JPH11240864A - プラスチック光学材料用スチレン系重合体及びその原料 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 耐熱性、染色性及び比重などの物性を良好に
維持しつつ、屈折率及びアッベ数が高く、かつ優れた耐
衝撃性を発揮できるプラスチック光学材料用スチレン系
重合体及びその原料を提供する。 【解決手段】 新規なスチレン系単量体は、下記一般式
（１）で表される。 【化１】 （但し、式中Ｒはチオエ−テル結合を含む総炭素数２〜
１１のアルキレン基、Ｘは水素原子又はメチル基であ
る。） この一般式（１）におけるＲが、下記一般式（２）で表
されるアルキレン基であることが望ましい。 −（ＣＨ₂ ＣＨ₂ Ｓ）_m −（ＣＨ₂ ）_n − ・・・（２） （但し、式中ｍ及びｎはそれぞれ１〜５の整数であ
る。） スチレン系単量体組成物は、上記スチレン系単量体と、
ビニル基を有する単量体とよりなる。プラスチック光学
材料用スチレン系重合体は、スチレン系単量体又はスチ
レン系単量体組成物を、加熱硬化法又は活性エネルギ−
線硬化法により重合して得られるものである。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】この発明は、眼鏡用プラスチ
ックレンズ、カメラレンズ、光学素子などの原料として
好適に使用されるスチレン系単量体、スチレン系単量体
組成物及び耐衝撃性に優れ、かつ屈折率の高いプラスチ
ック光学材料用スチレン系重合体に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】近年、眼鏡レンズの分野においては、無
機ガラスに代わって有機ガラスが広く用いられている。
有機ガラスが用いられる理由は、有機ガラスが耐衝撃
性、軽量性、成形性及び染色性に優れているからであ
る。

【０００３】このような有機ガラスを形成する重合体と
しては、ポリメチルメタクリレ−ト、ポリジエチレング
リコ−ルビスアリルカ−ボネ−ト、ポリスチレンなどが
挙げられる。

【０００４】また、特公平２−５１４８１号公報には、
下記一般式（５）で表されるチオエ−テル結合を有する
スチレンの重合体が開示されている。

【０００５】

【化４】

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】ところが、前記従来の
ポリメチルメタクリレ−トは、色収差の程度を示すアッ
ベ数が５８と大きく優れているものの、屈折率が１．４
９程度と低い。このため、強度の近視のためのレンズを
作製する場合、レンズのコバを厚くしなければならない
という問題があった。

【０００７】また、ポリジエチレングリコ−ルビスアリ
ルカ−ボネ−トは、耐衝撃性に優れ、さらにアッベ数も
５８と大きい。しかし、比重が１．３３程度と比較的大
きく、またポリメチルメタクリレ−トと同様に屈折率が
１．４９程度と低い。このため、強度の近視のためのレ
ンズを作製する場合、レンズのコバを厚くしなければな
らないという問題があった。

【０００８】さらに、ポリスチレンは屈折率が１．５９
と高く優れているが、耐衝撃性に劣っている。しかも、
耐熱性、染色性及びハ−ドコ−ト皮膜の密着性にも劣る
という問題があった。

【０００９】加えて、特公平２−５１４８１号公報に開
示されているスチレンの重合体は、その性質によりポリ
スチレンと同様に耐衝撃性が低く、また極性が弱いため
染料が吸着されにくく、染色性に劣るという問題があっ
た。

【００１０】この発明は、上記のような従来技術に存在
する問題点に着目してなされたものである。その目的と
するところは、耐熱性、染色性及び比重などの物性を良
好に維持しつつ、屈折率及びアッベ数が高く、かつ優れ
た耐衝撃性を発揮できるプラスチック光学材料用スチレ
ン系重合体及びその原料となるスチレン系単量体、スチ
レン系単量体組成物を提供することにある。

【００１１】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、第１の発明のスチレン系単量体は、下記一般式
（１）で表されるものである。

【００１２】

【化５】 （但し、式中Ｒはチオエ−テル結合を含む総炭素数２〜
１１のアルキレン基、Ｘは水素原子又はメチル基であ
る。） また、第２の発明のスチレン系単量体は、第１の発明に
おいて、前記一般式（１）におけるＲが、下記一般式
（２）で表されるアルキレン基である。

【００１３】 −（ＣＨ₂ ＣＨ₂ Ｓ）_m −（ＣＨ₂ ）_n − ・・・（２） （但し、式中ｍ及びｎはそれぞれ１〜５の整数であ
る。）第３の発明のスチレン系単量体組成物は、第１又
は第２の発明のスチレン系単量体と、ビニル基を有する
単量体とよりなるものである。

【００１４】第４の発明のスチレン系単量体組成物は、
第３の発明において、前記ビニル基を有する単量体が、
（メタ）アクリロイル基を有する単量体である。第５の
発明のスチレン系単量体組成物は、第４の発明におい
て、前記（メタ）アクリロイル基を有する単量体が、下
記一般式（３）で表される単量体であるものである。

【００１５】

【化６】 （但し、式中Ｙは水素原子又はメチル基、Ａは炭素数２
〜６のアルキレン基、ｐは１〜２５の整数を表す。） 第６の発明のスチレン系単量体組成物は、第３の発明に
おいて、前記ビニル基を有する単量体が、下記一般式
（４）で表される単量体である。

【００１６】

【化７】 （但し、式中αは水素原子又はメチル基、βは水素原
子、塩素原子、臭素原子、炭素数１〜６のアルキル基又
はビニル基を表す。） 第７の発明のプラスチック光学材料用スチレン系重合体
は、第１若しくは第２の発明のスチレン系単量体又は第
３の発明のスチレン系単量体組成物を、加熱硬化法又は
活性エネルギ−線硬化法により重合してなるものであ
る。

【００１７】

【発明の実施の形態】以下、この発明を具体化した実施
形態について詳細に説明する。新規なスチレン系単量体
は下記一般式（１）で表される。

【００１８】

【化８】 （但し、式中Ｒはチオエ−テル結合を含む総炭素数２〜
１１のアルキレン基、Ｘは水素原子又はメチル基であ
る。） 一般式（１）中のＲは、チオエ−テル結合を含む総炭素
数２〜１１のアルキレン基であり、Ｒ中の総炭素数は３
〜７が好ましく、３〜５がさらに好ましい。総炭素数が
１１を越えると、得られるスチレン系重合体の耐熱性な
どの物性が低下する。また、総炭素数が１の場合、つま
りメチレン基の場合のスチレン系単量体は製造が困難で
ある。

【００１９】また、Ｒ中における硫黄原子数に対する炭
素原子数の割合は、大きすぎると屈折率が小さくなって
しまうために、その割合は２〜５が好ましく、２〜４が
さらに好ましく、２〜３が特に好ましい。なお、この割
合が１になるようなスチレン系単量体は製造が困難であ
る。

【００２０】この一般式（１）で表されるスチレン系単
量体は、２分子のスチレンがチオエ−テル結合を含むア
ルキレン基を介して結合した特定構造を有していること
から、重合して得られるプラスチック光学材料の屈折率
及びアッベ数を向上できる機能を備えている。また、そ
の重合体は、水素結合を介する結合構造を有するととも
に、２分子のスチレンにより架橋構造をとることから、
得られる重合体の耐衝撃性、耐熱性及び耐溶剤性が高く
なるという特徴がある。

【００２１】さらに、上記スチレン系単量体は極性基で
あるヒドロキシル基を有しているため、得られる重合体
の染色性を高めることができる機能を備えている。加え
て、スチレン系単量体は２つのベンゼン環を有している
ことから、得られる重合体の比重を小さくすることがで
きる機能を備えている。

【００２２】前記一般式（１）のＲは下記一般式（２）
で表されるものが好ましい。 −（ＣＨ₂ ＣＨ₂ Ｓ）_m −（ＣＨ₂ ）_n − ・・・（２） （但し、式中ｍ及びｎはそれぞれ１〜５の整数であ
る。） この一般式（２）で表されるものは、硫黄原子数に対す
る炭素原子数の割合が小さく、すなわち硫黄密度が高
く、得られる重合体が高屈折率のものになるとともに、
その原料としてＨＳＣＨ₂ ＣＨ₂ ＳＨやＨＳＣＨ₂ ＣＨ
₂ ＳＣＨ₂ ＣＨ₂ＳＨなどのものの入手が容易で、経済
的だからである。

【００２３】前記ｍ及びｎはそれぞれ１〜５の整数であ
り、ｍが５を越えると、得られるスチレン系重合体の耐
熱性が低下し、ｎが５を越えると、得られるスチレン系
重合体の屈折率が低くなる傾向にある。これらのｍ及び
ｎはそれぞれ１〜３が好ましく、１〜２がさらに好まし
い。

【００２４】前記一般式（１）におけるＣＨ₂ ＝ＣＸ−
基はベンゼン環に対して、オルト位、メタ位及びパラ位
のいずれの位置に結合していてもよいが、生成の容易性
から通常メタ又はパラ位であるのが好ましい。

【００２５】一般式（１）で表されるスチレン系単量体
の代表的な化合物を例示すると、下記の化学式（６）〜
（２９）に示される化合物が挙げられるが、これらに限
定されるものではない。

【００２６】

【化９】

【００２７】

【化１０】

【００２８】

【化１１】

【００２９】

【化１２】

【００３０】

【化１３】

【００３１】

【化１４】

【００３２】

【化１５】

【００３３】

【化１６】

【００３４】

【化１７】

【００３５】

【化１８】

【００３６】

【化１９】

【００３７】

【化２０】

【００３８】

【化２１】

【００３９】

【化２２】

【００４０】

【化２３】

【００４１】

【化２４】

【００４２】

【化２５】

【００４３】

【化２６】

【００４４】

【化２７】

【００４５】

【化２８】

【００４６】

【化２９】

【００４７】

【化３０】

【００４８】

【化３１】

【００４９】

【化３２】 前記一般式（１）で表されるスチレン系単量体は前述の
ように新規化合物であり、その合成方法は、ジメルカプ
ト化合物の一つのメルカプト基と、ビニル（又はイソプ
ロペニル）ベンジルハロゲン体とを、触媒存在下に反応
させ、さらに１，３−ジクロロ−２−プロパノ−ルまた
は１−クロロ−２，３−エポキシプロパンと触媒存在下
に反応させるものである。その触媒としては、トリエチ
ルアミン、トリブチルアミン、イミダゾ−ル、１，８−
ジアザビシクロ［５．４．０］ウンデカ−７−エン（Ｄ
ＢＵ）、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸カリ
ウム、水素化ナトリウム等が使用される。

【００５０】また、スチレン系単量体組成物は、前記ス
チレン系単量体とビニル基を有する単量体とからなる混
合物である。このビニル基を有する単量体としては、例
えば（メタ）アクリロイル基を有する単量体の場合、ア
ッベ数を高めたり、耐衝撃性を向上させるために使用さ
れる。

【００５１】ちなみに、前記一般式（１）のスチレン系
単量体は、一般式（１）中の硫黄原子（Ｓ）が酸素原子
（Ｏ）に置換されたスチレン系単量体より、得られるス
チレン系重合体からなるプラスチック光学材料の屈折率
が高くなる。

【００５２】次に、新規なプラスチック光学材料用スチ
レン系重合体は、前記一般式（１）で表されるスチレン
系単量体又は前記スチレン系単量体組成物を重合するこ
とにより得られる。すなわち、このスチレン系重合体
は、スチレン系単量体の単独重合体ないし二種以上選択
したスチレン系単量体の共重合体、又は一種若しくは二
種以上のスチレン系単量体と一種若しくは二種以上のビ
ニル基を有する単量体とを共重合したものである。

【００５３】第３の発明における他の共重合可能なビニ
ル基を有する単量体としては、アッベ数を高めるのに有
効な下記一般式（３）で表される単量体が好ましい。

【００５４】

【化３３】 （但し、式中Ｙは水素原子又はメチル基、Ａは炭素数２
〜６のアルキレン基、ｐは１〜２５の整数を表す。） この一般式（３）で表される単量体中のＡの炭素数が１
又は６を越えると、得られる重合体よりなるプラスチッ
ク光学材料の屈折率が低くなってしまう。また、ｐが２
５を越えると得られる重合体の耐熱性が低下する。

【００５５】そのような単量体としては、例えば、エチ
レングリコ−ルジメタクリレ−ト、ジエチレングリコ−
ルジメタクリレ−ト、トリエチレングリコ−ルジメタク
リレ−ト、テトラエチレングリコ−ルジメタクリレ−
ト、ペンタエチレングリコ−ルジメタクリレ−ト、ヘキ
サエチレングリコ−ルジメタクリレ−ト、ヘプタエチレ
ングリコ−ルジメタクリレ−ト、オクタエチレングリコ
−ルジメタクリレ−ト、ノナエチレングリコ−ルジメタ
クリレ−ト、デカエチレングリコ−ルジメタクリレ−
ト、テトラデカエチレングリコ−ルジメタクリレ−ト、
トリコサエチレングリコ−ルジメタクリレ−ト、１，２
−プロピレングリコ−ルジメタクリレ−ト、１，３−プ
ロピレングリコ−ルジメタクリレ−ト、１，３−ブチレ
ングリコ−ルジメタクリレ−ト、１，４−ブチレングリ
コ−ルジメタクリレ−ト、１，６−ヘキサンジオ−ルジ
メタクリレ−ト、ネオペンチルグリコ−ルジメタクリレ
−ト、ヘプタプロピレングリコ−ルジメタクリレ−ト、
エチレングリコ−ルジアクリレ−ト、ヘキサエチレング
リコ−ルジアクリレ−ト、ノナエチレングリコ−ルジア
クリレ−ト、テトラデカエチレングリコ−ルジアクリレ
−ト、トリプロピレングリコ−ルジアクリレ−ト、ヘプ
タプロピレングリコ−ルジアクリレ−ト、ドデカプロピ
レングリコ−ルジアクリレ−ト等が挙げられる。

【００５６】また、ビニル基を有する単量体としては、
屈折率とアッベ数を高めるのに有効な下記の一般式（３
０）で表される単量体が好ましい。

【００５７】

【化３４】 （但し、式中Ｙは水素原子またはメチル基を表す。Ｂは
炭素数２〜６のアルキレン基を表す。ａは水素原子、塩
素原子又は臭素原子である。ｑは１〜２０の整数であ
る。Ｚは炭素数１〜１０のアルキレン基、酸素原子、ス
ルフォキシド基またはスルフォン基である。） そのような単量体としては、例えば、２，２−ビス［４
−（メタクリロイルオキシ）フェニル］プロパン、２，
２−ビス［４−（メタクリロイルオキシエトキシ）フェ
ニル］プロパン、２，２−ビス［４−（メタクリロイル
オキシジエトキシ）フェニル］プロパン、２，２−ビス
［４−（メタクリロイルオキシトリエトキシ）フェニ
ル］プロパン、２，２−ビス［４−（メタクリロイルオ
キシテトラエトキシ）フェニル］プロパン、２，２−ビ
ス［４−（メタクリロイルオキシペンタエトキシ）フェ
ニル］プロパン、２，２−ビス［４−（メタクリロイル
オキシヘキサエトキシ）フェニル］プロパン、２，２−
ビス［４−（メタクリロイルオキシデカエトキシ）フェ
ニル］プロパン、２，２−ビス［４−（メタクリロイル
オキシペンタデカエトキシ）フェニル］プロパン、２，
２−ビス［４−（アクリロイルオキシジエトキシ）フェ
ニル］プロパン、２，２−ビス［４−（アクリロイルオ
キシエトキシ）フェニル］プロパン、１，１−ビス［４
−（メタクリロイルオキシジエトキシ）フェニル］シク
ロヘキサン、ビス［４−（メタクリロイルオキシ）フェ
ニル］エ−テル、ビス［４−（メタクリロイルオキシ）
フェニル］スルフォン、２，２−ビス［４−［（メタ）
アクリロイルオキシプロピルオキシ］フェニル］プロパ
ン、２，２−ビス［４−［（メタ）アクリロイルオキシ
ヘキシルオキシ］フェニル］プロパン、２，２−ビス
［４−（メタクリロイルオキシエトキシ）３，５−ジブ
ロモフェニル］プロパン等が挙げられる。

【００５８】また、ビニル基を有する単量体としては、
屈折率とアッベ数を高めるのに有効な下記の一般式（３
１）で表される単量体が好ましい。

【００５９】

【化３５】 （但し、式中Ｙは水素原子またはメチル基を表す。Ｄは
炭素数２〜６のアルキレン基を表す。ｂは水素原子、塩
素原子又は臭素原子である。ｒは１〜２０の整数であ
る。Ｚは炭素数１〜１０のアルキレン基、酸素原子、ス
ルフォキシド基またはスルフォン基である。） そのような単量体としては、例えば、２，２−ビス［４
−（メタクリロイルオキシエトキシカルボニルオキシ）
フェニル］プロパン、２，２−ビス［４−（メタクリロ
イルオキシジエトキシカルボニルオキシ）フェニル］プ
ロパン、２，２−ビス［４−（メタクリロイルオキシト
リエトキシカルボニルオキシ）フェニル］プロパン、
２，２−ビス［４−（メタクリロイルオキシテトラエト
キシカルボニルオキシ）フェニル］プロパン、２，２−
ビス［４−（メタクリロイルオキシペンタエトキシカル
ボニルオキシ）フェニル］プロパン、２，２−ビス［４
−（メタクリロイルオキシヘキサエトキシカルボニルオ
キシ）フェニル］プロパン、２，２−ビス［４−（メタ
クリロイルオキシデカエトキシカルボニルオキシ）フェ
ニル］プロパン、２，２−ビス［４−（メタクリロイル
オキシペンタデカエトキシカルボニルオキシ）フェニ
ル］プロパン、２，２−ビス［４−（メタクリロイルオ
キシブトキシカルボニルオキシ）フェニル］プロパン、
２，２−ビス［４−（アクリロイルオキシエトキシカル
ボニルオキシ）フェニル］プロパン、ビス［４−（アク
リロイルオキシトリヘキシルオキシカルボニルオキシ）
フェニル］エ−テル、２，２−ビス［４−（メタクリロ
イルオキシエトキシカルボニルオキシ）−３，５−ジブ
ロモフェニル］プロパン等が挙げられる。

【００６０】また、ビニル基を有する単量体としては、
アッベ数を高めるのに有効な下記の一般式（３２）で表
される単量体が好ましい。

【００６１】

【化３６】 （但し、式中Ｙは水素原子、またはメチル基を表す。Ｅ
は炭素数２〜６のアルキレン基を表す。ｔは０〜２５の
整数である。Ｇはハロゲン原子で置換されていてもよい
フェニル基、ベンジル基、炭素数１〜６のアルキル基を
表す。） そのような単量体としては、例えば、メチルメタクリレ
−ト、エチルメタクリレ−ト、イソプロピルメタクリレ
−ト、ヘキシルメタクリレ−ト、（メトキシジエチレン
グリコ−ル）モノメタクリレ−ト、（メトキシテトラエ
チレングリコ−ル）モノメタクリレ−ト、（メトキシノ
ナエチレングリコ−ル）モノメタクリレ−ト、（メトキ
シペンタデカエチレングリコ−ル）モノメタクリレ−
ト、（メトキシトリコサエチレングリコ−ル）モノメタ
クリレ−ト、（メトキシエチレングリコ−ル）モノアク
リレ−ト、（メトキシジエチレングリコ−ル）モノアク
リレ−ト、（メトキシテトラエチレングリコ−ル）モノ
アクリレ−ト、（メトキシデカエチレングリコ−ル）モ
ノアクリレ−ト、（メトキシドデカエチレングリコ−
ル）モノアクリレ−ト、（メトキシヘキサデカエチレン
グリコ−ル）モノアクリレ−ト、フェニルメタクリレ−
ト、ベンジルメタクリレ−ト、フェニルアクリレ−ト、
ベンジルアクリレ−ト、フェノキシエチルメタクリレ−
ト、フェノキシジエチレングリコ−ルメタクリレ−ト、
フェノキシエチルアクリレ−ト、（フェノキシジエチレ
ングリコ−ル）モノアクリレ−ト、（フェノキシノナエ
チレングリコ−ル）モノアクリレ−ト、（フェノキシペ
ンタデカエチレングリコ−ル）モノメタクリレ−ト、フ
ェノキシプロピルメタクリレ−ト、フェノキシヘキシル
メタクリレ−ト、２−（２，４，６−トリブロモフェニ
ルオキシ）エチルアクリレ−ト、２，４，６−トリブロ
モフェニルメタクリレ−ト等が挙げられる。

【００６２】また、ビニル基を有する単量体としては、
アッベ数を高めるのに有効な下記の一般式（３３）で表
される単量体が好ましい。

【００６３】

【化３７】 （但し、式中Ｙは水素原子又はメチル基を表す。Ｊは炭
素数２〜６のアルキレン基を表す。ｕは０〜１０の整数
である。Ｋは炭素数１〜６のアルキレン基を表す。ｖは
３または４である。ｖが３のときは、Ｌは水素原子また
は炭素数１〜６のアルキル基であり、ｖが４のときは、
Ｌはない。） そのような単量体としては、例えば、トリメチロ−ルプ
ロパントリメタクリレ−ト、トリメチロ−ルプロパント
リアクリレ−ト、テトラメチロ−ルメタンテトラメタク
リレ−ト、テトラメチロ−ルメタンテトラアクリレ−
ト、トリメチロ−ルプロパントリ（メタクリロイルエト
キシル）、トリメチロ−ルプロパントリ（アクリロイル
エトキシル）、トリメチロ−ルプロパントリ（メタクリ
ロイルジエトキシル）、トリメチロ−ルプロパントリ
（アクリロイルジエトキシル）、トリメチロ−ルプロパ
ントリ（メタクリロイルトリエトキシル）、トリメチロ
−ルプロパントリ（アクリロイルトリエトキシル）、ト
リメチロ−ルプロパントリ（メタクリロイルヘキサエト
キシル）、トリメチロ−ルプロパントリ（アクリロイル
ヘキサエトキシル）等が挙げられる。

【００６４】また、ビニル基を有する単量体としては、
屈折率を高めるのに有効である下記一般式（４）で表さ
れる単量体が好ましい。

【００６５】

【化３８】 （但し、式中αは水素原子又はメチル基、βは水素原
子、塩素原子、臭素原子、炭素数１〜６のアルキル基又
はビニル基を表す。） 一般式（４）中、βが炭素数６を越えるアルキル基の場
合、得られる重合体よりなるプラスチック光学材料の屈
折率が低下する。

【００６６】そのような単量体としては、例えば、スチ
レン、α−メチルスチレン、ｐ−メチルスチレン、ｍ−
メチルスチレン、ｐ−エチルスチレン、ｍ−エチルスチ
レン、ｐ−イソプロピルスチレン、ｍ−イソプロピルス
チレン、ｐ−（ｔ−ブチル）スチレン、ｍ−（ｔ−ブチ
ル）スチレン、ｐ−クロロスチレン、ｍ−クロロスチレ
ン、ｏ−クロロスチレン、ｐ−ブロモスチレン、ｍ−ブ
ロモスチレン、ｐ−ビニルスチレン、ｍ−ビニルスチレ
ン、α−メチル−ｐ−クロロスチレン、α−メチル−ｍ
−クロロスチレン、α−メチル−ｐ−ブロモスチレン、
α−メチル−ｍ−ブロモスチレン等が挙げられる。

【００６７】さらに、他のビニル基を有する単量体とし
ては、酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、安息香酸ビニ
ル、（メタ）アクリル酸、２−エチルヘキシル（メタ）
アクリレ−ト、グリシジル（メタ）アクリレ−ト、テト
ラヒドロフリル（メタ）アクリレ−ト、２−ヒドロキシ
エチル（メタ）アクリレ−ト、２−ヒドロキシプロピル
（メタ）アクリレ−ト、アリル（メタ）アクリレ−ト、
ｐ−クロルフェニル（メタ）アクリレ−ト、ｐ−クロル
ベンジル（メタ）アクリレ−ト、ｐ−ブロモフェニル
（メタ）アクリレ−ト、ｐ−ブロモベンジル（メタ）ア
クリレ−ト、ナフチル（メタ）アクリレ−ト、（メタ）
アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチル（メタ）アクリルア
ミド、（メタ）アクリロニトリル、２−ヒドロキシ−３
−フェノキシプロピル（メタ）アクリレ−ト、グリセリ
ンジ（メタ）アクリレ−ト、（３−アクリロイルグリセ
リン）モノメタクリレ−ト、２，２−ビス［４−［３−
［（メタ）アクリロイルオキシ］−２−［ヒドロキシプ
ロピルオキシ］］フェニル］プロパン、２，２−ビス
［４−［２−［３−［（メタ）アクリロイルオキシ］−
２−ヒドロキシプロポキシ］プロポキシ］フェニル］プ
ロパン、ビスフェノ−ルケトンジ（メタ）アクリレ−
ト、２，２−ビス［４−［３−［（メタ）アクリロイル
オキシ］−２−ヒドロキシプロポキシ］フェニル］プロ
パン、ジエチレングリコ−ルビスアリルカ−ボネ−ト、
ジイソプロピルフマレ−ト、ジイソプロピルマレ−ト、
ジアリルフマレ−ト、ジアリルマレ−ト、ジベンジルフ
マレ−ト、ジベンジルマレ−ト、ジベンジルメサコネ−
ト、無水マレイン酸、無水イタコン酸、フタル酸ジアリ
ル、イソフタル酸ジアリル、テレフタル酸ジアリル、シ
アヌル酸アリル、イソシアヌル酸アリル、ナフタレンジ
カルボン酸ジアリル、アリルメタクリレ−ト、２，９−
ジヒドロキシ−１，１０−ビス（メタクリロイルオキ
シ）−４，７−ジオキサデカン、ｐ−フェニルスチレ
ン、ジビニルビフェニル、ビニルフェノ−ル、ビニルナ
フタレン、２，４−ジフェニル−４−メチル−１−ペン
テン、ビニルカルバゾ−ル、ビニルピリジン、ビニルチ
オフェン、ビニルフラン、ｐ−（クロロメチル）スチレ
ン、ｍ−（クロロメチル）スチレン、ｐ−（ヒドロキシ
メチル）スチレン、ｍ−（ヒドロキシメチル）スチレン
等が挙げられる。これらの単量体は、単独又は混合物と
して使用される。

【００６８】第３の発明におけるビニル基を有する単量
体としては、例えば（メタ）アクリロイル基を有する単
量体と、前記一般式（４）で表される単量体との組合せ
からなるものが好ましく用いられる。

【００６９】この場合、（メタ）アクリロイル基を有す
る単量体としては、下記（Ａ）〜（Ｄ）に示される単量
体が挙げられる。 （Ａ） 前記一般式（３）で表される単量体 （Ｂ） 前記一般式（３０）で表される単量体 （Ｃ） 前記一般式（３１）で表される単量体 （Ｄ） 前記一般式（３２）で表される単量体 （Ｅ） 前記一般式（３３）で表される単量体 また、ビニル基を有する単量体が（メタ）アクリロイル
基を有する単量体であり、具体的には前記一般式（３）
で表される単量体と、一般式（３０）で表される単量体
との組合せからなるものであってもよい。

【００７０】さらに、ビニル基を有する単量体が（メ
タ）アクリロイル基を有する単量体である一般式（３）
で表される単量体と、同じく（メタ）アクリロイル基を
有する単量体である一般式（３０）で表される単量体
と、一般式（４）で表される単量体との組合せからなる
ものであってもよい。

【００７１】さらに、ビニル基を有する単量体が（メ
タ）アクリロイル基を有する単量体であり、具体的には
一般式（３）で表される単量体と、一般式（３１）で表
される単量体との組合せからなるものであってもよい。

【００７２】また、ビニル基を有する単量体が（メタ）
アクリロイル基を有する単量体である一般式（３）で表
される単量体と、同じく（メタ）アクリロイル基を有す
る単量体である一般式（３１）で表される単量体と、ビ
ニル基を有する単量体である一般式（４）で表される単
量体との組合せからなるものであってもよい。

【００７３】加えて、ビニル基を有する単量体が（メ
タ）アクリロイル基を有する単量体であり、具体的には
一般式（３）で表される単量体と、一般式（３２）で表
される単量体との組合せからなるものであってもよい。

【００７４】また、ビニル基を有する単量体が（メタ）
アクリロイル基を有する単量体である一般式（３）で表
される単量体と、同じく（メタ）アクリロイル基を有す
る単量体である一般式（３２）で表される単量体と、ビ
ニル基を有する単量体である一般式（４）で表される単
量体との組合せからなるものであってもよい。

【００７５】加えて、ビニル基を有する単量体が（メ
タ）アクリロイル基を有する単量体であり、具体的には
一般式（３）で表される単量体と、一般式（３３）で表
される単量体との組合せからなるものであってもよい。

【００７６】また、ビニル基を有する単量体が（メタ）
アクリロイル基を有する単量体である一般式（３）で表
される単量体と、同じく（メタ）アクリロイル基を有す
る単量体である一般式（３３）で表される単量体と、ビ
ニル基を有する単量体である一般式（４）で表される単
量体との組合せからなるものであってもよい。

【００７７】共重合体において、一般式（１）で表され
るスチレン系単量体と他のビニル基を有する単量体との
組成比は、所望とする光学材料に要求される光学特性、
機械的特性及び製造の際要求される重合条件等により異
なる。このため、一律には規定できないが、一般式
（１）で表されるスチレン系単量体が１０重量％以上、
好ましくは２０重量％以上となるように設定される。ス
チレン系単量体が１０重量％より少ない場合、得られる
共重合体は、屈折率及び耐衝撃性の向上効果は得られな
くなる傾向にある。

【００７８】次に、プラスチック光学材料は、通常スチ
レン系単量体若しくはスチレン系単量体組成物を重合す
ると同時に所定形状に成形することにより得られ、又は
スチレン系単量体若しくはスチレン系単量体組成物の重
合後に加工することによっても得られる。成形方法とし
ては、例えば加熱硬化法と活性エネルギ−線硬化法があ
る。加熱硬化法は、前述の単量体と重合開始剤を混合し
て単量体混合物を調製し、それを所望形状の成形凹部を
有する金型内に流し込んで加熱硬化させる方法である。

【００７９】重合に際して用いられる重合開始剤として
は、１０時間半減期温度が１２０℃以下のアゾ系重合開
始剤又は有機過酸化物が挙げられる。これらの重合開始
剤は一種又は二種以上が用いられる。この重合開始剤の
うちアゾ系重合開始剤としては、例えば２，２’−アゾ
ビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）、２，２’−
アゾビスイソブチロニトリル、２，２’−アゾビス（２
−メチロブチロニトリル）、１，１−アゾビス（シクロ
ヘキサン−１−カルボニトリル）、ジメチル２，２’−
アゾビスイソブチレ−ト等が好ましい。

【００８０】また、有機過酸化物としては、過酸化ベン
ゾイル、ジイソプロピルパ−オキシジカ−ボネ−ト、ジ
−ｎ−プロピルパ−オキシジカ−ボネ−ト、ビス（４−
ｔ−ブチルシクロヘキシル）パ−オキシジカ−ボネ−
ト、ｔ−ブチルパ−オキシイソプロピルカ−ボネ−ト、
ｔ−ブチルパ−オキシベンゾエ−ト、ｔ−ブチルパ−オ
キシ−２−エチルヘキサノエ−ト、ｔ−ブチルパ−オキ
シネオデカノエ−ト、ジ−ｔ−ブチルパ−オキサイド、
１，１−ビス（ｔ−ブチル）パ−オキシ−３，３，５−
トリメチルシクロヘキサン等が好ましい。

【００８１】この重合開始剤の使用量は、単量体又は単
量体組成物中０．０５〜５重量％が好適で、０．１〜４
重量％がさらに好適である。この使用量が０．０５重量
％未満の場合は単量体の硬化が不十分で、得られる成形
物の物性が低下し、５重量％を越える場合は硬化反応の
制御が困難となり、成形物表面にクラックが生じ易くな
るので好ましくない。

【００８２】また、硬化反応時には、酸素による硬化速
度の低下や成形物の着色を防ぐため、不活性ガス例えば
窒素、ヘリウム、二酸化炭素等で置換もしくはその雰囲
気下で行うことが望ましい。硬化温度及び硬化時間は、
使用する硬化剤により異なるが、２０〜１３０℃の範囲
で５〜４８時間とするのが好ましい。硬化時間の短縮、
硬化反応の完結及び未反応の硬化剤の分解処理を目的と
して適時昇温することができる。例えば、使用する硬化
剤の１０時間半減期温度より約３０℃低い温度から徐々
に昇温し、最終的には１０時間半減期温度より約３０℃
高い温度で硬化を完結させる。

【００８３】このような加熱硬化により得られる成形物
には内部歪みが存在するので、好ましくは６０〜１４０
℃、さらに好ましくは１００〜１３０℃で、３０分以上
６時間未満、好ましくは１〜４時間加熱してアニーリン
グ処理を行うのが良い。また、単量体又は単量体組成物
の粘度が低い場合、あるいは硬化収縮の大きい場合に
は、予め予備重合を行った後に所望の金型内に仕込んで
硬化させることができる。

【００８４】一方、活性エネルギ−線硬化法は、単量体
と増感剤を型内に仕込み、紫外線や電子線などの活性エ
ネルギ−線を照射して硬化させる方法である。増感剤と
しては、例えばベンゾフェノン、４−フェニルベンゾフ
ェノン、４−フェノキシベンゾフェノン、２，２−ジエ
トキシアセトフェノン、２−ヒドロキシ−２−メチル−
１−フェニルプロパン−１−オン、ベンジルジメチルケ
タ−ル等が使用される。これらは単独又は混合物として
用いられる。

【００８５】増感剤の使用量は、単量体組成物中０．０
１〜１重量％が好ましく、０．０２〜０．５重量％がさ
らに好ましい。使用量が０．０１重量％未満の場合には
単量体の重合が不十分となり、得られる成形物の物性が
低下する。１重量％を越える場合は重合反応の制御が困
難となり、成形物に着色や表面クラックが生じ易くなる
ので好ましくない。

【００８６】硬化反応時には、酸素による硬化速度の低
下や成形物の着色を防ぐため、不活性ガス例えば窒素、
ヘリウム、二酸化炭素等で置換もしくはその雰囲気下で
行うことが望ましい。活性エネルギ−線としては、波長
１００〜６００ｎｍ程度の範囲のものが好ましい。ま
た、その線源としてはケミカルランプ、キセノンラン
プ、低圧水銀灯、高圧水銀灯、金属ハロゲンランプ等が
挙げられる。例えば、１０〜４００ｎｍの紫外線を５〜
５０Ｊ／ｃｍ² となるように照射して硬化させればよ
い。さらに、硬化成形物の内部歪みを除去するために、
加熱硬化法と同様のアニーリング処理を施すのが好まし
い。

【００８７】また、加熱硬化法と活性エネルギー線硬化
法を併用することができる。すなわち、単量体に重合開
始剤及び増感剤を混合し、重合開始剤による加熱予備重
合を行った後、所望の型内に仕込み、活性エネルギー線
照射による重合を行う。逆に、活性エネルギー線照射に
よる重合を行った後に、加熱重合によって重合を完結す
ることができる。

【００８８】さらに、一般式（１）で表されるスチレン
系単量体のスチレン部分を加熱硬化法で重合させる場
合、同時に一般式（１）で表される単量体の有するヒド
ロキシ基と反応する官能基を有する化合物を共存させて
も良い。そのような化合物としては、例えば、ヒドロキ
シル基とウレタン結合を形成するイソシアネ−ト化合物
が使用され、イソシアネ−ト化合物の例としては、３−
イソプロペニル−α，α−ジメチルベンジルイソシアネ
−ト、４−イソプロペニル−α，α−ジメチルベンジル
イソシアネ−ト、３−ビニルベンジルイソシアネ−ト、
ｍ−キシリレンジイソシアネ−ト、ｐ−キシリレンジイ
ソシアネ−ト、α，α，α’，α’−テトラメチル−ｍ
−キシリレンジイソシアネ−ト、ヘキサメチレンジイソ
シアネ−ト、イソホロンジイソシアネ−ト、テトラクロ
ロ−ｍ−キシリレンジイソシアネ−ト、テトラクロロ−
ｐ−キシリレンジイソシアネ−ト、ｐ−フェニレンジイ
ソシアネ−ト、ｍ−フェニレンジイソシアネ−ト、トリ
レンジイソシアネ−ト、４，４’−ジフェニルメタンジ
イソシアネ−ト、ベンジルイソシアネ−ト、フェニルイ
ソシアネ−ト、ノルボルナンジイソシアネ−ト、水添メ
タキシリレンジイソシアネ−ト、水添パラフェニレンジ
イソシアネ−ト等が挙げられる。

【００８９】そのウレタン形成条件は、重合開始剤を使
用するときの設定条件で良い。その場合、一般式（１）
で表されるスチレン系単量体とイソシアネ−ト化合物の
使用量は、イソシアネ−ト基（ＮＣＯ）／ヒドロキシル
基（ＯＨ）のモル比率が０．００１から２．０の範囲
内、好ましくは０．０１〜１．０の範囲内が反応性の点
から好ましい。

【００９０】なお、単量体組成物に必要に応じて染料、
顔料等の着色剤、紫外線吸収剤、酸化防止剤、各種安定
剤、帯電防止剤、フォトクロミック化合物、蛍光増白
剤、反応促進剤、内部離型剤、重合度調製剤（２，４−
ジフェニル−４−メチル−１−ペンテン、メルカプト化
合物等）等を添加することができる。

【００９１】前述したように、所定形状をなすプラスチ
ック光学材料は、前記単量体を加熱硬化法又は活性エネ
ルギ−線硬化法により、型内で重合すると同時に所定形
状に成形することにより得られる。あるいは、このプラ
スチック光学材料は単量体を加熱硬化法又は活性エネル
ギ−線硬化法により予備重合した後、型内でさらに重合
して所定形状に成形することにより得られる。さらに、
プラスチック光学材料は単量体を加熱硬化法又は活性エ
ネルギ−線硬化法により重合して一定形状の成形物を
得、この成形物をレンズ形状に切削研磨することにより
得られる。

【００９２】なお、プラスチック光学材料は、予めスチ
レン系単量体又はスチレン系単量体組成物を重合してス
チレン系重合体を製造し、その重合体を射出成形法、押
出成形法などの成形法により所定形状に成形することに
よっても得られる。

【００９３】また、成形物の表面にハ−ドコ−ト皮膜を
設け、表面の耐磨耗性をさらに向上させることができ
る。このハ−ドコ−ト剤の塗布は、硬化終了後の成形物
又はハ−ドコ−ト皮膜の密着性を向上させるために、プ
ライマ−液が塗布された成形物表面に対しても行われ
る。プライマ−液としては、ポリウレタンやメラミン等
の溶液が用いられる。塗布方法としては、ディッピング
法、スピンコ−ト法、フロ−コ−ト法、スプレ−法等が
採用される。

【００９４】さらに、成形物表面に反射防止膜を設け、
表面反射を抑制することによって可視光線透過率を高め
ることができる。以上のように、この実施形態によれ
ば、次のような効果が発揮される。

【００９５】・ 一般式（１）で表されるスチレン系単
量体中のＲは、硫黄原子を含む総炭素数２〜１１のアル
キレン基で構成されている。このため、スチレン系単量
体を重合して得られる重合体よりなるプラスチック光学
材料の屈折率を１．６０以上まで高めることができる。
しかも、アッベ数を高く維持できて、屈折率の分散を小
さくすることができ、色収差を抑制することができる。

【００９６】・ 一般式（１）中には水酸基が含まれて
いるため、そのスチレン系単量体より得られる重合体は
水素結合を介する結合構造をとることにより、プラスチ
ック光学材料の耐衝撃性を向上させることができる。さ
らに、一般式（１）のスチレン系単量体はスチレンと異
なり、有機基を介して２分子のスチレンが結合する２官
能性単量体であって重合により架橋構造（網目構造）を
とることから、その効果を一層高めることができる。

【００９７】・ さらに、一般式（１）のスチレン系単
量体による分子間の水素結合や架橋構造に基づき、スチ
レン系重合体の耐熱性や耐溶剤性などの物性を向上させ
ることができる。

【００９８】・ 一般式（１）のスチレン系単量体中の
水酸基とイソシアネ−ト化合物とを反応させることによ
り、ウレタン結合が形成され、その水素結合効果により
耐衝撃性をさらに向上させることができる。

【００９９】・ 一般式（１）のスチレン系単量体を重
合して得られる重合体はヒドロキシル基を有しているこ
とから、その表面の密着性に優れ、ハードコートの皮膜
の形成に有利である。

【０１００】・ 一般式（１）のスチレン系単量体を重
合して得られる重合体はヒドロキシル基を有しているこ
とから、染色性に優れ、染料によるレンズなどのプラス
チック光学材料の染色に有利である。

【０１０１】・ 一般式（１）のスチレン系単量体に
（メタ）アクリロイル基を有する単量体などのビニル基
を有する単量体を配合することにより、それらの単量体
の性質に基づいてアッベ数を高めることができる。

【０１０２】・ また、２官能性の（メタ）アクリロイ
ル基を有する単量体を使用することにより、得られる重
合体は架橋構造を有し、耐衝撃性や耐溶剤性などの物性
をより向上させることができる。

【０１０３】・ 前記一般式（４）で表わされる単量体
を使用することにより、ベンゼン環を有する単量体の性
質に基づき屈折率を高く維持することができる。

【０１０４】

【実施例】以下に、実施例及び比較例を挙げて前記実施
形態をさらに具体的に説明するが、この発明はこれら実
施例により何ら限定されるものではない。また、以下の
説明で用いる単量体の略記号を下記に示す。

【０１０５】単量体の略記号 ＭＯＮＯ−１は前記化学式（６）の化合物を示す。ＭＯ
ＮＯ−２は前記化学式（６）と（７）と（８）の混合物
を示す。

【０１０６】ＭＯＮＯ−３は前記化学式（９）と（１
０）と（１１）の混合物を示す。ＭＯＮＯ−４は前記化
学式（１９）と（２０）と（２１）の混合物を示す。Ｒ
ＥＦＥ−１は前記化学式（５）を示す。

【０１０７】ＳＴ： スチレン ＢＺ： ベンジルメタクリレ−ト ＰＡ： （フェノキシジエチレングリコ−ル）アクリレ
−ト ＭＰ： ２，２−ビス［４−（メタクリロイルオキシエ
トキシ）フェニル］プロパン ＴＰ： ２，２−ビス［４−（メタクリロイルオキシト
リエトキシ）フェニル］プロパン ＰＰ： ２，２−ビス［４−（メタクリロイルオキシペ
ンタエトキシ）フェニル］プロパン ＣＰ： ２，２−ビス［４−［２−（メタクリロイルオ
キシ）エトキシカルボニルオキシ］フェニル］プロパン ２Ｇ： （ジエチレングリコ−ル）ジメタクリレ−ト ４Ｇ： （テトラエチレングリコ−ル）ジメタクリレ−
ト ９Ｇ： （ノナエチレングリコ−ル）ジメタクリレ−ト １４Ａ：（テトラデカエチレングリコ−ル）ジアクリレ
−ト ＴＭ： トリメチロ−ルプロパントリメタクリレ−ト ＭＳ： α−メチルスチレン ＣＳ： ４−クロロスチレン ＢＲ： ２，２−ビス［４−（メタクリロイルオキシエ
トキシカルボニルオキシ）３，５−ジブロモフェニル］
プロパン ＤＶ： ジビニルベンゼン ＤＰ： ２，４−ジフェニル−４−メチル−１−ペンテ
ン ＸＣ： キシリレンジイソシアネート ＳＣ： 水添キシリレンジイソシアネート 上記単量体ＭＯＮＯ−１〜ＭＯＮＯ−４の合成を下記の
実施例で説明する。 （実施例１、ＭＯＮＯ−１の合成）窒素雰囲気下、１，
２−エタンジチオ−ル１１７ｇ（１．２４ｍｏｌ）と４
−ビニルベンジルクロライド１００ｇ（０．６５５ｍｏ
ｌ）のジクロロメタン５００ｍｌにトリエチルアミン４
００ｇ（３．９５ｍｏｌ）を加え、室温にて３時間反応
させた。

【０１０８】この反応液に無水酢酸２５０ｍｌ（２．６
５ｍｏｌ）を０℃にて加えた後、室温にて１時間反応さ
せた。反応液をヘキサンにて抽出操作し、有機層を５回
水洗して硫酸ナトリウムで脱水処理した後、減圧濃縮し
た。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィ
−（ヘキサン−ジクロロメタン ５：１）にて精製する
ことにより、１−（４−ビニルベンジルチオ）−２−
（アセチルチオ）エタンを１１９ｇ（０．４７１ｍｏ
ｌ）得た。このアセチルチオ体は、下記化学式（３４）
に示すものである。

【０１０９】

【化３９】 該アセチルチオ体１１９ｇ（０．４７１ｍｏｌ）のメタ
ノ−ル４７７ｍｌ溶液に１，３−ジクロロ−２−プロパ
ノ−ル２９．６ｇ（０．２２９ｍｏｌ）と炭酸カリウム
１３０ｇ（０．９４１ｍｏｌ）を加え、室温にて２９時
間反応させた。その反応液を酢酸エチル−水にて抽出操
作し、有機層を水洗し、硫酸ナトリウムで脱水処理した
後、減圧濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムク
ロマトグラフィ−（ジクロロメタン）にて精製すること
により、ＭＯＮＯ−１を１０６ｇ（０．２２２ｍｏｌ）
得た。 純度（液体クロマトグラフィ−）： ９９．５％ マススペクトル（ファブ法、マトリックスはニトロベン
ジルアルコ−ル） Ｍ ＋１： ４７７ 元素分析（Ｃ₂₅Ｈ₃₂ＯＳ₄ として）： Ｃ Ｈ Ｓ 測定値（％） ６２．９８ ６．７７ ２６．９０ 計算値（％） ６２．９０ ６．８２ ２６．８３ 赤外線吸収スペクトル（ｃｍ^-1、CHCl₃ ）：３５１４
（-OH ）、１６２９、１６００（CH₂ =CH-Ph- ）¹ Ｈ−核磁気共鳴スペクトル（ｐｐｍ、CDCl₃ ）：７．
３３〜７．２５（８Ｈ）、６．６９〜６．６８（２
Ｈ）、５．７８〜５．７１（２Ｈ）、５．２７〜５．２
３（２Ｈ）、３．７５〜３．６８（５Ｈ）、２．８７〜
２．５２（１３Ｈ） （実施例２、ＭＯＮＯ−２の合成）窒素雰囲気下、１，
２−エタンジチオ−ル１２２ｇ（１．３０ｍｏｌ）とビ
ニルベンジルクロライド（メタ体とパラ体の６：４の混
合物）１０４ｇ（０．６８１ｍｏｌ）のジクロロメタン
５２０ｍｌにトリエチルアミン４１４ｇ（４．０９ｍｏ
ｌ）を加え、室温にて３時間反応させた。

【０１１０】この反応液に無水酢酸２５７ｍｌ（２．７
２ｍｏｌ）を０℃にて加えた後、室温にて１時間反応さ
せた。反応液をヘキサンにて抽出操作し、有機層を５回
水洗し硫酸ナトリウムで脱水処理した後、減圧濃縮し
た。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィ
−（ヘキサン−ジクロロメタン ５：１）にて精製する
ことにより、１−（ビニルベンジルチオ）−２−（アセ
チルチオ）エタンを１２１ｇ（０．４７９ｍｏｌ）得
た。このアセチルチオ体は、下記化学式（３５）に示す
ものである。

【０１１１】

【化４０】 該アセチルチオ体１２１ｇ（０．４７９ｍｏｌ）のメタ
ノ−ル４８５ｍｌ溶液に１，３−ジクロロ−２−プロパ
ノ−ル３０．１ｇ（０．２３３ｍｏｌ）と炭酸カリウム
１３６ｇ（０．９８４ｍｏｌ）を加え、室温にて３０時
間反応させた。その反応液を酢酸エチル−水にて抽出操
作し、有機層を水洗し、硫酸ナトリウムで脱水処理した
後、減圧濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムク
ロマトグラフィ−（ジクロロメタン）にて精製すること
により、ＭＯＮＯ−２を１０７ｇ（０．２２４ｍｏｌ）
得た。

【０１１２】純度（液体クロマトグラフィ−）： ９
９．６％ マススペクトル（ファブ法、マトリックスはニトロベン
ジルアルコ−ル） Ｍ ＋１： ４７７ 元素分析（Ｃ₂₅Ｈ₃₂ＯＳ₄ として）： Ｃ Ｈ Ｓ 測定値（％） ６２．９８ ６．７７ ２６．９０ 計算値（％） ６２．９２ ６．８５ ２６．８４ 赤外線吸収スペクトル（ｃｍ^-1、CHCl₃ ）：３５１６
（-OH ）、１６３０、１６０１（CH₂ =CH-Ph- ）¹ Ｈ−核磁気共鳴スペクトル（ｐｐｍ、CDCl₃ ）：７．
３７〜７．１９（８Ｈ）、６．７５〜６．６４（２
Ｈ）、５．７９〜５．７０（２Ｈ）、５．２８〜５．２
１（２Ｈ）、３．７６〜３．６５（５Ｈ）、２．９０〜
２．５０（１３Ｈ） （実施例３、ＭＯＮＯ−３の合成）窒素雰囲気下、１，
５−ジメルカプト−３−チアペンタン１００ｇ（０．６
４８ｍｏｌ）とビニルベンジルクロライド（メタ体とパ
ラ体の６：４の混合物）５２．２ｇ（０．３４２ｍｏ
ｌ）のジクロロメタン３００ｍｌにトリエチルアミン２
０８ｇ（２．０６ｍｏｌ）を加え、室温にて３時間反応
させた。

【０１１３】この反応液に無水酢酸１２９ｍｌ（１．３
７ｍｏｌ）を０℃にて加えた後、室温にて１時間反応さ
せた。反応液をヘキサンにて抽出操作し、有機層を５回
水洗し硫酸ナトリウムで脱水処理した後、減圧濃縮し
た。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィ
−（ヘキサン−ジクロロメタン ５：１）にて精製する
ことにより、１−（ビニルベンジルチオ）−５−（アセ
チルチオ）−３−チアペンタンを５５．６ｇ（０．１７
８ｍｏｌ）得た。このアセチルチオ体は、下記化学式
（３６）に示すものである。

【０１１４】

【化４１】 該アセチルチオ体５５．６ｇ（０．１７８ｍｏｌ）のメ
タノ−ル１８０ｍｌ溶液に１，３−ジクロロ−２−プロ
パノ−ル１１．２ｇ（０．０８６８ｍｏｌ）と炭酸カリ
ウム５０．６ｇ（０．３６６ｍｏｌ）を加え、室温にて
２７時間反応させた。その反応液を酢酸エチル−水にて
抽出操作して有機層を水洗し、硫酸ナトリウムで脱水処
理した後、減圧濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカ
ラムクロマトグラフィ−（ジクロロメタン）にて精製す
ることにより、ＭＯＮＯ−３を４４．６ｇ（０．０７４
７ｍｏｌ）得た。

【０１１５】純度（液体クロマトグラフィ−）： ９
９．４％ マススペクトル（ファブ法、マトリックスはニトロベン
ジルアルコ−ル） Ｍ ＋１： ５９７ 元素分析（Ｃ₂₉Ｈ₄₀ＯＳ₆ として）： Ｃ Ｈ Ｓ 測定値（％） ５８．３４ ６．７５ ３２．２３ 計算値（％） ５８．２２ ６．６１ ３２．３８ 赤外線吸収スペクトル（ｃｍ^-1、CHCl₃ ）：３５１６
（-OH ）、１６３０、１６０１（CH₂ =CH-Ph- ）¹ Ｈ−核磁気共鳴スペクトル（ｐｐｍ、CDCl₃ ）：７．
３８〜７．２１（８Ｈ）、６．７６〜６．６５（２
Ｈ）、５．７９〜５．７１（２Ｈ）、５．２９〜５．２
２（２Ｈ）、３．８５〜３．７３（５Ｈ）、２．９４〜
２．５９（２１Ｈ） （実施例４、ＭＯＮＯ−４の合成）窒素雰囲気下、１，
３−プロパンジチオ−ル１１２ｇ（１．０３ｍｏｌ）と
ビニルベンジルクロライド（メタ体とパラ体の６：４の
混合物）８３．１ｇ（０．５４４ｍｏｌ）のジクロロメ
タン４１２ｍｌにトリエチルアミン３２８ｇ（３．２４
ｍｏｌ）を加え、室温にて３時間反応させた。

【０１１６】この反応液に無水酢酸２０４ｍｌ（２．１
６ｍｏｌ）を０℃にて加えた後、室温にて１時間反応さ
せた。反応液をヘキサンにて抽出操作し、有機層を５回
水洗し硫酸ナトリウムで脱水処理した後、減圧濃縮し
た。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィ
−（ヘキサン−ジクロロメタン ５：１）にて精製する
ことにより、１−（ビニルベンジルチオ）−３−（アセ
チルチオ）プロパンを９２．７ｇ（０．３４８ｍｏｌ）
得た。このアセチルチオ体は、下記化学式（３７）に示
すものである。

【０１１７】

【化４２】 該アセチルチオ体９２．７ｇ（０．３４８ｍｏｌ）のメ
タノ−ル３５２ｍｌ溶液に１−クロロ−２，３−エポキ
シプロパン１５．７ｇ（０．１７０ｍｏｌ）と炭酸カリ
ウム９８．８ｇ（０．７１５ｍｏｌ）を加え、室温にて
３０時間反応させた。その反応液を酢酸エチル−水にて
抽出操作して有機層を水洗し、硫酸ナトリウムで脱水処
理した後、減圧濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカ
ラムクロマトグラフィ−（ジクロロメタン）にて精製す
ることにより、ＭＯＮＯ−４を６９．５ｇ（０．１３８
ｍｏｌ）得た。

【０１１８】純度（液体クロマトグラフィ−）： ９
９．５％ マススペクトル（ファブ法、マトリックスはニトロベン
ジルアルコ−ル） Ｍ ＋１： ５０５ 元素分析（Ｃ₂₇Ｈ₃₆ＯＳ₄ として）： Ｃ Ｈ Ｓ 測定値（％） ６４．２４ ７．１９ ２５．４１ 計算値（％） ６４．３１ ７．１１ ２５．４９ 赤外線吸収スペクトル（ｃｍ^-1、CHCl₃ ）：３５１７
（-OH ）、１６３０、１６０２（CH₂ =CH-Ph- ）¹ Ｈ−核磁気共鳴スペクトル（ｐｐｍ、CDCl₃ ）：７．
３７〜７．１８（８Ｈ）、６．７５〜６．６４（２
Ｈ）、５．７９〜５．７０（２Ｈ）、５．２９〜５．２
０（２Ｈ）、３．７７〜３．６４（５Ｈ）、２．８４〜
２．４６（１３Ｈ）、１．９６〜１．８４（４Ｈ） 次に、上記で合成された各単量体を用いて重合を行い、
所定形状のプラスチック光学材料を調製した。それにつ
いて、以下の実施例にて示す。

【０１１９】なお、そのプラスチック光学材料の諸物性
を以下に示す方法により測定し、評価した。 屈折率、アッベ数： アッベ屈折率計［アタゴ（株）社
製の商品名２Ｔ］を用いて、成形物の屈折率及びアッベ
数を測定した。

【０１２０】比重： 比重測定計［島津製作所（株）社
製の商品名ＳＧＭ−３００Ｐ］を用いて、成形物の比重
を測定した。 耐衝撃性： 成形物（直径８ｃｍ、厚さ１．８ｍｍ）に
１２７ｃｍの高さより４５ｇの鋼球を落下し、割れなか
ったものを○、割れたものを×とした。

【０１２１】耐熱性： 成形物を１３０℃の乾燥機中に
２時間放置した後、目視及び「フィルム配向ビュア−」
（ユニチカリサ−チラボ社製の商品名）にて成形物を観
察した。変形、割れ、表面劣化、着色等の変化が全く認
められないものを○、いずれかが認められたものを×と
した。

【０１２２】耐溶剤性： 成形物をアセトン中に２時間
放置した後、成形物に変形、割れ、着色等の変化が認め
られないものを○、認められたものを×とした。 染色性： ９０℃の水１リットルにセイコ−プラックス
ダイヤコ−トブラウンＤを２ｇ分散させ染色液を調製し
た。この染色液に、１０分間浸漬させて染色を行い、染
色ムラがなく、かつ、視感度透過率（測定器：朝日分光
（株）製ＭＯＤＥＬ３０４）で染色前と染色後の差が４
０％以上のものを○とし、４０％ないものを×とした。 （実施例５）１９．６ｇのＭＯＮＯ−１と０．４ｇのＤ
Ｐを混合し、さらに重合開始剤としてｔ−ブチルパ−オ
キシ−２−エチルヘキサノエ−トを０．２ｇ混合し、脱
気操作した後、直径８ｃｍの二枚のガラスとシリコ−ン
製ガスケットとからなるレンズ注型鋳型に注入した。そ
れらを窒素置換された恒温槽中で４０℃から１１０℃ま
で１５時間かけて加熱し、さらに１１０℃にて２時間加
熱した。加熱硬化後、型から硬化した成形物を取り出
し、１２０℃にて４時間アニ−リング処理を行った。

【０１２３】その成形物について、屈折率、アッベ数、
比重、耐衝撃性、耐熱性、耐溶剤性及び染色性の物性を
測定し、その結果を表１に示した。 （実施例６〜３７）実施例５において、ＭＯＮＯ−１と
ＤＰの代わりにＭＯＮＯ−２、３と４に他のビニル基を
有する単量体を配合したものを各々用いて、実施例５と
同様にして、熱硬化成形、アニ−リングを行った。その
成形物について、屈折率、アッベ数、比重、耐衝撃性、
耐熱性、耐溶剤性及び染色性の物性を測定し、その結果
を表１〜３に示した。 （比較例１及び２）ＳＴ、ＢＺを各々２０ｇ、重合開始
剤としてｔ−ブチルパ−オキシ−２−エチルヘキサノエ
−トを０．２ｇ混合し、脱気操作した後、直径８ｃｍの
二枚のガラスとシリコ−ン製ガスケットとからなるレン
ズ注型鋳型に注入した。それらを窒素置換された恒温槽
中で４０℃から８０℃まで１５時間かけて加熱し、さら
に８０℃にて２時間加熱した。加熱硬化後、型から硬化
した成形物を取り出し、８０℃にて４時間アニ−リング
処理を行った。その成形物の屈折率、アッベ数、比重、
耐衝撃性、耐熱性、耐溶剤性及び染色性の物性を測定
し、その結果を表３に示した。 （比較例３）単量体としてＲＥＦＥ−１とＤＰを用い、
実施例５と同様にして、熱硬化成形、アニ−リングを行
った。その成形物について、屈折率、アッベ数、比重、
耐衝撃性、耐熱性、耐溶剤性及び染色性の物性を測定
し、その結果を表３に示した。

【０１２４】なお、実施例５〜３７、比較例１、２のい
ずれの成形物においても着色は認められず、無色透明で
あったが、比較例３では黄色に着色した。

【０１２５】

【表１】

【０１２６】

【表２】

【０１２７】

【表３】 表１〜表３に示したように、実施例５〜３７において
は、屈折率が１．５９以上で、アッベ数も高く、かつ耐
衝撃性に優れている。しかも、耐熱性、耐溶剤性及び染
色性にも優れ、比重も小さい。

【０１２８】一方、表３に示したように、本発明の範囲
外の重合体である比較例１及び２においては、屈折率が
１．５９以下であり、耐衝撃性と染色性に劣っている。
しかも、耐熱性及び耐溶剤性が不良である。また、本発
明の範囲外の重合体である比較例３においても、耐衝撃
性と染色性に劣っている。

【０１２９】なお、前記実施形態より把握される技術的
思想について以下に記載する。 ・ 前記一般式（１）中のＲは、チオエーテル結合を含
む総炭素数３〜７のアルキレン基である請求項１又は２
に記載のスチレン系単量体。

【０１３０】このように構成した場合、得られるスチレ
ン系重合体の耐衝撃性や染色性などの物性を向上させ、
屈折率を確実に高めることができる。 ・ 前記一般式（１）中のＲは、硫黄原子数に対する炭
素原子数の割合が２〜５のものである請求項１又は２に
記載のスチレン系単量体。

【０１３１】このように構成した場合、得られるスチレ
ン系重合体の屈折率を効果的に高めることができる。 ・ 前記一般式（１）中のＣＨ₂ ＝ＣＸ−基がベンゼン
環のメタ位又はパラ位に結合している請求項１又は２に
記載のスチレン系単量体。

【０１３２】このように構成した場合、一般式（１）で
表わされるスチレン系単量体を効率良く得ることができ
る。 ・ ジメルカプト化合物の一つのメルカプト基と、ビニ
ル（又はイソプロペニル）ベンジルハロゲン体とを、触
媒存在下に反応させ、さらに１，３−ジクロロ−２−プ
ロパノ−ルまたは１−クロロ−２，３−エポキシプロパ
ンと触媒存在下に反応させることによって得られるもの
である請求項１又は２に記載の一般式（１）で表される
スチレン系単量体。

【０１３３】この構成によれば、一般式（１）で表され
るスチレン系単量体を容易に、しかも収率良く得ること
ができる。 ・ 前記スチレン系単量体のみを重合してなる請求項７
に記載のスチレン系重合体。

【０１３４】このように構成した場合、前記スチレン系
単量体に基づいて、スチレン系重合体の屈折率や耐衝撃
性などの物性を確実に発揮させることができる。 ・ 前記スチレン系単量体を主成分とし、それと共重合
可能な他のビニル基を有する単量体を共重合してなる請
求項７に記載のスチレン系重合体。

【０１３５】このように構成した場合、スチレン系重合
体の屈折率や耐衝撃性などの物性を有効に発揮させるこ
とができる。

【０１３６】

【発明の効果】以上詳述したように、この発明によれば
以下のような優れた効果を奏する。第１の発明の新規な
スチレン系単量体よれば、得られる重合体の耐熱性、染
色性及び比重などの物性を良好に維持しつつ、屈折率と
アッベ数を高くでき、しかも耐衝撃性を向上させること
ができる。

【０１３７】第２の発明のスチレン系単量体によれば、
第１の発明の効果をより確実に発揮させることができ
る。第３の発明の新規なスチレン系単量体組成物によれ
ば、第１の発明の効果に加え、ビニル基を有する単量体
の性質に基づき、得られるスチレン系重合体の屈折率や
アッベ数、さらに耐衝撃性や染色性などの物性をより向
上させることができる。

【０１３８】第４の発明のスチレン系単量体組成物によ
れば、第３の発明の効果に加え、（メタ）アクリロイル
基を有する単量体の性質に基づいて、得られる重合体の
アッベ数を向上させることができる。

【０１３９】第５の発明のスチレン系単量体組成物によ
れば、第４の発明の効果に加え、２官能性の（メタ）ア
クリロイル基を有する単量体により、得られる重合体は
架橋構造を有するものとなり、耐衝撃性及び耐熱性を向
上させることができる。

【０１４０】第６の発明のスチレン系単量体組成物によ
れば、第３の発明の効果に加え、芳香環を有する単量体
の性質に基づいて、屈折率を高く維持することができ
る。第７の発明のプラスチック光学材料用スチレン系重
合体によれば、加熱硬化法により所定形状をなす光学材
料を容易に得ることができると共に、活性エネルギ−線
硬化法により所定形状の光学材料を速やかに得ることが
できる。

【０１４１】また、そのプラスチック光学材料によれ
ば、光学材料は耐熱性及び耐溶剤性などの物性が良好に
維持され、屈折率とアッベ数を高くでき、かつ耐衝撃性
と染色性を向上できるため、眼鏡用プラスチックレンズ
等として好適に使用することができる。さらに、ヒドロ
キシル基を有しているためハ−ドコ−トの密着性にも優
れている。従って、以上の発明は工業的に極めて有用で
ある。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号 ＦＩ Ｇ０２Ｂ 1/04 Ｇ０２Ｂ 1/04 // Ｃ０７Ｃ 69/54 Ｃ０７Ｃ 69/54 Ｚ

Claims (7)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 下記一般式（１）で表されるスチレン系
   単量体。 【化１】 （但し、式中Ｒはチオエ−テル結合を含む総炭素数２〜
   １１のアルキレン基、Ｘは水素原子又はメチル基であ
   る。）
2. 【請求項２】 前記一般式（１）におけるＲが、下記一
   般式（２）で表されるアルキレン基である請求項１に記
   載のスチレン系単量体。 −（ＣＨ₂ ＣＨ₂ Ｓ）_m −（ＣＨ₂ ）_n − ・・・（２） （但し、式中ｍ及びｎはそれぞれ１〜５の整数であ
   る。）
3. 【請求項３】 請求項１又は請求項２に記載のスチレン
   系単量体と、ビニル基を有する単量体とよりなるなるス
   チレン系単量体組成物。
4. 【請求項４】 前記ビニル基を有する単量体が、（メ
   タ）アクリロイル基を有する単量体である請求項３に記
   載のスチレン系単量体組成物。
5. 【請求項５】 前記（メタ）アクリロイル基を有する単
   量体が、下記一般式（３）で表される単量体である請求
   項４に記載のスチレン系単量体組成物。 【化２】 （但し、式中Ｙは水素原子又はメチル基、Ａは炭素数２
   〜６のアルキレン基、ｐは１〜２５の整数を表す。）
6. 【請求項６】 前記ビニル基を有する単量体が、下記一
   般式（４）で表される単量体である請求項３に記載のス
   チレン系単量体組成物。 【化３】 （但し、式中αは水素原子又はメチル基、βは水素原
   子、塩素原子、臭素原子、炭素数１〜６のアルキル基又
   はビニル基を表す。）
7. 【請求項７】 請求項１若しくは請求項２に記載のスチ
   レン系単量体又は請求項３に記載のスチレン系単量体組
   成物を、加熱硬化法又は活性エネルギ−線硬化法により
   重合してなるプラスチック光学材料用スチレン系重合
   体。