JPH11240912A - オレフィン重合用触媒およびポリオレフィンの製造方法 - Google Patents

オレフィン重合用触媒およびポリオレフィンの製造方法

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JPH11240912A
JPH11240912A JP36664898A JP36664898A JPH11240912A JP H11240912 A JPH11240912 A JP H11240912A JP 36664898 A JP36664898 A JP 36664898A JP 36664898 A JP36664898 A JP 36664898A JP H11240912 A JPH11240912 A JP H11240912A
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compound
catalyst
methyl
polymerization
rac
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JP36664898A
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English (en)
Inventor
Manabu Kaminaka
学 紙中
Hitoshi Matsuoka
仁志 松岡
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Tokuyama Corp
Original Assignee
Tokuyama Corp
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】 【課題】ポリオレフィンの製造において、高い活性を示
す触媒系により優れた嵩比重を有するポリマーをするこ
と。 【解決手段】下記成分 [A]メタロセン化合物 [B]アルミノキサン化合物 [C]無機微粒子担体からなる触媒成分に、先ずプロピ
レンを予備重合させ、次いで、予備重合して得られた固
体成分をアルミノキサン化合物もしくは非配位性イオン
化合物と接触処理して得られた予備重合触媒と [D]有機アルミニウム化合物とからなるオレフィン重
合用触媒およびポリオレフィンの製造方法である。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、予めオレフィンを
特定の予備重合をせしめて得られた固体成分を、アルミ
ノキサン化合物もしくは非配位性イオン化合物と接触処
理して得られた予備重合触媒と有機アルミニウム化合物
からなる、高活性かつ良粒子性状のポリマーを製造可能
なオレフィン重合触媒及び該オレフィン重合触媒を使用
したポリオレフィンの製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】従来より、オレフィンを、メタロセン化
合物及びアルミノキサン化合物からなる触媒系の存在下
に重合することにより高い活性でポリオレフィンを製造
することはすでに知られている(特公平4−12283
号公報、特開昭60−35007号公報)。
【0003】しかしながら、これらの触媒系は重合活性
には優れるが反応系に可溶であるために、得られるポリ
オレフィン粒子は、粒子形態が不定形で嵩比重が小さく
微粉が多いなど、粒子性状が極めて悪いものであり、製
造工程上の問題点を有している。
【0004】一方、これらの問題点を解決するために、
前記の可溶性触媒系をシリカやアルミナなどの無機酸化
物に担持せしめた固体触媒によりオレフィンの重合を行
う方法も提案されている(特開昭60−35007号公
報、同61−31404号公報、同61−108610
号公報、同61−276805号公報、同61−296
008号公報)。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】しかし、これらの方法
によって得られたポリオレフィン粒子は、微粉や粗粒が
多く存在し嵩比重が低い上、、固体触媒成分あたりの重
合活性はいまだ満足の行くものではなく、触媒系の更な
る高活性化、良粒子性状化が望まれていた。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、この課題
を解決するために鋭意検討を行った結果、予めオレフィ
ンを予備重合せしめて得られた固体成分をアルミノキサ
ン化合物もしくは非配位性イオン化合物と接触処理した
予備重合触媒と有機アルミニウム化合物からなる触媒系
により、高活性かつ良粒子性状のポリオレフィンを効率
よく製造でき、本発明の目的を達成し得ることを見い出
し本発明を完成した。
【0007】即ち、本発明は、(1)下記成分からなる
触媒の存在下にプロピレンを予備重合させて得られた固
体成分をアルミノキサン化合物もしくは非配位性イオン
化合物と接触処理して得られた予備重合触媒と [A]メタロセン化合物 [B]アルミノキサン化合物 [C]無機微粒子担体 (2)[D]有機アルミニウム化合物とからなるオレフィ
ン重合用触媒および該触媒を使用してオレフィンを重合
することを特徴とするポリオレフィンの製造方法であ
る。
【0008】
【発明の実施の形態】本発明の予備重合方法で用いられ
るメタロセン化合物[A]は、オレフインの重合に使用さ
れることが公知の化合物が何ら制限なく採用される。
【0009】好ましいメタロセン化合物[A]は、下記
一般式(1)で示されるキラルな化合物が挙げられる。
【0010】 Q(C54-m1 m)(C54-n2 n)MX12 (1) 上記一般式中、Mは、周期律表第4b族の遷移金属原子
を示す。(C54-m1 m)、(C54-n2 n)は置換シ
クロペンタジエニル基を示し、mおよびnは、1〜3の
整数であり、R1およびR2は、互いに同一でも異なって
いてもよく、炭素原子数が1〜20の炭化水素基、ケイ
素含有炭化水素基、またはシクロペンタジエニル環上の
2個の炭素原子と結合して炭化水素で置換されていても
よい1つ以上の炭化水素環を形成している炭化水素基で
ある。また、式中、Qは、(C54-m1 m)および(C
54-n2 n)を架橋可能な基であって、2価の、炭化水
素基、非置換シリレン基または炭化水素置換シリレン基
である。X1およびX2は、同一または異なっていてもよ
く水素、ハロゲンまたは炭化水素基を示す。
【0011】好ましくは、一般式(1)において、Mが
ジルコニウム、ハフニウム原子であり、R1、R2が同一
もしくは異なる炭素数1〜20の炭化水素基、X1およ
びX2が、同一もしくは異なるハロゲン原子または、炭
化水素基、Qが、炭化水素置換シリレン基であるキラル
なメタロセン化合物である。
【0012】具体的なメタロセン化合物を例示するとr
ac−ジメチルシリレン(2,4−ジメチルシクロペン
タジエニル)(3’,5’−ジメチルシクロペンタジエ
ニル)ジルコニウムジクロライド、rac−ジメチルシ
リレン(2,4−ジメチルシクロペンタジエニル)
(3’,5’−ジメチルシクロペンタジエニル)ジルコ
ニウムジメチル、rac−ジメチルシリレン(2,3,
5−トリメチルシクロペンタジエニル)(2’,4’,
5’−トリメチルシクロペンタジエニル)ジルコニウム
ジクロライド、rac−ジメチルシリレン(2,3,5
−トリメチルシクロペンタジエニル)(2’,4’,
5’−トリメチルシクロペンタジエニル)ジルコニウム
ジメチル、rac−ジメチルシリレンビス(2−メチル
−インデニル)ジルコニウムジクロライド、rac−ジ
フェニルシリレンビス(2−メチル−インデニル)ジル
コニウムジクロライド、rac−ジメチルシリレンビス
(2−メチル−インデニル)ジルコニウムジメチル、r
ac−ジフェニルシリレンビス(2−メチル−インデニ
ル)ジルコニウムジメチル、rac−ジメチルシリレン
ビス(2−メチル−4,5,6,7−テトラヒドロイン
デニル)ジルコニウムジクロライド、rac−ジフェニ
ルシリレンビス(2−メチル−4,5,6,7−テトラ
ヒドロインデニル)ジルコニウムジクロライド、rac
−ジメチルシリレンビス(2−メチル−4,5,6,7
−テトラヒドロインデニル)ジルコニウムジメチル、r
ac−ジフェニルシリレンビス(2−メチル−4,5,
6,7−テトラヒドロインデニル)ジルコニウムジメチ
ル、rac−ジメチルシリレンビス(2,4−ジメチル
−インデニル)ジルコニウムジクロライド、rac−ジ
フェニルシリレンビス(2,4−ジメチル−インデニ
ル)ジルコニウムジクロライド、rac−ジメチルシリ
レンビス(2,4−ジメチル−インデニル)ジルコニウ
ムジメチル、rac−ジフェニルシリレンビス(2,4
−ジメチル−インデニル)ジルコニウムジメチル、ra
c−ジメチルシリレンビス(2−メチル−4−イソプロ
ピルインデニル)ジルコニウムジクロライド、rac−
ジフェニルシリレンビス(2−メチル−4−イソプロピ
ルインデニル)ジルコニウムジクロライド、rac−ジ
メチルシリレンビス(2−メチル−4−イソプロピルイ
ンデニル)ジルコニウムジメチル、rac−ジフェニル
シリレンビス(2−メチル−4−イソプロピルインデニ
ル)ジルコニウムジメチル、rac−ジメチルシリレン
ビス(2−メチル−4,6−ジイソプロピルインデニ
ル)ジルコニウムジクロライド、rac−ジフェニルシ
リレンビス(2−メチル−4,6−ジイソプロピルイン
デニル)ジルコニウムジクロライド、rac−ジメチル
シリレンビス(2−メチル−4,6−ジイソプロピルイ
ンデニル)ジルコニウムジメチル、rac−ジフェニル
シリレンビス(2−メチル−4,6−ジイソプロピルイ
ンデニル)ジルコニウムジメチル、rac−ジメチルシ
リレンビス(2−メチル−4−t−ブチルインデニル)
ジルコニウムジクロライド、rac−ジフェニルシリレ
ンビス(2−メチル−4−t−ブチルインデニル)ジル
コニウムジクロライド、rac−ジメチルシリレンビス
(2−メチル−4−t−ブチルインデニル)ジルコニウ
ムジメチル、rac−ジフェニルシリレンビス(2−メ
チル−4−t−ブチルインデニル)ジルコニウムジメチ
ル、rac−ジメチルシリレンビス(2−メチル−4−
フェニルインデニル)ジルコニウムジクロライド、ra
c−ジフェニルシリレンビス(2−メチル−4−フェニ
ルインデニル)ジルコニウムジクロライド、rac−ジ
メチルシリレンビス(2−メチル−4−フェニルインデ
ニル)ジルコニウムジメチル、rac−ジフェニルシリ
レンビス(2−メチル−4−フェニルインデニル)ジル
コニウムジメチル、rac−ジメチルシリレンビス(2
−メチル−4−ナフチルインデニル)ジルコニウムジク
ロライド、rac−ジフェニルシリレンビス(2−メチ
ル−4−ナフチルインデニル)ジルコニウムジクロライ
ド、rac−ジメチルシリレンビス(2−メチル−4−
ナフチルインデニル)ジルコニウムジメチル、rac−
ジフェニルシリレンビス(2−メチル−4−ナフチルイ
ンデニル)ジルコニウムジメチル、rac−ジメチルシ
リレンビス(2−メチル−ベンズインデニル)ジルコニ
ウムジクロライド、rac−ジフェニルシリレンビス
(2−メチル−ベンズインデニル)ジルコニウムジクロ
ライド、rac−ジメチルシリレンビス(2−メチル−
ベンズインデニル)ジルコニウムジメチル、rac−ジ
フェニルシリレンビス(2−メチル−ベンズインデニ
ル)ジルコニウムジメチル等が挙げられる。また、上記
のジルコニウムをハフニウムに代えた化合物も好適に用
いられる。
【0013】本発明で用いられるアルミノキサン化合物
[B]を説明する。アルミノキサン化合物は、一般式
(2)または(3)で表されるアルミニウム化合物であ
る。
【0014】
【化1】
【0015】
【化2】
【0016】上記の一般式中、Rは、炭素数が1〜6、
好ましくは1〜4のアルキル基であり、メチル基、エチ
ル基、プロピル基、ブチル基、イソブチル基が挙げられ
る。これらのうち特に好ましいのはメチル基であり、一
部炭素数2〜6のアルキル基を含んでいてもよい。m
は、4〜100の整数であり、好ましくは、6〜80、
特に好ましくは10〜60である。
【0017】上記のアルミノキサンは、公知の種々の条
件下に、製造する事ができる。例えば、トリアルキルア
ルミニウムを炭化水素溶媒中、直接水と反応させる方
法。結晶水を有する硫酸銅水和物、硫酸アルミニウム水
和物、含水させたシリカゲル等を用いて炭化水素溶媒中
で吸着した水分とトリアルキルアルミニウムを反応させ
る方法等が例示できる。
【0018】本発明において、無機微粒子担体[C]は
無機酸化物が好ましく、具体的にはSiO2、Al
23、MgO、ZrO2、TiO2、B23、CaO、Z
nO、BaO、ThO2等またはこれらの混合物例え
ば、SiO2−Al23、SiO2−MgO、SiO2
TiO2、SiO2−V25、SiO2−Cr23、Si
2−TiO2−MgOなどを例示することができる。こ
れらの中でSiO2およびAl 23からなる群から選ば
れたすくなくとも1種の成分を主成分として含有する担
体が好ましい。
【0019】無機微粒子担体はその種類および製法によ
り性状は異なるが、本発明に好ましく用いられる担体は
粒径が10〜300μm、好ましくは20〜200μ
m、比表面積が50〜1000m3/g、好ましくは1
00〜700m3/g、細孔容積が0.3〜3.0cm3
/g、好ましくは0.5〜2.5cm3/gである。無
機微粒子担体は、通常150〜1000℃、好ましくは
200〜800℃で焼成して用いられる。
【0020】上記無機微粒子担体[C]1gに対するメ
タロセン化合物[A]の使用量は、第4b族原子で0.
005〜1mmol、好ましくは0.05〜0.5mm
olの割合が望ましい。また、メタロセン化合物[A]に
対するアルミノキサン化合物[B]の使用量は、Al原子
のモル量に換算して、成分[A]中の第4b族原子1モル
に対して、1〜200モルであり、好ましくは15〜1
50モルである。
【0021】本発明に於いては、上記[A]、[B]及
び[C]の各成分の存在下に、先ず、オレフィンの予備
重合が行なわれる。
【0022】予備重合で用いる上記の各成分は一成分ず
つ逐次添加してもよく、混合したものを一括添加しても
よい。また、このときに[B]以外の有機アルミニウム
化合物を重合系内の不純物を取り除くために添加するこ
とも可能である。好ましくは、触媒成分[C]に成分
[A]及び[B]をあらかじめ接触させる方法が採用さ
れる。より好ましくは、触媒成分[C]に成分[B]を
担持せしめた後、成分[A]を担持せしめる方法がより
高活性で高い嵩比重のオレフィン重合体を得るために有
効である。
【0023】予備重合触媒の調製で用いられるオレフィ
ンとしては、エチレン、プロピレン、1−ブテン、1−
ペンテン、3−メチル−1−ブテン、1−ヘキセン、4
−メチル−1−ペンテン、4,4−ジメチル−1−ペン
テン、1−ヘプテン、4−メチル−1−ヘキセン、4,
4−ジメチル−1−ヘキセン、3−エチル−1−ヘキセ
ン、4−エチル−1−ヘキセン、1−オクテン、1−デ
セン、1−ドデセン、1−テトラデセン、1−ヘキサデ
セン、1−オクタデセン、1−エイコセン等のα−オレ
フィン;シクロペンテン、シクロヘプテン、ノルボルネ
ン、5−メチル−2−ノルボルネン、テトラシクロドデ
セン、2−メチル−1,4,5,8−ジメタノ−1,
2,3,4,4a,5,8,8a−オクタヒドロナフタ
レン等の環状オレフィンが挙げられる。さらにスチレ
ン、ジメチルスチレン類、アリルノルボルナン、アリル
ベンゼン、アリルナフタレン、アリルトルエン類、ビニ
ルシクロペンタン、ビニルシクロヘキサン、ビニルシク
ロペプタン、ジエンなどを用いることもできる。好まし
くは、エチレン、プロピレン、1−ブテン、1−ペンテ
ン、3−メチル−1−ブテン、1−ヘキセン、4−メチ
ル−1−ペンテン、4,4−ジメチル−1−ペンテン、
1−ヘプテン、4−メチル−1−ヘキセン、4,4−ジ
メチル−1−ヘキセン、3−エチル−1−ヘキセン、4
−エチル−1−ヘキセン、1−オクテン、1−デセン、
シクロペンテン、ビニルシクロヘキサンであり、特に好
ましくは、エチレン、プロピレン、1−ブテン、1−ヘ
プテン、3−メチル−1−ブテン、1−ヘキセン、4−
メチル−1−ペンテンである。予備重合はオレフィンが
95モル%以上の実質的に単独重合を行なうことが好ま
しい。
【0024】本発明の予備重合で最初に施こされるオレ
フィンの重合量は、触媒成分[A]、[B]及び[C]
から形成される触媒1g当り0.1〜1000g、好ま
しくは1〜50gの範囲から選べぱよい。
【0025】上記予備重合は通常スラリー重合を適用さ
せるのが好ましく、溶媒として、ヘキサン,ヘプタン,
シクロヘキサン,ベンゼン,トルエンなどの飽和脂肪族
炭化水素若しくは芳香族炭化水素を単独で、又はこれら
の混合溶媒を用いることができる。
【0026】また、予備重合温度は、−20〜100
℃、特に0〜60℃の温度が好ましい。予備重合時間
は、予備重合温度及び予備重合での重合量に応じ適宜決
定すれぱ良く、予備重合における圧力は、限定されるも
のではないが、スラリー重合の場合は、一般に大気圧〜
5kg/cm2程度である。各予備重合は、回分,半回
分,連続のいずれの方法で行ってもよい。
【0027】各予備重合終了後には,ヘキサン,ヘプタ
ン,シクロヘキサン,ベンゼン,トルエン等の飽和脂肪
族炭化水素若しくは芳香族炭化水素を単独で、またはこ
れらの混合溶媒で洗浄することが好ましく、洗浄回数は
通常の場合5〜6回が好ましい。
【0028】プロピレンの予備重合を施こして得られた
固体成分は、次いでアルミノキサン化合物もしくは非配
位性イオン化合物との接触処理が行なわれる。
【0029】本発明に於いては、上記のように、予備重
合の後にかかる接触処理を行うことが重要であり、先
ず、プロピレンを予備重合し、次いで、得られた固体成
分に対してアルミノキサン化合物もしくは非配位性イオ
ン化合物による接触処理を行なうことが必須である。
【0030】従って、その逆の、先ずアルミノキサン化
合物もしくは非配位性イオン化合物による接触処理を行
い、次いでプロピレンを予備重合した場合は本発明の効
果は得られない。
【0031】上記接触処理に用いられるアルミノキサン
化合物は前述の予備重合で用いた、前記一般式(2)ま
たは(3)で表されるアルミニウム化合物が特に制限無
く使用できる。
【0032】上記一般式において、Rは、炭素数が1〜
6、好ましくは1〜4のアルキル基であり、メチル基、
エチル基、プロピル基、ブチル基、イソブチル基が挙げ
られる。これらのうち特に好ましいのはメチル基であ
り、一部炭素数2〜6のアルキル基を含んでいてもよ
い。mは、4〜100の整数であり、好ましくは、6〜
80、特に好ましくは10〜60である。
【0033】また、非配位性イオン性化合物は、一般式
(4)で表される化合物である。
【0034】 (MX1234(n-m)-・C(n-m)+ (4) 上記一般式中、Mは、周期律表で示される第3A族から
の原子、X1、X2、X3、X4は、それぞれ水素原子、ジ
アルキルアミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、
炭素数1〜20のアルキル基、炭素数6〜20のアリー
ル基、アルキルアリール基、アリールアルキル基、置換
アルキル基、ハロゲン置換アリール基、有機メタロイド
基または、ハロゲン原子を示す。Cは、カルボニウム、
アンモニウム等のカウンターカチオンを示す。mは、M
の原子価で1〜7の整数、nは、2〜8の整数である。
【0035】具体的にこれらの化合物を例示すると、ト
リエチルアンモニウムテトラキス(ペンタフルオロフェ
ニル)ボレート、トリn−ブチルアンモニウムテトラキ
ス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、トリフェニル
アンモニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボ
レート、メチルアニリニウムテトラキス(ペンタフルオ
ロフェニル)ボレート、ジメチルアニリウムテトラキス
(ペンタフルオロフェニル)ボレート、トリメチルアニ
リウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレー
ト、トリn−ブチルボラン、トリフェニルボラン、トリ
フェニルカルボニウムテトラキス(ペンタフルオロフェ
ニル)ボラン、トリス(ペンタフルオロフェニル)ボラ
ン等が挙げられる。中でも、トリフェニルカルボニウム
テトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボラン、トリス
(ペンタフルオロフェニル)ボラン、ジメチルアニリウ
ムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレートが好
適に用いられる。
【0036】本発明の接触処理において、アルミノキサ
ン化合物もしくは非配位性イオン化合物の使用量は任意
であるが、アルミノキサン類を用いた場合の使用量(ア
ルミノキサン化合物中のAl原子のモル量)は、成分
[A]中の第4b族原子1モルに対して、0.1〜10
0,000モルであり、好ましくは1〜50,000モ
ルである。さらに好ましくは10〜30,000モルで
ある。
【0037】また、非配位性イオン化合物を用いた場合
の使用量(非配位性イオン化合物中の、第5A族原子の
モル量)は、成分[A]中の第4b族原子1モルに対し
て、0.01〜10,000モルであり、好ましくは
0.1〜5,000モルである。さらに好ましくは1〜
3,000モルである。
【0038】本発明において、接触処理は通常、溶媒中
にアルミノキサン化合物もしくは非配位性イオン化合物
を存在せしめ、これに前記固体成分を分散させて接触さ
せる、スラリー法を適用するのが好ましい。上記溶媒と
しては、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン、ベンゼ
ン、トルエンなどの飽和脂肪族炭化水素若しくは芳香族
炭化水素を単独で、又はこれらの混合溶媒を用いること
ができる。また、接触処理温度は、−20〜100℃、
特に0〜60℃の温度が好ましい。接触処理時間は接触
処理温度に応じ適宜決定すれぱ良く、好ましくは5〜2
40分である。さらに好ましくは30〜120分であ
る。
【0039】接触処理は、回分,半回分,連続のいずれ
の方法で行ってもよい.接触処理終了後には,ヘキサ
ン,ヘプタン,シクロヘキサン,ベンゼン,トルエン等
の飽和脂肪族炭化水素若しくは芳香族炭化水素を単独
で、またはこれらの混合溶媒で過剰の処理剤を洗浄する
ことが好ましく、洗浄回数は通常の場合5〜6回が好ま
しい。
【0040】本発明のオレフィン重合触媒は、上記方法
によって接触処理された固体成分よりなる予備重合触媒
と[D]の有機アルミニウム化合物とよりなる。
【0041】上記有機アルミニウム化合物[D]は、下
記の一般式(5)で表わされる化合物である。
【0042】AlRm3-m (5) 上記一般式中、Rは、炭素数1〜10のアルキル基、ア
リール基等の炭化水素基またはアルコキシ基を示す。X
はハロゲン原子を示す。mはAlの原子価で1〜3の整
数である。
【0043】かかる一般式で表わされる化合物として具
体的には、トリメチルアルミニウム、トリエチルアルミ
ニウム、トリn−プロピルアルミニウム、トリイソプロ
ピルアルミニウム、トリn−ブチルアルミニウム、トリ
イソブチルアルミニウムトリn−ヘキシルアルミニウ
ム、トリn−オクチルアルミニウム、トリn−デシルア
ルミニウム等のトリアルキルアルミニウム類、ジエチル
アルミニウムモノクロライド、ジエチルアルミニウムモ
ノブロマイド、ジエチルアルミニウムモノフルオライド
等のジアルキルアルミニウムモノハライド類、メチルア
ルミニウムセスキクロライド、エチルアルミニウムセス
キクロライド、エチルアルミニウムジクロライド類のア
ルキルアルミニウムハライド類、ジエチルアルミニウム
モノエトキシド、エチルアルミニウムジエトキシド等の
アルコキシアルミニウム類が挙げられる。中でも、トリ
メチルアルミニウム、トリエチルアルミニウム、トリイ
ソブチルアルミニウム等のトリアルキルアルミニウムが
好適に用いられる。
【0044】該成分[D]の使用量は、特に制限されな
いが、一般には、成分[A]中の第4b族原子1モルに
対して、1〜50,000モルであり、好ましくは5〜
10,000モルである。さらに好ましくは10〜5,
000モルである。
【0045】本発明のオレフィン重合触媒の存在下に、
オレフィンの重合が行われる。
【0046】かかるオレフィン重合触媒を使用すること
以外の重合条件は、本発明の効果が認められる限り、特
に制限はされないが、一般には次の条件が好ましい。
【0047】重合温度は、0〜100℃、好ましくは、
20〜80℃の範囲から採用することが好適である。分
子量調節剤として水素を共存させることもできる。ま
た、重合は重合に用いるモノマー自身を溶媒とするスラ
リー重合,気相重合,溶液重合等のいずれの方法でもよ
い。重合形式は、回分式,半回分式,連続式の何れの方
法でもよく、更に重合を条件の異なる2段以上に分けて
行うこともできる.本重合の終了後には、重合系からモ
ノマーを蒸発させ粒子状ポリマーを得ることができる。
【0048】本発明の本重合に用いられるオレフィン
は、エチレン、プロピレン、1−ブテン、3−メチル−
1−ブテン、4−メチル−1−ペンテン、1−へキセ
ン、1−オクテン、1−デセンあるいはこれらの誘導体
等が挙げられる。また、重合はオレフィンの単独重合の
ほかランダム共重合やブロック共重合にも好適である。
【0049】
【発明の効果】以上の説明より、理解されるように、本
発明によるオレフィン重合用触媒を使用してオレフィン
を重合することにより、高活性で粒子性状に優れたポリ
オレフィンを製造することができる。
【0050】
【実施例】以下に実施例により本発明を詳細に説明する
が、本発明はこれらの実施例に限定されるものではな
い。
【0051】尚、以下の実施例及び比較例において得ら
れた重合体の諸物性の測定方法は次のとおりである。
【0052】(1)メルトフローレート(MFRと略
す) ASTM D1238に準拠した。
【0053】(2)嵩比重 ASTM D1895に準拠した。
【0054】(3)安息角 「粉体物性測定法」(早川宗八郎著)97頁によった。
即ち、底部中央に直径10mmの出口を有する内径68
mm,高さ48mmの円筒容器内に、該円筒容器上50
mmの高さに設けたロートよりポリマーを落とし、該円
筒容器を充てんした後、出口を開放して静止状態のポリ
マーを流出させ、容器内に残留した粉体層の傾斜を安息
角として測定した。
【0055】(4)粒度分布 目開き75,125,250,355,500,71
0,1180μmのふるいに、ポリマー約5gを装填し
ふるい振とう機に10分かけて分級した。
【0056】実施例1 [担持メタロセン触媒の調製]シリカゲル担持メチルア
ルミノキサン(MAO on SiO2、ウィットコ社
製、25wt%−Al品)10gにrac−ジメチルシ
リレンビス−1−(2−メチル−ベンズインデニル)ジ
ルコニウムジクロリドのトルエン溶液100ml(0.
005mmol/mlトルエン溶液)を加え、室温で3
0分間撹拌した。次にその反応混合物を濾過し、得られ
た固体をトルエン50mlで2回洗浄後、減圧下乾燥さ
せることによりシリカゲルに担持されたメタロセン触媒
(以下、担持メタロセン触媒という。)を得た。担持メ
タロセン触媒1g当たり0.045mmolのメタロセ
ンが担持されていた。
【0057】[予備重合]N2置換を施した1lオート
クレーブ中に精製ヘプタン200ml,トリイソブチル
アルミニウム50mmol,及びメタロセン触媒成分を
Zr原子換算で5mmol装入した後、プロピレンを担
持メタロセン触媒成分lgに対し5gとなるように1時
間連続的に反応器に導入し予備重合を施した。なお、こ
の間の温度は15℃に保持した。1時間後プロピレンの
導入を停止し、反応器内をN2で充分に置換した。得ら
れたスラリーの固体成分を精製ヘプタンで6回洗浄し
た。
【0058】[接触処理]N2置換を施した1lオート
クレーブ中に精製ヘプタン200ml、及び前記の固体
成分を担持メタロセン触媒成分で50g装入した後、メ
チルアルミノキサンを50mmol反応器に導入し接触
処理を施した。なお、この間の温度は15℃に保持し
た。1時間後、得られたスラリーの固体成分を精製ヘプ
タンで6回洗浄して予備重合触媒を得た。
【0059】[本重合]内容積2m3の重合槽にプロピ
レンを600kg挿入し、トリイソブチルアルミニウム
612mmolを導入し、重合槽の内温を55℃に昇温
した。次いで、前記の接触処理によって得られた予備重
合触媒を、担持メタロセン触媒として20gとなるよう
に装入した。続いてオートクレーブの内温を60℃まで
昇温し2時間重合を行った。重合終了後、未反応のプロ
ピレンをパージし、70℃で1時間乾燥を行うことによ
り白色顆粒状の重合体198kgを得た。
【0060】結果を表1に示す。
【0061】実施例2、3 実施例1の担持メタロセン触媒の調製において、rac
−ジメチルシリレンビス−1−(2−メチル−ベンズイ
ンデニル)ジルコニウムジクロリドの代わりにrac−
ジフェニルシリレンビス−1−(2−メチル−ベンズイ
ンデニル)ジルコニウムジクロリド(実施例2)、ra
c−ジメチルシリレンビス−1−(2−メチル−インデ
ニル)ジルコニウムジクロリド(実施例3)を使用した
以外は実施例1と同様の操作を行った。結果を表1に示
した。
【0062】実施例4、5 実施例1の接触処理に於いて、メチルアルミノキサンの
代わりにトリフェニルカルボニウムテトラキス(ペンタ
フルオロフェニル)ボラン(実施例4)、ジメチルアニ
リウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート
(実施例5)を使用した以外は、実施例1と同様に行っ
た。結果を表1に示した。
【0063】実施例6、7 実施例1の予備重合に於いて、プロピレンの重合量を表
1に示したように行った以外は、実施例1と同様に行っ
た。結果を表1に示した。
【0064】比較例1 実施例1に於いて予備重合を施こした後、接触処理を行
なわなかった以外は実施例1と同様の操作を行った。結
果を表1に示した。
【0065】比較例2 実施例1において予備重合を行なわなかった以外は実施
例1と同様の操作を行った。結果を表1に示した。
【0066】比較例3 実施例1において、先ず接触処理を行ない、次いでプロ
ピレンの予備重合を行なった以外は実施例1と同様の操
作を行った。結果を表1に示した。
【0067】比較例4,5 実施例1において予備重合を施した後接触処理を行わず
に、本重合時にメチルアルミノキサン500mmol
(比較例4)、トリフェニルカルボニウムテトラキス
(ペンタフルオロフェニル)ボラン500mmol(比
較例5)を重合槽に導入した以外は実施例1と同様の操
作を行った。得られた重合体は、微粉及び重合体粒子同
士が互着した粗粒の多いものであった。結果を表1に示
した。
【0068】
【表1】
【図面の簡単な説明】
【図1】図1は本発明のオレフィン重合用触媒の代表的
な調製方法と、該触媒を使用した重合手段を示すフロー
チャートである。

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】(1)下記成分からなる触媒成分の存在下
    にオレフィンを予備重合して得られた固体成分を、アル
    ミノキサン化合物もしくは非配位性イオン化合物と接触
    処理して得られた予備重合触媒と [A]メタロセン化合物 [B]アルミノキサン化合物 [C]無機微粒子担体 (2)[D]有機アルミニウム化合物とからなるオレフィ
    ン重合用触媒。
  2. 【請求項2】請求項1に記載されたオレフィン重合用触
    媒の存在下で、オレフィンを重合または共重合させるこ
    とを特徴とするポリオレフィンの製造方法。
JP36664898A 1997-12-26 1998-12-24 オレフィン重合用触媒およびポリオレフィンの製造方法 Pending JPH11240912A (ja)

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