっており、洗浄水オーバーフロー槽68内に
オーバーフローした洗浄水は、排水管70によって排出
されている。従って、洗浄槽67内には、常に、汚染さ
れていない洗浄水が供給されている。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】このようなウェハのエ
ッチング処理装置では、複数枚のウェハ40が保持され
たウェハキャリア41が、エッチング槽61内の薬液内
に投入されてエッチング処理されているために、ウェハ
キャリア41に保持された各ウェハ40は、薬液によっ
て均一にエッチング処理されないおそれがある。すなわ
ち、各ウェハ40は、ウェハキャリア41によって一定
の間隔をあけて水平に保持されているために、各ウェハ
40の周縁部が、流動する薬液によって比較的良好にエ
ッチング処理されるものの、各ウェハ40の中心部に
は、薬液が流動せず、良好にエッチング処理されず、各
ウェハ40の周縁部と中央部とでは、それぞれ、エッチ
ングムラが生じるおそれがある。また、洗浄槽67内の
洗浄水によって水洗処理する場合も、各ウェハ40がウ
ェハキャリア40内に保持された状態になっているため
に、各ウェハ40は、周縁部が比較的良好に水洗処理さ
れるのに対して、中央部は良好に水洗処理されず、洗浄
ムラが生じるおそれがある。
【0007】本発明は、このような問題を解決するもの
であり、その目的は、各ウェハを、エッチングムラを生
じさせることなく、均一にエッチング処理することがで
きるウェハのエッチング処理装置を提供することにあ
る。本発明の他の目的は、エッチング処理された各ウェ
ハを、洗浄ムラを生じさせることなく、均一に水洗処理
することができるウェハのエッチング処理装置を提供す
ることにある。
【0008】
【課題を解決するための手段】本発明のウェハのエッチ
ング処理装置は、ウェハをエッチング処理するための薬
液が収容されたエッチング槽と、エッチング処理される
ウェハが1枚ずつ載置されて、載置された各ウェハが、
順次、前記エッチング槽内の薬液内に浸漬されるように
周回移動するウェハ搬送ベルトと、を具備することを特
徴とする。
【0009】前記ウェハ搬送ベルトは、エッチング槽内
の薬液に浸漬された各ウェハが、順次、洗浄槽内の洗浄
水に浸漬される。また、本発明のウェハのエッチング処
理装置は、ウェハをエッチング処理するための薬液が収
容されたエッチング槽と、ウェハを1枚ずつ保持した状
態で、このエッチング槽の上方を通過するように配置さ
れており、保持された各ウェハが、エッチング槽の上方
を通過する際に、エッチング槽内の薬液内に浸漬するよ
うに昇降されるウェハ搬送機構と、を具備することを特
徴とする。
【0010】前記ウェハ搬送機構は、エッチング処理さ
れたウェハを洗浄処理する洗浄槽の上方を通過するよう
になっており、エッチング槽内の薬液に浸漬された各ウ
ェハが、洗浄槽の上方を通過する際に、洗浄槽内の洗浄
液に浸漬するよう昇降される。
【0011】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を、図
面に基づいて詳細に説明する。図1は、本発明のウェハ
のエッチング装置の実施の形態の一例を示す概略構成図
である。このウェハのエッチング装置は、各ウェハ40
をエッチング処理するエッチング用の薬液が収容された
エッチング槽11と、このエッチング槽11にてエッチ
ング処理された各ウェハ40を水洗処理するように、エ
ッチング槽11に隣接して配置された洗浄槽21とを有
している。
【0012】エッチング槽11は、薬液オーバーフロー
槽12の内部に、この薬液オーバーフロー槽12とは適
当な間隔をあけた状態で収容されている。また、洗浄槽
21も、洗浄水オーバーフロー槽22内に、この洗浄水
オーバーフロー槽22とは適当な間隔をあけた状態で収
容されている。洗浄槽21内にには、洗浄液としての洗
浄水(純粋)が収容されている。エッチング槽11内の
薬液は、薬液オーバーフロー槽12内にオーバーフロー
するようになっており、また、洗浄槽21内の洗浄水
も、洗浄水オーバーフロー槽22内にオーバーフローす
るようになっている。
【0013】エッチング槽11の底面と薬液オーバーフ
ロー槽12の底面とは、薬液循環路13によって、相互
に連通状態で接続されており、薬液循環路13に薬液供
給ポンプ14が設けられている。エッチング槽11から
薬液オーバーフロー槽12内にオーバーフローした薬液
は、薬液循環路13内に流入して、薬液供給ポンプ14
よって、エッチング槽11内に供給されるようになって
いる。また、薬液循環路13には、その薬液循環路13
内を流れる薬液を排出する排出管15が、ドレインバル
ブ16を介して接続されている。ドレインバルブ16が
開放されると、薬液循環路13内の薬液が、排出管15
を通って排出される。
【0014】エッチング槽11および薬液循環路13内
の薬液は、所定枚数のウェハをエッチング処理すると、
ドレインバルブ16が開放されて、エッチング槽11、
薬液オーバーフロー槽12、および薬液循環路13か
ら、排出管15を通って排出され、新たな薬液がエッチ
ング槽11内に投入される。
【0015】各ウェハ40を水洗処理する洗浄槽21の
底面には、洗浄水オーバーフロー槽22の底面を貫通す
る洗浄水供給管23が接続されており、この洗浄水供給
管23によって、洗浄槽21内に洗浄水(純粋)が供給
されるようになっている。また、洗浄水オーバーフロー
槽22の底面には、洗浄水オーバーフロー槽22内にオ
ーバーフローした洗浄水が排出される排水管24が接続
されている。洗浄槽21内には、洗浄水供給管23から
供給される汚染されていない洗浄水が、順次、供給され
て、洗浄水オーバーフロー槽22内にオーバーフローし
ており、従って、洗浄槽21内には、常に、汚染されて
いない洗浄水が供給されている。
【0016】エッチング槽11および洗浄槽21は、周
回移動可能になったウェハ搬送ベルト31の周回移動域
内に配置されている。このウェハ搬送ベルト31は、エ
ッチング処理されるウェハ40を1枚ずつ載せた状態で
搬送されるようになっており、その戻り側部分が、エッ
チング槽11の下方および洗浄槽21の下方を水平に通
過するように、一対のテンションローラー32aおよび
32kによって水平に架設されている。そして、一方の
テンションローラー32aによって、上方に向かうよう
に垂直に立ち上げられて、エッチング槽11の側方に配
置された一対のテンションローラー32bおよび32c
によって、エッチング槽11に向かって水平に架設され
ている。
【0017】ウェハ搬送ベルト31は、エッチング槽1
1の近傍に配置されたテンションローラー32cによっ
て、エッチング槽11内の下部に向かって傾斜状態で進
入するように屈曲されている。エッチング槽11内の下
部では、ウェハ搬送ベルト31は、各一対のテンション
ローラー32dおよび32eによって水平に架設されて
いる。各一対のテンションローラー32dおよび32e
は、ウェハ搬送ベルト31上に載置された各ウェハ40
が通過するように、ウェハ搬送ベルト31の各側縁部上
をそれぞれ転接している。エッチング槽11内を水平に
通過したウェハ搬送ベルト31は、一対のテンションロ
ーラー32eによって、傾斜状態でエッチング槽11か
ら退出するように屈曲されている。
【0018】エッチング槽11と洗浄槽21との間に
は、ウェハ搬送ベルト31を水平状態で架設する一対の
テンションローラー32fおよび32gが設けられてお
り、ウェハ搬送ベルト31は、エッチング槽11と洗浄
槽21との間を水平に通過している。
【0019】洗浄槽21の近傍に設けられたテンション
ローラー32gは、ウェハ搬送ベルト31を、洗浄槽2
1内の下部に向かって傾斜するように屈曲している。洗
浄槽21内の下部では、ウェハ搬送ベルト31は、各一
対のテンションローラー32hおよび32iによって水
平に架設されている。各一対のテンションローラー32
hおよび32iは、ウェハ搬送ベルト31上に載置され
た各ウェハ40が通過するように、ウェハ搬送ベルト3
1の各側縁部上をそれぞれ転接している。洗浄槽21内
を水平に通過したウェハ搬送ベルト31は、一対のテン
ションローラー32iによって、傾斜状態で洗浄槽21
から退出するように屈曲されている。
【0020】洗浄槽21から退出したウェハ搬送ベルト
31は、洗浄槽21の近傍に配置されたテンションロー
ラー32jと、洗浄槽21から適当な距離だけ離れて配
置された駆動ローラー32によって水平に架設されてい
る。そして、駆動ローラー32によって下方に向かって
直角に屈曲されて、一対のテンションローラー32kお
よび32aにて水平に架設されている。ウェハ搬送ベル
ト31は、テンションローラー32によって、エッチン
グ槽11の薬液に浸漬された後に、洗浄槽21内の洗浄
水に浸漬されるように周回移動されるようになってい
る。
【0021】エッチング槽11にてエッチング処理され
る各ウェハ40は、ウェハキャリア41内に収容され
て、エッチング槽11とは適当な間隔をあけて配置され
たローダー部34上に載置されるようになっており、ロ
ーダー部34とウェハ搬送ベルト31との間には、搬入
ベルトコンベア33が水平に配置されている。
【0022】ウェハキャリア41は、複数のウェハ40
を、相互に上下方向に適当な間隔をあけて水平に保持す
るようになっている。ローダー部34は、載置されたウ
ェハキャリア41を昇降させるようになっており、ロー
ダー部34が間欠的に下降されることによって、ウェハ
キャリア41内に水平状態に保持された各ウェハ40
が、順次、搬入ベルトコンベア33上に移載されるよう
になっている。搬入ベルトコンベア33の上面は、ウェ
ハ搬送ベルト31とは同一の高さにて水平になってい
る。搬入ベルトコンベア33上に順次移載される各ウェ
ハ40は、順次、ウェハ搬送ベルト31上に移載され
る。
【0023】洗浄槽21から退出して水平に架設された
ウェハ搬送ベルト31には、搬出ベルトコンベア35が
連続して配置されている。この搬出ベルトコンベア35
の上面は、ウェハ搬送ベルト31の上面と同一の高さに
て水平に配置されており、ウェハ搬送コンベア31にて
搬送されるウェハ40が、この搬出ベルトコンベア35
上に、順次、移載されて搬送されるようになっている。
【0024】搬出ベルトコンベア35の終端部には、ア
ンローダー部36が連続的に配置されている。このアン
ローダー部36も、ローダー部34と同様に、ウェハ4
0を保持するウェハキャリア41が載置されて昇降され
るようになっている。アンローダー部36上に載置され
たウェハキャリア41は、搬出ベルトコンベア35にて
搬送される各ウェハ40に同期して上昇し、各ウェハ4
0が、ウェハキャリア41内に順次水平状態で保持され
るようになっている。
【0025】洗浄槽21と搬出ベルトコンベア35との
間に水平に架設されたウェハ搬送ベルト31の上方に
は、ウェハ搬送ベルト31上を搬送されるウェハ40を
乾燥させるための乾燥ガスとして窒素ガス(N2 )を吹
きつける乾燥用ガス吹き付け口37が、ウェハ搬送ベル
ト31に対向して配置されている。
【0026】このような構成のエッチング処理装置で
は、エッチング処理すべき複数のウェハ40が保持され
たウェハキャリア41が、ローダー部34上に配置され
ると、ローダー部34が間欠的に下降され、ローダー部
34上のウェハキャリア41内の各ウェハ40が、順番
に、搬入ベルトコンベア33上に移載される。そして、
搬入ベルトコンベア33上に順次移載されたウェハ40
は、所定方向に周回移動するウェハ搬送ベルト31上
に、順次、移載される。
【0027】ウェハ搬送ベルト31上に、順次、移載さ
れたウェハ40は、ウェハ搬送ベルト31の周回移動に
伴って、ウェハ搬送ベルト31とともにエッチング槽1
1内の薬液に浸漬される。エッチング槽11内には、薬
液が循環されており、ウェハ搬送ベルト31上に載置さ
れたウェハ40が薬液内に浸漬された状態になると、ウ
ェハ40が所定時間にわたって薬液内に浸漬されるよう
に、ウェハ搬送ベルト31の周回移動速度が制御され
る。
【0028】このようにして、ウェハ搬送ベルト31上
に載置されてエッチング槽11内の薬液に浸漬されたウ
ェハ40が所定時間にわたってエッチング処理される
と、そのウェハ40は、ウェハ搬送ベルト31とともに
エッチング槽11から排出されて、ウェハ搬送ベルト3
1とともに、洗浄槽21に搬送される。そして、ウェハ
搬送ベルト31が洗浄槽21内の洗浄水に浸漬されるこ
とによって、ウェハ40も、洗浄槽21内の洗浄水に浸
漬される。洗浄槽21内には、洗浄水供給管23によっ
て、新たな洗浄水が順次供給されており、洗浄水に浸漬
されたウェハ40は、洗浄水によって洗浄される。この
場合も、所定時間にわたってウェハ40が洗浄水にて洗
浄されるように、ウェハ搬送ベルト31の周回移動速度
が制御される。ウェハ40の洗浄は、例えば、ウェハ4
0の比抵抗が10MΩ以上になるまで実施される。
【0029】このようにして、ウェハ40が洗浄槽21
内の洗浄水に所定時間にわたって浸漬されて水洗される
と、ウェハ40がウェハ搬送ベルト31とともに洗浄槽
21から排出されて、搬出ベルトコンベア35に向かっ
て搬送される。このとき、ウェハ搬送ベルト31の移動
域の上方に配置された乾燥用ガス吹き付け口37から窒
素ガスが、ウェハ搬送ベルト31上のウェハ40に吹き
付けられて、ウェハ40は乾燥される。
【0030】このようにして、乾燥用ガス吹き付け口3
7から吹き付けられる窒素ガスによって乾燥されたウェ
ハ40が、搬出ベルトコンベア35の始端部に達する
と、ウェハ40は、搬出ベルトコンベア35上に移載さ
れる。そして、ウェハ40は、搬出ベルトコンベア35
によって、アンローダー部36に向かって、順次、搬送
され、搬出ベルトコンベア35の終端部にて、アンロー
ダー部36上に配置されたウェハキャリア41に順次、
保持される。この場合、アンローダー部36は、搬出ベ
ルトコンベア35によるウェハ40の搬送に同期して間
欠的に下降され、順次搬送される各ウェハ40は、アン
ローダー36上に載せられたウェハキャリア41に、上
下方向に一定の間隔をあけた水平状態に、順次、保持さ
れる。
【0031】このように、ウェハ搬送ベルト31によっ
て、エッチング処理されるウェハ40が1枚ずつ搬送さ
れて、エッチング槽11内の薬液によってエッチング処
理されるとともに、洗浄槽21内の洗浄水によって水洗
処理されるために、各ウェハ40は、エッチングムラ、
洗浄ムラが生じることなく、エッチング処理および水洗
処理される。
【0032】図2は、本発明のウェハのエッチング処理
装置の実施の形態の他の例を示す概略構成図である。こ
のエッチング処理装置では、エッチング槽11および洗
浄槽21の上方にわたって、ウェハ搬送機構50が設け
られている。このウェハ搬送機構50は、エッチング槽
11および洗浄槽21の上方にわたって周回移動可能に
なったコンベアベルト51と、このコンベアベルト51
に、相互に一定の間隔をあけて吊り下げられた状態で取
り付けられた複数のチャック具52とを有している。
【0033】ウェハ搬送機構50のコンベアベルト51
は、周回移動域が上下にそれぞれ設けられており、上側
の周回移動域が水平になっているのに対して、下側の周
回移動域が、エッチング槽11および洗浄槽21の上方
にて、それぞれエッチング槽11および洗浄槽21に接
近するように、下方に位置している。従って、コンベア
ベルト51に吊り下げられた各チャック具52は、エッ
チング槽11および洗浄槽21に接近したコンベアベル
ト51部分では、エッチング槽11内の薬液および洗浄
槽21内の洗浄水に、それぞれの下端部が浸漬された状
態になる。コンベアベルト51は、各チャック具52の
下端部が、エッチング槽11の薬液内に浸漬された後
に、洗浄槽21内の洗浄水に浸漬されるように、周回移
動するようになっている。
【0034】コンベアベルト51にてそれぞれ吊り下げ
られた各チャック具52は、一対のチャックアーム52
aの上端部が、回動可能にコンベアベルト51にそれぞ
れ吊り下げられて、各チャックアーム52aの下端部同
士が相互に接離するように、各チャックアーム52a同
士が反対方向に回動されるようになっている。
【0035】各チャック具52は、コンベアベルト51
に対して、それぞれ一定の間隔をあけて取り付けられて
おり、各チャック具52の間隔は、いずれかのチャック
具52の下端部が洗浄槽21内の洗浄水に浸漬された際
に、後続のチャック具52がエッチング槽11と水洗槽
21との中間に位置され、さらに、その後続のチャック
具52が、エッチング槽11の薬液内に下端部が浸漬さ
れるように、それぞれ設定されている。
【0036】このウェハのエッチング処理装置も、前記
実施の形態と同様に、エッチング処理される複数のウェ
ハ40を保持するウェハキャリア41が載置されるロー
ダー部34が設けられており、このローダー部34とエ
ッチング槽11との間に、搬入ベルトコンベア33が水
平に配置されている。そして、エッチング槽11を収容
する薬液オーバーフロー槽12には、搬入ベルトコンベ
ア33に向かって水平に延びる移載テーブル12aが、
搬入ベルトコンベア33の上面と同一の高さで水平に設
けられている。この移載テーブル12aには、搬入ベル
トコンベア33上を搬送されるウェハ40が移載される
ようになっており、この移載テーブル12a上に移載さ
れたウェハ40が、ウェハ搬送機構50の各チャック具
52によってチャックされるようになっている。各チャ
ック具52は、一対のチャックアーム52aの下端部に
よってウェハ40のエッジに係合して、ウェハ40を水
平にチャックする。
【0037】洗浄槽21が収容された洗浄水オーバーフ
ロー槽22には、搬出ベルトコンベア35が連続して水
平に設けられており、この搬出ベルトコンベア35の終
端部に、エッチング処理されたウェハ40を収容するウ
ェハキャリア41が載置されたアンローダー部36が設
けられている。搬出ベルトコンベア35は、前記実施の
形態の搬出ベルトコンベア35よりも長くなっており、
搬出ベルトコンベア35の中央部の上方には、乾燥ガス
として窒素ガスを吹き出す乾燥ガス吹き出し口37が設
けられている。
【0038】このような構成のウェハのエッチング処理
装置では、エッチング処理すべき複数のウェハ40を上
下方向に一定の間隔をあけてそれぞれ水平に保持するウ
ェハキャリア41が、ローダー部34上に配置されて、
ローダー部34上のウェハキャリア41内の各ウェハ4
0が、順番に、搬入ベルトコンベア33上に移載され
る。そして、搬入ベルトコンベア33によって、移載テ
ーブル12a上に各ウェハ40が順次移載される。
【0039】移載テーブル12a上にウェハ40が移載
されて、周回移動されるウェハ搬送機構50のコンベア
ベルト51によって、1つのチャック具52が移載テー
ブル12a上に周回移動されると、コンベアベルト51
の周回移動が停止される。そして、そのチャック具52
によって、移載テーブル12a上のウェハ40がチャッ
クされる。その後、コンベアベルト51が周回移動され
て、コンベアベルト51に取り付けられた各チャック具
52も周回移動される。このようにして、順次、移載テ
ーブル12a上に各ウェハ40が順番に移載されると、
ウェハ搬送機構50のコンベアベルト51が簡潔的に周
回移動されて、各チャック具52によって、各ウェハ4
0が、それぞれ水平状態でチャックされる。
【0040】各チャック具52は、1枚のウェハ40を
それぞれチャックした状態で、コンベアベルト51の周
回移動に伴って移動し、エッチング槽11の上方に達す
ると、降下して、チャック具52にチャックされたウェ
ハ40が、エッチング槽11内の薬液内に浸漬される。
ウェハ40がエッチング槽11内の薬液に浸漬された状
態になると、コンベアベルト51の周回移動が停止さ
れ、チャック具52にチャックされたウェハ40は、所
定時間にわたって薬液内に浸漬された状態が保持され
て、所定時間にわたって、ウェハ40がエッチング処理
される。このようにしてウェハ40がエッチング処理さ
れると、コンベアベルト51の周回移動が再開され、エ
ッチング槽11の薬液内に浸漬されたウェハ40は、エ
ッチング槽11から一旦退出されるように上昇されて、
洗浄槽21の上方へと移動される。そして、ウェハ40
をチャックしたチャック具52が洗浄槽21の上方に達
すると、コンベアベルト51の下降に伴ってチャック具
52が下降され、チャック具52にてチャックされたウ
ェハ40が洗浄槽21の洗浄水内に浸漬される。そし
て、ウェハ40が洗浄水内に浸漬された状態になると、
コンベアベルト51の周回移動が停止され、ウェハ40
は、所定時間にわたって洗浄水内に浸漬されて、水洗処
理される。
【0041】このように、ウェハ40が洗浄槽21内に
て水洗処理されている間は、後続のチャック具52は、
エッチング処理されたウェハ40をチャックした状態で
洗浄槽21とエッチング槽11との間の上方に位置して
おり、さらに、その後続のチャック具52は、チャック
したウェハ40をエッチング槽11内の薬液に浸漬した
状態になっている。
【0042】洗浄槽21による水洗処理が終了すると、
コンベアベルト51が周回移動され、洗浄槽21の洗浄
水に浸漬されたウェハ40が上昇されて洗浄水から退出
される。そして、そのチャック具52が搬出ベルトコン
ベア35の始端部上に位置されると、コンベアベルト5
1の周回移動が停止されて、チャック具52によるウェ
ハ40のチャックが解除され、搬出ベルトコンベア35
上にウェハ40が載せられる。このような状態になる
と、搬出ベルトコンベア35によって、水洗処理された
ウェハ40がアンローダー36に向かって搬送され、そ
の搬送の間に、乾燥ガス吹き付け口37から吹き付けら
れる乾燥ガスによってウェハ40が乾燥される。搬出ベ
ルトコンベア35上のウェハ40は、搬出ベルトコンベ
ア35の終端部に達すると、搬出ベルトコンベア35か
ら、アンローダー部36上に配置されたウェハキャリア
41に、順次、移載される。
【0043】このようなエッチング処理装置でも、各ウ
ェハ40が1枚ずつ、エッチング槽11内の薬液に浸漬
されてエッチング処理されるとともに、洗浄槽21の洗
浄水内に浸漬されて水洗処理されるために、各ウェハ4
0には、エッチングムラ、洗浄ムラ等が生じるおそれが
ない。
【0044】
【発明の効果】本発明のウェハのエッチング処理装置
は、このように、ウェハが1枚ずつ、ウェハ搬送ベルト
上に載置された状態で、または、ウェハ搬送機構によっ
て保持された状態で、エッチング槽内の薬液内に浸漬さ
れるようになっているために、各ウェハを全体にわたっ
てムラなくエッチング処理することができる。また、洗
浄槽の洗浄液による水洗処理も、各ウェハが1枚ずつ実
施されることになるために、洗浄ムラが生じるおそれも
ない。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明のウェハのエッチング処理装置の実施の
形態の一例を示す概略構成図である。
【図2】本発明のウェハのエッチング処理装置の実施の
形態の他の例を示す概略構成図である。
【図3】従来のウェハのエッチング処理装置の一例を示
す概略構成図である。
【符号の説明】 11 エッチング槽 12 薬液オーバーフロー槽 13 薬液循環路 21 洗浄槽 22 洗浄水オーバーフロー槽 31 ウェハ搬送ベルト 33 搬入ベルトコンベア 34 ローダー部 35 搬出ベルトコンベア 36 アンローダー部 40 ウェハ 41 ウェハキャリア

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 ウェハをエッチング処理するための薬液
    が収容されたエッチング槽と、 エッチング処理されるウェハが1枚ずつ載置されて、載
    置された各ウェハが、順次、前記エッチング槽内の薬液
    内に浸漬されるように周回移動するウェハ搬送ベルト
    と、 を具備することを特徴とするウェハのエッチング処理装
    置。
  2. 【請求項2】 前記ウェハ搬送ベルトは、エッチング槽
    内の薬液に浸漬された各ウェハが、順次、洗浄槽内の洗
    浄水に浸漬される請求項1に記載のウェハのエッチング
    処理装置。
  3. 【請求項3】 ウェハをエッチング処理するための薬液
    が収容されたエッチング槽と、 ウェハを1枚ずつ保持した状態で、このエッチング槽の
    上方を通過するように配置されており、保持された各ウ
    ェハが、エッチング槽の上方を通過する際に、エッチン
    グ槽内の薬液内に浸漬するように昇降されるウェハ搬送
    機構と、 を具備することを特徴とするウェハのエッチング処理装
    置。
  4. 【請求項4】 前記ウェハ搬送機構は、エッチング処理
    されたウェハを洗浄処理する洗浄槽の上方を通過するよ
    うになっており、エッチング槽内の薬液に浸漬された各
    ウェハが、洗浄槽の上方を通過する際に、洗浄槽内の洗
    浄液に浸漬するよう昇降される請求項3に記載のウェハ
    のエッチング処理装置。
JP18947697A 1997-07-15 1997-07-15 ウェハのエッチング処理装置 Pending JPH1129881A (ja)

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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2009123450A1 (en) * 2008-04-01 2009-10-08 Stichting Energieonderzoek Centrum Nederland Arrangement and method for etching silicon wafer
JP2016056298A (ja) * 2014-09-10 2016-04-21 東京応化工業株式会社 エッチング装置及び製造システム
DE102017206432A1 (de) * 2017-04-13 2018-10-18 Rct Solutions Gmbh Vorrichtung und Verfahren zur chemischen Behandlung eines Halbleiter-Substrats mit einer gesägten Oberflächenstruktur

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DE102017206432A1 (de) * 2017-04-13 2018-10-18 Rct Solutions Gmbh Vorrichtung und Verfahren zur chemischen Behandlung eines Halbleiter-Substrats mit einer gesägten Oberflächenstruktur

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