JPH11251267A - 半導体レ−ザ基板の劈開方法 - Google Patents
半導体レ−ザ基板の劈開方法Info
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- JPH11251267A JPH11251267A JP10064184A JP6418498A JPH11251267A JP H11251267 A JPH11251267 A JP H11251267A JP 10064184 A JP10064184 A JP 10064184A JP 6418498 A JP6418498 A JP 6418498A JP H11251267 A JPH11251267 A JP H11251267A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 半導体レ−ザ基板をバ−状に劈開分離する
際、欠けやひび割れ等の劈開不良を大幅に低減した半導
体レ−ザ基板の劈開方法を提供する。 【解決手段】 少なくとも、劈開方向に沿って複数のス
クライブ傷61 、62 、63 が形成された半導体レ−ザ
基板1を取り付ける粘着部材7と、この半導体レ−ザ基
板1を覆うカバ−部材8とを挟持するホルダ−9と、粘
着部材7の下方に配置され、粘着部材7に取り付けられ
た半導体レ−ザ基板1を突き上げる突き上げ部材13と
を有した劈開装置を用いた半導体レ−ザ基板の劈開方法
において、突き上げ部材13により半導体レ−ザ基板1
の中央付近のスクライブ傷62 から劈開を開始する。
際、欠けやひび割れ等の劈開不良を大幅に低減した半導
体レ−ザ基板の劈開方法を提供する。 【解決手段】 少なくとも、劈開方向に沿って複数のス
クライブ傷61 、62 、63 が形成された半導体レ−ザ
基板1を取り付ける粘着部材7と、この半導体レ−ザ基
板1を覆うカバ−部材8とを挟持するホルダ−9と、粘
着部材7の下方に配置され、粘着部材7に取り付けられ
た半導体レ−ザ基板1を突き上げる突き上げ部材13と
を有した劈開装置を用いた半導体レ−ザ基板の劈開方法
において、突き上げ部材13により半導体レ−ザ基板1
の中央付近のスクライブ傷62 から劈開を開始する。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体レ−ザ基板
を劈開してバ−状の半導体レ−ザバ−を作製するための
半導体レ−ザ基板の劈開方法に関する。
を劈開してバ−状の半導体レ−ザバ−を作製するための
半導体レ−ザ基板の劈開方法に関する。
【0002】
【従来の技術】半導体レ−ザ基板から半導体レ−ザ素子
を作製するためには、この半導体レ−ザ基板を短冊状の
半導体レーザバ−に劈開することが必要である。この半
導体レ−ザバ−の両側面は、半導体レ−ザ素子の共振器
面となる。更に、この半導体レーザバ−の所定幅方向と
直交方向に分割することにより、半導体レーザ素子が得
られる。この際、半導体レ−ザ素子の活性層は共振器面
側に形成されているので、良好な特性の半導体レ−ザ素
子を得るためには、半導体レ−ザバ−の両側面を破損す
ることなく行うことが重要である。
を作製するためには、この半導体レ−ザ基板を短冊状の
半導体レーザバ−に劈開することが必要である。この半
導体レ−ザバ−の両側面は、半導体レ−ザ素子の共振器
面となる。更に、この半導体レーザバ−の所定幅方向と
直交方向に分割することにより、半導体レーザ素子が得
られる。この際、半導体レ−ザ素子の活性層は共振器面
側に形成されているので、良好な特性の半導体レ−ザ素
子を得るためには、半導体レ−ザバ−の両側面を破損す
ることなく行うことが重要である。
【0003】以下に、従来の半導体レーザ基板の劈開方
法について、図3乃至図8を用いて説明する。図3乃至
図8は、半導体レ−ザ基板の劈開方法を示す製造工程図
である。図4、図5において、この半導体レ−ザ基板の
劈開方法についてわかりやすく説明するために、半導体
レ−ザ基板1及びカバ−シ−ト8を点線で示してある。
法について、図3乃至図8を用いて説明する。図3乃至
図8は、半導体レ−ザ基板の劈開方法を示す製造工程図
である。図4、図5において、この半導体レ−ザ基板の
劈開方法についてわかりやすく説明するために、半導体
レ−ザ基板1及びカバ−シ−ト8を点線で示してある。
【0004】まず初めに、図3に示す半導体レ−ザ基板
1について説明する。図3に示すように、半導体レ−ザ
基板1は、半導体レ−ザ結晶層2の両面に電極4及び5
を有した矩形状を有している。電極5上には、半導体レ
−ザ結晶層2の劈開方向に平行、かつ半導体レ−ザ結晶
層2の一端部2aにスクライブ傷61 、62 、63 が、
互いに所定の間隔を有して形成されている。また、半導
体レ−ザ基板1の電極4の近傍には、活性層3が形成さ
れ、この活性層3は、半導体レ−ザ結晶層2の劈開方向
と直交方向に形成されている。即ち、この活性層3はス
クライブ傷61 、62 、63 と直交方向に形成されてい
る。
1について説明する。図3に示すように、半導体レ−ザ
基板1は、半導体レ−ザ結晶層2の両面に電極4及び5
を有した矩形状を有している。電極5上には、半導体レ
−ザ結晶層2の劈開方向に平行、かつ半導体レ−ザ結晶
層2の一端部2aにスクライブ傷61 、62 、63 が、
互いに所定の間隔を有して形成されている。また、半導
体レ−ザ基板1の電極4の近傍には、活性層3が形成さ
れ、この活性層3は、半導体レ−ザ結晶層2の劈開方向
と直交方向に形成されている。即ち、この活性層3はス
クライブ傷61 、62 、63 と直交方向に形成されてい
る。
【0005】次に、半導体レ−ザ基板1を劈開分離する
ために用いられる半導体レ−ザ基板劈開装置15につい
て図6を用いて説明する。半導体レ−ザ基板劈開装置1
5は、開口部9aを有したホルダ−9と、このホルダ−
9を収納するための収納部10aを有したホルダ−固定
台10と、ホルダ−固定台10の収納部10aに収納さ
れたホルダ−9をホルダ−固定台10に押しつけるため
のホルダ−押え11と、このホルダ−9をホルダ−固定
台10にホルダ−押え11と共に固定するためのネジ1
2とからなる。更に、ホルダ−固定台10に固定された
ホルダ−19の下方には、半導体レ−ザ基板1を劈開分
離するためのカッタ−ナイフ13がカッタ−固定具14
に固定されて、配置されている。このカッタ−ナイフ1
3は、半導体レ−ザ基板1の形状よりも長い帯板状の刃
を有し、上下左右に稼働することができるようになって
いる。
ために用いられる半導体レ−ザ基板劈開装置15につい
て図6を用いて説明する。半導体レ−ザ基板劈開装置1
5は、開口部9aを有したホルダ−9と、このホルダ−
9を収納するための収納部10aを有したホルダ−固定
台10と、ホルダ−固定台10の収納部10aに収納さ
れたホルダ−9をホルダ−固定台10に押しつけるため
のホルダ−押え11と、このホルダ−9をホルダ−固定
台10にホルダ−押え11と共に固定するためのネジ1
2とからなる。更に、ホルダ−固定台10に固定された
ホルダ−19の下方には、半導体レ−ザ基板1を劈開分
離するためのカッタ−ナイフ13がカッタ−固定具14
に固定されて、配置されている。このカッタ−ナイフ1
3は、半導体レ−ザ基板1の形状よりも長い帯板状の刃
を有し、上下左右に稼働することができるようになって
いる。
【0006】以下に、この半導体レ−ザ基板劈開装置1
5を用いて、半導体レ−ザ基板1を劈開する方法につい
て説明する。 (半導体レ−ザ基板貼り付け)半導体レ−ザ基板1のス
クライブ傷61 、62 、63 が形成された電極5側を上
方、電極4側を粘着シ−ト7に対向配置し、この半導体
レ−ザ基板1を粘着シート7に貼り付ける。更に、半導
体レーザ基板1及び粘着シート7上に、半導体レーザ基
板1を覆うようにして、粘着シート7よりやや小さい形
状のカバーシート8を載置する(図4)。
5を用いて、半導体レ−ザ基板1を劈開する方法につい
て説明する。 (半導体レ−ザ基板貼り付け)半導体レ−ザ基板1のス
クライブ傷61 、62 、63 が形成された電極5側を上
方、電極4側を粘着シ−ト7に対向配置し、この半導体
レ−ザ基板1を粘着シート7に貼り付ける。更に、半導
体レーザ基板1及び粘着シート7上に、半導体レーザ基
板1を覆うようにして、粘着シート7よりやや小さい形
状のカバーシート8を載置する(図4)。
【0007】(粘着シ−トの固定)続いて、ホルダー9
の開口部9a内に半導体レ−ザ基板1が収納されるよう
にして、このホルダ−9をカバ−シ−ト8上方から粘着
シート7上に載置する(図5)。この際、ホルダ−9の
形状は、粘着シ−ト7の大きさと略等しい形状であり、
粘着シ−ト7の粘着部分7aにより固定される。この結
果、ホルダ−9は、カバ−シ−ト8、半導体レ−ザ基板
1及び粘着シ−ト7と共に一体化されることになる。
の開口部9a内に半導体レ−ザ基板1が収納されるよう
にして、このホルダ−9をカバ−シ−ト8上方から粘着
シート7上に載置する(図5)。この際、ホルダ−9の
形状は、粘着シ−ト7の大きさと略等しい形状であり、
粘着シ−ト7の粘着部分7aにより固定される。この結
果、ホルダ−9は、カバ−シ−ト8、半導体レ−ザ基板
1及び粘着シ−ト7と共に一体化されることになる。
【0008】(ホルダ−固定)この半導体レ−ザ基板1
と共に一体化したホルダ−9を半導体レ−ザ基板劈開装
置15のホルダ−収納部10aに載置する。次に、ホル
ダー9及びホルダ−固定台10上には、ホルダー押え1
1を載置し、ホルダー押え11をホルダ−固定台10に
ネジ12で止めて、ホルダー9をホルダ−固定台10に
固定する(図6)。
と共に一体化したホルダ−9を半導体レ−ザ基板劈開装
置15のホルダ−収納部10aに載置する。次に、ホル
ダー9及びホルダ−固定台10上には、ホルダー押え1
1を載置し、ホルダー押え11をホルダ−固定台10に
ネジ12で止めて、ホルダー9をホルダ−固定台10に
固定する(図6)。
【0009】(半導体レ−ザ基板の劈開)この後、カッ
タ−ナイフ13を粘着シート7を介して、半導体レーザ
基板1の劈開方向に平行かつ、スクライブ傷61 に対向
して配置する。この状態から、カッタ−ナイフ13によ
り粘着シ−ト7を介して半導体レ−ザ基板1を上方に突
き上げ、スクライブ傷61 を起点として、このスクライ
ブ傷61 によって生じる劈開溝Vに沿って、半導体レー
ザ基板1を劈開する(図7)。この後、カッタ−ナイフ
13を粘着シ−ト7を介して、順次スクライブ傷62、
63 に対向配置し、同様にして、半導体レ−ザ基板3の
劈開を行って、半導体レ−ザバ−20を得る(図8)。
なお、この半導体レ−ザバ−20の両側面21は、半導
体レ−ザ素子23の共振器面となる。この後、半導体レ
−ザ素子23は、半導体レ−ザバ−20の劈開面21と
直交方向に所定の長さに分割することにより得られる。
このように、半導体レ−ザ基板1の劈開を端から順次行
うのは、この半導体レ−ザ基板1の劈開の作業を機械的
に行うことができるので、生産効率が高いからである。
タ−ナイフ13を粘着シート7を介して、半導体レーザ
基板1の劈開方向に平行かつ、スクライブ傷61 に対向
して配置する。この状態から、カッタ−ナイフ13によ
り粘着シ−ト7を介して半導体レ−ザ基板1を上方に突
き上げ、スクライブ傷61 を起点として、このスクライ
ブ傷61 によって生じる劈開溝Vに沿って、半導体レー
ザ基板1を劈開する(図7)。この後、カッタ−ナイフ
13を粘着シ−ト7を介して、順次スクライブ傷62、
63 に対向配置し、同様にして、半導体レ−ザ基板3の
劈開を行って、半導体レ−ザバ−20を得る(図8)。
なお、この半導体レ−ザバ−20の両側面21は、半導
体レ−ザ素子23の共振器面となる。この後、半導体レ
−ザ素子23は、半導体レ−ザバ−20の劈開面21と
直交方向に所定の長さに分割することにより得られる。
このように、半導体レ−ザ基板1の劈開を端から順次行
うのは、この半導体レ−ザ基板1の劈開の作業を機械的
に行うことができるので、生産効率が高いからである。
【0010】ここで、半導体レ−ザ基板1の劈開分離の
メカニズムについて説明する。図7に示すように、カッ
タ−ナイフ13により半導体レ−ザ基板1を突き上げた
際、半導体レ−ザ基板1に作用する力の作用点は、粘着
シ−ト7側では、粘着シ−ト7を介してカッタ−ナイフ
13に接する位置C(作用点C)であり、カバ−シ−ト
8側では、半導体レ−ザ基板1の一端D(作用点D)と
半導体レ−ザ基板1の他端E(作用点E)である。半導
体レ−ザ基板1に突き上げ力N1 が作用すると、その反
作用として、カバ−シ−ト8から半導体レ−ザ基板1の
一端Dに抗力N2 及び半導体レ−ザ基板1の他端Eに抗
力N3 が作用する。このような状態から、半導体レ−ザ
基板1の劈開は、突き上げ力N1 が作用する作用点Cを
中心として、半導体レ−ザ基板1から劈開分離される一
方の分離部分13 の幅d1 と抗力N2 との積からなる力
のモ−メントF1 (N2 ×d1 )と、他方の分離部分1
4 の幅d2 と抗力N3 との積からなる力のモ−メントF
2 (N3 ×d2 )が作用することによって行われる。こ
の結果、半導体レ−ザ基板1から分離部分13 が分離さ
れて、バ−状の半導体レ−ザバ−20が得られる。
メカニズムについて説明する。図7に示すように、カッ
タ−ナイフ13により半導体レ−ザ基板1を突き上げた
際、半導体レ−ザ基板1に作用する力の作用点は、粘着
シ−ト7側では、粘着シ−ト7を介してカッタ−ナイフ
13に接する位置C(作用点C)であり、カバ−シ−ト
8側では、半導体レ−ザ基板1の一端D(作用点D)と
半導体レ−ザ基板1の他端E(作用点E)である。半導
体レ−ザ基板1に突き上げ力N1 が作用すると、その反
作用として、カバ−シ−ト8から半導体レ−ザ基板1の
一端Dに抗力N2 及び半導体レ−ザ基板1の他端Eに抗
力N3 が作用する。このような状態から、半導体レ−ザ
基板1の劈開は、突き上げ力N1 が作用する作用点Cを
中心として、半導体レ−ザ基板1から劈開分離される一
方の分離部分13 の幅d1 と抗力N2 との積からなる力
のモ−メントF1 (N2 ×d1 )と、他方の分離部分1
4 の幅d2 と抗力N3 との積からなる力のモ−メントF
2 (N3 ×d2 )が作用することによって行われる。こ
の結果、半導体レ−ザ基板1から分離部分13 が分離さ
れて、バ−状の半導体レ−ザバ−20が得られる。
【0011】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
半導体レ−ザ基板1の劈開方法には、以下の問題があっ
た。半導体レ−ザ基板1から劈開分離された半導体レ−
ザバ−20の電極4側の稜線22に欠けやひび割れを生
じていた。この半導体レ−ザ基板1の欠けやひび割れ
は、半導体レ−ザ基板1の結晶内部に結晶欠陥や転位を
発生させる原因となり、この半導体レ−ザ基板1から形
成された半導体レ−ザ素子の発振しきい値の増加やレ−
ザ発光出力の低下といったレ−ザ特性を劣化させたり、
信頼性を低下させるといった問題を生じていた。
半導体レ−ザ基板1の劈開方法には、以下の問題があっ
た。半導体レ−ザ基板1から劈開分離された半導体レ−
ザバ−20の電極4側の稜線22に欠けやひび割れを生
じていた。この半導体レ−ザ基板1の欠けやひび割れ
は、半導体レ−ザ基板1の結晶内部に結晶欠陥や転位を
発生させる原因となり、この半導体レ−ザ基板1から形
成された半導体レ−ザ素子の発振しきい値の増加やレ−
ザ発光出力の低下といったレ−ザ特性を劣化させたり、
信頼性を低下させるといった問題を生じていた。
【0012】以下に、図9を用いて、この欠けやひび割
れが生じる原因について考えてみる。図9(A)に示す
ように、半導体レ−ザ基板1の劈開の初期段階におい
て、突き上げ力N1 の突き上げ量が小さいと、力のモ−
メントF1 とF2 は等しいため、半導体レ−ザ基板1は
傾かずに、スクライブ傷61 に沿って劈開される。図9
(B)に示すように、半導体レ−ザ基板1の劈開の後期
段階において、突き上げ力N1 の突き上げ量が大きくな
ってくると、力のモ−メントF1 とF2 が異なるため、
半導体レ−ザ基板1は力のモ−メントの大きい方に傾
き、劈開方向Qとは異なる方向(突き上げ力N1 方向)
Pに作用するので、この半導体レ−ザ基板1の劈開は、
劈開方向と異なる方向に割れることになる。このよう
に、半導体レ−ザ基板1が劈開方向と異なる方向に割れ
るので、半導体レ−ザ基板1の電極4側に欠けやひび割
れを生じると考えられる。このため、半導体レ−ザバ−
20の電極4側の稜線22に欠けやひび割れを生じてる
ことになると思われる。また、半導体レ−ザ基板1が劈
開方向とは異なる方向に割れるので、この欠けやひび割
れによる歪みのため、半導体レ−ザ基板1の内部に結晶
欠陥や転位が発生すると考えられる。
れが生じる原因について考えてみる。図9(A)に示す
ように、半導体レ−ザ基板1の劈開の初期段階におい
て、突き上げ力N1 の突き上げ量が小さいと、力のモ−
メントF1 とF2 は等しいため、半導体レ−ザ基板1は
傾かずに、スクライブ傷61 に沿って劈開される。図9
(B)に示すように、半導体レ−ザ基板1の劈開の後期
段階において、突き上げ力N1 の突き上げ量が大きくな
ってくると、力のモ−メントF1 とF2 が異なるため、
半導体レ−ザ基板1は力のモ−メントの大きい方に傾
き、劈開方向Qとは異なる方向(突き上げ力N1 方向)
Pに作用するので、この半導体レ−ザ基板1の劈開は、
劈開方向と異なる方向に割れることになる。このよう
に、半導体レ−ザ基板1が劈開方向と異なる方向に割れ
るので、半導体レ−ザ基板1の電極4側に欠けやひび割
れを生じると考えられる。このため、半導体レ−ザバ−
20の電極4側の稜線22に欠けやひび割れを生じてる
ことになると思われる。また、半導体レ−ザ基板1が劈
開方向とは異なる方向に割れるので、この欠けやひび割
れによる歪みのため、半導体レ−ザ基板1の内部に結晶
欠陥や転位が発生すると考えられる。
【0013】そこで、本発明は、上記のような問題点を
解消するためになされたもので、半導体レ−ザ基板をバ
−状に劈開分離する際、欠けやひび割れ等の劈開不良を
大幅に低減した半導体レ−ザ基板の劈開方法を提供する
ことを目的とする。
解消するためになされたもので、半導体レ−ザ基板をバ
−状に劈開分離する際、欠けやひび割れ等の劈開不良を
大幅に低減した半導体レ−ザ基板の劈開方法を提供する
ことを目的とする。
【0014】
【課題を解決するための手段】本発明の半導体レーザ基
板の劈開方法は、少なくとも、劈開方向に沿って複数の
スクライブ傷が形成された半導体レ−ザ基板を取り付け
る粘着部材と、この半導体レ−ザ基板を覆うカバ−部材
とを挟持するホルダ−と、前記粘着部材の下方に配置さ
れ、前記粘着部材に取り付けられた前記半導体レ−ザ基
板を突き上げる突き上げ部材とを有した劈開装置を用い
た半導体レ−ザ基板の劈開方法において、前記突き上げ
部材により前記半導体レ−ザ基板の中央付近の前記スク
ライブ傷から劈開を開始することを特徴とする。
板の劈開方法は、少なくとも、劈開方向に沿って複数の
スクライブ傷が形成された半導体レ−ザ基板を取り付け
る粘着部材と、この半導体レ−ザ基板を覆うカバ−部材
とを挟持するホルダ−と、前記粘着部材の下方に配置さ
れ、前記粘着部材に取り付けられた前記半導体レ−ザ基
板を突き上げる突き上げ部材とを有した劈開装置を用い
た半導体レ−ザ基板の劈開方法において、前記突き上げ
部材により前記半導体レ−ザ基板の中央付近の前記スク
ライブ傷から劈開を開始することを特徴とする。
【0015】
【発明の実施の形態】本発明の半導体レ−ザ基板の一実
施例について図1及び図2を用いて説明する。図1は、
本発明の半導体レーザ基板の劈開方法を示す図である。
本発明の半導体レ−ザ基板1の劈開方法は、従来の半導
体レ−ザ基板10の劈開方法において(半導体レ−ザ基
板の劈開)工程だけが異なる。従来と同一構成部分には
同一符号を付し、その詳細な説明を省略する。
施例について図1及び図2を用いて説明する。図1は、
本発明の半導体レーザ基板の劈開方法を示す図である。
本発明の半導体レ−ザ基板1の劈開方法は、従来の半導
体レ−ザ基板10の劈開方法において(半導体レ−ザ基
板の劈開)工程だけが異なる。従来と同一構成部分には
同一符号を付し、その詳細な説明を省略する。
【0016】本発明の半導体レ−ザ基板の劈開方法につ
いて以下に説明する。まず初めに、従来の半導体レ−ザ
基板の劈開方法における(半導体レ−ザ基板貼り付け)
工程乃至(ホルダ−固定)工程を経る。次に、従来の半
導体レ−ザ基板の劈開方法における(半導体レ−ザ基板
の劈開)工程において、カッタ−ナイフ13を粘着シ−
ト7を介して、半導体レーザ基板1の劈開方向に平行か
つ、半導体レ−ザ基板1の中央付近のスクライブ傷62
に対応する位置に配置する(図1(A))。続いて、粘
着シ−ト7を介して半導体レ−ザ基板1を突き上げ力N
1 で上方に突き上げ、スクライブ傷62 を起点として、
このスクライブ傷62 によって生じる劈開溝に沿って、
半導体レーザ基板1を劈開する(図1(B))。こうし
て、半導体レ−ザ基板1を半導体レ−ザ基板11 と12
に分離する。
いて以下に説明する。まず初めに、従来の半導体レ−ザ
基板の劈開方法における(半導体レ−ザ基板貼り付け)
工程乃至(ホルダ−固定)工程を経る。次に、従来の半
導体レ−ザ基板の劈開方法における(半導体レ−ザ基板
の劈開)工程において、カッタ−ナイフ13を粘着シ−
ト7を介して、半導体レーザ基板1の劈開方向に平行か
つ、半導体レ−ザ基板1の中央付近のスクライブ傷62
に対応する位置に配置する(図1(A))。続いて、粘
着シ−ト7を介して半導体レ−ザ基板1を突き上げ力N
1 で上方に突き上げ、スクライブ傷62 を起点として、
このスクライブ傷62 によって生じる劈開溝に沿って、
半導体レーザ基板1を劈開する(図1(B))。こうし
て、半導体レ−ザ基板1を半導体レ−ザ基板11 と12
に分離する。
【0017】更に、半導体レ−ザ基板11 と12 のうち
の一方、例えば11 を従来の半導体レ−ザ基板の劈開方
法における(半導体レ−ザ基板貼り付け)工程乃至(ホ
ルダ−固定)工程を経た後、前記と同様にして、カッタ
−ナイフ13を半導体レーザ基板11 の中央付近のスク
ライブ傷6に対応する位置(C0 )に配置し、粘着シ−
ト7を介して半導体レ−ザ基板1を上方に突き上げ、半
導体レ−ザ基板11 を更に半分に分離する。同様にし
て、半導体レ−ザ基板12 についても同様にして行う。
この操作を繰り返し行って、半導体レ−ザバ−16を得
る(図2(A))。この後、半導体レ−ザバ−16の劈
開面17と直交方向に所定の長さに分割することにより
半導体レ−ザ素子19を得る(図2(B))。
の一方、例えば11 を従来の半導体レ−ザ基板の劈開方
法における(半導体レ−ザ基板貼り付け)工程乃至(ホ
ルダ−固定)工程を経た後、前記と同様にして、カッタ
−ナイフ13を半導体レーザ基板11 の中央付近のスク
ライブ傷6に対応する位置(C0 )に配置し、粘着シ−
ト7を介して半導体レ−ザ基板1を上方に突き上げ、半
導体レ−ザ基板11 を更に半分に分離する。同様にし
て、半導体レ−ザ基板12 についても同様にして行う。
この操作を繰り返し行って、半導体レ−ザバ−16を得
る(図2(A))。この後、半導体レ−ザバ−16の劈
開面17と直交方向に所定の長さに分割することにより
半導体レ−ザ素子19を得る(図2(B))。
【0018】このように、劈開分離される半導体レ−ザ
基板1の中央付近のスクライブ傷62 から劈開するよう
にしているので、この半導体レ−ザ基板1の両端(Dと
E)に作用する力Fmは等しくなり、力のモ−メントが
等しくなる。即ち、半導体レ−ザ基板1の幅を2dとす
ると、半導体レ−ザ基板11 及び12 の幅はdとなり、
半導体レ−ザ基板11 の端Dと半導体レ−ザ基板12 の
端E(半導体レ−ザ基板1の両端)に作用する力のモ−
メントはFm×dとなり等しくなる。このため、半導体
レ−ザ基板1は突き上げ力N1 の方向と同一方向に押し
上げられ、スクライブ傷6が形成された劈開方向に沿っ
て劈開されることになる。このため、力のモ−メントは
劈開方向に作用するだけであるので、半導体レ−ザ基板
1は、劈開方向と異なる方向には割れず、半導体レ−ザ
基板1の電極4側の欠けやひび割れの発生を防止でき、
半導体レ−ザ基板1の内部に結晶欠陥や転位の発生を低
減できる。この結果、半導体レ−ザ基板1から劈開分離
された半導体レ−ザバ−16の電極4側の稜線18に欠
けやひび割れを生じることがない。また、半導体レ−ザ
バ−16を半導体レ−ザ結晶層2の劈開方向に直交する
方向に分割して得られた半導体レ−ザ素子19は、良好
な共振器面を有し、転位や結晶欠陥が低減され、良好な
レ−ザ特性や高い信頼性を有したものとなる。
基板1の中央付近のスクライブ傷62 から劈開するよう
にしているので、この半導体レ−ザ基板1の両端(Dと
E)に作用する力Fmは等しくなり、力のモ−メントが
等しくなる。即ち、半導体レ−ザ基板1の幅を2dとす
ると、半導体レ−ザ基板11 及び12 の幅はdとなり、
半導体レ−ザ基板11 の端Dと半導体レ−ザ基板12 の
端E(半導体レ−ザ基板1の両端)に作用する力のモ−
メントはFm×dとなり等しくなる。このため、半導体
レ−ザ基板1は突き上げ力N1 の方向と同一方向に押し
上げられ、スクライブ傷6が形成された劈開方向に沿っ
て劈開されることになる。このため、力のモ−メントは
劈開方向に作用するだけであるので、半導体レ−ザ基板
1は、劈開方向と異なる方向には割れず、半導体レ−ザ
基板1の電極4側の欠けやひび割れの発生を防止でき、
半導体レ−ザ基板1の内部に結晶欠陥や転位の発生を低
減できる。この結果、半導体レ−ザ基板1から劈開分離
された半導体レ−ザバ−16の電極4側の稜線18に欠
けやひび割れを生じることがない。また、半導体レ−ザ
バ−16を半導体レ−ザ結晶層2の劈開方向に直交する
方向に分割して得られた半導体レ−ザ素子19は、良好
な共振器面を有し、転位や結晶欠陥が低減され、良好な
レ−ザ特性や高い信頼性を有したものとなる。
【0019】
【発明の効果】本発明の半導体レ−ザ基板の劈開方法に
よれば、少なくとも、劈開方向に沿ってスクライブ傷が
形成された半導体レ−ザ基板を取り付ける粘着部材と、
この半導体レ−ザ基板を覆うカバ−部材とを挟持するホ
ルダ−と、前記粘着部材の下方に配置され、前記粘着部
材に取り付けられた前記半導体レ−ザ基板を突き上げる
突き上げ部材とを有した劈開装置を用いて、前記突き上
げ部材により前記半導体レ−ザ基板の中央付近の前記ス
クライブ傷から劈開を開始するので、欠けやひび割れの
ない半導体レ−ザ基板の劈開分離を行うことができる。
このため、半導体レ−ザ基板の内部に結晶欠陥や転位の
発生を低減でき、この半導体レ−ザ基板から形成された
半導体レ−ザ素子は、良好なレ−ザ特性を有し、高い信
頼性を有したものとなる。
よれば、少なくとも、劈開方向に沿ってスクライブ傷が
形成された半導体レ−ザ基板を取り付ける粘着部材と、
この半導体レ−ザ基板を覆うカバ−部材とを挟持するホ
ルダ−と、前記粘着部材の下方に配置され、前記粘着部
材に取り付けられた前記半導体レ−ザ基板を突き上げる
突き上げ部材とを有した劈開装置を用いて、前記突き上
げ部材により前記半導体レ−ザ基板の中央付近の前記ス
クライブ傷から劈開を開始するので、欠けやひび割れの
ない半導体レ−ザ基板の劈開分離を行うことができる。
このため、半導体レ−ザ基板の内部に結晶欠陥や転位の
発生を低減でき、この半導体レ−ザ基板から形成された
半導体レ−ザ素子は、良好なレ−ザ特性を有し、高い信
頼性を有したものとなる。
【図1】本発明の半導体レ−ザ基板の劈開方法における
半導体レ−ザ基板の劈開工程を示す図である。
半導体レ−ザ基板の劈開工程を示す図である。
【図2】本発明の半導体レ−ザ基板を劈開方法により作
製された半導体レ−ザバ−及び半導体レ−ザ素子を示す
斜視図である。
製された半導体レ−ザバ−及び半導体レ−ザ素子を示す
斜視図である。
【図3】一般的な半導体レ−ザ基板を示す斜視図であ
る。
る。
【図4】粘着シ−トに貼り付けられた半導体レ−ザ基板
の平面図である。
の平面図である。
【図5】半導体レ−ザ基板を粘着シ−トと共にホルダ−
に固定した平面図である。
に固定した平面図である。
【図6】一般的な半導体レ−ザ基板劈開装置の断面図で
ある。
ある。
【図7】従来の半導体レ−ザ基板の劈開方法による半導
体レ−ザ基板の劈開の様子を示す図である。
体レ−ザ基板の劈開の様子を示す図である。
【図8】従来の半導体レ−ザ基板劈開方法により作製さ
れた半導体レ−ザバ−及び半導体レ−ザ素子を示す斜視
図である。
れた半導体レ−ザバ−及び半導体レ−ザ素子を示す斜視
図である。
【図9】従来の半導体レ−ザ基板劈開方法の半導体レ−
ザ基板の劈開のメカニズムを説明するための図である。
ザ基板の劈開のメカニズムを説明するための図である。
1、11 、12 …半導体レ−ザ基板、2…半導体レ−ザ
結晶層、3…活性層、4、5…電極、6…スクライブ
傷、7…粘着シ−ト、8…カバ−シ−ト、9…ホルダ
−、10…ホルダ−固定台、11…ホルダ−押え、12
……ネジ、13…カッタ−ナイフ、14…カッタ−ナイ
フ固定具、15…半導体レ−ザ基板劈開装置、16、2
0…半導体レ−ザバ−、17、21…側面、18、22
…稜線、19、23…半導体レ−ザ素子、9a…開口
部、2a…一端、10a…ホルダ−収納部、V…劈開溝
結晶層、3…活性層、4、5…電極、6…スクライブ
傷、7…粘着シ−ト、8…カバ−シ−ト、9…ホルダ
−、10…ホルダ−固定台、11…ホルダ−押え、12
……ネジ、13…カッタ−ナイフ、14…カッタ−ナイ
フ固定具、15…半導体レ−ザ基板劈開装置、16、2
0…半導体レ−ザバ−、17、21…側面、18、22
…稜線、19、23…半導体レ−ザ素子、9a…開口
部、2a…一端、10a…ホルダ−収納部、V…劈開溝
Claims (1)
- 【請求項1】少なくとも、劈開方向に沿って複数のスク
ライブ傷が形成された半導体レ−ザ基板を取り付ける粘
着部材と、この半導体レ−ザ基板を覆うカバ−部材とを
挟持するホルダ−と、前記粘着部材の下方に配置され、
前記粘着部材に取り付けられた前記半導体レ−ザ基板を
突き上げる突き上げ部材とを有した劈開装置を用いた半
導体レ−ザ基板の劈開方法において、 前記突き上げ部材により前記半導体レ−ザ基板の中央付
近の前記スクライブ傷から劈開を開始することを特徴と
する半導体レ−ザ基板の劈開方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP10064184A JPH11251267A (ja) | 1998-02-27 | 1998-02-27 | 半導体レ−ザ基板の劈開方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP10064184A JPH11251267A (ja) | 1998-02-27 | 1998-02-27 | 半導体レ−ザ基板の劈開方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH11251267A true JPH11251267A (ja) | 1999-09-17 |
Family
ID=13250730
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP10064184A Pending JPH11251267A (ja) | 1998-02-27 | 1998-02-27 | 半導体レ−ザ基板の劈開方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH11251267A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2010045754A1 (en) * | 2008-10-23 | 2010-04-29 | Freescale Semiconductor Inc. | Method for singulating electronic components from a substrate |
WO2018198753A1 (ja) * | 2017-04-24 | 2018-11-01 | 三菱電機株式会社 | 半導体デバイスの製造方法 |
-
1998
- 1998-02-27 JP JP10064184A patent/JPH11251267A/ja active Pending
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2010045754A1 (en) * | 2008-10-23 | 2010-04-29 | Freescale Semiconductor Inc. | Method for singulating electronic components from a substrate |
US9142434B2 (en) | 2008-10-23 | 2015-09-22 | Freescale Semiconductor, Inc. | Method for singulating electronic components from a substrate |
WO2018198753A1 (ja) * | 2017-04-24 | 2018-11-01 | 三菱電機株式会社 | 半導体デバイスの製造方法 |
CN110546832A (zh) * | 2017-04-24 | 2019-12-06 | 三菱电机株式会社 | 半导体器件的制造方法 |
JPWO2018198753A1 (ja) * | 2017-04-24 | 2019-12-12 | 三菱電機株式会社 | 半導体デバイスの製造方法 |
US11244862B2 (en) | 2017-04-24 | 2022-02-08 | Mitsubishi Electric Corporation | Method for manufacturing semiconductor devices |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
EXPY | Cancellation because of completion of term |