JPH11282132A - ハロゲン化銀写真感光材料の処理方法 - Google Patents

ハロゲン化銀写真感光材料の処理方法

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JPH11282132A
JPH11282132A JP9823498A JP9823498A JPH11282132A JP H11282132 A JPH11282132 A JP H11282132A JP 9823498 A JP9823498 A JP 9823498A JP 9823498 A JP9823498 A JP 9823498A JP H11282132 A JPH11282132 A JP H11282132A
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silver halide
atom
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compound
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JP9823498A
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Tetsuo Yamaguchi
哲男 山口
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Fujifilm Holdings Corp
Original Assignee
Fuji Photo Film Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 高感度、高コントラスト、高濃度の写真特性
を維持し、黒ポツが良好であり、さらに、オリジナル再
現性が良好なハロゲン化銀写真感光材料の処理方法を提
供する。 【解決手段】 支持体上に少なくとも一層の感光性ハロ
ゲン化銀乳剤層を有するハロゲン化銀写真感光材料にお
いて、該乳剤層もしくはその他の親水性コロイド層の少
なくとも一層に少なくとも一種の、酸化されることによ
り現像抑制剤を放出しうるレドックス化合物を含有する
ハロゲン化銀写真感光材料を、画像露光後、特定の含窒
素6員環化合物の存在下で現像処理するハロゲン化銀写
真感光材料の処理方法。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明はハロゲン化銀写真感
光材料の画像形成方法に関し、特にグラフィックアーツ
分野で用いられる超硬調な写真画像を形成する方法に関
するものである。
【0002】
【従来の技術】グラフィックアーツの分野においては網
点画像による連続階調の画像の再生あるいは線画像の再
生を良好ならしめるために、超硬調(特にγが10以
上)の写真性を示す画像形成システムが必要である。高
コントラストの写真特性を得る方法としては、古くから
いわゆる“伝染現像効果”を利用したリス現像方式が使
用されてきたが、現像液が不安定で使いづらいという欠
点を有していた。良好な保存安定性を有する処理液で現
像し、超硬調な写真特性が得られる画像形成システムが
要望され、その1つとして米国特許第4,166,74
2号、同第4,168,977号、同第4,221,8
57号、同第4,224,401号、同第4,243,
739号、同第4,269,922号、同第4,27
2,606号、同第4,311,781号、同第4,3
32,878号、同第4,618,574号、同第4,
634,661号、同第4,681,836号、同第
5,650,746号等が開示されている。これらはヒ
ドラジン誘導体を添加した表面潜像型のハロゲン化銀写
真感光材料を、pH11.0〜12.3の安定なMQま
たはPQ現像液で処理し、γが10を越える超硬調のネ
ガ画像を得るシステムであり、この方法によれば超硬調
で高感度の写真特性が得られ、現像液中に高濃度の亜硫
酸塩を添加することができるので、現像液の空気酸化に
対する安定性は従来のリス現像液に比べて飛躍的に向上
する。
【0003】この新しい硬調ネガ画像システムにおいて
改良の望まれている点のひとつが黒ポツという好ましく
ない現像をひきおこすことであり、写真製版工程上の問
題となっている。黒ポツというのは、本来、未露光で非
画像となるべき部分に発生する微小な現像銀でできた黒
いスポットである。黒ポツは、一般に保恒剤として使用
されている亜硫酸イオンの減少やpH値の上昇により多
発し、写真製版用感材としての商品価値を著しく低下さ
せてしまう。このため黒ポツ改良のために多大な努力が
なされているが、黒ポツの改良はしばしば感度およびガ
ンマ(γ)の低下をともない、高感硬調化を維持して黒
ポツを改良するシステムが強く望まれている。
【0004】また、写真製版の分野においては、印刷物
の多様性、複雑性に対処するために、オリジナル再現性
の良好な写真感光材料、安定な処理液、あるいは、補充
の簡易化などの要望がある。特に線画撮影工程における
原稿は、写植文字、手書きの文字、イラスト、網点化さ
れた写真などが貼り込まれて作られる。したがって原稿
には、濃度や線巾の異なる画像が混在し、これらの原稿
を再現よく仕上げる製版カメラ、写真感光材料、あるい
は、画像形成方法が強く望まれている。一方、カタログ
や大型ポスターの製版には、網写真の拡大(目伸し)あ
るいは縮小(目縮め)が広く行なわれ、網点を拡大して
用いる製版では、線数が粗くなりボケた点の撮影にな
る。縮小では原稿よりさらに線数/インチが大きく細い
点の撮影になる。従って網階調の再現性を維持するた
め、より一層広いラチチュードを有する画像形成方法が
要求されている。
【0005】オリジナル再現性を改良する方法として特
願平1−108215号、特願平1−240967号な
どに酸化により現像抑制剤を放出するレドックス化合物
を含む層とヒドラジン誘導体を含む感光性ハロゲン化銀
乳剤層とを有する重層構成の超硬調ハロゲン化銀感光材
料が開示されている。これによってオリジナル再現性が
格段に向上する。しかしながら、オリジナル再現性の向
上はグラフィックアーツ感材において永久の課題であ
り、さらにオリジナル再現性の良好なシステムが強く望
まれている。
【0006】また上記のヒドラジン誘導体を添加した表
面潜像型のハロゲン化銀写真感光材料をpH11.0〜
12.3の現像液で処理する方法では、高濃度の亜硫酸
保恒剤によって現像液の安定性を高めることを可能とし
たが、超硬調な写真画像を得るためには、比較的高いp
H値の現像液を用いることが必要であり、そのために現
像液が空気酸化されやすい。そこで、ヒドラジン化合物
の造核現像を利用した超硬調な写真画像形成システム
を、より低いpHの現像液で実現する工夫が試みられて
きた。
【0007】特開平1−179939、および特開平1
−179940には、ハロゲン化銀乳剤粒子に対する吸
着基を有する造核現像促進剤と、同じく吸着基を有する
造核剤とを含む感材を用いて、pH11.0以下の現像
液で現像する処理方法が記載されている。しかしなが
ら、吸着基を有する化合物は、ハロゲン化銀乳剤に添加
すると、ある限界量を超えると感光性を損ったり、現像
を抑制したり、あるいは他の有用な吸着性添加物の作用
を妨げたりする害を有するため、使用量が制限され、充
分な硬調性を発現できていない。特開昭60−1403
40には、ハロゲン化銀写真感光材料に、アミン類を添
加することで硬調性が上がることが開示されている。し
かしながら、pH11.0未満の現像液で現像する場合
においては、充分な硬調性を発現できない。特開昭56
−106244には、pH10〜12の現像液中にアミ
ノ化合物を添加して、コントラスト促進させることが開
示されている。しかしながらアミン類を現像液に添加し
て用いた場合に、液の臭気や使用機器への付着による汚
れ、あるいは廃液による環境汚染などの問題がある。米
国特許4998604号、および同4994365号に
は、エチレンオキシドの繰り返し単位を有するヒドラジ
ン化合物、およびピリジニウム基を有するヒドラジン化
合物が開示されている。しかしながら、これらの実施例
で明らかなように、硬調性が充分でなく、実用的な現像
処理条件で硬調性と必要なDmax を得ることは困難であ
る。
【0008】pH11.0未満の安定な現像液を用いて
超硬調な画像を得る為に、種々の検討が行なわれ、感材
中に特定のヒドラジン造核剤を使用することにより、さ
らに特定の4級オニウム塩造核促進剤を併用することに
より、超硬調画像が得られることが見い出されて来た。
しかしながら、高活性なヒドラジン化合物を用いると黒
ポツが発生しやすくなるという問題点がある。加えて、
高活性なヒドラジン化合物の使用はオリジナル再現性が
悪化する傾向があり問題となる場合があった。さらに、
近年、環境問題がクローズアップされていることもあ
り、さらに現像廃液を少なくするために、現像液組成に
よる写真性の変動が小さく、かつ、黒ポツが発生しにく
い感光材料の開発が強く望まれていた。
【0009】本発明の一般式(I)の化合物を使用した
ハロゲン化銀写真感光材料の処理方法の例は、特開平9
−274289号、同9−274290号等に開示され
ているが、酸化されることにより現像抑制剤を放出しう
るレドックス化合物を含有するハロゲン化銀写真感光材
料の例はない。
【0010】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、高感
度、高コントラスト(例えばγで10以上)、高Dma
xの写真特性を維持し、黒ポツが良好であり、さらに、
オリジナル再現性が良好なハロゲン化銀写真感光材料の
処理方法を提供することである。本発明の第2の目的
は、高感度、高コントラスト(例えばγで10以上)、
高Dmaxの写真特性を持ち、黒ポツ、オリジナル再現
性が良好で、かつ、経時疲労により保恒剤として導入さ
れている亜硫酸濃度が減少したりpHが変化した現像液
で処理しても、感度、γ、Dmaxの変動が少なく、か
つ、黒ポツが良好なハロゲン化銀写真感光材料の処理方
法を提供することである。
【0011】
【課題を解決するための手段】本発明の上記目的は、以
下の手段により達成された。すなわち本発明は、(1)
支持体上に少なくとも一層の感光性ハロゲン化銀乳剤層
を有するハロゲン化銀写真感光材料において、該乳剤層
もしくはその他の親水性コロイド層の少なくとも一層
に、酸化されることにより現像抑制剤を放出しうるレド
ックス化合物を少なくとも一種含有するハロゲン化銀写
真感光材料を、画像露光後、一般式(I)で表される化
合物の少なくとも一種の存在下で現像処理することを特
徴とするハロゲン化銀写真感光材料の処理方法 一般式(I)
【0012】
【化3】
【0013】(一般式(I)において、D,Eは−CH
=基、−C(R0 )=基、または窒素原子を表し、ここ
にR0 は置換基を表す。L1 、L2 、L3 は水素原子、
ハロゲン原子、または炭素原子、窒素原子、酸素原子、
硫黄原子、リン原子のいずれかで環に結合する任意の置
換基を表し、L1 〜L3 は同じでも異なっていてもよ
い。但しL1 、L2 、L3、およびR0 の少なくとも1つ
は、−SM基(Mはアルカリ金属原子、水素原子、アン
モニウム基)を表す。なおEとDが、1つの窒素原子と
1つの炭素原子を表す時は、Eが窒素原子でDが炭素原
子(−CH=基もしくは−C(R0 )=基)を表し、こ
の場合L2 およびL3 がヒドロキシ基を表すことはな
い。)、(2)(1)項に記載のハロゲン化銀写真感光
材料の処理方法において、レドックス化合物が一般式
(R−1)、一般式(R−2)または一般式(R−3)
で表される化合物であることを特徴とするハロゲン化銀
写真感光材料の処理方法
【0014】
【化4】
【0015】(これらの式中、R1 は脂肪族基または芳
香族基を表す。G1 は−CO−基、−CO−CO−基、
−CS−基、−C(=NG22)−基、−SO−基、−
SO2−基または−P(O)(G22)−基を表す。G2
は単なる結合手、−O−基、−S−基または−N
(R2)−基を表し、R2 はR1 と同定義の基または水素
原子を表し、分子内に複数のR2 が存在する場合それら
は同じであっても異なっていてもよい。A1 、A2 は水
素原子、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基
またはアシル基を表し置換されていてもよい。一般式
(R−1)ではA1 、A2 の少なくとも一方は水素原子
である。A3 はA1 と同義または−CH2 CH(A4)−
(Time)t−PUGを表す。A4 はニトロ基、シアノ基、
カルボキシル基、スルホニル基または−G1 −G2 −R
1 (この場合、分子内の2つの−G1 −G2 −R1は同
じであっても異なっていてもよい。)を表す。Timeは二
価の連結基を表し、tは0または1を表す。PUGは現
像抑制剤を表す。)、(3)(1)または(2)項のい
ずれかに記載のハロゲン化銀写真感光材料の処理方法に
おいて、該ハロゲン化銀写真感光材料の該乳剤層もしく
はその他の親水性コロイド層の少なくとも一層に造核剤
として少なくとも一種のヒドラジン誘導体を含有するこ
とを特徴とするハロゲン化銀写真感光材料の処理方法、
および(4)(1)、(2)または(3)項のいずれか
に記載のハロゲン化銀写真感光材料の処理方法におい
て、画像露光後、pH9.5以上11.0未満の現像液
を用いて現像処理することを特徴とするハロゲン化銀写
真感光材料の処理方法を提供するものである。
【0016】
【発明の実施の形態】以下に本発明について詳細に説明
する。一般式(I)の化合物について詳細に説明する。
一般式(I)において、D,Eは−CH=基、−C(R
0 )=基、または窒素原子を表し、ここにR0 は置換基
を表す。L1 、L2 、L3 は水素原子、ハロゲン原子、
または炭素原子、窒素原子、酸素原子、硫黄原子、リン
原子のいずれかで環に結合する任意の置換基を表し、L
1 〜L3 は同じでも異なっていてもよい。但しL1 、L
2 、L3 、およびR0 の少なくとも1 つは、−SM基
(Mはアルカリ金属原子、水素原子、アンモニウム基)
を表す。なおEとDが、1つの窒素原子と1つの炭素原
子を表す時は、Eが窒素原子でDが炭素原子(−CH=
基もしくは−C(R0 )=基)を表し、この場合L2
よびL3 がヒドロキシ基を表すことはない。L1 、L
2 、L3 で表される任意の置換基およびR0 で表される
置換基としては、具体的には、ハロゲン原子(フッ素原
子、クロル原子、臭素原子、または沃素原子)、アルキ
ル基(アラルキル基、シクロアルキル基、活性メチン基
等を含む)、アルケニル基、アルキニル基、アリール
基、複素環基、4 級化された窒素原子を含むヘテロ環基
(たとえばピリジニオ基)、アシル基、アルコキシカル
ボニル基、アリールオキシカルボニル基、カルバモイル
基、カルボキシ基またはその塩、スルホニルカルバモイ
ル基、アシルカルバモイル基、スルファモイルカルバモ
イル基、カルバゾイル基、オキサリル基、オキサモイル
基、シアノ基、チオカルバモイル基、ヒドロキシ基、ア
ルコキシ基(エチレンオキシ基もしくはプロピレンオキ
シ基単位を繰り返し含む基を含む)、アリールオキシ
基、ヘテロ環オキシ基、アシルオキシ基、(アルコキシ
もしくはアリールオキシ)カルボニルオキシ基、カルバ
モイルオキシ基、スルホニルオキシ基、アミノ基、(ア
ルキル、アリールまたはヘテロ環)アミノ基、ヒドロキ
シアミノ基,N−置換の飽和もしくは不飽和の含窒素ヘ
テロ環基、アシルアミノ基、スルホンアミド基、ウレイ
ド基、チオウレイド基、イミド基、(アルコキシもしく
はアリールオキシ)カルボニルアミノ基、スルファモイ
ルアミノ基、セミカルバジド基、チオセミカルバジド
基、ヒドラジノ基、4 級のアンモニオ基、オキサモイル
アミノ基、(アルキルもしくはアリール)スルホニルウ
レイド基、アシルウレイド基、アシルスルファモイルア
ミノ基、ニトロ基、メルカプト基、(アルキル、アリー
ルまたはヘテロ環)チオ基、(アルキルまたはアリー
ル)スルホニル基、(アルキルまたはアリール)スルフ
ィニル基、スルホ基またはその塩、スルファモイル基、
アシルスルファモイル基、スルホニルスルファモイル基
またはその塩、リン酸アミドもしくはリン酸エステル構
造を含む基、等があげられる。これらの置換基は、さら
にこれらの置換基で置換されていてもよい。なお、Eが
窒素原子でDが炭素原子(−CH=基もしくは−C(R
0 )=基)を表す時、L2 、L3 がヒドロキシ基を表す
ことはない。
【0017】L1 、L2 、L3 で表される任意の置換基
およびR0 で表される置換基としてより好ましくは、炭
素数0〜15の置換基で、クロル原子、アルキル基、ア
リール基、複素環基、アシル基、アルコキシカルボニル
基、カルバモイル基、カルボキシ基またはその塩、シア
ノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシルオキシ
基、アミノ基、(アルキル、アリールまたはヘテロ環)
アミノ基、ヒドロキシアミノ基、N−置換の飽和もしく
は不飽和の含窒素ヘテロ環基、アシルアミノ基、スルホ
ンアミド基、ウレイド基、チオウレイド基、スルファモ
イルアミノ基、ニトロ基、メルカプト基、(アルキル、
アリール、またはヘテロ環)チオ基、スルホ基またはそ
の塩、スルファモイル基であり、さらに好ましくは、ア
ルキル基、アリール基、複素環基、アルコキシカルボニ
ル基、カルバモイル基、カルボキシ基またはその塩、ア
ルコキシ基、アリールオキシ基、アシルオキシ基、アミ
ノ基、(アルキル、アリールまたはヘテロ環)アミノ
基、ヒドロキシアミノ基、N−置換の飽和もしくは不飽
和の含窒素ヘテロ環基、アシルアミノ基、スルホンアミ
ド基、ウレイド基、チオウレイド基、スルファモイルア
ミノ基、メルカプト基、(アルキル、アリール、または
ヘテロ環)チオ基、スルホ基またはその塩であり、最も
好ましくはアミノ基、アルキル基、アリール基、アルコ
キシ基、アリールオキシ基、アルキルアミノ基、アリー
ルアミノ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、メルカ
プト基、カルボキシ基またはその塩、スルホ基またはそ
の塩である。一般式(I)に於いてL1 、L2 、L3
よびR0 は、互いに結合して炭化水素環、ヘテロ環、芳
香環が縮合した縮合環を形成していてもよい。
【0018】一般式(I)に於いてMはアルカリ金属原
子、水素原子、アンモニウム基を表す。ここにアルカリ
金属原子とは具体的に、Na,K,Li,Mg,Ca等
であり、これらは−S- の対カチオンとして存在する。
Mとして好ましくは、水素原子、アンモニウム基、Na
+ 、またはK+ であり、特に好ましくは水素原子であ
る。一般式(I)の化合物のうち、次の一般式(A)、
(B)で表される化合物が好ましい。
【0019】
【化5】
【0020】つぎに一般式(A)について詳細に説明す
る。R1 〜R4 は水素原子、ハロゲン原子、または炭素
原子、窒素原子、酸素原子、硫黄原子、リン原子で環に
結合する任意の置換基を表すが、これは一般式(I)の
1 、L2 、L3 と同義の基であり、その好ましい範囲
もまた同じである。但し、R1 およびR3 がヒドロキシ
基を表すことはない。R1 〜R4 は同じでも異なってい
てもよいが、これらのうち少なくとも一つは−SM基で
ある。Mは水素原子、アルカリ金属原子、アンモニウム
基を表す。
【0021】一般式(A)に於いてR1 〜R4 の少なく
とも1 つは- SM基であるが、より好ましくはR1 〜R
4 の少なくとも2つが- SM基である。R1 〜R4 の少
なくとも2つが- SM基である場合、好ましくはR4
1 、もしくはR4 とR3 が- SM基である。本発明に
おいては、一般式(A)で表される化合物のうち、下記
一般式(A−1)〜(A−3)で表される化合物が特に
好ましい。
【0022】
【化6】
【0023】一般式(A−1)において、R10はメルカ
プト基、水素原子、または任意の置換基を表し、Xは水
溶性基もしくは水溶性基で置換された置換基をあらわ
す。一般式(A−2)においてY1 は水溶性基もしくは
水溶性基で置換された置換基を表し、R20は水素原子ま
たは任意の置換基を表す。一般式(A−3)においてY
2 は水溶性基もしくは水溶性基で置換された置換基を表
し、R30は水素原子または任意の置換基を表す。但し、
10およびY1 がヒドロキシ基を表すことはない。
【0024】つぎに、一般式(A−1)〜(A−3)で
表される化合物について詳しく説明する。一般式(A−
1)において、R10はメルカプト基、水素原子または任
意の置換基をあらわす。ここで任意の置換基とは、一般
式(A)のR1 〜R4 について説明したものと同じもの
があげられる。R10として好ましくは、メルカプト基、
水素原子、または炭素数0〜15以下の置換基から選ば
れる基である。すなわち、アミノ基、アルキル基、アリ
ール基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシルアミ
ノ基、スルホンアミド基、アルキルチオ基、アリールチ
オ基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基等があげら
れる。一般式(A−1)においてXは水溶性基もしくは
水溶性基で置換された置換基をあらわす。ここに水溶性
基とはスルホン酸もしくはカルボン酸およびそれらの
塩、アンモニオ基のような塩、またはアルカリ性の現像
液によって一部もしくは完全に解離しうる解離性基を含
む基のことで、具体的にはスルホ基(またはその塩)、
カルボキシ基(またはその塩)、ヒドロキシ基、メルカ
プト基、アミノ基、アンモニオ基、スルホンアミド基、
アシルスルファモイル基、スルホニルスルファモイル
基、活性メチン基、またはこれらの基を含む置換基を表
す。なお本発明において活性メチン基とは、2 つの電子
吸引性基で置換されたメチル基のことで、具体的にはジ
シアノメチル、α−シアノ−α−エトキシカルボニルメ
チル、α−アセチル−α−エトキシカルボニルメチル等
の基があげられる。一般式(A−1)のXで表される置
換基とは、上述した水溶性基、または上述の水溶性基で
置換された置換基であり、その置換基としては、炭素数
0〜15の置換基で、アルキル基、アリール基、ヘテロ
環基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヘテロ環オキ
シ基、アシルオキシ基、(アルキル、アリールまたはヘ
テロ環)アミノ基、アシルアミノ基、スルホンアミド
基、ウレイド基、チオウレイド基、イミド基、スルファ
モイルアミノ基、(アルキル、アリールまたはヘテロ
環)チオ基、(アルキル、アリール)スルホニル基、ス
ルファモイル基、アミノ基等があげられ、好ましくは炭
素数1〜10のアルキル基(特にアミノ基で置換された
メチル基)、アリール基、アリールオキシ基、アミノ
基、(アルキル、アリール、またはヘテロ環)アミノ
基、(アルキル、アリールまたはヘテロ環)チオ基等の
基である。
【0025】一般式(A−1)で表される化合物の中
で、さらに好ましいものは下記一般式(A−1−a)で
表される化合物である。
【0026】
【化7】
【0027】式中R11は一般式(A−1)のR10と同義
であり、好ましい範囲も同じである。R12、R13はそれ
ぞれ同じでも異なっていてもよく、水素原子、アルキル
基、アリール基、またはヘテロ環基を表す。ただし、R
12およびR13の少なくとも一方は、少なくとも1 つの水
溶性基を有する。ここに水溶性基とは、スルホ基(また
はその塩)、カルボキシ基(またはその塩)、ヒドロキ
シ基、メルカプト基、アミノ基、アンモニオ基、スルホ
ンアミド基、アシルスルファモイル基、スルホニルスル
ファモイル基、活性メチン基、またはこれらの基を含む
置換基を表し、好ましくはスルホ基(またはその塩)、
カルボキシ基(またはその塩)、ヒドロキシ基、アミノ
基等の基があげられる。R12およびR13は、好ましくは
アルキル基またはアリール基であり、R12およびR13
アルキル基であるとき、アルキル基としては炭素数1〜
4の置換もしくは無置換のアルキル基が好ましく、その
置換基としては水溶性基、特にスルホ基(またはその
塩)、カルボキシ基(またはその塩)、ヒドロキシ基、
またはアミノ基が好ましい。R12およびR13がアリール
基であるとき、アリール基としては炭素数が6〜10の
置換もしくは無置換のフェニル基が好ましく、その置換
基としては水溶性基、特にスルホ基(またはその塩)、
カルボキシ基(またはその塩)、ヒドロキシ基、または
アミノ基が好ましい。R12およびR13がアルキル基また
はアリール基を表すとき、これらは互いに結合して環状
構造を形成していてもよい。また環状構造により飽和の
ヘテロ環を形成してもよい。
【0028】一般式(A−2)においてY1 は水溶性基
もしくは水溶性基で置換された置換基を表し、一般式
(A−1)のXと同義である。一般式(A−2)におい
てY1で表される水溶性基もしくは水溶性基で置換され
た置換基としてさらに好ましくは、活性メチン基、また
は水溶性基で置換された以下の基、即ちアミノ基、アル
コキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリー
ルチオ基、アルキル基、アリール基である。Y1 として
さらに好ましくは、活性メチン基、または水溶性基で置
換された(アルキル、アリール、もしくはヘテロ環)ア
ミノ基であり、ここに水溶性基としてはヒドロキシ基、
カルボキシ基またはその塩、スルホ基またはその塩が特
に好ましい。Y1 として特に好ましくは、ヒドロキシ
基、カルボキシ基(またはその塩)、またはスルホ基
(またはその塩)で置換された(アルキル、アリール、
もしくはヘテロ環)アミノ基であり、−N( R01)
(R02) 基で表される。ここにR01、R02は、それぞれ
一般式(1−a)のR12、R13と同義の基であり、その
好ましい範囲もまた同じである。
【0029】一般式(A−2)においてR20は水素原子
または任意の置換基をあらわすが、ここで任意の置換基
とは、一般式(A)のR1 〜R4 について説明したもの
と同じものがあげられる。R20として好ましくは、水素
原子または炭素数0〜15の以下の置換基から選ばれる
基である。すなわち、ヒドロキシ基、アミノ基、アルキ
ル基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基、
アシルアミノ基、スルホンアミド基、アルキルチオ基、
アリールチオ基、アルキルアミノ基、アリールアミノ
基、ヒドロキシルアミノ基等があげられる。R20として
最も好ましくは水素原子である。
【0030】一般式(A−3)においてY2 は水溶性基
もしくは水溶性基で置換された置換基を表し、R30は水
素原子または任意の置換基をあらわす。一般式(A−
3)におけるY2 、R30はそれぞれ一般式(A−2)の
1 、一般式(A−2)のR20と同義の基であり、その
好ましい範囲もまた同じである。
【0031】つぎに、一般式(B)について詳細に説明
する。一般式(B)におけるR5 〜R7 は、一般式
(A)のR1 〜R4 と同義であり、その好ましい範囲も
また同じである。一般式(B)で表される化合物のうち
一般式(B−1)で表される化合物が特に好ましい。
【0032】
【化8】
【0033】一般式(B−1)において、R50は一般式
(B)のR5 〜R7 と同義であり、より好ましくは一般
式(A−1)〜(A−3)のX、Y1 、Y2 と同義の水
溶性基もしくは水溶性基で置換された基である。さら
に、一般式(B−1)の化合物のうち最も好ましくは一
般式(B−1−a)で表される化合物である。
【0034】
【化9】
【0035】一般式(B−1−a)においてR51、R52
は一般式(A−1−a)のR12、R 13と同義の基であ
り、その好ましい範囲もまた同じである。以下に、本発
明の一般式(I)で表される化合物の具体例を挙げる
が、言うまでもなく本発明はこれらに限定されるもので
はない。
【0036】
【化10】
【0037】
【化11】
【0038】
【化12】
【0039】
【化13】
【0040】一般式(I)の化合物の添加量は、使用液
1リットルにつき0.01〜10ミリモル、好ましくは
0.1〜5ミリモルである。一般式(I)の化合物を含
有する使用液とは、好ましくは現像液である。この場
合、一般式(I)の化合物を現像液の濃縮液中に含有し
てもよく、または固形現像剤中に含有してもよい。
【0041】次に、本発明の酸化されることにより現像
抑制剤を放出しうるレドックス化合物について説明す
る。レドックス化合物のレドックス基としては、ハイド
ロキノン類、カテコール類、ナフトハイドロキノン基、
アミノフェノール類、ピラゾリドン類、ヒドラジン類、
ヒドロキシルアミン類、レダクトン類であることが好ま
しく、ヒドラジン類であることがさらに好ましい。本発
明の酸化されることにより現像抑制剤を放出しうるレド
ックス化合物として用いられるヒドラジン類は好ましく
は一般式(R−1)、一般式(R−2)、一般式(R−
3)で表わされる。一般式(R−1)で表わされる化合
物が特に好ましい。
【0042】
【化14】
【0043】式中R1 は脂肪族基または芳香族基を表わ
す。G1 は−CO−基、−COCO−基、−CS−基、
−C(=NG22 )−基、−SO−基、−SO2 −基
または−P(O)(G22 )−基を表わす。G2 は単
なる結合手、−O−基、−S−基または−N(R2 )−
基を表わし、R2 はR1 と同定義の基または水素原子を
表わし、分子内に複数のR2 が存在する場合それらは同
じであっても異なっても良い。A1 、A2 は水素原子、
アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基またはア
シル基を表わし置換されていても良い。一般式(R−
1)ではA1 、A2 の少なくとも一方は水素原子であ
る。A3 はA1 と同義または−CH2CH(A4)-(Time)t-PUG
を表わす。A4 はニトロ基、シアノ基、カルボキシル
基、スルホニル基または−G1 −G2 −R1 (この場
合、分子内の2つの−G1 −G2 −R1 は同じであって
も異なっても良い。)を表わす。Timeは二価の連結
基を表わし、tは0または1を表わす。PUGは現像抑
制剤を表わす。
【0044】一般式(R−1)、(R−2)、(R−
3)についてさらに詳細に説明する。一般式(R−
1)、(R−2)、(R−3)において、R1 で表され
る脂肪族基は好ましくは炭素数1〜30のものであっ
て、特に炭素数1〜20の直鎖、分岐または環状のアル
キル基である。このアルキル基は置換基を有していても
よい。一般式(R−1)、(R−2)、(R−3)にお
いて、R1 で表される芳香族基は単環または2環のアリ
ール基または不飽和ヘテロ環基である。ここで不飽和ヘ
テロ環基はアリール基と縮合してヘテロアリール基を形
成してもよい。例えばベンゼン環、ナフタレン環、ピリ
ジン環、キノリン環、イソキノリン環等がある。なかで
もベンゼン環を含むものが好ましい。R1 として特に好
ましいものはアリール基である。
【0045】R1 のアリール基または不飽和ヘテロ環基
は置換されていてもよく、代表的な置換基としては、例
えばアルキル基、アラルキル基、アルケニル基、アルキ
ニル基、アルコキシ基、アリール基、置換アミノ基、ウ
レイド基、ウレタン基、アリールオキシ基、スルファモ
イル基、カルバモイル基、アルキルチオ基、アリールチ
オ基、スルホニル基、スルフィニル基、ヒドロキシ基、
ハロゲン原子、シアノ基、スルホ基、アリールオキシカ
ルボニル基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アシ
ルオキシ基、カルボンアミド基、スルホンアミド基、カ
ルボキシル基、リン酸アミド基などが挙げられ、好まし
い置換基としては直鎖、分岐または環状のアルキル基
(好ましくは炭素数1〜20のもの)、アラルキル基
(好ましくは炭素数7〜30のもの)、アルコキシ基
(好ましくは炭素数1〜30のもの)、置換アミノ基
(好ましくは炭素数1〜30のアルキル基で置換された
アミノ基)、アシルアミノ基(好ましくは炭素数2〜4
0を持つもの)、スルホンアミド基(好ましくは炭素数
1〜40を持つもの)、ウレイド基(好ましくは炭素数
1〜40を持つもの)、リン酸アミド基(好ましくは炭
素数1〜40のもの)などである。
【0046】一般式(R−1)、(R−2)、(R−
3)におけるG1 としては−CO−基、−SO2 −基が
好ましく、−CO−基が最も好ましい。
【0047】A1 、A2 としては水素原子が好ましく、
3 としては水素原子、-CH2-CH(A4)-(Time)t -PUGが好
ましい。
【0048】一般式(R−1)、(R−2)、(R−
3)においてTimeは二価の連結基を表わし、タイミ
ング調節機能を有していてもよい。Timeで表わされ
る二価の連結基は、酸化還元母核の酸化体から放出され
るTime−PUGから一段階あるいはそれ以上の段階
の反応を経てPUGを放出せしめる基を表わす。Tim
eで表わされる二価の連結基としては、例えば米国特許
第4,248,962号(特開昭54−145,135
号)等に記載のp−ニトロフェノキシ誘導体の分子内閉
環反応によってPUGを放出するもの;米国特許第4,
310,612号(特開昭55−53,330号)およ
び同4,358,525号等に記載の環開裂後の分子内
閉環反応によってPUGを放出するもの;米国特許第
4,330,617号、同4,446,216号、同
4,483,919号、特開昭59−121,328号
等に記載のコハク酸モノエステルまたはその類縁体のカ
ルボキシル基の分子内閉環反応による酸無水物の生成を
伴って、PUGを放出するもの;米国特許第4,40
9,323号、同4,421,845号、リサーチ・デ
ィスクロージャー誌No. 21,228(1981年12
月)、米国特許第4,416,977号(特開昭57−
135,944号)、特開昭58−209,736号、
同58−209,738号等に記載のアリールオキシ基
またはヘテロ環オキシ基が共役した二重結合を介した電
子移動によりキノモノメタン、またはその類縁体を生成
してPUGを放出するもの;米国特許第4,420,5
54号(特開昭57−136,640号)、特開昭57
−135,945号、同57−188,035号、同5
8−98,728号および同58−209,737号等
に記載の含窒素ヘテロ環のエナミン構造を有する部分の
電子移動によりエナミンのγ位よりPUGを放出するも
の;特開昭57−56,837号に記載の含窒素ヘテロ
環の窒素原子と共役したカルボニル基への電子移動によ
り生成したオキシ基の分子内閉環反応によりPUGを放
出するもの;米国特許第4,146,396号(特開昭
52−90932号)、特開昭59−93,442号、
特開昭59−75475号、特開昭60−249148
号、特開昭60−249149号等に記載のアルデヒド
類の生成を伴ってPUGを放出するもの;特開昭51−
146,828号、同57−179,842号、同59
−104,641号に記載のカルボキシル基の脱炭酸を
伴ってPUGを放出するもの;−O-COOCRaRb-PUG(R
a ,Rb は一価の基を表わす。)の構造を有し、脱炭酸
と引き続くアルデヒド類の生成を伴ってPUGを放出す
るもの;特開昭60−7,429号に記載のイソシアナ
ートの生成を伴ってPUGを放出するもの;米国特許第
4,438,193号等に記載のカラー現像薬の酸化体
とのカップリング反応によりPUGを放出するものなど
を挙げることができる。これら、Timeで表わされる
二価の連結基の具体例については特開昭61−236,
549号、特開平1−269,936号、同3−67,
246号等にも詳細に記載されている。
【0049】一般式(R−1)、(R−2)、(R−
3)においてPUGは現像抑制剤である。PUGはヘテ
ロ原子を有し、ヘテロ原子を介して一般式(R−1)、
(R−2)、(R−3)で表わされる化合物の他の部分
と結合している。一般的に公知の現像抑制剤の例はたと
えばテー・エッチ・ジェームズ(T.H.James)著「ザ・セ
オリー・オブ・ザ・フォトグラフィック・プロセス(The
Theoryof the Photographic Process)」第4版、19
77年、マクミラン(Macmillan)社刊、396頁〜39
9頁や特開平3−67,246号明細書56頁〜69頁
などに記載されている。これらの現像抑制剤は置換基を
有してもよい。有用な置換基としては例えば、メルカプ
ト基、ニトロ基、カルボキシル基、スルホ基、ホスホノ
基、ヒドロキシ基、アルキル基、アラルキル基、アルケ
ニル基、アルキニル基、アリール基、アルコキシ基、ア
リールオキシ基、アミノ基、アシルアミノ基、スルホニ
ルアミノ基、ウレイド基、ウレタン基、スルファモイル
基、カルバモイル基、アルキルチオ基、アリールチオ
基、スルホニル基、スルフィニル基、ハロゲン原子、シ
アノ基、アリールオキシカルボニル基、アシル基、アル
コキシカルボニル基、アシルオキシ基、カルボンアミド
基、スルホンアミド基、ホスホンアミド基などが挙げら
れ、これらの基はさらに置換されても良い。
【0050】本発明に用いるPUGで表わされる現像抑
制剤は造核伝染現像を抑制する化合物であることが好ま
しい。造核伝染現像は、富士フイルム GRANDEXシステム
(富士写真フイルム(株)やKodak Ultratecシステム
(Eastman Kodak Co.,Ltd.) の画像形成法に用いられた
新しい現像ケミストリーである。この現像ケミストリー
は、「日本写真学会誌,52巻5号390〜394頁
(1989)や「ジャーナル オブ フォトグラフィック
サイエンス」35巻 162頁(1987)に解説され
ているように、露光されたハロゲン化銀粒子の通常の現
像主薬による現像過程と、それによって生成した現像薬
の酸化生成物と造核剤とのクロス酸化に基づいて造核活
性種が生成し、この活性種による周辺の未露光〜弱く露
光されたハロゲン化銀粒子の造核伝染現像過程の2つの
過程から成っている。従って、全体の現像過程は、通常
の現像過程と、造核現像過程の総和からなっているの
で、現像抑制剤として従来知られている通常の現像抑制
剤の他に、新しく造核伝染現像過程を抑制する化合物が
抑制作用を発揮しうる。後者を、ここでは、造核現像抑
制剤と称する。本発明に用いるPUGで表わされる現像
抑制剤は、造核現像抑制剤が好ましい。造核現像抑制剤
として作用する化合物としては、従来知られている現像
抑制剤も効果あるが、特に有効な化合物は、少なくとも
1つ以上のニトロ基、またはニトロソ基を有する化合
物、ピリジン、ピラジン、キノリン、キノキサリン、あ
るいはフェナジンなどの含窒素複素環骨格、特に6員の
含窒素複素芳香環骨格を有する化合物、N−ハロゲン結
合を有する化合物、キノン類、テトラゾリウム類、アミ
ンオキシド類、アゾキシ化合物類、酸化能を有する配位
化合物類などである。その中でもニトロ基を有する化合
物、およびピリジン骨格を有する化合物が特に有効であ
る。
【0051】これらの造核現像抑制剤は置換基を有して
も良く、それら置換基の性質、例えば電子吸引性、電子
供与性、疎水性、親水性、電荷、ハロゲン化銀への吸着
性などの性質によって現像抑制の強さ、拡散のし易さを
はじめとするさまざまな特性をコントロールすることが
できる。有用な置換基の例としては前に一般的な現像抑
制剤の置換基の例として列挙したものがあてはまる。本
発明に有用なこれらの造核現像抑制剤の具体例は特開平
4−136839号、同4−136840号などに詳細
に記載されているほか、特開平4−136841号、特
願平3−15648号、特開平4−283743号、同
4−278939号にもInd として記載されている。ま
た、別の系列の造核現像抑制剤として、アニオン性荷電
基、あるいは現像液中で解離してアニオン性荷電を生じ
うる解離性基を有するハロゲン化銀粒子への吸着性化合
物も有効である。
【0052】また一般式(R−1)、(R−2)、(R
−3)において、R1 または Timeは、その中にカプラ
ー等の不動性写真用添加剤において常用されているバラ
スト基や一般式(R−1)、(R−2)、(R−3)で
表わされる化合物がハロゲン化銀に吸着することを促進
する基が組み込まれていてもよい。バラスト基は一般式
(R−1)、(R−2)、(R−3)で表わされる化合
物が実質的に他層または処理液中へ拡散できないように
するのに十分な分子量を与える有機基であり、アルキル
基、アリール基、ヘテロ環基、エーテル基、チオエーテ
ル基、アミド基、ウレイド基、ウレタン基、スルホンア
ミド基などの一つ以上の組合せからなるものである。バ
ラスト基として好ましくは置換ベンゼン環を有するバラ
スト基であり、特に分岐状アルキル基で置換されたベン
ゼン環を有するバラスト基が好ましい。
【0053】ハロゲン化銀への吸着促進基としては、具
体的には4−チアゾリン−2−チオン、4−イミダゾリ
ン−2−チオン、2−チオヒダントイン、ローダニン、
チオバルビツール酸、テトラゾリン−5−チオン、1,
2,4−トリアゾリン−3−チオン、1,3,4−オキ
サゾリン−2−チオン、ベンズイミダゾリン−2−チオ
ン、ベンズオキサゾリン−2−チオン、ベンゾチアゾリ
ン−2−チオン、チオトリアジン、1,3−イミダゾリ
ン−2−チオンのような環状チオアミド基、鎖状チオア
ミド基、脂肪族メルカプト基、芳香族メルカプト基、ヘ
テロ環メルカプト基(−SH基が結合した炭素原子の隣
が窒素原子の場合はこれと互変異性体の関係にある環状
チオアミド基と同義であり、この基の具体例は上に列挙
したものと同じである。)、ジスルフィド結合を有する
基、ベンゾトリアゾール、トリアゾール、テトラゾー
ル、インダゾール、ベンズイミダゾール、イミダゾー
ル、ベンゾチアゾール、チアゾール、チアゾリン、ベン
ゾオキサゾール、オキサゾール、オキサゾリン、チアジ
アゾール、オキサチアゾール、トリアジン、アザインデ
ンのような窒素、酸素、硫黄及び炭素の組合せからなる
5員ないし6員の含窒素ヘテロ環基、及びベンズイミダ
ゾリニウムのような複素環四級塩などが挙げられる。こ
れらはさらに適当な置換基で置換されていてもよい。置
換基としては、例えばR1 の置換基として述べたものが
挙げられる。以下に本発明に用いられる化合物の具体例
を列記するが本発明はこれに限定されるものではない。
【0054】
【化15】
【0055】
【化16】
【0056】
【化17】
【0057】
【化18】
【0058】
【化19】
【0059】
【化20】
【0060】
【化21】
【0061】
【化22】
【0062】
【化23】
【0063】
【化24】
【0064】
【化25】
【0065】
【化26】
【0066】
【化27】
【0067】
【化28】
【0068】
【化29】
【0069】
【化30】
【0070】
【化31】
【0071】本発明に用いられるレドックス化合物とし
ては上記のものの他に、例えば特開昭61−213,8
47号、同62−260,153号、特願平1−10
2,393号、同1−102,394号、同1−10
2,395号、同1−114,455号、特開平3−3
9949号、同3−39953号、同3−39951
号、同4−136839号、同4−136840号、同
4−136841号、特願平3−15648号、特開平
4−283743号、同4−278939号に記載され
たものを用いることができる。本発明に用いられるレド
ックス化合物の合成法は上記の資料に記載されているほ
か、例えば米国特許第4,684,604号、特開平1
−269,936号、米国特許第3,379,529
号、同3,620,746号、同4,377,634
号、同4,332,878号、特開昭49−129,5
36号、同56−153,336号、同56−153,
342号などに記載されている。
【0072】本発明のレドックス化合物は、ハロゲン化
銀1モルあたり1×10-6〜5×10-2モル、より好ま
しくは1×10-5〜1×10-2モルの範囲内で用いられ
る。本発明のレドックス化合物は、適当な水混和性有機
溶媒、例えばアルコール類(メタノール、エタノール、
プロパノール、フッ素化アルコール)、ケトン類(アセ
トン、メチルエチルケトン)、ジメチルホルムアミド、
ジメチルスルホキシド、メチルセルソルブなどに溶解し
て用いることができる。また、既に良く知られている乳
化分散法によって、ジブチルフタレート、トリクレジル
フォスフェート、グリセリルトリアセテートあるいはジ
エチルフタレートなどのオイル、酢酸エチルやシクロヘ
キサノンなどの補助溶媒を用いて溶解し、機械的に乳化
分散物を作成して用いることもできる。あるいは固体分
散法として知られている方法によって、レドックス化合
物の粉末を水の中にボールミル、コロイドミル、あるい
は超音波によって分散して用いることもできる。
【0073】本発明のレドックス化合物は、ハロゲン化
銀乳剤層、またはその他の親水性コロイド層に添加され
る。また、複数のハロゲン化銀乳剤層のうちの少なくと
も一層に添加しても良い。いくつかの構成例をあげる
が、本発明はこれらに限定されるものではない。 構成例 1) 支持体の上に、本発明のレドックス化合物
を含むハロゲン化銀乳剤層と保護層を有する。これらの
乳剤層、又は保護層に造核剤として本発明のヒドラジン
誘導体を含んでも良い。 構成例 2) 支持体の上に、順に、第1のハロゲン化銀
乳剤層と第2のハロゲン化銀乳剤層を有し、第1のハロ
ゲン化銀乳剤層、もしくは隣接する親水性コロイド層
に、該ヒドラジン誘導体を含み、第2のハロゲン化銀乳
剤層、もしくは隣接する親水性コロイド層に該レドック
ス化合物を含む。 構成例 3) 構成例 2) で2つの乳剤層の順が逆の構成
である。 構成例 2) と 3) においては、2つの感光性乳剤層の間
に、ゼラチンや合成ポリマー(ポリ酢酸ビニル、ポリビ
ニルアルコールなど)を含む中間層を設けても良い。 構成例 4) 支持体上に、該ヒドラジン誘導体を含むハ
ロゲン化銀乳剤層を有し、該乳剤層の上、もしくは、支
持体とハロゲン化銀乳剤層との間に、該レドックス化合
物を含む親水性コロイド層を有する。 特に好ましい構成は、構成例 2) または 3) である。
【0074】本発明においては、造核剤としてヒドラジ
ン誘導体を含有することが好ましい。
【0075】本発明に用いられるヒドラジン誘導体につ
いて説明する。本発明に用いられるヒドラジン誘導体
は、下記一般式(N)で表されるヒドラジン誘導体が好
ましい。
【0076】
【化32】
【0077】式中、R20は脂肪族基、芳香族基、または
ヘテロ環基を表し、R10は水素原子またはブロック基を
表し、G10は−CO−、−COCO−、−C( =S)
−、−SO2 −、−SO−、−PO( R30)−基(R30
はR10に定義した基と同じ範囲内より選ばれ、R10と異
なっていてもよい。)、またはイミノメチレン基を表
す。A10、A20はともに水素原子、あるいは一方が水素
原子で他方が置換もしくは無置換のアルキルスルホニル
基、または置換もしくは無置換のアリールスルホニル
基、または置換もしくは無置換のアシル基を表す。
【0078】一般式(N)において、R20で表わされる
脂肪族基は好ましくは炭素数1〜30の置換もしくは無
置換の、直鎖、分岐または環状のアルキル基、アルケニ
ル基、アルキニル基である。一般式(N)において、R
20で表わされる芳香族基は単環もしくは縮合環のアリー
ル基で、例えばベンゼン環、ナフタレン環が挙げられ
る。R20で表わされるヘテロ環基としては、単環または
縮合環の、飽和もしくは不飽和の、芳香族または非芳香
族のヘテロ環基で、例えば、ピリジン環、ピリミジン
環、イミダゾール環、ピラゾール環、キノリン環、イソ
キノリン環、ベンズイミダゾール環、チアゾール環、ベ
ンゾチアゾール環、ピペリジン環、トリアジン環等が挙
げられる。R20として好ましいものはアリール基であ
り、特に好ましくはフェニル基である。
【0079】R20は置換されていてもよく、代表的な置
換基としては例えばハロゲン原子(フッ素原子、クロル
原子、臭素原子、または沃素原子)、アルキル基(アラ
ルキル基、シクロアルキル基、活性メチン基等を含
む)、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、複素
環基、4級化された窒素原子を含むヘテロ環基(例えば
ピリジニオ基)、アシル基、アルコキシカルボニル基、
アリールオキシカルボニル基、カルバモイル基、カルボ
キシ基またはその塩、スルホニルカルバモイル基、アシ
ルカルバモイル基、スルファモイルカルバモイル基、カ
ルバゾイル基、オキサリル基、オキサモイル基、シアノ
基、チオカルバモイル基、ヒドロキシ基、アルコキシ基
(エチレンオキシ基もしくはプロピレンオキシ基単位を
繰り返し含む基を含む)、アリールオキシ基、ヘテロ環
オキシ基、アシルオキシ基、(アルコキシもしくはアリ
ールオキシ)カルボニルオキシ基、カルバモイルオキシ
基、スルホニルオキシ基、アミノ基、(アルキル、アリ
ール、またはヘテロ環)アミノ基、Nー置換の含窒素ヘ
テロ環基、アシルアミノ基、スルホンアミド基、ウレイ
ド基、チオウレイド基、イミド基、(アルコキシもしく
はアリールオキシ)カルボニルアミノ基、スルファモイ
ルアミノ基、セミカルバジド基、チオセミカルバジド
基、ヒドラジノ基、4級のアンモニオ基、オキサモイル
アミノ基、(アルキルもしくはアリール)スルホニルウ
レイド基、アシルウレイド基、アシルスルファモイルア
ミノ基、ニトロ基、メルカプト基、(アルキル、アリー
ル、またはヘテロ環)チオ基、(アルキルまたはアリー
ル)スルホニル基、(アルキルまたはアリール)スルフ
ィニル基、スルホ基またはその塩、スルファモイル基、
アシルスルファモイル基、スルホニルスルファモイル基
またはその塩、リン酸アミドもしくはリン酸エステル構
造を含む基、等が挙げられる。
【0080】これら置換基は、これら置換基でさらに置
換されていてもよい。
【0081】R20が有していてもよい置換基として好ま
しくは、炭素数1〜20のアルキル基(活性メチレン基
を含む)、アラルキル基、ヘテロ環基、置換アミノ基、
アシルアミノ基、スルホンアミド基、ウレイド基、スル
ファモイルアミノ基、イミド基、チオウレイド基、リン
酸アミド基、ヒドロキシ基、アルコキシ基、アリールオ
キシ基、アシルオキシ基、アシル基、アルコキシカルボ
ニル基、アリールオキシカルボニル基、カルバモイル
基、カルボキシ基(その塩を含む)、(アルキル、アリ
ール、またはヘテロ環)チオ基、スルホ基(その塩を含
む)、スルファモイル基、ハロゲン原子、シアノ基、ニ
トロ基等が挙げられる。
【0082】一般式(N)において、R10は水素原子ま
たはブロック基を表すが、ブロック基とは具体的に、ア
ルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、
ヘテロ環基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アミノ
基またはヒドラジノ基を表す。
【0083】R10で表わされるアルキル基として好まし
くは、炭素数1〜10のアルキル基であり、例えばメチ
ル基、トリフルオロメチル基、ジフルオロメチル基、2
ーカルボキシテトラフルオロエチル基、ピリジニオメチ
ル基、ジフルオロメトキシメチル基、ジフルオロカルボ
キシメチル基、3−ヒドロキシプロピル基、3−メタン
スルホンアミドプロピル基、フェニルスルホニルメチル
基、o−ヒドロキシベンジル基などが挙げられる。アル
ケニル基として好ましくは炭素数1から10のアルケニ
ル基であり、例えばビニル基、2ーエトキシカルボニル
ビニル基、2ートリフルオロー2ーメトキシカルボニル
ビニル基等が挙げられる。アルキニル基として好ましく
は炭素数1から10のアルキニル基であり、例えばエチ
ニル基、2ーメトキシカルボニルエチニル基等が挙げら
れる。アリール基としては単環もしくは縮合環のアリー
ル基が好ましく、ベンゼン環を含むものが特に好まし
い。例えばフェニル基、3,5−ジクロロフェニル基、
2−メタンスルホンアミドフェニル基、2−カルバモイ
ルフェニル基、4−シアノフェニル基、2−ヒドロキシ
メチルフェニル基などが挙げられる。ヘテロ環基として
好ましくは、少なくとも1つの窒素、酸素、および硫黄
原子を含む5〜6員の、飽和もしくは不飽和の、単環も
しくは縮合環のヘテロ環基で、例えばモルホリノ基、ピ
ペリジノ基( Nー置換) 、イミダゾリル基、インダゾリ
ル基(4ーニトロインダゾリル基等)、ピラゾリル基、
トリアゾリル基、ベンゾイミダゾリル基、テトラゾリル
基、ピリジル基、ピリジニオ基(Nーメチルー3ーピリ
ジニオ基等)、キノリニオ基、キノリル基などがある。
モルホリノ基、ピペリジノ基、ピリジル基、ピリジニオ
基、インダゾリル基等が特に好ましい。
【0084】アルコキシ基としては炭素数1〜8のアル
コキシ基が好ましく、例えばメトキシ基、2ーヒドロキ
シエトキシ基、ベンジルオキシ基等が挙げられる。アリ
ールオキシ基としてはフェノキシ基が好ましく、アミノ
基としては無置換アミノ基、及び炭素数1〜10のアル
キルアミノ基、アリールアミノ基、または飽和もしくは
不飽和のヘテロ環アミノ基( 4級化された窒素原子を含
む含窒素ヘテロ環基を含む) が好ましい。アミノ基の例
としては、2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−
4−イルアミノ基、プロピルアミノ基、2−ヒドロキシ
エチルアミノ基、アニリノ基、oーヒドロキシアニリノ
基、5−ベンゾトリアゾリルアミノ基、N−ベンジル−
3−ピリジニオアミノ基等が挙げられる。ヒドラジノ基
としては置換もしくは無置換のヒドラジノ基、または置
換もしくは無置換のフェニルヒドラジノ基(4−ベンゼ
ンスルホンアミドフェニルヒドラジノ基など)が特に好
ましい。
【0085】R10で表される基は置換されていても良
く、好ましい置換基としてはR20の置換基として例示し
たものがあてはまる。
【0086】一般式(N)に於いてR10はG10−R10
部分を残余分子から分裂させ、−G10−R10部分の原子
を含む環式構造を生成させる環化反応を生起するような
ものであってもよく、その例としては、例えば特開昭6
3−29751号などに記載のものが挙げられる。
【0087】一般式(N)で表されるヒドラジン誘導体
は、ハロゲン化銀に対して吸着する吸着性の基が組み込
まれていてもよい。かかる吸着基としては、アルキルチ
オ基、アリールチオ基、チオ尿素基、チオアミド基、メ
ルカプト複素環基、トリアゾール基などの米国特許第
4,385,108号、同4,459,347号、特開
昭59−195233号、同59−200231号、同
59−201045号、同59−201046号、同5
9−201047号、同59−201048号、同59
−201049号、特開昭61−170733号、同6
1−270744号、同62−948号、同63−23
4244号、同63−234245号、同63−234
246号に記載された基があげられる。またこれらハロ
ゲン化銀への吸着基は、プレカーサー化されていてもよ
い。その様なプレカーサーとしては、特開平2ー285
344号に記載された基が挙げられる。
【0088】一般式(N)のR10またはR20はその中に
カプラー等の不動性写真用添加剤において常用されてい
るバラスト基またはポリマーが組み込まれているもので
もよい。バラスト基は8以上の炭素数を有する、写真性
に対して比較的不活性な基であり、例えばアルキル基、
アラルキル基、アルコキシ基、フェニル基、アルキルフ
ェニル基、フェノキシ基、アルキルフェノキシ基などの
中から選ぶことができる。またポリマーとしては、例え
ば特開平1−100530号に記載のものが挙げられ
る。
【0089】一般式(N)のR10またはR20は、置換基
としてヒドラジノ基を複数個含んでいてもよく、この時
一般式(N)で表される化合物は、ヒドラジノ基に関し
ての多量体を表し、具体的には例えば特開昭64-86134
号、特開平4-16938 号、特開平5-197091号、WO95−
32452号、WO95−32453号、特願平7-3511
32号、特願平7-351269号、特願平7-351168号、特願平7-
351287号、特開平9-179229号等に記載された化合物が挙
げられる。
【0090】一般式(N)のR10またはR20は、その中
に、カチオン性基(具体的には、4級のアンモニオ基を
含む基、または4級化された窒素原子を含む含窒素ヘテ
ロ環基等)、エチレンオキシ基もしくはプロピレンオキ
シ基の繰り返し単位を含む基、(アルキル、アリール、
またはヘテロ環)チオ基、あるいは塩基により解離しう
る解離性基(カルボキシ基、スルホ基、アシルスルファ
モイル基、カルバモイルスルファモイル基等)が含まれ
ていてもよい。これらの基が含まれる例としては、例え
ば特開平7ー234471号、特開平5−333466
号、特開平6−19032号、特開平6−19031
号、特開平5−45761号、米国特許4994365
号、米国特許4988604号、特開平73−2592
40号、特開平7−5610号、特開平7−24434
8号、独特許4006032号等に記載の化合物が挙げ
られる。
【0091】一般式(N)に於いてA10、A20は水素原
子、炭素数20以下のアルキルまたはアリールスルホニ
ル基(好ましくはフェニルスルホニル基、又はハメット
の置換基定数の和が−0.5以上となるように置換され
たフェニルスルホニル基)、炭素数20以下のアシル基
(好ましくはベンゾイル基、又はハメットの置換基定数
の和が−0.5以上となるように置換されたベンゾイル
基、あるいは直鎖、分岐、又は環状の置換もしくは無置
換の脂肪族アシル基(ここに置換基としては、例えばハ
ロゲン原子、エーテル基、スルホンアミド基、カルボン
アミド基、ヒドロキシ基、カルボキシ基、スルホ基等が
挙げられる))である。A10、A20としては水素原子が
最も好ましい。
【0092】次に、本発明に用いられる一般式(N)の
ヒドラジン誘導体のうち、特に好ましいヒドラジン誘導
体について述べる。R20は置換フェニル基が特に好まし
く、スルホンアミド基、アシルアミノ基、ウレイド基、
またはカルバモイル基を介してバラスト基、ハロゲン化
銀への吸着基、4級のアンモニオ基を含む基、4級化さ
れた窒素原子を含む含窒素ヘテロ環基、エチレンオキシ
基の繰り返し単位を含む基、(アルキル、アリール、ま
たはヘテロ環)チオ基、アルカリ性の現像処理液中で解
離しうる基(カルボキシ基、スルホ基、アシルスルファ
モイル基、カルバモイルスルファモイル基等)、もしく
は多量体を形成しうるヒドラジノ基(−NHNH−G10
−R10で表される基)の少なくとも1つが置換されてい
ることが好ましい。R20は最も好ましくはベンゼンスル
ホンアミド基で置換されたフェニル基で、そのベンゼン
スルホンアミド基のベンゼン環の置換基としては、同じ
く前述の何れか1つの基を、直接もしくは連結基を介し
て有することが好ましい。
【0093】R10で表わされる基のうち好ましいもの
は、G10が−CO−基の場合には、水素原子、アルキル
基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、または
ヘテロ環基であり、さらに好ましくは水素原子、アルキ
ル基、置換アリール基(置換基としては電子吸引性基ま
たはoーヒドロキシメチル基が特に好ましい)であり、
最も好ましくはアルキル基である。G10が−COCO−
基の場合にはアルコキシ基、アリールオキシ基、アミノ
基が好ましく、特に置換アミノ基、詳しくはアルキルア
ミノ基、アリールアミノ基、または飽和もしくは不飽和
のヘテロ環アミノ基が好ましい。またG10が−SO2
基の場合には、R10はアルキル基、アリール基または置
換アミノ基が好ましい。
【0094】一般式(N)に於いてG10は好ましくは−
CO−基または−COCO−基であり、特に好ましくは
−CO−基である。
【0095】本発明に用いられるヒドラジン誘導体とし
ては、上記のものの他に、下記のヒドラジン誘導体も好
ましく用いられる。本発明に用いられるヒドラジン誘導
体はまた、下記の特許に記載された種々の方法により、
合成することができる。
【0096】特公平6−77138号に記載の(化1)
で表される化合物で、具体的には同公報3頁、4頁に記
載の化合物。特公平6−93082号に記載の一般式
(I)で表される化合物で、具体的には同公報8頁〜1
8頁に記載の1〜38の化合物。特開平6−23049
7号に記載の一般式(4)、一般式(5)および一般式
(6)で表される化合物で、具体的には同公報25頁、
26頁に記載の化合物4−1〜化合物4−10、28頁
〜36頁に記載の化合物5−1〜5−42、および39
頁、40頁に記載の化合物6−1〜化合物6−7。特開
平6−289520号に記載の一般式(1)および一般
式(2)で表される化合物で、具体的には同公報5頁〜
7頁に記載の化合物1−1)〜1−17)および2−
1)。特開平6−313936号に記載の(化2)およ
び(化3)で表される化合物で、具体的には同公報6頁
〜19頁に記載の化合物。特開平6−313951号に
記載の(化1)で表される化合物で、具体的には同公報
3頁〜5頁に記載の化合物。特開平7−5610号に記
載の一般式(I)で表される化合物で、具体的には同公
報5頁〜10頁に記載の化合物I−1〜I−38。特開
平7−77783号に記載の一般式(II)で表される化
合物で、具体的には同公報10頁〜27頁に記載の化合
物II−1〜II−102。特開平7−104426号に記
載の一般式(H)および一般式(Ha)で表される化合
物で、具体的には同公報8頁〜15頁に記載の化合物H
−1〜H−44。特開平9−22082号に記載の,ヒ
ドラジン基の近傍にアニオン性基またはヒドラジンの水
素原子と分子内水素結合を形成するノニオン性基を有す
ることを特徴とする化合物で、特に一般式(A),一般
式(B),一般式(C),一般式(D),一般式
(E),一般式(F)表される化合物で,具体的には同
公報に記載の化合物N−1〜N−30。特開平9−22
082号に記載の一般式(1)で表される化合物で、具
体的には同公報に記載の化合物D−1〜D−55。
【0097】本発明のヒドラジン系造核剤は、適当な水
混和性有機溶媒、例えばアルコール類(メタノール、エ
タノール、プロパノール、フッ素化アルコール)、ケト
ン類(アセトン、メチルエチルケトン)、ジメチルホル
ムアミド、ジメチルスルホキシド、メチルセルソルブな
どに溶解して用いることができる。また、既によく知ら
れている乳化分散法によって、ジブチルフタレート、ト
リクレジルフォスフェート、グリセリルトリアセテート
あるいはジエチルフタレートなどのオイル、酢酸エチル
やシクロヘキサノンなどの補助溶媒を用いて溶解し、機
械的に乳化分散物を作製して用いることができる。ある
いは固体分散法として知られている方法によって、ヒド
ラジン誘導体の粉末を水の中にボールミル、コロイドミ
ル、あるいは超音波によって分散し用いることができ
る。
【0098】本発明のヒドラジン造核剤は、支持体に対
してハロゲン化銀乳剤層側の該ハロゲン化銀乳剤層ある
いは他の親水性コロイド層のどの層に添加してもよい
が、該ハロゲン化銀乳剤層あるいはそれに隣接する親水
性コロイド層に添加することが好ましい。本発明の造核
剤添加量はハロゲン化銀1モルに対し1×10-6〜1×
10-2モルが好ましく、1×10-5〜5×10-3モルが
より好ましく、2×10-5〜5×10-3モルが最も好ま
しい。
【0099】本発明においては、造核促進剤を含有する
ことが好ましい。
【0100】本発明に用いる造核促進剤としては、一般
式(NA−1)、(NA−2)、(NA−3)、および
(NA−4)で表されるオニウム塩化合物が最も好まし
く用いられる。以下詳細に説明する。まず一般式(NA
−1)について説明する。
【0101】
【化33】
【0102】式中R4 、R5 、R6 はアルキル基、シク
ロアルキル基、アラルキル基、アリール基、アルケニル
基、シクロアルケニル基、アルキニル基、ヘテロ環基を
表わし、これらはさらに置換基を有していてもよい。L
はQ+ とその炭素原子で結合するm価の有機基を表わ
し、ここにmは1から4の整数を表す。Xn-はn価の対
アニオンを表わし、nは1から3の整数を表す。但しR
4 、R5 、R6 またはLが、その置換基にアニオン基を
有し、Q+ と分子内塩を形成する場合、Xn-は必要な
い。
【0103】R4 、R5 、R6 で表わされる基の例とし
ては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル
基、ブチル基、イソブチル基、sec−ブチル基、tert
−ブチル基、オクチル基、2−エチルヘキシル基、ドデ
シル基、ヘキサデシル基、オクタデシル基などの直鎖又
は分枝状のアルキル基;置換もしくは無置換のベンジル
基などのアラルキル基;シクロプロピル基、シクロペン
チル基、シクロヘキシル基などのシクロアルキル基;フ
ェニル基、ナフチル基、フエナントリル基などのアリー
ル基;アリル基、ビニル基、5−ヘキセニル基、などの
アルケニル基;シクロペンテニル基、シクロヘキセニル
基などのシクロアルケニル基;フェニルエチニル基等の
アルキニル基;ピリジル基、キノリル基、フリル基、イ
ミダゾリル基、チアゾリル基、チアジアゾリル基、ベン
ゾトリアゾリル基、ベンゾチアゾリル基、モルホリル
基、ピリミジル基、ピロリジル基などのヘテロ環基が挙
げられる。
【0104】これらの基上に置換した置換基の例として
は、R4 、R5 、R6 で表わされる基の他に、フッ素原
子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子などのハロゲン原
子、ニトロ基、( アルキルもしくはアリール) アミノ
基、アルコキシ基、アリールオキシ基、( アルキル又は
アリール) チオ基、カルボンアミド基、カルバモイル
基、スルホンアミド基、スルファモイル基、ヒドロキシ
ル基、スルホキシ基、スルホニル基、カルボキシル基(
カルボキシラートを含む) 、スルホン酸基( スルホナー
トを含む) 、シアノ基、オキシカルボニル基、アシル基
等が挙げられる。
【0105】Lで表わされる基の例としては、mが1を
表す時、R4 、R5 、R6 と同義の基が挙げられるが、
この他にmが2以上の整数を表す時、トリメチレン基、
テトラメチレン基、ヘキサメチレン基、ペンタメチレン
基、オクタメチレン基、ドデカメチレン基などのポリメ
チレン基、フェニレン基、ビフェニレン基、ナフチレン
基などのアリーレン基、トリメチレンメチル基、テトラ
メチレンメチル基などの多価アルキレン基、フェニレン
−1,3,5−トルイル基、フェニレン−1,2,4,
5−テトライル基などの多価アリーレン基などが挙げら
れる。
【0106】Xn-で表わされる対アニオンの例として
は、塩素イオン、臭素イオン、ヨウ素イオンなどのハロ
ゲンイオン、アセテートイオン、オキサレートイオン、
フマレートイオン、ベンゾエートイオンなどのカルボキ
シレートイオン、p−トルエンスルホネート、メタンス
ルホネート、ブタンスルホネート、ベンゼンスルホネー
トなどのスルホネートイオン、硫酸イオン、過塩素酸イ
オン、炭酸イオン、硝酸イオン等が挙げられる。
【0107】一般式(NA−1)において、R4 、R
5 、R6 は好ましくは炭素数20以下の基であり、Qが
リン原子を表す時、炭素数15以下のアリール基が特に
好ましく、Qが窒素原子を表す時、炭素数15以下のア
ルキル基、アラルキル基、アリール基が特に好ましい。
mは1または2が好ましく、mが1を表わす時、Lは好
ましくは炭素数20以下の基であり、総炭素数15以下
のアルキル基、アラルキル基、またはアリール基が特に
好ましい。mが2を表わす時、Lで表わされる2価の有
機基は、好ましくはアルキレン基、アリーレン基、アラ
ルキレン基、さらにはこれらの基と−CO−基、−O−
基、−N(NR’)−基(NR’は水素原子またはR
4 、R5 、R6 と同義の基を表わし、分子内に複数のN
R’が存在する時、これらは同じであっても異なってい
ても良く、さらには互いに結合していても良い)、−S
−基、−SO−基、−SO2 −基を組みあわせて形成さ
れる2価の基である。mが2を表わす時、Lはその炭素
原子でQ+ と結合する総炭素数20以下の2価の基であ
ることが好ましい。mが2以上の整数を表わす時、分子
内にR4 、R5 、R6 はそれぞれ複数存在するが、その
複数のR4 、R5 、R6はそれぞれ同じであっても異な
っていても良い。
【0108】Xn-で表わされる対アニオンとしては、ハ
ロゲンイオン、カルボキシレートイオン、スルホネート
イオン、硫酸イオンが好ましく、nは1または2が好ま
しい。
【0109】本発明の一般式(NA−1)で表わされる
化合物の多くのものは公知であり、試薬として市販のも
のである。一般的合成法としては、Qがリン原子の時、
ホスフィン酸類をハロゲン化アルキル類、スルホン酸エ
ステルなどのアルキル化剤と反応させる方法:あるいは
ホスホニウム塩類の対陰イオンを常法により交換する方
法がある。またQが窒素原子の時、1級,2級,もしく
は3級のアミノ化合物をハロゲン化アルキル類、スルホ
ン酸エステル等のアルキル化剤と反応させる方法があ
る。
【0110】次に一般式(NA−2)および一般式(N
A−3)について説明する。
【0111】式中、A1 、A2 、A3 、A4 は4級化さ
れた窒素原子を含む、置換もしくは無置換の不飽和ヘテ
ロ環を完成させるための有機残基を表わし、炭素原子、
水素原子、酸素原子、窒素原子、硫黄原子を含んでもよ
く、更にベンゼン環が縮環してもかまわない。A1 、A
2 、A3 、A4 が形成する不飽和ヘテロ環の例として
は、ピリジン環、キノリン環、イソキノリン環、イミダ
ゾール環、チアゾール環、チアジアゾール環、ベンゾト
リアゾール環、ベンゾチアゾール環、ピリミジン環、ピ
ラゾール環などを挙げることができる。特に好ましく
は、ピリジン環、キノリン環、イソキノリン環である。
【0112】B、Cで表わされる2価の基は、アルキレ
ン、アリーレン、アルケニレン、アルキニレン、−SO
2 −、−SO−、−O−、−S−、−N(RN)−、−
C=O−、−P=O−を単独または組合せて構成される
ものが好ましい。ただし、RN はアルキル基、アラルキ
ル基、アリール基、水素原子を表わす。特に好ましい例
として、B、Cはアルキレン、アリーレン、−C=O
−、−O−、−S−、−N(RN)−を単独または組合
せて構成されるものを挙げることができる。
【0113】R1 、R2 は炭素数1〜20のアルキル基
が好ましく、各々同じでも異なっていてもよい。アルキ
ル基に置換基が置換してもよく、置換基としては、ハロ
ゲン原子(例えば、塩素原子、臭素原子)、置換あるい
は無置換のアルキル基(例えば、メチル基、ヒドロキシ
エチル基など)、置換あるいは無置換のアリール基(例
えば、フェニル基、トリル基、p−クロロフェニル基な
ど)、置換あるいは無置換のアシル基(例えば、ベンゾ
イル基、p−ブロモベンゾイル基、アセチル基など)、
( アルキルもしくはアリール) オキシカルボニル基、ス
ルホ基( スルホナートを含む) 、カルボキシ基( カルボ
キシラートを含む) 、メルカプト基、ヒドロキシ基、ア
ルコキシ基(例えば、メトキシ基、エトキシ基など)、
アリールオキシ基、カルボンアミド基、スルホンアミド
基、スルファモイル基、カルバモイル基、ウレイド基、
チオウレイド基、( アルキルもしくはアリール) アミノ
基、シアノ基、ニトロ基、アルキルチオ基、アリールチ
オ基等が挙げられる。特に好ましくは、R1 、R2 は各
々炭素数1〜10のアルキル基である。好ましい置換基
の例として、カルバモイル基、オキシカルボニル基、ア
シル基、アリール基、スルホ基( スルホナートを含む)
、カルボキシ基( カルボキシラートを含む) 、ヒドロ
キシ基を挙げることができる。
【0114】A1 、A2 、A3 、A4 が4級化された窒
素原子と共に形成する不飽和ヘテロ環は、置換基を有し
ていてもよい。この場合の置換基の例としては、上記に
1、R2 のアルキル基の置換基として挙げた置換基か
ら選ばれる。置換基として好ましくは、炭素数0〜10
のアリール基、アルキル基、カルバモイル基、( アルキ
ルもしくはアリール) アミノ基、オキシカルボニル基、
アルコキシ基、アリールオキシ基、( アルキルもしくは
アリール) チオ基、ヒドロキシ基、カルボンアミド基、
スルホンアミド基、スルホ基( スルホナートを含む) 、
カルボキシ基(カルボキシラートを含む) 等が挙げられ
る。
【0115】Xn-で表わされる対アニオンについては、
一般式(NA−1)と同じものであり、その好ましい範
囲もまた同じである。
【0116】本発明の化合物は、一般によく知られた方
法により容易に合成することができ、例えば、Quart.Re
v., 16,163(1962)に記載の方法で合成でき
る。
【0117】次に一般式(NA−4)について説明す
る。
【0118】Zを含む含窒素不飽和ヘテロ環は、窒素原
子の他に炭素原子、水素原子、酸素原子、硫黄原子を含
んでもよく、さらにベンゼン環が縮環していてもよく、
また置換基を有していてもよい。形成されるヘテロ環の
例としては、一般式(NA−2)および一般式(NA−
3)のA1 、A2 、A3 、A4 が形成する含窒素不飽和
ヘテロ環の例と同じものが挙げられる。好ましい範囲も
また同じであり、ピリジン環、キノリン環、イソキノリ
ン環が好ましい。Zを含む含窒素不飽和ヘテロ環が置換
基を有する時、その置換基の例は一般式(NA−2)お
よび一般式(NA−3)のA1 、A2 、A3 、A4 が形
成する含窒素不飽和ヘテロ環が有していてもよい置換基
の例と同じものが挙げられ、好ましい範囲もまた同じで
ある。
【0119】R3 はアルキル基またはアラルキル基を表
すが、これらは炭素数1〜20で、置換もしくは無置換
で、さらに直鎖もしくは分枝、或いは環状であってもよ
い。その置換基としては、一般式(NA−2)のR1
2 で表されるアルキル基が有していてもよい置換基の
例と同じものが挙げられ、好ましい範囲もまた同じであ
る。Xn-で表わされる対アニオンについては、一般式
(NA−1)と同じものであり、その好ましい範囲もま
た同じである。
【0120】本発明の一般式(NA−4)で表される化
合物は、一般によく知られた方法により容易に合成する
ことができ、例えば、Quart.Rev., 16,163(19
62)に記載の方法で合成できる。
【0121】本発明に用いられる造核促進剤としては、
アミン誘導体、オニウム塩、ジスルフィド誘導体または
ヒドロキシメチル誘導体などが挙げられる。以下にその
例を列挙する。特開平7−77783号公報48頁2行
〜37行に記載の化合物で、具体的には49頁〜58頁
に記載の化合物A−1)〜A−73)。特開平7−84
331号に記載の(化21)、(化22)および(化2
3)で表される化合物で、具体的には同公報6頁〜8頁
に記載の化合物。特開平7−104426号に記載の一
般式〔Na〕および一般式〔Nb〕で表される化合物
で、具体的には同公報16頁〜20頁に記載のNa−1
〜Na−22の化合物およびNb−1〜Nb−12の化
合物。特願平7−37817号に記載の一般式(1)、
一般式(2)、一般式(3)、一般式(4)、一般式
(5)、一般式(6)および一般式(7)で表される化
合物で、具体的には同明細書に記載の1−1〜1−19
の化合物、2−1〜2−22の化合物、3−1〜3−3
6の化合物、4−1〜4−5の化合物、5−1〜5−4
1の化合物、6−1〜6−58の化合物および7−1〜
7−38の化合物。特願平8−70908号記載の造核
促進剤。
【0122】本発明の造核促進剤は、適当な水混和性有
機溶媒、例えばアルコール類(メタノール、エタノー
ル、プロパノール、フッ素化アルコール)、ケトン類
(アセトン、メチルエチルケトン)、ジメチルホルムア
ミド、ジメチルスルホキシド、メチルセルソルブなどに
溶解して用いることができる。また、既によく知られて
いる乳化分散法によって、ジブチルフタレート、トリク
レジルフォスフェート、グリセリルトリアセテートある
いはジエチルフタレートなどのオイル、酢酸エチルやシ
クロヘキサノンなどの補助溶媒を用いて溶解し、機械的
に乳化分散物を作製して用いることができる。あるいは
固体分散法として知られている方法によって、造核促進
剤の粉末を水の中にボールミル、コロイドミル、あるい
は超音波によって分散し用いることができる。
【0123】本発明の造核促進剤は、支持体に対してハ
ロゲン化銀乳剤層側の該ハロゲン化銀乳剤層あるいは他
の親水性コロイド層のどの層に添加してもよいが、該ハ
ロゲン化銀乳剤層あるいはそれに隣接する親水性コロイ
ド層に添加することが好ましい。本発明の造核促進剤添
加量はハロゲン化銀1モルに対し1×10-6〜2×10
-2モルが好ましく、1×10-5〜2×10-2モルがより
好ましく、2×10-5〜1×10-2モルが最も好まし
い。
【0124】本発明のハロゲン化銀写真感光材料に用い
るハロゲン化銀乳剤はハロゲン化銀として特に制限はな
く、塩化銀、塩臭化銀、臭化銀、沃塩臭化銀、沃臭化銀
を用いることができるが、塩化銀50モル%以上を含有
する塩臭化銀、沃塩臭化銀が好ましい。ハロゲン化銀粒
子の形状は、立方体、十四面体、八面体、不定型、板状
いずれでも良いが、立方体が好ましい。ハロゲン化銀の
平均粒径は0.1μm〜0.7μmが好ましいが、より
好ましくは0.1〜0.5μmであり、{(粒径の標準
偏差)/(平均粒径)}×100で表される変動係数が
15%以下、より好ましくは10%以下の粒径分布の狭
いものが好ましい。ハロゲン化銀粒子は内部と表層が均
一な相からなっていても異なっていても良い。また粒子
内部あるいは表面にハロゲン組成の異なる局在層を有し
ていても良い。本発明に用いられる写真乳剤は、P. Gla
fkides著 Chimie et Physique Photographique (Paul
Montel社刊、1967年) 、G. F. Dufin 著 Photographic
Emulsion Chemistry (The Forcal Press刊、1966年) 、
V. L. Zelikman et al著 Making and Coating Photogra
phic Emulsion (The Forcal Press 刊、1964年) などに
記載された方法を用いて調製することができる。すなわ
ち、酸性法、中性法等のいずれでもよく、又、可溶性銀
塩と可溶性ハロゲン塩を反応させる方法としては、片側
混合法、同時混合法、それらの組み合わせなどのいずれ
を用いても良い。粒子を銀イオン過剰の下において形成
させる方法(いわゆる逆混合法)を用いることもでき
る。
【0125】同時混合法の一つの形式としてハロゲン化
銀の生成される液相中のpAgを一定に保つ方法、すな
わち、いわゆるコントロールド・ダブルジェット法を用
いることもできる。またアンモニア、チオエーテル、四
置換チオ尿素等のいわゆるハロゲン化銀溶剤を使用して
粒子形成させることが好ましい。より好ましくは四置換
チオ尿素化合物であり、特開昭53−82408号、同
55−77737号に記載されている。好ましいチオ尿
素化合物はテトラメチルチオ尿素、1,3−ジメチル−
2−イミダゾリジンチオンである。ハロゲン化銀溶剤の
添加量は用いる化合物の種類および目的とする粒子サイ
ズ、ハロゲン組成により異なるが、ハロゲン化銀1モル
あたり10-5〜10ー2モルが好ましい。
【0126】コントロールド・ダブルジェット法および
ハロゲン化銀溶剤を使用した粒子形成方法では、結晶型
が規則的で粒子サイズ分布の狭いハロゲン化銀乳剤を作
るのが容易であり、本発明に用いられるハロゲン化銀乳
剤を作るのに有用な手段である。また、粒子サイズを均
一にするためには、英国特許第1,535,016号、
特公昭48−36890、同52−16364号に記載
されているように、硝酸銀やハロゲン化アルカリの添加
速度を粒子成長速度に応じて変化させる方法や、英国特
許第4,242,445号、特開昭55−158124
号に記載されているように水溶液の濃度を変化させる方
法を用いて、臨界飽和度を越えない範囲において早く成
長させることが好ましい。
【0127】本発明に用いられるハロゲン化銀乳剤は、
VIII族に属する金属を含有してもよい。特に、高コント
ラスト及び低カブリを達成するために、ロジウム化合
物、イリジウム化合物、ルテニウム化合物などを含有す
ることが好ましい。また、高感度化のためにはK4[Fe(C
N)6] やK4[Ru(CN)6] 、K3[Cr(CN)6] のごとき六シアノ
化金属錯体のドープが有利に行われる。
【0128】本発明に用いられるロジウム化合物とし
て、水溶性ロジウム化合物を用いることができる。たと
えば、ハロゲン化ロジウム(III)化合物、またはロジウ
ム錯塩で配位子としてハロゲン、アミン類、オキザラ
ト、アコ等を持つもの、たとえば、ヘキサクロロロジウ
ム(III) 錯塩、ペンタクロロアコロジウム錯塩、テトラ
クロロジアコロジウム錯塩、ヘキサブロモロジウム(II
I) 錯塩、ヘキサアミンロジウム(III) 錯塩、トリザラ
トロジウム(III) 錯塩等が挙げられる。これらのロジウ
ム化合物は、水あるいは適当な溶媒に溶解して用いられ
るが、ロジウム化合物の溶液を安定化させるために一般
によく行われる方法、すなわち、ハロゲン化水素水溶液
(たとえば塩酸、臭酸、フッ酸等)、あるいはハロゲン
化アルカリ(たとえばKCl、NaCl、KBr、Na
Br等)を添加する方法を用いることができる。水溶性
ロジウムを用いる代わりにハロゲン化銀調製時に、あら
かじめロジウムをドープしてある別のハロゲン化銀粒子
を添加して溶解させることも可能である。
【0129】本発明に用いられるレニウム、ルテニウ
ム、オスミニウムは特開昭63−2042号、特開平1
−285941号、同2−20852号、同2−208
55号等に記載された水溶性錯塩の形で添加される。特
に好ましいものとして、以下の式で示される六配位錯体
が挙げられる。〔ML6n-ここでMはRu、Re、ま
たはOsを表し、Lは配位子、nは0、1、2、3また
は4を表す。この場合、対イオンは重要性を持たず、ア
ンモニウムもしくはアルカリ金属イオンが用いられる。
また好ましい配位子としてはハロゲン化物配位子、シア
ン化物配位子、シアン酸化物配位子、ニトロシル配位
子、チオニトロシル配位子等が挙げられる。以下に本発
明に用いられる具体的錯体の例を示すが、本発明はこれ
に限定されるものではない。
【0130】 〔ReCl63- 〔ReBr63- 〔ReCl5(NO) 〕2- 〔Re(NS)Br52- 〔Re(NO)(CN)52- 〔Re(O)2(CN)43- 〔RuCl63- 〔RuCl4(H2O)21ー 〔RuCl5(NO) 〕2- 〔RuBr5(NS) 〕2- 〔Ru(CO)3Cl32- 〔Ru(CO)Cl52- 〔Ru(CO)Br52- 〔OsCl63- 〔OsCl5(NO) 〕2- 〔Os(NO)(CN)52- 〔Os(NS)Br52- 〔Os(CN)64- 〔Os(O)2(CN)44-
【0131】これらの化合物の添加量はハロゲン化銀1
モル当り1×10-9モル〜1×10-5モルの範囲が好ま
しく、特に好ましくは1×10-8モル〜1×10-6モル
である。本発明に用いられるイリジウム化合物として
は、ヘキサクロロイリジウム、ヘキサブロモイリジウ
ム、ヘキサアンミンイリジウム、ペンタクロロニトロシ
ルイリジウム等が挙げられる。本発明に用いられる鉄化
合物としては、ヘキサシアノ鉄(II)酸カリウム、チオ
シアン酸第一鉄が挙げられる。
【0132】本発明のハロゲン化銀乳剤は化学増感され
ることが好ましい。化学増感の方法としては、硫黄増感
法、セレン増感法、テルル増感法、貴金属増感法などの
知られている方法を用いることができ、単独または組み
合わせて用いられる。組み合わせて使用する場合には、
例えば、硫黄増感法と金増感法、硫黄増感法とセレン増
感法と金増感法、硫黄増感法とテルル増感法と金増感法
などが好ましい。
【0133】本発明に用いられる硫黄増感は、通常、硫
黄増感剤を添加して、40℃以上の高温で乳剤を一定時
間攪拌することにより行われる。硫黄増感剤としては公
知の化合物を使用することができ、例えば、ゼラチン中
に含まれる硫黄化合物のほか、種々の硫黄化合物、たと
えばチオ硫酸塩、チオ尿素類、チアゾール類、ローダニ
ン類等を用いることができる。好ましい硫黄化合物は、
チオ硫酸塩、チオ尿素化合物である。硫黄増感剤の添加
量は、化学熟成時のpH、温度、ハロゲン化銀粒子の大
きさなどの種々の条件の下で変化するが、ハロゲン化銀
1モル当り10-7〜10-2モルであり、より好ましくは
10-5〜10-3モルである。
【0134】本発明に用いられるセレン増感剤として
は、公知のセレン化合物を用いることができる。すなわ
ち、通常、不安定型および/または非不安定型セレン化
合物を添加して40℃以上の高温で乳剤を一定時間攪拌
することにより行われる。不安定型セレン化合物として
は特公昭44−15748号、同43−13489号、
特開平4−109240号、同4−324855号等に
記載の化合物を用いることができる。特に特開平4−3
24855号中の一般式(VIII) および(IX)で示される
化合物を用いることが好ましい。
【0135】本発明に用いられるテルル増感剤は、ハロ
ゲン化銀粒子表面または内部に、増感核になると推定さ
れるテルル化銀を生成せしめる化合物である。ハロゲン
化銀乳剤中のテルル化銀生成速度については特開平5−
313284号に記載の方法で試験することができる。
具体的には、米国特許第1,623,499号、同第
3,320,069号、同第3,772,031号、英
国特許第235,211号、同第1,121,496
号、同第1,295,462号、同第1,396,69
6号、カナダ特許第800,958号、特開平4−20
4640号、同4−271341号、同4−33304
3号、同5−303157号、ジャーナル・オブ・ケミ
カル・ソサイアティー・ケミカル・コミュニケーション
(J.Chem.Soc.Chem.Commun.)635(1980),ibid
1102(1979),ibid 645(1979)、ジ
ャーナル・オブ・ケミカル・ソサイアティー・パーキン
・トランザクション(J.Chem.Soc.Perkin.Trans.) 1,
2191(1980)、S.パタイ(S.Patai) 編、ザ・ケ
ミストリー・オブ・オーガニック・セレニウム・アンド
・テルリウム・カンパウンズ(The Chemistry of Organ
ic Serenium and Tellunium Compounds),Vol 1(19
86)、同 Vol 2(1987)に記載の化合物を用い
ることができる。特に特開平4−324855号中の一
般式(II)(III)(IV) で示される化合物が好ましい。
【0136】本発明で用いられるセレンおよびテルル増
感剤の使用量は、使用するハロゲン化銀粒子、化学熟成
条件等によって変わるが、一般にハロゲン化銀1モル当
たり10-8〜10-2モル、好ましくは10-7〜10-3
ル程度を用いる。本発明における化学増感の条件として
は特に制限はないが、pHとしては5〜8、pAgとし
ては6〜11、好ましくは7〜10であり、温度として
は40〜95℃、好ましくは45〜85℃である。本発
明に用いられる貴金属増感剤としては、金、白金、パラ
ジウム、イリジウム等が挙げられるが、特に金増感が好
ましい。本発明に用いられる金増感剤としては具体的に
は、塩化金酸、カリウムクロロオーレート、カリウムオ
ーリチオシアネート、硫化金などが挙げられ、ハロゲン
化銀1モル当たり10-7〜10-2モル程度を用いること
ができる。本発明に用いるハロゲン化銀乳剤にはハロゲ
ン化銀粒子の形成または物理熟成の過程においてカドミ
ウム塩、亜硫酸塩、鉛塩、タリウム塩などを共存させて
もよい。本発明においては、還元増感を用いることがで
きる。還元増感剤としては第一スズ塩、アミン類、ホル
ムアミジンスルフィン酸、シラン化合物などを用いるこ
とができる。本発明のハロゲン化銀乳剤は、欧州公開特
許(EP)−293,917に示される方法により、チ
オスルホン酸化合物を添加してもよい。本発明に用いら
れる感光材料中のハロゲン化銀乳剤は、一種だけでもよ
いし、二種以上(例えば、平均粒子サイズの異なるも
の、ハロゲン組成の異なるもの、晶癖の異なるもの、化
学増感の条件の異なるもの、感度の異なるもの)併用し
てもよい。中でも高コントラストを得るためには、特開
平6−324426に記載されているように、支持体に
近いほど高感度な乳剤を塗布することが好ましい。
【0137】本発明の感光性ハロゲン化銀乳剤は、増感
色素によって比較的長波長の青色光、緑色光、赤色光ま
たは赤外光に分光増感されてもよいが、吸収極大波長を
450nm〜600nmに有する分光増感色素によって
分光増感されていることが好ましい。さらに、特開昭5
5−45015号に記載の一般式〔I〕の化合物、およ
び、特開平9−160185号に記載の一般式〔I〕の
化合物が好ましく、特に、特開平9−160185号に
記載の一般式〔I〕の化合物が好ましい。具体的には、
特開昭55−45015号に記載の(1)から(19)
の化合物、特開平9−160185号に記載のI−1か
らI−40の化合物およびI−56からI−85の化合
物を挙げることができる。
【0138】その他の増感色素としては、シアニン色
素、メロシアニン色素、コンプレックスシアニン色素、
コンプレックスメロシアニン色素、ホロホーラーシアニ
ン色素、スチリル色素、ヘミシアニン色素、オキソノー
ル色素、ヘミオキソノール色素等を用いることができ
る。本発明に使用されるその他の有用な増感色素は例え
ばRESEARCH DISCLOSURE Item17643IV−A項(19
78年12月p.23)、同Item18341X項(19
79年8月p.437)に記載もしくは引用された文献
に記載されている。
【0139】特に各種スキャナー、イメージセッターや
製版カメラの光源の分光特性に適した分光感度を有する
増感色素も有利に選択することができる。例えば、A)
アルゴンレーザー光源に対しては、特開昭60−162
247号に記載の(I)−1から(I)−8の化合物、
特開平2−48653号に記載のI−1からI−28の
化合物、特開平4−330434号に記載のI−1から
I−13の化合物、米国特許2,161,331号に記
載のExample1からExample14の化合
物、西独特許936,071号記載の1から7の化合
物、B)ヘリウム−ネオンレーザー光源に対しては、特
開昭54−18726号に記載のI−1からI−38の
化合物、特開平6−75322号に記載のI−1からI
−35の化合物および特開平7−287338号に記載
のI−1からI−34の化合物、C)LED光源に対し
ては特公昭55−39818号に記載の色素1から2
0、特開昭62−284343号に記載のI−1からI
−37の化合物および特開平7−287338号に記載
のI−1からI−34の化合物、D)半導体レーザー光
源に対しては特開昭59−191032号に記載のI−
1からI−12の化合物、特開昭60−80841号に
記載のI−1からI−22の化合物、特開平4−335
342号に記載のI−1からI−29の化合物および特
開昭59−192242号に記載のI−1からI−18
の化合物、E)製版カメラのタングステンおよびキセノ
ン光源に対しては、上記記載の化合物の他に特開平9−
160185号に記載のI−41からI−55の化合物
およびI−86からI−97の化合物および特開平6−
242547号に記載の4−Aから4−Sの化合物、5
−Aから5−Qの化合物、6−Aから6−Tの化合物な
ども有利に選択することができる。
【0140】これらの増感色素は単独に用いてもよい
が、それらの組合せを用いてもよく、増感色素の組合せ
は特に、強色増感の目的でしばしば用いられる。増感色
素とともに、それ自身分光増感作用をもたない色素ある
いは可視光を実質的に吸収しない物質であって、強色増
感を示す物質を乳剤中に含んでもよい。有用な増感色
素、強色増感を示す色素の組合せ及び強色増感を示す物
質はリサーチ・ディスクロージャ(Research Disclosur
e)176巻17643(1978年12月発行)第23
頁IVのJ項、あるいは前述の特公昭49−25500、
同43−4933、特開昭59−19032、同59−
192242等に記載されている。
【0141】本発明に用いられる増感色素は2種以上を
併用してもよい。増感色素をハロゲン化銀乳剤中に添加
せしめるには、それらを直接乳剤中に分散してもよい
し、あるいは水、メタノール、エタノール、プロパノー
ル、アセトン、メチルセルソルブ、2,2,3,3−テ
トラフルオロプロパノール、2,2,2−トリフルオロ
エタノール、3−メトキシ−1−プロパノール、3−メ
トキシ−1−ブタノール、1−メトキシ−2−プロパノ
ール、N,N−ジメチルホルムアミド等の溶媒の単独も
しくは混合溶媒に溶解して乳剤に添加してもよい。ま
た、米国特許第3,469,987号明細書等に開示さ
れているように、色素を揮発性の有機溶剤に溶解し、該
溶液を水または親水性コロイド中に分散し、この分散物
を乳剤中へ添加する方法、特公昭44−23389号、
同44−27555号、同57−22091号等に開示
されているように、色素を酸に溶解し、該溶液を乳剤中
に添加したり、酸または塩基を共存させて水溶液として
乳剤中へ添加する方法、米国特許第3,822,135
号、同第4,006,025号明細書等に開示されてい
るように界面活性剤を共存させて水溶液あるいはコロイ
ド分散物としたものを乳剤中に添加する方法、特開昭5
3−102733号、同58−105141号に開示さ
れているように親水性コロイド中に色素を直接分散さ
せ、その分散物を乳剤中に添加する方法、特開昭51−
74624号に開示されているように、レッドシフトさ
せる化合物を用いて色素を溶解し、該溶液を乳剤中へ添
加する方法を用いることもできる。また、溶液に超音波
を用いることもできる。
【0142】本発明に用いる増感色素を本発明のハロゲ
ン化銀乳剤中に添加する時期は、これまで有用であるこ
とが認められている乳剤調製のいかなる工程中であって
もよい。例えば米国特許第2,735,766号、同第
3,628,960号、同第4,183,756号、同
第4,225,666号、特開昭58−184142
号、同60−196749号等の明細書に開示されてい
るように、ハロゲン化銀の粒子形成工程または/および
脱塩前の時期、脱銀工程中および/または脱塩後から化
学熟成の開始前までの時期、特開昭58−113920
号等の明細書に開示されているように、化学熟成の直前
または工程中の時期、化学熟成後、塗布までの時期の乳
剤が塗布される前ならばいかなる時期、工程において添
加されてもよい。また、米国特許第4,225,666
号、特開昭58−7629号等の明細書に開示されてい
るように、同一化合物を単独で、または異種構造の化合
物と組み合わせて、例えば粒子形成工程中と化学熟成工
程中または化学熟成完了後とに分けたり、化学熟成の前
または工程中と完了後とに分けるなどして分割して添加
してもよく、分割して添加する化合物および化合物の組
み合わせの種類を変えて添加してもよい。
【0143】本発明の増感色素の添加量は、ハロゲン化
銀粒子の形状、サイズ、ハロゲン組成、化学増感の方法
と程度、カブリ防止剤の種類等により異なるが、ハロゲ
ン化銀1モルあたり、4×10-6〜8×10-3モルで用
いることができる。例えばハロゲン化銀粒子サイズが
0.2〜1.3μm の場合には、ハロゲン化銀粒子の表
面積1m2あたり、2×10-7〜3.5×10-6モルの添
加量が好ましく、6.5×10-7〜2.0×10-6モル
の添加量がより好ましい。
【0144】本発明の感光材料に用いられる各種添加剤
に関しては,特に制限はなく,例えば下記箇所に記載さ
れたものを好ましく用いることができる。
【0145】特開平3−39948号公報第10頁右下
11行目から同公報第12頁左下5行目に記載のポリヒ
ドロキシベンゼン化合物。具体的には,同公報に記載の
化合物(III) −1〜25の化合物。
【0146】特開平1−118832号公報に記載の一
般式(I)で表される実質的には可視域に吸収極大を持
たない化合物。具体的には,同公報に記載の化合物I−
1〜I−26の化合物。
【0147】特開平2−103536号公報第17頁右
下19行目から同公報18頁右上4行目に記載のかぶり
防止剤。
【0148】特開平2−103536号公報第18頁左
下12行目から同頁左下20行目に記載のポリマーラテ
ックス。特開平9−179228号に記載の一般式
(I)で表される活性メチレン基を有するポリマーラテ
ックスで,具体的には同明細書に記載の化合物I−1〜
I−16。特開平9−179228号に記載のコア/シ
ェル構造を有するポリマーラテックスで,具体的には同
明細書に記載の化合物P−1〜P−55。特開平7−1
04413号公報第14頁左1行目から同頁右30行目
に記載の酸性ポリマーラテックスで、具体的には同公報
15頁に記載の化合物II-1) 〜II-9) 。
【0149】特開平2−103536号公報第19頁左
上15行目から同公報19頁右上15行目に記載のマッ
ト剤,滑り剤,可塑剤。
【0150】特開平2−103536号公報第18頁右
上5行目から同頁右上17行目に記載の硬膜剤。
【0151】特開平2−103536号公報第18頁右
下6行目から同公報19頁左上1行目に記載の酸基を有
する化合物。
【0152】特開平2−18542号公報第2頁左下1
3行目から同公報第3頁右上7行目に記載の導電性物
質。具体的には,同公報第2頁右下2行目から同頁右下
10行目に記載の金属酸化物,および同公報に記載の化
合物P−1〜P−7の導電性高分子化合物。
【0153】特開平2−103536号公報第17頁右
下1行目から同頁右上18行目に記載の水溶性染料。
【0154】特開平9−179243号記載の一般式
(FA)、一般式(FA1)、一般式(FA2)、一般
式(FA3)で表される固体分散染料。具体的には同公
報記載の化合物F1〜F34、特開平7−152112
号記載の(II−2)〜(II−24)、特開平7−1521
12号記載の(III−5)〜(III−18)、特開平7−15
2112号記載の(IV−2)〜(IV−7)。特開平2−
294638号公報及び特開平5−11382号に記載
の固体分散染料。
【0155】特開平2−12236号公報第9頁右上7
行目から同頁右下3行目に記載の界面活性剤。特開平2
−103536号公報第18頁左下4行目から同頁左下
7行目に記載のPEG系界面活性剤。特開平3−399
48号公報第12頁左下6行目から同公報第13頁右下
5行目に記載の含弗素界面活性剤。具体的には,同公報
に記載の化合物VI−1〜VI−15の化合物。
【0156】特開平2−18542号公報第3頁右下1
行目から20行目に記載のバインダー。
【0157】本発明のハロゲン化銀写真感光材料の乳剤
層及び保護層を含めた親水性コロイド層の膨潤率は80
〜150%の範囲が好ましく,より好ましくは90〜1
40%の範囲である。親水性コロイド層の膨潤率は,ハ
ロゲン化銀写真感光材料における乳剤層及び保護層を含
めた親水性コロイド層の厚み(d0 )を測定し,該ハロ
ゲン化銀写真感光材料を25℃の蒸留水に1分間浸漬
し,膨潤した厚み(Δd)を測定し,膨潤率(%)=Δ
d÷d0 x100の計算式のよって求める。
【0158】本発明のハロゲン化銀写真感光材料のハロ
ゲン化銀乳剤層が塗布されている側の膜面pHは4.5
〜7.5の範囲であり、好ましくは4.8〜7.0であ
り、特に好ましくは5.0〜6.0である。
【0159】本発明の実施に際して用いうる支持体とし
ては,例えばバライタ紙,ポリエチレン被覆紙,ポリプ
ロピレン合成紙,ガラス板,セルロースアセテート,セ
ルロースナイトレート,例えばポリエチレンテレフタレ
ートなどのポリエステルフイルムを挙げることができ
る.これらの支持体は,それぞれハロゲン化銀写真感光
材料の使用目的に応じて適宜選択される。また、特開平
7−234478号、及びUS558979号に記載の
シンジオタクチック構造を有するスチレン系重合体から
なる支持体も好ましく用いられる。
【0160】以下に本発明における現像液、定着液など
の処理剤および処理方法等について述べるが、言うまで
もなく本発明は以下の記述および具体例に限定されるも
のではない。
【0161】本発明の方法においては、前記一般式
(I)で表わされる化合物の存在下で現像処理を行うこ
と以外には特に制限はなく、この点以外では、現像処理
には、公知の方法のいずれを用いることもできるし、現
像処理液には公知のものを用いることができる。
【0162】本発明に使用する現像液(以下、現像開始
液および現像補充液の双方をまとめて現像液という。)
に用いる現像主薬には特別な制限はないが、ジヒドロキ
シベンゼン類や、アスコルビン酸誘導体、ハイドロキノ
ンモノスルホン酸塩を含むことが好ましく、単独使用で
も併用でも良い。さらに現像能力の点でジヒドロキシベ
ンゼン類やアスコルビン酸誘導体と1-フェニル-3- ピラ
ゾリドン類の組み合わせ、またはジヒドロキシベンゼン
類やアスコルビン酸誘導体とp- アミノフェノール類の
組み合わせが好ましい。本発明に用いるジヒドロキシベ
ンゼン現像主薬としてはハイドロキノン、クロロハイド
ロキノン、イソプロピルハイドロキノン、メチルハイド
ロキノンなどがあるが、特にハイドロキノンが好まし
い。またアスコルビン酸誘導体現像主薬としては、アス
コルビン酸およびイソアスコルビン酸とそれらの塩があ
るが、特にエリソルビン酸ナトリウムが素材コストの点
から好ましい。
【0163】本発明に用いる1-フェニル-3- ピラゾリド
ンまたはその誘導体の現像主薬としては、1-フェニル-3
- ピラゾリドン、1-フェニル-4、4-ジメチル-3- ピラゾ
リドン、1-フェニル-4- メチル-4- ヒドロキシメチル-3
- ピラゾリドンなどがある。本発明に用いるp- アミノ
フェノール系現像主薬としてN- メチル−p- アミノフ
ェノール、p- アミノフェノール、N- (β- ヒドロキ
シフェニル)- p-アミノフェノール、N- (4-ヒドロ
キシフェニル)グリシン、o−メトキシ−p−(N、N
ージメチルアミノ)フェノール、o−メトキシ−p−
(Nーメチルアミノ)フェノールなどがあるが、なかで
もN- メチル- p- アミノフェノール、または特願平8-
70908 号および特願平8-70935 号に記載のアミノフェノ
ール類が好ましい。
【0164】ジヒドロキシベンゼン系現像主薬は通常0.
05モル/リットル〜0.8 モル/リットルの量で用いられ
るのが好ましい。またジヒドロキシベンゼン類と1-フェ
ニル-3- ピラゾリドン類もしくはp- アミノフェノール
類の組み合わせを用いる場合には前者を0.05モル/リッ
トル〜0.6 モル/リットル、好ましくは0.10モル/リッ
トル〜0.5 モル/リットル、後者を0.06モル/リットル
以下、好ましくは0.03モル/リットル〜0.003 モル/リ
ットルの量で用いるのが好ましい。
【0165】アスコルビン酸誘導体現像主薬は、通常0.
01モル/リットル〜0.5 モル/リットルの量で用いられ
るのが好ましく、0.05モル/リットル〜0.3 モル/リッ
トルがより好ましい。またアスコルビン酸誘導体と1-フ
ェニル-3- ピラゾリドン類もしくはp- アミノフェノー
ル類の組み合わせを用いる場合にはアスコルビン酸誘導
体を0.01モル/リットル〜0.5 モル/リットル、1-フェ
ニル-3- ピラゾリドン類もしくはp- アミノフェノール
類を0.005 モル/リットル〜0.2 モル/リットルの量で
用いるのが好ましい。
【0166】本発明で感光材料を処理する際の現像液に
は、通常用いられる添加剤(たとえば現像主薬、アルカ
リ剤、pH緩衝剤、保恒剤、キレート剤等)を含有する
事ができる。以下にこれらの具体例を示すが、本発明は
これらに限定されるものではない。本発明で感光材料を
現像処理する際の現像液に用いられる緩衝剤としては、
炭酸塩、特開昭62-186259 に記載のほう酸、特開昭60-9
3433に記載の糖類(たとえばサッカロース)、オキシム
類(たとえばアセトオキシム)、フェノール類(たとえ
ば5-スルホサリチル酸)、第3リン酸塩(たとえばナト
リウム塩、カリウム塩)などが用いられ、好ましくは炭
酸塩、ほう酸が用いられる。緩衝剤、特に炭酸塩の使用
量は、好ましくは0.1 モル/リットル以上、特に0.2 〜
1.5 モル/リットルである。
【0167】本発明に用いられる保恒剤としては亜硫酸
ナトリウム、亜硫酸カリウム、亜硫酸リチウム、亜硫酸
アンモニウム、重亜硫酸ナトリウム、メタ重亜硫酸カリ
ウム、ホルムアルデヒド重亜硫酸ナトリウムなどがあ
る。亜硫酸塩は0.2 モル/リットル以上、特に0.3 モル
/リットル以上用いられるが、あまりに多量添加すると
現像液中の銀汚れの原因になるので、上限は1.2 モル/
リットルとするのが望ましい。特に好ましくは、0.35〜
0.7 モル/リットルである。ジヒドロキシベンゼン系現
像主薬の保恒剤として、亜硫酸塩と併用して前記のアス
コルビン酸誘導体を少量使用しても良い。なかでも素材
コストの点からエリソルビン酸ナトリウムを用いること
が好ましい。添加量はジヒドロキシベンゼン系現像主薬
に対して、モル比で0.03〜0.12の範囲が好ましく、特に
好ましくは0.05〜0.10の範囲である。保恒剤としてアス
コルビン酸誘導体を使用する場合には現像液中にホウ素
化合物を含まないことが好ましい。
【0168】上記以外に用いられる添加剤としては、臭
化ナトリウム、臭化カリウムのような現像抑制剤、エチ
レングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレン
グリコール、ジメチルホルムアミドのような有機溶剤、
ジエタノールアミン、トリエタノールアミンなどのアル
カノールアミン、イミダゾールまたはその誘導体等の現
像促進剤、ヘテロ環メルカプト化合物(たとえば3-(5-
メルカプトテトラゾール-1- イル)ベンゼンスルホン酸
ナトリウム、1-フェニル-5- メルカプトテトラゾールな
ど)、特開昭62-212651 に記載の化合物を物理現像ムラ
防止剤として添加することもできる。また、メルカプト
系化合物、インダゾール系化合物、ベンゾトリアゾール
系化合物、ベンゾイミダゾール系化合物をカブリ防止剤
または黒ポツ(black pepper)防止剤として含んでも良
い。具体的には、5-ニトロインダゾール、5-p- ニトロ
ベンゾイルアミノインダゾール、1-メチル-5- ニトロイ
ンダゾール、6-ニトロインダゾール、3-メチル-5- ニト
ロインダゾール、5-ニトロベンゾイミダゾール、2-イソ
プロピル-5- ニトロベンゾイミダゾール、5-ニトロベン
ゾトリアゾール、4-((2-メルカプト-1、3 、4-チアジ
アゾール-2- イル)チオ)ブタンスルホン酸ナトリウ
ム、5-アミノ-1、3 、4-チアジアゾール-2- チオール、
メチルベンゾトリアゾール、5-メチルベンゾトリアゾー
ル、2-メルカプトベンゾトリアゾールなどを挙げること
ができる。これらの添加剤の量は、通常現像液1リット
ルあたり0.01〜10ミリモルであり、より好ましくは0.1
〜2 ミリモルである。
【0169】さらに本発明の現像液中には各種の有機、
無機のキレート剤を単独または併用で用いることができ
る。無機キレート剤としてはたとえば、テトラポリリン
酸ナトリウム、ヘキサメタリン酸ナトリウムなどを用い
ることができる。一方、有機キレート剤としては、主に
有機カルボン酸、アミノポリカルボン酸、有機ホスホン
酸、アミノホスホン酸および有機ホスホノカルボン酸を
用いることができる。有機カルボン酸としてはたとえ
ば、アクリル酸、シュウ酸、マロン酸、コハク酸、グル
タル酸、グルコン酸、アジピン酸、ピメリン酸、アシエ
ライン酸、セバチン酸、ノナンジカルボン酸、デカンジ
カルボン酸、ウンデカンジカルボン酸、マレイン酸、イ
タコン酸、リンゴ酸、クエン酸、酒石酸などを挙げるこ
とができる。
【0170】アミノポリカルボン酸としてはたとえば、
イミノ二酢酸、ニトリロ三酢酸、ニトリロ三プロピオン
酸、エチレンジアミンモノヒドロキシエチル三酢酸、エ
チレンジアミン四酢酸、グリコールエーテル四酢酸、1
、2-ジアミノプロパン四酢酸、ジエチレントリアミン
五酢酸、トリエチレンテトラミン六酢酸、1 、3-ジアミ
ノ-2- プロパノール四酢酸、グリコールエーテルジアミ
ン四酢酸、その他特開昭52-25632、同55-67747、同57-1
02624 、および特公昭53-40900に記載の化合物を挙げる
ことができる。
【0171】有機ホスホン酸としては、たとえば米国特
許3214454 、同3794591 および西独特許公開2227369 等
に記載のヒドロキシアルキリデン−ジホスホン酸やリサ
ーチ・ディスクロージャー第181 巻,Item 18170 (197
9年5 月号)等に記載の化合物が挙げられる。アミノホ
スホン酸としては、たとえばアミノトリス(メチレンホ
スホン酸)、エチレンジアミンテトラメチレンホスホン
酸、アミノトリメチレンホスホン酸等が挙げられるが、
その他上記リサーチ・ディスクロージャー18170 、特開
昭57-208554 、同54-61125、同55-29883、同56-97347等
に記載の化合物を挙げることができる。
【0172】有機ホスホノカルボン酸としては、たとえ
ば特開昭52-102726 、同53-42730、同54-121127 、同55
-4024 、同55-4025 、同55-126241 、同55-65955、同55
-65956および前述のリサーチ・ディスクロージャー1817
0 等に記載の化合物を挙げることができる。
【0173】これらの有機および/ または無機のキレー
ト剤は、前述のものに限定されるものではない。また、
アルカリ金属塩やアンモニウム塩の形で使用しても良
い。これらのキレート剤の添加量としては、現像液1 リ
ットルあたり好ましくは、1 x10-4〜1 x10-1モル、よ
り好ましくは1 x10-3〜1 x10-2モルである。
【0174】さらに、現像液中に銀汚れ防止剤として、
たとえば特開昭56-24347、特公昭56-46585、特公昭62-2
849 、特開平4-362942、特開平8-6215号に記載の化合物
の他、メルカプト基を1 つ以上有するトリアジン(たと
えば特公平6-23830 、特開平3-282457、特開平7-175178
に記載の化合物)、同ピリミジン(たとえば2-メルカプ
トピリミジン、2、6-ジメルカプトピリミジン、2、4-ジメ
ルカプトピリミジン、5、6-ジアミノ-2、4- ジメルカプト
ピリミジン、2、4、6-トリメルカプトピリミジンなど)、
同ピリジン(たとえば2-メルカプトピリジン、2、6-ジメ
ルカプトピリジン、3、5-ジメルカプトピリジン、2、4、6-
トリメルカプトピリジン、特開平7-248587に記載の化合
物など)、同ピラジン(たとえば2-メルカプトピラジ
ン、2、6-ジメルカプトピラジン、2、3-ジメルカプトピラ
ジン、2、3、5-トリメルカプトピラジンなど)、同ピリダ
ジン(たとえば3-メルカプトピリダジン、3、4-ジメルカ
プトピリダジン、3、5-ジメルカプトピリダジン、3、4、6-
トリメルカプトピリダジンなど)、特開平7-175177に記
載の化合物、米国特許5457011 に記載のポリオキシアル
キルホスホン酸エステルなどを用いることができる。こ
れらの銀汚れ防止剤は単独または複数の併用で用いるこ
とができ、添加量は現像液1リットルあたり0.05〜10ミ
リモルが好ましく、0.1 〜5 ミリモルがより好ましい。
また、溶解助剤として特開昭61-267759 記載の化合物を
用いることができる。さらに必要に応じて色調剤、界面
活性剤、消泡剤、硬膜剤等を含んでも良い。
【0175】現像液の好ましいpHは9.0 〜12.0であ
り、特に好ましくは9.5 〜11.0の範囲である。pH調整
に用いるアルカリ剤には通常の水溶性無機アルカリ金属
塩(たとえば水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸
ナトリウム、炭酸カリウム等)を用いることができる。
【0176】現像液のカチオンとしては、ナトリウムイ
オンに比べてカリウムイオンの方が現像抑制をせず、ま
たフリンジと呼ばれる黒化部のまわりのギザギザが少な
い。さらに、濃縮液として保存する場合には一般にカリ
ウム塩のほうが溶解度が高く好ましい。しかしながら、
定着液においてはカリウムイオンは銀イオンと同程度に
定着阻害をすることから、現像液のカリウムイオン濃度
が高いと、感材により現像液が持ち込まれることにより
定着液中のカリウムイオン濃度が高くなり、好ましくな
い。以上のことから現像液におけるカリウムイオンとナ
トリウムイオンのモル比率は20:80〜80:20の間である
ことが好ましい。カリウムイオンとナトリウムイオンの
比率は、pH緩衝剤、pH調整剤、保恒剤、キレート剤
などの対カチオンで、上記の範囲で任意に調整できる。
【0177】現像液の補充量は、感光材料1m2 につき
390 ミリリットル以下であり、325〜30ミリリットルが
好ましく、180 〜120 ミリリットルが最も好ましい。現
像補充液は、現像開始液と同一の組成および/ または濃
度を有していても良いし、開始液と異なる組成および/
または濃度を有していても良い。
【0178】本発明における定着処理剤の定着剤として
は、チオ硫酸アンモニウム、チオ硫酸ナトリウム、チオ
硫酸ナトリウムアンモニウムが使用できる。定着剤の使
用量は適宜かえることができるが、一般には約0.7 〜約
3.0 モル/リットルである。
【0179】本発明における定着液は、硬膜剤として作
用する水溶性アルミニウム塩、水溶性クロム塩を含んで
も良く、水溶性アルミニウム塩が好ましい。それにはた
とえば塩化アルミニウム、硫酸アルミニウム、カリ明
礬、硫酸アルミニウムアンモニウム、硝酸アルミニウ
ム、乳酸アルミニウムなどがある。これらは使用液にお
けるアルミニウムイオン濃度として、0.01〜0.15モル/
リットルで含まれることが好ましい。なお、定着液を濃
縮液または固形剤として保存する場合、硬膜剤などを別
パートとした複数のパーツで構成しても良いし、すべて
の成分を含む一剤型の構成としても良い。
【0180】定着処理剤には所望により保恒剤(たとえ
ば亜硫酸塩、重亜硫酸塩、メタ重亜硫酸塩などを0.015
モル/リットル以上、好ましくは0.02モル/リットル〜
0.3モル/リットル)、pH緩衝剤(たとえば酢酸、酢
酸ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、
リン酸、コハク酸、アジピン酸などを0.1 モル/リット
ル〜1 モル/リットル、好ましくは0.2 モル/リットル
〜0.7 モル/リットル)、アルミニウム安定化能や硬水
軟化能のある化合物(たとえばグルコン酸、イミノジ酢
酸、5-スルホサリチル酸、グルコヘプタン酸、リンゴ
酸、酒石酸、クエン酸、シュウ酸、マレイン酸、グリコ
ール酸、安息香酸、サリチル酸、タイロン、アスコルビ
ン酸、グルタル酸、アスパラギン酸、グリシン、システ
イン、エチレンジアミン四酢酸、ニトリロ三酢酸やこれ
らの誘導体およびこれらの塩、糖類、ほう酸などを0.00
1 モル/リットル〜0.5 モル/リットル、好ましくは0.
005モル/リットル〜0.3 モル/リットル)を含むこと
ができる。
【0181】このほか、特開昭62-78551に記載の化合
物、pH調整剤(たとえば水酸化ナトリウム、アンモニ
ア、硫酸など)、界面活性剤、湿潤剤、定着促進剤等も
含むことができる。界面活性剤としては、たとえば硫酸
化物スルフォン酸化物などのアニオン界面活性剤、ポリ
エチレン系界面活性剤、特開昭57-6840 記載の両性界面
活性剤が挙げられ、公知の消泡剤を使用することもでき
る。湿潤剤としては、アルカノールアミン、アルキレン
グリコール等がある。定着促進剤としては、特開平6-30
8681に記載のアルキルおよびアリル置換されたチオスル
ホン酸およびその塩や、特公昭45-35754、同58-122535
、同58-122536 記載のチオ尿素誘導体、分子内に3 重
結合を有するアルコール、米国特許4126459 記載のチオ
エーテル化合物、特開昭64-4739 、特開平1-4739、同1-
159645および同3-101728に記載のメルカプト化合物、同
4-170539に記載のメソイオン化合物、チオシアン酸塩を
含むことができる。
【0182】本発明における定着液のpHは、4.0 以
上、好ましくは4.5 〜6.0 を有する。定着液は処理によ
り現像液が混入してpHが上昇するが、この場合、硬膜
定着液では6.0 以下好ましくは5.7 以下であり、無硬膜
定着液においては7.0 以下好ましくは6.7 以下である。
【0183】定着液の補充量は、感光材料1 m2 につき
500 ミリリットル以下であり、390ミリリットル以下が
好ましく、320 〜80ミリリットルがより好ましい。補充
液は、開始液と同一の組成および/ または濃度を有して
いても良いし、開始液と異なる組成および/ または濃度
を有していても良い。
【0184】定着液は電解銀回収などの公知の定着液再
生方法により再生使用することができる。再生装置とし
ては、たとえばフジハント社製Reclaim R-60などがあ
る。また、活性炭などの吸着フィルターを使用して、色
素などを除去することも好ましい。
【0185】本発明における現像および定着処理剤が液
剤の場合、たとえば特開昭61-73147に記載されたよう
な、酸素透過性の低い包材で保管する事が好ましい。さ
らにこれらの液が濃縮液の場合、所定の濃度になるよう
に、濃縮液1部に対して水0.2〜3 部の割合で希釈して
使用される。
【0186】本発明における現像処理剤及び定着処理剤
は固形にしても液剤同様の結果が得られるが、以下に固
形処理剤に関する記述を行う。本発明における固形剤
は、公知の形態(粉状、粒状、顆粒状、塊状、錠剤、コ
ンパクター、ブリケット、板状、棒状、ペースト状な
ど)が使用できる。これらの固形剤は、接触して互いに
反応する成分を分離するために、水溶性のコーティング
剤やフィルムで被覆しても良いし、複数の層構成にして
互いに反応する成分を分離しても良く、これらを併用し
ても良い。
【0187】被覆剤、造粒助剤には公知のものが使用で
きるが、ポリビニルピロリドン、ポリエチレングリコー
ル、ポリスチレンスルホン酸、ビニル系化合物が好まし
い。この他、特開平5-45805 カラム2 の48行〜カラム
3 の13行目が参考にできる。
【0188】複数の層構成にする場合は、接触しても反
応しない成分を互いに反応する成分の間にはさんだ構成
にして錠剤やブリケット等に加工しても良いし、公知の
形態の成分を同様の層構成にして包装しても良い。これ
らの方法は、たとえば特開昭61-259921 、同4-16841 、
同4-78848 、同5-93991 等に示されている。
【0189】固形処理剤の嵩密度は、0.5 〜6.0 g/ c
3 が好ましく、特に錠剤は1.0 〜5.0 g/ cm3 が好
ましく、顆粒は0.5 〜1.5 g/ cm3 が好ましい。
【0190】本発明における固形処理剤の製法は、公知
のいずれの方法を用いることができる。たとえば、特開
昭61-259921 、特開平4-15641 、特開平4-16841 、同4-
32837 、同4-78848 、同5-93991 、特開平4-85533 、同
4-85534 、同4-85535 、同5-134362、同5-197070、同5-
204098、同5-224361、同6-138604、同6-138605、同8-28
6329等を参考にすることができる。
【0191】より具体的には転動造粒法、押し出し造粒
法、圧縮造粒法、解砕造粒法、撹拌造粒法、スプレード
ライ法、溶解凝固法、ブリケッティング法、ローラーコ
ンパクティング法等を用いることができる。
【0192】本発明における固形剤は、表面状態(平
滑、多孔質等)や部分的に厚みを変えたり、中空状のド
ーナツ型にしたりして溶解性を調節することもできる。
さらに、複数の造粒物に異なった溶解性を与えたり、溶
解性の異なる素材の溶解度を合わせるために、複数の形
状をとることも可能である。また、表面と内部で組成の
異なる多層の造粒物でも良い。
【0193】固形剤の包材は、酸素および水分透過性の
低い材質が好ましく、包材の形状は袋状、筒状、箱状な
どの公知のものが使用できる。また、特開平6-242585〜
同6-242588、同6-247432、同6-247448、特願平5-30664
、特開平7-5664、同7-5666〜同7-5669に開示されてい
るような折り畳み可能な形状にすることも、廃包材の保
管スペース削減のためには好ましい。これらの包材は、
処理剤の取り出し口にスクリューキャップや、プルトッ
プ、アルミシールをつけたり、包材をヒートシールして
もよいが、このほかの公知のものを使用しても良く、特
に限定はしない。さらに環境保全上、廃包材をリサイク
ルまたはリユースすることが好ましい。
【0194】本発明の固形処理剤の溶解および補充の方
法としては特に限定はなく、公知の方法を使用すること
ができる。これらの方法としてはたとえば、撹拌機能を
有する溶解装置で一定量を溶解し補充する方法、特開平
9-80718 に記載されているような溶解部分と完成液をス
トックする部分とを有する溶解装置で溶解し、ストック
部から補充する方法、特開平5-119454、同6-19102 、同
7-261357に記載されているような自動現像機の循環系に
処理剤を投入して溶解・補充する方法、溶解槽を内蔵す
る自動現像機で感光材料の処理に応じて処理剤を投入し
溶解する方法などがあるが、このほかの公知のいずれの
方法を用いることもできる。また処理剤の投入は、人手
で行っても良いし、特開平9-138495に記載されているよ
うな開封機構を有する溶解装置や自動現像機で自動開
封、自動投入してもよく、作業環境の点からは後者が好
ましい。具体的には取り出し口を突き破る方法、はがす
方法、切り取る方法、押し切る方法や、特開平6-19102
、同6-95331 に記載の方法などがある。
【0195】現像、定着処理が済んだ感光材料は、つい
で水洗または安定化処理される(以下特に断らない限
り、安定化処理を含めて水洗といい、これらに使用する
液を、水または水洗水という。)。水洗に使用される水
は、水道水でもイオン交換水でも蒸留水でも安定化液で
もよい。これらの補充量は、一般的には感光材料1 m2
あたり約17リットル〜約8 リットルであるが、それ以下
の補充量で行うこともできる。特に3 リットル以下の補
充量(0 も含む。すなわち、ため水水洗)では、節水処
理が可能となるのみならず、自動現像機設置の配管を不
要とすることもできる。水洗を低補充量で行う場合は、
特開昭63-18350、同62-287252 等に記載のスクイズロー
ラー、クロスオーバーローラーの洗浄槽を設けることが
より好ましい。また、少量水洗時に問題となる公害負荷
低減や、水垢防止のために種々の酸化剤(たとえばオゾ
ン、過酸化水素、次亜塩素酸ナトリウム、活性ハロゲ
ン、二酸化塩素、炭酸ナトリウム過酸化水素塩など)添
加やフィルター濾過を組み合わせても良い。
【0196】水洗の補充量を少なくする方法として、古
くより多段向流方式(たとえば2 段、3 段等)が知られ
ており、水洗補充量は感光材料1 m2 あたり200 〜50ミ
リリットルが好ましい。この効果は、独立多段方式(向
流にせず、多段の水洗槽に個別に新液を補充する方法)
でも同様に得られる。
【0197】さらに、本発明の方法で水洗工程に水垢防
止手段を施しても良い。水垢防止手段としては公知のも
のを使用することができ、特に限定はしないが、防ばい
剤(いわゆる水垢防止剤)を添加する方法、通電する方
法、紫外線または赤外線や遠赤外線を照射する方法、磁
場をかける方法、超音波処理する方法、熱をかける方
法、未使用時にタンクを空にする方法などがある。これ
らの水垢防止手段は、感光材料の処理に応じてなされて
も良いし、使用状況に関係なく一定間隔で行われても良
いし、夜間など処理の行われない期間のみ施しても良
い。またあらかじめ水洗水に施しておいて、これを補充
しても良い。さらには、一定期間ごとに異なる水垢防止
手段を行うことも、耐性菌の発生を抑える上では好まし
い。防ばい剤としては特に限定はなく公知のものが使用
できる。前述の酸化剤の他たとえばグルタルアルデヒ
ド、アミノポリカルボン酸等のキレート剤、カチオン性
界面活性剤、メルカプトピリジンオキシド(たとえば2-
メルカプトピリジン-N- オキシドなど)などがあり、
単独使用でも複数の併用でも良い。通電する方法として
は、特開平3-224685、同3-224687、同4-16280 、同4-18
980 などに記載の方法が使用できる。
【0198】このほか、水泡ムラ防止や汚れ転写防止の
ために、公知の水溶性界面活性剤や消泡剤を添加しても
良い。また、感光材料から溶出した染料による汚染防止
に、特開昭63-163456 に記載の色素吸着剤を水洗系に設
置しても良い。
【0199】水洗工程からのオーバーフロー液の一部ま
たは全部は、特開昭60-235133 に記載されているよう
に、定着能を有する処理液に混合利用することもでき
る。また微生物処理(たとえば硫黄酸化菌、活性汚泥処
理や微生物を活性炭やセラミック等の多孔質担体に担持
させたフィルターによる処理等)や、通電や酸化剤によ
る酸化処理をして、生物化学的酸素要求量(BOD )、化
学的酸素要求量(COD )、沃素消費量等を低減してから
排水したり、銀と親和性のあるポリマーを用いたフィル
ターやトリメルカプトトリアジン等の難溶性銀錯体を形
成する化合物を添加して銀を沈降させてフィルター濾過
するなどし、排水中の銀濃度を低下させることも、自然
環境保全の観点から好ましい。
【0200】また、水洗処理に続いて安定化処理する場
合もあり、その例として特開平2-201357、同2-132435、
同1-102553、特開昭46-44446に記載の化合物を含有した
浴を感光材料の最終浴として使用しても良い。この安定
浴にも必要に応じてアンモニウム化合物、Bi,Al 等の金
属化合物、蛍光増白剤、各種キレート剤、膜pH調節剤、
硬膜剤、殺菌剤、防ばい剤、アルカノールアミンや界面
活性剤を加えることもできる。
【0201】水洗、安定化浴に添加する防ばい剤等の添
加剤および安定化剤は、前述の現像、定着処理剤同様に
固形剤とすることもできる。
【0202】本発明に使用する現像液、定着液、水洗
水、安定化液の廃液は焼却処分することが好ましい。ま
た、これらの廃液はたとえば特公平7-83867 、US543956
0 等に記載されているような濃縮装置で濃縮液化または
固化させてから処分することも可能である。
【0203】処理剤の補充量を低減する場合には、処理
槽の開口面積を小さくして液の蒸発、空気酸化を防止す
ることが好ましい。ローラー搬送型の自動現像機につい
ては米国特許3025779 、同3545971 などに記載されてお
り、本明細書においては単にローラー搬送型自動現像機
として言及する。この自現機は現像、定着、水洗および
乾燥の四工程からなっており、本発明の方法も、他の工
程(たとえば停止工程)を除外しないが、この四工程を
踏襲するのが最も好ましい。さらに、現像定着間および
/ または定着水洗間にリンス浴を設けても良い。
【0204】本発明の現像処理では、dry to dryで25〜
160 秒が好ましく、現像および定着時間が40秒以下、好
ましくは6 〜35秒、各液の温度は25〜50℃が好ましく、
30〜40℃が好ましい。水洗の温度および時間は0 〜50℃
で40秒以下が好ましい。本発明の方法によれば、現像、
定着および水洗された感光材料は水洗水を絞りきる、す
なわちスクイズローラーを経て乾燥しても良い。乾燥は
約40〜約100 ℃で行われ、乾燥時間は周囲の状態によっ
て適宜かえられる。乾燥方法は公知のいずれの方法も用
いることができ特に限定はないが、温風乾燥や、特開平
4-15534 、同5-2256、同5-289294に開示されているよう
なヒートローラー乾燥、遠赤外線による乾燥などがあ
り、複数の方法を併用しても良い。
【0205】
【実施例】以下、本発明を実施例によってさらに具体的
に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではな
い。現像液および定着液は下記に示す処方の液を使用し
た。以下に現像液(1)の濃縮液1リットルあたりの組
成を示す。本発明の一般式(I)の化合物は、それぞれ
の実施例の試料を示した表中に使用液中濃度として記載
した。 水酸化カリウム 105.0g ジエチレントリアミン・五酢酸 6.0g 炭酸カリウム 120.0g メタ重亜硫酸ナトリウム 120.0g 臭化カリウム 9.0g ハイドロキノン 75.0g 5−メチルベンゾトリアゾール 0.25g 4−ヒドロキシメチル−4−メチル−1−フェニル −3−ピラゾリドン 1.35g 一般式(I)の化合物 試料を示した表に使用液中濃度を記載 エリソルビン酸ナトリウム 9.0g ジエチレングリコール 60.0g pH 10.7 使用にあたっては、上記濃縮液1部に対して水2部の割
合で希釈する。使用液のpHは10.5である。
【0206】以下に固形現像剤(現像液(2))の組成
を示す。 水酸化ナトリウム(ビーズ)99.5% 11.5g 亜硫酸カリウム(原末) 63.0g 亜硫酸ナトリウム(原末) 46.0g 炭酸カリウム 62.0g ハイドロキノン(ブリケット) 40.0g 以下まとめてブリケット化する ジエチレントリアミン・五酢酸 2.0g 5−メチルベンゾトリアゾール 0.35g 4−ヒドロキシメチル−4−メチル−1−フェニル −3−ピラゾリドン 1.5g 一般式(I)の化合物 試料を示した表に使用液中濃度を記載 3−(5−メルカプトテトラゾール−1−イル) ベンゼンスルホン酸ナトリウム 0.1g エリソルビン酸ナトリウム 6.0g 臭化カリウム 6.6g このものを水に溶かして1リットルにする。 pH 10.65
【0207】ここで原料形態で原末は一般的な工業製品
のままで使用し、アルカリ金属塩のビーズは市販品を用
いた。原料形態がブリケットであるものは、ブリケッテ
ィングマシンを用いて加圧圧縮して板状にしたものを破
砕して用いた。少量成分に関しては、各成分をブレンド
してからブリケットにした。以上の処理剤は、10リッ
トル分を高密度ポリエチレン製の折り畳み可能な容器に
充填し、取り出し口をアルミシールで封印した。溶解お
よび補充には特開平9−80718号、特開平9−13
8495号に開示されている自動開封機構を有する溶解
補充装置を使用した。
【0208】以下に現像液(3)の濃縮液1リットルあ
たりの組成を示す。 チオ硫酸アンモニウム 360g 水酸化カリウム 105g ジエチレントリアミン・5酢酸 6.0g 炭酸カリウム 120g メタ重亜硫酸ナトリウム 120g 臭化カリウム 9.0g ハイドロキノン 75g 5−メチルベンゾトリアゾール 0.24g 4−ヒドロキシメチル−4−メチル−1−フェニル −3−ピラゾリドン 1.35g 2,3,5,6,7,8−ヘキサヒドロ−2−チオキソ −4−(1H)−キナゾリノン 0.12g 2−メルカプトベンゾイミダゾール −5−スルホン酸ナトリウム 0.45g 一般式(I)の化合物 試料を示した表に使用液中濃度を記載 エリソルビン酸ナトリウム 9.0g ジエチレングリコール 60.0g pH 10.7 使用にあたっては、上記濃縮液1部に対して水2部の割
合で希釈する。使用液のpHは10.5である。
【0209】以下に定着液(1)の濃縮液1リットルあ
たりの処方を示す。 チオ硫酸アンモニウム 360g エチレンジアミン・四酢酸・2Na・2水塩 0.09g チオ硫酸ナトリウム・5水塩 33.0g メタ亜硫酸ナトリウム 57.0g 水酸化ナトリウム 37.2g 酢酸(100%) 90.0g 酒石酸 8.7g グルコン酸ナトリウム 5.1g 硫酸アルミニウム 25.2g pH 4.85 使用にあたっては、上記濃縮液1部に対して水2部の割
合で希釈する。使用液のpHは4.8である。
【0210】以下に固形定着剤(定着液(2))の組成
を示す。 A剤(固形) チオ硫酸アンモニウム(コンパクト) 125.0g 無水チオ硫酸ナトリウム(原末) 19.0g メタ重亜硫酸ナトリウム(原末) 18.0g 無水酢酸ナトリウム(原末) 42.0g B剤(液体) エチレンジアミン・四酢酸・2Na・2水塩 0.03g 無水クエン酸 3.7g グルコン酸ナトリウム 1.7g 硫酸アルミニウム 8.4g 硫酸 2.1g 水に溶かして50ミリリットルとする。 A剤、B剤を水に溶かして1リットルとした。 pH 4.8
【0211】チオ硫酸アンモニウム(コンパクト)はス
プレードライ法により作成したフレーク品をローラーコ
ンパクターで加圧圧縮し、不定形の4〜6mm程度のチ
ップに破砕したものを用い、無水チオ硫酸ナトリウムと
ブレンドした。その他の原末は一般的な工業製品を使用
した。A剤、B剤とも10リットル分を高密度ポリエチ
レン製の折り畳み可能な容器に充填し、A剤の取り出し
口はアルミシールで封印した。B剤容器の口部は、スク
リューキャップで封をした。溶解および補充には特開平
9−80718号、特開平9−138495号に開示さ
れている、自動開封機構を有する溶解補充装置を使用し
た。
【0212】実施例1 <乳剤Aの調製>以下の方法で乳剤Aを調製した。硝酸
銀63gを溶解した硝酸銀水溶液250ccと、乳剤全
体の銀1モル当たり1×10ー7モルに相当する(NH
42 RhCl5 (H2 0)及び1×10ー7モルに相当
するK3 IrCl6 を含む臭化カリウム20gと塩化ナ
トリウム14gを溶解したハロゲン塩水溶液250cc
を、4gの塩化ナトリウムと0.02gの1,3−ジメ
チル−2−イミダゾリチオンと0.5gのクエン酸と8
mgのベンゼンチオスルホン酸ナトリウムおよび2mg
のベンゼンスルフィン酸ナトリウムを1リットルに溶解
した2%ゼラチン水溶液に攪拌しながら38℃で12分
間ダブルジェット法により添加し、平均粒子サイズ0.
20μm、塩化銀含量55モル%の塩臭化銀粒子を得る
ことにより核形成を行った。続いて、硝酸銀107gを
溶解した硝酸銀水溶液450ccと、臭化カリウム28
gと塩化ナトリウム28gを溶解したハロゲン塩水溶液
450ccを、ダブルジェット法により20分間かけて
添加した。
【0213】その後、銀1モルあたり1×10ー3モルの
KI溶液を加えてコンバージョンを行い、常法に従って
フロキュレーション法により水洗した。そして、銀1モ
ルあたりゼラチン40gを加えpH5.9、pAg7.
5に調整した後、さらに銀1モルあたりベンゼンチオス
ルホン酸ナトリウム8mgとベンゼンスルフィン酸ナト
リウム2mg、チオ硫酸ナトリウム5mgおよび塩化金
酸8mgを加え、60℃で60分間加熱し化学増感を施
した。その後、安定剤として4−ヒドロキシ−6−メチ
ル−1,3,3a,7−テトラザインデン150mgお
よび防腐剤として下記構造式(A)の化合物100mg
を加えた。得られた粒子は平均粒子サイズ0.26μ
m、塩化銀含有率60モル%の沃塩臭化銀立方体粒子で
あった。(変動係数10%)
【0214】
【化34】
【0215】<乳剤Bの調製>硝酸銀170gを溶解し
た硝酸銀水溶液700ccと、銀1モルあたり3×10
ー7モルに相当する(NH42 RhCl5 (H2 0)を
含有し臭化カリウム36gと塩化ナトリウム47gを溶
解したハロゲン塩水溶液700ccを、4gの塩化ナト
リウムと0.02gの1,3−ジメチル−2−イミダゾ
リチオンと0.5gのクエン酸と8mgのベンゼンチオ
スルホン酸ナトリウムおよび2mgのベンゼンスルフィ
ン酸ナトリウムを1リットルに溶解した2%ゼラチン水
溶液に攪拌しながら45℃で30分間ダブルジェット法
により添加し、平均粒子サイズ0.30μm、塩化銀含
量70モル%の塩臭化銀粒子を得た。その後、銀1モル
あたり1×10ー3モルのKI溶液を加えてコンバージョ
ンを行い、常法に従ってフロキュレーション法により水
洗し、銀1モルあたりゼラチン40gを加え、pH6.
0、pAg7.5に調整し、さらに銀1モルあたりベン
ゼンチオスルホン酸ナトリウム7mgとベンゼンスルフ
ィン酸ナトリウム2mg、塩化金酸8mgおよびチオ硫
酸ナトリウム5mgを加え、60℃で60分間加熱し化
学増感を施した。その後、安定剤として4−ヒドロキシ
−6−メチル−1,3,3a,7−テトラザインデン3
50mgおよび防腐剤として先に示した構造式(A)の
化合物100mgを加えた。得られた粒子は平均粒子サ
イズ0.30μm、塩化銀含有率70モル%の沃塩臭化
銀立方体粒子であった。(変動係数9%)
【0216】<ヒドラジン含有層乳剤塗布液の調製>乳
剤Aに増感色素として銀1モルあたり、3×10ー4モル
の下記構造式(B)の化合物を加え、さらに、同様に、
銀1モルあたり、6×10ー4モルの構造式(C)で表さ
れる短波シアニン色素、3×10ー4モルの1−フェニル
−5−メルカプトテトラゾール、6×10ー4モルの構造
式(D)で表されるメルカプト化合物、および構造式
(E)で表されるメルカプト化合物、3×10ー4モルの
構造式(F)で表されるトリアジン化合物、6×10ー4
モルの5−クロル−8−ヒドロキシキノリン、さらに3
×10ー4モルの下記構造式(G)で表される化合物を添
加した。そして後に示す表1のように造核剤として銀1
モルあたり、2×10ー3モルのヒドラジン化合物(H−
1)または5×10ー4モルのヒドラジン化合物(H−
2)、さらに造核促進剤として銀1モルあたり、2×1
ー3モルの構造式(I−1)または5×10ー4モルの
(I−2)を添加した。さらに、N−オレイル−N−メ
チルタウリンナトリウム塩を30mg/m2 、コロイダ
ルシリカ(日産化学製スノーテックスC)を500mg
/m2 、ポリエチルアクリレートの分散物を500mg
/m2 、塗布されるように加え、ヒドラジン含有層塗布
液を調製した。溶液のpHは5.8に調整した。
【0217】
【化35】
【0218】
【化36】
【0219】<レドックス化合物含有層乳剤塗布液の調
製>乳剤Bに増感色素としてレドックス化合物含有層乳
剤の銀1モルあたり、4×10ー4モルの先に示した構造
式(B)の化合物を添加し、同様に、銀1モルあたり、
6×10ー4モルの構造式(D)で表されるメルカプト化
合物、3×10ー4モルの構造式(F)で表されるトリア
ジン化合物、6×10ー4モルの5−クロル−8−ヒドロ
キシキノリンを添加し、さらに下記構造式(J)で表さ
れる染料を10mg/m2 、ポリエチルアクリレートの分
散物を300mg/m2 、硬膜剤として1,2−ビス
(ビニルスルホニルアセトアミド)エタンを30mg/m
2 塗布されるように添加した。さらに本発明のレドック
ス化合物として後に示す表1のように構造式(K−1)
または(K−2)の化合物を2×10ー4モル/m2 塗布
されるように添加して、レドックス化合物含有層乳剤塗
布液を調製した。溶液のpHは5.6に調整した。
【0220】
【化37】
【0221】<中間層塗布液の調製>防腐剤として先に
示した構造式(A)の化合物を含むゼラチン溶液に、エ
タンチオスルホン酸ナトリウムを5mg/m2 、(L)で
表される染料を100mg/m2 、ハイドロキノンを1
00mg/m2 、ポリエチルアクリレートの分散物を3
00mg/m2 塗布されるように添加し、中間層塗布液
を調製した。
【0222】
【化38】
【0223】そして、両面が塩化ビニリデンを含む防湿
層下塗りからなるポリエチレンテレフタレートフィルム
上に、0.5g/m2 のゼラチン層を最下層に、ヒドラ
ジン含有層(Ag3.5g/m2 、ゼラチン1.7g/
2 )、中間層(ゼラチン1.2g/m2 )を介して、
レドックス化合物含有層(Ag0.3g/m2 、ゼラチ
ン0.3g/m2 )、さらにこの上に保護層としてゼラ
チン0.3g/m2 、平均粒子サイズ約3.5μの不定
形なSiO2 マット剤60mg/m2 、コロイダルシリ
カ(日産化学製スノーテックスC)0.1g/m2 、流
動パラフィン50mg/m2 、塗布助剤として下記構造
式(M)で表されるフッ素界面活性剤5mg/m2 とp
−ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム塩20mg/
2 を塗布した。この時、最下層のゼラチン層には、ゼ
ラチンと同量のポリエチルアクリレートの分散物、ビス
(ビニルスルホニル)メタン40mg/m2 塗布される
ように添加した。得られた試料の膜面pHは5.5〜
5.8であった。
【0224】
【化39】
【0225】またバック層は、以下に示す処方にて塗布
した。 <バック層> ゼラチン 3.0g/m2 界面活性剤 p−ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム塩40mg/m2 ジヘキシル−α−スルホサクシナートナトリウム塩 40mg/m2 ゼラチン硬化剤 1,2−ビス(ビニルスルホニル アセトアミド)エタン 200mg/m2 SnO2 /Sb(重量比90/10、平均粒径0.20μ)200mg/m2 染料 下記染料(N)、(O)、(P)、(Q)の混合物 染料(N) 20mg/m2 染料(O) 50mg/m2 染料(P) 20mg/m2 染料(Q) 30mg/m2 防腐剤 構造式(A)の化合物 10mg/m2
【0226】
【化40】
【0227】 <バック保護層> ゼラチン 1.1g/m2 ポリメチルメタクリレート微粒子(平均粒径2.5μ) 20mg/m2 p−ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム塩 15mg/m2 ジヘキシル−α−スルホサクシナートナトリウム塩 15mg/m2 酢酸ナトリウム 60mg/m2 防腐剤 構造式(A)の化合物 1mg/m2 こうして、表1に示すように試料を作成した。
【0228】
【表1】
【0229】評価は以下の方法で行った。得られた試料
をステップウェッジを通して、乳剤面側よりタングステ
ン光源で露光した。そして、本発明の一般式(I)の化
合物を表1に示すように使用液中に添加し、現像液とし
て処方(1)および定着液として処方(1)を使用し、
FG−710F自動現像機(富士写真フィルム株式会社
製)を用いて処理し、これを写真性能1とした。感度は
35℃30秒現像における濃度がかぶり+0.1を与え
る露光量の常用対数値で示し、試料1−1の値を1とし
て、値が大きい方が高感になるようにとった。γは
((1.5−0.3)/log(濃度1.5を与える露
光量)−log(濃度0.3を与える露光量))で表さ
れる値で示した。Dmaxは、特性曲線上で濃度+0.
1の感度点に対してlogE+0.5の露光量における
濃度で示した。黒ポツは35℃40”現像した時の素現
部分(本来、未露光で非画像となるべき部分)を顕微鏡
観察により5段階に評価したもので、「5」が最もよく
「1」が最も悪い品質を表す。「5」又は「4」は実用
可能で「3」は粗悪だがぎりぎり実用でき「2」又は
「1」は実用不可である。
【0230】写真性能2は、経時疲労した現像液のシミ
ュレーションとして、上記処方の現像液に対して、亜硫
酸濃度が3分の1、pHが0.2高い現像液を用い、写
真性能1と同様にして感度、γ、Dmax をとり、黒ポツ
を評価した。
【0231】画質は下記の方法で評価した。 1.目伸し画質の評価 (1)原稿の作成 富士写真フィルム株式会社製モノクロスキャナーSCA
NART30及び専用感材SF−100を使って、網点
よりなる人物の透過画像及び網パーセントを段階的に変
えたステップウェッジを作成した。この時スクリーン線
数は150線/インチで行った。 (2)撮影 大日本スクリーン(株)製製版カメラファインズームC
−880(カメラ一体型自現機LD−281Q処理)に
上記原稿を目伸ばし倍率が等倍にある様にセットした後
Xeランプを照射することにより評価サンプルに露光を
与えた。この時原稿のステップウェッジの95%の部分
が5%となるように露光量を調整して露光を行った。 (3)評価 (2)の様に露光量を調節した小点側(ハイライト部)
の網点%を合わせたサンプルのシャドウ部の階調再現性
(網点のつぶれ難さ)の良いものから順に5段階評価
(5〜1)を行った。評価は「5」が最もよく「1」が
最も悪い品質を表す。「5」又は「4」は実用可能で
「3」は粗悪だがぎりぎり実用でき「2」又は「1」は
実用不可である。
【0232】2.コピードットの評価 (1)原稿の作成 富士写真フィルム株式会社製モノクロスキャナーSCA
NART30及び専用感材SP−100WPを使って、
網パーセントを段階的に変えたステップウェッジを作成
した。露光時のスクリーン線数は150線/インチで行
った。 (2)撮影 大日本スクリーン(株)製製版カメラC−690(オー
トコンパニカ)に上記原稿および試料を所定の位置にセ
ットし、反射原稿に光を照射し撮影した。この時、原稿
上でステップウェッジの80%の部分がサンプル上で1
0%となるように露光量を調整して露光を行った。 (3)評価 (2)に記載の如く露光時間を調節してた小点側の網点
%が10%のサンプルのシャドウ部の階調再現性(網点
のつぶれ難さ)の良いものから順に5段階の相対評価
(5〜1)を行った。評価は「5」が最もよく「1」が
最も悪い品質を表す。「5」又は「4」は実用可能で
「3」は粗悪だがぎりぎり実用でき「2」又は「1」は
実用不可である。結果を表2に示す。
【0233】
【表2】
【0234】表2からわかるように、本発明の構成の試
料は比較試料に対して、写真性能1で高感度、高コント
ラスト、高Dmaxを維持して、かつ、黒ポツが良好で
あり、さらに、オリジナル再現性の例である目伸しやコ
ピードットにおける画質がすぐれている。また、写真性
能1から写真性能2での感度、γ、Dmaxの変動が少
なく、かつ、黒ポツが良好である。
【0235】実施例2 実施例1と同様の実験を固形現像液(現像液(2))お
よび固形定着剤(定着液(2))を用いて行ったとこ
ろ、実施例1と同様に本発明の構成の試料が良好な性能
を示した。
【0236】実施例3 実施例1と同様の実験を現像液(3)および定着液
(1)を用いて行ったところ、実施例1と同様に本発明
の構成の試料が良好な性能を示した。
【0237】実施例4 実施例1においてヒドラジン含有層乳剤塗布液の調製
時、および、レドックス化合物含有層乳剤塗布液の調製
時に、増感色素として構造式(B)の化合物にかえて、
下記構造式(R)で表される増感色素を銀1モルあたり
3×10ー4モル加える以外は全く同様にして試料を作成
し、実施例1と同様に実験をおこなったところ、本発明
の構成の試料が良好な性能を示した。
【0238】
【化41】
【0239】実施例5 実施例1においてヒドラジン含有層乳剤塗布液の調製時
に、造核剤として(H−1)あるいは(H−2)のヒド
ラジン化合物にかえて、銀1モルあたり1×10ー3モル
の下記構造式(H−3)あるいは銀1モルあたり5×1
ー3モルの下記構造式(H−4)で表されるヒドラジン
化合物を加える以外は全く同様にして試料を作成し、実
施例1と同様に実験をおこなったところ、本発明の構成
の試料が良好な性能を示した。
【0240】
【化42】
【0241】実施例6 実施例1においてヒドラジン含有層乳剤塗布液の調製時
に、造核促進剤として(I−1)あるいは(I−2)の
化合物にかえて、銀1モルあたり2×10ー3モルの下記
構造式(I−3)で表される化合物を加える以外は全く
同様にして試料を作成し、実施例1と同様に実験をおこ
なったところ、本発明の構成の試料が良好な性能を示し
た。
【0242】
【化43】
【0243】実施例7 実施例1においてレドックス化合物含有層乳剤塗布液の
調製時に、構造式(K−1)あるいは(K−2)の化合
物にかえて、下記構造式(K−3)で表される化合物を
8×10ー4モル/m2 塗布されるように添加する以外は
全く同様にして試料を作成し、実施例1と同様に実験を
おこなったところ、本発明の構成の試料が良好な性能を
示した。
【0244】
【化44】
【0245】実施例8 乳剤Aの調製において、チオ硫酸ナトリウム5mgを加
えるのにかえて、チオ硫酸ナトリウム2mgとトリフェ
ニルホスフィンセレニド2mgを加えて化学増感を施す
以外は全く同様にして乳剤Cを調製し、実施例1におい
てヒドラジン含有層乳剤塗布液の調製時に、乳剤Aにか
えて乳剤Cを使用する以外は全く同様にしてヒドラジン
含有層乳剤塗布液を調製した。さらに、保護層に添加し
た流動パラフィンにかえて下記構造式(S)で表される
シリコーンオイルを50mg/m2 (ゼラチン分散物と
して添加)が塗布されるように添加する以外は、実施例
1と全く同様に試料を作成し、実験をおこなったとこ
ろ、本発明の構成の試料が良好な性能を示した。
【0246】
【化45】
【0247】
【発明の効果】本発明の方法にによれば、高感度、高コ
ントラスト、高黒化濃度を維持して、黒ポツが発生しに
くく、かつオリジナル再現性が良好であるという効果を
奏する。特に、亜硫酸濃度が低下しpHが上昇した経時
疲労した現像液で処理しても、本発明の方法によれば、
高感硬調化を維持して黒ポツの発生を抑制することがで
きる。

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 支持体上に少なくとも一層の感光性ハロ
    ゲン化銀乳剤層を有するハロゲン化銀写真感光材料にお
    いて、該乳剤層もしくはその他の親水性コロイド層の少
    なくとも一層に、酸化されることにより現像抑制剤を放
    出しうるレドックス化合物を少なくとも一種含有するハ
    ロゲン化銀写真感光材料を、画像露光後、一般式(I)
    で表される化合物の少なくとも一種の存在下で現像処理
    することを特徴とするハロゲン化銀写真感光材料の処理
    方法。 一般式(I) 【化1】 (一般式(I)において、D,Eは−CH=基、−C
    (R0 )=基、または窒素原子を表し、ここにR0 は置
    換基を表す。L1 、L2 、L3 は水素原子、ハロゲン原
    子、または炭素原子、窒素原子、酸素原子、硫黄原子、
    リン原子のいずれかで環に結合する任意の置換基を表
    し、L1 〜L3 は同じでも異なっていてもよい。但しL
    1 、L2 、L3、およびR0 の少なくとも1つは、−SM
    基(Mはアルカリ金属原子、水素原子、アンモニウム
    基)を表す。なおEとDが、1つの窒素原子と1つの炭
    素原子を表す時は、Eが窒素原子でDが炭素原子(−C
    H=基もしくは−C(R0 )=基)を表し、この場合L
    2 およびL3 がヒドロキシ基を表すことはない。)
  2. 【請求項2】 請求項1に記載のハロゲン化銀写真感光
    材料の処理方法において、レドックス化合物が一般式
    (R−1)、一般式(R−2)または一般式(R−3)
    で表される化合物であることを特徴とするハロゲン化銀
    写真感光材料の処理方法。 【化2】 (これらの式中、R1 は脂肪族基または芳香族基を表
    す。G1 は−CO−基、−CO−CO−基、−CS−
    基、−C(=NG22)−基、−SO−基、−SO2
    基または−P(O)(G22)−基を表す。G2 は単な
    る結合手、−O−基、−S−基または−N(R2)−基を
    表し、R2 はR1 と同定義の基または水素原子を表し、
    分子内に複数のR2 が存在する場合それらは同じであっ
    ても異なっていてもよい。A1 、A2 は水素原子、アル
    キルスルホニル基、アリールスルホニル基またはアシル
    基を表し置換されていてもよい。一般式(R−1)では
    1 、A2 の少なくとも一方は水素原子である。A3
    1 と同義または−CH2 CH(A4)−(Time)t−PU
    Gを表す。A4 はニトロ基、シアノ基、カルボキシル
    基、スルホニル基または−G1 −G2 −R1 (この場
    合、分子内の2つの−G1 −G2 −R1は同じであって
    も異なっていてもよい。)を表す。Timeは二価の連結基
    を表し、tは0または1を表す。PUGは現像抑制剤を
    表す。)
  3. 【請求項3】 請求項1または請求項2のいずれかに記
    載のハロゲン化銀写真感光材料の処理方法において、該
    ハロゲン化銀写真感光材料の該乳剤層もしくはその他の
    親水性コロイド層の少なくとも一層に造核剤として少な
    くとも一種のヒドラジン誘導体を含有することを特徴と
    するハロゲン化銀写真感光材料の処理方法。
  4. 【請求項4】 請求項1、請求項2または請求項3のい
    ずれかに記載のハロゲン化銀写真感光材料の処理方法に
    おいて、画像露光後、pH9.5以上11.0未満の現
    像液を用いて現像処理することを特徴とするハロゲン化
    銀写真感光材料の処理方法。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US9975886B1 (en) 2017-01-23 2018-05-22 Cadent Therapeutics, Inc. Potassium channel modulators
US10774064B2 (en) 2016-06-02 2020-09-15 Cadent Therapeutics, Inc. Potassium channel modulators
US11993586B2 (en) 2018-10-22 2024-05-28 Novartis Ag Crystalline forms of potassium channel modulators

Cited By (5)

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US10351553B2 (en) 2017-01-23 2019-07-16 Cadent Therapeutics, Inc. Potassium channel modulators
US10717728B2 (en) 2017-01-23 2020-07-21 Cadent Therapeutics, Inc. Potassium channel modulators
US11993586B2 (en) 2018-10-22 2024-05-28 Novartis Ag Crystalline forms of potassium channel modulators

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