JPH11240271A - 直描型水なし平版印刷版原版及び直描型水なし平版印刷版の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】ポジ型の直描型水なし平版印刷版を提供する。 【解決手段】直描型水なし平版印刷版原版を、基板上
に、少なくとも感熱層およびシリコーンゴム層をこの順
に積層してなる直描型水なし平版印刷版原版において、
該感熱層が光熱変換物質とブロックドイソシアネート、
およびポリアミドアミンを含有するものとする。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、湿し水を用いずに
印刷が可能な水なし平版印刷版原版に関するものであ
り、特にレーザー光で直接製版できるポジ型の直描型水
なし平版印刷版原版に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】製版用フィルムを使用しないで、原稿か
ら直接オフセット印刷版を作製する、いわゆるダイレク
ト製版は、熟練度を必要としない簡易性、短時間で印刷
版が得られる迅速性、多様なシステムから品質とコスト
に応じて選択可能である合理性などの特徴を生かして、
軽印刷業界のみでなく、一般オフセット印刷、グラビア
印刷の分野にも進出し始めている。

【０００３】特に最近では、プリプレスシステムやイメ
ージセッター、レーザープリンタなどの出力システムの
急激な進歩によって新しいタイプの各種平版印刷材料が
開発されている。

【０００４】これらの平版印刷版を製版方法から分類す
ると、レーザー光を照射する方法、サーマルヘッドで書
き込む方法、ピン電極で電圧を部分的に印加する方法、
インクジェットでインキ反撥層またはインキ着肉層を形
成する方法などが挙げられる。

【０００５】なかでも、レーザー光を用いる方法は解像
度、および製版速度の面で他の方式よりも優れており、
その種類も多い。

【０００６】このレーザー光を用いる平版印刷版はさら
に、光反応によるフォトンモードのものと、光熱変換を
行って熱反応を起こさせるヒートモードの２つのタイプ
に分けられる。

【０００７】フォトンモードタイプとしては、 （１）フォトポリマーを用いた高感度ＰＳ版 （２）有機光導電体や酸化亜鉛を用いた電子写真式平版 （３）銀塩方式平版 （４）銀塩複合方式平版 （５）直描マスター等があり、 ヒートモードタイプとしては、 （６）熱破壊方式平版 などが挙げられる。

【０００８】しかしながら、（１）の方式はレーザー光
源に主としてアルゴンイオンレーザーを使用しているた
め装置が大型となり、また印刷版も高感度のフォトポリ
マーを使用しているため、印刷版の取扱いに注意が必要
で、なおかつ保存安定性も低下しやすいといった欠点が
ある。

【０００９】（２）の電子写真式平版は、明室で取り扱
えるといった利点はあるが、感光層の帯電後２〜５分の
間で暗減衰が大きくなるため、帯電後短時間で露光現像
処理をする必要があり、大判サイズを高解像力で出力す
るのは難しい。

【００１０】（３）の銀塩方式平版は、さまざま波長の
レーザーに対応した印刷版が開発されているが、銀廃液
が出ることが問題となっており、また感度が高いため
に、取扱いに注意を要するといった問題もある。

【００１１】（４）の銀塩複合方式平版は、感光層上に
高感度ハロゲン化銀乳剤層を設けて上層のハロゲン化銀
乳剤層をアルゴンイオンレーザーで露光、現像後それを
マスクとしてさらに紫外線で露光、現像を行うものであ
る。しかし、この印刷版は露光、現像工程が２回あるた
め、印刷版の処理が複雑になるという問題がある。

【００１２】（５）の直描マスターは、直接印刷版にレ
ーザーで書き込むわけではないが、レーザープリンタで
形成されたトナー画像をインキ着肉部として、印刷版上
に転写するものである。しかし、印刷版の解像度という
面では、他の方式と比較して劣っている。

【００１３】以上のフォトンモードタイプに対して、
（６）の熱破壊方式は、明室で取り扱えるといった利点
があり、また光源となる半導体レーザーの急激な進歩に
よって、最近その有用性が見直されてきている。

【００１４】例えば、特開平６−１９９０６４号公報、
ＵＳＰ５３３９７３７号公報、ＵＳＰ５３５３７０５号
公報、ＥＰ０５８０３９３号公報、特開平６−５５７２
３号公報、ＥＰ０５７３０９１号公報、ＵＳＰ５３７８
５８０号公報、特開平７−１６４７７３号公報、特開平
６−１８６７５０号公報、特開平７−３０９００１号公
報、特開平９−１４６２６４号公報、特開平９−１４６
２６５号公報、特開平９−２３６９２７号公報、特開平
９−２４４２２８号公報にはレーザー光を光源として用
いる直描型水なし平版印刷版原版およびその製版方法な
どが記載されている。

【００１５】この熱破壊方式の印刷版原版の感熱層は、
レーザー光吸収化合物として主としてカーボンブラック
を用い、熱分解化合物としてニトロセルロースを使用し
ている。そしてこのカーボンブラックがレーザー光を吸
収することによって熱エネルギーに変換され、さらにそ
の熱で感熱層が破壊される。そして最終的に、現像によ
ってこの部分を除去することによって、表面のシリコー
ンゴム層が同時に剥離され、インキ着肉部となる。

【００１６】しかしながらこの印刷版は、感熱層を破壊
して画像を形成することから画線部のセルの深さが深く
なり、微少網点でのインキ着肉性が悪く、インキマイレ
ージが悪いという問題点があった。更に、感熱層を熱破
壊させ易くするために、架橋構造を形成しており印刷版
の耐刷性が劣るという問題もあった。感熱層を柔軟化さ
せると感度が極端に低下し、感熱層の柔軟化は困難であ
った。

【００１７】更にこの印刷版は感度が低く、感熱層を破
壊させるために高いレーザー光の強度が必要という問題
点もあった。

【００１８】特開平９−１４６２６４号公報では、光熱
変換層中にレーザー光を熱に変換する化合物、フィルム
形成能を有する高分子化合物、光重合開始剤、および光
重合可能なエチレン性不飽和化合物を有し、シリコーン
ゴム層形成後にエネルギー線による全面露光を施すこと
により光熱変換層と、シリコーンゴム層とを反応させた
ネガ型のレーザー感光性湿し水不要平版印刷版原版が提
案されている。

【００１９】この版材では、シリコーンゴム層塗布後に
全面露光を施すことにより、例えば小林らの文献（例え
ば、“印刷学会論文集，１８，１２８（１９７９）”や
“Ｊｏｕｒｎａｌ oｆ Ａｐｐｌｉｅｄ Ｐｈｏｔｏ
ｇｒａｐｈｉｃ Ｅｎｇｉｎｅｅｒｉｎｇ，ｖｏｌ．
６，ｐｐ．６５−６８”など）に示されている公知の機
構によりシリコーンゴム層と感光層との接着力を向上さ
せ、その結果として、画像再現性、耐傷性に優れた版材
を得ている。しかしながら、前述のように、感光層の柔
軟性と感度のトレードオフ的な関係は存在しており、特
に感度が低いという問題を有していた。

【００２０】特開平９−２３９９４２号公報では、レー
ザー感応層中に酸を発生する物質と、酸の作用で分解す
る高分子化合物を含有する剥離現像タイプの印刷版が提
案されているが、レーザー光照射の工程と加熱工程とい
う二つの工程が必要になり、また微細な網点の再現性が
悪いという剥離現像固有の問題が存在する。

【００２１】また、特に特開平６−５５７２３号公報、
ＥＰ０５７３０９１号公報、ＵＳＰ５３７８５８０号公
報では、光源としてＮｄ−ＹＡＧレーザーを用いている
ために、露光装置がかなり大がかりなものとなってしま
うといった、別の問題点もあった。

【００２２】その他、ＵＳＰ５３７９６９８号公報、特
開平７−３１４９３４号公報、特開平９−２３６９２７
号公報には、金属薄膜を感熱層として用いる直描型水な
し平版印刷版が記載されている。

【００２３】この印刷版材は、感熱層がかなり薄いため
に、非常にシャープな画像が得られ、印刷版の解像度と
いう面では有利であるが、基材と感熱層の接着性が悪く
印刷中に非画線部の感熱層が剥離し、インキが付着し印
刷物上で欠点となるという問題点があった。また、この
印刷版も感熱層を破壊させて画像を形成させることから
画線部のセルが深くなりインキ着肉性やインキマイレー
ジが劣るという問題点があった。

【００２４】以上のようなレーザー光を用いた平版印刷
版の他に、特に直描型水なし平版印刷版に関するものと
して、熱接着型の直描型水なし平版印刷版が考えられ
る。

【００２５】このタイプの版材は、レーザー光照射部の
シリコーンゴム層が選択的に残存し、非画線部として働
くものである。その機構としては、レーザー光照射によ
りシリコーンゴム層とレーザー感応層との接着力、ある
いはレーザー感応層とその下にある基板との接着力が何
らかの形で向上し、その結果として、未照射部のシリコ
ーンゴム層、あるいはシリコーンゴム層とレーザー感応
層がその後の処理により選択的に除去されるというもの
である。

【００２６】このようなタイプの版材としては、例えば
特開平９−６８７９４号公報、特開平９−８０７４５号
公報、特開平９−１２０１５７号公報、特開平９−１９
７６５９号公報などが提案されている。

【００２７】特開平９−１２０１５７号公報で提案され
ている版材は、レーザー光照射により発生した酸を触媒
として感光層の反応を進め、画像を再現するというもの
である。しかしながら、酸発生後、反応を進めるために
は、熱処理という工程が必要であった。さらに、酸発生
後から熱処理までの時間が画像再現性に影響を与えるた
め、画像再現性が不安定となるという問題を有してい
た。

【００２８】特開平９−８０７４５号公報、特開平９−
１９７６５９号公報で提案されている版材も、感光層中
に活性光線の照射で酸を発生しうる化合物および酸の存
在下で反応し得る結合を有する化合物が含まれており、
レーザー光照射後、発生した酸を用いて反応を進めるタ
イプであるため、上記と同様の問題を有していた。

【００２９】

【発明が解決しようとする課題】本発明はかかる従来技
術の欠点に鑑み鋭意検討を行った結果、感熱層中に光熱
変換物質とブロックドイソシアネートおよび特定の構造
を有するアミン化合物を含有させることによって、レー
ザー光照射後の煩雑な工程を必要とせずともポジ型の直
描型水なし平版印刷版を得る技術を見出した。

【００３０】

【課題を解決するための手段】すなわち、本発明は以下
の構成を有する。

【００３１】（１）基板上に、少なくとも感熱層および
シリコーンゴム層をこの順に積層してなる直描型水なし
平版印刷版原版において、該感熱層が少なくとも（ａ）
光熱変換物質、（ｂ）ブロックドイソシアネート、
（ｃ）ポリアミドアミンを含むことを特徴とする直描型
水なし平版印刷版原版。

【００３２】（２）請求項１記載の直描型水なし平版印
刷版原版に、レーザー光照射後、現像処理によりレーザ
ー光未照射部のシリコーンゴム層を除去することを特徴
とする直描型水なし平版印刷版の製造方法。

【００３３】（３）現像後のレーザー光未照射部の感熱
層が５０％以上残存していることを特徴とする請求項２
記載の直描型水なし平版印刷版の製造方法。

【００３４】

【発明の実施の形態】以下に本発明を詳しく説明する。

【００３５】本発明の直描型水なし平版印刷版原版に使
用する基板について説明する。

【００３６】基板としては、寸法的に安定な板状物であ
れば公知の金属、フィルム等のいずれも使用することが
できる。この様な寸法的に安定な板状物としては、従来
印刷版の基板として使用されたもの等が好ましく挙げら
れる。かかる基板としては、紙、プラスチック（ポリエ
チレン、ポリプロピレン、ポリスチレンなど）がラミネ
−トされた紙、アルミニウム（アルミニウム合金も含
む）、亜鉛、銅などの金属の板、セルロースアセテー
ト、ポリエチレンテレフタレ−ト、ポリエチレンナフタ
レート、ポリエチレン、ポリアミド、ポリイミド、ポリ
スチレン、ポリプロピレン、ポリカ−ボネ−ト、ポリビ
ニルアセタ−ルなどのプラスチックのフィルム、上記の
如き金属がラミネ−トもしくは蒸着された紙もしくはプ
ラスチックフィルムなどが挙げられる。

【００３７】これらのうち、アルミニウム板は寸法的に
著しく安定であり、しかも安価であるので特に好まし
い。また、軽印刷用の基板として用いられているポリエ
チレンテレフタレ−トフィルムも好ましく使用される。

【００３８】これら基板と感熱層の接着性を強固にする
ために、エッチング処理、コロナ処理、プラズマ処理な
どの表面処理を行うことは好ましく行われる。特に、ポ
リエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート
などのプラスチックフィルムを基板に用いた場合は基板
自体が断熱層の役割を果たすため、このような表面処理
で接着性を高めることは特に好ましく行われる。

【００３９】また、基板が金属などのように熱伝導が比
較的高い物質を使用する場合には、接着性改良と断熱効
果の目的で、基板と感熱層の間に断熱層を設けることが
好ましい。このような断熱層により、感熱層が熱反応を
起こす際の熱が基板へ拡散するのを防止することができ
る。

【００４０】断熱層を設ける場合、本発明においては、
次の条件を満たすことが必要である。すなわち、基板と
感熱層とをよく接着し、経時において安定であること、
さらに現像液、印刷時に使用する溶剤に対する耐溶剤性
が高いことである。

【００４１】このような条件を満たすものとして、エポ
キシ樹脂、ポリウレタン樹脂、フェノ−ル樹脂、アクリ
ル樹脂、アルキッド樹脂、ポリエステル樹脂、ポリアミ
ド樹脂、尿素樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、カゼイ
ン、ゼラチン等を含むものが挙げられる。これらの樹脂
は単独であるいは二種以上混合して用いることができ
る。また、これらの樹脂と類似の組成物を硬化したもの
を使用してもよい。

【００４２】これらの中では、ポリウレタン樹脂、ポリ
エステル樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、尿素樹脂
等を単独で、あるいは２種以上を混合して用いることが
好ましい。

【００４３】また、この断熱層中に顔料、染料等の添加
剤を含有させて検版性を向上させることが好ましい。

【００４４】断熱層の厚さは被覆層にして０．５〜５０
ｇ／ｍ２ が基板表面の形態欠陥を防止し化学的悪影響
を遮断する効果や経済性の点から好ましく、より好まし
くは１〜１０ｇ／ｍ２である。

【００４５】次に感熱層について説明する。

【００４６】本発明において感熱層は、少なくとも
（ａ）光熱変換物質と（ｂ）ブロックドイソシアネー
ト、および（ｃ）ポリアミドアミンを含有することが必
要である。

【００４７】まず、（ａ）光熱変換物質について説明す
る。

【００４８】光熱変換物質としてはレーザー光を吸収す
るものであれば特に限定されない。この時、レーザー光
の波長としては、紫外域、可視域、赤外域のどの領域の
波長であってもよく、使用するレーザー光の波長に合わ
せた吸収域を有する光熱変換物質を適宜選択して使用す
るとよい。

【００４９】例えばカーボンブラック、アニリンブラッ
ク、シアニンブラックなどの黒色顔料、フタロシアニ
ン、ナフタロシアニン系の緑色顔料、カーボングラファ
イト、ジアミン系金属錯体、ジチオール系金属錯体、フ
ェノールチオール系金属錯体、メルカプトフェノール系
金属錯体、結晶水含有無機化合物、硫酸銅、珪酸塩化合
物や、酸化チタン、酸化バナジウム、酸化マンガン、酸
化鉄、酸化コバルト、酸化タングステンなどの金属酸化
物、これらの金属の水酸化物、硫酸塩、さらにビスマ
ス、鉄、マグネシウム、アルミの金属粉などの添加剤を
添加することが好ましい。

【００５０】また、鉄、ストロンチウム、マンガン、ゲ
ルマニウム、銀、コバルト、ニッケル、インジウム、ク
ロムなどの硫化物も本発明に用いることが出来る。

【００５１】これらのなかでも、光熱変換率、経済性お
よび取り扱い性の面から、カーボンブラックが好まし
い。

【００５２】また上記の物質以外に、赤外線または近赤
外線を吸収する染料も、光熱変換物質として好ましく使
用される。

【００５３】これら染料としては４００ｎｍ〜１２００
ｎｍの範囲に極大吸収波長を有する染料が使用できる
が、好ましい染料としては、シアニン系、フタロシアニ
ン系、フタロシアニン金属錯体系、ナフタロシアニン
系、ナフタロシアニン金属錯体系、ジチオール金属錯体
系、ナフトキノン系、アントラキノン系、インドフェノ
ール系、インドアニリン系、ピリリウム系、チオピリリ
ウム系、スクワリリウム系、クロコニウム系、ジフェニ
ルメタン系、トリフェニルメタン系、トリフェニルメタ
ンフタリド系、トリアリルメタン系、フェノチアジン
系、フェノキサジン系、フルオラン系、チオフルオラン
系、キサンテン系、インドリルフタリド系、スピロピラ
ン系、アザフタリド系、クロメノピラゾール系、ロイコ
オーラミン系、ローダミンラクタム系、キナゾリン系、
ジアザキサンテン系、ビスラクトン系、フルオレノン
系、モノアゾ系、ケトンイミン系、ジズアゾ系、ポリメ
チン系、オキサジン系、ニグロシン系、ビスアゾ系、ビ
スアゾスチルベン系、ビスアゾオキサジアゾール系、ビ
スアゾフルオレノン系、ビスアゾヒドロキシペリノン
系、アゾクロム錯塩系、トリスアゾトリフェニルアミン
系、チオインジゴ系、ペリレン系、ニトロソ系、１：２
型金属錯塩系、分子間型ＣＴ系、キノリン系、キノフタ
ロン系、フルキド系や、トリフェニルメタン系ロイコ色
素、アゾ系などが挙げられる。

【００５４】これらのなかでも、シアニン系色素、アズ
レニウム系色素、スクアリリウム系色素、クロコニウム
系色素、アゾ系分散色素、ビスアゾスチルベン系色素、
ナフトキノン系色素、アントラキノン系色素、ペリレン
系色素、フタロシアニン系色素、ナフタロシアニン金属
錯体系色素、ポリメチン系色素、ジチオールニッケル錯
体系色素、インドアニリン金属錯体色素、分子間型ＣＴ
色素、ベンゾチオピラン系スピロピラン、ニグロシン染
料などが好ましく使用される。

【００５５】また、特公平２６７０６２１号に記載され
ているようなジチオトロポロネート系非対称型金属錯体
も本発明に好ましく用いることが出来る。

【００５６】これらの光熱変換物質は単独でも感度の向
上効果はあるが、２種以上を併用して用いることによっ
て、さらに感度を向上させることも可能である。

【００５７】吸収波長域の異なる２種以上の光熱変換物
質を含有するすることにより、２種以上のレーザー光源
に対応可能な版材を得ることも可能である。

【００５８】これらの光熱変換物質の含有量は、全感熱
層組成物に対して０．１〜４０重量％が好ましく、より
好ましくは０．５〜２５重量％である。０．１重量％よ
りも少ない場合にはレーザー光に対する感度の向上効果
が見られず、４０重量％よりも多い場合には印刷版の耐
刷性が低下しやすい。

【００５９】（ｂ）のブロックドイソシアネートとは、
イソシアネート基含有化合物と活性水素化合物（ブロッ
ク剤）の反応生成物であり、かつ常温においては安定で
あるが加熱によりブロック剤を解離し、もとの活性なイ
ソシアネート基を再生する化合物のことをいう。

【００６０】イソシアネート化合物の具体例としては、
パラフェニレンジイソシアネート、２，４−または２，
６−トルイレンジイソシアネート（ＴＤＩ）、４，４−
ジフェニルメタンジイソシアネート（ＭＤＩ）、トリジ
ンジイソシアネート（ＴＯＤＩ）、キシリレンジイソシ
アネート（ＸＤＩ）、水素化キシリレンジイソシアネー
ト、シクロヘキサンジイソシアネート、メタキシリレン
ジイソシアネート（ＭＸＤＩ）、ヘキサメチレンジイソ
シアネート（ＨＤＩあるいはＨＭＤＩ）、リジンジイソ
シアネート（ＬＤＩ）（別名４，４’−メチレンビス
（シクロヘキシルイソシアネート））、水素化ＴＤＩ
（ＨＴＤＩ）（別名メチルシクロヘキサン２，４（２，
６）ジイソシアネート）、水素化ＸＤＩ（Ｈ６ＸＤＩ）
（別名１，３−（イソシアナートメチル）シクロヘキサ
ン）、イソホロンジイソシアネート（ＩＰＤＩ）、ジフ
ェニルエーテルイソシアネート、トリメチルヘキサメチ
レンジイソシアネート（ＴＭＤＩ）、テトラメチルキシ
リレンジイソシアネート、ポリメチレンポリフェニルイ
ソシアネート、ダイマー酸ジイソシアネート（ＤＤ
Ｉ）、トリフェニルメタントリイソシアネート、トリス
（イソシアネートフェニル）チオフォスフェート、テト
ラメチルキシリレンジイソシアネート、リジンエステル
トリイソシアネート、１，６，１１−ウンデカントリイ
ソシアネート、１，８−ジイソシアネート−４−イソシ
アネートメチルオクタン、１，３，６−ヘキサメチレン
トリイソシアネート、ビシクロヘプタントリイソシアネ
ート等やポリイソシアネート類の多価アルコールアダク
ト体、あるいはポリイソシアネート類の重合体が挙げら
れる。

【００６１】また、ブロック剤としては、メタノール、
エタノール、１−プロパノール、２−プロパノール、１
−ブタノール、２−ブタノール、２−メチル−１−プロ
パノール、ｔ−ブタノール、１−ペンタノール、２−メ
チルブタノール、トリメチロールプロパンなどのアルコ
ール類や、フェノール、キシレノールなどのフェノール
類、メチルエチルケトオキシムなどのオキシム類、ε−
カプロラクタムなどのラクタム類、アミン類、カルボジ
イミド類、アセト酢酸エチルなどの活性メチレン化合物
類などが挙げられる。

【００６２】ブロックドイソシアネートの解離温度はイ
ソシアネートの種類、ブロック剤の種類などによって変
わるが、本発明においては１２０℃以上のものが好まし
い。

【００６３】１２０℃以下であると、感熱層やシリコー
ンゴム層の塗布、乾燥時にブロック剤が解離し、レーザ
ー光照射による画像形成が起こり得ない可能性が生じる
ため、特に原版の製造条件上好ましくないためである。

【００６４】次に、（ｃ）ポリアミドアミンについて説
明する。

【００６５】本発明でいうポリアミドアミンは主として
ダイマー酸とポリアミンの縮合により得られる下記一般
式（Ｉ）又は（II）で表される化合物である。

【００６６】 ＨＯＯＣ−Ｒ−ＣＯＯＨ ＋ Ｈ２Ｎ−Ｒ’−ＮＨ２ → Ｈ２Ｎ−Ｒ’−ＮＨ（−ＯＣ−Ｒ−ＣＯＮＨ−Ｒ’−ＮＨ−）ｎＨ （Ｉ） ＨＯ（ＯＣ−Ｒ−ＣＯＮＨ−Ｒ’−ＮＨ−）ｎＨ （II） （ここでＲおよびＲ’はそれぞれ炭素数１〜５０の炭化
水素基であり、水酸基、不飽和基、アミノ基、メルカプ
ト基等の官能基を有していてもよい。ｎは１〜５０の整
数である。） 原料のダイマー酸は、乾性油、半乾性油などから得られ
るＣ１８の精製植物性不飽和脂肪酸の熱重合により得ら
れ、種々の分子量、置換基およびその位置を有する化合
物群のことをさすが、その主成分は炭素数３４、３６の
飽和あるいは不飽和ジカルボン酸である。

【００６７】その製造方法故に、ダイマー酸中には、一
般に少量のトリマー酸やモノマー酸が含有されている。

【００６８】ダイマー酸は長い脂肪族炭化水素鎖を持
ち、他の２，３塩基酸にない特徴を示すため、それから
得られるポリアミドアミンは可とう性に富むなどの特性
を示す。

【００６９】また、原料の酸成分としては、生成物の物
性を制御するという観点から、酢酸、イソフタール酸、
マロン酸、ジグリコール酸、ジフェノニック酸、３，９
−ビス（２−カルボキシアルキル）２，４，８，１０−
テトラオキサスピロウンデカン、アジピン酸、セバシン
酸などを共重合成分に用いることも好ましく行われる。

【００７０】原料のポリアミンとしては、エチレンジア
ミン、ジエチレントリアミン、プロピレンジアミン、イ
ソフォロンジアミン、１，４−ビスアミノエチルベンゼ
ン、４，４−ジアミノジフェニルメタンなどが使用され
る。

【００７１】また、上記ポリアミンと共に、エタノール
アミン、メトキシプロピルアミンなどを共重合させるこ
とによって、生成物の物性を制御することも好ましく行
われる。

【００７２】このようなポリアミドアミンの具体例で市
販されているものとしては、例えば“バーサミド”“Ｄ
ＳＸ”“ゼナミド”“バーサロン”“バーサミン”“マ
クロメルト”“ＤＰＸ”“ミルベックス”などが挙げら
れる。

【００７３】ポリアミドアミンが活性アミノ基を有する
場合には、感熱層中にエポキシ樹脂などを添加すること
も好ましく行われる。

【００７４】ブロックドイソシアネートとの反応性など
との観点から、ポリアミドアミンのアミン化は１５０〜
５００であることが好ましい。アミン化が小さすぎると
イソシアネートとの反応による架橋構造の形成、ひいて
はシリコーンゴム層／感熱層間の接着力の発現が充分で
なく、一方、アミン化が大きすぎると上層のシリコーン
ゴム層の硬化に悪影響を及ぼすためである。

【００７５】また、ポリアミドアミンは感熱層とシリコ
ーンゴム層との接着性という観点から、水酸基あるいは
不飽和基を有することが好ましい。

【００７６】さらに、レーザー光照射により、必要に応
じて光熱変換物質の作用も加わって、アミノ基などを生
成するようなポリアミドアミンも本発明に含まれる。

【００７７】本発明においては、感熱層にレーザー光が
照射されると、光熱変換物質の作用で熱が発生し、その
熱によりブロックドイソシアネートが解離する。解離に
より活性化したイソシアネート化合物は感熱層中に存在
する（ｃ）のポリアミドアミンと反応することにより感
熱層中に架橋構造が形成される。この結果、シリコーン
ゴム層と感熱層の接着力が増し、その後の現像処理によ
り、レーザー光照射部のシリコーンゴム層が選択的に残
存したポジ型の水なし平版が得られる。

【００７８】画線部の形成はレーザー光未照射部のシリ
コーンゴム層、あるいはシリコーンゴム層と感熱層の除
去により行われるが、感熱層は塗布量に対して５０％以
上残存することが好ましい。感熱層が５０％以上残存す
ることで、インキマイレージが向上したり、あるいは染
色、発色などによる検版性の向上が計れるためである。

【００７９】本発明の感熱層においては、上記イソシア
ネート化合物と（ｃ）のポリアミドアミンの反応をより
速やかに進行させるため、触媒を添加しておくことが好
ましい。

【００８０】このような触媒としては、アミン系、ＤＢ
Ｕ系、金属系のものが挙げられる。

【００８１】アミン系の具体例としては、テトラメチル
ブタンジアミン、トリエチレンジアミン、Ｎ−メチルモ
ルフォリン、Ｎ−エチルモルフォリン、トリエチルアミ
ンなど、ＤＢＵ系としては、１，８−ジアザ−ビシクロ
［５，４，０］ウンデセン−７、１，４−ジアザビシク
ロ［２，２，２］オクタンなどが挙げられる。

【００８２】金属系としては、Ｋ、Ｎａ、Ｐｂ、Ｓｎ、
Ｎｉ、Ｚｎ、Ｃａ、Ｂａ、Ｃｏ、Ｃｕ、Ｆｅ、Ｍｎ等の
金属元素の酢酸金属塩、金属塩化物、硫酸金属などに分
類されるが、具体的にはオクトエ酸錫、ジブチル錫ジア
セテート、ジブチル錫ジラウレート、ジブチル錫ジオク
テート、ナフテン酸コバルト、塩化第一錫、テトラ−ｎ
−ブチル錫、塩化第二錫、トリメチル錫ヒドロキシド、
ジメチル２塩化錫、１，３−ジアセトキシテトラブチル
スタノキサンなどが挙げられる。

【００８３】本発明において、感熱層はさらにバインダ
ーポリマーを含有することが好ましい。この際、バイン
ダーポリマーとしては、有機溶剤に可溶でかつフィルム
形成能のあるものであれば特に限定されないが、印刷版
の耐刷性の観点から、該ポリマーのガラス転移温度（Ｔ
ｇ）が２０℃以下のポリマー、コポリマー、さらに好ま
しくはガラス転移温度が０℃以下のポリマー、コポリマ
ーを用いることが好ましい。

【００８４】バインダーポリマの具体例としては、公知
のビニルポリマー類、未加硫ゴム、ポリオキシド類（ポ
リエーテル類）、ポリエステル類、ポリウレタン類など
が挙げられる。

【００８５】これらのバインダーの含有量は、全感熱層
組成物に対して５〜７０重量％が好ましく、より好まし
くは１０〜５０重量％である。含有量が５％よりも少な
いと耐刷性や塗液の塗工性に問題が生じやすく、７０重
量％よりも多いと画像再現性に悪影響を与えやすい。

【００８６】上記各種バインダーポリマは単独で用いて
もよいし、また数種のポリマを混合して使用してもよ
い。

【００８７】上記ポリマの中でも、特に、ポリウレタ
ン、ポリエステル、ビニル系ポリマーがバインダーポリ
マーとして好ましい。

【００８８】また、本発明において感熱層は不飽和基含
有化合物を有することが好ましい。

【００８９】不飽和基含有化合物としては、置換もしく
は非置換の飽和、もしくは不飽和アルコール類の（メ
タ）アクリル酸エステル、カルボン酸類と（メタ）アク
リル酸グリシジルまたはテトラグリシジル−ｍ−キシリ
レンジアミンまたはテトラグリシジル−ｍ−テトラヒド
ロキシリレンジアミンとの付加反応物、（メタ）アクリ
ルアミド、ｎ−メチロールアクリルアミド、メチレンビ
スアクリルアミドなどのアミド誘導体、エポキシ化合物
と（メタ）アクリル酸との付加反応物であるエポキシア
クリレート、ウレタンアクリレート、ロジン変性アクリ
レート、ポリエステルアクリレート、メラミンアクリレ
ートなどが挙げられる。

【００９０】具体的には、２−ヒドロキシエチルアクリ
レート、２−ヒドロキシエチルアクリロイルフォスフェ
ート、テトラヒドロフルフリルアクリレート、ジシクロ
ペンテニルオキシエチルアクリレート、ブタンジオール
ジアクリレート、ノナンジオールジアクリレート、ジエ
チレングリコールジアクリレート、ポリエチレングリコ
ールジアクリレート、ヒドロキシピバリン酸エステルネ
オペンチルグリコールジアクリレート、トリプロピレン
グリコールジアクリレート、トリメチロールプロパント
リアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレー
ト、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ペン
タエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリス
リトールモノヒドロキシペンタアクリレート、さらに、
トリスアクリロイルオキシエチルフォスフェート、トリ
スアクリロイルオキシイソシアヌレート、ペンタエリス
リトールトリアクリレートヘキサメチレンジイソシアネ
ートウレタンプレポリマー、フェニルグリシジルエーテ
ルアクリレートイソホロンジイソシアネートウレタンプ
レポリマーなどが挙げられるが、これらに限定されるも
のではない。

【００９１】これらのうち、分子中に水酸基やアミノ基
を有するアクリレート類は好ましく用いることが出来
る。

【００９２】さらに、シリル基を有する各種アクリレー
ト類も好ましく用いられる。

【００９３】更に本発明において、感熱層には、染料、
レベリング剤、界面活性剤、発色剤、可塑剤等を必要に
応じて任意に添加してもよい。

【００９４】このようにして得られる感熱層の物性に関
しては、得られる印刷版の印刷特性の観点から、その物
性が特定の範囲にあることが好ましい。この様な物性と
しては引張特性、その中でも引張時の初期弾性率を代表
として挙げることが出来る。具体的には、印刷版におけ
る感熱層のレーザー光照射後の引張時の初期弾性率が７
ｋｇｆ／ｍｍ²〜７８ｋｇｆ／ｍｍ²の範囲、さらには１
０ｋｇｆ／ｍｍ²〜６５ｋｇｆ／ｍｍ²の範囲にあること
が好ましい。

【００９５】感熱層の初期弾性率を以上のような範囲に
設定することにより、印刷版としての特性、特に耐刷性
を向上させることが出来る。逆に、初期弾性率が７ｋｇ
ｆ／ｍｍ²未満である場合には画線部を形成する感熱層
がベタ着き易くなるため印刷時にヒッキーが発生し易く
なる。また、初期弾性率が７８ｋｇｆ／ｍｍ²より大き
い場合には、印刷時に加わる繰り返し応力により感熱層
とシリコーンゴム層との接着界面で破壊が起こりやすく
なり、耐刷性低下の原因となるためである。

【００９６】感熱層の厚さは、被覆層にして０．１〜１
０ｇ／ｍ２ であると、印刷版の耐刷性や、希釈溶剤を
揮散し易く生産性に優れる点で好ましく、より好ましく
は１〜７ｇ／ｍ２である。

【００９７】次にシリコーンゴム層について説明する。
本発明において、シリコーンゴム層としては、従来の水
なし平版印刷版において使用されるシリコーンゴム組成
物からなるものが挙げられる。

【００９８】具体的には線状オルガノポリシロキサン
（好ましくはジメチルポリシロキサン）をまばらに架橋
することにより得られるものが挙げられる。

【００９９】架橋方法としては、縮合型のものでも、付
加型のものでもよい。

【０１００】縮合型の架橋を行う際には、錫、亜鉛、
鉛、カルシウム、マンガンなどの金属カルボン酸塩、塩
化白金酸のような触媒が添加される事が好ましい。

【０１０１】付加型においては、白金単体、塩化白金、
塩化白金酸、オレフィン配位白金などの触媒が添加され
ることが好ましい。

【０１０２】また、付加型シリコーンゴム層の硬化速度
を制御する目的で、不飽和基含有化合物などの反応抑制
剤を添加することが好ましい。

【０１０３】これらの組成物の他に、付加型シリコーン
ゴム組成物に縮合型シリコーンゴム層の組成物である水
酸基含有オルガノポリシロキサンや加水分解性官能基含
有シラン（もしくはシロキサン）を添加してもよい。

【０１０４】また、これらシリコーンゴム層組成物に
は、ゴム強度を向上させる目的で、シリカなどの公知の
充填剤を添加することも行われる。

【０１０５】さらに、本発明においてシリコーンゴム層
は上記組成物の他にシランカップリング剤を含有するこ
とが好ましい。

【０１０６】これらシリコーンゴム層の膜厚は０．５〜
２０ｇ／ｍ２が好ましく、さらに好ましくは０．５〜５
ｇ／ｍ２である。膜厚が０．５ｇ／ｍ２よりも小さい場
合には印刷版のインキ反撥性や耐傷性、耐刷性が低下す
る傾向があり、２０ｇ／ｍ２よりも大きい場合には経済
的見地から不利であるばかりでなく、インキマイレージ
が悪くなるという問題がある。

【０１０７】次に、本発明における直描型水なし平版印
刷版原版の製造方法および製版方法について説明する。

【０１０８】必要に応じて各種処理を施された基板上
に、通常のコーターあるいはホエラーのような回転塗布
装置を用い、必要に応じて断熱層組成物を塗布し加熱に
より溶媒を揮散させ、さらに熱や光の作用で硬化させた
後、感熱層組成物を塗布し加熱による溶媒の揮散を行
う。この後、シリコーンゴム組成物を塗布し５０〜１５
０℃の温度で数分間熱処理してシリコーンゴム層を得
る。

【０１０９】このようにして得られた版には、シリコー
ンゴム層を保護する目的で保護フィルムをラミネートす
るかあるいは保護層を形成してもよい。

【０１１０】それ故、保護フィルムとしてはレーザー光
の照射を妨げることのないものが好ましい。このような
カバーフィルムの種類としては、ポリエステルフィル
ム、ポリプロピレンフィルム、ポリビニルアルコールフ
ィルム、エチレン酢酸ビニル共重合体ケン化物フィル
ム、ポリ塩化ビニリデンフィルムなどが挙げられる。

【０１１１】このようにして得られた直描型水なし平版
印刷版原版を、保護フィルムを剥離してから、あるいは
好ましくは保護フィルム上からレーザー光で画像状に露
光する。

【０１１２】本発明の製版露光工程で用いられるレーザ
ー光源としては、発光波長領域が３００ｎｍ〜１５００
ｎｍの範囲にあるものが用いられる。すなわち、アルゴ
ンイオン、クリプトンイオン、ヘリウム-ネオン、ヘリ
ウム−カドミウム、ルビー、ガラス、ＹＡＧ、チタンサ
ファイア、色素、窒素、金属蒸気、エキシマ、自由電
子、半導体などの各種レーザーが使用される。

【０１１３】これらの中でも本発明の印刷版原版を製版
する目的から、近赤外領域付近に発光波長領域が存在す
る半導体レーザーが好ましく、特に高出力半導体レーザ
ーが好ましく用いられる。

【０１１４】現像方法としては、水または有機溶剤の存
在もしくは非存在下での摩擦処理により行われる。ある
いは、保護フィルムを剥離することによって印刷版上に
パターンを形成する、いわゆる剥離現像によっても印刷
版を作成することも可能である。現像処理を行う場合に
使用される現像液としては、例えば、水や水に界面活性
剤を添加したもの、さらには水に下記の極性溶媒を添加
したものや、脂肪族炭化水素類、芳香族炭化水素類、ハ
ロゲン化炭化水素類などの少なくとも１種類からなる溶
媒に、アルコール類、エーテル類、ケトン類、エステル
類、カルボン酸などの極性溶媒を少なくとも１種類添加
したものが用いられる。

【０１１５】また、上記の現像液組成には、公知の界面
活性剤を添加することも自由に行われる。さらにアルカ
リ剤などを添加することもできる。

【０１１６】これらの中では、水あるいは水に界面活性
剤を添加したもの、さらにはアルカリを添加した水が好
ましい。

【０１１７】また、これらの現像液には公知の塩基性染
料、酸性染料、油溶性染料を添加して現像と同時に画像
部の染色化を行うことができる。

【０１１８】現像する際には、これらの現像液を、不織
布、脱脂綿、布、スポンジ等に含浸させて、版面を拭き
取ることによって、現像することができる。

【０１１９】また、現像は自動現像機を用い、上記の現
像液で版面を前処理した後に水道水などでシャワーしな
がら回転ブラシで版面を擦ることによって行うことも好
ましい。

【０１２０】上記の現像液に代えて、温水や水蒸気を版
面に噴射することによっても現像が可能である。

【０１２１】以下、本発明を実施例によりさらに詳しく
説明する。

【０１２２】

【実施例】［実施例１］厚さ０．２４ｍｍの脱脂したア
ルミ板上に下記の組成よりなる溶液を塗布し、２００
℃、２分間乾燥し、３ｇ／ｍ２の断熱層を設けた。

【０１２３】＜断熱層＞ （ａ）エポキシ・フェノール樹脂“カンコート”９０Ｔ
−２５−３０９４（関西ペイント（株）製）：１５重量
部 （ｂ）“ホワイト”ＵＬ７Ｅ２６５（住化カラー（株）
製、酸化チタン）：２重量部 （ｃ）ジメチルホルムアミド：８５重量部 次いで、この断熱層上に次の組成を有する感熱層組成物
を塗布し、８０℃で１分間乾燥し、膜厚３ｇ／ｍ２の感
熱層を設けた。

【０１２４】＜感熱層＞ （ａ）“ＫＡＹＡＳＯＲＢ”ＩＲ−８２０Ｂ（赤外線吸
収染料、日本化薬（株）製）：１０重量部 （ｂ）“デイスモジュール”ＣＴステープル（フェノー
ルブロックブロックドイソシアネート、住友デュレズ
（株）製）：３０重量部 （ｃ）“バーサミド”１２５（ポリアミドアミン、ヘン
ケル白水（株）製）：１０重量部 （ｄ）“ＴＳＬ”８３５０（γ−グリシドキシプロピル
トリメトキシシラン、東芝シリコーン（株）製）：５重
量部 （ｅ）ペンタオキシプロピレンジアミン／グリシジルメ
タクリレート／メチルグリシジルエーテル＝１／３／１
ｍｏｌ比付加反応物：４０重量部 （ｆ）“サンプレン”Ｔ−１３３１（ポリウレタン樹脂
三洋化成工業（株）製、 ガラス転移温度Ｔｇ：−３
７℃）：４０重量部 （ｇ）テトラヒドロフラン ：１０００重量部 （ｇ）ジメチルホルムアミド ：１６５重量部 さらに、この感熱層の上に下記の組成を有するシリコ−
ンゴム組成物をバーコーターで塗布した後、１２０℃で
２分間加熱硬化させて２．０μｍのシリコ−ンゴム層を
設けた。

【０１２５】＜シリコーンゴム層＞ （ａ）α，ω−ジビニルポリジメチルシロキサン（重合
度７７０） ： １００重量部 （ｂ）ＨＭＳ−５０１（チッソ（株）製 両末端メチル
（メチルハイドロジェンシロキサン）（ジメチルシロキ
サン）共重合体 ＳｉＨ基数／分子量＝０．６９mol/
g） ： ４重量部 （ｃ）オレフィン配位白金 ： ０．０２重量部 （ｄ）“ＢＹ２４−８０８”（ダウコーニングシリコー
ン（株）製 反応抑制剤） ： ０．３重量部 （ｅ）“アイソパー”Ｅ（エッソ化学（株）製） ：
１０００重量部 上記のようにして得られた積層板に、厚さ８μｍのポリ
プロピレンフィルム“トレファン”ＢＯ（東レ（株）
製）をカレンダーローラーを用いてラミネートし、直描
型水なし平版印刷版原版を得た。

【０１２６】この後、この印刷版原版をＦＸ４００−Ａ
Ｐ（製版機、東レエンジニアリング(株)製）に装着し、
半導体レーザー（波長８３０ｎｍ、ビーム直径２０μ
ｍ、出力０．７５Ｗ）を用いて露光時間１０μｓでパル
ス露光を行った。

【０１２７】レーザー照射後の版は、カバーフィルムを
剥離した後、“アイソパー”Ｅを浸した“ハイゼガー
ゼ”（旭化成工業（株）製）を用いて版面を摩擦したと
ころ、レーザー光が照射されていない部分のシリコーン
ゴム層のみが選択的に除去されたポジ型の水なし平版印
刷版が得られた。

【０１２８】シリコーンゴム層が除去された部分の感熱
層の厚さを重量法により測定したところ２．２ｇ／ｍ２
であり、残存率７３％であった。残存率は以下の算式に
より算出した。

【０１２９】 残存率（ｗｔ％）＝Ｋ₁／Ｋ₀ Ｋ₁：現像処理後の感熱層重量（ｇ／０．０１ｍ²） Ｋ₀：感熱層重量（ｇ／０．０１ｍ²） Ｋ₁の算出方法は以下に述べる方法で行った。１０ｃｍ
×１０ｃｍの断熱層、感熱層およびシリコーンゴム層を
塗布乾燥した版材を現像処理し、シリコーンゴム層を除
去した後、乾燥させその重量（Ｗ₁）を測定した。その
後、必要に応じて適当な溶剤を用い、残存する感熱層を
除去した後、乾燥し、重量（Ｗ₂）を測定した。Ｗ１と
Ｗ２の差より、現像後残存する感熱層の重量（Ｋ₁）を
算出した。

【０１３０】また、Ｋ₀は、１０ｃｍ×１０ｃｍの断熱
層を塗布した基板に感熱層を塗布乾燥し、感熱層塗布乾
燥前後の重量変化より算出した。

【０１３１】さらに、得られた刷版を印刷機ＨＡＭＡＤ
Ａ ＲＳ４６Ｌ（ハマダ印刷機械（株）製）に取り付
け、水なし平版用インキ（ドライオカラーＮＳＩ 藍
大日本インキ化学工業（株）製）を使用して上質紙に印
刷を行ったところポジ画像を再現した印刷物が得られ
た。

【０１３２】また、感熱層の初期弾性率は１６ｋｇｆ／
ｍｍ²であった。

【０１３３】［比較例１］実施例１において感熱層中の
成分（ｂ）“デイスモジュール”ＣＴステープル（フェ
ノールブロックブロックドイソシアネート、住友デュレ
ズ（株）製）：３０重量部を、（ｂ）“ミリオネート”
ＭＲ−４００（ポリメチレンジイソシアネート、日本ポ
リウレタン工業（株）製）：２０重量部に変更した以外
は全く同様に印刷版原版を作製した。実施例１と同様に
レーザー光を照射し、現像を行ったところ、レーザー光
の照射、未照射に関わらず、シリコーンゴム層が除去さ
れない状態であった。

【０１３４】［比較例２］実施例１において感熱層中の
成分（ｃ）“バーサミド”１２５（ポリアミドアミン、
ヘンケル白水（株）製）：１０重量部を、（ｃ）“スミ
ライトレジン”ＰＲ５０６２２（フェノールノボラック
樹脂、住友デュレズ（株）製）：１０重量部に変更した
以外は全く同様に印刷版原版を作製した。実施例１と同
様にレーザー光を照射し、現像を行ったところ、レーザ
ー光の照射、未照射に関わらず、シリコーンゴム層が全
て除去されたシリコーンゴム層剥がれの状態であった。

【０１３５】［実施例２］厚さ０．２４ｍｍの脱脂した
アルミ板上に下記の組成よりなる溶液を塗布し、２００
℃、２分間乾燥し、３ｇ／ｍ２の断熱層を設けた。

【０１３６】＜断熱層＞ （ａ）ポリウレタン樹脂“ミラクトラン”Ｐ２２Ｓ（日
本ミラクトラン（株）製）：１００重量部 （ｂ）ブロックドイソシアネート“タケネートＢ８３
０”（武田薬品工業（株）製）：２０重量部 （ｃ）エポキシ・フェノール・尿素樹脂“ＳＪ９３７
２”（関西ペイント（株）製）：８重量部 （ｄ）ジブチル錫ジアセテート：０．５重量部 （ｅ）“ＦＩＮＥＸ”２５（白色顔料、堺化学（株）
製）：１０重量部 （ｆ）“ＫＥＴ−ＹＥＬＬＯＷ”４０２（黄色顔料、大
日本インキ化学工業（株）製）：１０重量部 （ｇ）ジメチルホルムアミド：７２０重量部 この断熱層上に、下記感熱層を乾燥膜厚２．５ｇ／ｍ２
になるように塗布し、８０℃×１分間乾燥した。

【０１３７】＜感熱層＞ （ａ）SPRIT NIGROSINE SJ（Dye Specialities,IN
C.）：１０重量部 （ｂ）“デイスモジュール”ＣＴステープル（フェノー
ルブロックブロックドイソシアネート、住友デュレズ
（株）製）：１５重量部 （ｃ）“バーサミド”１５０（ポリアミドアミン、ヘン
ケル白水（株）製）：１０重量部 （ｄ）ｍ−キシリレンジアミン／グリシジルメタクリレ
ート／３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン＝
１／３／１ｍｏｌ比付加反応物：３０重量部 （ｅ）“デナコール”ＥＸ−４１１（ペンタエリスルト
ールポリグリシジルエーテル、ナガセ化成工業（株）
製）：５重量部 （ｆ）“サンプレン”Ｔ−１３３１（ポリウレタン樹脂
三洋化成工業（株）製、 ガラス転移温度Ｔｇ：−３
７℃）：４０重量部 （ｇ）テトラヒドロフラン ：１０００重量部 （ｈ）ジメチルホルムアミド ：１６５重量部 次いで、下記シリコーンゴム層を乾燥膜厚２．０μｍ、
乾燥条件は１２０℃×１分間として塗設し、実施例１と
同様に原版を作製した。

【０１３８】＜シリコーンゴム層＞ （ａ）ポリジメチルシロキサン（分子量約３５，００
０、末端水酸基）：１００重量部 （ｂ）エチルトリアセトキシシラン：１０重量部 （ｃ）ジブチル錫ジアセテ−ト：０．３重量部 （ｄ）“アイソパ−Ｇ”（エクソン化学（株）製）：１
２００重量部 得られた原版は実施例１と同様に評価を行ったところ、
レーザー光が照射された部分のシリコーンゴム層のみが
残存したポジ型の水なし平版印刷版が得られた。

【０１３９】シリコーンゴム層が除去された部分の感熱
層の厚さを重量法により測定したところ２．０ｇ／ｍ２
であり、残存率８０％であった。

【０１４０】［実施例３］実施例２で得た断熱層の上
に、次の組成を有する感熱層組成物を塗布し、６０℃で
１分間乾燥し、膜厚２ｇ／ｍ２の感熱層を設けた。

【０１４１】＜感熱層＞ （ａ）“ＳＯＨＮ ＢＬＡＣＫ”（Waterbase）（三菱
化学(株)製、カーボンブラックの水分散ペースト）：１
０重量部 （ｂ）“メイカネート”ＴＰ−１０（水分散型ブロック
ドイソシアネート、明成化学工業（株）製）：２０重量
部 （ｃ）“バーサミド”４１５（ポリアミドアミン、ヘン
ケル白水（株）製）：３０重量部 （ｄ）“マルカリンカー”ＰＨＭ−Ｃ（ポリパラヒドロ
キシスチレン、丸善石油化学（株）製）：２０重量部 （ｅ）“ゴーセノール”ＫＬ−０５（ポリビニルアルコ
ール、日本合成化学工業（株）製）：５重量部 （ｆ）ｍ−キシリレンジアミン／グリシジルメタクリレ
ート／３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン＝
１／３／１ｍｏｌ比付加反応物：０．５重量部 （ｇ）ジブチル錫ジアセテ−ト：０．３重量部 （ｈ）精製水：８０重量部 （ｈ）エタノール：８４０重量部 この感熱層の上に下記の組成を有するシリコ−ンゴム組
成物をバーコーターで塗布した後、１１０℃で１分間湿
熱硬化させて２．０μｍのシリコ−ンゴム層を設け、さ
らに“ルミラー”（東レ（株）製、ポリエチレンテレフ
タレートフィルム １２μｍ）をラミネートし、直描型
水なし平版印刷版原版を得た。

【０１４２】＜シリコーンゴム層＞ （ａ）ポリジメチルシロキサン（分子量約３５，００
０、末端水酸基）：１００重量部 （ｂ）ビニルトリス（メチルエチルケトオキシム）シラ
ン：８重量部 （ｃ）“アイソパ−Ｅ”（イソパラフィン系炭化水素、
エクソン化学（株）製）：１４００重量部 実施例１と同様にレーザー照射後の版は、カバーフィル
ムを剥離した後、水／ジエチレングリコールモノ−２−
エチルヘキシルエーテル：９５／５（重量部／重量部）
の混合溶液に１分間浸漬し、さらに精製水を浸した現像
パッド（３Ｍ（株）製）を用いて版面を摩擦したとこ
ろ、レーザー光が照射されなかった部分のシリコーンゴ
ム層のみが選択的に除去されたポジ型の水なし平版印刷
版が得られた。

【０１４３】［実施例４］実施例２において、感熱層の
組成を下記のように変更した以外は全く同様に印刷版原
版を作製し、同様に評価を行ったところ、レーザー光が
照射されなかった部分のシリコーンゴム層のみが選択的
に除去されたポジ型の水なし平版印刷版が得られた。

【０１４４】＜感熱層＞ （ａ）カーボンブラック分散ロジン変性マレイン酸樹脂
（内カーボンブラック２０重量部）：３０重量部 （ｂ）“ＤＭＳ−６Ｘ”（メチルエチルケトオキシムブ
ロックブロックドイソシアネート、明成化学工業（株）
製）：２０重量部 （ｃ）“ゼナミド”２５０（ポリアミドアミン、ヘンケ
ル白水（株）製）：１５重量 （ｄ）ｍ−キシリレンジアミン／グリシジルメタクリレ
ート／３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン＝
１／３／１ｍｏｌ比付加反応物：３０重量部 （ｅ）ジブチル錫ジアセテ−ト：０．３重量部 （ｆ）“サンプレン”Ｔ−１３３１（ポリウレタン樹脂
三洋化成工業（株）製、 ガラス転移温度Ｔｇ：−３
７℃）：４０重量部 （ｇ）テトラヒドロフラン ：８００重量部 （ｈ）ジメチルホルムアミド ：１７０重量部 ［実施例５］実施例４で得られた印刷版原版に、波長１
０６４ｎｍ、ビーム径１００μｍ（１／ｅ²）の半導体
励起ＹＡＧレーザーを用いて連続線の書き込みを行っ
た。記録エネルギーは０．７５Ｊ／ｃｍ２とした。

【０１４５】その後、実施例５と同様に現像処理したと
ころ、レーザー光が照射されなかった部分のシリコーン
ゴム層のみが除去されたポジ型の水なし平版印刷版が得
られた。

【０１４６】

【発明の効果】本発明は、直描型水なし平版印刷版原版
において、感熱層が光熱変換物質と、ブロックドイソシ
アネートおよびポリアミドアミンを含有することで、ポ
ジ型の直描型水なし平版印刷版が得られる。

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】基板上に、少なくとも感熱層およびシリコ
   ーンゴム層をこの順に積層してなる直描型水なし平版印
   刷版原版において、該感熱層が少なくとも （ａ）光熱変換物質 （ｂ）ブロックドイソシアネート （ｃ）ポリアミドアミン を含むことを特徴とする直描型水なし平版印刷版原版。
2. 【請求項２】請求項１記載の直描型水なし平版印刷版原
   版に、レーザー光照射後、現像処理によりレーザー光未
   照射部のシリコーンゴム層を除去することを特徴とする
   直描型水なし平版印刷版の製造方法。
3. 【請求項３】現像後のレーザー光未照射部の感熱層が５
   ０％以上残存していることを特徴とする請求項２記載の
   直描型水なし平版印刷版の製造方法。