JPH11211415A - 位置検出装置及びそれを用いたデバイスの製造方法 - Google Patents

位置検出装置及びそれを用いたデバイスの製造方法

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JPH11211415A JP10032142A JP3214298A JPH11211415A JP H11211415 A JPH11211415 A JP H11211415A JP 10032142 A JP10032142 A JP 10032142A JP 3214298 A JP3214298 A JP 3214298A JP H11211415 A JPH11211415 A JP H11211415A
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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001351842A (ja) * 2000-06-05 2001-12-21 Canon Inc 位置検出方法、位置検出装置、露光装置、デバイス製造方法、半導体製造工場および露光装置の保守方法
JP2012253297A (ja) * 2011-06-07 2012-12-20 Disco Abrasive Syst Ltd 加工装置
JP2020046357A (ja) * 2018-09-20 2020-03-26 富士ゼロックス株式会社 計測装置および計測方法
JP2022128225A (ja) * 2021-02-22 2022-09-01 キヤノン株式会社 計測装置、リソグラフィ装置、および物品の製造方法

Families Citing this family (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3605043B2 (ja) * 2001-04-18 2004-12-22 キヤノン株式会社 位置計測装置、露光装置、デバイス製造方法および位置計測方法
JP4046961B2 (ja) * 2001-09-03 2008-02-13 キヤノン株式会社 位置検出方法、位置検出装置、露光装置及び露光方法
JP4366031B2 (ja) * 2001-09-17 2009-11-18 キヤノン株式会社 位置検出装置及び方法並びに露光装置、デバイスの製造方法
JP2003092248A (ja) 2001-09-17 2003-03-28 Canon Inc 位置検出装置、位置決め装置及びそれらの方法並びに露光装置及びデバイスの製造方法
KR100477849B1 (ko) * 2003-01-09 2005-03-22 삼성전자주식회사 노광 공정의 오버레이 검사 방법
JP2005166785A (ja) * 2003-12-01 2005-06-23 Canon Inc 位置検出装置及び方法、並びに、露光装置
KR100579994B1 (ko) * 2004-06-23 2006-05-12 동부일렉트로닉스 주식회사 노광장치 및 얼라인 마크 측정 방법
JP2009099873A (ja) * 2007-10-18 2009-05-07 Canon Inc 露光装置およびデバイス製造方法
EP2458441B1 (en) * 2010-11-30 2022-01-19 ASML Netherlands BV Measuring method, apparatus and substrate
JP5706861B2 (ja) 2011-10-21 2015-04-22 キヤノン株式会社 検出器、検出方法、インプリント装置及び物品製造方法
JP6584170B2 (ja) * 2015-07-02 2019-10-02 キヤノン株式会社 検出装置、リソグラフィ装置、物品の製造方法、および検出方法
CN114450641B (zh) * 2019-09-30 2024-07-19 Asml控股股份有限公司 具有调制光源的对准传感器
JP2024092689A (ja) * 2022-12-26 2024-07-08 キヤノン株式会社 成形方法、成形装置、および物品の製造方法

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2569544B2 (ja) * 1987-04-08 1997-01-08 株式会社ニコン 位置決め装置
US5272501A (en) * 1991-08-28 1993-12-21 Nikon Corporation Projection exposure apparatus
US5883701A (en) * 1995-09-21 1999-03-16 Canon Kabushiki Kaisha Scanning projection exposure method and apparatus

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001351842A (ja) * 2000-06-05 2001-12-21 Canon Inc 位置検出方法、位置検出装置、露光装置、デバイス製造方法、半導体製造工場および露光装置の保守方法
JP2012253297A (ja) * 2011-06-07 2012-12-20 Disco Abrasive Syst Ltd 加工装置
JP2020046357A (ja) * 2018-09-20 2020-03-26 富士ゼロックス株式会社 計測装置および計測方法
JP2022128225A (ja) * 2021-02-22 2022-09-01 キヤノン株式会社 計測装置、リソグラフィ装置、および物品の製造方法

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Publication number Publication date
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