JPH1073918A - ネガ型光像形成性組成物 - Google Patents
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Abstract
(57)【要約】 （修正有）
【課題】 改良された光像形成性組成物を提供する。
【解決手段】 A)付加重合性、非ガス状エチレン系不飽
和化合物、B)有機高分子バインダー、及びC)有機、放射
線感受性遊離基発生システムを含むネガ型光像形成性組
成物において、前記A)、B)及びC)の全固体重量の約0.05
〜約５重量％のアクリル官能基を有する紫外線安定剤を
B)内に混入させ又はA)の一部として含み、前記アクリル
官能基を有する紫外線安定剤が下式 （上式中、Ｘは水素又はハロゲンであり、Ｒは水素又は
Ｃ１〜Ｃ１０アルキルであり、Ｒ１は水素もしくはメチ
ルであり、そしてＡはＣ１〜Ｃ１０アルキルである）を
有する化合物であり、そしてC)のすべてもしくは一部と
してA)、B)及びC)の全固体重量の約0.05〜約５重量％の
レベルでフェニルアクリジンを含む組成物。
和化合物、B)有機高分子バインダー、及びC)有機、放射
線感受性遊離基発生システムを含むネガ型光像形成性組
成物において、前記A)、B)及びC)の全固体重量の約0.05
〜約５重量％のアクリル官能基を有する紫外線安定剤を
B)内に混入させ又はA)の一部として含み、前記アクリル
官能基を有する紫外線安定剤が下式 （上式中、Ｘは水素又はハロゲンであり、Ｒは水素又は
Ｃ１〜Ｃ１０アルキルであり、Ｒ１は水素もしくはメチ
ルであり、そしてＡはＣ１〜Ｃ１０アルキルである）を
有する化合物であり、そしてC)のすべてもしくは一部と
してA)、B)及びC)の全固体重量の約0.05〜約５重量％の
レベルでフェニルアクリジンを含む組成物。
Description
【０００１】本発明は、フォトレジスト又はハンダマス
ク形成組成物として用いられるようなネガ型(negative-
acting) 光像形成性(photoimageable)組成物に関する。
この光像形成性組成物はアクリレート官能基を有する紫
外線安定剤を含む。
ク形成組成物として用いられるようなネガ型(negative-
acting) 光像形成性(photoimageable)組成物に関する。
この光像形成性組成物はアクリレート官能基を有する紫
外線安定剤を含む。
【０００２】本発明は、ネガ型光像形成性組成物に関す
る。この光像形成性組成物はハンダマスクのような固い
永久的マスクの形成に有効な光像形成性組成物又はフォ
トレジストであってよい。この光像形成性組成物は溶剤
現像性であってもよく又は水溶液もしくは半水溶液にお
いて現像可能なものであってもよい。
る。この光像形成性組成物はハンダマスクのような固い
永久的マスクの形成に有効な光像形成性組成物又はフォ
トレジストであってよい。この光像形成性組成物は溶剤
現像性であってもよく又は水溶液もしくは半水溶液にお
いて現像可能なものであってもよい。
【０００３】光像形成性組成物（ネガ型）は光重合性も
しくは光架橋性物質を含む。ほとんどの場合、主要な光
重合性材料はモノマー又はモノマーの混合物である。光
重合性材料はダイマー又は短鎖オリゴマーであってもこ
れらを含んでいてもよい。光重合性モノマー、ダイマー
及び短鎖オリゴマーに関して、事前に形成した高分子材
料を含むバインダーを与えることが一般的である。この
バインダーである高分子材料は重合反応に関与するよう
に官能基を有していてもいなくてもよい。あまり一般的
ではないが、事前に形成した高分子材料は光架橋性であ
ってもよい。光重合もしくは光架橋によりフィルムを硬
化させるために、光像形成性組成物は化学線により活性
化される放射線感受性遊離基発生システムをさらに含
む。
しくは光架橋性物質を含む。ほとんどの場合、主要な光
重合性材料はモノマー又はモノマーの混合物である。光
重合性材料はダイマー又は短鎖オリゴマーであってもこ
れらを含んでいてもよい。光重合性モノマー、ダイマー
及び短鎖オリゴマーに関して、事前に形成した高分子材
料を含むバインダーを与えることが一般的である。この
バインダーである高分子材料は重合反応に関与するよう
に官能基を有していてもいなくてもよい。あまり一般的
ではないが、事前に形成した高分子材料は光架橋性であ
ってもよい。光重合もしくは光架橋によりフィルムを硬
化させるために、光像形成性組成物は化学線により活性
化される放射線感受性遊離基発生システムをさらに含
む。
【０００４】光硬化工程において、放射線が吸収され開
始物質を与える。開始物質の形成に有効な放射線の量
は、表面から下方へ徐々に低下する。より深い組成物の
層において、硬化はそれに応じて遅くなる。同時に、放
射線はフィルムにより及び基材からの反射により照射さ
れていない領域に散乱し、その領域で硬化を開始し、ラ
イン拡大(line growth) を起こしてしまう。ライン拡大
は、露光されたレジストラインが「ランド領域(land ar
ea) 」又は「パッド(pad) 」として知られている大きな
露光された領域に近接している場合に特に問題である。
始物質を与える。開始物質の形成に有効な放射線の量
は、表面から下方へ徐々に低下する。より深い組成物の
層において、硬化はそれに応じて遅くなる。同時に、放
射線はフィルムにより及び基材からの反射により照射さ
れていない領域に散乱し、その領域で硬化を開始し、ラ
イン拡大(line growth) を起こしてしまう。ライン拡大
は、露光されたレジストラインが「ランド領域(land ar
ea) 」又は「パッド(pad) 」として知られている大きな
露光された領域に近接している場合に特に問題である。
【０００５】ライン拡大を抑制するために、このような
光像形成性組成物に紫外線安定剤を加えることが知られ
ている。通常の紫外線安定剤における重大な問題の１つ
は、通常その分子量が低く、その後の回路板の製造に用
いられる種々の化学物質に滲出する傾向にあることであ
る。例えば、紫外線安定剤はメッキ槽に滲出し、このメ
ッキ槽を汚してしまう。
光像形成性組成物に紫外線安定剤を加えることが知られ
ている。通常の紫外線安定剤における重大な問題の１つ
は、通常その分子量が低く、その後の回路板の製造に用
いられる種々の化学物質に滲出する傾向にあることであ
る。例えば、紫外線安定剤はメッキ槽に滲出し、このメ
ッキ槽を汚してしまう。
【０００６】本発明によれば、A)遊離基開始連鎖成長付
加重合反応により高分子ポリマーを形成することができ
る付加重合性の非ガス状エチレン系不飽和化合物、B)有
機高分子バインダー、及びC)化学線により活性化されて
付加重合性化合物の連鎖成長付加重合を開始する有機、
放射線感受性遊離基発生システムを含むネガ型光像形成
性組成物において、遊離基発生システムC)のすべてもし
くは一部としてフェニルアクリジンを用いること、及び
アクリル官能基を有する紫外線安定剤を有機高分子バイ
ンダーB)内に混入させ及び／又はエチレン系不飽和化合
物A)の一部として用い、前記アクリル官能基を有する紫
外線安定剤が下式
加重合反応により高分子ポリマーを形成することができ
る付加重合性の非ガス状エチレン系不飽和化合物、B)有
機高分子バインダー、及びC)化学線により活性化されて
付加重合性化合物の連鎖成長付加重合を開始する有機、
放射線感受性遊離基発生システムを含むネガ型光像形成
性組成物において、遊離基発生システムC)のすべてもし
くは一部としてフェニルアクリジンを用いること、及び
アクリル官能基を有する紫外線安定剤を有機高分子バイ
ンダーB)内に混入させ及び／又はエチレン系不飽和化合
物A)の一部として用い、前記アクリル官能基を有する紫
外線安定剤が下式
【化３】 （上式中、Ｘは水素又はハロゲンであり、Ｒは水素又は
Ｃ1 〜Ｃ10アルキルであり、Ｒ1 は水素又はメチルであ
り、そしてＡはＣ1 〜Ｃ10アルキルである）を有する化
合物であることを特徴としている。
Ｃ1 〜Ｃ10アルキルであり、Ｒ1 は水素又はメチルであ
り、そしてＡはＣ1 〜Ｃ10アルキルである）を有する化
合物であることを特徴としている。
【０００７】本明細書においては、特に示さない限りパ
ーセントは重量パーセントを意味する。成分A)（光重合
性材料）、成分B)（高分子バインダー）及び成分C)（光
開始剤化学システム）は100 重量％となり、他の成分は
A)、B)及びC)の100 部に対する重量部として計算され
る。
ーセントは重量パーセントを意味する。成分A)（光重合
性材料）、成分B)（高分子バインダー）及び成分C)（光
開始剤化学システム）は100 重量％となり、他の成分は
A)、B)及びC)の100 部に対する重量部として計算され
る。
【０００８】エチレン系不飽和の光重合性材料及び遊離
基化学発生システムを含むすべてのネガ型光像形成性組
成物は上記のような望ましくないライン拡大を起こしや
すく、光開始剤としてのフェニルアクリジン及びアクリ
ル官能基を有する紫外線安定剤を混入することはそのよ
うな組成物において通常行われている。
基化学発生システムを含むすべてのネガ型光像形成性組
成物は上記のような望ましくないライン拡大を起こしや
すく、光開始剤としてのフェニルアクリジン及びアクリ
ル官能基を有する紫外線安定剤を混入することはそのよ
うな組成物において通常行われている。
【０００９】本発明は、アルカリ性水溶液中で現像可能
でありかつ多くの酸性官能基を有する光像形成性組成物
に特に適用可能である。そのような光像形成性組成物は
通常酸官能基を有し、少なくとも約80、好ましくは少な
くとも約100 、より好ましくは約150 もしくはそれ以
上、約250 以下の酸価を有するバインダーを有する。こ
の酸官能基は通常カルボン酸官能基であるが、例えば、
スルホン酸官能基又はリン酸官能基を含んでいてもよ
い。
でありかつ多くの酸性官能基を有する光像形成性組成物
に特に適用可能である。そのような光像形成性組成物は
通常酸官能基を有し、少なくとも約80、好ましくは少な
くとも約100 、より好ましくは約150 もしくはそれ以
上、約250 以下の酸価を有するバインダーを有する。こ
の酸官能基は通常カルボン酸官能基であるが、例えば、
スルホン酸官能基又はリン酸官能基を含んでいてもよ
い。
【００１０】このポリマーは通常、酸官能基を有するモ
ノマーと酸ではない官能基を有するモノマーの混合物よ
り得られる。好適な酸官能基を有するモノマーの例はア
クリル酸、メタクリル酸、マレイン酸、フマル酸、シト
ラコン酸、２−アクリルアミド−２−メチルプロパンス
ルホン酸、２−ヒドロキシエチルアクリロイルホスフェ
ート、２−ヒドロキシプロピルアクリロイルホスフェー
ト、２−ヒドロキシ−α−アクリロイルホスフェート等
である。そのような酸官能性モノマーを１種以上用いて
高分子バインダーを形成してもよい。
ノマーと酸ではない官能基を有するモノマーの混合物よ
り得られる。好適な酸官能基を有するモノマーの例はア
クリル酸、メタクリル酸、マレイン酸、フマル酸、シト
ラコン酸、２−アクリルアミド−２−メチルプロパンス
ルホン酸、２−ヒドロキシエチルアクリロイルホスフェ
ート、２−ヒドロキシプロピルアクリロイルホスフェー
ト、２−ヒドロキシ−α−アクリロイルホスフェート等
である。そのような酸官能性モノマーを１種以上用いて
高分子バインダーを形成してもよい。
【００１１】酸官能基を有するモノマーは酸ではない基
を有するモノマー、例えばメチルアクリレート、メチル
メタクリレート、ヒドロキシエチルアクリレート、ブチ
ルメタクリレート、オクチルアクリレート、２−エトキ
シエチルメタクリレート、ｔ−ブチルアクリレート、
１，５−ペンタンジオールジアクリレート、Ｎ，Ｎ−ジ
エチルアミノエチルアクリレート、エチレングリコール
ジアクリレート、１，３−プロパンジオールジアクリレ
ート、デカメチレングリコールジアクリレート、デカメ
チレングリコールジメタクリレート、１，４−シクロヘ
キサンジオールジアクリレート、２，２−ジメチロール
プロパンジアクリレート、グリセロールジアクリレー
ト、トリプロピレングリコールジアクリレート、グリセ
ロールトリアクリレート、２，２−ジ（ｐ−ヒドロキシ
フェニル）プロパンジメタクリレート、トリエチレング
リコールジアクリレート、ポリオキシエチル−２，２−
ジ（ｐ−ヒドロキシフェニル）プロパンジメタクリレー
ト、トリエチレングリコールジメタクリレート、ポリオ
キシプロピルトリメチロールプロパントリアクリレー
ト、エチレングリコールジメタクリレート、ブチレング
リコールジメタクリレート、１，３−プロパンジオール
ジメタクリレート、ブチレングリコールジメタクリレー
ト、１，３−プロパンジオールジメタクリレート、１，
２，４−ブタントリオールトリメタクリレート、２，
２，４−トリメチル−１，３−ペンタンジオールジメタ
クリレート、ペンタエリトリトールトリメタクリレー
ト、１−フェニルエチレン−１，２−ジメタクリレー
ト、ペンタエリトリトールテトラメタクリレート、トリ
メチロールプロパントリメタクリレート、１，５−ペン
タンジオールジメタクリレート、及び１，４−ベンゼン
ジオールジメタクリレートのようなアクリル酸のエステ
ル、スチレン及び２−メチルスチレンのような置換スチ
レン、ビニルトルエン、並びにビニルアクリレート及び
ビニルメタクリレートのようなビニルエステルと、所望
の酸価を与えるように共重合してもよい。
を有するモノマー、例えばメチルアクリレート、メチル
メタクリレート、ヒドロキシエチルアクリレート、ブチ
ルメタクリレート、オクチルアクリレート、２−エトキ
シエチルメタクリレート、ｔ−ブチルアクリレート、
１，５−ペンタンジオールジアクリレート、Ｎ，Ｎ−ジ
エチルアミノエチルアクリレート、エチレングリコール
ジアクリレート、１，３−プロパンジオールジアクリレ
ート、デカメチレングリコールジアクリレート、デカメ
チレングリコールジメタクリレート、１，４−シクロヘ
キサンジオールジアクリレート、２，２−ジメチロール
プロパンジアクリレート、グリセロールジアクリレー
ト、トリプロピレングリコールジアクリレート、グリセ
ロールトリアクリレート、２，２−ジ（ｐ−ヒドロキシ
フェニル）プロパンジメタクリレート、トリエチレング
リコールジアクリレート、ポリオキシエチル−２，２−
ジ（ｐ−ヒドロキシフェニル）プロパンジメタクリレー
ト、トリエチレングリコールジメタクリレート、ポリオ
キシプロピルトリメチロールプロパントリアクリレー
ト、エチレングリコールジメタクリレート、ブチレング
リコールジメタクリレート、１，３−プロパンジオール
ジメタクリレート、ブチレングリコールジメタクリレー
ト、１，３−プロパンジオールジメタクリレート、１，
２，４−ブタントリオールトリメタクリレート、２，
２，４−トリメチル−１，３−ペンタンジオールジメタ
クリレート、ペンタエリトリトールトリメタクリレー
ト、１−フェニルエチレン−１，２−ジメタクリレー
ト、ペンタエリトリトールテトラメタクリレート、トリ
メチロールプロパントリメタクリレート、１，５−ペン
タンジオールジメタクリレート、及び１，４−ベンゼン
ジオールジメタクリレートのようなアクリル酸のエステ
ル、スチレン及び２−メチルスチレンのような置換スチ
レン、ビニルトルエン、並びにビニルアクリレート及び
ビニルメタクリレートのようなビニルエステルと、所望
の酸価を与えるように共重合してもよい。
【００１２】そのようなポリマー及びこのポリマーを用
いる光像形成性組成物の例は、以下の米国特許に示され
ている。米国特許第 4,615,950号、3,359,129 号、3,52
6,504 号、3,980,483 号、4,025,407 号、4,210,449
号、4,260,675 号、4,268,614号、4,289,845 号、4,41
3,052 号、4,451,523 号、4,465,760 号、4,528,261
号、4,296,196 号、4,361,640 号、4,250,248 号、3,95
3,309 号、3,376,138 号、及び 4,239,849号。
いる光像形成性組成物の例は、以下の米国特許に示され
ている。米国特許第 4,615,950号、3,359,129 号、3,52
6,504 号、3,980,483 号、4,025,407 号、4,210,449
号、4,260,675 号、4,268,614号、4,289,845 号、4,41
3,052 号、4,451,523 号、4,465,760 号、4,528,261
号、4,296,196 号、4,361,640 号、4,250,248 号、3,95
3,309 号、3,376,138 号、及び 4,239,849号。
【００１３】光重合性成分は通常、エチレン系不飽和、
特にα，β−エチレン不飽和を有するモノマー、ダイマ
ーもしくは短鎖オリゴマーである。特に適したものは２
以上の官能価のα，β−エチレン不飽和を有する化合物
であり、それはそのような高いアクリル官能価は光重合
した際に架橋構造を与えるからである。好適な光重合性
化合物は、限定するものではないが、高分子バインダー
の形成に適するものであるとされた上記のモノマー、特
に酸ではない官能基を有する化合物を含む。
特にα，β−エチレン不飽和を有するモノマー、ダイマ
ーもしくは短鎖オリゴマーである。特に適したものは２
以上の官能価のα，β−エチレン不飽和を有する化合物
であり、それはそのような高いアクリル官能価は光重合
した際に架橋構造を与えるからである。好適な光重合性
化合物は、限定するものではないが、高分子バインダー
の形成に適するものであるとされた上記のモノマー、特
に酸ではない官能基を有する化合物を含む。
【００１４】本発明によれば、高分子バインダーB)の共
重合されたユニットとして及び／又は光重合性材料A)の
一部として混入された、上記式のアクリル官能基を有す
る紫外線安定剤の混入により紫外線安定剤が提供され
る。この紫外線安定剤について、アクリル官能基を有す
る紫外線安定剤が高分子バインダーB)又は光重合性材料
A)の一部であるかにおいてはほとんど差はない。また、
上記の紫外線安定剤の滲出の問題は、例えばメッキ槽に
おけるような後露光及び現像の問題であり、アクリル官
能基を有する紫外線安定剤がバインダーB)中に存在する
か又は光重合性材料A)中に存在するかについてはほとん
ど差はない。いずれにおいても、光重合及び現像後は、
アクリル官能基を有する紫外線安定剤は高分子構造中に
結合され、その後に滲出することはできない。一方、光
重合性材料A)の一部としてアクリル官能基を有する紫外
線安定剤を与えることは、市販入手可能な高分子バイン
ダーを含む公知の高分子バインダーを使用することがで
きるため好ましい。市販入手可能なアクリル官能基を有
する紫外線安定剤は、Noramco, Inc, New Brunswick,NJ
よりNorblock（商標）として販売されており、下式
重合されたユニットとして及び／又は光重合性材料A)の
一部として混入された、上記式のアクリル官能基を有す
る紫外線安定剤の混入により紫外線安定剤が提供され
る。この紫外線安定剤について、アクリル官能基を有す
る紫外線安定剤が高分子バインダーB)又は光重合性材料
A)の一部であるかにおいてはほとんど差はない。また、
上記の紫外線安定剤の滲出の問題は、例えばメッキ槽に
おけるような後露光及び現像の問題であり、アクリル官
能基を有する紫外線安定剤がバインダーB)中に存在する
か又は光重合性材料A)中に存在するかについてはほとん
ど差はない。いずれにおいても、光重合及び現像後は、
アクリル官能基を有する紫外線安定剤は高分子構造中に
結合され、その後に滲出することはできない。一方、光
重合性材料A)の一部としてアクリル官能基を有する紫外
線安定剤を与えることは、市販入手可能な高分子バイン
ダーを含む公知の高分子バインダーを使用することがで
きるため好ましい。市販入手可能なアクリル官能基を有
する紫外線安定剤は、Noramco, Inc, New Brunswick,NJ
よりNorblock（商標）として販売されており、下式
【化４】 を有する。ライン拡大を抑制するためには、このアクリ
ル官能基を有する紫外線安定剤を、A)、B)及びC)の全固
体の約0.05〜約５重量％のレベルで用いられる。
ル官能基を有する紫外線安定剤を、A)、B)及びC)の全固
体の約0.05〜約５重量％のレベルで用いられる。
【００１５】化学線に露光された際にモノマーの重合を
開始するために、光重合性組成物は適当な光開始剤又は
光開始剤システムを含む。本発明に用いられる光開始剤
はフェニルアクリジンであり、これは唯一の光開始剤と
して又は他の光開始剤と共に用いられる。フェニルアク
リジンはA)、B)及びC)の全固体の約0.05〜約５重量％の
レベルで用いられる。フェニルアクリジンは唯一の光開
始剤として又はベンゾインエーテル、ベンジルケター
ル、アセトフェノン、ベンゾフェノン及び関連するアミ
ンを含む化合物のような他の光開始剤と共に用いられ
る。
開始するために、光重合性組成物は適当な光開始剤又は
光開始剤システムを含む。本発明に用いられる光開始剤
はフェニルアクリジンであり、これは唯一の光開始剤と
して又は他の光開始剤と共に用いられる。フェニルアク
リジンはA)、B)及びC)の全固体の約0.05〜約５重量％の
レベルで用いられる。フェニルアクリジンは唯一の光開
始剤として又はベンゾインエーテル、ベンジルケター
ル、アセトフェノン、ベンゾフェノン及び関連するアミ
ンを含む化合物のような他の光開始剤と共に用いられ
る。
【００１６】このアクリル官能基を有する紫外線安定剤
は紫外線安定剤に一般的な滲出の問題を解決するが、光
像形成性組成物の光速度に対し悪影響を有する傾向があ
る。しかしながら、これはとても速い光開始剤であるフ
ェニルアクリジンと共にこのアクリル官能基を有する紫
外線安定剤を用いることにより解決される。事実、フェ
ニルアクリジンは、ライン拡大を促進する傾向にある本
発明のタイプの組成物においてそのようなライン拡大を
避ける有効な光開始剤である。上記のアクリル官能基を
有する市街線安定剤を光開始剤としてのフェニルアクリ
ジンと共に用いた場合、光像形成性組成物は良好な光速
度を有し、ライン拡大が最小であり、そして後現像にお
いて紫外線安定剤の滲出がないことが見出された。
は紫外線安定剤に一般的な滲出の問題を解決するが、光
像形成性組成物の光速度に対し悪影響を有する傾向があ
る。しかしながら、これはとても速い光開始剤であるフ
ェニルアクリジンと共にこのアクリル官能基を有する紫
外線安定剤を用いることにより解決される。事実、フェ
ニルアクリジンは、ライン拡大を促進する傾向にある本
発明のタイプの組成物においてそのようなライン拡大を
避ける有効な光開始剤である。上記のアクリル官能基を
有する市街線安定剤を光開始剤としてのフェニルアクリ
ジンと共に用いた場合、光像形成性組成物は良好な光速
度を有し、ライン拡大が最小であり、そして後現像にお
いて紫外線安定剤の滲出がないことが見出された。
【００１７】本発明は広範囲の光像形成性組成物に適用
可能であるため、高分子バインダー、モノマー及び光開
始剤の相対割合も広範囲にわたる。カルボキシル含有高
分子バインダーB)は通常A)、B)及びC)の約30〜約80重量
％であり、光重合性化合物B)（高分子バインダーが機能
する場合はこれを除く）は通常A)、B)及びC)の約15〜約
65重量％であり、そして光開始剤はA)、B)及びC)の約0.
05〜約15重量％である。
可能であるため、高分子バインダー、モノマー及び光開
始剤の相対割合も広範囲にわたる。カルボキシル含有高
分子バインダーB)は通常A)、B)及びC)の約30〜約80重量
％であり、光重合性化合物B)（高分子バインダーが機能
する場合はこれを除く）は通常A)、B)及びC)の約15〜約
65重量％であり、そして光開始剤はA)、B)及びC)の約0.
05〜約15重量％である。
【００１８】さらに、光像形成性組成物は当該分野にお
いて周知の種々の他の添加剤を含んでいてもよく、それ
は例えば、ハンダマスクの最終硬化を起こすために用い
られるポリマー、染料、安定剤、柔軟化剤、充填材等を
含む。
いて周知の種々の他の添加剤を含んでいてもよく、それ
は例えば、ハンダマスクの最終硬化を起こすために用い
られるポリマー、染料、安定剤、柔軟化剤、充填材等を
含む。
【００１９】アルカリ性水現像性光像形成性組成物の上
記説明は一般的なものであり、広範囲の変形も提案され
た。例えば、ある場合には、高分子バインダーは遊離基
光重合反応に関与するエチレン系不飽和を有していても
よく、またある場合には、多くのエチレン系不飽和を有
するバインダーを、他の光重合性モノマーもしくは短鎖
オリゴマーを用いることなく用いてもよい。光重合性組
成物の組成に係わらず、この組成物は、ライン拡大を抑
制しかつ良好な光速度を維持するために本発明の光開始
材組成物及びアクリル官能基を有する紫外線安定剤を含
む。
記説明は一般的なものであり、広範囲の変形も提案され
た。例えば、ある場合には、高分子バインダーは遊離基
光重合反応に関与するエチレン系不飽和を有していても
よく、またある場合には、多くのエチレン系不飽和を有
するバインダーを、他の光重合性モノマーもしくは短鎖
オリゴマーを用いることなく用いてもよい。光重合性組
成物の組成に係わらず、この組成物は、ライン拡大を抑
制しかつ良好な光速度を維持するために本発明の光開始
材組成物及びアクリル官能基を有する紫外線安定剤を含
む。
【００２０】調製は従来の方法で行われる。通常の方法
において、光像形成性組成物層（これは液体組成物より
形成してもよく又は乾燥フィルムから層として転写して
もよい）を銅被覆板の銅表面に形成する。化学線に露光
すると、露光した領域においてモノマーは重合し、現像
液に対して耐性を有する架橋した構造を与える。次に、
この組成物を、１％炭酸ナトリウム水溶液のような希ア
ルカリ性水溶液中で現像する。このアルカリ溶液は高分
子バインダーのカルボキシル基と塩を形成し、溶解及び
除去可能にする。現像後、エッチング剤を用いてレジス
トが除去された領域から銅を除去し、印刷回路を形成す
る。次いで適当な除去剤を用いて残っているレジストを
除去する。本発明を以下の実施例によりさらに詳細に説
明する。
において、光像形成性組成物層（これは液体組成物より
形成してもよく又は乾燥フィルムから層として転写して
もよい）を銅被覆板の銅表面に形成する。化学線に露光
すると、露光した領域においてモノマーは重合し、現像
液に対して耐性を有する架橋した構造を与える。次に、
この組成物を、１％炭酸ナトリウム水溶液のような希ア
ルカリ性水溶液中で現像する。このアルカリ溶液は高分
子バインダーのカルボキシル基と塩を形成し、溶解及び
除去可能にする。現像後、エッチング剤を用いてレジス
トが除去された領域から銅を除去し、印刷回路を形成す
る。次いで適当な除去剤を用いて残っているレジストを
除去する。本発明を以下の実施例によりさらに詳細に説
明する。
【００２１】
例１〜６ 以下の成分を有するベース組成物を調製する。 成分 機能 部* エトキシル化TMPTA ** 多官能性アクリレート 42.5 アクリルポリマー*** 高分子バインダー 56.6 Modaflow（商標） 流れ調節剤 0.14 Baso Blue 688 バックグラウンド染料 0.09 ベンゾトリアゾール 接着促進剤 0.14 *部は、例３においてバインダーB)、多官能性アクリレート＋アクリル官能基 を有する紫外線安定剤A)を含む光重合性材料、及びフェニルアクリジンC)の全量 を100 ％として計算する。 **エトキシル化トリメチロールプロパントリアクリレート *** 150 の酸価を有するエチルアクリレート／メチルメタクリレート／メタクリ ル酸ターポリマー
【００２２】ベース組成物に以下の成分を加える。 成分 機能 例１ 例２ 例３ 例４ 例５ 例６ ベース組成物 99.1 99.1 99.1 99.1 99.1 99.1 Quantacure ITX チオキサントン 0.7 0.7 0.7 光開始剤 Quantacure QEPD ３級アミン光開始剤 2.1 2.1 2.1 フェニル 光開始剤 0.2 0.2 0.2 アクリジン Norblock 7966 アクリル官能基を 0.7 0.7 有する紫外線安定剤 Tinuvin 765 アクリル官能基を 0.7 0.7 有さない紫外線安定剤
【００２３】メチルエチルケトン中の約50％固体のレジ
スト液をポリエステル支持フィルムに湿潤コートし、乾
燥させて溶剤を除去した。乾燥後、レジスト層の厚さを
1.5ミル（38μｍ）にするため、ポリスチレンカバーシ
ートを貼り、ポリエチレンとポリエステルの間の乾燥レ
ジストをトラップした。次いでこの材料を、積層である
回路の製造の第一の工程に用いた。
スト液をポリエステル支持フィルムに湿潤コートし、乾
燥させて溶剤を除去した。乾燥後、レジスト層の厚さを
1.5ミル（38μｍ）にするため、ポリスチレンカバーシ
ートを貼り、ポリエチレンとポリエステルの間の乾燥レ
ジストをトラップした。次いでこの材料を、積層である
回路の製造の第一の工程に用いた。
【００２４】積層前に、ポリエチレンカバーシートを剥
がし、加熱（95〜120 ℃) 、加圧（２〜５バール）にお
いてレジストを銅基材に積層した。次いでレジストの選
択した部位を紫外線に露光し、この部位をアルカリ性溶
液に不溶にした。ある領域はこの露光に対しマスクされ
ているので、この領域におけるもしくはこの領域の周辺
における暗反応は許されない。Norbloc はこの望ましく
ない反応の紡糸を促進する。回路板の外形はますます小
さくなってきているため、この暗反応を抑制することは
ますます重要になってきている。
がし、加熱（95〜120 ℃) 、加圧（２〜５バール）にお
いてレジストを銅基材に積層した。次いでレジストの選
択した部位を紫外線に露光し、この部位をアルカリ性溶
液に不溶にした。ある領域はこの露光に対しマスクされ
ているので、この領域におけるもしくはこの領域の周辺
における暗反応は許されない。Norbloc はこの望ましく
ない反応の紡糸を促進する。回路板の外形はますます小
さくなってきているため、この暗反応を抑制することは
ますます重要になってきている。
【００２５】レジストの露光されていない領域を27〜35
℃において１％炭酸ナトリム一水和物中で除去（現像）
した。レジストが除去された部位は１〜２ミルの銅がメ
ッキされ、次いでSnもしくはSnPb（SnもしくはSnPbはア
ルカリエッチング現像において一時的エッチングレジス
トとして用いられる）がフラッシュメッキされた。板か
ら現像されなかった露光されたレジストはメッキ操作中
に存在する種々のメッキ及びクリーニング化学薬品に対
し化学的に耐性であった。露光されたレジストは有機物
を銅、錫及び錫／鉛メッキ槽に滲出すべきでない。メッ
キ槽中の有機物はその効率を低下させ、より頻繁なメン
テナンス（カーボン処理）を必要とする。これが槽に滲
出しないNorbloc の主要な利点である。
℃において１％炭酸ナトリム一水和物中で除去（現像）
した。レジストが除去された部位は１〜２ミルの銅がメ
ッキされ、次いでSnもしくはSnPb（SnもしくはSnPbはア
ルカリエッチング現像において一時的エッチングレジス
トとして用いられる）がフラッシュメッキされた。板か
ら現像されなかった露光されたレジストはメッキ操作中
に存在する種々のメッキ及びクリーニング化学薬品に対
し化学的に耐性であった。露光されたレジストは有機物
を銅、錫及び錫／鉛メッキ槽に滲出すべきでない。メッ
キ槽中の有機物はその効率を低下させ、より頻繁なメン
テナンス（カーボン処理）を必要とする。これが槽に滲
出しないNorbloc の主要な利点である。
【００２６】チャンネルをメッキした後、露光されたレ
ジストを130 °F(54℃）において３％NaOH中で銅メッキ
の間から除去した。最終工程として、板をアルカリエッ
チング剤（アルカリエッチング剤は銅をエッチングする
がSn又はSnPbはエッチングしない）中でエッチングし
た。エッチング後、強酸中でSn又はSnPbを除去し、銅が
メッキしたラインは回路板を形成した。
ジストを130 °F(54℃）において３％NaOH中で銅メッキ
の間から除去した。最終工程として、板をアルカリエッ
チング剤（アルカリエッチング剤は銅をエッチングする
がSn又はSnPbはエッチングしない）中でエッチングし
た。エッチング後、強酸中でSn又はSnPbを除去し、銅が
メッキしたラインは回路板を形成した。
【００２７】以下に例１〜６の光像形成性組成物の特性
を示す。
を示す。
【表１】
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 トラング ディー．グエン アメリカ合衆国，カリフォルニア 92708, フォンテイン バレー，ノース ヒックス ストリート 16027
Claims (2)
- 【請求項１】 A)遊離基開始連鎖成長付加重合反応によ
り高分子ポリマーを形成することができる付加重合性、
非ガス状エチレン系不飽和化合物、B)有機高分子バイン
ダー、及びC)化学線により活性化されて付加重合性化合
物の連鎖成長付加重合を開始する有機、放射線感受性遊
離基発生システムを含むネガ型光像形成性組成物におい
て、前記A)、B)及びC)の全固体重量の約0.05〜約５重量
％のアクリル官能基を有する紫外線安定剤をB)内に混入
させ又はA)の一部として含み、前記アクリル官能基を有
する紫外線安定剤が下式 【化１】 （上式中、Ｘは水素又はハロゲンであり、Ｒは水素又は
Ｃ1 〜Ｃ10アルキルであり、Ｒ1 は水素もしくはメチル
であり、そしてＡはＣ1 〜Ｃ10アルキルである）を有す
る化合物であり、そしてC)のすべてもしくは一部として
A)、B)及びC)の全固体重量の約0.05〜約５重量％のレベ
ルでフェニルアクリジンを含む組成物。 - 【請求項２】 前記紫外線安定剤が下式 【化２】 を有する化合物である、請求項１記載の組成物。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US63129396A | 1996-04-09 | 1996-04-09 | |
| US08/631293 | 1996-04-09 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1073918A true JPH1073918A (ja) | 1998-03-17 |
Family
ID=24530589
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9086935A Pending JPH1073918A (ja) | 1996-04-09 | 1997-04-04 | ネガ型光像形成性組成物 |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| EP (1) | EP0801328A1 (ja) |
| JP (1) | JPH1073918A (ja) |
| KR (1) | KR970071141A (ja) |
| CN (1) | CN1168488A (ja) |
| CA (1) | CA2201455A1 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001092134A (ja) * | 1999-09-17 | 2001-04-06 | Sumitomo Chem Co Ltd | 感光性樹脂組成物 |
| WO2015125787A1 (ja) * | 2014-02-18 | 2015-08-27 | 旭硝子株式会社 | ネガ型感光性樹脂組成物、樹脂硬化膜、隔壁および光学素子 |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5939238A (en) * | 1998-06-02 | 1999-08-17 | Morton International, Inc. | Photoimageable composition having improved photoinitiator system |
| US5952153A (en) * | 1997-12-01 | 1999-09-14 | Morton International, Inc. | Photoimageable composition having improved flexibility, adhesion and stripping characteristics |
| US6048662A (en) * | 1998-12-15 | 2000-04-11 | Bruhnke; John D. | Antireflective coatings comprising poly(oxyalkylene) colorants |
| KR20040105814A (ko) * | 2002-03-28 | 2004-12-16 | 훈츠만 어드밴스트 머티리얼스(스위처랜드) 게엠베하 | 중합성 조성물 |
Family Cites Families (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS59226002A (ja) * | 1983-06-06 | 1984-12-19 | Fuji Photo Film Co Ltd | 光重合性組成物 |
| DE3843204A1 (de) * | 1988-12-22 | 1990-06-28 | Hoechst Ag | Photopolymerisierbares gemisch und dieses enthaltendes photopolymerisierbares aufzeichnungsmaterial |
| WO1994000524A1 (en) * | 1992-06-23 | 1994-01-06 | Monsanto Company | Uv-absorbing polymer latex |
| JP3331035B2 (ja) * | 1993-02-05 | 2002-10-07 | 富士写真フイルム株式会社 | 感光性樹脂組成物及び画像形成方法 |
-
1997
- 1997-03-27 EP EP97302176A patent/EP0801328A1/en not_active Withdrawn
- 1997-04-01 CA CA002201455A patent/CA2201455A1/en not_active Abandoned
- 1997-04-04 JP JP9086935A patent/JPH1073918A/ja active Pending
- 1997-04-08 KR KR1019970012777A patent/KR970071141A/ko not_active Application Discontinuation
- 1997-04-09 CN CN97110513A patent/CN1168488A/zh active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001092134A (ja) * | 1999-09-17 | 2001-04-06 | Sumitomo Chem Co Ltd | 感光性樹脂組成物 |
| WO2015125787A1 (ja) * | 2014-02-18 | 2015-08-27 | 旭硝子株式会社 | ネガ型感光性樹脂組成物、樹脂硬化膜、隔壁および光学素子 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| KR970071141A (ko) | 1997-11-07 |
| EP0801328A1 (en) | 1997-10-15 |
| CN1168488A (zh) | 1997-12-24 |
| CA2201455A1 (en) | 1997-10-09 |
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