JPH09208529A - （メタ）アクリル系単量体およびそれを用いたプラスチック光学材料 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 得られる重合体の屈折率、耐熱性および耐衝
撃性などの物性を維持しつつ、アッベ数に優れ、色収差
を抑制できる（メタ）アクリル系単量体およびそれを用
いたプラスチック光学材料を提供する。 【解決手段】 （メタ）アクリル系単量体は下記一般式
（１）で表されるものである。また、プラスチック光学
材料は、この（メタ）アクリル系単量体の単独重合体ま
たは（メタ）アクリル系単量体を必須成分として得られ
る共重合体よりなる。 【化１】 （但し、式中Ｒ¹ は水素またはメチル基であり、Ｒ² は
炭素数２〜６のアルキレン基である。Ｒ³ およびＲ⁴ は
それぞれ水素、アルキル基またはＲ³ とＲ⁴ で環構造を
形成する基であって、Ｒ³ とＲ⁴ の炭素数の総和が３〜
１５となる基である。また、Ｘは塩素、臭素、ヨウ素ま
たは炭素数１〜４のアルキル基、ｍは０、１又は２であ
る。）

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】この発明は、眼鏡用プラスチ
ックレンズなどとして好適に使用される（メタ）アクリ
ル系単量体および耐衝撃性に優れ、且つアッベ数が高
く、色収差が抑制されたプラスチック光学材料に関する
ものである。

【０００２】

【従来の技術】近年、眼鏡レンズの分野においては、無
機ガラスに代わって有機ガラスが広く用いられている。
有機ガラスが用いられている理由は、有機ガラスが耐衝
撃性、軽量性、成形性および染色性に優れているからで
ある。

【０００３】このような有機ガラスを形成する樹脂とし
ては、ポリメチルメタクリレ−ト、ポリジエチレングリ
コ−ルビスアリルカ−ボネ−ト、ポリスチレン、ポリカ
−ボネ−トなどが挙げられる。

【０００４】しかしながら、ポリメチルメタクリレ−ト
は、色収差の程度を示すアッベ数が５８と大きく優れて
いるものの、屈折率が１．４９程度と低く、強度の近視
のためのレンズを作製する場合、レンズのコバを厚くし
なければならないという問題がある。

【０００５】ところで、アッベ数は、光の分散の程度を
表す指数である。分散は、可視光線領域における屈折率
の分布状態であり、分散が小さいとは領域内での屈折率
の差が小さいことであり、色収差が起こりにくいことを
意味する。通常、この分散の大きさはその逆数とも云え
るアッベ数を用いて表現される。すなわち、分散が大き
いときはそのアッベ数は小さい値を示し、逆に分散が小
さいときはそのアッベ数は大きくなりレンズとして優れ
ている。

【０００６】前記ポリジエチレングリコ−ルビスアリル
カ−ボネ−トは、耐衝撃性に優れ、さらにアッベ数も５
８と大きい。しかし、比重が１．３３程度と比較的大き
く、またポリメチルメタクリレ−トと同様に屈折率が
１．４９程度と低いため、強度の近視のためのレンズを
作製する場合、レンズのコバを厚くしなければならな
い。

【０００７】また、ポリスチレンは屈折率が１．５９と
高く、比重が１．０５と小さく優れているが、耐熱性、
耐候性およびハ−ドコ−ト皮膜の密着性に劣っているう
えにアッベ数も３１と小さい。

【０００８】ポリカ−ボネ−トは、屈折率が１．５８と
高く、耐衝撃性に優れた樹脂である。しかし、射出成
形、圧縮成形等によって成形されるため、成形物に流れ
が生じやすく、複屈折が生じやすい欠点があり、しかも
容易に傷つきやすい等表面硬度に問題がある。

【０００９】そこで、最近では、下記化学式（２）で表
されるビスフェノ−ルＡのアクリル酸誘導体のモノマ−
を用いて得られる樹脂が提案されている（特公平６−９
３０４１号公報）。

【００１０】

【化２】 （但し、Ｒ¹ は水素又はメチル基、Ｒ² は炭素数２〜６
のアルキレン基である。）

【００１１】

【発明が解決しようとする課題】この特公平６−９３０
４１号公報に開示されているビスフェノ−ルＡのアクリ
ル酸誘導体を重合してなる成形物では、ビスフェノ−ル
Ａ骨格に基づいて屈折率が高く、しかもカ−ボネ−ト基
が導入されていることで耐衝撃性が改善されている。と
ころが、この成形物より得られるプラスチック光学材料
は、アッベ数が３９程度であるために、色収差の改善は
十分とは云えない。

【００１２】この発明は、以上のような従来技術の問題
に着目してなされたものである。その目的とするところ
は、得られる重合体の屈折率、耐熱性および耐衝撃性な
どの物性を維持しつつ、アッベ数に優れ、色収差を抑制
できる（メタ）アクリル系単量体およびそれを用いたプ
ラスチック光学材料を提供することにある。

【００１３】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、第１の発明の（メタ）アクリル系単量体〔この明細
書では、アクリルとメタクリルを（メタ）アクリルと総
称する〕は、下記一般式（１）で表されるものである。

【００１４】

【化３】 （但し、式中Ｒ¹ は水素またはメチル基であり、Ｒ² は
炭素数２〜６のアルキレン基である。Ｒ³ およびＲ⁴ は
それぞれ水素、アルキル基またはＲ³ とＲ⁴ で環構造を
形成する基であって、Ｒ³ とＲ⁴ の炭素数の総和が３〜
１５となる基である。また、Ｘは塩素、臭素、ヨウ素ま
たは炭素数１〜４のアルキル基、ｍは０、１又は２であ
る。） 第２の発明のプラスチック光学材料は、第１の発明の
（メタ）アクリル系単量体の単独重合体または前記（メ
タ）アクリル系単量体を必須成分とする共重合体よりな
るものである。

【００１５】

【発明の実施の形態】以下、この発明を具体化した実施
形態について詳細に説明する。（メタ）アクリル系単量
体は前記一般式（１）で表され、一般式（１）中Ｒ¹は
水素またはメチル基であり、Ｒ² は炭素数２〜６のアル
キレン基である。Ｒ²としては、炭素数２〜４であるこ
とが得られる光学材料の表面硬度や耐衝撃性を保持する
ために好ましい。また、Ｒ³ およびＲ⁴ はそれぞれ水
素、アルキル基またはＲ³ とＲ⁴ で環構造を形成する基
であって、Ｒ³ とＲ⁴ の炭素数の総和が３〜１５となる
基である。なお、Ｒ³ とＲ⁴ のいずれかが水素である場
合、他のＲ ³ またはＲ⁴ は炭素数が３〜１５である。

【００１６】このＲ³ ，Ｒ⁴ の総炭素数が３から１５の
アルキル基であることが特徴の１つであるが、その総炭
素数が多すぎると屈折率が小さくなってしまい、また総
炭素数が少なすぎるとアッベ数が小さくなってしまうた
めに、総炭素数は４〜１２が好ましく、５〜８がさらに
好ましく、５〜７が特に好ましい。

【００１７】また、Ｒ³ とＲ⁴ とは同一でも異なってい
てもよい。これらＲ³ とＲ⁴ がシグマ（σ）結合からな
るアルキル基であることにより、得られる重合体よりな
る光学材料のアッベ数が高くなる。

【００１８】Ｘは塩素、臭素、ヨウ素で、好ましくは塩
素、臭素、または炭素数１〜４のアルキル基である。ま
た、ｍは０、１又は２である。これらの官能基は適宜選
択、組合わされることによって種々の化合物が例示され
る。

【００１９】それらの代表的な化合物を例示すると、下
記の化学式（４）〜（１３）に示される化合物が挙げら
れるが、これらに限定されるものではない。

【００２０】

【化４】

【００２１】

【化５】

【００２２】

【化６】

【００２３】

【化７】

【００２４】

【化８】

【００２５】

【化９】

【００２６】

【化１０】

【００２７】

【化１１】

【００２８】

【化１２】

【００２９】

【化１３】 前記一般式（１）で表される（メタ）アクリル系単量体
は新規化合物であり、その合成方法は、（メタ）アクリ
ル酸エステルのクロルギ酸エステル体とジフェノ−ル体
とを有機溶媒中にて塩基存在下で反応させることによっ
て合成される。また、別法としてジフェノ−ルのクロル
ギ酸エステル体と（メタ）アクリル酸エステルのアルコ
−ル体とを有機溶媒中にて塩基存在下で反応させること
によっても合成される。

【００３０】プラスチック光学材料は、一般式（１）で
表される（メタ）アクリル系単量体を単独重合または
（メタ）アクリル系単量体を必須成分とし他の重合可能
な単量体を併用して共重合することによって得られる。

【００３１】一般式（１）で表される（メタ）アクリル
系単量体と併用できる他の重合可能な単量体としては、
重合性モノマ−例えば、ビニル芳香族単量体としてはス
チレン、α−メチルスチレン、ビニルトルエン、エチル
スチレン、ｐ−クロロスチレン、ｏ−クロロスチレン、
クロロメチルスチレン、ｐ−ブロモスチレン、ｍ−ブロ
モスチレン、ジビニルベンゼン、ジビニルビフェニル、
ビニルフェノ−ル、ビニルナフタレン、ビニルカルバゾ
−ル、ビニルピリジン、ビニルチオフェン、ビニルフラ
ン等が挙げられる。

【００３２】さらに、他の例としては、酢酸ビニル、プ
ロピオン酸ビニル、安息香酸ビニル、（メタ）アクリル
酸、メチル（メタ）アクリレ−ト、エチル（メタ）アク
リレ−ト、イソプロピル（メタ）アクリレ−ト、２−エ
チルヘキシル（メタ）アクリレ−ト、グリシジル（メ
タ）アクリレ−ト、テトラヒドロフリル（メタ）アクリ
レ−ト、メチルトリグリコ−ル（メタ）アクリレ−ト、
ｎ−ブトキシエチル（メタ）アクリレ−ト、メトキシジ
エチレングリコ−ル（メタ）アクリレ−ト、メトキシテ
トラエチレングリコ−ル（メタ）アクリレ−ト、フェノ
キシエチル（メタ）アクリレ−ト、フェノキシプロピル
（メタ）アクリレ−ト、２−ヒドロキシエチル（メタ）
アクリレ−ト、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリ
レ−ト、アリル （メタ）アクリレ−ト、フェニル（メ
タ）アクリレ−ト、ベンジル（メタ）アクリレ−ト、ｐ
−クロルフェニル（メタ）アクリレ−ト、ｐ−クロルベ
ンジル（メタ）アクリレ−ト、ｐ−ブロモフェニル（メ
タ）アクリレ−ト、ｐ−ブロモベンジル（メタ）アクリ
レ−ト、ナフチル（メタ）アクリレ−ト、（メタ）アク
リルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチル（メタ）アクリルアミ
ド、（メタ）アクリロニトリル、２−ヒドロキシ−３−
フェノキシプロピル（メタ）アクリレ−ト、エチレング
リコ−ルジ（メタ）アクリレ−ト、１，６−ヘキサンジ
オ−ルジ（メタ）アクリレ−ト、１，３−ブチレングリ
コ−ルジ（メタ）アクリレ−ト、ジエチレングリコ−ル
ジ（メタ）アクリレ−ト、ポリエチレングリコ−ルジ
（メタ）アクリレ−ト、プロピレングリコ−ルジ（メ
タ）アクリレ−ト、ジプロピレングリコ−ルジ（メタ）
アクリレ−ト、ポリプロピレングリコ−ルジ（メタ）ア
クリレ−ト、グリセリンジ（メタ）アクリレ−ト、３−
アクリロイルグリセリンモノメタクリレ−ト、トリメチ
ロ−ルプロパントリ（メタ）アクリレ−ト、ペンタエリ
スリト−ルテトラ（メタ）アクリレ−ト、２，２−ビス
［４−（メタ）アクリロイルオキシフェニル］プロパ
ン、２，２−ビス［４−（メタ）アクリロイルオキシエ
トキシフェニル］プロパン、２，２−ビス［４−（メ
タ）アクリロイルオキシジエトキシフェニル］プロパ
ン、２，２−ビス［４−（メタ）アクリロイルオキシト
リエトキシフェニル］プロパン、２，２−ビス［４−
（メタ）アクリロイルオキシテトラエトキシフェニル］
プロパン、２，２−ビス［４−（メタ）アクリロイルオ
キシヘキサエトキシフェニル］プロパン、２，２−ビス
［４−（メタ）アクリロイルオキシプロピルオキシフェ
ニル］プロパン、２，２−ビス［４−（メタ）アクリロ
イルオキシポリエトキシフェニル］プロパン、２，２−
ビス［４−（３−（メタ）アクリロイルオキシ−２−ヒ
ドロキシプロピルオキシ）フェニル］プロパン、ビスフ
ェノ−ルＳ−ジ（メタ）アクリレ−ト、ビスフェノ−ル
ケトンジ（メタ）アクリレ−ト、ビスフェノ−ルスルフ
ィドジ（メタ）アクリレ−ト、ビスフェノ−ルＡ−ジグ
リシジル（メタ）アクリレ−ト、トリメチロ−ルプロパ
ントリ（メタ）アクリレ−ト、ジエチレングリコ−ルビ
スアリルカ−ボネ−ト、ジイソプロピルフマレ−ト、ジ
イソプロピルマレ−ト、ジアリルフマレ−ト、ジアリル
マレ−ト、ジベンジルフマレ−ト、ジベンジルマレ−
ト、ジベンジルメサコネ−ト、無水マレイン酸、無水イ
タコン酸、フタル酸ジアリル、イソフタル酸ジアリル、
テレフタル酸ジアリル、シアヌル酸アリル、イソシアヌ
ル酸アリル、ナフタレンジカルボン酸ジアリル、アリル
メタクリレ−ト等が挙げられる。これらの単量体は、単
独または混合物として使用される。

【００３３】共重合体において、一般式（１）で表され
る（メタ）アクリル系単量体と上記各種単量体との組成
比は、所望の光学材料に要求される光学特性、機械的特
性及び製造の際要求される重合条件等により異なるため
一律には限定できないが、一般式（１）で表される（メ
タ）アクリル系単量体が１０重量％以上、好ましくは２
０重量％以上となるようにするのが望ましい。かかる量
より少ない場合、得られる共重合体は、アッベ数、耐衝
撃性および屈折率の向上効果は得られない。

【００３４】次に、所定形状の光学材料成形物を調製す
るためには、例えば加熱硬化法と活性エネルギ−線硬化
法がある。加熱硬化法は、前述の単量体と重合開始剤を
混合して単量体混合物を調製し、これを所望形状の成形
凹部を有する金型内に流し込んで加熱硬化させる方法で
ある。

【００３５】その際用いられる重合開始剤としては、１
０時間半減期温度が１２０℃以下のアゾ系重合開始剤ま
たは有機過酸化物が使用される。これらの重合開始剤は
１種又は２種以上が用いられる。この重合開始剤のうち
アゾ系重合開始剤としては、例えば２，２−アゾビス
（２，４−ジメチルバレロニトリル）、２，２−アゾビ
スイソブチロニトリル、２，２−アゾビス（２−メチロ
ブチロニトリル）、１，１−アゾビス（シクロヘキサン
−１−カルボニトリル）、ジメチル２，２’−アゾビス
イソブチレ−ト等が好ましい。

【００３６】また、有機過酸化物としては、過酸化ベン
ゾイル、ジイソプロピルパ−オキシジカ−ボネ−ト、ジ
−ｎ−プロピルパ−オキシジカ−ボネ−ト、ビス（４−
ｔ−ブチルシクロヘキシル）パ−オキシジカ−ボネ−
ト、ｔ−ブチルパ−オキシイソプロピルカ−ボネ−ト、
ｔ−ブチルパ−オキシベンゾエ−ト、ｔ−ブチルパ−オ
キシ−２−エチルヘキサノエ−ト、ｔ−ブチル パ−オ
キシネオデカノエ−ト、ジ−ｔ−ブチルパ−オキサイ
ド、１，１−ビス（ｔ−ブチル）パ−オキシ−３，３，
５−トリメチルシクロヘキサン等が好ましい。

【００３７】この重合開始剤の使用量は、単量体組成物
中０．０５〜５重量％が好適で、０．１〜４重量％がさ
らに好適である。この使用量が０．０５重量％未満の場
合は単量体の硬化が不十分で、得られる成形物の物性が
低下し、５重量％を越える場合は硬化反応の制御が困難
となり、成形物表面にクラックが生じ易くなるので好ま
しくない。

【００３８】また、硬化反応時には、酸素による硬化速
度の低下や成形物の着色を防ぐため、不活性ガスたとえ
ば窒素、ヘリウム、二酸化炭素等で置換もしくはその雰
囲気下で行うことが望ましい。硬化温度および硬化時間
は、使用する硬化剤により異なるが、２０〜１３０℃の
範囲で５〜４８時間とするのが好ましい。硬化時間の短
縮、硬化反応の完結および未反応の硬化剤の分解処理を
目的として適時昇温することができる。例えば、使用す
る硬化剤の１０時間半減期温度より約３０℃低い温度か
ら徐々に昇温し、最終的には１０時間半減期温度より約
３０℃高い温度で硬化を完結させる。

【００３９】このような加熱硬化により得られる成形物
には内部歪みが存在するので、好ましくは１００〜１４
０℃、さらに好ましくは１１０〜１３０℃で加熱し、３
０分以上６時間未満、好ましくは１〜４時間アニ−リン
グ処理を行うのが良い。また、単量体組成物の粘度が低
い場合、あるいは硬化収縮の大きい場合には予め予備重
合を行った後に所望の金型内に仕込んで硬化させること
ができる。

【００４０】一方、活性エネルギ−線硬化法は、単量体
と増感剤を型内に仕込み、紫外線や電子線などの活性エ
ネルギ−線を照射して硬化させる方法である。増感剤と
しては、例えばベンゾフェノン、４−フェニルベンゾフ
ェノン、４−フェノキシベンゾフェノン、２，２−ジエ
トキシアセトフェノン、２−ヒドロキシ−２−メチル−
１−フェニルプロパン−１−オン、ベンジルジメチルケ
タ−ル等が挙げられる。これらは単独または混合物とし
て用いられる。

【００４１】増感剤の使用量は、単量体組成物中０．０
１〜１重量％が好ましく、０．０２〜０．５重量％がさ
らに好ましい。使用量が０．０１重量％未満の場合には
単量体の重合が不十分となり、得られる成形物の物性が
低下する。１重量％を越える場合は重合反応の制御が困
難となり、成形物に着色や表面クラックが生じ易くなる
ので好ましくない。

【００４２】硬化反応時には、酸素による硬化速度の低
下や成形物の着色を防ぐため、不活性ガスたとえば窒
素、ヘリウム、二酸化炭素等で置換もしくはその雰囲気
下で行うことが望ましい。活性エネルギ−線としては、
波長２００〜６００ｎｍ程度の範囲のものが好ましい。
また、その線源としてはケミカルランプ、キセノンラン
プ、低圧水銀灯、高圧水銀灯、金属ハロゲンランプ等が
挙げられる。さらに、硬化成形物の内部歪みを除去する
ために加熱硬化法と同様のアニ−リング処理を施すのが
好ましい。

【００４３】また、加熱硬化法と活性エネルギ−線硬化
法を併用することができる。すなわち、単量体に重合開
始剤および増感剤を混合し、重合開始剤による加熱予備
重合を行った後、所望の型内に仕込み、活性エネルギ−
線による重合を行う。逆に、活性エネルギ−線による重
合を行った後に、加熱重合によって重合を完結すること
ができる。

【００４４】なお、単量体組成物に必要に応じて染料、
顔料等の着色剤、紫外線吸収剤、酸化防止剤、各種安定
剤、帯電防止剤、フォトクロミック化合物、蛍光増白
剤、内部離型剤、重合度調製剤等を添加することができ
る。

【００４５】次に、光学材料用成形物は前記単量体を加
熱硬化法または活性エネルギ−線硬化法により型内で重
合すると同時に所定形状に成形することによって得られ
る。あるいは、この光学材料用成形物は単量体を加熱硬
化法または活性エネルギ−線硬化法により予備重合した
後、型内でさらに重合して所定形状に成形することによ
り得られる。さらに、光学材料用成形物は単量体を加熱
硬化法または活性エネルギ−線硬化法により重合して一
定形状の成形物を得、この成形物をレンズ形状に切削研
磨することにより得られる。

【００４６】また、成形物の表面にハ−ドコ−ト皮膜を
設け、表面の耐磨耗性をさらに向上させることができ
る。このハ−ドコ−ト剤の塗布は、硬化終了後の成形物
またはハ−ドコ−ト皮膜の密着性を向上させるためにプ
ライマ−液が塗布された成形物に対して行われる。プラ
イマ−液としては、ポリウレタンやメラミン等の溶液が
用いられる。塗布方法としては、デッピング法、スピン
コ−ト法、フロ−コ−トイ法、スプレ−法等が採用され
る。

【００４７】さらに、成形物表面に反射防止膜を設け、
表面反射を抑制することによって可視光線透過率を高め
ることができる。以上のように、この実施形態によれ
ば、次のような効果が発揮される。 （ａ）一般式（１）で示される（メタ）アクリル系単量
体中のＲ³ とＲ⁴ とは、炭素数の総和が３以上となるよ
うに、主にシグマ（σ）結合を有するアルキル基で構成
されている。このため、得られる重合体よりなるプラス
チック光学材料のアッベ数をシグマ結合の数の増大に伴
って４０以上まで高めることができ、色収差を抑制する
ことができる。 （ｂ）一般式（１）中にはベンゼン環が含まれているた
め、光学材料の屈折率を高めることができる。 （ｃ）（メタ）アクリル系単量体中には、２つの（メ
タ）アクリル基が含まれていることから、重合体は架橋
構造を有し、光学材料の耐熱性を向上させることができ
る。 （ｄ）（メタ）アクリル系単量体は、カーボネート基
（−ＯＣＯＯ−）を有するとともに、２つの（メタ）ア
クリル基を有することから、得られる光学材料の耐衝撃
性を改善することができる。

【００４８】

【実施例】以下に、実施例および比較例を挙げてこの発
明をさらに具体的に説明するが、この発明はこれらの実
施例により何ら限定されるものではない。また、以下の
説明で用いる単量体の略記号を下記に示す。

【００４９】単量体の略記号 ＭＯＮＯ−１は前記化学式（４）の化合物を示す。ＭＯ
ＮＯ−２は前記化学式（６）の化合物を示す。

【００５０】ＭＯＮＯ−３は前記化学式（７）の化合物
を示す。ＭＯＮＯ−４は前記化学式（１２）の化合物を
示す。ＭＯＮＯ−Ｒは下記化学式（１４）の化合物を示
す。

【００５１】

【化１４】 Ｓｔ： スチレン Ｂｚ： ベンジルメタクリレ−ト 上記単量体ＭＯＮＯ−１〜ＭＯＮＯ−４の合成を実施例
で説明する。 （実施例１、ＭＯＮＯ−１の合成）窒素雰囲気下、２，
２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）オクタン２００ｇ
（０．７４５ｍｏｌ）のジクロロメタン２リットル溶液
に、トリエチルアミン４１６ｍｌ（２．９８ｍｏｌ）、
２−（クロロカルボニルオキシ）エチルメタクリレ−ト
２９４ｇ（１．５３ｍｏｌ）を加え、０℃にて１時間反
応させた。反応液に水１リットルを加えて抽出操作を行
い、その有機層を１％水酸化ナトリウム水溶液、水、
０．３５％塩酸水溶液、さらに水にて洗浄操作を行っ
た。この有機層を硫酸マグネシウムで濾過した後、減圧
濃縮することによりＭＯＮＯ−１を４４６ｇ（０．７３
０ｍｏｌ）を得た。 純度（液体クロマトグラフィ−）： ９８．２％ マススペクトルの分子イオンピ−ク（ｍ／ｅ）： ６１
０ 赤外線吸収スペクトル（ｃｍ^-1、ＣＨＣｌ₃ ）：１７６
４（Ｏ−ＣＯ−Ｏ−）、１７２０（Ｃ−ＣＯ−Ｏ−）、
１６３７（ＣＨ₂ ＝ＣＣＨ₃ −） （実施例２、ＭＯＮＯ−２の合成）窒素雰囲気下、２，
２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−４−メチルペン
タン４５２ｇ（１．６７ｍｏｌ）のジクロロメタン４．
５リットル溶液に、トリエチルアミン９３１ｍｌ（６．
６８ｍｏｌ）、２−（クロロカルボニルオキシ）エチル
メタクリレ−ト６５９ｇ（３．４２ｍｏｌ）を加え、０
℃にて１時間反応させた。反応液に水２リットルを加え
て抽出操作を行い、その有機層を１％水酸化ナトリウム
水溶液、水、０．３５％塩酸水溶液、さらに水にて洗浄
操作を行った。この有機層を硫酸マグネシウム濾過した
後、減圧濃縮することによりＭＯＮＯ−２を９５８ｇ
（１．６４ｍｏｌ）を得た。 純度（液体クロマトグラフィ−）： ９８．６％ マススペクトルの分子イオンピ−ク（ｍ／ｅ）： ５８
２ 赤外線吸収スペクトル（ｃｍ^-1、ＣＨＣｌ₃ ）：１７６
２（Ｏ−ＣＯ−Ｏ−）、１７１８（Ｃ−ＣＯ−Ｏ−）、
１６３３（ＣＨ₂ ＝ＣＣＨ₃ −） （実施例３、ＭＯＮＯ−３の合成）窒素雰囲気下、１，
１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン３
９７ｇ（１．４８ｍｏｌ）のジクロロメタン４リットル
溶液に、トリエチルアミン８２５ｍｌ（５．９２ｍｏ
ｌ）、２−（クロロカルボニルオキシ）エチルメタクリ
レ−ト５８４ｇ（３．０３ｍｏｌ）を加え、０℃にて１
時間反応させた。反応液に水２リットルを加えて抽出操
作を行い、その有機層を１％水酸化ナトリウム水溶液、
水、０．３５％塩酸水溶液、さらに水にて洗浄操作を行
った。この有機層を硫酸マグネシウム濾過した後、減圧
濃縮することによりＭＯＮＯ−３を８４７ｇ（１．４６
ｍｏｌ）を得た。 純度（液体クロマトグラフィ−）： ９８．７％ マススペクトルの分子イオンピ−ク（ｍ／ｅ）： ５８
０ 赤外線吸収スペクトル（ｃｍ^-1、ＣＨＣｌ₃ ）：１７６
３（Ｏ−ＣＯ−Ｏ−）、１７２０（Ｃ−ＣＯ−Ｏ−）、
１６３９（ＣＨ₂ ＝ＣＣＨ₃ −） （実施例４、ＭＯＮＯ−４の合成）窒素雰囲気下、２，
２−ビス（３，５−ジクロロ−４−ヒドロキシフェニ
ル）−４−メチルペンタン４５５ｇ（１．１１ｍｏｌ）
のジクロロメタン４リットル溶液に、トリエチルアミン
６１９ｍｌ（４．４４ｍｏｌ）、４−（クロロカルボニ
ルオキシ）ブチルアクリレ−ト４７１ｇ（２．２８ｍｏ
ｌ）を加え、０℃にて１時間反応させた。反応液に水２
リットルを加えて抽出操作を行い、その有機層を１％水
酸化ナトリウム水溶液、水、０．３５％塩酸水溶液、さ
らに水にて洗浄操作を行った。この有機層を硫酸マグネ
シウム濾過した後、減圧濃縮することによりＭＯＮＯ−
４を８０８ｇ（１．０８ｍｏｌ）を得た。 純度（液体クロマトグラフィ−）： ９９．０％ マススペクトルの分子イオンピ−ク（ｍ／ｅ）： ７４
６（Ｍ⁺ ）、７４８（Ｍ ⁺ ＋２）、７５０（Ｍ⁺ ＋４） 赤外線吸収スペクトル（ｃｍ^-1、ＣＨＣｌ₃ ）：１７７
０（Ｏ−ＣＯ−Ｏ−）、１７２２（Ｃ−ＣＯ−Ｏ−）、
１６４２（ＣＨ₂ ＝ＣＣＨ₃ −） 次に、上記で合成された各々単量体を用いて重合を行
い、所定形状の光学材料用成形物を調製したので、以下
の実施例にて示す。

【００５２】尚、その諸物性を以下に示す方法により測
定し評価した。 屈折率、アッベ数： アッベ屈折率計〔アタゴ（株）社
製の商品名２Ｔ〕を用いて、成形物の屈折率およびアッ
ベ数を測定した。

【００５３】耐衝撃性： 成形物（直径８cm、厚さ１．
８mm）に１２７cmの高さより４５ｇの鋼球を落下して割
れなかったものを○、割れたものを×とした。 耐熱性： 成形物を１３０℃の乾燥機中に２時間放置し
た後、目視および「フィルム配向ビュア−」（ユニチカ
リサ−チラボ社製の商品名）にて成形物を観察した。変
形、割れ、表面劣化、着色等の変化が全く認められない
ものを○、いずれかが認められたものを×とした。

【００５４】耐溶剤性： 成形物をアセトン中に２時間
放置した後、成形物に変形、割れ、着色等の変化が認め
られないものを○、認められたものを×とした。 （実施例５）ＭＯＮＯ−１を２０ｇ、重合開始剤として
ｔ−ブチルパ−オキシ−２−エチルヘキサノエ−トを
０．２ｇ混合し、直径８ｃｍの二枚のガラスとシリコ−
ン製ガスケットとからなるレンズ注型鋳型に注入した。
それらを恒温槽中で７０℃にて１２時間加熱し、さらに
１００℃にて４時間加熱した。加熱硬化後、型から硬化
した成形物を取り出し、１２０℃にて４時間アニ−リン
グ処理を行った。その成形物の屈折率、アッベ数、耐衝
撃性、耐熱性、耐溶剤性の物性を測定し、その結果を表
１に示した。 （実施例６〜１０）実施例５において、単量体としてＭ
ＯＮＯ−１の代わりにＭＯＮＯ−２、ＭＯＮＯ−３、Ｍ
ＯＮＯ−４、ＭＯＮＯ−１とスチレンの混合物（４：
１）、ＭＯＮＯ−１とベンジルメタクリレ−トの混合物
（３：２）を各々用いて、実施例５と同様にして、熱硬
化成形、アニ−リングを行った。その成形物の屈折率、
アッベ数、耐衝撃性、耐熱性、耐溶剤性の物性を測定
し、その結果を表１に示した。

【００５５】さらに、物性比較をするために、そのため
の単量体を用いて重合を行い、所定形状の光学材料用成
形物を調製し、その物性を測定し評価した。その際に用
いたＭＯＮＯ−Ｒは、２，２−ビス（４−ヒドロキシフ
ェニル）プロパンと２−（クロロカルボニルオキシ）エ
チルメタクリレ−トを出発原料として実施例１と同様の
製造条件で合成した。 （比較例１〜５）実施例５において、単量体としてＭＯ
ＮＯ−１の代わりにＭＯＮＯ−Ｒ、スチレン、ベンジル
メタクリレ−ト、ＭＯＮＯ−Ｒとスチレンの混合物
（４：１）、ＭＯＮＯ−Ｒとベンジルメタクリレ−トの
混合物（３：２）を各々用いて、実施例５と同様にし
て、熱硬化成形、アニ−リング処理を行った。その成形
物の屈折率、アッベ数、耐衝撃性、耐熱性、耐溶剤性の
物性を測定し、その結果を表１に示した。

【００５６】実施例５〜１０、比較例１〜５のいずれの
成形物においても着色は認められず、無色透明であっ
た。

【００５７】

【表１】 表１に示したように、実施例５〜１０ではアッベ数は４
２以上と高く、色収差が抑制される。しかも、屈折率が
高く、耐衝撃性、耐熱性および耐溶剤性に優れている。
一方、比較例１〜６では、アッベ数が３９以下で、色収
差は抑制されない。しかも、比較例２，３では、耐衝撃
性、耐熱性および耐溶剤性が不良である。

【００５８】なお、前記実施形態より把握される技術的
思想について以下に記載する。 （イ） 前記一般式（１）中のＲ³ およびＲ⁴ は、それ
らの炭素数の総和が４〜１２である請求項１に記載の
（メタ）アクリル系単量体。このようにすれば、得られ
る光学材料のアッベ数を大きくして、色収差を抑制する
ことができる。 （ロ） （メタ）アクリル酸エステルのクロルギ酸エス
テル体と（メタ）アクリル酸エステルのジフェノール体
とを、有機溶媒中で塩基の存在下に反応させる前記一般
式（１）で示される（メタ）アクリル系単量体の製造方
法。この方法によれば、一般式（１）の（メタ）アクリ
ル系単量体を容易に、しかも収率良く得ることができ
る。

【００５９】

【発明の効果】以上、詳述したように、この発明によれ
ば、以下のような優れた効果を奏する。

【００６０】第１の発明の新規な（メタ）アクリル系単
量体の発明によれば、（メタ）アクリル系単量体より得
られる重合体の屈折率、耐熱性および耐衝撃性などの物
性を維持しつつ、アッベ数に優れ、色収差を効果的に抑
制することができる。

【００６１】第２の発明のプラスチック光学材料の発明
によれば、光学材料は屈折率、耐熱性および耐衝撃性な
どの物性が維持され、色収差が抑制されるため、眼鏡用
プラスチックレンズなどとして好適に使用することがで
きる。

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 下記一般式（１）で表される（メタ）ア
   クリル系単量体。 【化１】 （但し、式中Ｒ¹ は水素またはメチル基であり、Ｒ² は
   炭素数２〜６のアルキレン基である。Ｒ³ およびＲ⁴ は
   それぞれ水素、アルキル基またはＲ³ とＲ⁴ で環構造を
   形成する基であって、Ｒ³ とＲ⁴ の炭素数の総和が３〜
   １５となる基である。また、Ｘは塩素、臭素、ヨウ素ま
   たは炭素数１〜４のアルキル基、ｍは０、１又は２であ
   る。）
2. 【請求項２】 請求項１に記載の（メタ）アクリル系単
   量体の単独重合体または前記（メタ）アクリル系単量体
   を必須成分とする共重合体よりなるプラスチック光学材
   料。