JPH11235881A - 直描型水なし平版印刷版原版 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】ネガ型及びポジ型の直描型水なし平版印刷版を
提供する。 【解決手段】直描型水なし平版印刷版原版を、基板上
に、少なくとも感熱層およびシリコーンゴム層をこの順
に積層してなる直描型水なし平版印刷版原版において、
該シリコーンゴム層がメルカプト基を有する化合物を含
有する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、湿し水を用いずに
印刷が可能な水なし平版印刷版原版に関するものであ
り、特にレーザー光で直接製版できる直描型水なし平版
印刷版原版に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】製版用フィルムを使用しないで、原稿か
ら直接オフセット印刷版を作製する、いわゆるダイレク
ト製版は、熟練度を必要としない簡易性、短時間で印刷
版が得られる迅速性、多様なシステムから品質とコスト
に応じて選択可能である合理性などの特徴を生かして、
軽印刷業界のみでなく、一般オフセット印刷、グラビア
印刷の分野にも進出し始めている。

【０００３】特に最近では、プリプレスシステムやイメ
ージセッター、レーザープリンタなどの出力システムの
急激な進歩によって新しいタイプの各種平版印刷材料が
開発されている。

【０００４】これらの平版印刷版を製版方法から分類す
ると、レーザー光を照射する方法、サーマルヘッドで書
き込む方法、ピン電極で電圧を部分的に印加する方法、
インクジェットでインキ反撥層またはインキ着肉層を形
成する方法などが挙げられる。

【０００５】なかでも、レーザー光を用いる方法は解像
度、および製版速度の面で他の方式よりも優れており、
その種類も多い。

【０００６】このレーザー光を用いる平版印刷版はさら
に、光反応によるフォトンモードのものと、光熱変換を
行って熱反応を起こさせるヒートモードの２つのタイプ
に分けられる。

【０００７】フォトンモードタイプとしては、 （１）フォトポリマーを用いた高感度ＰＳ版 （２）有機光導電体や酸化亜鉛を用いた電子写真式平版 （３）銀塩方式平版 （４）銀塩複合方式平版 （５）直描マスター等があり、ヒートモードタイプとし
ては、 （６）熱破壊方式平版 などが挙げられる。

【０００８】しかしながら、（１）の方式はレーザー光
源に主としてアルゴンイオンレーザーを使用しているた
め装置が大型となり、また印刷版も高感度のフォトポリ
マーを使用しているため、印刷版の取扱いに注意が必要
で、なおかつ保存安定性も低下しやすいといった欠点が
ある。

【０００９】（２）の電子写真式平版は、明室で取り扱
えるといった利点はあるが、感光層の帯電後２〜５分の
間で暗減衰が大きくなるため、帯電後短時間で露光現像
処理をする必要があり、大判サイズを高解像力で出力す
るのは難しい。

【００１０】（３）の銀塩方式平版は、さまざま波長の
レーザーに対応した印刷版が開発されているが、銀廃液
が出ることが問題となっており、また感度が高いため
に、取扱いに注意を要するといった問題もある。

【００１１】（４）の銀塩複合方式平版は、感光層上に
高感度ハロゲン化銀乳剤層を設けて上層のハロゲン化銀
乳剤層をアルゴンイオンレーザーで露光、現像後それを
マスクとしてさらに紫外線で露光、現像を行うものであ
る。しかし、この印刷版は露光、現像工程が２回あるた
め、印刷版の処理が複雑になるという問題がある。

【００１２】（５）の直描マスターは、直接印刷版にレ
ーザーで書き込むわけではないが、レーザープリンタで
形成されたトナー画像をインキ着肉部として、印刷版上
に転写するものである。しかし、印刷版の解像度という
面では、他の方式と比較して劣っている。

【００１３】以上のフォトンモードタイプに対して、
（６）の熱破壊方式は、明室で取り扱えるといった利点
があり、また光源となる半導体レーザーの急激な進歩に
よって、最近その有用性が見直されてきている。

【００１４】例えば、特開平６−１９９０６４号公報、
ＵＳＰ５３３９７３７号公報、ＵＳＰ５３５３７０５号
公報、ＥＰ０５８０３９３号公報、特開平６−５５７２
３号公報、ＥＰ０５７３０９１号公報、ＵＳＰ５３７８
５８０号公報、特開平７−１６４７７３号公報、特開平
６−１８６７５０号公報、特開平７−３０９００１号公
報、特開平９−１４６２６４号公報、特開平９−１４６
２６５号公報、特開平９−２３６９２７号公報、特開平
９−２４４２２８号公報にはレーザー光を光源として用
いる直描型水なし平版印刷版原版およびその製版方法な
どが記載されている。

【００１５】この熱破壊方式の印刷版原版の感熱層は、
レーザー光吸収化合物として主としてカーボンブラック
を用い、熱分解化合物としてニトロセルロースを使用し
ている。そしてこのカーボンブラックがレーザー光を吸
収することによって熱エネルギーに変換され、さらにそ
の熱で感熱層が破壊される。そして最終的に、現像によ
ってこの部分を除去することによって、表面のシリコー
ンゴム層が同時に剥離され、インキ着肉部となる。

【００１６】しかしながらこの印刷版は、感熱層を破壊
して画像を形成することから画線部のセルの深さが深く
なり、微少網点でのインキ着肉性が悪く、インキマイレ
ージが悪いという問題点があった。更に、感熱層を熱破
壊させ易くするために、架橋構造を形成しており印刷版
の耐刷性が劣るという問題もあった。感熱層を柔軟化さ
せると感度が極端に低下し、感熱層の柔軟化は困難であ
った。

【００１７】更にこの印刷版は感度が低く、感熱層を破
壊させるために高いレーザー光の強度が必要という問題
点もあった。

【００１８】特開平９−１４６２６４号公報では、光熱
変換層中にレーザー光を熱に変換する化合物、フィルム
形成能を有する高分子化合物、光重合開始剤、および光
重合可能なエチレン性不飽和化合物を有し、シリコーン
ゴム層形成後にエネルギー線による全面露光を施すこと
により光熱変換層と、シリコーンゴム層とを反応させた
ネガ型のレーザー感光性湿し水不要平版印刷版原版が提
案されている。

【００１９】この版材では、シリコーンゴム層塗布後に
全面露光を施すことにより、例えば小林らの文献（例え
ば、“印刷学会論文集，１８，１２８（１９７９）”や
“Ｊｏｕｒｎａｌ oｆ Ａｐｐｌｉｅｄ Ｐｈｏｔｏ
ｇｒａｐｈｉｃ Ｅｎｇｉｎｅｅｒｉｎｇ，ｖｏｌ．
６，ｐｐ．６５−６８”など）に示されている公知の機
構によりシリコーンゴム層と感光層との接着力を向上さ
せ、その結果として、画像再現性、耐傷性に優れた版材
を得ている。しかしながら、前述のように、感光層の柔
軟性と感度のトレードオフ的な関係は存在しており、特
に感度が低いという問題を有していた。

【００２０】特開平９−２３９９４２号公報では、レー
ザー感応層中に酸を発生する物質と、酸の作用で分解す
る高分子化合物を含有する剥離現像タイプの印刷版が提
案されているが、レーザー光照射の工程と加熱工程とい
う二つの工程が必要になり、また微細な網点の再現性が
悪いという剥離現像固有の問題が存在する。

【００２１】また、特に特開平６−５５７２３号公報、
ＥＰ０５７３０９１号公報、ＵＳＰ５３７８５８０号公
報では、光源としてＮｄ−ＹＡＧレーザーを用いている
ために、露光装置がかなり大がかりなものとなってしま
うといった、別の問題点もあった。

【００２２】その他、ＵＳＰ５３７９６９８号公報、特
開平７−３１４９３４号公報、特開平９−２３６９２７
号公報には、金属薄膜を感熱層として用いる直描型水な
し平版印刷版が記載されている。

【００２３】この印刷版材は、感熱層がかなり薄いため
に、非常にシャープな画像が得られ、印刷版の解像度と
いう面では有利であるが、基材と感熱層の接着性が悪く
印刷中に非画線部の感熱層が剥離し、インキが付着し印
刷物上で欠点となるという問題点があった。また、この
印刷版も感熱層を破壊させて画像を形成させることから
画線部のセルが深くなりインキ着肉性やインキマイレー
ジが劣るという問題点があった。

【００２４】以上のようなレーザー光を用いた平版印刷
版の他に、特に直描型水なし平版印刷版に関するものと
して、熱接着型の直描型水なし平版印刷版が考えられ
る。

【００２５】このタイプの版材は、レーザー光照射部の
シリコーンゴム層が選択的に残存し、非画線部として働
くものである。その機構としては、レーザー光照射によ
りシリコーンゴム層とレーザー感応層との接着力、ある
いはレーザー感応層とその下にある基板との接着力が何
らかの形で向上し、その結果として、未照射部のシリコ
ーンゴム層、あるいはシリコーンゴム層とレーザー感応
層がその後の処理により選択的に除去されるというもの
である。

【００２６】このようなタイプの版材としては、例えば
特開平９−６８７９４号公報、特開平９−８０７４５号
公報、特開平９−１２０１５７号公報、特開平９−１９
７６５９号公報などが提案されている。

【００２７】特開平９−１２０１５７号公報で提案され
ている版材は、レーザー光照射により発生した酸を触媒
として感光層の反応を進め、画像を再現するというもの
である。しかしながら、酸発生後、反応を進めるために
は、熱処理という工程が必要であった。さらに、酸発生
後から熱処理までの時間が画像再現性に影響を与えるた
め、画像再現性が不安定となるという問題を有してい
た。

【００２８】特開平９−８０７４５号公報、特開平９−
１９７６５９号公報で提案されている版材も、感光層中
に活性光線の照射で酸を発生しうる化合物および酸の存
在下で反応し得る結合を有する化合物が含まれており、
レーザー光照射後、発生した酸を用いて反応を進めるタ
イプであるため、上記と同様の問題を有していた。

【００２９】

【発明が解決しようとする課題】本発明はかかる従来技
術の欠点に鑑み鋭意検討を行った結果、シリコーンゴム
層中にメルカプト基を有する化合物を含有することによ
り、レーザー光照射部のシリコーンゴム層／感熱層間の
接着力が発現するポジ型直描型水なし平版印刷版、およ
びレーザー光照射部のシリコーンゴム層／感熱層間の接
着力が低下し、シリコーンゴム層が剥離するネガ型直描
型水なし平版印刷版版を得ることが出来た。

【００３０】

【課題を解決するための手段】すなわち、本発明は以下
の構成を有する。

【００３１】（１）基板上に、少なくとも感熱層および
シリコーンゴム層をこの順に積層してなる直描型水なし
平版印刷版原版において、該シリコーンゴム層がメルカ
プト基を有する化合物を含有することを特徴とする直描
型水なし平版印刷版原版。

【００３２】（２）該化合物が下記一般式（Ｉ）で表さ
れる構造を有することを特徴とする（１）記載の直描型
水なし平版印刷版原版。

【００３３】

【化２】 （式中、ｎは０〜１０の整数であり、Ｓｉはケイ素原
子、Ｃは炭素原子、Ｓは硫黄原子、Ｈは水素原子を表
す。さらに、ｍは１以上の整数である。Ｒは水素原子ま
たは炭素数１〜１０の置換もしくは非置換のアルキル、
アリ−ル基である。） （３）該感熱層が不飽和基含有化合物を含有することを
特徴とする請求項１〜２いずれか記載の直描型水なし平
版印刷版原版。

【００３４】

【発明の実施の形態】以下に本発明を詳しく説明する。

【００３５】本発明の特徴とするところは、少なくとも
感熱層およびシリコーンゴム層をこの順に有する直描型
水なし平版印刷版原版において、該シリコーンゴム層が
メルカプト基を有する化合物を含有することである。

【００３６】メルカプト基含有化合物の具体例として
は、プロパンジチオール、ブタンジチオール、デカンジ
チオール、オクタデカンジチオール、４，８−ジチアウ
ンデカン−１，１１−ジチオール、ビス（２−メルカプ
トエチル）スルフィド、１，３−（または２，３−）ジ
ヒドロキシ−２−プロピル−２’，３’−ジメルカプト
プロピルエーテル、２，６−ジメチルオクタン−２，６
−（または−３，７−）ジチオール、３，３−ジメチル
ブタン−２，２−ジチオール、２，２−ジメチルプロパ
ン−１，３−ジチオール、３，４−ジメトキシブタン−
１，２−ジチオール、３，４−ジメルカプトブタノー
ル、１，２−ジメルカプト−１，３−ブタンジオール、
ジメルカプトプロピルメチルエーテル、２，３−ジメル
カプトプロピル−２’，３’−ジメトキシプロピルエー
テル、３，５，５−トリメチルヘキサン−１，１−ジチ
オール、３，４，５−トリメトキシペンタン−１，２−
ジチオール、ネオペンタンテトラチオール、ビス（２−
メルカプトエチル）スルフィド、ビス（８−メルカプト
オクチル）スルフィド、２，２−ビス（メルカプトメチ
ル）−１，３−プロパンジチオールなどや、アントラセ
ンジメタンチオール、ジフェニルプロパンジチオール、
ジメチルベンゼンジチオール、ジメルカプトビフェニ
ル、ジメルカプトジベンジル、２，４−ジ（ｐ−メルカ
プトフェニル）ペンタン、ベンゼンジチオール、ナフタ
レンジチオール、トルエンジチオール、ビス（メルカプ
トメチル）シクロヘキサン、フェニルメタンジチオー
ル、ｔ−ブチルシクロヘキサンジチオール、ベンゼント
リチオール、４，４’−ジメルカプトビフェニルなどが
挙げられる。

【００３７】また、シリコーンゴム層の物性、特にイン
キ反発性などを低下させないという観点から、下記一般
式（Ｉ）で表されるようなメルカプト基を有するシラン
化合物が好ましく用いられ、さらに、ジメチルシロキサ
ンやメチルフェニルシロキサン、ジフェニルシロキサン
などとのコポリマーが好ましく用いられる。

【００３８】

【化３】 （式中、ｎは０〜１０の整数であり、Ｓｉはケイ素原
子、Ｃは炭素原子、Ｓは硫黄原子、Ｈは水素原子を表
す。さらに、ｍは１以上の整数である。Ｒは水素原子ま
たは炭素数１〜１０の置換もしくは非置換のアルキル、
アリ−ル基である。） このようなメルカプト基含有シラン化合物の具体例とし
ては、３−メルカプトプロピルメチルジメトキシシラ
ン、３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、３−
メルカプトプロピルトリエトキシシラン、３−メルカプ
トプロピルメチルシロキサン−ジメチルシロキサンコポ
リマーなどが挙げられるがこれらに限定されるものでは
ない。

【００３９】このようなメルカプト基含有化合物は、従
来水なし平版で提案されてきたシリコーンゴム組成物に
添加して用いることが出来る。

【００４０】すなわち、縮合型のシリコーンゴム組成
物、付加型のシリコーンゴム組成物いずれにも使用でき
る。

【００４１】縮合型シリコーンゴム層を形成する組成物
の主成分は、次式（II）に示すような繰り返し単位を有
するものが挙げられる。

【００４２】

【化４】 （ここでｎは２以上の整数である。Ｒは炭素数１〜１０
のアルキル、アリール、あるいはシアノアルキル基であ
る。全体のＲの４０％以下がビニル、フェニル、ハロゲ
ン化ビニル、ハロゲン化フェニルであり、Ｒの６０％以
上がメチル基であるものが好ましい。） 縮合型シリコーンゴム層は、例えば上述のような構造を
有し、末端が水酸基である線状オルガノポリシロキサン
（好ましくはジメチルポリシロキサン）同士の脱水縮
合、あるいは末端水酸基の線状オルガノポリシロキサン
を架橋剤によりまばらに架橋することによって得られ
る。

【００４３】架橋剤としては、種々のアルコキシシラ
ン、オキシムシラン、アセトキシシランなどを用いるこ
とが出来る。このような架橋剤を用いた場合の硬化は、
末端水酸基の線状オルガノポリシロキサンと架橋剤の混
合物をそのまま加熱硬化あるいは湿熱硬化させてもよい
し、予め線状オルガノポリシロキサンの末端水酸基と架
橋剤を反応させておき、架橋剤でブロックされた線状オ
ルガノシロキサン同士の縮合により硬化させてもよい。
得られるシリコーンゴム層の物性を安定して発現させる
ためには、後者の方法の方が好ましい。

【００４４】また、前者の場合でも、後者の場合でも系
内には、理論量以上の過剰の架橋剤を存在させることが
好ましい。これは、雰囲気の湿度の影響により架橋剤の
失括が避けられないことや、下層の感熱層との接着に架
橋剤が消費されるためである。

【００４５】さらに、縮合型の架橋を行う際、錫、亜
鉛、鉛、カルシウム、マンガンなどの金属カルボン酸
塩、例えばラウリン酸ジブチル錫、錫（II）オクトエ−
ト、ナフテン酸塩など、あるいは塩化白金酸のような触
媒を添加する事が好ましい。

【００４６】付加型シリコーンゴム層は、分子中にビニ
ル基を有するポリオルガノシロキサンと、分子中にＳｉ
Ｈ基を有するポリオルガノシロキサンの付加反応によ
り、架橋構造が形成される。

【００４７】分子中にビニル基を有するオルガノポリシ
ロキサンとしては、分子鎖末端、中間のどちらかにビニ
ル基を２個以上有するものが挙げられ、アルケニル基以
外の有機基として、置換もしくは非置換のアルキル基、
アリール基を有するものが好ましい。また、微量の水酸
基を含有していてもよい。

【００４８】分子中に２個以上のビニル基を有するポリ
オルガノシロキサンの具体例としては以下のものが挙げ
られる。

【００４９】両末端ビニル基のポリジメチルシロキサ
ン、両末端メチル基の（メチルビニルシロキサン）（ジ
メチルシロキサン）共重合体、両末端ビニル基の（メチ
ルビニルシロキサン）（ジメチルシロキサン）共重合
体、両末端ビニル基のポリジメチルシロキサンの２分子
以上主鎖間をジメチレン架橋させた化合物、両末端メチ
ル基の（メチル１−ヘキセンシロキサン）（ジメチルシ
ロキサン）共重合体、両末端ビニル基の（メチル１−ヘ
キセンシロキサン）（ジメチルシロキサン）共重合体等
である。

【００５０】これら分子中に２個以上のビニル基を有す
るポリオルガノシロキサンは、硬化後のゴム物性という
観点から、その分子量が５，０００以上であることが好
ましく、更に好ましくは１０，０００以上である。ま
た、これらは単独で使用することもできるし、複数の種
類を任意の比率で混合して使用することもできる。

【００５１】分子中にＳｉＨ基を有するポリオルガノシ
ロキサンとしては分子鎖末端、中間のいずれかにＳｉＨ
基を３個以上有するものが挙げられ、ＳｉＨ基以外の有
機基として、置換もしくは非置換のアルキル基、アリー
ル基を有するものが好ましい。

【００５２】分子中に少なくとも３個以上のＳｉＨ基を
有するポリオルガノシロキサンの具体例としては、以下
のものが挙げられる。

【００５３】両末端ＳｉＨ基のポリジメチルシロキサ
ン、両末端メチル基のポリメチルハイドロジェンシロキ
サン、両末端メチル基の（メチルハイドロジェンシロキ
サン）（ジメチルシロキサン）共重合体、両末端ＳｉＨ
基の（メチルハイドロジェンシロキサン）（ジメチルシ
ロキサン）共重合体、環状ポリメチルハイドロジェンシ
ロキサン等が挙げられる。

【００５４】また、これらのポリオルガノシロキサンは
単独で使用することもできるし、複数の種類を任意の比
率で混合して使用することもできる。

【００５５】また、上記ビニル基含有ポリオルガノシロ
キサンと上記ＳｉＨ基含有ポリオルガノシロキサンの有
機基のうち、基数の６０％以上がメチル基であることが
インキ反撥性の向上の点で好ましく、さらには８５％以
上であることが好ましい。

【００５６】上記ビニル基含有ポリオルガノシロキサン
とＳｉＨ基含有ポリオルガノシロキサンを混合して使用
する際の比率としては、シリコーンゴム組成物中のビニ
ル基数を１とした場合にＳｉＨ基数が１．５〜１５とな
るような混合比率が好ましく、更に好ましくは１．５〜
１２が好ましい。

【００５７】ビニル基数１に対するＳｉＨ基数が１．５
未満の場合であると、シリコーンゴム層の硬化性が低下
する傾向にあり、１５より大きい場合にはシリコーンゴ
ムが脆くなり耐摩耗性が低下する傾向があり好ましくな
い。

【００５８】さらに付加型シリコーンゴム層に好ましく
用いられる白金化合物としては、特に限定されないが、
白金単体、塩化白金、塩化白金酸、オレフィン配位白金
などが挙げられる。これらの中でもオレフィン配位白金
が好ましい。

【００５９】また、付加型シリコーンゴム層の硬化速度
を制御する目的で、テトラシクロ（メチルビニル）シロ
キサンなどのビニル基含有のオルガノポリシロキサン、
炭素−炭素三重結合含有のアルコール、アセトン、メチ
ルエチルケトン、メタノール、エタノール、プロピレン
グリコールモノメチルエーテルなどの反応抑制剤を添加
することが好ましい。

【００６０】さらに、本発明において縮合型、付加型に
関わらずシリコーンゴム層は上記組成物の他に（メタ）
アクリロイルシラン、エポキシシラン、アミノシラン等
のシランカップリング剤を含有することも好ましい。

【００６１】またゴム強度を向上させる目的で、シリカ
などの公知の充填剤を添加させることも有効である。

【００６２】これらのシランカップリング剤は、シリコ
ーンゴム層組成物の固形分に対し、０．１〜５重量％の
比率で使用することが好ましく、更に好ましくは０．５
〜３重量％である。

【００６３】これらシリコーンゴム層の膜厚は０．５〜
２０ｇ／ｍ２が好ましく、さらに好ましくは０．５〜５
ｇ／ｍ２である。膜厚が０．５ｇ／ｍ２よりも小さい場
合には印刷版のインキ反撥性、耐刷性、耐傷性が低下す
る傾向があり、２０ｇ／ｍ２よりも大きい場合には経済
的見地から不利であるばかりでなく、インキマイレージ
が悪くなるという問題がある。

【００６４】次に、本発明において特徴的なことは、感
熱層中に不飽和基含有化合物を有することである。

【００６５】不飽和基含有化合物としては、置換もしく
は非置換の飽和、もしくは不飽和アルコール類の（メ
タ）アクリル酸エステル、カルボン酸類と（メタ）アク
リル酸グリシジルまたはテトラグリシジル−ｍ−キシリ
レンジアミンまたはテトラグリシジル−ｍ−テトラヒド
ロキシリレンジアミンとの付加反応物、（メタ）アクリ
ルアミド、ｎ−メチロールアクリルアミド、メチレンビ
スアクリルアミドなどのアミド誘導体、エポキシ化合物
と（メタ）アクリル酸との付加反応物であるエポキシア
クリレート、ウレタンアクリレート、ロジン変性アクリ
レート、ポリエステルアクリレート、メラミンアクリレ
ートなどが挙げられる。

【００６６】さらに具体的には、２−エチルヘキシルア
クリレート、２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−
ヒドロキシプロピルアクリレート、２−ヒドロキシエチ
ルアクリロイルフォスフェート、テトラヒドロフルフリ
ルアクリレート、ジシクロペンテニルアクリレート、ジ
シクロペンテニルオキシエチルアクリレート、１，３−
ブタンジオールジアクリレート、１，４−ブタンジオー
ルジアクリレート、１，６−ヘキサンジオールジアクリ
レート、１，９−ノナンジオールジアクリレート、ジエ
チレングリコールジアクリレート、ネオペンチルグリコ
ールジアクリレート、ポリエチレングリコールジアクリ
レート、ヒドロキシピバリン酸エステルネオペンチルグ
リコールジアクリレート、トリプロピレングリコールジ
アクリレート、１，３−ビス（３’−アクリルオキシエ
トキシ−２’−ヒドロキシプロピル）−５，５−ジメチ
ルヒダントイン、トリメチロールプロパントリアクリレ
ート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ジペン
タエリスリトールヘキサアクリレート、ペンタエリスリ
トールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールモ
ノヒドロキシペンタアクリレート、さらに、トリスアク
リロイルオキシエチルフォスフェート、イソボルニルア
クリレート、ジメチロールトリシクロデカンジアクリレ
ート、トリスアクリロイルオキシイソシアヌレート、グ
リセリンジメタクリレートヘキサメチレンジイソシアネ
ートウレタンプレポリマー、ペンタエリスリトールトリ
アクリレートヘキサメチレンジイソシアネートウレタン
プレポリマー、フェニルグリシジルエーテルアクリレー
トイソホロンジイソシアネートウレタンプレポリマーな
どが挙げられるが、これらに限定されるものではない。

【００６７】また、本発明の直描型水なし平版印刷版原
版は、レーザー光を照射することにより画像を形成させ
るため、光熱変換物質を含有することが必要である。光
熱変換物質としてはレーザー光を吸収するものであれば
特に限定されない。この時、レーザー光の波長として
は、紫外域、可視域、赤外域のどの領域の波長であって
もよく、使用するレーザー光の波長に合わせた吸収域を
有する光熱変換物質を適宜選択して使用するとよい。

【００６８】例えばカーボンブラック、アニリンブラッ
ク、シアニンブラックなどの黒色顔料、フタロシアニ
ン、ナフタロシアニン系の緑色顔料、カーボングラファ
イト、ジアミン系金属錯体、ジチオール系金属錯体、フ
ェノールチオール系金属錯体、メルカプトフェノール系
金属錯体、結晶水含有無機化合物、硫酸銅、珪酸塩化合
物や、酸化チタン、酸化バナジウム、酸化マンガン、酸
化鉄、酸化コバルト、酸化タングステンなどの金属酸化
物、これらの金属の水酸化物、硫酸塩、さらにビスマ
ス、鉄、マグネシウム、アルミの金属粉などの添加剤を
添加することが好ましい。

【００６９】また、鉄、ストロンチウム、マンガン、ゲ
ルマニウム、銀、コバルト、ニッケル、インジウム、ク
ロムなどの硫化物も本発明に用いることが出来る。

【００７０】これらのなかでも、光熱変換率、経済性お
よび取り扱い性の面から、カーボンブラックが好まし
い。

【００７１】また上記の物質以外に、赤外線または近赤
外線を吸収する染料も、光熱変換物質として好ましく使
用される。

【００７２】これら染料としては４００ｎｍ〜１２００
ｎｍの範囲に極大吸収波長を有する染料が使用できる
が、好ましい染料としては、シアニン系、フタロシアニ
ン系、フタロシアニン金属錯体系、ナフタロシアニン
系、ナフタロシアニン金属錯体系、ジチオール金属錯体
系、ナフトキノン系、アントラキノン系、インドフェノ
ール系、インドアニリン系、ピリリウム系、チオピリリ
ウム系、スクワリリウム系、クロコニウム系、ジフェニ
ルメタン系、トリフェニルメタン系、トリフェニルメタ
ンフタリド系、トリアリルメタン系、フェノチアジン
系、フェノキサジン系、フルオラン系、チオフルオラン
系、キサンテン系、インドリルフタリド系、スピロピラ
ン系、アザフタリド系、クロメノピラゾール系、ロイコ
オーラミン系、ローダミンラクタム系、キナゾリン系、
ジアザキサンテン系、ビスラクトン系、フルオレノン
系、モノアゾ系、ケトンイミン系、ジズアゾ系、ポリメ
チン系、オキサジン系、ニグロシン系、ビスアゾ系、ビ
スアゾスチルベン系、ビスアゾオキサジアゾール系、ビ
スアゾフルオレノン系、ビスアゾヒドロキシペリノン
系、アゾクロム錯塩系、トリスアゾトリフェニルアミン
系、チオインジゴ系、ペリレン系、ニトロソ系、１：２
型金属錯塩系、分子間型ＣＴ系、キノリン系、キノフタ
ロン系、フルキド系や、トリフェニルメタン系ロイコ色
素、アゾ系などが挙げられる。

【００７３】これらのなかでも、シアニン系色素、アズ
レニウム系色素、スクアリリウム系色素、クロコニウム
系色素、アゾ系分散色素、ビスアゾスチルベン系色素、
ナフトキノン系色素、アントラキノン系色素、ペリレン
系色素、フタロシアニン系色素、ナフタロシアニン金属
錯体系色素、ポリメチン系色素、ジチオールニッケル錯
体系色素、インドアニリン金属錯体色素、分子間型ＣＴ
色素、ベンゾチオピラン系スピロピラン、ニグロシン染
料などが好ましく使用される。

【００７４】また、特公平２６７０６２１号に記載され
ているようなジチオトロポロネート系非対称型金属錯体
も本発明に好ましく用いることが出来る。

【００７５】これらの光熱変換物質は単独でも感度の向
上効果はあるが、２種以上を併用して用いることによっ
て、さらに感度を向上させることも可能である。

【００７６】吸収波長域の異なる２種以上の光熱変換物
質を含有するすることにより、２種以上のレーザー光源
に対応可能な版材を得ることも可能である。

【００７７】これらの光熱変換物質の含有量は、全感熱
層組成物に対して０．１〜４０重量％が好ましく、より
好ましくは０．５〜２５重量％である。０．１重量％よ
りも少ない場合にはレーザー光に対する感度の向上効果
が見られず、４０重量％よりも多い場合には印刷版の耐
刷性が低下しやすい。

【００７８】さらに、本発明の感熱層あるいはシリコー
ンゴム層、好ましくは感熱層には熱や活性光線の作用で
ラジカルを発生する化合物を含有することが好ましい。

【００７９】熱に作用でラジカルを発生させる化合物と
しては、有機過酸化物、アゾ化合物、スルフィド類など
が挙げられる。

【００８０】有機過酸化物の具体例としては、２，４−
ジクロロベンゾイルパーオキサイド、クミルパーオキシ
オクトエート、アセチルパーオキサイド、サクシン酸パ
ーオキサイド、ｔ−ブチルパーオキシ（２−エチルヘキ
サノエート）、ｍ−トルオリルパーオキサイド、ベンゾ
イルパーオキサイド、ｔ−ブチルパーオキシソブチレー
ト、１，１−ビス（ｔ−ブチルパーオキシ）３，３，５
−トリメチルシクロヘキサン、１，１−ビス（ｔ−ブチ
ルパーオキシ）シクロヘキサン、ｔ−ブチルパーオキシ
マレイン酸、ｔ−ブチルパーオキシラウレート、ｔ−ブ
チルパーオキシ３，５，５−トリメチルヘキサノエー
ト、シクロヘキサノンパーオキサイド、ｔ−ブチルパー
オキシアリルカーボネート、ｔ−ブチルパーオキシイソ
プロピルカーボネート、２，５−ジメチル−２，５−ジ
（ベンゾイルパーオキシ）ヘキサン、２，２−ビス（ｔ
−ブチルパーオキシ）オクタン、ｔ−ブチルパーオキシ
アセテート、２，２−ビス（ｔ−ブチルパーオキシ）ブ
タン、ｔ−ブチルペーオキシベンゾエート、ｎ−ブチル
−４，４−ビス（ｔ−ブチルパーオキシ）バレレート、
ジｔ−ブチルパーオキシイソフタレート、メチルエチル
ケトンパーオキサイド、ジクミルパーオキサイド、２，
５−ジメチル−２，５−ジ（ｔ−ブチルパーオキシ）ヘ
キサン、α，α’−ビス（ｔ−ブチルパーオキシ−ｍ−
イソプロピル）ベンゼン、ｔ−ブチルクミルパーオキサ
イド、ジイソプロピルベンゼンハイドロパーオキサイ
ド、ジｔ−ブチルパーオキサイド、ｐ−メンタンヒドロ
パーオキサイド、２，５−ジメチル−２，５−ジ（ｔ−
ブチルパーオキシ）ヘキシン、１，１，３，３−テトラ
メチルブチルハイドロパーオキサイド、２，５−ジメチ
ルヘキサン−２，５−ジハイドロパーオキサイド、クメ
ンハイドロパーオキサイド、ｔ−ブチルハイドロパーオ
キサイド等が挙げられる。

【００８１】アゾ化合物の具体例としては、アゾビスイ
ソブチルニトリル、２−フェニラゾ−２，４−ジメチル
−４−メトキシバレロニトリル、２−シアノ−２−プロ
ピルアゾホルムアミド、１，１−アゾビスシクロヘキサ
ン−１−カルボニトリル、１，１’−アゾビス（１−ア
セトキシ−１−フェニレタン）、２，２’−アゾビス
（２−アミドブタン）ジヒドロクロライド等が挙げられ
る。

【００８２】スルフィド類の具体例としては公知のモノ
スルフィド類、ジスルフィド類、テトラメチルチウラム
ジスルフィド等が挙げられる。

【００８３】これら加熱によりラジカルを発生させる化
合物の中でも、有機過酸化物が好ましい。

【００８４】活性光線の作用でラジカルを発生する化合
物としては、紫外線の作用でラジカルを発生する公知の
光重合開始剤を挙げることができる。

【００８５】具体的にはベンゾフェノン、ミヒラーケト
ン、４，４−ビスジエチルアミノベンゾフェノン、キサ
ントン、アンスロンなどのベンゾフェノン誘導体、ベン
ゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチル
エーテルなどのベンゾイン誘導体、ｐ−ベンゾキノン、
β−ナフトキノン、β−メチルアントラキノンなどのキ
ノン類、チオキサントン、２−クロルチオキサントン、
２，４−ジエチルチオキサントン、イソプロピルチオキ
サントンなどのチオキサントン類、ジエトキシアセトフ
ェノン、ベンジルジメチルケタール、２−ベンジル−２
−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）ブ
タノンなどのアセトフェノン誘導体、アシルフォスフィ
ンオキサイド、２−エチルアンスラキノン、１０−ブチ
ル−２−クロロアクリドン、９，１０−フェナンスレン
キノン、カンファーキノンなどが挙げられるがこれらに
限定されるものではない。

【００８６】また、塩基性染料などの２分子性染料とト
リフェニルホウ素などの有機ホウ素化合物の組み合わせ
から選ばれる開始剤系も本発明に使用できる。このよう
な系の場合、染料の選択で開始剤が機能する波長を調整
可能であるため、紫外線の作用でラジカルを発生する化
合物としてだけではなく、上記熱の作用でラジカルを発
生する化合物としても使用可能であるため好ましく用い
ることが出来る。

【００８７】また、画像再現性の向上という観点から、
感熱層が金属キレート化合物を有してもよい。

【００８８】好ましい金属としては、は、Ａｌ、Ｓｉ、
Ｔｉ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｇｅ、Ｉ
ｎ、Ｓｎ等。また、好ましい形態としては、金属ケテネ
ート、金属アルコキサイド、アルキル金属、金属カルボ
ン酸塩類等が挙げられる。

【００８９】これらの中でも、特に好ましい金属キレー
ト化合物としては、アルミニウム、鉄（III ）、チタン
のアセチルアセトネート、メチルアセトアセトネート、
エチルアセトアセトネート、プロピルアセトアセトネー
ト、テトラメチルヘプタンジオネート、ベンゾイルアセ
トネート、メタクリルオキシエチルアセトアセテート、
アリルアセトアセテート類などが挙げられる。

【００９０】これら金属キレート化合物はそれぞれ単独
でも使用できるし、２種以上を混合して使用することも
できる。

【００９１】感熱層中に添加する量としては感熱層を形
成する固形分のうち３〜５０重量％が好ましく、さらに
は１０〜３０重量％が好ましい。添加量が３重量％未満
である場合には、その効果、すなわち画像再現性向上効
果が低くなり、一方３０重量％よりも多い場合には感熱
層の物性が低下しやすく、印刷版としては例えば耐刷性
の低下という問題が生じやすくなるためである。

【００９２】上記、金属キレート化合物を用いる場合に
は、水酸基含有化合物や不飽和基含有化合物、アミノ基
含有化合物、エポキシ基含有化合物などを併用すること
が好ましい。

【００９３】本発明において、感熱層がさらにバインダ
ーポリマーを含有することが好ましい。バインダーポリ
マーとしては、公知のビニルポリマー類、未加硫ゴム、
ポリオキシド類（ポリエーテル類）、ポリエステル類、
ポリウレタン類、ポリアミド類などが好ましく用いられ
る。

【００９４】これらのバインダーの含有量は、全感熱層
組成物に対して５〜７０重量％が好ましく、より好まし
くは１０〜５０重量％である。含有量が５％よりも少な
いと耐刷性が低下しやすく、７０重量％よりも多いと感
度が低下しやすい。

【００９５】上記各種バインダーポリマーは単独で用い
てもよいし、また数種のポリマーを混合して使用しても
よい。

【００９６】上記ポリマーの中でも、特に、ポリウレタ
ン、ポリエステル、ビニル系ポリマー、未加硫ゴムがバ
インダーポリマーとして好ましい。

【００９７】更に本発明において、感熱層には、レベリ
ング剤、界面活性剤等を必要に応じて添加してもよい。

【００９８】このようにして得られる感熱層の物性に関
しては、得られる印刷版の印刷特性、特に耐刷性の観点
から、引張時の初期弾性率が７ｋｇｆ／ｍｍ²〜７８ｋ
ｇｆ／ｍｍ²の範囲、さらには１０ｋｇｆ／ｍｍ²〜６５
ｋｇｆ／ｍｍ²の範囲にあることが好ましい。

【００９９】感熱層の厚さは、被覆層にして０．１〜１
０ｇ／ｍ２であると、印刷版の耐刷性や、希釈溶剤を揮
散し易く生産性に優れる点で好ましく、より好ましくは
１〜７ｇ／ｍ２である。

【０１００】本発明の直描型水なし平版印刷版原版に使
用できる基板としては、公知の金属、フィルム等の板状
物が好ましく挙げられる。具体的には、紙、プラスチッ
クがラミネ−トされた紙、アルミニウム（アルミニウム
合金も含む）、亜鉛、銅などの金属の板、セルロースア
セテート、ポリエチレンテレフタレ−ト、ポリエチレン
ナフタレート、ポリエチレン、ポリアミド、ポリイミ
ド、ポリスチレン、ポリプロピレン、ポリカ−ボネ−
ト、ポリビニルアセタ−ルなどのプラスチックのフィル
ム、上記の如き金属がラミネ−トもしくは蒸着された紙
もしくはプラスチックフィルムなどが挙げられる。

【０１０１】これらのうち、アルミニウム板は寸法的に
著しく安定であり、しかも安価であるので特に好まし
い。また、軽印刷用の基板として用いられているポリエ
チレンテレフタレ−トフィルムも好ましく使用される。

【０１０２】これら基板と感熱層の接着性を強固にする
ために、エッチング処理、コロナ処理、プラズマ処理な
どの表面処理を行うことは好ましく行われる。特に、ポ
リエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート
などのプラスチックフィルムを基板に用いた場合は、こ
のような表面処理で接着性を高めることは特に好ましく
行われる。

【０１０３】また、基板が金属などのように熱伝導が比
較的高い物質を使用する場合には、接着性改良と断熱効
果の目的で、基板と感熱層の間に断熱層を設けることが
好ましい。このような断熱層により、感熱層が熱反応を
起こす際の熱が基板へ拡散するのを防止することができ
る。

【０１０４】断熱層を構成する成分としては、エポキシ
樹脂、ポリウレタン樹脂、フェノ−ル樹脂、アクリル樹
脂、アルキッド樹脂、ポリエステル樹脂、ポリアミド樹
脂、尿素樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、カゼイン、
ゼラチン等を含むものが挙げられる。これらの樹脂は単
独であるいは二種以上混合して用いることができる。こ
れらの中では、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、
アクリル樹脂、エポキシ樹脂、尿素樹脂等を単独で、あ
るいは２種以上を混合して用いることが好ましい。

【０１０５】また、この断熱層中に顔料、染料等の添加
剤を含有させて検版性を向上させることも好ましい行わ
れる。

【０１０６】断熱層の厚さは被覆層にして０．５〜５０
ｇ／ｍ２ が基板表面の形態欠陥を防止し化学的悪影響
を遮断する効果や経済性の点から好ましく、より好まし
くは１〜１０ｇ／ｍ２である。

【０１０７】次に、本発明における直描型水なし平版印
刷版原版の製造方法および製版方法について説明する。

【０１０８】必要に応じて各種処理を施された基板上
に、リバースロールコーター、エアーナイフコーター、
グラビアコーター、ダイコーター、メーヤバーコーター
などの通常のコーターあるいはホエラーのような回転塗
布装置を用い、必要に応じて断熱層組成物を塗布し加熱
により溶媒を揮散させ、さらに熱や光の作用で硬化させ
た後、感熱層組成物を塗布し加熱による溶媒の揮散と必
要に応じて熱や光の作用での硬化を行う。この後、シリ
コーンゴム組成物を塗布し５０〜１５０℃の温度で数分
間熱処理してシリコーンゴム層を得る。

【０１０９】このようにして得られた版には、シリコー
ンゴム層を保護する目的で保護フィルムをラミネートす
るかあるいは保護層を形成してもよい。

【０１１０】それ故、保護フィルムとしてはレーザー光
の照射を妨げることのないものが好ましい。このような
カバーフィルムの種類としては、ポリエステルフィル
ム、ポリプロピレンフィルム、ポリビニルアルコールフ
ィルム、エチレン酢酸ビニル共重合体ケン化物フィル
ム、ポリ塩化ビニリデンフィルム、また各種金属を蒸着
したフィルムなどが挙げられる。

【０１１１】このようにして得られた直描型水なし平版
印刷版原版を、保護フィルムを剥離してから、あるいは
好ましくは保護フィルム上からレーザー光で画像状に露
光する。

【０１１２】本発明の製版露光工程で用いられるレーザ
ー光源としては、発光波長領域が３００ｎｍ〜１５００
ｎｍの範囲にあるものが用いられる。すなわち、アルゴ
ンイオン、クリプトンイオン、ヘリウム-ネオン、ヘリ
ウム−カドミウム、ルビー、ガラス、ＹＡＧ、チタンサ
ファイア、色素、窒素、金属蒸気、エキシマ、自由電
子、半導体などの各種レーザーが使用される。

【０１１３】これらの中でも本発明の印刷版原版を製版
する目的から、近赤外領域付近に発光波長領域が存在す
る半導体レーザーが好ましく、特に高出力半導体レーザ
ーが好ましく用いられる。

【０１１４】現像方法としては、水または有機溶剤の存
在もしくは非存在下での摩擦処理により行われる。ある
いは、保護フィルムを剥離することによって印刷版上に
パターンを形成する、いわゆる剥離現像によっても印刷
版を作成することも可能である。現像処理を行う場合に
使用される現像液としては、例えば、水や水に界面活性
剤を添加したもの、さらには水に下記の極性溶媒を添加
したものや、脂肪族炭化水素類、芳香族炭化水素類、ハ
ロゲン化炭化水素類などの少なくとも１種類からなる溶
媒に、アルコール類やエーテル類、ケトン類、エステル
類、カルボン酸類などの極性溶媒を少なくとも１種類添
加したものが用いられる。

【０１１５】また、上記の現像液組成に、公知の界面活
性剤を添加することも好ましく行われる。さらにアルカ
リ剤などを添加することもできる。

【０１１６】これらの中では、水あるいは水に界面活性
剤を添加したもの、さらにはアルカリを添加したものが
好ましい。

【０１１７】また、これらの現像液には公知の塩基性染
料、酸性染料、油溶性染料を添加して現像と同時に画像
部の染色化を行うことができる。

【０１１８】現像する際には、これらの現像液を、不織
布、脱脂綿、布、スポンジ等に含浸させて版面を拭き取
ることによって、あるいは自動現像機を用い、上記の現
像液で版面を前処理した後に水道水などでシャワーしな
がら回転ブラシで版面を擦ることによって行うことも好
ましい。

【０１１９】上記の現像液に代えて、温水や水蒸気を版
面に噴射することによっても現像が可能である。

【０１２０】以下、本発明を実施例によりさらに詳しく
説明する。

【０１２１】

【実施例】［実施例１］厚さ０．２４ｍｍの脱脂したア
ルミ板上に下記の組成よりなる溶液を塗布し、２００
℃、２分間乾燥し、３ｇ／ｍ２の断熱層を設けた。

【０１２２】＜断熱層＞ （ａ）エポキシ・フェノール樹脂“カンコート”９０Ｔ
−２５−３０９４（関西ペイント（株）製）：１５重量
部 （ｂ）“ホワイト”ＵＬ７Ｅ２６５（住化カラー（株）
製、酸化チタン）：２重量部 （ｃ）ジメチルホルムアミド：８５重量部 次いで、この断熱層上に次の組成を有する感熱層組成物
を乾燥膜厚２．５ｇ／ｍ２になるように塗布し、８０℃
×１分間乾燥した。その後、“アイドルフィン”２００
０（岩崎電気（株）製、メタルハライドランプ）を用い
て、空気中で感熱層全面に１１ｍＷ／ｃｍ２で６０秒間
紫外線を照射した。

【０１２３】＜感熱層＞ （ａ）“ＫＡＹＡＳＯＲＢ”ＩＲ−８２０Ｂ（赤外線吸
収染料、日本化薬（株）製）：５重量部 （ｂ）ｍ−キシリレンジアミン／グリシジルメタクリレ
ート／３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン＝
１／３／１ｍｏｌ比付加反応物：６重量部 （ｃ）鉄（III ）アセチルアセトネート（半井化学薬品
（株）製）：１５重量部 （ｄ）ペンタオキシプロピレンジアミン／グリシジルメ
タクリレート／メチルグリシジルエーテル＝１／３／１
ｍｏｌ比付加反応物：１５重量部 （ｅ）ｍ−キシリレンジアミン／グリシジルメタクリレ
ート／メチルグリシジルエーテル＝１／２／２ｍｏｌ比
付加反応物：１５重量部 （ｆ）“デナコール”ＥＸ−４１１（ペンタエリスルト
ールポリグリシジルエーテル、ナガセ化成工業（株）
製） ５重量部 （ｇ）“サンプレン”Ｔ−１３３１（ポリウレタン樹脂
三洋化成工業（株）製、 ガラス転移温度Ｔｇ：−３
７℃）：３０重量部 （ｈ）マレイン酸 ：０．５重量部 （ｉ）“ＩＲＧＡＣＵＲＥ”６５１（Ｃｉｂａ Ｇｅｉ
ｇｙ（株）製 ベンジルジメチルケタール）：２重量部 （ｊ）“ミヒラー氏ケトン”（保土谷化学（株）製
４，４’−ジメチルアミノベンゾフェノン）：５重量部 （ｋ）テトラヒドロフラン：２００重量部 （ｌ）ジメチルホルムアミド：５０重量部 この感熱層の上に下記の組成を有するシリコ−ンゴム組
成物をバーコーターで塗布した後、１１０℃で１分間加
熱硬化させて２．０μｍのシリコ−ンゴム層を設けた。

【０１２４】＜シリコーンゴム層＞ （ａ）“ＳＭＳ”０４２（メルカプトプロピルメチルシ
ロキサン−ジメチルシロキサンコポリマー、チッソ
（株）製）：２０重量部 （ｂ）ポリジメチルシロキサン（分子量約３５，００
０、末端水酸基）：１００重量部 （ｃ）エチルトリアセトキシシラン：１０重量部 （ｄ）ジブチル錫ジアセテ−ト：０．３重量部 （ｅ）“アイソパ−Ｇ”（エクソン化学（株）製）：１
１７０重量部 上記のようにして得られた積層板に、厚さ８μｍのポリ
エステルフィルム“ルミラー”（東レ（株）製）をカレ
ンダーローラーを用いてラミネートし、直描型水なし平
版印刷版原版を得た。

【０１２５】この後、この印刷版原版をＦＸ４００−Ａ
Ｐ（製版機、東レエンジニアリング(株)製）に装着し、
半導体レーザー（波長８３０ｎｍ、ビーム直径２０μ
ｍ、出力０．６５Ｗ）を用いて露光時間１０μｓでパル
ス露光を行った。

【０１２６】レーザー照射後の版は、カバーフィルムを
剥離した後、“アイソパー”Ｅを浸した“ハイゼガー
ゼ”（旭化成工業（株）製）を用いて版面を摩擦したと
ころ、レーザー光が照射された部分のシリコーンゴム層
のみが選択的に除去されたネガ型の水なし平版印刷版が
得られた。

【０１２７】シリコーンゴム層が除去された部分の感熱
層の厚さを重量法により測定したところ２．４ｇ／ｍ２
であり、残存率９６％であった。

【０１２８】さらに、得られた刷版を印刷機ＨＡＭＡＤ
Ａ ＲＳ４６Ｌ（ハマダ印刷機械（株）製）に取り付
け、水なし平版用インキ（ドライオカラーＮＳＩ 藍
大日本インキ化学工業（株）製）を使用して上質紙に印
刷を行ったところ１０万枚までネガ画像を再現した印刷
物が得られた。

【０１２９】また、感熱層の初期弾性率は１９ｋｇｆ／
ｍｍ²であった。

【０１３０】［比較例１］実施例１において、シリコー
ンゴム層中のメルカプト基含有化合物である（ａ）“Ｓ
ＭＳ”０４２を抜いた以外は全く同様にして印刷版原版
を作製し、同様に評価したところ、シリコーンゴム層が
版面全体にわたり剥がれた版しか得られなかった。

【０１３１】［実施例２］実施例１における感熱層を下
記に変更し、乾燥膜厚２．５ｇ／ｍ²、乾燥条件は８０
℃×１分間とした。

【０１３２】さらに、製版後の版を用いて、画線部ベタ
部の感熱層の厚さを測定したところ２．１ｇ／ｍ²であ
り、残存率が８４％であることが判明した。

【０１３３】＜感熱層＞ （ａ）“ＫＡＹＡＳＯＲＢ”ＩＲ−８２０Ｂ（赤外線吸
収染料、日本化薬（株）製）：５重量部 （ｂ）ｍ−キシリレンジアミン／グリシジルメタクリレ
ート／３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン＝
１／３／１ｍｏｌ比付加反応物：６重量部 （ｃ）“アルミキレート”Ａ（アルミニウムアセチルア
セトネート、川研ファインケミカル（株）製）：１５重
量部 （ｄ）ペンタオキシプロピレンジアミン／グリシジルメ
タクリレート／メチルグリシジルエーテル＝１／３／１
ｍｏｌ比付加反応物：１５重量部 （ｅ）ｍ−キシリレンジアミン／グリシジルメタクリレ
ート／メチルグリシジルエーテル＝１／２／２ｍｏｌ比
付加反応物：１５重量部 （ｆ）“デナコール”ＥＸ−４１１（ペンタエリスルト
ールポリグリシジルエーテル、ナガセ化成工業（株）
製） ５重量部 （ｇ）“サンプレン”Ｔ−１３３１（ポリウレタン樹脂
三洋化成工業（株）製、 ガラス転移温度Ｔｇ：−３
７℃）：３０重量部 （ｈ）マレイン酸 ：０．５重量部 （ｉ）“パーヘキサ”３Ｍ（有機過酸化物 日本油脂
（株）製）：１０重量部 （ｊ）テトラヒドロフラン：２００重量部 （ｋ）ジメチルホルムアミド：５０重量部 また、感熱層の初期弾性率は２０ｋｇｆ／ｍｍ²であっ
た。

【０１３４】さらに、この感熱層の上に実施例１と同じ
シリコ−ンゴム層を塗設し、さらに同じカバーフィルム
をラミネートし、直描型水なし平版印刷版原版を得た。

【０１３５】この後、同様にレーザー照射、現像を行っ
たところ、レーザー光が照射された部分のみのシリコー
ンゴム層が残存し、その他の部分はシリコーンゴム層が
除去されたポジ型の水なし平版が得られた。

【０１３６】さらに、製版後の版を用いて、画線部ベタ
部の感熱層の厚さを測定したところ１．９ｇ／ｍ２であ
り、残存率が７６％であることが判明した。

【０１３７】［比較例２］実施例２において、シリコー
ンゴム層中のメルカプト基含有化合物である（ａ）“Ｓ
ＭＳ”０４２を抜いた以外は全く同様にして印刷版原版
を作製し、同様に評価したところ、シリコーンゴム層が
版面全体にわたり剥がれた版しか得られなかった。

【０１３８】［比較例３］比較例２の版を、ＦＸ４００
−ＡＰ（製版機、東レエンジニアリング(株)製）に装着
し、出力を０．９５Ｗとし、半導体レーザー（波長８３
０ｎｍ、ビーム直径２０μｍ）を用いて露光時間１０μ
ｓでパルス露光を行い、実施例２と同様に評価したとこ
ろ、レーザー光が照射された部分のシリコーンゴム層が
わずかに残存し、その他の部分はシリコーンゴム層が除
去されたポジ型の水なし平版が得られた。しかしなが
ら、さらに“ハイゼガーゼ”で版面を擦るとシリコーン
ゴム層は除去されてしまった。

【０１３９】［実施例３］厚さ０．２４ｍｍの脱脂した
アルミ板上に下記の組成よりなる溶液を塗布し、２００
℃、２分間乾燥し、３ｇ／ｍ２の断熱層を設けた。

【０１４０】＜断熱層＞ （ａ）ポリウレタン樹脂“ミラクトラン”Ｐ２２Ｓ（日
本ミラクトラン（株）製）：１００重量部 （ｂ）ブロックドイソシアネート“タケネートＢ８３
０”（武田薬品工業（株）製）：２０重量部 （ｃ）エポキシ・フェノール・尿素樹脂“ＳＪ９３７
２”（関西ペイント（株）製）：８重量部 （ｄ）ジブチル錫ジアセテート：０．５重量部 （ｅ）“ＦＩＮＥＸ”２５（白色顔料、堺化学（株）
製）：１０重量部 （ｆ）“ＫＥＴ−ＹＥＬＬＯＷ”４０２（黄色顔料、大
日本インキ化学工業（株）製）：１０重量部 （ｇ）ジメチルホルムアミド：７２０重量部 この断熱層の上に、次の組成を有する感熱層組成物を塗
布し、１４０℃で１分間乾燥し、膜厚３ｇ／ｍ２の感熱
層を設けた。

【０１４１】＜感熱層＞ （ａ）カーボンブラック分散ロジン変性マレイン酸樹脂
（内カーボンブラック１０重量部）：１５重量部 （ｂ）鉄（III ）アセチルアセトネート（半井化学薬品
（株）製）：１０重量部 （ｃ）“スミライトレジン”ＰＲ−５０７３１（ノボラ
ック樹脂、住友デュレス（株）製））：２０重量部 （ｄ）“エポキシエステル”３０００Ｍ（水酸基含有ア
クリレート、共栄社化学（株）製）：２０重量部 （ｅ）“サンプレン”ＬＱ−Ｔ１３３１（ポリウレタン
樹脂、三洋化成工業（株）製）：４０重量部 （ｆ）“ＴＳＬ”８３７０（シリル基含有アクリレー
ト、東芝シリコーン（株）製）：５重量部 （ｇ）“パーヘキサ”３Ｍ（有機過酸化物 日本油脂
（株）製）：１０重量部 （ｈ）Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド：１３５重量部 （ｉ）テトラヒドロフラン：８００重量部 この感熱層の上に下記の組成を有するシリコ−ンゴム組
成物をバーコーターで塗布した後、１３０℃で１分間湿
熱硬化させて２．０μｍのシリコ−ンゴム層を設けた。

【０１４２】（ａ）“ＳＭＳ”０２２（メルカプトプロ
ピルメチルシロキサン−ジメチルシロキサンコポリマ
ー、チッソ（株）製）：３０重量部 （ｂ）ポリジメチルシロキサン（分子量約３５，００
０、末端水酸基）：１００重量部 （ｃ）ビニルトリス（メチルエチルケトオキシム）シラ
ン：９重量部 （ｄ）ジブチル錫ジアセテ−ト ： ０．５重量部 （ｅ）“アイソパ−Ｅ”（エクソン化学（株）製）：１
２００重量部 さらに、厚さ８μｍのポリプロピレンフィルム“トレフ
ァン”ＢＯ（東レ（株）製）をカレンダーローラーを用
いてラミネートし、直描型水なし平版印刷版原版を得
た。

【０１４３】この後、実施例１と同様にレーザー照射、
現像を行ったところ、レーザー光が照射された部分のみ
のシリコーンゴム層が除去されたネガ型の水なし平版が
得られた。

【０１４４】さらに、製版後の版を用いて、画線部ベタ
部の感熱層の厚さを測定したところ２．８ｇ／ｍ２であ
り、残存率が９３％であることが判明した。

【０１４５】［実施例４］実施例３におけるシリコーン
ゴム層を下記に変更し、乾燥膜厚２．０μｍ、乾燥条件
は１２０℃×１分間とした以外は全く実施例３と同様に
原版を作製し、評価を行ったところ、ネガ型の水なし平
版印刷版が得られた。

【０１４６】＜シリコーンゴム層＞ （ａ）３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン：５
重量部 （ｂ）α，ω−ジビニルポリジメチルシロキサン（重合
度７７０）：１００重量部 （ｃ）ＨＭＳ−５０１（チッソ（株）製 両末端メチル
（メチルハイドロジェンシロキサン）（ジメチルシロキ
サン）共重合体 ＳｉＨ基数／分子量＝０．６９ｍｏｌ
／ｇ）：４重量部 （ｄ）オレフィン配位白金 ：０．０２重量部 （ｅ）“ＢＹ２４−８０８”（ダウコーニングシリコー
ン（株）製 反応抑制剤）：０．３重量部 （ｆ）“アイソパー”Ｅ（エッソ化学（株）製）：１０
００重量部

【０１４７】

【発明の効果】直描型水なし平版印刷版原版を、基板上
に、少なくとも感熱層およびシリコーンゴム層をこの順
に積層してなる直描型水なし平版印刷版原版において、
該シリコーンゴム層にメルカプト基を有する化合物を含
有させることで、ネガ型及びポジ型の直描型水なし平版
印刷版原版が得られる。

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】基板上に、少なくとも感熱層およびシリコ
   ーンゴム層をこの順に積層してなる直描型水なし平版印
   刷版原版において、該シリコーンゴム層がメルカプト基
   を有する化合物を含有することを特徴とする直描型水な
   し平版印刷版原版。
2. 【請求項２】該化合物が下記一般式（Ｉ）で表される構
   造を有することを特徴とする請求項１記載の直描型水な
   し平版印刷版原版。 【化１】 （式中、ｎは０〜１０の整数であり、Ｓｉはケイ素原
   子、Ｃは炭素原子、Ｓは硫黄原子、Ｈは水素原子を表
   す。さらに、ｍは１以上の整数である。Ｒは水素原子ま
   たは炭素数１〜１０の置換もしくは非置換のアルキル、
   アリ−ル基である。）
3. 【請求項３】該感熱層が不飽和基含有化合物を含有する
   ことを特徴とする請求項１〜２いずれか記載の直描型水
   なし平版印刷版原版。