JPH11290420A - 高純度薬品液用容器および高純度薬品液の排出方法 - Google Patents
高純度薬品液用容器および高純度薬品液の排出方法Info
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Abstract
度薬品用容器を提供する。 【解決手段】高純度薬品液用容器1は、エチレン、プロピ
レン、ブテン-1、4-メチル-ペンテン-1、ヘキセン-1、また
はオクテン-1のオレフインの重合体、およびエチレンと
それ以外のオレフインの共重合体の中から選ばれる少な
くとも1種類を含む高純度樹脂からなる内層3と、ポリア
ミド、ポリビニルアルコール、ポリ(エチレン-コ-ビニル
アルコール)、ポリエステルおよびポリフェニレンオキシ
ドから選ばれる少なくとも1種類を含む溶剤バリアー性
樹脂の中間層4と、遮光性物質を含む樹脂組成物からなる
外層5とがブロー成形された容器であり、分光光度計によ
り測定される容器1の全層3、4、5の波長400nm以下におけ
る最低吸光度が2.0以上で、かつ該全層の吸光度を該全層
3、4、5の厚みで除した波長400nmにおける吸光係数が1.5m
m-1以上、同じく波長600nmにおける吸光係数が1.5mm-1以
下である。
Description
分野で使用される高純度薬品液の貯蔵に用いられる容器
と、その容器から高純度薬品液を排出する方法に関する
ものである。
り、集積回路等のデザインルールは微細化の一途をたど
っている。このような微細加工に用いられるフォトレジ
スト液等の高純度薬品液には、優れた基本的性能を有す
ると共に、保存および輸送中に品質の低下を招かないこ
とが要求される。品質の低下とは、例えば、フォトレジ
スト液中の不純微粒子の増加、成分の変性、組成の量的
変化、不純金属元素の増加、または感光成分の光による
変質を意味する。フォトレジスト液中の微粒子の増加や
成分の変性は、主に容器の材質から液中への浸出により
起こる。この液を基板に塗布してフォトレジスト膜を形
成すると、ピンホールが発生する。また、液の組成の量
的変化は、液中の有機溶剤の外部への透過により起こ
る。このとき粘度が変化するのでフォトレジスト膜厚が
変動してしまう。
は、半導体、液晶ディスプレイの品質および歩留まりに
著しい悪影響を及ぼし、この液自体の保存期間を短くし
てしまう。
ている間に、不純微粒子が浸出し、品質が低下する度合
いを示す指標としてクリーン度というものがある。クリ
ーン度は、検査容器に一定期間超純水あるいはフォトレ
ジスト液を貯蔵した後、貯蔵されていた内容液1ml中
に粒径0.2μm以上の微粒子がいくつ存在するかを算
定して求める。具体的には次式で定義される。
査容器からサンプリングした内容液の量である。まず初
期クリーン度を測定するためのサンプリング液は次のよ
うにして採取される。容量a(ml)の検査容器に容量
の半分、a/2(ml)の超純水あるいはフォトレジス
ト液を入れ、15秒間振とうし24時間静置した後に採
取する。貯蔵後のクリーン度を測定するためのサンプリ
ング液は、初期クリーン度測定後の容器に栓体を取り付
けて一定期間放置し、気泡を発生させないように容器を
3回転させた後に採取される。cはサンプリング液全量
中に含まれる粒子径0.2μm以上の微粒子をパーティ
クルカウンターで数えた値である。その数値をもとに式
(1)で初期および一定期間貯蔵後のクリーン度を算出
する。クリーン度の数値が低いほどフォトレジスト液の
品質が良いことを示す。クリーン度が100個/ml未
満であると、半導体、液晶ディスプレイ(LCD)の品
質および歩留まりが低下することなく、薬液を安定して
貯蔵できる。
薬液を貯蔵する容器としてガラス容器や金属製容器、単
層のポリエチレン(PE)系樹脂製容器が用いられてい
る。しかし、ガラス容器からはナトリウムイオン、金属
製容器からはそれを構成する金属のイオン、例えば鉄イ
オンが溶出し、クリーン度が悪い。また、従来のポリエ
チレン系樹脂にバリアー性組成物を添加し成形した容器
はクリーン度が悪く、遮光性が劣っているため遮光性顔
料及び顔料分散剤を添加すると、さらに悪化する。フォ
トレジスト液を貯蔵する容器には、クリーン度が良く、
遮光性および溶剤バリアー性を有する必要があるので、
いずれの容器も好ましくない。さらに、ガラス容器では
割れ易く、金属容器では重くて取扱いに不便であるとい
う問題点がある。
解決するためなされたもので、フォトレジスト液等の高
純度薬品液の保存および輸送中に、その品質が低下せ
ず、破損しにくく軽量な容器を提供することを目的とす
る。また、保存容器から容易かつ安全に、高純度薬品液
を取り出すことができる排出方法を提供することを目的
とする。
めになされた本発明を、実施例に対応する図面を参照し
て記載すると以下のとおりである。
容器1は、図1に示すとおり、エチレン、プロピレン、
ブテン−1、4−メチル−ペンテン−1、ヘキセン−
1、またはオクテン−1のオレフインの重合体、および
エチレンとそれ以外のオレフインの共重合体の中から選
ばれる少なくとも1種類を含む高純度樹脂からなる内層
3と、ポリアミド、ポリビニルアルコール、ポリ(エチ
レン−コ−ビニルアルコール)、ポリエステルおよびポ
リフェニレンオキシドから選ばれる少なくとも1種類を
含む溶剤バリアー性樹脂の中間層4と、遮光性物質を含
む樹脂組成物からなる外層5とがブロー成形された容器
であり、分光光度計により測定される容器1の全層3、
4、5の波長400nm以下における最低吸光度が2.
0以上で、かつ容器1の全層3、4、5の吸光度を全層
3、4、5の厚みで除した波長400nmにおける吸光
係数が1.5mm-1以上、同じく波長600nmにおけ
る吸光係数が1.5mm-1以下である。容器1には、把
手2を有していることが好ましい。
で、微粒子や金属イオンが浸出しない材質であることが
重要である。内層3は高純度樹脂からなっている。内層
3の樹脂組成物中のゲル・パーミエーション・クロマト
グラフィー(GPC)により測定される重量平均分子量
1×103以下の重合体の含有量は、5重量%未満であ
る。この含有量が5重量%以上のもので成形した容器
は、高純度薬品液中へ不純微粒子が容易に浸出し、クリ
ーン度が100個/ml以上となるので、高純度薬品液
用容器としては使用できない。
溶媒(オルトジクロルベンゼン)に溶かして試料溶液と
し、GPCで分子量および分子量分布を測定する方法に
より行う。重量平均分子量および数平均分子量は次式に
より算出される。
定条件は、装置が150CV(Waters社製)、カ
ラムがTSKgel GMH−HT(東ソー株式会社
製)、溶媒がオルトジクロルベンゼン、温度が138
℃、検出器は示差屈折計である。
イン単位の好ましい含有量は15重量%以下であり、共
重合体の分子構造はアタクチック、アイソタクチックま
たはシンジオタクチックが好ましい。重合法は低圧法あ
るいは中圧法が好ましい。
て適宜所定量用いられる。また中和剤、酸化防止剤およ
び耐光安定剤を添加すると、容器から内容液中へ溶出
し、不純微粒子の原因となるので、それらの添加量は重
要である。
く、低圧法の場合は塩素キャッチャーとして使用され
る。中和剤はカルシウム、マグネシウム、バリウムのよ
うなアルカリ土類金属のステアリン酸塩が挙げられる
が、これらは重合工程での触媒の活性を上げるなどの操
作で最低量とすることが必要である。中和剤の含有量が
樹脂組成物に対して0.01重量%を超えると、クリー
ン度は100個/mlを超え、半導体やLCDの品質お
よび歩留まりを悪化させる。したがって中和剤の含有量
は樹脂組成物に対して0.01重量%以下にする必要が
ある。
ン、ペンタエリスチル−テトラキス〔3−(3,5−ジ
−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネー
ト〕、オクタデシル−3−(3,5−ジ−t−ブチル−
4−ヒドロキシフェニル)プロピオネートのフェノール
系酸化防止剤が挙げられる。中和剤と同様の理由によ
り、酸化防止剤の含有量は樹脂組成物に対して0.01
重量%以下にする。
2−ヒドロキシフェニル)ベンゾトリアゾール、2−
(3−t−ブチル−5−メチル−2−ヒドロキシフェニ
ル)−5−クロロベンゾトリアゾールのベンゾトリアゾ
ール系耐光安定剤、ビス(2,2,6,6−テトラメチ
ル−4−ピペリジン)セバケート、ポリ〔{6−(1,
1,3,3−テトラメチルブチル)アミノ−1,3,5
−トリアジン−2,4−ジイル}{(2,2,6,6−
テトラメチル−4−ピペリジル)イミノ}へキサメチレ
ン{(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペジル)
イミノ}〕のヒンダードアミン系の耐光安定剤が挙げら
れる。中和剤と同様の理由により、耐光安定剤の含有量
は樹脂組成物に対して0.01重量%以下にする。
樹脂組成物をテトラヒドロフラン(THF)を用いて、
ソックスレー抽出器で8時間抽出した抽出液を液体クロ
マトグラフィーで分離、定量した値である。その測定条
件は、装置がGULLIVER(日本分光株式会社
製)、カラムがFinepak GEL 101(日本
分光株式会社製)、溶媒がTHF,検出器がUV−97
0(日本分光株式会社製)と830−RI(日本分光株
式会社製)である。
ール、ポリ(エチレン−コ−ビニルアルコール)、ポリ
エステルおよびポリフェニレンオキシドから選ばれる少
なくとも1種類を含む溶媒バリアー性樹脂からなる。高
純度薬品液15に用いられる有機溶剤としては、例え
ば、フォトレジスト液に含有されるメチルエチルケトン
などのケトン類、乳酸エチルなどのエステル類、γ−ブ
チロラクトンなどのラクトン類およびエチルセロソルブ
アセテートなどのセロソルブ類が挙げられる。溶剤バリ
アー性樹脂は、使用する有機溶剤に応じて選択する。
る。遮光性組成物を含む熱可塑性樹脂であれば基本的に
はどの樹脂でも使用できるが、オレフイン系樹脂が好ま
しい。外層5の樹脂組成物中に、数平均分子量2×10
3以上のポリエチレンおよびポリプロピレンの中から選
ばれる少なくとも1種類のオレフイン系重合体からなる
顔料分散剤5重量%未満と、無機顔料および有機顔料の
中から選ばれる少なくとも1種類の遮光性顔料0.01
〜5重量%とが含まれている。
オレフイン系重合体が挙げられる。前記顔料の高度の分
散を得るために添加される分散剤の数平均分子量は2×
103以上であり、かつ分散剤の含有量が5重量%未満
であることが好ましい。分散剤の数平均分子量が2×1
03未満であったり、分散剤の含有量が5重量%を超え
るとクリーン度が悪化し、高純度薬品液容器には適さな
い。
ック、ベンガラ、二酸化珪素の無機顔料、フタロシアニ
ン系、キナクリドン系、アゾ系の有機顔料が挙げられ
る。遮光性顔料の含有量は樹脂組成物に対して0.01
重量%〜5重量%であることが好ましい。遮光性顔料の
含有量が樹脂組成物に対して0.01重量%未満では十
分な遮光効果が得られず、5重量%を超えるとクリーン
度が悪化し、高純度薬品液容器には適さない。
の紫外線吸収剤が含まれているとさらに好ましい。紫外
線吸収剤は、フェニルサリシレート、p−オクチルフェ
ニルサリシレートなどのサリチル酸系紫外線吸収剤、
2,4−ヒドロキシペンゾフェノン、ビス(2−メトキ
シ−4−ヒドロキシ−5−ベンゾイルフェニル)メタン
などのベンゾフェノン系紫外線吸収剤、2−(5−メチ
ル−2−ヒドロキシフェニル)ベンゾトリアゾール、2
−(3−t−ブチル−5−メチル−2−ヒドロキシフェ
ニル)−5−クロロベンゾトリアゾールなどのベンゾト
リアゾール系紫外線吸収剤、2−エチルヘキシル−2−
シアノ−3,3−ジフェニルアクリレート、エチル−2
−シアノ−3,3−ジフェニルアクリレートなどのシア
ノアクリレート系紫外線吸収剤が挙げられる。紫外線吸
収剤の含有量が2.5重量%を超えるとクリーン度が悪
化し、高純度薬品液用容器には適さない。
体プロセスや液晶ディスプレイ用に使用されるフォトレ
ジスト液や希釈溶剤をはじめ、その他の高純度薬品液が
貯蔵できる。例えば、紫外線レジスト、遠紫外線レジス
ト、電子線レジスト、X線レジストおよび液晶ディスプ
レイ用カラーレジストなどが挙げられる。これらの半導
体プロセス用フォトレジストは、クレゾール−ホルムア
ルデヒドノボラック樹脂またはポリ(ビニルフェノー
ル)等のアルカリ可溶性樹脂と、ベンゾキノンジアジド
スルホン酸エステル、ナフトキノンジアジドスルホン酸
エステル、ベンゾキノンジアジドスルホン酸アミドおよ
びナフトキノンジアジドスルホン酸アミド等のキノンジ
アジド系感光剤とを必須成分として含有するポジ型フォ
トレジストである。液晶ディスプレイ用カラーレジスト
としては、アクリル酸エステルモノマー、トリハロメチ
ルトリアジン系光重合開始剤とアクリル酸/アクリル酸
エステルの共重合体からなるフォトポリマーに有機顔料
を分散させたものが挙げられる。こうしたフォトレジス
トは200〜500nmの光に感光し易い成分を含んで
いるので、容器は遮光性を有する必要がある。従って、
分光光度計により測定される容器1の全層3、4、5の
波長400nm以下における最低吸光度が2.0以上で
あり、かつ容器1の全層3、4、5の吸光度を全層3、
4、5の厚みで除した波長400nmにおける吸光係数
が1.5mm-1以上にする。あるいは、全層の最低吸光
度が2.0以上で、かつ波長400nmにおける吸光係
数が1.5mm-1以上、波長600nmにおける吸光係
数が1.5mm-1以下にする。
の樹脂との接着には、市販の変性ポリオレフイン樹脂な
どの接着樹脂を適当な厚さで使用することが好ましい。
ようにして製造される。内層3は前記オレフィン系の高
純度樹脂、中間層4は前記溶剤バリアー性樹脂、外層5
は前記遮光性組成物を含む樹脂を原料に用いる。容器1
は、内層側からオレフイン系高純度樹脂/接着樹脂/溶
剤バリアー性樹脂/接着樹脂/遮光性組成物を含む樹脂
の少なくとも5層にブロー成形して得られる。ブロー成
形に用いられる成形機は少なくとも4本のスクリューを
持つものであれば、通常使用されるものでかまわない。
各押出機により各樹脂を溶融して筒状のパリソンに押出
し、押出されたパリソンを金型で挟んで、ブローピンよ
り加圧ガスを吹き込み、冷却し、容器1を成形する。
の排出方法を、実施例に対応する図面を参照して記載す
ると以下のとおりである。
うに、液排出管10の先端を外部に導出し、その末端を
底部まで挿入し高純度薬品液15の充填されたインナー
容器1を、耐圧保護容器12、13内に密封収納し、耐
圧保護容器13に連結した加圧源6から供給されるガス
圧で、高純度薬品液15を液排出管10から排出するも
のである。耐圧保護容器12、13は薬液に直接接触し
ないため、ガス圧0.1〜3.0kg/cm2に耐えら
れる材質であれば特別な材質のものを使用する必要はな
い。
3に示すように、液排出管10の先端を外部に導出し、
その末端を底部まで挿入し高純度薬品液15の充填され
たインナー容器1を、保護容器22、23内に収納し、
液排出の経路上に設けられたポンプ16により高純度薬
品液15を液排出管10から排出するものである。開放
口19にはフィルター14が接続されていることが好ま
しい。
は、図4に示すように、液排出管10の先端を外部に導
出し、その末端を底部まで挿入してある高純度薬品液1
5の充填された耐圧インナー容器1を保護容器32、3
3に収納し、耐圧インナー容器1に連結した加圧源6か
ら供給されるガス圧で高純度薬品液15を液排出管10
から排出するものである。
5を収納するインナー容器1は、図1に示す高純度薬品
用容器であることが好ましい。
うにして試作した。
cm3、メルトインデックスが0.15g/10mi
n.で、中和剤、酸化防止剤および耐光安定剤を含まな
い中圧法により製造されたポリエチレンを使用した。G
CPにより測定される重量平均分子量は1×103以下
の重合体の含有量は1.41重量%である。
cm3、メルトインデックスが1.3g/10min.
で、エチレン共重合比率が32mol%のエチレン−ビ
ニルアルコール共重合樹脂を使用した。
平均分子量が2×103以上のポリエチレンを0.30
重量%含み、密度が0.956g/cm3、メルトイン
デックスが0.30g/10min.で、ポリエチレン
ペレト100部に、遮光性顔料としてベンガラ5.3重
量%およびカーボンブラック0.2重量%を含むマスタ
ーバッチ3重量部をドライブレンドして使用した。
m3、メルトインデックスが0.2g/10min.の
接着性ポリオレフイン樹脂(三井化学株式会社製:HB
500)を使用した。
つ多層ブロー成形機(BEKUM社製)を用いた。各押
出機により各樹脂を200℃で溶融して筒状のパリソン
に押出した。押出されたパリソンを金型で挟んで、ブロ
ーピンより6kg/cm2の加圧ガスを吹き込み、冷却
し、容器1を成形した。試作した容器1は、内層/接着
樹脂/中間層/接着樹脂/外層の順で、平均厚みが0.
680/0.045/0.050/0.045/0.6
80mmの4種5層構造であり、容量は4リットルであ
る。
た。容器1に超純水製造装置(商品名:トレピュアLV
−10T(東レ株式会社製))で製造した超純水2リッ
トルを入れ、キャップを取り付けて密閉して15秒間振
とうし、24時間静置後に5ml採取し、その中に浸出
した0.2μm以上の微粒子の数をパーティクルカウン
ター(タイプ:KL−22(リオン株式会社製))で測
定した。
同様の次式(4)で計算し、超純水によるクリーン度と
した。その結果を表1に示した。
ラック樹脂およびナフトキノンジアジドスルホン酸エス
テル系感光剤を含む固形分と、溶剤がメチルアミルケト
ンからなるポジ型フォトレジスト(レジスト1)の2リ
ットルを容器1に入れ、上記と同様に(5)式により、
クリーン度を求めた。その結果を表1に示した。
し、常温で6ヶ月間放置した。6ヶ月間経過した容器
を、気泡を発生させないように3回転させて、容器1内
のレジスト1を振とうし、5ml採取した。上記と同様
にしてレジスト1中の微粒子数(個/ml)を計算し、
6ヶ月後のクリーン度とした。その結果を表1に示し
た。
12個/ml、レジスト1中のクリーン度は8個/m
l、6ヶ月後のクリーン度は26個/mlと不純微粒子
の浸出が極めて少なかった。
り取り、分光光度計(タイプ:Ubest−55(日本
分光株式会社製))により波長900〜200nmの吸
光度を測定した。波長400nm以下における最低吸光
度は2.42であり、600nmの吸光度は1.21
(透過率10-0.79%)で吸光係数は0.77mm-1、
400nmの吸光度は2.42(透過率10-0.42%)
で吸光係数は1.54mm-1と、極めて良好な遮光性を
示す。この時のサンプルの厚みは1.57mmであっ
た。
入れ、キャップにより完全に密閉した状態で23℃およ
び40℃の恒温室へ保管、経時によるメチルアミルケト
ンの重量変化量(%)を測定した。その結果を表1に示
した。表1に示したように、23℃での6ヶ月後の重量
変化量は0.01%以下、40℃での3ヶ月後の重量変
化量は0.01%以下であり重量減少量は極めて少なか
った。
を入れ、キャップにより完全に密閉した状態で23℃の
恒温室へ保管、6ヶ月後のメチルアミルケトン中のメタ
ルイオン濃度をICP−MS(HP−4500:横河ア
ナリティカルシステムズ製)により測定した。その結果
を表2に示した。表2に示したように、23℃において
6ヶ月経過後もメタルイオン濃度の増加は認められなか
った。
レジスト1の塗布性能への影響を調べるため、23℃で
6ヶ月間保存後のレジスト1をスピンコーターを用いて
シリコンウエハーに塗布し、フォトレジストの膜厚およ
び塗布性(ピンホールおよびストリエーションの有無)
を検査した。その結果を表3に示す。
(4000rpm)を用いてレジスト1を塗布後、90
℃で1分間プリベークしたときのフォトレジスト膜の厚
みであり、その変動の許容値は初期値の±0.5%以内
である。表3中で、塗布性の“良好”はストリエーショ
ンおよびピンホールが認められなかったことを示す。塗
布性能の総合判定における“良好”はフォトレジスト膜
の厚みの変動が初期値の±0.5%以内であり、かつ塗
布性が良好であることを示す。
直後および3ヶ月保存後のレジスト1を、常法により洗
浄したシリコンウエハーにスピンコーターを用いて所定
の条件で塗布し、90℃のホットプレートで1分間ベー
クした。次いで、i線用ステッパーを用いて露光した。
得られたウエハーを110℃のホットプレートで1分間
ベークした。これらのウエハーをアルカリ現像液(2.
38%テトラメチルアンモニウムハイドロオキシド水溶
液)で現像してポジ型パターンを得た。得られたポジ型
パターンの解像度、実効感度、残膜率、スカム(現像残
り)の有無およびシリコンウエハーとの密着性の諸性能
のついて評価した。その結果を表4に示す。
の塗布性能と解像度、感度、残膜率、スカムの有無およ
びシリコンウエハーとの密着性の諸性能に大きな変動が
なく、長期保存後のレジスト1は変質していなかった。
として数平均分子量が2×103以上のポリエチレンを
0.30重量%含み、密度が0.956g/cm3、メ
ルトインデックスが0.30g/10min.のポリエ
チレンペレト100部に、遮光性顔料としてベンガラ
5.3重量%、カーボンブラック0.2重量%および紫
外線吸収剤として2−ヒドロキシ−4−オクトキシべン
ゾフェノン0.1重量%を含むマスターバッチ3重量部
をドライブレンドしたものを用いたことと、内層/接着
樹脂/中間層/接着樹脂/外層の順で、平均厚みを0.
580/0.040/0.050/0.040/0.5
90mmの4種5層に変えた以外は実施例1と同様にし
て、4リットルの容器を試作した。
ルムアルデヒドノボラック樹脂を主成分とするアルカリ
可溶性樹脂およびナフトキノンジアジドスルホン酸エス
テル系感光剤等を含む固形分と、エチルセロソルブアセ
テートの溶剤からなるポジ型フォトレジスト(レジスト
2)に替えて、実施例1と同様に、クリーン度、吸光
度、重量変化量およびメタルイオン濃度を測定した。そ
の結果を表1、および表2に示した。
10個/ml、レジスト2中のクリーン度は11個/m
l、6ヶ月後のクリーン度は22個/mlと不純微粒子
の浸出が極めて少なかった。23℃での6ヶ月後の重量
変化量は0.01%以下、40℃での3ヶ月後の重量変
化量は0.01%以下であり重量減少量は極めて少なか
った。表2に示したように、23℃において6ヶ月経過
後もメタルイオン濃度の増加は認められなかった。
光度は3.33であり、600nmの吸光度は1.62
(透過率100.38%)で吸光係数は1.25mm-1、4
00nmの吸光度は3.33(透過率10-1.33%)で
吸光係数は2.56mm-1と、可視領域ではある程度光
を透過するが紫外領域では良好な遮光性を示す。この時
のサンプルの厚みは1.30mmであった。
果を表3に示す。また、実施例1と同様にレジスト2の
性能を調べ、得られたポジ型パターンの解像度、実効感
度、残膜率、スカム(現像残り)の有無およびシリコン
ウエハーとの密着性の諸性能について評価した。その結
果を表4に示す。
の塗布性能と解像度、感度、残膜率、スカムの有無およ
びシリコンウエハーとの密着性の諸性能に大きな変動が
なく、長期保存後のレジスト2は変質していなかった。
瓶および金属(SUS304)容器を用いて、実施例1
と同様に、クリーン度、吸光度、重量変化量およびメタ
ルイオン濃度を測定した。その結果を表1および表2に
示した。
リーン度は2365個/ml、レジスト1中のクリーン
度は79個/ml、6ヶ月後のクリーン度は121個/
mlと不純微粒子の浸出が多く、またナトリウムイオン
の溶出も極めて多かった。
10,000個/ml以上、レジスト1中のクリーン度
は10,000個/ml以上、6ヶ月後のクリーン度は
10,000個/ml以上と不純微粒子の浸出が極めて
多く、またカルシウムイオンの溶出も多かった。
ml、レジスト1中のクリーン度は648個/ml、6
ヶ月後のクリーン度は759個/mlと不純微粒子の浸
出が多く、また鉄イオンおよびニッケルイオンの溶出も
多かった。
メタルイオンの溶出が多く、フォトレジスト液が汚染さ
れていた。
いて、高純度薬品液15の排出方法を、図2を参照して
以下に詳細に説明する。
し、耐圧容器12の所定の位置に設置する。インナー容
器1に液排出管10の末端を底部まで挿入し、その先端
を外部に導出する。耐圧容器の上蓋13には、圧力が漏
れないようにコネクター11を取付け、耐圧容器の上蓋
13と耐圧容器12で密封する。一方、加圧源6から
は、圧縮空気または、窒素やアルゴン等の不活性ガスが
供給される。例えば加圧源6は窒素ボンベをであり、耐
圧ホースを経てソケット7に接続される。耐圧保護容器
13のガス導入口9に連結したプラグ8に、ソケット7
を接続する。窒素ガスボンベのレギュレータを開放し送
気すると、その圧力により高純度薬品液15の液面に圧
力がかかり、液排出管10から、所望量の高純度薬品液
15が排出される。
す。液排出管10の先端を外部に導出し、その末端を底
部まで挿入し高純度薬品液15の充填されたインナー容
器1を、保護容器22、23内に収納し、液排出の経路
上に設けられたポンプ16により高純度薬品液15を液
排出管10から排出する。開放口19は圧力を調整する
ためにフィルター14を接続する。ポンプ16を駆動す
ると所望量の高純度薬品液15が排出される。
す。液排出管10の先端を外部に導出し、その末端を底
部まで挿入してある高純度薬品液15の充填された耐圧
インナー容器1を、保護容器32、33に収納し、コネ
クター31で密封する。加圧源6に接続されたソケット
7から、窒素ガスが供給される。耐圧インナー容器1の
ガス導入口29に連結したプラグ8に、ソケット7を接
続し、窒素ガスを送気すると、所望量の高純度薬品液1
5を液排出管10から排出することができた。
4に示す加圧源6に替えて、フィルター14(図3参
照)を接続し、液排出管10の経路上にポンプ16(図
3参照)を設け、ポンプ16により高純度薬品液15を
排出するものである。前記と同様に所望量の高純度薬品
液15が排出できる。
純度薬品液用容器は、保存および輸送中に、微粒子や金
属イオンの浸出がなく、高純度薬品液の品質を維持でき
るものである。さらに破損しにくく、軽量である。この
容器を用いた本発明の排出方法により、高純度薬品液を
容易に、かつ安全に取り扱うことができる。
略図である。
一部断面図である。
示す一部断面図である。
示す一部断面図である。
5は外層、6は加圧源、7はソケット、8はプラグ、9
・29はガス導入口、10は液排出管、11・21・3
1はコネクター、12・13は耐圧保護容器、14はフ
ィルター、15は高純度薬品液、16はポンプ、19は
開放口、22・23・32・33は保護容器である。
Claims (7)
- 【請求項1】 エチレン、プロピレン、ブテン−1、
4−メチル−ペンテン−1、ヘキセン−1、またはオク
テン−1のオレフインの重合体、およびエチレンとそれ
以外のオレフインの共重合体の中から選ばれる少なくと
も1種類を含む高純度樹脂からなる内層と、ポリアミ
ド、ポリビニルアルコール、ポリ(エチレン−コ−ビニ
ルアルコール)、ポリエステルおよびポリフェニレンオ
キシドから選ばれる少なくとも1種類を含む溶剤バリア
ー性樹脂の中間層と、遮光性物質を含む樹脂組成物から
なる外層とがブロー成形された容器であり、分光光度計
により測定される容器の全層の波長400nm以下にお
ける最低吸光度が2.0以上で、かつ容器の全層の吸光
度を該全層の厚みで除した波長400nmにおける吸光
係数が1.5mm-1以上、同じく波長600nmにおけ
る吸光係数が1.5mm-1以下であることを特徴とする
高純度薬品液用容器。 - 【請求項2】 前記外層の樹脂組成物中に、数平均分
子量2×103以上のポリエチレンおよびポリプロピレ
ンの中から選ばれる少なくとも1種類のオレフイン系重
合体からなる顔料分散剤5重量%未満と、無機顔料およ
び有機顔料の中から選ばれる少なくとも1種類の遮光性
顔料0.01〜5重量%とが含まれていることを特徴と
する請求項1に記載の高純度薬品液用容器。 - 【請求項3】 前記外層の樹脂組成物中に2.5重量
%未満の紫外線吸収剤が含まれていることを特徴とする
請求項1に記載の高純度薬品液用容器。 - 【請求項4】 液排出管の先端を外部に導出し、その
末端を底部まで挿入し高純度薬品液の充填されたインナ
ー容器を、耐圧保護容器内に密封収納し、該耐圧保護容
器に連結した加圧源から供給されるガス圧で該高純度薬
品液を該液排出管から排出することを特徴とする高純度
薬品液の排出方法。 - 【請求項5】 液排出管の先端を外部に導出し、その
末端を底部まで挿入し高純度薬品液の充填されたインナ
ー容器を、保護容器内に収納し、液排出の経路上に設け
られたポンプにより該高純度薬品液を該液排出管から排
出することを特徴とする高純度薬品液の排出方法。 - 【請求項6】 液排出管の先端を外部に導出し、その
末端を底部まで挿入してある高純度薬品液の充填された
耐圧インナー容器を保護容器に収納し、該耐圧インナー
容器に連結した加圧源から供給されるガス圧で該高純度
薬品液を該液排出管から排出することを特徴とする高純
度薬品液の排出方法。 - 【請求項7】 該インナー容器が請求項1に記載の容
器であることを特徴とする請求項4、5または6に記載
の高純度薬品液の排出方法。
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