JPH1129794A5 - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPH1129794A5 JPH1129794A5 JP1997197782A JP19778297A JPH1129794A5 JP H1129794 A5 JPH1129794 A5 JP H1129794A5 JP 1997197782 A JP1997197782 A JP 1997197782A JP 19778297 A JP19778297 A JP 19778297A JP H1129794 A5 JPH1129794 A5 JP H1129794A5
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- water
- present
- ultrapure water
- electronic materials
- membrane
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19778297A JP3940967B2 (ja) | 1997-07-08 | 1997-07-08 | 電子材料用洗浄水の製造方法及び電子材料の洗浄方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19778297A JP3940967B2 (ja) | 1997-07-08 | 1997-07-08 | 電子材料用洗浄水の製造方法及び電子材料の洗浄方法 |
Publications (3)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1129794A JPH1129794A (ja) | 1999-02-02 |
| JPH1129794A5 true JPH1129794A5 (enExample) | 2005-04-07 |
| JP3940967B2 JP3940967B2 (ja) | 2007-07-04 |
Family
ID=16380269
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP19778297A Expired - Fee Related JP3940967B2 (ja) | 1997-07-08 | 1997-07-08 | 電子材料用洗浄水の製造方法及び電子材料の洗浄方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3940967B2 (enExample) |
Families Citing this family (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4506909B2 (ja) * | 1999-02-17 | 2010-07-21 | 栗田工業株式会社 | シリコン基板表面酸化膜の平坦化処理方法 |
| TW464970B (en) | 1999-04-21 | 2001-11-21 | Sharp Kk | Ultrasonic cleaning device and resist-stripping device |
| JP4484980B2 (ja) | 1999-05-20 | 2010-06-16 | 株式会社ルネサステクノロジ | フォトマスクの洗浄方法、洗浄装置およびフォトマスクの洗浄液 |
| JP4683314B2 (ja) * | 2000-08-01 | 2011-05-18 | 栗田工業株式会社 | 半導体用シリコン基板の洗浄方法 |
| CN1444259A (zh) | 2002-03-12 | 2003-09-24 | 株式会社东芝 | 半导体器件的制造方法 |
| JP4967001B2 (ja) * | 2009-03-13 | 2012-07-04 | ミズ株式会社 | 水素含有生体適用液の製造方法、及びそのための装置 |
| KR101255895B1 (ko) * | 2009-12-10 | 2013-04-17 | 가부시키가이샤 코아테크노로지 | 포화 가스 함유 나노 버블수의 제조 방법 |
| JP5353730B2 (ja) * | 2010-01-25 | 2013-11-27 | 信越半導体株式会社 | 超音波洗浄方法と超音波洗浄装置、および超音波洗浄に用いる伝播水の製造方法 |
| JP5266267B2 (ja) * | 2010-02-26 | 2013-08-21 | ミズ株式会社 | 水素含有生体適用液の製造方法及び製造装置 |
| JP6154860B2 (ja) * | 2015-07-17 | 2017-06-28 | 野村マイクロ・サイエンス株式会社 | 洗浄用水素水の製造方法及び製造装置 |
-
1997
- 1997-07-08 JP JP19778297A patent/JP3940967B2/ja not_active Expired - Fee Related
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| KR101514863B1 (ko) | 전자 재료용 세정수, 전자 재료의 세정 방법 및 가스 용해수의 공급 시스템 | |
| JP3409849B2 (ja) | 電子部品部材類洗浄用洗浄液の製造装置 | |
| KR101364903B1 (ko) | 가스용해 세정수의 제조방법, 제조장치 및 세정장치 | |
| KR102474716B1 (ko) | pH 및 산화 환원 전위를 제어 가능한 희석 약액의 제조 장치 | |
| JP2003205299A (ja) | 水素溶解水製造装置 | |
| CN115121124A (zh) | 过滤膜的清洗方法及清洗装置、以及水处理系统 | |
| JP3296405B2 (ja) | 電子部品部材類の洗浄方法及び洗浄装置 | |
| TWI601695B (zh) | Method for producing ozone gas dissolved water and washing method of electronic material | |
| JPH1129794A5 (enExample) | ||
| JPH041679B2 (enExample) | ||
| JP2014000548A (ja) | 超純水製造システムの立ち上げ時の洗浄方法 | |
| JP2000354729A (ja) | 洗浄用機能水製造方法及び製造装置 | |
| WO2017191829A1 (ja) | 超純水製造装置の立ち上げ方法 | |
| JP3940967B2 (ja) | 電子材料用洗浄水の製造方法及び電子材料の洗浄方法 | |
| JP6900975B2 (ja) | pH調整水製造装置 | |
| JP3639102B2 (ja) | ウェット処理装置 | |
| JP3332323B2 (ja) | 電子部品部材類の洗浄方法及び洗浄装置 | |
| JP4119040B2 (ja) | 機能水製造方法及び装置 | |
| JP4273440B2 (ja) | 電子材料用洗浄水及び電子材料の洗浄方法 | |
| JP2004050019A (ja) | 超純水供給設備 | |
| JP2001157879A5 (enExample) | ||
| JP2010135810A (ja) | 水溶液のpH及び酸化還元電位の制御方法及びその装置 | |
| JP2006073747A (ja) | 半導体ウェーハの処理方法およびその装置 | |
| JP3797775B2 (ja) | 電子材料用ウェット洗浄装置及び電子材料用洗浄液の処理方法 | |
| JPH10128253A (ja) | 電子部品部材類の洗浄方法及び洗浄装置 |