JPH11231527A - 光画像形成性組成物 - Google Patents
光画像形成性組成物Info
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- JPH11231527A JPH11231527A JP10337101A JP33710198A JPH11231527A JP H11231527 A JPH11231527 A JP H11231527A JP 10337101 A JP10337101 A JP 10337101A JP 33710198 A JP33710198 A JP 33710198A JP H11231527 A JPH11231527 A JP H11231527A
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- photoinitiator
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- addition polymerizable
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- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
- G03F7/028—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with photosensitivity-increasing substances, e.g. photoinitiators
- G03F7/029—Inorganic compounds; Onium compounds; Organic compounds having hetero atoms other than oxygen, nitrogen or sulfur
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
- C08L33/00—Compositions of homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical, or of salts, anhydrides, esters, amides, imides or nitriles thereof; Compositions of derivatives of such polymers
- C08L33/04—Homopolymers or copolymers of esters
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 高柔軟性が維持されたまま、高テント膜強度
を有し、短時間での作業が可能な光画像形成性組成物を
提供すること。 【解決手段】 （Ａ）組成物をアルカリ水溶液中で現像
可能にし得る酸基を有する高分子バインダー、（Ｂ）エ
チレン性不飽和化合物である付加重合性成分及び（Ｃ）
活性光線の照射によって（Ｂ）付加重合性成分の重合を
開始させる光開始剤からなり、（Ａ）が（Ａ）、（Ｂ）
及び（Ｃ）全量の２９〜６９％、（Ｂ）が全量の３０〜
６０％、（Ｃ）が全量の０．１〜１５％であり、（Ａ）
が（Ａ′）重量平均分子量５０００〜４００００のバイ
ンダーポリマー及び（Ａ″）重量平均分子量４１０００
〜２０００００のバインダーポリマーで、（Ａ′）が全
量の３〜６９％、（Ａ″）が全量の０〜６６％であり、
（Ｂ）が（Ｂ′）イソシアネート化合物及び（Ｂ″）他
のエチレン性不飽和化合物で、（Ｂ′）が全量の２〜３
０％、（Ｂ″）が全量の０〜５７％である光画像形成性
組成物。
を有し、短時間での作業が可能な光画像形成性組成物を
提供すること。 【解決手段】 （Ａ）組成物をアルカリ水溶液中で現像
可能にし得る酸基を有する高分子バインダー、（Ｂ）エ
チレン性不飽和化合物である付加重合性成分及び（Ｃ）
活性光線の照射によって（Ｂ）付加重合性成分の重合を
開始させる光開始剤からなり、（Ａ）が（Ａ）、（Ｂ）
及び（Ｃ）全量の２９〜６９％、（Ｂ）が全量の３０〜
６０％、（Ｃ）が全量の０．１〜１５％であり、（Ａ）
が（Ａ′）重量平均分子量５０００〜４００００のバイ
ンダーポリマー及び（Ａ″）重量平均分子量４１０００
〜２０００００のバインダーポリマーで、（Ａ′）が全
量の３〜６９％、（Ａ″）が全量の０〜６６％であり、
（Ｂ）が（Ｂ′）イソシアネート化合物及び（Ｂ″）他
のエチレン性不飽和化合物で、（Ｂ′）が全量の２〜３
０％、（Ｂ″）が全量の０〜５７％である光画像形成性
組成物。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、光画像形成性組成
物に関する。さらに詳しくは、たとえばプリント回路基
板の作製に用いられるフォトレジスト、とくに一次光画
像形成レジストとして好適に使用し得るほか、はんだマ
スクなどの形成に充分な程度に硬化し得るネガ型光画像
形成性組成物に関する。
物に関する。さらに詳しくは、たとえばプリント回路基
板の作製に用いられるフォトレジスト、とくに一次光画
像形成レジストとして好適に使用し得るほか、はんだマ
スクなどの形成に充分な程度に硬化し得るネガ型光画像
形成性組成物に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、種々の光画像形成性組成物が開発
されてきており、これらの光画像形成性組成物は、通
常、たとえば主にプリント回路基板作製時のフォトレジ
ストとしてや、はんだマスクの形成などに用いられる。
されてきており、これらの光画像形成性組成物は、通
常、たとえば主にプリント回路基板作製時のフォトレジ
ストとしてや、はんだマスクの形成などに用いられる。
【０００３】光画像形成性組成物は、基板との良好な密
着性を有するものでなければならない。一般にかかる組
成物としては、より平坦な表面に密着し、より細かい回
路を形成し得るものであることが求められている。した
がって、密着性の向上は大きな解決課題である。
着性を有するものでなければならない。一般にかかる組
成物としては、より平坦な表面に密着し、より細かい回
路を形成し得るものであることが求められている。した
がって、密着性の向上は大きな解決課題である。
【０００４】またフォトレジストでは、同時に柔軟性も
求められるほか、テント膜強度についても考慮されなけ
ればならない。
求められるほか、テント膜強度についても考慮されなけ
ればならない。
【０００５】プリント回路基板には、通常その一方の回
路をもう一方の回路へ接続するための貫通孔が設けられ
ており、フォトレジストは、基板作製時にこれらの貫通
孔に膜を張る（テンティングの）ために必要とされる。
そして、プリント回路基板の多層化、高付加価値化に伴
い、フォトレジストのテント膜強度の重要性が増大して
いる。
路をもう一方の回路へ接続するための貫通孔が設けられ
ており、フォトレジストは、基板作製時にこれらの貫通
孔に膜を張る（テンティングの）ために必要とされる。
そして、プリント回路基板の多層化、高付加価値化に伴
い、フォトレジストのテント膜強度の重要性が増大して
いる。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】本発明は前記従来技術
に鑑みてなされたものであり、高柔軟性が維持されたま
ま、高テント膜強度、すぐれた密着性、硬化性などが兼
備され、短時間での作業が可能であり、とくに一次光画
像形成レジストなどのフォトレジストとしてや、はんだ
マスクなどの形成に好適に使用することができる光画像
形成性組成物を提供することを目的とする。
に鑑みてなされたものであり、高柔軟性が維持されたま
ま、高テント膜強度、すぐれた密着性、硬化性などが兼
備され、短時間での作業が可能であり、とくに一次光画
像形成レジストなどのフォトレジストとしてや、はんだ
マスクなどの形成に好適に使用することができる光画像
形成性組成物を提供することを目的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明は、（Ａ）組成物
をアルカリ水溶液中で現像可能にし得る充分な酸基を有
する有機高分子バインダー、（Ｂ）α，β−エチレン性
不飽和化合物からなる付加重合性成分および（Ｃ）活性
光線の照射によって（Ｂ）付加重合性成分の重合を開始
させる光開始剤からなり、（Ａ）有機高分子バインダー
の量が（Ａ）有機高分子バインダー、（Ｂ）付加重合性
成分および（Ｃ）光開始剤の全量の２９〜６９重量％、
（Ｂ）付加重合性成分の量が（Ａ）有機高分子バインダ
ー、（Ｂ）付加重合性成分および（Ｃ）光開始剤の全量
の３０〜６０重量％、ならびに（Ｃ）光開始剤の量が
（Ａ）有機高分子バインダー、（Ｂ）付加重合性成分お
よび（Ｃ）光開始剤の全量の０．１〜１５重量％であ
り、前記（Ａ）有機高分子バインダーが（Ａ′）重量平
均分子量が５０００〜４００００のバインダーポリマー
および（Ａ″）重量平均分子量が４１０００〜２０００
００のバインダーポリマーからなり、（Ａ′）バインダ
ーポリマーの量が（Ａ）有機高分子バインダー、（Ｂ）
付加重合性成分および（Ｃ）光開始剤の全量の３〜６９
重量％、ならびに（Ａ″）バインダーポリマーの量が
（Ａ）有機高分子バインダー、（Ｂ）付加重合性成分お
よび（Ｃ）光開始剤の全量の０〜６６重量％であり、前
記（Ｂ）付加重合性成分が（Ｂ′）トリ−α，β−エチ
レン性不飽和基を有するイソシアネート化合物および
（Ｂ″）その他のα，β−エチレン性不飽和化合物から
なり、（Ｂ′）イソシアネート化合物の量が（Ａ）有機
高分子バインダー、（Ｂ）付加重合性成分および（Ｃ）
光開始剤の全量の２〜３０重量％、ならびに（Ｂ″）そ
の他のα，β−エチレン性不飽和化合物の量が（Ａ）有
機高分子バインダー、（Ｂ）付加重合性成分および
（Ｃ）光開始剤の全量の０〜５７重量％である光画像形
成性組成物に関する。
をアルカリ水溶液中で現像可能にし得る充分な酸基を有
する有機高分子バインダー、（Ｂ）α，β−エチレン性
不飽和化合物からなる付加重合性成分および（Ｃ）活性
光線の照射によって（Ｂ）付加重合性成分の重合を開始
させる光開始剤からなり、（Ａ）有機高分子バインダー
の量が（Ａ）有機高分子バインダー、（Ｂ）付加重合性
成分および（Ｃ）光開始剤の全量の２９〜６９重量％、
（Ｂ）付加重合性成分の量が（Ａ）有機高分子バインダ
ー、（Ｂ）付加重合性成分および（Ｃ）光開始剤の全量
の３０〜６０重量％、ならびに（Ｃ）光開始剤の量が
（Ａ）有機高分子バインダー、（Ｂ）付加重合性成分お
よび（Ｃ）光開始剤の全量の０．１〜１５重量％であ
り、前記（Ａ）有機高分子バインダーが（Ａ′）重量平
均分子量が５０００〜４００００のバインダーポリマー
および（Ａ″）重量平均分子量が４１０００〜２０００
００のバインダーポリマーからなり、（Ａ′）バインダ
ーポリマーの量が（Ａ）有機高分子バインダー、（Ｂ）
付加重合性成分および（Ｃ）光開始剤の全量の３〜６９
重量％、ならびに（Ａ″）バインダーポリマーの量が
（Ａ）有機高分子バインダー、（Ｂ）付加重合性成分お
よび（Ｃ）光開始剤の全量の０〜６６重量％であり、前
記（Ｂ）付加重合性成分が（Ｂ′）トリ−α，β−エチ
レン性不飽和基を有するイソシアネート化合物および
（Ｂ″）その他のα，β−エチレン性不飽和化合物から
なり、（Ｂ′）イソシアネート化合物の量が（Ａ）有機
高分子バインダー、（Ｂ）付加重合性成分および（Ｃ）
光開始剤の全量の２〜３０重量％、ならびに（Ｂ″）そ
の他のα，β−エチレン性不飽和化合物の量が（Ａ）有
機高分子バインダー、（Ｂ）付加重合性成分および
（Ｃ）光開始剤の全量の０〜５７重量％である光画像形
成性組成物に関する。
【０００８】
【発明の実施の形態】本発明の光画像形成性組成物は、
比較的低分子量のバインダーポリマーを含有し、光重合
性ウレタンオリゴマーが光重合性成分の少なくとも一部
として用いられた、アルカリ水溶液中で現像可能な組成
物である。
比較的低分子量のバインダーポリマーを含有し、光重合
性ウレタンオリゴマーが光重合性成分の少なくとも一部
として用いられた、アルカリ水溶液中で現像可能な組成
物である。
【０００９】本発明の光画像形成性組成物の必須構成成
分は、バインダーポリマー（有機高分子バインダー）
（Ａ）、光重合性α，β−エチレン性不飽和化合物（付
加重合性成分）（Ｂ）および光開始剤（有機放射線感応
性フリーラジカル生成化合物）（Ｃ）であり、必要に応
じてジベンゾエート可塑剤（Ｄ）が用いられる。バイン
ダーポリマー（Ａ）は、充分な酸基、通常カルボン酸基
を有し、このバインダーポリマー（Ａ）がアルカリ水溶
液に溶解し得ることから、本発明の光画像形成性組成物
は、アルカリ水溶液中で現像可能なのである。付加重合
性成分（Ｂ）は非気体エチレン性不飽和化合物またはラ
ジカル重合によってポリマーを形成しうる化合物であ
る。光開始剤（Ｃ）は活性光線にて活性化され、付加重
合性成分（Ｂ）の連鎖成長付加重合を開始させる成分で
ある。
分は、バインダーポリマー（有機高分子バインダー）
（Ａ）、光重合性α，β−エチレン性不飽和化合物（付
加重合性成分）（Ｂ）および光開始剤（有機放射線感応
性フリーラジカル生成化合物）（Ｃ）であり、必要に応
じてジベンゾエート可塑剤（Ｄ）が用いられる。バイン
ダーポリマー（Ａ）は、充分な酸基、通常カルボン酸基
を有し、このバインダーポリマー（Ａ）がアルカリ水溶
液に溶解し得ることから、本発明の光画像形成性組成物
は、アルカリ水溶液中で現像可能なのである。付加重合
性成分（Ｂ）は非気体エチレン性不飽和化合物またはラ
ジカル重合によってポリマーを形成しうる化合物であ
る。光開始剤（Ｃ）は活性光線にて活性化され、付加重
合性成分（Ｂ）の連鎖成長付加重合を開始させる成分で
ある。
【００１０】ここで、成分（Ａ）（有機高分子バインダ
ー（Ａ））、成分（Ｂ）（光（付加）重合性成分
（Ｂ））および成分（Ｃ）（光開始剤（Ｃ））は全体で
１００重量％と考えられ、たとえば成分（Ｄ）（ジベン
ゾエート可塑剤（Ｄ））などの他の成分は、成分
（Ａ）、成分（Ｂ）および成分（Ｃ）の全量１００重量
部（以下、部という）に対する量（部）として計算され
る。
ー（Ａ））、成分（Ｂ）（光（付加）重合性成分
（Ｂ））および成分（Ｃ）（光開始剤（Ｃ））は全体で
１００重量％と考えられ、たとえば成分（Ｄ）（ジベン
ゾエート可塑剤（Ｄ））などの他の成分は、成分
（Ａ）、成分（Ｂ）および成分（Ｃ）の全量１００重量
部（以下、部という）に対する量（部）として計算され
る。
【００１１】本発明の光画像形成性組成物は、前記した
ように、アルカリ水溶液中で現像可能であり、したがっ
て、実質的に酸基を有する。このように本発明の光画像
形成性組成物が実質的に酸基を有するのは、酸基を有す
るバインダーポリマー（Ａ）が用いられているからであ
る。かかるバインダーポリマー（Ａ）としては、酸価が
約８０以上、好ましくは約１００以上、さらに好ましく
は約１３０以上であり、また約２５０以下であるものが
望ましい。前記酸基とは、通常カルボン酸基であるが、
たとえばスルホン酸基、リン酸基などが考えられる。
ように、アルカリ水溶液中で現像可能であり、したがっ
て、実質的に酸基を有する。このように本発明の光画像
形成性組成物が実質的に酸基を有するのは、酸基を有す
るバインダーポリマー（Ａ）が用いられているからであ
る。かかるバインダーポリマー（Ａ）としては、酸価が
約８０以上、好ましくは約１００以上、さらに好ましく
は約１３０以上であり、また約２５０以下であるものが
望ましい。前記酸基とは、通常カルボン酸基であるが、
たとえばスルホン酸基、リン酸基などが考えられる。
【００１２】バインダーポリマー（Ａ）は、通常酸基を
有するモノマーと酸基を有しないモノマーとを共重合さ
せて得られる。かかる酸基を有するモノマーの好ましい
例としては、たとえばアクリル酸、メタクリル酸、マレ
イン酸、フマル酸、シトラコン酸、２−アクリルアミド
−２−メチルプロパンスルホン酸、２−ヒドロキシエチ
ルアクリロイルホスフェート、２−ヒドロキシプロピル
アクリロイルホスフェート、２−ヒドロキシ−α−アク
リロイルホスフェートなどがあげられ、これらのなかか
ら１種またはそれ以上のモノマーを用い、バインダーポ
リマー（Ａ）を得ることができる。
有するモノマーと酸基を有しないモノマーとを共重合さ
せて得られる。かかる酸基を有するモノマーの好ましい
例としては、たとえばアクリル酸、メタクリル酸、マレ
イン酸、フマル酸、シトラコン酸、２−アクリルアミド
−２−メチルプロパンスルホン酸、２−ヒドロキシエチ
ルアクリロイルホスフェート、２−ヒドロキシプロピル
アクリロイルホスフェート、２−ヒドロキシ−α−アク
リロイルホスフェートなどがあげられ、これらのなかか
ら１種またはそれ以上のモノマーを用い、バインダーポ
リマー（Ａ）を得ることができる。
【００１３】また、かかる酸基を有しないモノマーとし
ては、たとえばメチルアクリレート、メチルメタクリレ
ート、ヒドロキシエチルアクリレート、ブチルメタクリ
レート、オクチルアクリレート、２−エトキシエチルメ
タクリレート、ｔ−ブチルアクリレート、ｎ−ブチルア
クリレート、２−エチルヘキシルアクリレート、ｎ−ヘ
キシルアクリレート、１，５−ペンタンジオールジアク
リレート、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノエチルアクリレー
ト、エチレングリコールジアクリレート、１，３−プロ
パンジオールジアクリレート、デカメチレングリコール
ジアクリレート、デカメチレングリコールジメタクリレ
ート、１，４−シクロヘキサンジオールジアクリレー
ト、２，２−ジメチロールプロパンジアクリレート、グ
リセロールジアクリレート、トリプロピレングリコール
ジアクリレート、グリセロールトリアクリレート、プロ
ピレングリコールモノメタクリレート、２，２−ジ（ｐ
−ヒドロキシフェニル）プロパンジメタクリレート、ト
リエチレングリコールジアクリレート、ポリオキシエチ
ル−２，２−ジ（ｐ−ヒドロキシフェニル）プロパンジ
メタクリレート、トリエチレングリコールジメタクリレ
ート、トリメチロールプロパントリアクリレート、ポリ
オキシプロピルトリメチロールプロパントリアクリレー
ト、エチレングリコールジメタクリレート、ブチレング
リコールジメタクリレート、１，３−プロパンジオール
ジメタクリレート、１，２，４−ブタントリオールトリ
メタクリレート、２，２，４−トリメチル−１，３−ペ
ンタンジオールジメタクリレート、ペンタエリスリトー
ルトリメタクリレート、１−フェニルエチレン−１，２
−ジメタクリレート、ペンタエリスリトールテトラメタ
クリレート、１，５−ペンタンジオールジメタクリレー
ト、１，４−ベンゼンジオールジメタクリレートなどの
アクリル酸またはメタクリル酸のエステル；スチレン
や、２−メチルスチレン、ビニルトルエンなどの置換ス
チレン；ビニルアクリレート、ビニルメタクリレートな
どのビニルエステルなどがあげられる。
ては、たとえばメチルアクリレート、メチルメタクリレ
ート、ヒドロキシエチルアクリレート、ブチルメタクリ
レート、オクチルアクリレート、２−エトキシエチルメ
タクリレート、ｔ−ブチルアクリレート、ｎ−ブチルア
クリレート、２−エチルヘキシルアクリレート、ｎ−ヘ
キシルアクリレート、１，５−ペンタンジオールジアク
リレート、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノエチルアクリレー
ト、エチレングリコールジアクリレート、１，３−プロ
パンジオールジアクリレート、デカメチレングリコール
ジアクリレート、デカメチレングリコールジメタクリレ
ート、１，４−シクロヘキサンジオールジアクリレー
ト、２，２−ジメチロールプロパンジアクリレート、グ
リセロールジアクリレート、トリプロピレングリコール
ジアクリレート、グリセロールトリアクリレート、プロ
ピレングリコールモノメタクリレート、２，２−ジ（ｐ
−ヒドロキシフェニル）プロパンジメタクリレート、ト
リエチレングリコールジアクリレート、ポリオキシエチ
ル−２，２−ジ（ｐ−ヒドロキシフェニル）プロパンジ
メタクリレート、トリエチレングリコールジメタクリレ
ート、トリメチロールプロパントリアクリレート、ポリ
オキシプロピルトリメチロールプロパントリアクリレー
ト、エチレングリコールジメタクリレート、ブチレング
リコールジメタクリレート、１，３−プロパンジオール
ジメタクリレート、１，２，４−ブタントリオールトリ
メタクリレート、２，２，４−トリメチル−１，３−ペ
ンタンジオールジメタクリレート、ペンタエリスリトー
ルトリメタクリレート、１−フェニルエチレン−１，２
−ジメタクリレート、ペンタエリスリトールテトラメタ
クリレート、１，５−ペンタンジオールジメタクリレー
ト、１，４−ベンゼンジオールジメタクリレートなどの
アクリル酸またはメタクリル酸のエステル；スチレン
や、２−メチルスチレン、ビニルトルエンなどの置換ス
チレン；ビニルアクリレート、ビニルメタクリレートな
どのビニルエステルなどがあげられる。
【００１４】前記バインダーポリマー（Ａ）は、重量平
均分子量が約５０００〜約４００００のバインダーポリ
マー（Ａ′）および重量平均分子量が約４１０００〜約
２０００００のバインダーポリマー（Ａ″）からなるも
のである。
均分子量が約５０００〜約４００００のバインダーポリ
マー（Ａ′）および重量平均分子量が約４１０００〜約
２０００００のバインダーポリマー（Ａ″）からなるも
のである。
【００１５】バインダーポリマー（Ａ′）は比較的低分
子量のバインダーポリマーであり、その重量平均分子量
は、約５０００以上、好ましくは約２００００以上、ま
た約４００００以下、好ましくは約３００００以下であ
る。このような比較的低分子量のバインダーポリマー
（Ａ′）を用いることにより、密着性が向上し、作業時
間が短縮されるといったすぐれた効果が発現される。
子量のバインダーポリマーであり、その重量平均分子量
は、約５０００以上、好ましくは約２００００以上、ま
た約４００００以下、好ましくは約３００００以下であ
る。このような比較的低分子量のバインダーポリマー
（Ａ′）を用いることにより、密着性が向上し、作業時
間が短縮されるといったすぐれた効果が発現される。
【００１６】前記バインダーポリマー（Ａ′）は単独で
用いてもよいが、重量平均分子量が約４１０００以上、
好ましくは約５００００以上、また約２０００００以
下、好ましくは約１６００００以下の比較的高分子量の
前記バインダーポリマー（Ａ″）と併用してもよい。か
かるバインダーポリマー（Ａ″）を用いた場合、テント
膜強度が向上する。
用いてもよいが、重量平均分子量が約４１０００以上、
好ましくは約５００００以上、また約２０００００以
下、好ましくは約１６００００以下の比較的高分子量の
前記バインダーポリマー（Ａ″）と併用してもよい。か
かるバインダーポリマー（Ａ″）を用いた場合、テント
膜強度が向上する。
【００１７】バインダーポリマー（Ａ）の量は、通常成
分（Ａ）、成分（Ｂ）および成分（Ｃ）の全量の約２９
重量％以上、好ましくは約４５重量％以上であり、また
約６９重量％以下、好ましくは約６５重量％以下であ
る。
分（Ａ）、成分（Ｂ）および成分（Ｃ）の全量の約２９
重量％以上、好ましくは約４５重量％以上であり、また
約６９重量％以下、好ましくは約６５重量％以下であ
る。
【００１８】また、バインダーポリマー（Ａ）を構成す
るバインダーポリマー（Ａ′）の量は、通常成分
（Ａ）、成分（Ｂ）および成分（Ｃ）の全量の約３重量
％以上、好ましくは約５重量％以上であり、また約６９
重量％以下、好ましくは約４０重量％以下である。さら
にバインダーポリマー（Ａ″）の量は、通常成分
（Ａ）、成分（Ｂ）および成分（Ｃ）の全量の好ましく
は約５重量％以上であり、また約６６重量％以下、好ま
しくは約６０重量％以下である。
るバインダーポリマー（Ａ′）の量は、通常成分
（Ａ）、成分（Ｂ）および成分（Ｃ）の全量の約３重量
％以上、好ましくは約５重量％以上であり、また約６９
重量％以下、好ましくは約４０重量％以下である。さら
にバインダーポリマー（Ａ″）の量は、通常成分
（Ａ）、成分（Ｂ）および成分（Ｃ）の全量の好ましく
は約５重量％以上であり、また約６６重量％以下、好ま
しくは約６０重量％以下である。
【００１９】前記のごときバインダーポリマー（Ａ）お
よびこれを用いた光画像形成性組成物の例は、たとえば
以下の米国特許第３，９５３，３０９号、第４，００
３，８７７号、第４，６１０，９５１号および第４，６
９５，５２７号明細書に記載されている。
よびこれを用いた光画像形成性組成物の例は、たとえば
以下の米国特許第３，９５３，３０９号、第４，００
３，８７７号、第４，６１０，９５１号および第４，６
９５，５２７号明細書に記載されている。
【００２０】付加重合性成分（Ｂ）は、α，β−エチレ
ン性不飽和化合物からなるものであり、かかるα，β−
エチレン性不飽和化合物は、トリ−α，β−エチレン性
不飽和基を有するイソシアネート化合物（Ｂ′）
（（Ｂ′）成分）と、かかる（Ｂ′）成分以外のその他
のα，β−エチレン性不飽和化合物（Ｂ″）（（Ｂ″）
成分）とからなるものである。
ン性不飽和化合物からなるものであり、かかるα，β−
エチレン性不飽和化合物は、トリ−α，β−エチレン性
不飽和基を有するイソシアネート化合物（Ｂ′）
（（Ｂ′）成分）と、かかる（Ｂ′）成分以外のその他
のα，β−エチレン性不飽和化合物（Ｂ″）（（Ｂ″）
成分）とからなるものである。
【００２１】前記イソシアネート化合物（Ｂ′）は、光
画像形成性でトリ−α，β−エチレン性不飽和基を有す
るものであり、たとえば一般式（Ｉ）：
画像形成性でトリ−α，β−エチレン性不飽和基を有す
るものであり、たとえば一般式（Ｉ）：
【００２２】
【化１】
【００２３】（式中、Ｒ1は一般式（II）：
【００２４】
【化２】
【００２５】（式中、ＸはＨまたはＣＨ3、ＹはＨ、Ｃ
Ｈ3またはＣ2Ｈ5、ｐは１〜３６の整数、ｍは１〜１４
の整数を示す）で表わされる基を示す）で表わされる化
合物などがあげられる。かかるイソシアネート化合物
（Ｂ′）は、ヨーロッパ特許出願ＥＰ ０ ７３８ ９
２７ Ａ２に記載されている。
Ｈ3またはＣ2Ｈ5、ｐは１〜３６の整数、ｍは１〜１４
の整数を示す）で表わされる基を示す）で表わされる化
合物などがあげられる。かかるイソシアネート化合物
（Ｂ′）は、ヨーロッパ特許出願ＥＰ ０ ７３８ ９
２７ Ａ２に記載されている。
【００２６】低分子量のバインダーポリマー（バインダ
ーポリマー（Ａ′））を用いることにより、密着性が向
上し、作業時間が短縮される一方、短鎖ポリマーによっ
て光画像形成性組成物の全体的な柔軟性が低下する傾向
がある。かかる柔軟性の問題は、低分子量のバインダー
ポリマーとともに、トリアクリレート官能性（トリ−
α，β−エチレン性不飽和基）を有するイソシアネート
化合物（Ｂ′）（以下、ウレタンオリゴマーともいう）
を用いることによって解消される。このことから、イソ
シアネート化合物（Ｂ′）の重量平均分子量は約１００
０以上であることが好ましい。
ーポリマー（Ａ′））を用いることにより、密着性が向
上し、作業時間が短縮される一方、短鎖ポリマーによっ
て光画像形成性組成物の全体的な柔軟性が低下する傾向
がある。かかる柔軟性の問題は、低分子量のバインダー
ポリマーとともに、トリアクリレート官能性（トリ−
α，β−エチレン性不飽和基）を有するイソシアネート
化合物（Ｂ′）（以下、ウレタンオリゴマーともいう）
を用いることによって解消される。このことから、イソ
シアネート化合物（Ｂ′）の重量平均分子量は約１００
０以上であることが好ましい。
【００２７】このような比較的高い重量平均分子量のウ
レタンオリゴマー（Ｂ′）によって低分子量のバインダ
ーポリマー（Ａ′）の問題が解消され、高分子量のポリ
マーを用いた組成物に匹敵する柔軟性を有する光画像形
成性組成物が得られる。
レタンオリゴマー（Ｂ′）によって低分子量のバインダ
ーポリマー（Ａ′）の問題が解消され、高分子量のポリ
マーを用いた組成物に匹敵する柔軟性を有する光画像形
成性組成物が得られる。
【００２８】付加重合性成分（Ｂ）の残りは、前記イソ
シアネート化合物（Ｂ′）以外のその他のα，β−エチ
レン性不飽和化合物（Ｂ″）である。
シアネート化合物（Ｂ′）以外のその他のα，β−エチ
レン性不飽和化合物（Ｂ″）である。
【００２９】その他のα，β−エチレン性不飽和化合物
（Ｂ″）は、通常α，β−エチレン性不飽和結合を有す
るモノマー、ダイマーまたは短鎖オリゴマーであり、か
かるその他のα，β−エチレン性不飽和化合物（Ｂ″）
には、単官能化合物およびα，β−エチレン性不飽和基
を２またはそれ以上有する化合物も含まれる。通常、単
官能化合物および多官能化合物の混合物を用いることが
好ましい。その他のα，β−エチレン性不飽和化合物
（Ｂ″）としては、好ましくは、たとえば前記バインダ
ーポリマー（Ａ）を得る際に好適に用いられるモノマー
として例示されたモノマー、とくに酸基を有しないモノ
マーがあげられるが、これらに限定されるものではな
い。
（Ｂ″）は、通常α，β−エチレン性不飽和結合を有す
るモノマー、ダイマーまたは短鎖オリゴマーであり、か
かるその他のα，β−エチレン性不飽和化合物（Ｂ″）
には、単官能化合物およびα，β−エチレン性不飽和基
を２またはそれ以上有する化合物も含まれる。通常、単
官能化合物および多官能化合物の混合物を用いることが
好ましい。その他のα，β−エチレン性不飽和化合物
（Ｂ″）としては、好ましくは、たとえば前記バインダ
ーポリマー（Ａ）を得る際に好適に用いられるモノマー
として例示されたモノマー、とくに酸基を有しないモノ
マーがあげられるが、これらに限定されるものではな
い。
【００３０】付加重合性成分（Ｂ）の量は、通常成分
（Ａ）、成分（Ｂ）および成分（Ｃ）の全量の約３０重
量％以上、好ましくは約３２重量％以上であり、また約
６０重量％以下、好ましくは約５０重量％以下である。
（Ａ）、成分（Ｂ）および成分（Ｃ）の全量の約３０重
量％以上、好ましくは約３２重量％以上であり、また約
６０重量％以下、好ましくは約５０重量％以下である。
【００３１】また、付加重合性成分（Ｂ）を構成するイ
ソシアネート化合物（Ｂ′）の量は、通常成分（Ａ）、
成分（Ｂ）および成分（Ｃ）の全量の約２重量％以上、
好ましくは約５重量％以上であり、また約３０重量％以
下、好ましくは約２８重量％以下である。さらにその他
のα，β−エチレン性不飽和化合物（Ｂ″）の量は、通
常成分（Ａ）、成分（Ｂ）および成分（Ｃ）の全量の好
ましくは約５重量％以上であり、また約５７重量％以
下、好ましくは約４０重量％以下である。
ソシアネート化合物（Ｂ′）の量は、通常成分（Ａ）、
成分（Ｂ）および成分（Ｃ）の全量の約２重量％以上、
好ましくは約５重量％以上であり、また約３０重量％以
下、好ましくは約２８重量％以下である。さらにその他
のα，β−エチレン性不飽和化合物（Ｂ″）の量は、通
常成分（Ａ）、成分（Ｂ）および成分（Ｃ）の全量の好
ましくは約５重量％以上であり、また約５７重量％以
下、好ましくは約４０重量％以下である。
【００３２】活性光線を照射してモノマーの重合を開始
させるために、光画像形成性組成物には光開始剤（Ｃ）
が含まれる。該光開始剤（Ｃ）は、活性光線により活性
化し得る有機放射線感応性フリーラジカル生成化合物で
あり、付加重合性成分（Ｂ）の連鎖成長付加重合を開始
させる。
させるために、光画像形成性組成物には光開始剤（Ｃ）
が含まれる。該光開始剤（Ｃ）は、活性光線により活性
化し得る有機放射線感応性フリーラジカル生成化合物で
あり、付加重合性成分（Ｂ）の連鎖成長付加重合を開始
させる。
【００３３】光開始剤（Ｃ）の好ましい例としては、た
とえば９−フェニルアクリジン、ベンゾインエーテル、
ベンジルケタール、アセトフェノン、ベンゾフェノン、
アミン関連化合物などのほか、９−フェニルアクリジン
の同族体などがあげられる。かかる９−フェニルアクリ
ジンの同族体は、たとえば米国特許第５，２１７，８４
５号明細書に記載されている。これらのなかでは、実用
面からすると、目下のところ９−フェニルアクリジンが
好ましい光開始剤である。
とえば９−フェニルアクリジン、ベンゾインエーテル、
ベンジルケタール、アセトフェノン、ベンゾフェノン、
アミン関連化合物などのほか、９−フェニルアクリジン
の同族体などがあげられる。かかる９−フェニルアクリ
ジンの同族体は、たとえば米国特許第５，２１７，８４
５号明細書に記載されている。これらのなかでは、実用
面からすると、目下のところ９−フェニルアクリジンが
好ましい光開始剤である。
【００３４】光開始剤（Ｃ）の量は、通常成分（Ａ）、
成分（Ｂ）および成分（Ｃ）の全量の約０．１重量％以
上、好ましくは約０．５重量％以上であり、また約１５
重量％以下、好ましくは約１０重量％以下である。
成分（Ｂ）および成分（Ｃ）の全量の約０．１重量％以
上、好ましくは約０．５重量％以上であり、また約１５
重量％以下、好ましくは約１０重量％以下である。
【００３５】本発明においては、前記付加重合性成分
（Ｂ）(イソシアネート化合物(Ｂ′））とともにジベン
ゾエート可塑剤（Ｄ）を用いた場合には、柔軟性がさら
に向上し、すぐれた細線密着性かつ剥離性が光画像形成
性組成物に付与される。
（Ｂ）(イソシアネート化合物(Ｂ′））とともにジベン
ゾエート可塑剤（Ｄ）を用いた場合には、柔軟性がさら
に向上し、すぐれた細線密着性かつ剥離性が光画像形成
性組成物に付与される。
【００３６】本発明に用いられるジベンゾエート可塑剤
（Ｄ）としては、たとえば一般式（III）：
（Ｄ）としては、たとえば一般式（III）：
【００３７】
【化３】
【００３８】（式中、Ｒは式：−ＣＨＸ−ＣＨＸ−Ｏ−
（式中、いずれのＸもＨであるかまたは一方のＸがＨで
他方のＸがＣＨ3を示す）で表わされる基、Ｒ′は−Ｃ
Ｈ2−ＣＨ（ＣＨ3）−ＯＯＣ−、−ＣＨ2−ＣＨ2−ＯＯ
Ｃ−または−ＯＣ−、ｎは１〜１０を示す）で表わされ
る化合物があげられる。かかるジベンゾエート可塑剤
（Ｄ）の好ましい例として、たとえばジプロピレングリ
コールジベンゾエート、ジエチレングリコールジベンゾ
エート、ポリプロピレングリコールジベンゾエート、ポ
リエチレングリコールジベンゾエートなどがあげられる
が、これらに限定されるものではない。
（式中、いずれのＸもＨであるかまたは一方のＸがＨで
他方のＸがＣＨ3を示す）で表わされる基、Ｒ′は−Ｃ
Ｈ2−ＣＨ（ＣＨ3）−ＯＯＣ−、−ＣＨ2−ＣＨ2−ＯＯ
Ｃ−または−ＯＣ−、ｎは１〜１０を示す）で表わされ
る化合物があげられる。かかるジベンゾエート可塑剤
（Ｄ）の好ましい例として、たとえばジプロピレングリ
コールジベンゾエート、ジエチレングリコールジベンゾ
エート、ポリプロピレングリコールジベンゾエート、ポ
リエチレングリコールジベンゾエートなどがあげられる
が、これらに限定されるものではない。
【００３９】ジベンゾエート可塑剤（Ｄ）を用いる場
合、その量は、通常成分（Ａ）、成分（Ｂ）および成分
（Ｃ）の全量の好ましくは約１重量％以上、さらに好ま
しくは約２重量％以上であり、また好ましくは約８重量
％以下、さらに好ましくは約６重量％以下である。
合、その量は、通常成分（Ａ）、成分（Ｂ）および成分
（Ｃ）の全量の好ましくは約１重量％以上、さらに好ま
しくは約２重量％以上であり、また好ましくは約８重量
％以下、さらに好ましくは約６重量％以下である。
【００４０】他の可塑剤を用いた場合と比べて、ジベン
ゾエート可塑剤（Ｄ）を用いた場合には、テント膜強度
の向上がいちじるしい。柔軟性の向上と合わせて、ジベ
ンゾエート可塑剤（Ｄ）と付加重合性成分（Ｂ）（イソ
シアネート化合物（Ｂ′））との組合わせによって銅表
面に充分に密着し得る精密な（７５μｍ未満の）レジス
トパターンが形成される。このことは、ジベンゾエート
可塑剤（Ｄ）によってより低いガラス転移温度（Ｔｇ）
が組成物に付与されることに基づくと考えられる。Ｔｇ
が低いほど、ラミネート時におけるよりよい流動性およ
び銅表面へのよりよい追従性が付与される。この特性
は、欠け傷や引かき傷を有する銅表面にはとくに重要で
ある。ジベンゾエート可塑剤（Ｄ）を用いた組成物は銅
表面によりよく追従するので、より広いフォトレジスト
表面領域がかかる銅表面と接触し、密着性が向上する。
ジベンゾエート可塑剤（Ｄ）は、重合したアクリルモノ
マー系の骨格内には導入され得ないので、ジベンゾエー
ト可塑剤（Ｄ）が含まれることによって組成物が全体的
に収縮することはほとんどない。このように収縮がほと
んどない場合、銅／フォトレジスト界面上での応力がほ
とんど発生せず、密着性が向上する。収縮を最少限に抑
えることは、９−フェニルアクリジンを光開始剤として
用いる際に、この光開始剤によって高い架橋密度が得ら
れるという理由から、とくに重要な事項である。
ゾエート可塑剤（Ｄ）を用いた場合には、テント膜強度
の向上がいちじるしい。柔軟性の向上と合わせて、ジベ
ンゾエート可塑剤（Ｄ）と付加重合性成分（Ｂ）（イソ
シアネート化合物（Ｂ′））との組合わせによって銅表
面に充分に密着し得る精密な（７５μｍ未満の）レジス
トパターンが形成される。このことは、ジベンゾエート
可塑剤（Ｄ）によってより低いガラス転移温度（Ｔｇ）
が組成物に付与されることに基づくと考えられる。Ｔｇ
が低いほど、ラミネート時におけるよりよい流動性およ
び銅表面へのよりよい追従性が付与される。この特性
は、欠け傷や引かき傷を有する銅表面にはとくに重要で
ある。ジベンゾエート可塑剤（Ｄ）を用いた組成物は銅
表面によりよく追従するので、より広いフォトレジスト
表面領域がかかる銅表面と接触し、密着性が向上する。
ジベンゾエート可塑剤（Ｄ）は、重合したアクリルモノ
マー系の骨格内には導入され得ないので、ジベンゾエー
ト可塑剤（Ｄ）が含まれることによって組成物が全体的
に収縮することはほとんどない。このように収縮がほと
んどない場合、銅／フォトレジスト界面上での応力がほ
とんど発生せず、密着性が向上する。収縮を最少限に抑
えることは、９−フェニルアクリジンを光開始剤として
用いる際に、この光開始剤によって高い架橋密度が得ら
れるという理由から、とくに重要な事項である。
【００４１】さらに、本発明の光画像形成性組成物に
は、たとえばその他のポリマー、染料、安定剤、柔軟
剤、充填剤などの既知の種々の添加成分が含有されてい
てもよい。
は、たとえばその他のポリマー、染料、安定剤、柔軟
剤、充填剤などの既知の種々の添加成分が含有されてい
てもよい。
【００４２】本発明の光画像形成性組成物を用いる工程
は従来のとおりである。代表的な手法では、液体状組成
物から形成させるかまたは乾燥フィルムから層として転
移させた光画像形成性組成物層を銅張積層板の銅表面に
ラミネートする。この光画像形成性組成物層に適切な装
置にて活性光線を照射させる。活性光線の照射により光
照射域のモノマーが重合し、その結果、現像液に対する
耐性を有する架橋構造が形成される。つぎに、組成物を
たとえば１％炭酸ナトリウム水溶液などの希アルカリ水
溶液中で現像する。このアルカリ水溶液がバインダーポ
リマー（Ａ）のカルボキシル基と塩を形成するようにな
り、バインダーポリマー（Ａ）が可溶で除去し得るもの
となる。現像ののち、レジストが除去された部分から銅
を除去するために、エッチング液を用いてもよく、これ
によりプリント回路が形成される。残ったレジストは、
こののち適切な剥離液を用いて除去される。
は従来のとおりである。代表的な手法では、液体状組成
物から形成させるかまたは乾燥フィルムから層として転
移させた光画像形成性組成物層を銅張積層板の銅表面に
ラミネートする。この光画像形成性組成物層に適切な装
置にて活性光線を照射させる。活性光線の照射により光
照射域のモノマーが重合し、その結果、現像液に対する
耐性を有する架橋構造が形成される。つぎに、組成物を
たとえば１％炭酸ナトリウム水溶液などの希アルカリ水
溶液中で現像する。このアルカリ水溶液がバインダーポ
リマー（Ａ）のカルボキシル基と塩を形成するようにな
り、バインダーポリマー（Ａ）が可溶で除去し得るもの
となる。現像ののち、レジストが除去された部分から銅
を除去するために、エッチング液を用いてもよく、これ
によりプリント回路が形成される。残ったレジストは、
こののち適切な剥離液を用いて除去される。
【００４３】
【実施例】つぎに、本発明の光画像形成性組成物を実施
例に基づいてさらに詳細に説明するが、本発明はかかる
実施例のみに限定されるものではない。
例に基づいてさらに詳細に説明するが、本発明はかかる
実施例のみに限定されるものではない。
【００４４】実施例１〜４（１〜３は比較例） まず、表１に示す組成となるようにフォトレジスト用組
成物を調製した。なお、表１中の量は１００％固形分の
量（ｇ）である。
成物を調製した。なお、表１中の量は１００％固形分の
量（ｇ）である。
【００４５】
【表１】
【００４６】組成物は、いずれも２−ブタノン／２−プ
ロパノール混合溶媒（重量比：７／１）中、固形分濃度
約５０重量％に調製した。得られた混合溶液をポリエス
テルフィルムに塗布し、残留溶媒が約１重量％またはそ
れ未満となるように乾燥させた。ついで塗工乾燥物を、
銅張積層板（銅厚：３５μｍ）上に、ホットロールラミ
ネーターを用いて温度１１０℃、速度２ｍ／分、圧力３
ｋｇ／ｃｍ2でラミネートさせた。
ロパノール混合溶媒（重量比：７／１）中、固形分濃度
約５０重量％に調製した。得られた混合溶液をポリエス
テルフィルムに塗布し、残留溶媒が約１重量％またはそ
れ未満となるように乾燥させた。ついで塗工乾燥物を、
銅張積層板（銅厚：３５μｍ）上に、ホットロールラミ
ネーターを用いて温度１１０℃、速度２ｍ／分、圧力３
ｋｇ／ｃｍ2でラミネートさせた。
【００４７】つぎに、ストウファー（Stouffer、登録商
標）の２１ステップウェッジで測定して銅ステップ７と
なるように露光量を調整し（約２０ｍＪ／ｃｍ2）、適
切なフォトツールを用いて画像形成した。ついで、チャ
ンバー長の４０〜５０％（特定の注釈がないかぎり）の
部分にブレイクポイントが現れるように滞留時間を調整
し、スプレー現像を行ない（３０℃の１％炭酸ナトリウ
ム溶液）、水洗した。
標）の２１ステップウェッジで測定して銅ステップ７と
なるように露光量を調整し（約２０ｍＪ／ｃｍ2）、適
切なフォトツールを用いて画像形成した。ついで、チャ
ンバー長の４０〜５０％（特定の注釈がないかぎり）の
部分にブレイクポイントが現れるように滞留時間を調整
し、スプレー現像を行ない（３０℃の１％炭酸ナトリウ
ム溶液）、水洗した。
【００４８】エッチングは、２Ｎの塩化銅（II）／塩酸
水溶液を用いて４８℃で行なった。ついで、３％水酸化
ナトリウム水溶液中、５４℃で、画像形成、現像および
エッチングされたフォトレジストをエッチングボードか
ら剥離し、さらに水洗した。
水溶液を用いて４８℃で行なった。ついで、３％水酸化
ナトリウム水溶液中、５４℃で、画像形成、現像および
エッチングされたフォトレジストをエッチングボードか
ら剥離し、さらに水洗した。
【００４９】各実施例（比較例）での試験は、前記工程
を通して種々の時点で行なわれた。これらの結果（各特
性）を表２に示す。
を通して種々の時点で行なわれた。これらの結果（各特
性）を表２に示す。
【００５０】なお、実施例４では、低分子量ポリマー
（バインダーポリマー（Ａ′））とウレタンオリゴマー
（イソシアネート化合物（Ｂ′））との相乗作用が示さ
れている。
（バインダーポリマー（Ａ′））とウレタンオリゴマー
（イソシアネート化合物（Ｂ′））との相乗作用が示さ
れている。
【００５１】
【表２】
【００５２】なお、表２に示した各特性は以下の方法に
したがって調べた。
したがって調べた。
【００５３】（１）細線密着性 現像後に測定した値であり、４００μｍのスペースを有
する独立細線で密着しているもっとも細い線である。露
光はストウファー２１銅ステップのステップ７となるよ
うにし、現像チャンバー長の２５％の部分にブレイクポ
イントが現れるようにした。現像液は１％Ｎａ2ＣＯ3で
あった（３０℃）。
する独立細線で密着しているもっとも細い線である。露
光はストウファー２１銅ステップのステップ７となるよ
うにし、現像チャンバー長の２５％の部分にブレイクポ
イントが現れるようにした。現像液は１％Ｎａ2ＣＯ3で
あった（３０℃）。
【００５４】（２）テント膜強度 ６ｍｍφの孔にフォトレジストをラミネートし、ついで
露光、現像した。露光はストウファー２１銅ステップの
ステップ７となるようにし、現像チャンバー長の５０％
の部分にブレイクポイントが現れるようにした。現像液
は１％Ｎａ2ＣＯ3であった（３０℃）。テンションゲー
ジによりテント膜強度を測定した。
露光、現像した。露光はストウファー２１銅ステップの
ステップ７となるようにし、現像チャンバー長の５０％
の部分にブレイクポイントが現れるようにした。現像液
は１％Ｎａ2ＣＯ3であった（３０℃）。テンションゲー
ジによりテント膜強度を測定した。
【００５５】（３）現像時間 １％Ｎａ2ＣＯ3を用いて３０℃で現像し、その時間
（秒）を測定した。
（秒）を測定した。
【００５６】（４）剥離時間 レジストの露光はストウファー２１銅ステップのステッ
プ７となるようにし、現像チャンバー長の５０％の部分
にブレイクポイントが現れるようにした。現像液は１％
Ｎａ2ＣＯ3であった（３０℃）。ついで、塩化銅（II）
溶液中で５０℃にてエッチングした。エッチングのの
ち、３％ＮａＯＨ水溶液中で５０℃にてフォトレジスト
を剥離し、その時間（秒）を測定した。
プ７となるようにし、現像チャンバー長の５０％の部分
にブレイクポイントが現れるようにした。現像液は１％
Ｎａ2ＣＯ3であった（３０℃）。ついで、塩化銅（II）
溶液中で５０℃にてエッチングした。エッチングのの
ち、３％ＮａＯＨ水溶液中で５０℃にてフォトレジスト
を剥離し、その時間（秒）を測定した。
【００５７】（５）クロスハッチ密着性 カミソリ刃様ツール（“razor blade like”tool）を用
い、現像フォトレジストに、一定方向の平行の複数カッ
トに対して９０°となるようにカットを入れ、複数のク
ロスカットを作成した。表中に示した値は、全切片のう
ち完全なままで残っているレジスト切片の割合（％）で
ある。露光はストウファー２１銅ステップのステップ７
となるようにし、現像チャンバー長の５０％の部分にブ
レイクポイントが現れるようにした。現像液は１％Ｎａ
2ＣＯ3であった（３０℃）。
い、現像フォトレジストに、一定方向の平行の複数カッ
トに対して９０°となるようにカットを入れ、複数のク
ロスカットを作成した。表中に示した値は、全切片のう
ち完全なままで残っているレジスト切片の割合（％）で
ある。露光はストウファー２１銅ステップのステップ７
となるようにし、現像チャンバー長の５０％の部分にブ
レイクポイントが現れるようにした。現像液は１％Ｎａ
2ＣＯ3であった（３０℃）。
【００５８】表２に示した結果から、本発明の光画像形
成性組成物をフォトレジストとして用いた実施例４で
は、いずれの測定値も好ましい値であり、テント膜強度
が高く、細線密着性およびクロスハッチ密着性にすぐ
れ、しかも現像時間および剥離時間が短く、この光画像
形成性組成物がすぐれた特性を兼備したものであること
がわかる。
成性組成物をフォトレジストとして用いた実施例４で
は、いずれの測定値も好ましい値であり、テント膜強度
が高く、細線密着性およびクロスハッチ密着性にすぐ
れ、しかも現像時間および剥離時間が短く、この光画像
形成性組成物がすぐれた特性を兼備したものであること
がわかる。
【００５９】
【発明の効果】本発明の光画像形成性組成物は、高柔軟
性が維持されたまま、高テント膜強度、すぐれた密着
性、硬化性などが兼備され、短時間での作業が可能であ
り、アルカリ水溶液中で現像可能な組成物であるので、
たとえばとくに一次光画像形成レジストなどのフォトレ
ジストとして好適に使用し得るほか、はんだマスクなど
の形成にも用いることができる。
性が維持されたまま、高テント膜強度、すぐれた密着
性、硬化性などが兼備され、短時間での作業が可能であ
り、アルカリ水溶液中で現像可能な組成物であるので、
たとえばとくに一次光画像形成レジストなどのフォトレ
ジストとして好適に使用し得るほか、はんだマスクなど
の形成にも用いることができる。
Claims (6)
- 【請求項１】 （Ａ）組成物をアルカリ水溶液中で現像
可能にし得る充分な酸基を有する有機高分子バインダ
ー、（Ｂ）α，β−エチレン性不飽和化合物からなる付
加重合性成分および（Ｃ）活性光線の照射によって
（Ｂ）付加重合性成分の重合を開始させる光開始剤から
なり、（Ａ）有機高分子バインダーの量が（Ａ）有機高
分子バインダー、（Ｂ）付加重合性成分および（Ｃ）光
開始剤の全量の２９〜６９重量％、（Ｂ）付加重合性成
分の量が（Ａ）有機高分子バインダー、（Ｂ）付加重合
性成分および（Ｃ）光開始剤の全量の３０〜６０重量
％、ならびに（Ｃ）光開始剤の量が（Ａ）有機高分子バ
インダー、（Ｂ）付加重合性成分および（Ｃ）光開始剤
の全量の０．１〜１５重量％であり、前記（Ａ）有機高
分子バインダーが（Ａ′）重量平均分子量が５０００〜
４００００のバインダーポリマーおよび（Ａ″）重量平
均分子量が４１０００〜２０００００のバインダーポリ
マーからなり、（Ａ′）バインダーポリマーの量が
（Ａ）有機高分子バインダー、（Ｂ）付加重合性成分お
よび（Ｃ）光開始剤の全量の３〜６９重量％、ならびに
（Ａ″）バインダーポリマーの量が（Ａ）有機高分子バ
インダー、（Ｂ）付加重合性成分および（Ｃ）光開始剤
の全量の０〜６６重量％であり、前記（Ｂ）付加重合性
成分が（Ｂ′）トリ−α，β−エチレン性不飽和基を有
するイソシアネート化合物および（Ｂ″）その他のα，
β−エチレン性不飽和化合物からなり、（Ｂ′）イソシ
アネート化合物の量が（Ａ）有機高分子バインダー、
（Ｂ）付加重合性成分および（Ｃ）光開始剤の全量の２
〜３０重量％、ならびに（Ｂ″）その他のα，β−エチ
レン性不飽和化合物の量が（Ａ）有機高分子バインダ
ー、（Ｂ）付加重合性成分および（Ｃ）光開始剤の全量
の０〜５７重量％である光画像形成性組成物。 - 【請求項２】 （Ｂ″）その他のα，β−エチレン性不
飽和化合物の量が（Ａ）有機高分子バインダー、（Ｂ）
付加重合性成分および（Ｃ）光開始剤の全量の５重量％
以上である請求項１記載の光画像形成性組成物。 - 【請求項３】 （Ｃ）光開始剤が９−フェニルアクリジ
ンからなるものである請求項１記載の光画像形成性組成
物。 - 【請求項４】 （Ａ′）バインダーポリマーの重量平均
分子量が２００００〜４００００である請求項１記載の
光画像形成性組成物。 - 【請求項５】 （Ｄ）ジベンゾエート可塑剤を（Ａ）有
機高分子バインダー、（Ｂ）付加重合性成分および
（Ｃ）光開始剤の全量の１〜８重量％含有してなる請求
項１記載の光画像形成性組成物。 - 【請求項６】 （Ａ″）バインダーポリマーの量が
（Ａ）有機高分子バインダー、（Ｂ）付加重合性成分お
よび（Ｃ）光開始剤の全量の５重量％以上である請求項
１記載の光画像形成性組成物。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US98219997A | 1997-12-01 | 1997-12-01 | |
| US08/982199 | 1997-12-01 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11231527A true JPH11231527A (ja) | 1999-08-27 |
Family
ID=25528930
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10337101A Withdrawn JPH11231527A (ja) | 1997-12-01 | 1998-11-27 | 光画像形成性組成物 |
Country Status (7)
| Country | Link |
|---|---|
| EP (1) | EP0919872A3 (ja) |
| JP (1) | JPH11231527A (ja) |
| KR (1) | KR19990062602A (ja) |
| CN (1) | CN1218918A (ja) |
| CA (1) | CA2249697A1 (ja) |
| IL (1) | IL126887A0 (ja) |
| SG (1) | SG81248A1 (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006145753A (ja) * | 2004-11-18 | 2006-06-08 | Sakata Corp | 顔料分散レジスト組成物 |
| JP2007101863A (ja) * | 2005-10-04 | 2007-04-19 | Hitachi Chem Co Ltd | 感光性樹脂組成物、感光性エレメント、レジストパターンの製造法及びプリント配線板の製造法 |
| WO2014200028A1 (ja) * | 2013-06-14 | 2014-12-18 | 日立化成株式会社 | 感光性樹脂組成物、感光性エレメント、サンドブラスト用マスク材、及び被処理体の表面加工方法 |
Family Cites Families (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3905815A (en) * | 1971-12-17 | 1975-09-16 | Minnesota Mining & Mfg | Photopolymerizable sheet material with diazo resin layer |
| JPS57123211A (en) * | 1981-01-26 | 1982-07-31 | Dainippon Ink & Chem Inc | Unsaturated polyester resin composition |
| GB2237277A (en) * | 1989-10-26 | 1991-05-01 | Ici Plc | Thixotropic binder system |
| US5234970A (en) * | 1991-07-16 | 1993-08-10 | W. R. Grace & Co.-Conn. | Dual curing composition based on isocyanate trimer and use thereof |
| US5362605A (en) * | 1993-05-10 | 1994-11-08 | W. R. Grace & Co.-Conn. | Photosensitive polymer composition for flexographic printing plates processable in aqueous media |
| TW424172B (en) * | 1995-04-19 | 2001-03-01 | Hitachi Chemical Co Ltd | Photosensitive resin composition and photosensitive element using the same |
-
1998
- 1998-10-06 CA CA002249697A patent/CA2249697A1/en not_active Abandoned
- 1998-10-08 SG SG9804130A patent/SG81248A1/en unknown
- 1998-11-04 IL IL12688798A patent/IL126887A0/xx unknown
- 1998-11-05 EP EP98309059A patent/EP0919872A3/en not_active Withdrawn
- 1998-11-25 KR KR1019980050658A patent/KR19990062602A/ko not_active IP Right Cessation
- 1998-11-27 JP JP10337101A patent/JPH11231527A/ja not_active Withdrawn
- 1998-12-01 CN CN98123052A patent/CN1218918A/zh active Pending
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| JP2006145753A (ja) * | 2004-11-18 | 2006-06-08 | Sakata Corp | 顔料分散レジスト組成物 |
| JP4516412B2 (ja) * | 2004-11-18 | 2010-08-04 | サカタインクス株式会社 | 顔料分散レジスト組成物 |
| JP2007101863A (ja) * | 2005-10-04 | 2007-04-19 | Hitachi Chem Co Ltd | 感光性樹脂組成物、感光性エレメント、レジストパターンの製造法及びプリント配線板の製造法 |
| WO2014200028A1 (ja) * | 2013-06-14 | 2014-12-18 | 日立化成株式会社 | 感光性樹脂組成物、感光性エレメント、サンドブラスト用マスク材、及び被処理体の表面加工方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP0919872A2 (en) | 1999-06-02 |
| KR19990062602A (ko) | 1999-07-26 |
| CA2249697A1 (en) | 1999-06-01 |
| SG81248A1 (en) | 2001-06-19 |
| IL126887A0 (en) | 1999-09-22 |
| CN1218918A (zh) | 1999-06-09 |
| EP0919872A3 (en) | 2000-05-24 |
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