JPH11297913A - 半導体デバイスの製造方法と製造装置 - Google Patents

半導体デバイスの製造方法と製造装置

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JPH11297913A
JPH11297913A JP9918798A JP9918798A JPH11297913A JP H11297913 A JPH11297913 A JP H11297913A JP 9918798 A JP9918798 A JP 9918798A JP 9918798 A JP9918798 A JP 9918798A JP H11297913 A JPH11297913 A JP H11297913A
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mold
semiconductor device
die
lower mold
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JP9918798A
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Tateo Sanemori
健郎 實盛
Tomoyuki Tanaka
智之 田中
Shoichi Tanaka
彰一 田中
Zenichiro Tabuchi
善一郎 田渕
Tsugio Murayama
次雄 村山
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Panasonic Holdings Corp
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Matsushita Electronics Corp
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    • H01ELECTRIC ELEMENTS
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 リードフレームと成形金型の位置合わせを高
精度に行うことができ、ディプレス後のリードフレーム
の反りの発生を防止する。 【解決手段】 フレーム成形金型を構成する上金型2と
下金型8がそれぞれ独立して平面方向に移動可能な状態
で、位置規正ピン7をピン挿入用穴12に挿入する。こ
れにより位置規正ピン7とピン挿入用穴12の中心位置
がずれても、上金型2と下金型8の平面方向の移動によ
り上金型2と下金型8の位置がそれぞれ補正され、上下
金型とリードフレーム11が位置合わせされる。また、
位置規正ピン7をピン挿入用穴12から抜いた後、上金
型2と下金型8の平面方向のずれを基準位置まで補正移
動する。また、上金型2と下金型8に設けた突起による
圧縮の作用によりリードフレームに凹部を形成し、リー
ドフレームの変形量を増大させる。また、吊りリード部
を圧縮し、リードフレームの変形量を増大させる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】この発明は、半導体デバイス
の製造方法と製造装置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】周知のように、半導体素子の固定および
基板との電気的接続などを担うリードフレームは、封止
後のパッケージ最終製品形状を薄くしたり、ワイヤボン
ディングの低ループ化達成のために、図6に示すよう
に、ディプレス金型51および52を用いてダイパッド
部61の高さをリード周囲部62aの高さよりも低い位
置に設定することが一般的である。リードフレームのデ
ィプレス後の形状は、1本の吊りリード部62bに対し
て数箇所の曲げ部を設けて、ダイパッド部61とリード
周囲部62aが平行になるように変形される。
【0003】従来、リードフレームのディプレス方法と
しては、例えば、図5に示すように、下金型52の上に
リードフレーム62の位置合わせを行って載置し、ポス
ト1に沿って上下動する上金型51を前記リードフレー
ム62の上に降下させ、上金型51に固定されている位
置合わせピン7をリードフレーム62のピン挿入用の穴
12に挿入し、金型とリードフレーム62の位置合わせ
を完全に行った後、油圧や電動を利用した圧縮力によ
り、前記リードフレーム62を上下金型51,52の接
触面の形状に沿って変形させる。
【0004】ところで、変形されたディプレス後のリー
ドフレームは、半導体素子をダイパッド面に接合させる
ダイボンディング工程、半導体素子の電極部とリードフ
レームのインナーリードをAu線やAl線などで結線す
るワイヤーボンディング工程、半導体素子およびボンデ
ィング部を保護・被覆するために樹脂によって封止する
封止工程、その後、めっき工程、リード成形工程を経て
最終製品形状に加工される。これらの、リードフレーム
のディプレス後の各工程においては、リードフレームの
形状精度が歩留まりに与える影響が大きい。したがっ
て、ディプレスによるリードフレームの形状精度につい
ては、ばらつきが小さく、反りの発生を極力抑えること
が望ましい。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、成形工
程に送られてきたリードフレームと成形金型の位置合わ
せを高精度に行わなければ、リードフレームが所要の形
状に変形されないばかりか、後工程での修正が不可能に
なる場合も発生する。通常、金型に対するリードフレー
ムの位置合わせは、リードフレームの1ピッチ送り毎
に、位置規正ピンをリードフレームのピン挿入用の穴に
挿入して行うが、リードフレームの送り量のばらつきに
よって、位置規正ピンのピン挿入用穴への挿入時に、ピ
ンと穴の中心位置がずれて、リードフレームにせん断力
を与えてしまうことがあり、滑らかな位置規正ピンの挿
入が困難になるという問題があった。
【0006】また、成形金型によるディプレス作業によ
って、リードフレームには引張り応力が発生するが、完
全なる塑性変形ではないために、ディプレス後はリード
フレームのスプリングバック作用により、反りの発生を
防止することが困難となるという問題もあった。したが
って、この発明の目的は、上記技術的課題を解消するた
めになされたもので、リードフレームと成形金型の位置
合わせを高精度に行うことができ、ディプレス後のリー
ドフレームの反りが発生せず、所要の形状に加工できる
半導体デバイスの製造方法と製造装置を提供することで
ある。
【0007】
【課題を解決するための手段】この目的を達成するため
にこの発明の請求項1記載の半導体デバイスの製造方法
は、対向する接触面の少なくとも一方に突起を設けた上
金型と下金型を用意し、半導体デバイスに用いられるリ
ードフレームを接触面に配置して成形することで、突起
による圧縮の作用によりリードフレームに凹部を形成
し、この凹部に相当する体積分だけリードフレームの変
形量を増大させることを特徴とする。
【0008】リードフレームを上金型と下金型の接触面
に配置して成形する際、リードフレームには引張り応力
が発生して変形するものの、完全なる塑性変形ではない
ために、成形後はリードフレームのスプリング作用によ
り、反りが発生することがあるが、上記のように対向す
る接触面の少なくとも一方に突起を設けた上金型と下金
型を用意し、突起による圧縮の作用によりリードフレー
ムに凹部を形成し、この凹部に相当する体積分だけリー
ドフレームの変形量を増大させるので、内部応力の発生
を抑制でき、リードフレームの反りを抑制することが可
能となる。また、突起を設けない場合に比較して、突起
の圧力は同一型締め力でも大きいので、型締め力の軽加
重が可能となり、装置の小型軽量化を達成することがで
きる。
【0009】請求項2記載の半導体デバイスの製造方法
は、半導体デバイスに用いられるリードフレームを上金
型と下金型の対向する接触面に配置して成形する成形工
程を含む半導体デバイスの製造方法であって、リードフ
レームのダイパッド部を支える吊りリード部を、上金型
と下金型によりリードフレーム材質の弾性変形領域を超
える圧縮力で圧縮し、この圧縮した体積分だけリードフ
レームの変形量を増大させることを特徴とする。
【0010】このように、リードフレームのダイパッド
部を支える吊りリード部を上金型と下金型によりリード
フレーム材質の弾性変形領域を超える圧縮力で圧縮し、
この圧縮した体積分だけリードフレームの変形量を増大
させるので、請求項1と同様に内部応力の発生を抑制で
き、リードフレームの反りを抑制することが可能とな
る。
【0011】請求項3記載の半導体デバイスの製造方法
は、半導体デバイスに用いられるリードフレームを上金
型と下金型の対向する接触面に配置し、接触面の一方に
突設した位置規正ピンを、リードフレームに設けたピン
挿入用穴に挿入することにより、上金型と下金型に対す
るリードフレームの位置合わせを行った後、リードフレ
ームを成形する成形工程を含む半導体デバイスの製造方
法であって、上金型と下金型がそれぞれ独立して平面方
向に移動可能な状態で、位置規正ピンを前記ピン挿入用
穴に挿入することを特徴とする。
【0012】上金型と下金型の対向する接触面の一方に
突設した位置規正ピンを、半導体デバイスに用いられる
リードフレームに設けたピン挿入用穴に挿入することに
より、上金型と下金型に対するリードフレームの位置合
わせを行う際、金型に対するリードフレームの初期段階
の位置合わせが正確に行われていないと、位置規正ピン
のピン挿入用穴への挿入時にピンと穴の中心位置がずれ
て、リードフレームにせん断力を与えてしまうことがあ
るが、上記のように上金型と下金型がそれぞれ独立して
平面方向に移動可能な状態で、位置規正ピンをピン挿入
用穴に挿入するので、位置規正ピンとピン挿入用穴の中
心位置がずれても、上金型と下金型の平面方向の移動に
より上金型と下金型の位置がそれぞれ補正され、上下金
型とリードフレームが位置合わせされる。
【0013】請求項4記載の半導体デバイスの製造方法
は、請求項3において、位置規正ピンをピン挿入用穴か
ら抜いた後、上金型と下金型の平面方向のずれを基準位
置まで補正移動する。位置規正ピンをピン挿入用穴から
抜いた後は、上金型と下金型は平面方向に再度移動可能
となり、この状態で上金型と下金型の平面方向のずれを
基準位置まで補正移動するので、次に成形するリードフ
レームのピン挿入用穴と位置規正ピンの初期段階の位置
合わせを行うことができる。
【0014】請求項5記載の半導体デバイスの製造装置
は、相対的に上下動する上側装置および下側装置と、上
側装置および下側装置の間に配置され半導体デバイスに
用いられるリードフレームを成形する上金型および下金
型とを備え、上金型および下金型がそれぞれ独立して平
面方向に移動可能なように上側装置および下側装置にそ
れぞれ保持されていることを特徴とする。
【0015】このように、上金型および下金型がそれぞ
れ独立して平面方向に移動可能なように上側装置および
下側装置にそれぞれ保持されているので、上金型と下金
型に対するリードフレームの位置合わせを行う際、金型
に対するリードフレームの初期段階の位置合わせが正確
に行われていない場合、上金型と下金型の平面方向の移
動により上金型と下金型の位置がそれぞれ補正され、上
下金型とリードフレームが位置合わせされる。
【0016】請求項6記載の半導体デバイスの製造装置
は、請求項5において、上金型と上側装置の間および下
金型と下側装置の間にそれぞれ引力を発生させる位置補
正機構を設けることにより、上金型と下金型の平面方向
のずれを基準位置まで補正移動できるようにした。この
ように、上金型と上側装置の間および下金型と下側装置
の間にそれぞれ引力を発生させる位置補正機構を設ける
ことにより、上金型と下金型の平面方向のずれを基準位
置まで補正移動できるようにしたので、次に成形するリ
ードフレームの初期段階の位置合わせを行うことができ
る。
【0017】
【発明の実施の形態】この発明の実施の形態を図1およ
び図2に基づいて説明する。図1はこの発明の実施の形
態の半導体デバイスの製造装置を示す断面図であり、半
導体デバイスに用いられるリードフレームが、上型と下
型を組み合わせた成形金型により、所要の形状に成形さ
れるリードフレーム成形装置を例として示している。図
2はこの発明の実施の形態におけるディプレス前のリー
ドフレームの斜視図である。なお、ここで言うリードフ
レームとは、半導体素子を固定あるいは半導体素子と基
板との電気的接続を担うためのものであれば、材料や形
状に関して特に限定されるものではない。
【0018】図1に示すように、このリードフレーム成
形装置は、相対的に上下動する上側装置3および下側装
置13と、上側装置3および下側装置13の間に配置さ
れ半導体デバイスに用いられるリードフレーム11を成
形する上金型2および下金型8とを備えている。この場
合、上側装置3が上金型2とともにポスト1に沿って上
下動する。上金型2には位置規正ピン7が固定され、下
金型8には位置規正ピン7が挿入される穴15が設けて
ある。この穴15は、図2に示すリードフレーム11に
開けられたピン挿入用穴12と整合するようにしてあ
る。なお、下金型に位置規正ピンを設けて、これを挿入
する穴を上金型に設けてもよい。
【0019】また、上金型2および下金型8がそれぞれ
独立して平面方向に移動可能なように上側装置3および
下側装置13にそれぞれ保持されている。この場合、上
側装置3と上金型2の間、および下側装置13と下金型
8の間に硬球6を介在させることにより、上金型2およ
び下金型8が硬球6が接している平面方向に移動可能に
なっている。また、上金型2と上側装置3の間および下
金型8と下側装置13の間にそれぞれ引力を発生させる
位置補正機構16を設けている。これにより、上金型2
と下金型8の平面方向のずれを基準位置まで補正移動で
きる。引力を発生させる機構として、上金型2に磁石
5、下金型8に磁石9が取付けられ、上側装置3に磁石
4、下側装置13に磁石10が取付けられている。金型
側の磁石5,9は装置側の磁石9,10とは異極のもの
を取付けているために、上金型の磁石5と上側装置3の
磁石4との間には引力が発生する。同様に、下金型8の
磁石9と下側装置13の磁石10との間にも引力が発生
する。
【0020】次に上記リードフレーム成形装置を用いた
半導体デバイスの製造方法について説明する。上記成形
装置では、初期の段階では平らな形状をした、成形され
るべきリードフレーム11を下金型8と位置合わせした
後に載置し、上側装置3とともに上金型2を降下させ
る。上金型2が下金型8に接触する前に、上金型2に固
定された位置規正ピン7をリードフレーム11に開けら
れたピン挿入用穴12に挿入することで、上下金型2,
8とリードフレーム11の位置合わせを完全に行う。こ
こで、リードフレーム11の金型に対する位置合わせ
は、リードフレーム11の1ピッチ送り毎に、位置規正
ピン7をリードフレーム11のピン挿入用穴12に挿入
して行うが、リードフレーム11の送り量のばらつきに
よって、位置規正ピン7のピン挿入用穴12への挿入時
に、位置規正ピン7とピン挿入用穴12の中心がずれて
いる場合がある。そのため、位置規正ピン7の先端はテ
ーパ加工が施されており、位置規正ピン7とピン挿入用
穴12の中心位置がずれても、ずれ量が許容範囲内であ
れば、位置規正ピン7の挿入時に、硬球6に接している
平面方向の移動が可能な上金型2と下金型8の位置がそ
れぞれ補正され、最終的にピン挿入用穴12と穴15へ
の位置規正ピン7の根元までの挿入が可能となり、上下
金型2,8とリードフレーム11が位置合わせされる。
この後、リードフレーム11をディプレスすることによ
り上金型2と下金型8の接触面の形状に沿って変形させ
る。
【0021】ディプレス終了後は、上金型2の上昇に伴
って位置規正ピン7がピン挿入用穴12および穴15か
ら抜けて、ディプレス時に位置補正された上金型2と下
金型8は、平面方向に再度移動可能となる。この際、上
記の位置補正機構16により、上金型2の磁石5と上側
装置3の磁石4との間、および下金型8の磁石5と下側
装置13の磁石4との間には引力が発生している。した
がって、ディプレス後に移動可能となる上下金型2,8
は、これらの磁石の引力により元の基準位置に戻るの
で、次にディプレスするべきリードフレーム11のピン
挿入用穴12に位置規正ピン7の挿入が上記と同様な方
法により可能となる。
【0022】以上のようにこの実施の形態によれば、位
置規正ピン7をピン挿入用穴12に挿入することによ
り、上金型2と下金型8に対するリードフレーム11の
位置合わせを行う際、金型に対するリードフレーム11
の初期段階の位置合わせが正確に行われていないと、位
置規正ピン7のピン挿入用穴12への挿入時にピン7と
穴12の中心位置がずれて、リードフレーム11にせん
断力を与えてしまうことがあるが、上記のように上金型
2と下金型8がそれぞれ独立して平面方向に移動可能な
状態で、位置規正ピン7をピン挿入用穴12に挿入する
ので、位置規正ピン7とピン挿入用穴12の中心位置が
ずれても、上金型2と下金型8の平面方向の移動により
上金型2と下金型8の位置がそれぞれ補正され、上下金
型2,8とリードフレーム11が位置合わせされる。
【0023】また、上金型2と上側装置3の間および下
金型8と下側装置13の間にそれぞれ引力を発生させる
位置補正機構16を設けることにより、上金型2と下金
型8の平面方向のずれを基準位置まで補正移動できるよ
うにしたので、次に成形するリードフレームの初期段階
の位置合わせを行うことができる。なお、位置補正機構
16として、磁石を用いているが、引力作用のあるもの
ならば特に限定されるものではなく、他に例えば、スプ
リングを用いてもよい。
【0024】この発明の第2の実施の形態を図1〜図3
に基づいて説明する。図1および図2の構成については
第1の実施の形態で説明した通りである。図3はこの発
明の第2の実施の形態におけるリードフレームの成形時
の断面図である。図3に示すように、上金型2と下金型
8の対向する接触面の少なくとも一方に突起が設けてあ
る。この場合、上金型2には先端角度θ1 の突起33、
下金型8には先端角度θ2 の突起34がそれぞれ設けて
ある。その他の構成は第1の実施の形態と同様であり、
同一部材には同一符号を付してその説明を省略する。
【0025】次にこの実施の形態の半導体デバイスの製
造方法について説明する。上記のように構成された上金
型2と下金型8を用意し、第1の実施の形態と同様にリ
ードフレーム22を金型に対する位置合わせを行って、
図2に示すようなリードフレーム22をディプレスする
ことにより、図3に示すような断面形状に成形する。す
なわち、ダイパッド部21と吊りリード部22bを成形
金型で加圧する場合、リードフレーム22を挟み込んで
加圧することで、リードフレーム22の上面に突起33
に対応した深さd1 の凹部31a、下面に突起34に対
応した深さd2の凹部31bを生成させる。22aはリ
ードフレーム周辺部である。
【0026】ところで、ディプレス前には吊りリード部
22bの長さがLaであるのに対して、ディプレス後は
Lbまで伸張させる必要がある。リードフレーム22の
材質は、通常、鉄や銅、ニッケルなどを主成分とする合
金であるが、完全なる塑性領域において、リードフレー
ム22をLaからLbまで伸張させることは困難であ
り、ディプレス後はスプリングバック作用により、リー
ドフレーム22に反りが発生する場合がある。このリー
ドフレーム22の反りを抑制するために、前記金型に設
けた突起33および34によって凹部31aおよび31
bを生成することで、リードフレーム22の凹部31
a,31bに相当する体積分だけ、吊りリード部22b
が伸びて内部応力の発生を抑制することが可能となり、
リードフレーム22の反りも防止できる。
【0027】以上のようにこの実施の形態によれば、突
起33,34による圧縮の作用によりリードフレーム2
2に凹部31a,31bを形成し、この凹部31a,3
1bに相当する体積分だけリードフレーム22の変形量
を増大させるので、内部応力の発生を抑制でき、リード
フレーム22の反りを抑制することが可能となる。ま
た、突起33,34を設けない場合に比較して、突起3
3,34の圧力は同一型締め力でも大きいので、型締め
力の軽加重が可能となり、装置の小型軽量化を達成する
ことができる。
【0028】この発明の第3の実施の形態を図1、図
2、図4に基づいて説明する。図1および図2の構成に
ついては第1の実施の形態で説明した通りである。図4
はこの発明の第3の実施の形態におけるリードフレーム
の成形時の断面図である。図4に示すように、上金型2
と下金型8の対向する接触面は従来と同様の形状である
が、リードフレーム材質の弾性変形領域を超える圧縮力
で吊りリード部22cを圧縮する。その他の構成は、第
1の実施の形態と同様であり、同一部材に同一符号を付
してその説明を省略する。
【0029】次にこの実施の形態の半導体デバイスの製
造方法について説明する。第1の実施の形態と同様にリ
ードフレーム22を金型に対する位置合わせを行って成
形する。この場合、図4に示すように、初期の厚みta
の吊りリード部22cに対して、上金型2と下金型8の
圧縮作用を与えることで、厚みtbの吊りリード部22
cに変形させる。リードフレーム材質の弾性変形領域を
超える圧縮力により、圧縮部41の変形した体積分だ
け、吊りリード部22cが伸びて内部応力の発生を抑制
することが可能となり、リードフレーム22の反りも防
止できる。
【0030】以上のようにこの実施の形態によれば、リ
ードフレーム22のダイパッド部21を支える吊りリー
ド部22cを上金型2と下金型8によりリードフレーム
材質の弾性変形領域を超える圧縮力で圧縮し、この圧縮
した体積分だけリードフレーム22の変形量lを増大さ
せるので、第2の実施の形態にリードフレーム22の反
りを抑制することが可能となる。
【0031】なお、第2の実施の形態と第3の実施の形
態を組み合わせてもよく、また第2の実施の形態と第3
の実施の形態を図5に示すような従来の成形金型に適用
することもできる。
【0032】
【発明の効果】この発明の請求項1記載の半導体デバイ
スの製造方法によれば、リードフレームを上金型と下金
型の接触面に配置して成形する際、リードフレームには
引張り応力が発生して変形するものの、完全なる塑性変
形ではないために、成形後はリードフレームのスプリン
グ作用により、反りが発生することがあるが、上記のよ
うに対向する接触面の少なくとも一方に突起を設けた上
金型と下金型を用意し、突起による圧縮の作用によりリ
ードフレームに凹部を形成し、この凹部に相当する体積
分だけリードフレームの変形量を増大させるので、内部
応力の発生を抑制でき、リードフレームの反りを抑制す
ることが可能となる。また、突起を設けない場合に比較
して、突起の圧力は同一型締め力でも大きいので、型締
め力の軽加重が可能となり、装置の小型軽量化を達成す
ることができる。
【0033】この発明の請求項2記載の半導体デバイス
の製造方法によれば、リードフレームのダイパッド部を
支える吊りリード部を上金型と下金型によりリードフレ
ーム材質の弾性変形領域を超える圧縮力で圧縮し、この
圧縮した体積分だけリードフレームの変形量を増大させ
るので、請求項1と同様に内部応力の発生を抑制でき、
リードフレームの反りを抑制することが可能となる。
【0034】この発明の請求項3記載の半導体デバイス
の製造方法によれば、上金型と下金型の対向する接触面
の一方に突設した位置規正ピンを、半導体デバイスに用
いられるリードフレームに設けたピン挿入用穴に挿入す
ることにより、上金型と下金型に対するリードフレーム
の位置合わせを行う際、金型に対するリードフレームの
初期段階の位置合わせが正確に行われていないと、位置
規正ピンのピン挿入用穴への挿入時にピンと穴の中心位
置がずれて、リードフレームにせん断力を与えてしまう
ことがあるが、上記のように上金型と下金型がそれぞれ
独立して平面方向に移動可能な状態で、位置規正ピンを
ピン挿入用穴に挿入するので、位置規正ピンとピン挿入
用穴の中心位置がずれても、上金型と下金型の平面方向
の移動により上金型と下金型の位置がそれぞれ補正さ
れ、上下金型とリードフレームが位置合わせされる。
【0035】請求項4では、位置規正ピンをピン挿入用
穴から抜いた後は、上金型と下金型は平面方向に再度移
動可能となり、この状態で上金型と下金型の平面方向の
ずれを基準位置まで補正移動するので、次に成形するリ
ードフレームのピン挿入用穴と位置規正ピンの初期段階
の位置合わせを行うことができる。この発明の請求項5
記載の半導体デバイスの製造装置によれば、上金型およ
び下金型がそれぞれ独立して平面方向に移動可能なよう
に上側装置および下側装置にそれぞれ保持されているの
で、上金型と下金型に対するリードフレームの位置合わ
せを行う際、金型に対するリードフレームの初期段階の
位置合わせが正確に行われていない場合、上金型と下金
型の平面方向の移動により上金型と下金型の位置がそれ
ぞれ補正され、上下金型とリードフレームが位置合わせ
される。
【0036】請求項6では、上金型と上側装置の間およ
び下金型と下側装置の間にそれぞれ引力を発生させる位
置補正機構を設けることにより、上金型と下金型の平面
方向のずれを基準位置まで補正移動できるようにしたの
で、次に成形するリードフレームの初期段階の位置合わ
せを行うことができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】この発明の第1の実施の形態の半導体デバイス
の製造装置の断面図である。
【図2】この発明の実施の形態におけるディプレス前の
リードフレームの斜視図である。
【図3】この発明の第2の実施の形態におけるリードフ
レームの成形時の断面図である。
【図4】この発明の第3の実施の形態におけるリードフ
レームの成形時の断面図である。
【図5】従来例の半導体デバイスの製造装置の断面図で
ある。
【図6】従来例におけるリードフレーム成形時の断面図
である。
【符号の説明】
1 ポスト 2 上金型 3 上側装置 4 上側装置磁石(スプリング) 5 上金型磁石(スプリング) 6 硬球 7 位置規正ピン 8 下金型 9 下金型磁石(スプリング) 10 下側装置磁石(スプリング) 11 リードフレーム 12 ピン挿入用穴 13 下側装置 21 ダイパッド部 22b,22c 吊りリード部 31a,31b 凹部 22a リードフレーム周辺部 33 上金型突起 34 下金型突起 41 圧縮部 La ディプレス前吊りリード長さ Lb ディプレス後吊りリード長さ d1,d2 窪み深さ θ1,θ2 突起先端角度 l 変形量 ta ディプレス前厚み tb ディプレス後厚み 51 上金型(従来例) 52 下金型(従来例)
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 田渕 善一郎 大阪府高槻市幸町1番1号 松下電子工業 株式会社内 (72)発明者 村山 次雄 大阪府高槻市幸町1番1号 松下電子工業 株式会社内

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 対向する接触面の少なくとも一方に突起
    を設けた上金型と下金型を用意し、半導体デバイスに用
    いられるリードフレームを前記接触面に配置して成形す
    ることで、前記突起による圧縮の作用により前記リード
    フレームに凹部を形成し、この凹部に相当する体積分だ
    けリードフレームの変形量を増大させることを特徴とす
    る半導体デバイスの製造方法。
  2. 【請求項2】 半導体デバイスに用いられるリードフレ
    ームを上金型と下金型の対向する接触面に配置して成形
    する成形工程を含む半導体デバイスの製造方法であっ
    て、前記リードフレームのダイパッド部を支える吊りリ
    ード部を、前記上金型と下金型によりリードフレーム材
    質の弾性変形領域を超える圧縮力で圧縮し、この圧縮し
    た体積分だけリードフレームの変形量を増大させること
    を特徴とする半導体デバイスの製造方法。
  3. 【請求項3】 半導体デバイスに用いられるリードフレ
    ームを上金型と下金型の対向する接触面に配置し、前記
    接触面の一方に突設した位置規正ピンを、前記リードフ
    レームに設けたピン挿入用穴に挿入することにより、前
    記上金型と下金型に対する前記リードフレームの位置合
    わせを行った後、前記リードフレームを成形する成形工
    程を含む半導体デバイスの製造方法であって、前記上金
    型と下金型がそれぞれ独立して平面方向に移動可能な状
    態で、前記位置規正ピンを前記ピン挿入用穴に挿入する
    ことを特徴とする半導体デバイスの製造方法。
  4. 【請求項4】 位置規正ピンをピン挿入用穴から抜いた
    後、上金型と下金型の平面方向のずれを基準位置まで補
    正移動する請求項3記載の半導体デバイスの製造方法。
  5. 【請求項5】 相対的に上下動する上側装置および下側
    装置と、前記上側装置および下側装置の間に配置され半
    導体デバイスに用いられるリードフレームを成形する上
    金型および下金型とを備え、前記上金型および下金型が
    それぞれ独立して平面方向に移動可能なように前記上側
    装置および下側装置にそれぞれ保持されていることを特
    徴とする半導体デバイスの製造装置。
  6. 【請求項6】 上金型と上側装置の間および下金型と下
    側装置の間にそれぞれ引力を発生させる位置補正機構を
    設けることにより、前記上金型と下金型の平面方向のず
    れを基準位置まで補正移動できるようにした請求項5記
    載の半導体デバイスの製造装置。
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CN112588966A (zh) * 2020-12-08 2021-04-02 斯沃博达汽车电子(昆山)有限公司 一种汽车七档变速箱引线框架的模具

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