JPH11286561A - 支持体の表面処理方法、表面処理装置、塗布方法、及び、塗布装置 - Google Patents
支持体の表面処理方法、表面処理装置、塗布方法、及び、塗布装置Info
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- JPH11286561A JPH11286561A JP10091528A JP9152898A JPH11286561A JP H11286561 A JPH11286561 A JP H11286561A JP 10091528 A JP10091528 A JP 10091528A JP 9152898 A JP9152898 A JP 9152898A JP H11286561 A JPH11286561 A JP H11286561A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 物理的表面処理を施した支持体上への膜付き
性が充分（第１課題）であり、高速で塗布液を塗布する
ことができること（第２課題）。連続搬送している支持
体に対してプラズマ処理を安定して施すことができ（第
３課題）、プラズマ処理が施された支持体上に傷が発生
しないこと（第４課題）。フレームプラズマ処理を施し
た支持体上への膜付き性が充分となること（第５課
題）。 【解決手段】 物理的表面処理が施された支持体におけ
る表面エネルギーの水素結合成分γhを、８ｍＮ／ｍ以
上とする。表面エネルギーの非極性成分γdの低下量を
７ｍＮ／ｍ以下とする。プラズマ処理に先立ち支持体に
除電処理を施す。プラズマ処理を施してから塗布するま
で、プラズマ処理が施された面に非接触で、又は、ロー
ラの周面に設けた弾性層を接触させて、支持体を搬送す
る。フレームプラズマ処理の燃焼ガスに、ヘリウムより
質量の大きいネオン以降の不活性ガスを導入する。
性が充分（第１課題）であり、高速で塗布液を塗布する
ことができること（第２課題）。連続搬送している支持
体に対してプラズマ処理を安定して施すことができ（第
３課題）、プラズマ処理が施された支持体上に傷が発生
しないこと（第４課題）。フレームプラズマ処理を施し
た支持体上への膜付き性が充分となること（第５課
題）。 【解決手段】 物理的表面処理が施された支持体におけ
る表面エネルギーの水素結合成分γhを、８ｍＮ／ｍ以
上とする。表面エネルギーの非極性成分γdの低下量を
７ｍＮ／ｍ以下とする。プラズマ処理に先立ち支持体に
除電処理を施す。プラズマ処理を施してから塗布するま
で、プラズマ処理が施された面に非接触で、又は、ロー
ラの周面に設けた弾性層を接触させて、支持体を搬送す
る。フレームプラズマ処理の燃焼ガスに、ヘリウムより
質量の大きいネオン以降の不活性ガスを導入する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、連続走行されてい
る支持体の表面に対して、物理的表面処理を行い、表面
改質を行う支持体の表面処理方法、表面処理装置に関
し、また、物理的表面処理のうちプラズマ処理、さら
に、フレームプラズマ処理を行う支持体の表面処理方
法、表面処理装置に関し、また、該プラズマ処理を施し
た後に、支持体に塗布液を塗布する塗布方法、塗布装置
に関する。
る支持体の表面に対して、物理的表面処理を行い、表面
改質を行う支持体の表面処理方法、表面処理装置に関
し、また、物理的表面処理のうちプラズマ処理、さら
に、フレームプラズマ処理を行う支持体の表面処理方
法、表面処理装置に関し、また、該プラズマ処理を施し
た後に、支持体に塗布液を塗布する塗布方法、塗布装置
に関する。
【０００２】
【従来の技術】支持体上に塗布液を塗布する前に、塗布
液の支持体上への接着性を向上させるために、従来から
種々の表面処理が行われている。特に、写真乳剤（ゼラ
チン）を塗布するに際しては、ポリマー支持体である各
種ポリエステル支持体、例えば、ポリエチレンテレフタ
レート（以下、ＰＥＴともいう）やポリエチレンナフタ
レート（以下、ＰＥＮともいう）を連続走行させ、この
ポリマー支持体上への写真乳剤の接着性を向上させるた
めに、ポリマー支持体上に下引き層を塗布するプライマ
ー処理が施されていた。
液の支持体上への接着性を向上させるために、従来から
種々の表面処理が行われている。特に、写真乳剤（ゼラ
チン）を塗布するに際しては、ポリマー支持体である各
種ポリエステル支持体、例えば、ポリエチレンテレフタ
レート（以下、ＰＥＴともいう）やポリエチレンナフタ
レート（以下、ＰＥＮともいう）を連続走行させ、この
ポリマー支持体上への写真乳剤の接着性を向上させるた
めに、ポリマー支持体上に下引き層を塗布するプライマ
ー処理が施されていた。
【０００３】近年、この下引き層を塗布するプライマー
処理に代えて、ポリマー支持体の表面に対して物理的表
面処理を行うことにより、下引き層を設けることなく、
直接ポリマー支持体上に、写真乳剤を塗布して高速化が
提案されている。
処理に代えて、ポリマー支持体の表面に対して物理的表
面処理を行うことにより、下引き層を設けることなく、
直接ポリマー支持体上に、写真乳剤を塗布して高速化が
提案されている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】ところで、本発明者ら
が、物理的表面処理を、連続搬送されている支持体に対
して施そうとした場合、種々の問題が生じた。
が、物理的表面処理を、連続搬送されている支持体に対
して施そうとした場合、種々の問題が生じた。
【０００５】まず、物理的表面処理を施したのにもかか
わらず、物理的表面処理を施した支持体上への塗布液の
膜付き性（接着性）が充分には得られない場合がある。
また、物理的表面処理を施した支持体上に塗布液を高速
で塗布しようとすると、良質な塗膜が形成できない場合
がある。
わらず、物理的表面処理を施した支持体上への塗布液の
膜付き性（接着性）が充分には得られない場合がある。
また、物理的表面処理を施した支持体上に塗布液を高速
で塗布しようとすると、良質な塗膜が形成できない場合
がある。
【０００６】また、物理的表面処理であるプラズマ処理
やコロナ放電処理や紫外線照射処理のうちプラズマ処理
を連続搬送している支持体に対して施したとき、安定し
た表面処理ができない場合がある。また、プラズマ処理
された支持体上に、塗布液を塗布しようとすると、支持
体のプラズマ処理された面に傷が発生する場合がある。
やコロナ放電処理や紫外線照射処理のうちプラズマ処理
を連続搬送している支持体に対して施したとき、安定し
た表面処理ができない場合がある。また、プラズマ処理
された支持体上に、塗布液を塗布しようとすると、支持
体のプラズマ処理された面に傷が発生する場合がある。
【０００７】また、プラズマ処理であるフレームプラズ
マ処理（火炎処理）やグロー放電処理（電気放電処理）
のうちフレームプラズマ処理を施した支持体に対して塗
布液を塗布したとき、支持体上の塗布液の膜付き性（接
着性）が充分には得られない場合がある。
マ処理（火炎処理）やグロー放電処理（電気放電処理）
のうちフレームプラズマ処理を施した支持体に対して塗
布液を塗布したとき、支持体上の塗布液の膜付き性（接
着性）が充分には得られない場合がある。
【０００８】そこで、本第１発明においては、物理的表
面処理を施した支持体上に塗布された塗布液の膜付き性
が充分となる表面処理方法を得ることを第１課題とす
る。
面処理を施した支持体上に塗布された塗布液の膜付き性
が充分となる表面処理方法を得ることを第１課題とす
る。
【０００９】また、本第２発明においては、物理的表面
処理を施した支持体上に、高速で塗布液を塗布すること
ができる表面処理方法を得ることを第２課題とする。
処理を施した支持体上に、高速で塗布液を塗布すること
ができる表面処理方法を得ることを第２課題とする。
【００１０】また、本第３発明においては、連続搬送し
ている支持体に対してプラズマ処理を安定して施すこと
ができる表面処理方法及び表面処理装置を得ることを第
３課題とする。
ている支持体に対してプラズマ処理を安定して施すこと
ができる表面処理方法及び表面処理装置を得ることを第
３課題とする。
【００１１】また、本第４発明においては、塗布液を塗
布する際に、プラズマ処理が施された支持体上に傷が発
生しない塗布方法及び塗布装置を得ることを第４課題と
する。
布する際に、プラズマ処理が施された支持体上に傷が発
生しない塗布方法及び塗布装置を得ることを第４課題と
する。
【００１２】また、本第５発明においては、フレームプ
ラズマ処理を施した支持体に塗布された塗布液の膜付き
性（接着性）が充分となる表面処理方法及び表面処理装
置を得ることを第５課題とする。
ラズマ処理を施した支持体に塗布された塗布液の膜付き
性（接着性）が充分となる表面処理方法及び表面処理装
置を得ることを第５課題とする。
【００１３】
【課題を解決するための手段】上記第１課題は、以下の
構成により解決することができる。
構成により解決することができる。
【００１４】（１） 連続搬送されている支持体に対し
て、物理的表面処理を施す支持体の表面処理方法におい
て、前記物理的表面処理が施された支持体における表面
エネルギーの水素結合成分γhが、８ｍＮ／ｍ以上とな
るように、物理的表面処理を施すことを特徴とする支持
体の表面処理方法。
て、物理的表面処理を施す支持体の表面処理方法におい
て、前記物理的表面処理が施された支持体における表面
エネルギーの水素結合成分γhが、８ｍＮ／ｍ以上とな
るように、物理的表面処理を施すことを特徴とする支持
体の表面処理方法。
【００１５】上記第２課題は、以下の構成により解決す
ることができる。
ることができる。
【００１６】（２） 連続搬送されている支持体に対し
て、物理的表面処理を施す支持体の表面処理方法におい
て、前記物理的表面処理が施される前に対して前記物理
的表面処理が施された後の支持体における表面エネルギ
ーの非極性成分γdの低下量が７ｍＮ／ｍ以下となるよ
うに、物理的表面処理を施すことを特徴とする支持体の
表面処理方法。
て、物理的表面処理を施す支持体の表面処理方法におい
て、前記物理的表面処理が施される前に対して前記物理
的表面処理が施された後の支持体における表面エネルギ
ーの非極性成分γdの低下量が７ｍＮ／ｍ以下となるよ
うに、物理的表面処理を施すことを特徴とする支持体の
表面処理方法。
【００１７】上記第３課題は、以下の構成により解決す
ることができる。
ることができる。
【００１８】（３） 連続搬送されている支持体に対し
て、プラズマ処理を施す支持体の表面処理方法におい
て、前記プラズマ処理に先立ち、連続搬送される支持体
に対して、除電処理を施すことを特徴とする支持体の表
面処理方法。
て、プラズマ処理を施す支持体の表面処理方法におい
て、前記プラズマ処理に先立ち、連続搬送される支持体
に対して、除電処理を施すことを特徴とする支持体の表
面処理方法。
【００１９】（４） 前記プラズマ処理の後に、連続搬
送される支持体に対して、除電処理を施すことを特徴と
する（３）に記載の支持体の表面処理方法。
送される支持体に対して、除電処理を施すことを特徴と
する（３）に記載の支持体の表面処理方法。
【００２０】（５） 連続搬送されている支持体に対し
て、プラズマ処理を施すプラズマ処理手段と、前記プラ
ズマ処理手段に対して支持体の搬送方向上流側に配置さ
れ、支持体に対して除電処理を施す前除電手段と、を有
することを特徴とする表面処理装置。
て、プラズマ処理を施すプラズマ処理手段と、前記プラ
ズマ処理手段に対して支持体の搬送方向上流側に配置さ
れ、支持体に対して除電処理を施す前除電手段と、を有
することを特徴とする表面処理装置。
【００２１】（６） 前記プラズマ処理手段に対して支
持体の搬送方向下流側に配置され、支持体に対して除電
処理を施す後除電手段を有することを特徴とする（５）
に記載の表面処理装置。
持体の搬送方向下流側に配置され、支持体に対して除電
処理を施す後除電手段を有することを特徴とする（５）
に記載の表面処理装置。
【００２２】上記第４課題は、以下の構成により解決す
ることができる。
ることができる。
【００２３】（７） 連続搬送されている支持体に対し
て、プラズマ処理を施した後、塗布液を塗布する塗布方
法において、前記プラズマ処理を施してから前記塗布を
施すまで、前記プラズマ処理が施された面に非接触で支
持体を搬送することを特徴とする塗布方法。
て、プラズマ処理を施した後、塗布液を塗布する塗布方
法において、前記プラズマ処理を施してから前記塗布を
施すまで、前記プラズマ処理が施された面に非接触で支
持体を搬送することを特徴とする塗布方法。
【００２４】（８） 連続搬送されている支持体に対し
て、プラズマ処理を施すプラズマ処理手段と、前記プラ
ズマ処理手段によりプラズマ処理が施された支持体に対
して、塗布液を塗布する塗布手段と、前記支持体を連続
搬送する搬送手段と、を有する塗布装置において、前記
搬送手段は、前記プラズマ処理手段と前記塗布手段との
間を、前記プラズマ処理手段によりプラズマ処理が施さ
れた面に非接触状態で支持体を搬送することを特徴とす
る塗布装置。
て、プラズマ処理を施すプラズマ処理手段と、前記プラ
ズマ処理手段によりプラズマ処理が施された支持体に対
して、塗布液を塗布する塗布手段と、前記支持体を連続
搬送する搬送手段と、を有する塗布装置において、前記
搬送手段は、前記プラズマ処理手段と前記塗布手段との
間を、前記プラズマ処理手段によりプラズマ処理が施さ
れた面に非接触状態で支持体を搬送することを特徴とす
る塗布装置。
【００２５】（９） 連続搬送されている支持体に対し
て、プラズマ処理を施すプラズマ処理手段と、前記プラ
ズマ処理手段によりプラズマ処理が施された支持体に対
して、塗布液を塗布する塗布手段と、前記支持体を連続
搬送する搬送手段と、を有する塗布装置において、前記
プラズマ処理手段と前記塗布手段との間にある前記搬送
手段は、前記プラズマ処理手段によりプラズマ処理が施
された面に、ローラの周面に設けた弾性層を接触させ
て、支持体を搬送することを特徴とする塗布装置。
て、プラズマ処理を施すプラズマ処理手段と、前記プラ
ズマ処理手段によりプラズマ処理が施された支持体に対
して、塗布液を塗布する塗布手段と、前記支持体を連続
搬送する搬送手段と、を有する塗布装置において、前記
プラズマ処理手段と前記塗布手段との間にある前記搬送
手段は、前記プラズマ処理手段によりプラズマ処理が施
された面に、ローラの周面に設けた弾性層を接触させ
て、支持体を搬送することを特徴とする塗布装置。
【００２６】（１０） 前記弾性層の表面比抵抗が１０
10Ω・ｃｍ以下であることを特徴とする（９）に記載の
塗布装置。
10Ω・ｃｍ以下であることを特徴とする（９）に記載の
塗布装置。
【００２７】（１１） 前記弾性層が設けられたローラ
は、駆動ローラであることを特徴とする（９）又は（１
０）に記載の塗布装置。
は、駆動ローラであることを特徴とする（９）又は（１
０）に記載の塗布装置。
【００２８】上記第５課題は、以下の構成により解決す
ることができる。
ることができる。
【００２９】（１２） 連続搬送されている支持体に対
して、フレームプラズマ処理を施す支持体の表面処理方
法において、前記フレームプラズマ処理の燃焼ガスに、
ヘリウムより質量の大きいネオン以降の不活性ガスを導
入することを特徴とする支持体の表面処理方法。
して、フレームプラズマ処理を施す支持体の表面処理方
法において、前記フレームプラズマ処理の燃焼ガスに、
ヘリウムより質量の大きいネオン以降の不活性ガスを導
入することを特徴とする支持体の表面処理方法。
【００３０】（１３） 前記フレームプラズマ処理は、
電界を生じさせながら行うことを特徴とする（１２）に
記載の支持体の表面処理方法。
電界を生じさせながら行うことを特徴とする（１２）に
記載の支持体の表面処理方法。
【００３１】（１４） 連続搬送されている支持体の表
面に対して、フレームプラズマ処理を施すバーナー手段
と、前記バーナー手段の燃焼ガスに、ヘリウムより質量
の大きいネオン以降の不活性ガスを導入する導入手段
と、を有することを特徴とする表面処理装置。
面に対して、フレームプラズマ処理を施すバーナー手段
と、前記バーナー手段の燃焼ガスに、ヘリウムより質量
の大きいネオン以降の不活性ガスを導入する導入手段
と、を有することを特徴とする表面処理装置。
【００３２】（１５） 前記フレームプラズマ処理が施
される支持体と、前記バーナー手段との間に、電界を生
じせしめる電界生成手段を有することを特徴とする（１
４）に記載の表面処理装置。
される支持体と、前記バーナー手段との間に、電界を生
じせしめる電界生成手段を有することを特徴とする（１
４）に記載の表面処理装置。
【００３３】
【発明の実施の形態】以下、本発明の一実施の形態につ
いて、表面処理装置１を有した塗布装置の概略構成図で
ある図１に基づいて説明する。
いて、表面処理装置１を有した塗布装置の概略構成図で
ある図１に基づいて説明する。
【００３４】この塗布装置は、長尺の支持体２を連続搬
送する搬送手段３（図１においては、搬送手段３の一部
を記載している）と、搬送手段３によって連続搬送され
る支持体２に対して物理的表面処理を行う表面処理装置
１と、表面処理装置１によって表面処理され搬送手段３
によって搬送された支持体２上に塗布液を塗布する塗布
手段４とを有している。なお、搬送手段３によって連続
搬送される支持体２は、ポリマー支持体である各種ポリ
エステル支持体、例えば、ＰＥＴやＰＥＮである。この
支持体２は、表面処理装置１によって表面処理されたの
ち、塗布手段４によって支持体２上に写真乳剤が塗布さ
れる。
送する搬送手段３（図１においては、搬送手段３の一部
を記載している）と、搬送手段３によって連続搬送され
る支持体２に対して物理的表面処理を行う表面処理装置
１と、表面処理装置１によって表面処理され搬送手段３
によって搬送された支持体２上に塗布液を塗布する塗布
手段４とを有している。なお、搬送手段３によって連続
搬送される支持体２は、ポリマー支持体である各種ポリ
エステル支持体、例えば、ＰＥＴやＰＥＮである。この
支持体２は、表面処理装置１によって表面処理されたの
ち、塗布手段４によって支持体２上に写真乳剤が塗布さ
れる。
【００３５】表面処理装置１は、連続搬送される支持体
２に対して、物理的表面処理を施す装置であり、本実施
の形態においては、プラズマ処理のうちフレームプラズ
マ処理（火炎処理）を行う装置である。この表面処理装
置１は、支持体２の移動とともに回転する回転冷却ドラ
ム１１と、回転冷却ドラム１１に巻架されている支持体
２に対してプラズマ処理を行うプラズマ処理手段（本実
施の形態においては、フレームプラズマ処理を施すため
に燃焼ガスを燃やすバーナー手段であり、以下、バーナ
ー手段ともいう））１２と、フレームプラズマ処理が施
される支持体２とバーナー手段１２との間に電界を生じ
せしめる電界生成手段１３と、バーナー手段１２の燃焼
ガスに不活性ガスを導入する導入手段１４と、バーナー
手段１２によるフレームプラズマ処理に先立ち支持体２
に対して除電処理を施す前除電手段１５と、バーナー手
段１２によってフレームプラズマ処理が施された支持体
２に対して除電処理を施す後除電手段１６とを有してい
る。
２に対して、物理的表面処理を施す装置であり、本実施
の形態においては、プラズマ処理のうちフレームプラズ
マ処理（火炎処理）を行う装置である。この表面処理装
置１は、支持体２の移動とともに回転する回転冷却ドラ
ム１１と、回転冷却ドラム１１に巻架されている支持体
２に対してプラズマ処理を行うプラズマ処理手段（本実
施の形態においては、フレームプラズマ処理を施すため
に燃焼ガスを燃やすバーナー手段であり、以下、バーナ
ー手段ともいう））１２と、フレームプラズマ処理が施
される支持体２とバーナー手段１２との間に電界を生じ
せしめる電界生成手段１３と、バーナー手段１２の燃焼
ガスに不活性ガスを導入する導入手段１４と、バーナー
手段１２によるフレームプラズマ処理に先立ち支持体２
に対して除電処理を施す前除電手段１５と、バーナー手
段１２によってフレームプラズマ処理が施された支持体
２に対して除電処理を施す後除電手段１６とを有してい
る。
【００３６】回転冷却ドラム１１は、その周面に搬送手
段によって搬送される支持体２を巻架するとともに、支
持体２の移動とともに回転するローラーであり、いわゆ
る、バックアップローラである。したがって、支持体２
は、この回転冷却ドラム１１に接して、矢示の方向へ走
行する。なお、この回転冷却ドラム１１は、その内部に
冷却水（バーナー手段１２によって発せられる炎の温度
より低い約４０℃の水）が流れ、券架されている支持体
２を冷却する機能も有している。
段によって搬送される支持体２を巻架するとともに、支
持体２の移動とともに回転するローラーであり、いわゆ
る、バックアップローラである。したがって、支持体２
は、この回転冷却ドラム１１に接して、矢示の方向へ走
行する。なお、この回転冷却ドラム１１は、その内部に
冷却水（バーナー手段１２によって発せられる炎の温度
より低い約４０℃の水）が流れ、券架されている支持体
２を冷却する機能も有している。
【００３７】バーナー手段１２は、回転冷却ドラム１１
に巻架されている支持体２に対してプラズマ処理、詳細
には、フレームプラズマ処理を施す手段である。バーナ
ー手段１２が供給される燃焼ガスを燃やすことにより、
発生したプラズマが支持体２の表面に衝突し、支持体２
の表面を改質する、いわゆる、エッチングが行われる。
このバーナー手段１２は、回転冷却ドラム１１に所定の
間隔を隔てて対向して設けることにより、支持体２との
間隔を一定に保つようにしている。
に巻架されている支持体２に対してプラズマ処理、詳細
には、フレームプラズマ処理を施す手段である。バーナ
ー手段１２が供給される燃焼ガスを燃やすことにより、
発生したプラズマが支持体２の表面に衝突し、支持体２
の表面を改質する、いわゆる、エッチングが行われる。
このバーナー手段１２は、回転冷却ドラム１１に所定の
間隔を隔てて対向して設けることにより、支持体２との
間隔を一定に保つようにしている。
【００３８】電界生成手段１３は、フレームプラズマ処
理が施される支持体２、すなわち、回転冷却ドラム１１
に巻架されている支持体とバーナー手段１２との間に均
一な電界を生じせしめる手段である。本実施の形態で
は、バーナー手段１２（詳細には、バーナー手段１２の
誘電体）をアース（接地）するとともに、電源から回転
冷却ドラム１１（詳細には、回転冷却ドラム１１の誘電
体）に電圧を与えることにより、電界を生成するように
構成しているが、フレームプラズマ処理される前の支持
体２にコロナ放電などの帯電手段によって印加し、支持
体２を均一に帯電させることにより、電界を生成するよ
うにしてもよい。この電界生成手段１３によって支持体
２に印加する（回転冷却ドラム１１を介して印加する）
電圧は、交流であっても直流であってよいが、高周波の
交流が好ましく、また、正負電圧どちらであってもよ
い。なお、この電界生成手段１３による支持体２の帯電
量を絶対値で５００Ｖ以上にすることにより、支持体２
の損傷の抑制や改質効果の向上を図ることができ、好ま
しい。
理が施される支持体２、すなわち、回転冷却ドラム１１
に巻架されている支持体とバーナー手段１２との間に均
一な電界を生じせしめる手段である。本実施の形態で
は、バーナー手段１２（詳細には、バーナー手段１２の
誘電体）をアース（接地）するとともに、電源から回転
冷却ドラム１１（詳細には、回転冷却ドラム１１の誘電
体）に電圧を与えることにより、電界を生成するように
構成しているが、フレームプラズマ処理される前の支持
体２にコロナ放電などの帯電手段によって印加し、支持
体２を均一に帯電させることにより、電界を生成するよ
うにしてもよい。この電界生成手段１３によって支持体
２に印加する（回転冷却ドラム１１を介して印加する）
電圧は、交流であっても直流であってよいが、高周波の
交流が好ましく、また、正負電圧どちらであってもよ
い。なお、この電界生成手段１３による支持体２の帯電
量を絶対値で５００Ｖ以上にすることにより、支持体２
の損傷の抑制や改質効果の向上を図ることができ、好ま
しい。
【００３９】このように、本実施の形態では、連続搬送
される支持体２に対してフレームプラズマ処理を施す際
に、電界を生じさせながら行うので、発生したプラズマ
（特に、後述する不活性ガスのプラズマを効率的に支持
体２へ衝突させることができ、改質効果（塗布液の膜付
き性）の向上を図ることができる。
される支持体２に対してフレームプラズマ処理を施す際
に、電界を生じさせながら行うので、発生したプラズマ
（特に、後述する不活性ガスのプラズマを効率的に支持
体２へ衝突させることができ、改質効果（塗布液の膜付
き性）の向上を図ることができる。
【００４０】導入手段１４は、バーナー手段１２の燃焼
ガス（例えば、都市ガス、天然ガス、プロパンガス）に
不活性ガスを導入する手段である。導入される不活性ガ
スは、ヘリウム（Ｈｅ）より質量の大きいネオン（Ｎ
ｅ）以降の不活性ガス（以下、特に断らない限り、単
に、不活性ガスという）、例えば、ネオン（Ｎｅ）、ア
ルゴン（Ａｒ）、・、キセノン（Ｘｅ）、・・・であ
り、特に、安価なアルゴン（Ａｒ）が好ましい。導入手
段１４によって不活性ガスが導入された燃焼ガスは、バ
ーナー手段１２へと供給され、バーナー手段１２で燃焼
されることにより、不活性ガスプラズマを発生させるこ
とができる。なお、本実施の形態の導入手段１４は、燃
焼ガスに不活性ガスを混合することにより、燃焼ガスに
不活性ガスを導入したが、連続搬送されている支持体２
に同伴させることにより燃焼ガスに不活性ガスを導入し
てもよく、また、バーナー手段１２からでている炎の部
分（フレーム部）に不活性ガスを衝突させることにより
燃焼ガスに不活性ガスを導入してもよい。
ガス（例えば、都市ガス、天然ガス、プロパンガス）に
不活性ガスを導入する手段である。導入される不活性ガ
スは、ヘリウム（Ｈｅ）より質量の大きいネオン（Ｎ
ｅ）以降の不活性ガス（以下、特に断らない限り、単
に、不活性ガスという）、例えば、ネオン（Ｎｅ）、ア
ルゴン（Ａｒ）、・、キセノン（Ｘｅ）、・・・であ
り、特に、安価なアルゴン（Ａｒ）が好ましい。導入手
段１４によって不活性ガスが導入された燃焼ガスは、バ
ーナー手段１２へと供給され、バーナー手段１２で燃焼
されることにより、不活性ガスプラズマを発生させるこ
とができる。なお、本実施の形態の導入手段１４は、燃
焼ガスに不活性ガスを混合することにより、燃焼ガスに
不活性ガスを導入したが、連続搬送されている支持体２
に同伴させることにより燃焼ガスに不活性ガスを導入し
てもよく、また、バーナー手段１２からでている炎の部
分（フレーム部）に不活性ガスを衝突させることにより
燃焼ガスに不活性ガスを導入してもよい。
【００４１】このように、本実施の形態では、連続搬送
される支持体２に対してフレームプラズマ処理を施す際
に、フレームプラズマ処理の燃焼ガスに、不活性ガス
（ヘリウム（Ｈｅ）より質量の大きいネオン（Ｎｅ）以
降の不活性ガス）を導入することにより、質量の大きい
プラズマを発生させることができ、支持体２に対するエ
ッチングを大きく行うことができ、アンカー効果をより
大きく引き出すことができ、改質効果（塗布液の膜付き
性）の向上を図ることができる。さらに、この場合、不
活性ガスを導入しない場合に比して、プラズマ温度を低
下させることができるとともに、支持体２のダメージを
も低減させることができるという付随的な効果が得られ
る。
される支持体２に対してフレームプラズマ処理を施す際
に、フレームプラズマ処理の燃焼ガスに、不活性ガス
（ヘリウム（Ｈｅ）より質量の大きいネオン（Ｎｅ）以
降の不活性ガス）を導入することにより、質量の大きい
プラズマを発生させることができ、支持体２に対するエ
ッチングを大きく行うことができ、アンカー効果をより
大きく引き出すことができ、改質効果（塗布液の膜付き
性）の向上を図ることができる。さらに、この場合、不
活性ガスを導入しない場合に比して、プラズマ温度を低
下させることができるとともに、支持体２のダメージを
も低減させることができるという付随的な効果が得られ
る。
【００４２】前除電手段１５は、バーナー手段１２によ
るフレームプラズマ処理に先立ち支持体２に対して除電
処理を施す除電手段である。この前除電手段１５は、バ
ーナー手段１２に対して支持体２の搬送方向上流側に配
置され、連続搬送されている支持体２の静電気などによ
って不均一な（プラス・マイナスの入り混じった）極性
帯電（帯電ムラ）を除電する手段であり、これにより、
フレームプラズマ処理を安定させることができる。すな
わち、本発明者らの検討の結果、フレームプラズマ処理
を施す支持体２に帯電ムラがあると、安定したフレーム
プラズマ処理を施すことができないという知見した。そ
のために、フレームプラズマ処理に先立ち除電処理を施
すことが、安定したフレームプラズマ処理を施すことが
有効的である。
るフレームプラズマ処理に先立ち支持体２に対して除電
処理を施す除電手段である。この前除電手段１５は、バ
ーナー手段１２に対して支持体２の搬送方向上流側に配
置され、連続搬送されている支持体２の静電気などによ
って不均一な（プラス・マイナスの入り混じった）極性
帯電（帯電ムラ）を除電する手段であり、これにより、
フレームプラズマ処理を安定させることができる。すな
わち、本発明者らの検討の結果、フレームプラズマ処理
を施す支持体２に帯電ムラがあると、安定したフレーム
プラズマ処理を施すことができないという知見した。そ
のために、フレームプラズマ処理に先立ち除電処理を施
すことが、安定したフレームプラズマ処理を施すことが
有効的である。
【００４３】また、この前除電手段１５としては、イオ
ン風を吹き付ける送風（ブロアー）式除電器や除電ブラ
シなどの接触式除電器でもよいが、複数の正負イオン生
成用除電電極と支持体２を挟む様にイオン吸引電極とを
対向させた除電装置及び該除電装置の後に正負の直流式
除電装置を設けた高密度除電器（例えば、特開平７−２
６３１７３号公報参照）を用いることが好ましい。
ン風を吹き付ける送風（ブロアー）式除電器や除電ブラ
シなどの接触式除電器でもよいが、複数の正負イオン生
成用除電電極と支持体２を挟む様にイオン吸引電極とを
対向させた除電装置及び該除電装置の後に正負の直流式
除電装置を設けた高密度除電器（例えば、特開平７−２
６３１７３号公報参照）を用いることが好ましい。
【００４４】後除電手段１６は、バーナー手段１２によ
ってフレームプラズマ処理が施された支持体２に対して
除電処理を施す除電手段である。この後除電手段１６
は、バーナー手段１２に対して支持体２の搬送方向下流
側に配置され、フレームプラズマ処理中に帯電した支持
体２の帯電ムラを除電する手段であり、これにより、後
段に続く塗布手段４によって塗布した塗布液の塗布ムラ
を防止することができる。特に、塗布液が写真乳剤であ
る場合は、支持体２に帯電ムラがあると、塗布する際に
放電が生じて、かぶりが発生するが、後除電手段１６を
設けることにより、これを防止することができる。
ってフレームプラズマ処理が施された支持体２に対して
除電処理を施す除電手段である。この後除電手段１６
は、バーナー手段１２に対して支持体２の搬送方向下流
側に配置され、フレームプラズマ処理中に帯電した支持
体２の帯電ムラを除電する手段であり、これにより、後
段に続く塗布手段４によって塗布した塗布液の塗布ムラ
を防止することができる。特に、塗布液が写真乳剤であ
る場合は、支持体２に帯電ムラがあると、塗布する際に
放電が生じて、かぶりが発生するが、後除電手段１６を
設けることにより、これを防止することができる。
【００４５】なお、前除電手段１５によるプラズマ処理
に先立つ除電処理及び後除電手段１６によるプラズマ処
理後の除電処理は、フレームプラズマ処理のみならず、
グロー放電処理を含めたプラズマ処理に適用することに
より、安定したプラズマ処理を行うことができる。
に先立つ除電処理及び後除電手段１６によるプラズマ処
理後の除電処理は、フレームプラズマ処理のみならず、
グロー放電処理を含めたプラズマ処理に適用することに
より、安定したプラズマ処理を行うことができる。
【００４６】塗布手段４は、表面処理装置１によって表
面処理され、搬送手段３によって連続搬送されている支
持体２上に、塗布液を塗布する手段である。この塗布手
段４は、塗布液を流下させるコーター４１と、支持体２
の移動とともに回転するバックアップローラ４２とを有
している。コーター４１は、その先端を、バックアップ
ローラ４２に巻架されている支持体２に近接して配置さ
れ、コーター４１から流下した塗布液が、支持体２の表
面処理装置１で表面処理された面上に塗布される。本実
施の形態では、塗布液に、写真乳剤、すなわち、ハロゲ
ン化銀感光物を含んだゼラチン液を用いており、この写
真乳剤を支持体２上に薄層に多層を重ねて重層塗布し
て、写真感光材料を製造する。なお、この塗布手段４の
コーター４１としては、ビートを形成するビート塗布や
カーテン塗布など種々の方法を用いることができる。
面処理され、搬送手段３によって連続搬送されている支
持体２上に、塗布液を塗布する手段である。この塗布手
段４は、塗布液を流下させるコーター４１と、支持体２
の移動とともに回転するバックアップローラ４２とを有
している。コーター４１は、その先端を、バックアップ
ローラ４２に巻架されている支持体２に近接して配置さ
れ、コーター４１から流下した塗布液が、支持体２の表
面処理装置１で表面処理された面上に塗布される。本実
施の形態では、塗布液に、写真乳剤、すなわち、ハロゲ
ン化銀感光物を含んだゼラチン液を用いており、この写
真乳剤を支持体２上に薄層に多層を重ねて重層塗布し
て、写真感光材料を製造する。なお、この塗布手段４の
コーター４１としては、ビートを形成するビート塗布や
カーテン塗布など種々の方法を用いることができる。
【００４７】搬送手段３は、支持体２を連続搬送する手
段であり、図１においては、その一部を示している。搬
送手段３のローラ３１、３２は、回転冷却ドラム１１に
対して、支持体２の搬送方向上・下流側に、支持体２が
回転冷却ドラム１１に密着するように配置されたローラ
である。搬送手段３のローラ３３〜３６（及びローラ３
２）は、表面処理装置１で表面処理された支持体２の、
表面処理された面を支持し、支持体２を搬送するローラ
である。
段であり、図１においては、その一部を示している。搬
送手段３のローラ３１、３２は、回転冷却ドラム１１に
対して、支持体２の搬送方向上・下流側に、支持体２が
回転冷却ドラム１１に密着するように配置されたローラ
である。搬送手段３のローラ３３〜３６（及びローラ３
２）は、表面処理装置１で表面処理された支持体２の、
表面処理された面を支持し、支持体２を搬送するローラ
である。
【００４８】ところで、本発明者らの検討の結果、支持
体２の表面処理された面は、軟化し傷付きやすく、表面
処理された後の搬送時に、単なるローラでは擦り傷が発
生することを知見した。この擦り傷が発生すると、表面
処理に続く塗布の際に、塗布液が均一に塗布することが
難しくなり、筋状の故障、いわゆる、筋故障が発生す
る。
体２の表面処理された面は、軟化し傷付きやすく、表面
処理された後の搬送時に、単なるローラでは擦り傷が発
生することを知見した。この擦り傷が発生すると、表面
処理に続く塗布の際に、塗布液が均一に塗布することが
難しくなり、筋状の故障、いわゆる、筋故障が発生す
る。
【００４９】そこで、本実施の形態では、バーナー手段
１２と塗布手段４との間にある搬送手段であるローラ３
２〜３６の周面には、弾性層を設けており、このローラ
３２〜３６の周面に設けられた弾性層が、支持体２のプ
ラズマ処理手段によりプラズマ処理が施された面に、接
触するよう構成している。このように構成することによ
り、表面処理された後の搬送時に、ローラ３２〜３６に
よる擦り傷の発生を防ぎ、ひいては、筋故障の発生を防
止することができる。このローラ３２〜３６の弾性層
は、ナイロンなどの樹脂系のメッシュをローラ周面にカ
バーすることにより設けてもよく、ゴムをライニングす
ることにより設けてもよい。
１２と塗布手段４との間にある搬送手段であるローラ３
２〜３６の周面には、弾性層を設けており、このローラ
３２〜３６の周面に設けられた弾性層が、支持体２のプ
ラズマ処理手段によりプラズマ処理が施された面に、接
触するよう構成している。このように構成することによ
り、表面処理された後の搬送時に、ローラ３２〜３６に
よる擦り傷の発生を防ぎ、ひいては、筋故障の発生を防
止することができる。このローラ３２〜３６の弾性層
は、ナイロンなどの樹脂系のメッシュをローラ周面にカ
バーすることにより設けてもよく、ゴムをライニングす
ることにより設けてもよい。
【００５０】なお、本実施の形態のように、塗布手段４
により写真乳剤を塗布する場合には、前述したように、
ローラ３２〜３６と支持体２との接触により、支持体２
が帯電し、これが塗布時において放電するとかぶりが発
生するため、ローラ３２〜３６の弾性層を表面比抵抗が
１０10Ω・ｃｍ以下（好ましくは、１０8Ω・ｃｍ以
下）とすることが好ましい。また、本実施の形態では、
弾性層をローラ３２〜３６すべてに設けることにより擦
り傷や筋故障を最小限に防ぐようにしたが、ローラ３２
〜３６のうち駆動源（モータなど）に接続されたドライ
ブローラが擦り傷の主因となるので、少なくともドライ
ブローラに設ければよい。
により写真乳剤を塗布する場合には、前述したように、
ローラ３２〜３６と支持体２との接触により、支持体２
が帯電し、これが塗布時において放電するとかぶりが発
生するため、ローラ３２〜３６の弾性層を表面比抵抗が
１０10Ω・ｃｍ以下（好ましくは、１０8Ω・ｃｍ以
下）とすることが好ましい。また、本実施の形態では、
弾性層をローラ３２〜３６すべてに設けることにより擦
り傷や筋故障を最小限に防ぐようにしたが、ローラ３２
〜３６のうち駆動源（モータなど）に接続されたドライ
ブローラが擦り傷の主因となるので、少なくともドライ
ブローラに設ければよい。
【００５１】また、本実施の形態では、擦り傷や筋故障
を防ぐために、ローラ３２〜３６に弾性層を設けるよう
に構成したが、非接触搬送するようにしてもよい。すな
わち、プラズマ処理を施してから塗布を施すまで、支持
体２のプラズマ処理が施された面に非接触で支持体２を
搬送する搬送手段を設けてもよい。
を防ぐために、ローラ３２〜３６に弾性層を設けるよう
に構成したが、非接触搬送するようにしてもよい。すな
わち、プラズマ処理を施してから塗布を施すまで、支持
体２のプラズマ処理が施された面に非接触で支持体２を
搬送する搬送手段を設けてもよい。
【００５２】なお、このような、擦り傷や筋故障の発生
は、本実施の形態のフレームプラズマ処理が施された支
持体２のみならず、グロー放電処理を含めたプラズマ処
理が施された支持体２にも発生する。そのため、上述し
た非接触搬送やローラに弾性層を設けることにより、グ
ロー放電処理を含めたプラズマ処理が施された支持体２
であっても擦り傷や筋故障を防止することができる。
は、本実施の形態のフレームプラズマ処理が施された支
持体２のみならず、グロー放電処理を含めたプラズマ処
理が施された支持体２にも発生する。そのため、上述し
た非接触搬送やローラに弾性層を設けることにより、グ
ロー放電処理を含めたプラズマ処理が施された支持体２
であっても擦り傷や筋故障を防止することができる。
【００５３】ところで、本発明者らが、本実施の形態の
フレームプラズマ処理のみならず、グロー放電処理を含
めたプラズマ処理、さらに、コロナ放電処理や紫外線照
射処理を含めた物理的表面処理を、鋭意検討した結果、
物理的表面処理が施された支持体２における表面エネル
ギーの水素結合成分γhと、膜付き性とには、所定の関
係を有していることを見いだした。すなわち、物理的表
面処理が施された支持体における表面エネルギーの水素
結合成分が、８ｍＮ／ｍ以上（好ましくは、１０ｍＮ／
ｍ以上）となるように、物理的表面処理を施すことによ
り、十分な膜付き性を得ることができる。
フレームプラズマ処理のみならず、グロー放電処理を含
めたプラズマ処理、さらに、コロナ放電処理や紫外線照
射処理を含めた物理的表面処理を、鋭意検討した結果、
物理的表面処理が施された支持体２における表面エネル
ギーの水素結合成分γhと、膜付き性とには、所定の関
係を有していることを見いだした。すなわち、物理的表
面処理が施された支持体における表面エネルギーの水素
結合成分が、８ｍＮ／ｍ以上（好ましくは、１０ｍＮ／
ｍ以上）となるように、物理的表面処理を施すことによ
り、十分な膜付き性を得ることができる。
【００５４】一方、このような物理的表面処理を支持体
２に施すと、支持体２の表面エネルギーの非極性成分γ
dが低下することがわかった。そして、この表面エネル
ギーの非極性成分γdの低下量と高速塗布性とには、所
定の関係を有していることを見いだした。すなわち、表
面エネルギーの非極性成分γdの低下量（物理的表面処
理が施される前に対して、物理的表面処理が施された後
の支持体２における表面エネルギーの非極性成分の低下
量）が、７ｍＮ／ｍ以下（好ましくは、５ｍＮ／ｍ以
下）となるように、物理的表面処理を施すことにより、
物理的表面処理が施された支持体２上に塗布液を塗布す
るに際して、高速な塗布が可能となる。
２に施すと、支持体２の表面エネルギーの非極性成分γ
dが低下することがわかった。そして、この表面エネル
ギーの非極性成分γdの低下量と高速塗布性とには、所
定の関係を有していることを見いだした。すなわち、表
面エネルギーの非極性成分γdの低下量（物理的表面処
理が施される前に対して、物理的表面処理が施された後
の支持体２における表面エネルギーの非極性成分の低下
量）が、７ｍＮ／ｍ以下（好ましくは、５ｍＮ／ｍ以
下）となるように、物理的表面処理を施すことにより、
物理的表面処理が施された支持体２上に塗布液を塗布す
るに際して、高速な塗布が可能となる。
【００５５】ここで、表面エネルギーの水素結合成分γ
hと非極性成分γdとの測定は、沃化メチレン溶剤と水に
対する接触角θI、θWとをそれぞれ測定し、下記の数
１、数２を用いて算出する。
hと非極性成分γdとの測定は、沃化メチレン溶剤と水に
対する接触角θI、θWとをそれぞれ測定し、下記の数
１、数２を用いて算出する。
【００５６】
【数１】
【００５７】
【数２】
【００５８】
【実施例】（実施例１）まず、前除電処理の影響につい
て、図１に示す塗布装置を用いて実験を行った。なお、
実験は、フレームプラズマ処理を施す前の前除電手段１
５を設けない場合（実験１−１）、前除電手段１５に送
風式除電器（ＫＤ−４１０、春日電機（株）製）を用い
た場合（実験１−２）、前除電手段１５にブラシ型除電
器（アキレスノンスパーク社製）を用いた場合（実験１
−３）、前除電手段１５に高密度除電器（ＨＤＩＳ−４
００、春日電機（株）製）を用いた場合（実験１−４）
で行った。また、塗布した塗布液は、ゼラチン水溶液
で、ゼラチン付き量が２ｇ／ｍ2である。
て、図１に示す塗布装置を用いて実験を行った。なお、
実験は、フレームプラズマ処理を施す前の前除電手段１
５を設けない場合（実験１−１）、前除電手段１５に送
風式除電器（ＫＤ−４１０、春日電機（株）製）を用い
た場合（実験１−２）、前除電手段１５にブラシ型除電
器（アキレスノンスパーク社製）を用いた場合（実験１
−３）、前除電手段１５に高密度除電器（ＨＤＩＳ−４
００、春日電機（株）製）を用いた場合（実験１−４）
で行った。また、塗布した塗布液は、ゼラチン水溶液
で、ゼラチン付き量が２ｇ／ｍ2である。
【００５９】評価の方法は、各実験を行った支持体２上
のゼラチン水溶液が乾燥後、市販のかみそり刃で膜に垂
直（９０度）、４５度に入刃し、傷を約５ｃｍ巾付け、
そこにセロテープ（ニチバン（株）製）を貼り、支持体
２表面に平行に入刃方向に垂直な方向に速いスピードで
剥離させた結果、膜の剥離量で膜付き性を評価した。
のゼラチン水溶液が乾燥後、市販のかみそり刃で膜に垂
直（９０度）、４５度に入刃し、傷を約５ｃｍ巾付け、
そこにセロテープ（ニチバン（株）製）を貼り、支持体
２表面に平行に入刃方向に垂直な方向に速いスピードで
剥離させた結果、膜の剥離量で膜付き性を評価した。
【００６０】実験の結果を表１に示す。なお、表１中の
○印は剥離なし、△印は一部剥離、×印はテープ貼り部
全面剥離したことを表している。
○印は剥離なし、△印は一部剥離、×印はテープ貼り部
全面剥離したことを表している。
【００６１】
【表１】
【００６２】表１からわかるように、プラズマ処理を施
す前の前除電処理を施した場合、前除電処理を施さなか
った場合よりも、膜付き性が向上し、安定した表面処理
を施すことができる。さらに、前除電処理としては、送
風式や接触式（ブラシ型）であってもよいが、高密度除
電器を用いた方が、安定した表面処理を施すことがで
き、膜付き性が向上する。なお、このような傾向は、フ
レームプラズマ処理のみならず、グロー放電処理を含め
たプラズマ処理を施した場合においても、同様な結果を
得た。
す前の前除電処理を施した場合、前除電処理を施さなか
った場合よりも、膜付き性が向上し、安定した表面処理
を施すことができる。さらに、前除電処理としては、送
風式や接触式（ブラシ型）であってもよいが、高密度除
電器を用いた方が、安定した表面処理を施すことがで
き、膜付き性が向上する。なお、このような傾向は、フ
レームプラズマ処理のみならず、グロー放電処理を含め
たプラズマ処理を施した場合においても、同様な結果を
得た。
【００６３】（実施例２）次に、後除電処理の影響につ
いて、図１に示す塗布装置を用いて実験を行った。な
お、実験は、フレームプラズマ処理を施した後、すなわ
ち、塗布の前に後除電手段１６を設けない場合（実験２
−１）、後除電手段１６に送風式除電器（ＫＤ−４１
０、春日電機（株）製）を用いた場合（実験２−２）、
後除電手段１６にブラシ型除電器（アキレスノンスパー
ク社製）を用いた場合（実験２−３）、後除電手段１６
に高密度除電器（ＨＤＩＳ−４００、春日電機（株）
製）を用いた場合（実験２−４）で行った。また、塗布
した塗布液は、白黒乳剤である。
いて、図１に示す塗布装置を用いて実験を行った。な
お、実験は、フレームプラズマ処理を施した後、すなわ
ち、塗布の前に後除電手段１６を設けない場合（実験２
−１）、後除電手段１６に送風式除電器（ＫＤ−４１
０、春日電機（株）製）を用いた場合（実験２−２）、
後除電手段１６にブラシ型除電器（アキレスノンスパー
ク社製）を用いた場合（実験２−３）、後除電手段１６
に高密度除電器（ＨＤＩＳ−４００、春日電機（株）
製）を用いた場合（実験２−４）で行った。また、塗布
した塗布液は、白黒乳剤である。
【００６４】評価の方法は、各実験を行った支持体２上
の白黒乳剤が乾燥後、現像処理を行い、支持体２上の塗
膜における横段状と斑点状のムラ故障の発生状況を目視
にて観察した。
の白黒乳剤が乾燥後、現像処理を行い、支持体２上の塗
膜における横段状と斑点状のムラ故障の発生状況を目視
にて観察した。
【００６５】実験の結果を表２に示す。
【００６６】
【表２】
【００６７】表２からわかるように、プラズマ処理を施
した後に後除電処理を施した場合は横段状のムラ故障は
発生せず、さらに、後除電処理に高密度除電器を用いた
場合は斑点状のムラ故障も発生しない。なお、このよう
な傾向は、フレームプラズマ処理のみならず、グロー放
電処理を含めたプラズマ処理を施した場合においても、
同様な結果を得た。
した後に後除電処理を施した場合は横段状のムラ故障は
発生せず、さらに、後除電処理に高密度除電器を用いた
場合は斑点状のムラ故障も発生しない。なお、このよう
な傾向は、フレームプラズマ処理のみならず、グロー放
電処理を含めたプラズマ処理を施した場合においても、
同様な結果を得た。
【００６８】（実施例３）次に、プラズマ処理と塗布と
の間の搬送手段の影響について、図１に示す塗布装置を
用いて実験を行った。なお、実験は、バーナー手段１２
と塗布手段４との間にある搬送手段３のローラ（３２〜
３６など２０本）に金属製の溝付きローラ（金属溝付き
ローラ）を用いた場合（実験３−１）、金属溝付きロー
ラの表面をナイロンメッシュで被覆したローラを用いた
場合（実験３−２）、金属溝付きローラの表面をゴムで
被覆したローラを用いた場合（実験３−３）、さらに、
バーナー手段１２と塗布手段４との間にある搬送手段３
にエアーフロータイプの非接触搬送で行った場合（実験
３−４）で行った。また、塗布した塗布液は、白黒乳剤
である。
の間の搬送手段の影響について、図１に示す塗布装置を
用いて実験を行った。なお、実験は、バーナー手段１２
と塗布手段４との間にある搬送手段３のローラ（３２〜
３６など２０本）に金属製の溝付きローラ（金属溝付き
ローラ）を用いた場合（実験３−１）、金属溝付きロー
ラの表面をナイロンメッシュで被覆したローラを用いた
場合（実験３−２）、金属溝付きローラの表面をゴムで
被覆したローラを用いた場合（実験３−３）、さらに、
バーナー手段１２と塗布手段４との間にある搬送手段３
にエアーフロータイプの非接触搬送で行った場合（実験
３−４）で行った。また、塗布した塗布液は、白黒乳剤
である。
【００６９】評価の方法は、各実験を行った支持体２上
の白黒乳剤が乾燥後、現像処理を行い、支持体２の傷付
きに伴う支持体２上の塗膜における筋故障の発生状況を
目視にて観察した。
の白黒乳剤が乾燥後、現像処理を行い、支持体２の傷付
きに伴う支持体２上の塗膜における筋故障の発生状況を
目視にて観察した。
【００７０】実験の結果を表３に示す。
【００７１】
【表３】
【００７２】表３からわかるように、バーナー手段１２
と塗布手段４との間にある搬送手段３のローラにナイロ
ンメッシュやゴムなどの弾性層を設けた場合やバーナー
手段１２と塗布手段４との間を非接触搬送した場合は、
筋故障が発生しない。なお、このような傾向は、フレー
ムプラズマ処理のみならず、グロー放電処理を含めたプ
ラズマ処理を施した場合においても、同様な結果を得
た。
と塗布手段４との間にある搬送手段３のローラにナイロ
ンメッシュやゴムなどの弾性層を設けた場合やバーナー
手段１２と塗布手段４との間を非接触搬送した場合は、
筋故障が発生しない。なお、このような傾向は、フレー
ムプラズマ処理のみならず、グロー放電処理を含めたプ
ラズマ処理を施した場合においても、同様な結果を得
た。
【００７３】（実施例４）上述の実施例３において、実
験３−２や実験３−３においては、部分的にかぶりが見
られた（実験３−４においては、全く見られなかっ
た）。そこで、バーナー手段１２と塗布手段４との間を
接触搬送させる際に、ローラに設けた弾性層の表面比抵
抗の影響について、実験を行った。実験は、上述の実験
３−３において、ローラに被覆したゴムの表面比抵抗
を、種々変えて行った。
験３−２や実験３−３においては、部分的にかぶりが見
られた（実験３−４においては、全く見られなかっ
た）。そこで、バーナー手段１２と塗布手段４との間を
接触搬送させる際に、ローラに設けた弾性層の表面比抵
抗の影響について、実験を行った。実験は、上述の実験
３−３において、ローラに被覆したゴムの表面比抵抗
を、種々変えて行った。
【００７４】評価の方法は、各実験を行った支持体２上
の白黒乳剤が乾燥後、現像処理を行い、かぶり故障の発
生状況を目視にて観察した。
の白黒乳剤が乾燥後、現像処理を行い、かぶり故障の発
生状況を目視にて観察した。
【００７５】実験の結果を表４に示す。なお、表４中の
○印はかぶり故障発生なし、△印はわずかにかぶり故障
発生、×印はかぶり故障が強く発生したことを表してい
る。
○印はかぶり故障発生なし、△印はわずかにかぶり故障
発生、×印はかぶり故障が強く発生したことを表してい
る。
【００７６】
【表４】
【００７７】表４からわかるように、ローラの弾性層の
表面比抵抗が１０10Ω・ｃｍ以下であれば、かぶり故障
の発生を抑制することができ、特に、１０8Ω・ｃｍ以
下であれば、かぶり故障が発生しないことがわかる。な
お、このような傾向は、フレームプラズマ処理のみなら
ず、グロー放電処理を含めたプラズマ処理を施した場合
においても、同様な結果を得た。
表面比抵抗が１０10Ω・ｃｍ以下であれば、かぶり故障
の発生を抑制することができ、特に、１０8Ω・ｃｍ以
下であれば、かぶり故障が発生しないことがわかる。な
お、このような傾向は、フレームプラズマ処理のみなら
ず、グロー放電処理を含めたプラズマ処理を施した場合
においても、同様な結果を得た。
【００７８】（実施例５）次に、フレームプラズマ処理
における燃焼ガスの影響及び電界生成の影響について、
図１に示す塗布装置を用いて実験を行った。なお、実験
は、表５に示す条件で行った。すなわち、燃焼ガスにプ
ロパンガスのみ（実験５−１、２、５、６）とプロパン
ガスにアルゴンガスを１０％混合（実験５−３、４、
７、８）とを用い、また、電界生成手段１３により回転
冷却ドラム１１に電圧を印加しない場合（実験５−１、
３、５、７）と１０ｋＨｚの高周波を印加した場合（実
験５−２、４、６、８）とで、さらに、ゼラチンの付き
量を４ｇ／ｃｍ2とした場合（実験５−１〜４）と８ｇ
／ｃｍ2とした場合とで行った。
における燃焼ガスの影響及び電界生成の影響について、
図１に示す塗布装置を用いて実験を行った。なお、実験
は、表５に示す条件で行った。すなわち、燃焼ガスにプ
ロパンガスのみ（実験５−１、２、５、６）とプロパン
ガスにアルゴンガスを１０％混合（実験５−３、４、
７、８）とを用い、また、電界生成手段１３により回転
冷却ドラム１１に電圧を印加しない場合（実験５−１、
３、５、７）と１０ｋＨｚの高周波を印加した場合（実
験５−２、４、６、８）とで、さらに、ゼラチンの付き
量を４ｇ／ｃｍ2とした場合（実験５−１〜４）と８ｇ
／ｃｍ2とした場合とで行った。
【００７９】評価の方法は、各実験を行った支持体２上
のゼラチン水溶液が乾燥後、市販のかみそり刃で膜に垂
直（９０度）、４５度に入刃し、傷を約５ｃｍ巾付け、
そこにセロテープ（ニチバン（株）製）を貼り、支持体
２表面に平行に入刃方向に垂直な方向に速いスピードで
剥離させた結果、膜の剥離量で膜付き性を評価した。
のゼラチン水溶液が乾燥後、市販のかみそり刃で膜に垂
直（９０度）、４５度に入刃し、傷を約５ｃｍ巾付け、
そこにセロテープ（ニチバン（株）製）を貼り、支持体
２表面に平行に入刃方向に垂直な方向に速いスピードで
剥離させた結果、膜の剥離量で膜付き性を評価した。
【００８０】実験の結果を表５に示す。なお、表５中の
○印は剥離なし、△印は一部剥離、×印はテープ貼り部
全面剥離したことを表している。
○印は剥離なし、△印は一部剥離、×印はテープ貼り部
全面剥離したことを表している。
【００８１】
【表５】
【００８２】表５からわかるように、燃焼ガスにアルゴ
ンガスを導入した場合、膜付き性が向上することがわか
る。さらに、フレームプラズマ処理を施す際に、電界を
生じさせながら行うことにより、さらに膜付き性が向上
する。なお、この実験においては、燃焼ガスに、アルゴ
ンガスを導入したが、ネオンガスなど、ヘリウムより質
量の大きいネオン以降の不活性ガスを導入しても、同様
の効果を得た。
ンガスを導入した場合、膜付き性が向上することがわか
る。さらに、フレームプラズマ処理を施す際に、電界を
生じさせながら行うことにより、さらに膜付き性が向上
する。なお、この実験においては、燃焼ガスに、アルゴ
ンガスを導入したが、ネオンガスなど、ヘリウムより質
量の大きいネオン以降の不活性ガスを導入しても、同様
の効果を得た。
【００８３】（実施例６）次に、フレームプラズマ処理
のみならず、グロー放電処理を含めたプラズマ処理、さ
らには、コロナ放電処理や紫外線照射処理を含めた物理
的表面処理を施した支持体２の表面エネルギーの水素結
合成分γhの影響について、実験を行った。
のみならず、グロー放電処理を含めたプラズマ処理、さ
らには、コロナ放電処理や紫外線照射処理を含めた物理
的表面処理を施した支持体２の表面エネルギーの水素結
合成分γhの影響について、実験を行った。
【００８４】一般に、物理的表面処理の処理強度を高め
ると表面改質量は増大する。一方、支持体の表面エネル
ギーは、水素結合成分γh、非極性成分γd、極性成分の
３成分に分解でき、このうち、水素結合成分γhが接着
性（膜付き性）に関係している。
ると表面改質量は増大する。一方、支持体の表面エネル
ギーは、水素結合成分γh、非極性成分γd、極性成分の
３成分に分解でき、このうち、水素結合成分γhが接着
性（膜付き性）に関係している。
【００８５】そこで、各種物理的表面処理を支持体（Ｐ
ＥＮ）２に施し、この支持体２の表面エネルギーの水素
結合成分γhを上述した数１、数２を用いて求めるとと
もに、この支持体２上に、ゼラチン水溶液を塗布し乾燥
した（塗膜２ｇ／ｃｍ2）。なお、物理的表面処理の方
法（フレームプラズマ処理、グロー放電処理、コロナ放
電処理、紫外線照射処理など）を種々用いて、処理後の
支持体２における表面エネルギーの水素結合成分γhが
表６の値になるように、それぞれの処理強度を変更して
実験を行った。なお、実験６−１は、物理的表面処理を
施さなかった場合である。
ＥＮ）２に施し、この支持体２の表面エネルギーの水素
結合成分γhを上述した数１、数２を用いて求めるとと
もに、この支持体２上に、ゼラチン水溶液を塗布し乾燥
した（塗膜２ｇ／ｃｍ2）。なお、物理的表面処理の方
法（フレームプラズマ処理、グロー放電処理、コロナ放
電処理、紫外線照射処理など）を種々用いて、処理後の
支持体２における表面エネルギーの水素結合成分γhが
表６の値になるように、それぞれの処理強度を変更して
実験を行った。なお、実験６−１は、物理的表面処理を
施さなかった場合である。
【００８６】評価の方法は、各実験を行った支持体２上
のゼラチン水溶液が乾燥後、市販のかみそり刃で膜に垂
直（９０度）、４５度に入刃し、傷を約５ｃｍ巾付け、
そこにセロテープ（ニチバン（株）製）を貼り、支持体
２表面に平行に入刃方向に垂直な方向に速いスピードで
剥離させた結果、膜の剥離量で膜付き性を評価した。
のゼラチン水溶液が乾燥後、市販のかみそり刃で膜に垂
直（９０度）、４５度に入刃し、傷を約５ｃｍ巾付け、
そこにセロテープ（ニチバン（株）製）を貼り、支持体
２表面に平行に入刃方向に垂直な方向に速いスピードで
剥離させた結果、膜の剥離量で膜付き性を評価した。
【００８７】実験の結果を表６に示す。なお、表６中の
○印は剥離なし、△印は一部剥離、×印はテープ貼り部
全面剥離したことを表している。
○印は剥離なし、△印は一部剥離、×印はテープ貼り部
全面剥離したことを表している。
【００８８】
【表６】
【００８９】表６からわかるように、物理的表面処理が
施された支持体２における表面エネルギーの水素結合成
分γhが、８ｍＮ／ｍ以上（好ましくは、１０ｍＮ／ｍ
以上）となるように、物理的表面処理を施すことによ
り、接着性（膜付き性）が十分に得られることがわか
る。
施された支持体２における表面エネルギーの水素結合成
分γhが、８ｍＮ／ｍ以上（好ましくは、１０ｍＮ／ｍ
以上）となるように、物理的表面処理を施すことによ
り、接着性（膜付き性）が十分に得られることがわか
る。
【００９０】（実施例７）次に、フレームプラズマ処理
のみならず、グロー放電処理を含めたプラズマ処理、さ
らには、コロナ放電処理や紫外線照射処理を含めた物理
的表面処理を施した支持体２の表面エネルギーの非極性
成分γd影響について、実験を行った。一般に、物理的
表面処理が施されると、表面エネルギーの非極性成分γ
dは、低下する。この支持体２における表面エネルギー
の非極性成分γdの低下量が、高速塗布性に関係してい
る。
のみならず、グロー放電処理を含めたプラズマ処理、さ
らには、コロナ放電処理や紫外線照射処理を含めた物理
的表面処理を施した支持体２の表面エネルギーの非極性
成分γd影響について、実験を行った。一般に、物理的
表面処理が施されると、表面エネルギーの非極性成分γ
dは、低下する。この支持体２における表面エネルギー
の非極性成分γdの低下量が、高速塗布性に関係してい
る。
【００９１】そこで、支持体２の表面エネルギーの非極
性成分γdを上述した数１を用いて求め、この支持体２
に各種物理的表面処理を施し、物理的表面処理が施され
た支持体２の表面エネルギーの非極性成分γdを上述し
た数１、数２を用いて求めるとともに、この支持体２上
に、ゼラチン水溶液を塗布し乾燥した（塗膜２ｇ／ｃｍ
2）。なお、物理的表面処理の方法（フレームプラズマ
処理、グロー放電処理、コロナ放電処理、紫外線照射処
理など）を種々用いて、処理後の支持体２における表面
エネルギーの非極性成分γdの低下量（すなわち、（物
理的表面処理を施す前の支持体における表面エネルギー
の非極性成分γd）−（物理的表面処理を施した後の支
持体における表面エネルギーの非極性成分γd））が表
７の値になるように、それぞれの処理強度を変更して実
験を行った。なお、ゼラチン水溶液の塗布は、塗布手段
４としてカーテン塗布法を用い、支持体２の搬送速度を
３００ｍ／ｍｉｎで行った。
性成分γdを上述した数１を用いて求め、この支持体２
に各種物理的表面処理を施し、物理的表面処理が施され
た支持体２の表面エネルギーの非極性成分γdを上述し
た数１、数２を用いて求めるとともに、この支持体２上
に、ゼラチン水溶液を塗布し乾燥した（塗膜２ｇ／ｃｍ
2）。なお、物理的表面処理の方法（フレームプラズマ
処理、グロー放電処理、コロナ放電処理、紫外線照射処
理など）を種々用いて、処理後の支持体２における表面
エネルギーの非極性成分γdの低下量（すなわち、（物
理的表面処理を施す前の支持体における表面エネルギー
の非極性成分γd）−（物理的表面処理を施した後の支
持体における表面エネルギーの非極性成分γd））が表
７の値になるように、それぞれの処理強度を変更して実
験を行った。なお、ゼラチン水溶液の塗布は、塗布手段
４としてカーテン塗布法を用い、支持体２の搬送速度を
３００ｍ／ｍｉｎで行った。
【００９２】評価の方法は、各実験を行った支持体２上
のゼラチン水溶液が乾燥後、市販のかみそり刃で膜に垂
直（９０度）、４５度に入刃し、傷を約５ｃｍ巾付け、
そこにセロテープ（ニチバン（株）製）を貼り、支持体
２表面に平行に入刃方向に垂直な方向に速いスピードで
剥離させた結果、膜の剥離量で膜付き性を評価した。
のゼラチン水溶液が乾燥後、市販のかみそり刃で膜に垂
直（９０度）、４５度に入刃し、傷を約５ｃｍ巾付け、
そこにセロテープ（ニチバン（株）製）を貼り、支持体
２表面に平行に入刃方向に垂直な方向に速いスピードで
剥離させた結果、膜の剥離量で膜付き性を評価した。
【００９３】実験の結果を表７に示す。なお、表７中の
○印は良好な塗膜が形成できたこと、△印は部分的にハ
ジキ状の故障が発生したこと、×印は塗膜形成が不可能
であったことを表している。
○印は良好な塗膜が形成できたこと、△印は部分的にハ
ジキ状の故障が発生したこと、×印は塗膜形成が不可能
であったことを表している。
【００９４】
【表７】
【００９５】表７からわかるように、物理的表面処理が
施された支持体２における表面エネルギーの非極性成分
γdが、７ｍＮ／ｍ以下（好ましくは、５ｍＮ／ｍ以
下）となるように、物理的表面処理を施すことにより、
３００ｍ／ｍｉｎの高速な塗布が可能となり、高速塗布
性が良好となる。
施された支持体２における表面エネルギーの非極性成分
γdが、７ｍＮ／ｍ以下（好ましくは、５ｍＮ／ｍ以
下）となるように、物理的表面処理を施すことにより、
３００ｍ／ｍｉｎの高速な塗布が可能となり、高速塗布
性が良好となる。
【００９６】
【発明の効果】以上詳述したように、本第１発明によれ
ば、物理的表面処理を施した支持体上に塗布された塗布
液の膜付き性が充分となる表面処理方法を得ることがで
きる。また、本第２発明によれば、物理的表面処理を施
した支持体上に、高速で塗布液を塗布することができる
表面処理方法を得ることができる。
ば、物理的表面処理を施した支持体上に塗布された塗布
液の膜付き性が充分となる表面処理方法を得ることがで
きる。また、本第２発明によれば、物理的表面処理を施
した支持体上に、高速で塗布液を塗布することができる
表面処理方法を得ることができる。
【００９７】また、本第３発明によれば、連続搬送して
いる支持体に対してプラズマ処理を安定して施すことが
できる表面処理方法及び表面処理装置を得ることができ
る。
いる支持体に対してプラズマ処理を安定して施すことが
できる表面処理方法及び表面処理装置を得ることができ
る。
【００９８】また、本第４発明によれば、塗布液を塗布
する際に、プラズマ処理が施された支持体上に傷が発生
しない塗布方法及び塗布装置を得ることができる。
する際に、プラズマ処理が施された支持体上に傷が発生
しない塗布方法及び塗布装置を得ることができる。
【００９９】また、本第５発明によれば、フレームプラ
ズマ処理を施した支持体に塗布された塗布液の膜付き性
（接着性）が充分となる表面処理方法及び表面処理装置
を得ることができる。
ズマ処理を施した支持体に塗布された塗布液の膜付き性
（接着性）が充分となる表面処理方法及び表面処理装置
を得ることができる。
【図１】表面処理装置を有した塗布装置の概略構成図で
ある。
ある。
１ 表面処理装置 ２ 支持体 ３ 搬送手段 ４ 塗布手段 １１ 回転冷却ドラム １２ バーナー手段（プラズマ処理手段） １３ 電界生成手段 １４ 導入手段 １５ 前除電手段 １６ 後除電手段
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 前原 雄一郎 東京都日野市さくら町１番地コニカ株式会 社内
Claims (15)
- 【請求項１】 連続搬送されている支持体に対して、物
理的表面処理を施す支持体の表面処理方法において、 前記物理的表面処理が施された支持体における表面エネ
ルギーの水素結合成分γhが、８ｍＮ／ｍ以上となるよ
うに、物理的表面処理を施すことを特徴とする支持体の
表面処理方法。 - 【請求項２】 連続搬送されている支持体に対して、物
理的表面処理を施す支持体の表面処理方法において、 前記物理的表面処理が施される前に対して前記物理的表
面処理が施された後の支持体における表面エネルギーの
非極性成分γdの低下量が７ｍＮ／ｍ以下となるよう
に、物理的表面処理を施すことを特徴とする支持体の表
面処理方法。 - 【請求項３】 連続搬送されている支持体に対して、プ
ラズマ処理を施す支持体の表面処理方法において、 前記プラズマ処理に先立ち、連続搬送される支持体に対
して、除電処理を施すことを特徴とする支持体の表面処
理方法。 - 【請求項４】 前記プラズマ処理の後に、連続搬送され
る支持体に対して、除電処理を施すことを特徴とする請
求項３に記載の支持体の表面処理方法。 - 【請求項５】 連続搬送されている支持体に対して、プ
ラズマ処理を施すプラズマ処理手段と、 前記プラズマ処理手段に対して支持体の搬送方向上流側
に配置され、支持体に対して除電処理を施す前除電手段
と、を有することを特徴とする表面処理装置。 - 【請求項６】 前記プラズマ処理手段に対して支持体の
搬送方向下流側に配置され、支持体に対して除電処理を
施す後除電手段を有することを特徴とする請求項５に記
載の表面処理装置。 - 【請求項７】 連続搬送されている支持体に対して、プ
ラズマ処理を施した後、塗布液を塗布する塗布方法にお
いて、 前記プラズマ処理を施してから前記塗布を施すまで、前
記プラズマ処理が施された面に非接触で支持体を搬送す
ることを特徴とする塗布方法。 - 【請求項８】 連続搬送されている支持体に対して、プ
ラズマ処理を施すプラズマ処理手段と、 前記プラズマ処理手段によりプラズマ処理が施された支
持体に対して、塗布液を塗布する塗布手段と、 前記支持体を連続搬送する搬送手段と、 を有する塗布装置において、 前記搬送手段は、前記プラズマ処理手段と前記塗布手段
との間を、前記プラズマ処理手段によりプラズマ処理が
施された面に非接触状態で支持体を搬送することを特徴
とする塗布装置。 - 【請求項９】 連続搬送されている支持体に対して、プ
ラズマ処理を施すプラズマ処理手段と、 前記プラズマ処理手段によりプラズマ処理が施された支
持体に対して、塗布液を塗布する塗布手段と、 前記支持体を連続搬送する搬送手段と、 を有する塗布装置において、 前記プラズマ処理手段と前記塗布手段との間にある前記
搬送手段は、前記プラズマ処理手段によりプラズマ処理
が施された面に、ローラの周面に設けた弾性層を接触さ
せて、支持体を搬送することを特徴とする塗布装置。 - 【請求項１０】 前記弾性層の表面比抵抗が１０10Ω・
ｃｍ以下であることを特徴とする請求項９に記載の塗布
装置。 - 【請求項１１】 前記弾性層が設けられたローラは、駆
動ローラであることを特徴とする請求項９又は１０に記
載の塗布装置。 - 【請求項１２】 連続搬送されている支持体に対して、
フレームプラズマ処理を施す支持体の表面処理方法にお
いて、 前記フレームプラズマ処理の燃焼ガスに、ヘリウムより
質量の大きいネオン以降の不活性ガスを導入することを
特徴とする支持体の表面処理方法。 - 【請求項１３】 前記フレームプラズマ処理は、電界を
生じさせながら行うことを特徴とする請求項１２に記載
の支持体の表面処理方法。 - 【請求項１４】 連続搬送されている支持体の表面に対
して、フレームプラズマ処理を施すバーナー手段と、 前記バーナー手段の燃焼ガスに、ヘリウムより質量の大
きいネオン以降の不活性ガスを導入する導入手段と、を
有することを特徴とする表面処理装置。 - 【請求項１５】 前記フレームプラズマ処理が施される
支持体と、前記バーナー手段との間に、電界を生じせし
める電界生成手段を有することを特徴とする請求項１４
に記載の表面処理装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP09152898A JP3646281B2 (ja) | 1998-04-03 | 1998-04-03 | 支持体の表面処理方法、及び表面処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP09152898A JP3646281B2 (ja) | 1998-04-03 | 1998-04-03 | 支持体の表面処理方法、及び表面処理装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11286561A true JPH11286561A (ja) | 1999-10-19 |
| JP3646281B2 JP3646281B2 (ja) | 2005-05-11 |
Family
ID=14028947
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP09152898A Expired - Fee Related JP3646281B2 (ja) | 1998-04-03 | 1998-04-03 | 支持体の表面処理方法、及び表面処理装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3646281B2 (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008303232A (ja) * | 2007-06-05 | 2008-12-18 | Mitsubishi Plastics Inc | ポリエステルフィルム |
| JP2012193288A (ja) * | 2011-03-17 | 2012-10-11 | Okura Ind Co Ltd | 樹脂フィルムの放電処理方法 |
| JP2014527257A (ja) * | 2011-06-28 | 2014-10-09 | エムティーアイエックス リミテッド | 複数の結合されたエネルギー源を用いた材料の表面処理方法及び装置。 |
| US9605376B2 (en) | 2011-06-28 | 2017-03-28 | Mtix Ltd. | Treating materials with combined energy sources |
| JP2018183769A (ja) * | 2017-04-24 | 2018-11-22 | ゼロックス コーポレイションＸｅｒｏｘ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ | 印刷前に三次元物体へ複数の表面処理を提供するシステム |
-
1998
- 1998-04-03 JP JP09152898A patent/JP3646281B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008303232A (ja) * | 2007-06-05 | 2008-12-18 | Mitsubishi Plastics Inc | ポリエステルフィルム |
| JP2012193288A (ja) * | 2011-03-17 | 2012-10-11 | Okura Ind Co Ltd | 樹脂フィルムの放電処理方法 |
| JP2014527257A (ja) * | 2011-06-28 | 2014-10-09 | エムティーアイエックス リミテッド | 複数の結合されたエネルギー源を用いた材料の表面処理方法及び装置。 |
| US9605376B2 (en) | 2011-06-28 | 2017-03-28 | Mtix Ltd. | Treating materials with combined energy sources |
| JP2018183769A (ja) * | 2017-04-24 | 2018-11-22 | ゼロックス コーポレイションＸｅｒｏｘ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ | 印刷前に三次元物体へ複数の表面処理を提供するシステム |
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3646281B2 (ja) | 2005-05-11 |
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