JPH11209140A - 光ファイバ用多孔質母材の製造装置 - Google Patents
光ファイバ用多孔質母材の製造装置Info
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- JPH11209140A JPH11209140A JP924698A JP924698A JPH11209140A JP H11209140 A JPH11209140 A JP H11209140A JP 924698 A JP924698 A JP 924698A JP 924698 A JP924698 A JP 924698A JP H11209140 A JPH11209140 A JP H11209140A
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- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B37/00—Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
- C03B37/01—Manufacture of glass fibres or filaments
- C03B37/012—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments
- C03B37/014—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD]
- C03B37/01406—Deposition reactors therefor
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- Manufacture, Treatment Of Glass Fibers (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 反応容器の内壁に余剰ガラス微粒子が付着・
堆積することを低減し、ガラス化後の母材内に結晶や泡
が発生するのを抑制若しくはなくす。 【解決手段】 反応容器１内にターゲット６を垂下さ
せ、反応容器１内でターゲット６の下端にバーナ７，８
からの火炎を当てて、火炎中で合成したガラス微粒子を
ターゲット６の先端に堆積させて光ファイバ用多孔質母
材を製造する。反応容器１は、母材９を製造する際の母
材９の先端位置から反応容器１の底部内壁までの最短距
離、及び、母材９の外周面からそれに対面する反応容器
１の内壁までの最短距離が、母材９の外径の１．５倍以
上となるようにその大きさを定める。
堆積することを低減し、ガラス化後の母材内に結晶や泡
が発生するのを抑制若しくはなくす。 【解決手段】 反応容器１内にターゲット６を垂下さ
せ、反応容器１内でターゲット６の下端にバーナ７，８
からの火炎を当てて、火炎中で合成したガラス微粒子を
ターゲット６の先端に堆積させて光ファイバ用多孔質母
材を製造する。反応容器１は、母材９を製造する際の母
材９の先端位置から反応容器１の底部内壁までの最短距
離、及び、母材９の外周面からそれに対面する反応容器
１の内壁までの最短距離が、母材９の外径の１．５倍以
上となるようにその大きさを定める。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は光ファイバ用多孔質
母材の製造装置に関するものである。
母材の製造装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】ＶＡＤ法による光ファイバ用多孔質母材
の製造は、反応容器内のバーナからの酸・水素火炎中に
原料ガス（例えば、ＳｉＣｌ4 ，ＧｅＣｌ4 ）を導入
し、ＳｉＯ2 ，ＧｅＯ2 のガラス微粒子を生成し、この
ガラス微粒子をターゲットである種棒の下部に順次堆積
させることにより行っている。
の製造は、反応容器内のバーナからの酸・水素火炎中に
原料ガス（例えば、ＳｉＣｌ4 ，ＧｅＣｌ4 ）を導入
し、ＳｉＯ2 ，ＧｅＯ2 のガラス微粒子を生成し、この
ガラス微粒子をターゲットである種棒の下部に順次堆積
させることにより行っている。
【０００３】図７（Ａ）（Ｂ）は、従来のこの種の光フ
ァイバ用多孔質ガラス母材の製造装置の構成を示したも
ので、図７（Ａ）はこの装置の正面図、図７（Ｂ）は図
７（Ａ）のＧ−Ｇ線断面図である。
ァイバ用多孔質ガラス母材の製造装置の構成を示したも
ので、図７（Ａ）はこの装置の正面図、図７（Ｂ）は図
７（Ａ）のＧ−Ｇ線断面図である。
【０００４】この光ファイバ用多孔質母材の製造装置に
おいては、上部が開口され下部が閉塞された反応容器１
を備え、この反応容器１内は反応室２となっている。こ
の反応容器１は内径Ｄ0 の有底円筒状であり、該反応室
２の上部は小径筒部１ａとなっていて、内径Ｄ0 の部分
の反応容器１の上部の曲率半径はＲ3 ，底部の曲率半径
はＲ4 となっている。反応室２の小径筒部１ａの上部外
周には上側フランジ部１ｂが設けられている。この小径
筒部１ａの上側フランジ部１ｂ上には、上部筒３がその
下側フランジ部３ａを重ねて設けられている。反応容器
１と上部筒３とは、両者のフランジ部１ｂ，３ａがクラ
ンプ手段４で気密に連結されている。クランプ手段４
は、一端側がヒンジ部（図示せず）で枢支された断面コ
字状の一対のクランプアーム４ａでフランジ部１ｂ，３
ａを挟持し、これらクランプアーム４ａの他端をボルト
４ｂとナット（図示せず）で締結した構造になってい
る。上部筒３の上端外周には上側フランジ部３ｂが設け
られ、この上側フランジ部３ｂに上蓋５が重ねられて上
部筒３の上側開口部が閉塞されている。上蓋５の中央部
の図示しない孔よりなる開口部から種棒からなるターゲ
ット６が昇降自在に垂下され、その下部が反応室２内に
臨むようにされている。
おいては、上部が開口され下部が閉塞された反応容器１
を備え、この反応容器１内は反応室２となっている。こ
の反応容器１は内径Ｄ0 の有底円筒状であり、該反応室
２の上部は小径筒部１ａとなっていて、内径Ｄ0 の部分
の反応容器１の上部の曲率半径はＲ3 ，底部の曲率半径
はＲ4 となっている。反応室２の小径筒部１ａの上部外
周には上側フランジ部１ｂが設けられている。この小径
筒部１ａの上側フランジ部１ｂ上には、上部筒３がその
下側フランジ部３ａを重ねて設けられている。反応容器
１と上部筒３とは、両者のフランジ部１ｂ，３ａがクラ
ンプ手段４で気密に連結されている。クランプ手段４
は、一端側がヒンジ部（図示せず）で枢支された断面コ
字状の一対のクランプアーム４ａでフランジ部１ｂ，３
ａを挟持し、これらクランプアーム４ａの他端をボルト
４ｂとナット（図示せず）で締結した構造になってい
る。上部筒３の上端外周には上側フランジ部３ｂが設け
られ、この上側フランジ部３ｂに上蓋５が重ねられて上
部筒３の上側開口部が閉塞されている。上蓋５の中央部
の図示しない孔よりなる開口部から種棒からなるターゲ
ット６が昇降自在に垂下され、その下部が反応室２内に
臨むようにされている。
【０００５】また、本装置で光ファイバ用多孔質母材９
を製造すると、図７（Ｂ）に示すように母材９の表面と
反応容器１の内壁までの距離Ｌ23は母材径Ｄの１．５倍
より小さくなる（即ち、Ｌ23＜１．５Ｄ）。さらに、図
８に示すように母材９の先端から反応容器１り下部内壁
までの最短距離Ｌ24も母材径Ｄの１．５倍より小さくな
る（即ち、Ｌ24＜１．５Ｄ）。
を製造すると、図７（Ｂ）に示すように母材９の表面と
反応容器１の内壁までの距離Ｌ23は母材径Ｄの１．５倍
より小さくなる（即ち、Ｌ23＜１．５Ｄ）。さらに、図
８に示すように母材９の先端から反応容器１り下部内壁
までの最短距離Ｌ24も母材径Ｄの１．５倍より小さくな
る（即ち、Ｌ24＜１．５Ｄ）。
【０００６】反応室２内でターゲット６の先端には、コ
アバーナ７のコア火炎７ａとクラッドバーナ８のクラッ
ド火炎８ａからなる酸・水素火炎中で生成したガラス微
粒子を堆積させ、成長させてスートと呼ばれる光ファイ
バ用多孔質母材９を得るようになっている。バーナ７，
８の位置に対して光ファイバ用多孔質母材９を挟んだ反
対側の反応容器１の部分には排気管１０が接続され、こ
の排気管１０には反応室２内の圧力を制御する圧力制御
部１１が設けられている。排気管１０の位置から周方向
の９０°異なる位置の反応容器１の部分には観察用筒部
１２が接続され、その先端のフランジ部１２ａに透明板
１３が当接されて観察用筒部１２の先端が閉塞され、こ
の透明板１３を経て内部が覗けるようになっている。透
明板１３はフランジ部１２ａにクランプ手段１４で気密
にクランプされている。クランプ手段１４は、一端側が
ヒンジ部１４ａで枢支された断面コ字状の一対のクラン
プアーム１４ｂでフランジ部１２ａと透明板１３とを挟
持し、これらクランプアーム１４ｂの他端をボルト１４
ｃとナット１４ｄで締結した構造になっている。これら
観察用筒部１２，透明板１３，クランプ手段１４により
観察窓１６が構成されている。上部筒３には、吸気口１
５が設けられている。
アバーナ７のコア火炎７ａとクラッドバーナ８のクラッ
ド火炎８ａからなる酸・水素火炎中で生成したガラス微
粒子を堆積させ、成長させてスートと呼ばれる光ファイ
バ用多孔質母材９を得るようになっている。バーナ７，
８の位置に対して光ファイバ用多孔質母材９を挟んだ反
対側の反応容器１の部分には排気管１０が接続され、こ
の排気管１０には反応室２内の圧力を制御する圧力制御
部１１が設けられている。排気管１０の位置から周方向
の９０°異なる位置の反応容器１の部分には観察用筒部
１２が接続され、その先端のフランジ部１２ａに透明板
１３が当接されて観察用筒部１２の先端が閉塞され、こ
の透明板１３を経て内部が覗けるようになっている。透
明板１３はフランジ部１２ａにクランプ手段１４で気密
にクランプされている。クランプ手段１４は、一端側が
ヒンジ部１４ａで枢支された断面コ字状の一対のクラン
プアーム１４ｂでフランジ部１２ａと透明板１３とを挟
持し、これらクランプアーム１４ｂの他端をボルト１４
ｃとナット１４ｄで締結した構造になっている。これら
観察用筒部１２，透明板１３，クランプ手段１４により
観察窓１６が構成されている。上部筒３には、吸気口１
５が設けられている。
【０００７】このような装置で製造される光ファイバ用
多孔質母材９の重量，体積，濃度分布及び形状は、バー
ナ７，８の位置、各火炎７ａ，８ａの位置、母材９の表
面温度などの要因で変化する。従来は、光ファイバ用多
孔質母材９の製造中の成長速度，母材形状，母材表面温
度を見て、ガス条件、バーナ７，８の位置、排気圧力、
吸気量を調節し、母材９の品質の安定化を図っていた。
多孔質母材９の重量，体積，濃度分布及び形状は、バー
ナ７，８の位置、各火炎７ａ，８ａの位置、母材９の表
面温度などの要因で変化する。従来は、光ファイバ用多
孔質母材９の製造中の成長速度，母材形状，母材表面温
度を見て、ガス条件、バーナ７，８の位置、排気圧力、
吸気量を調節し、母材９の品質の安定化を図っていた。
【０００８】この際に光ファイバ用多孔質母材９は、図
示しない母材先端位置検出器からのオン−オフ信号を利
用して引き上げる。反応室２内の圧力は、排気管１０に
設置した圧力制御部１１で一定に制御する。光ファイバ
用多孔質母材９の製造中の調整では、例えば、母材先端
の形状を観察窓１６から目視で確認しながらガス条件、
バーナ７，８の位置を調節し、成長速度，母材表面温度
を所定量に合わせている。
示しない母材先端位置検出器からのオン−オフ信号を利
用して引き上げる。反応室２内の圧力は、排気管１０に
設置した圧力制御部１１で一定に制御する。光ファイバ
用多孔質母材９の製造中の調整では、例えば、母材先端
の形状を観察窓１６から目視で確認しながらガス条件、
バーナ７，８の位置を調節し、成長速度，母材表面温度
を所定量に合わせている。
【０００９】図８（Ａ）（Ｂ）は、反応容器１内を可視
化して、コア火炎７ａと、光ファイバ用多孔質母材９に
堆積しなかった余剰ガラス微粒子流の流線２７とを観察
したときの状態を示す。この図において、図８（Ａ）は
該装置に反応容器１の箇所での横断面図、図８（Ｂ）は
図８（Ａ）のＨ−Ｈ線断面図である。
化して、コア火炎７ａと、光ファイバ用多孔質母材９に
堆積しなかった余剰ガラス微粒子流の流線２７とを観察
したときの状態を示す。この図において、図８（Ａ）は
該装置に反応容器１の箇所での横断面図、図８（Ｂ）は
図８（Ａ）のＨ−Ｈ線断面図である。
【００１０】余剰ガラス微粒子流の流線２７は、反応容
器１の内壁に沿った流れとなり、サーモフォレシス効果
によって反応容器１の内壁に堆積する。この堆積層は壊
れやすく、再飛散する。
器１の内壁に沿った流れとなり、サーモフォレシス効果
によって反応容器１の内壁に堆積する。この堆積層は壊
れやすく、再飛散する。
【００１１】
【発明が解決しようとする課題】このように従来の光フ
ァイバ用多孔質母材の製造装置では、光ファイバ用多孔
質母材９の製造中の余剰ガラス微粒子流の流線２７が反
応容器１の内壁に沿った流れとなり、サーモフォレシス
効果によって該反応容器１の内壁に堆積する。この堆積
層は壊れやすく、再飛散して、製造中の母材９に付着し
てしまう。これが核となって、ガラス化後の母材内で結
晶，泡が発生する。これら結晶や泡はプリフォームから
紡糸する工程で内部欠陥として残り、光ファイバの破断
や接続不良を引き起こす問題点があった。
ァイバ用多孔質母材の製造装置では、光ファイバ用多孔
質母材９の製造中の余剰ガラス微粒子流の流線２７が反
応容器１の内壁に沿った流れとなり、サーモフォレシス
効果によって該反応容器１の内壁に堆積する。この堆積
層は壊れやすく、再飛散して、製造中の母材９に付着し
てしまう。これが核となって、ガラス化後の母材内で結
晶，泡が発生する。これら結晶や泡はプリフォームから
紡糸する工程で内部欠陥として残り、光ファイバの破断
や接続不良を引き起こす問題点があった。
【００１２】本発明の目的は、反応容器の内壁に余剰ガ
ラス微粒子が付着・堆積することを低減し、これらが再
飛散して母材に付着し、ガラス化後の母材内に結晶や泡
が発生するのを抑制若しくはなくすことができる光ファ
イバ用多孔質母材の製造装置を提供することにある。
ラス微粒子が付着・堆積することを低減し、これらが再
飛散して母材に付着し、ガラス化後の母材内に結晶や泡
が発生するのを抑制若しくはなくすことができる光ファ
イバ用多孔質母材の製造装置を提供することにある。
【００１３】本発明の他の目的は、光ファイバ用多孔質
母材の大型化を図る際に、光ファイバ用多孔質母材の大
きさに合った大きさの反応容器を備えた光ファイバ用多
孔質母材の製造装置を提供することにある。
母材の大型化を図る際に、光ファイバ用多孔質母材の大
きさに合った大きさの反応容器を備えた光ファイバ用多
孔質母材の製造装置を提供することにある。
【００１４】
【課題を解決するための手段】本発明は、反応容器内に
その上部の開口部からターゲットを垂下させ、反応容器
内でターゲット下端にバーナからの火炎を当てて、火炎
中で合成したガラス微粒子を該ターゲットの先端に堆積
させて光ファイバ用多孔質母材を製造する光ファイバ用
多孔質母材の製造装置を改良するものである。
その上部の開口部からターゲットを垂下させ、反応容器
内でターゲット下端にバーナからの火炎を当てて、火炎
中で合成したガラス微粒子を該ターゲットの先端に堆積
させて光ファイバ用多孔質母材を製造する光ファイバ用
多孔質母材の製造装置を改良するものである。
【００１５】本発明に係る光ファイバ用多孔質母材の製
造装置において、反応容器は、光ファイバ用多孔質母材
を製造する際の該光ファイバ用多孔質母材の先端位置か
ら該反応容器の底部内壁までの最短距離、及び、光ファ
イバ用多孔質母材の外周面からそれに対面する該反応容
器の内壁までの最短距離が、光ファイバ用多孔質母材の
外径の１．５倍以上となるように、その大きさが定めら
れている。
造装置において、反応容器は、光ファイバ用多孔質母材
を製造する際の該光ファイバ用多孔質母材の先端位置か
ら該反応容器の底部内壁までの最短距離、及び、光ファ
イバ用多孔質母材の外周面からそれに対面する該反応容
器の内壁までの最短距離が、光ファイバ用多孔質母材の
外径の１．５倍以上となるように、その大きさが定めら
れている。
【００１６】このように反応容器の大きさを設定する
と、反応容器内壁に余剰ガラス微粒子が到達しにくくな
り、該内壁への余剰ガラス微粒子の付着・堆積が著しく
減少する。このため、これら反応容器内壁に付着・堆積
した余剰ガラス微粒子堆積層が壊れて発生するガラス微
粒子が再飛散して、製造中の母材に再付着することを著
しく抑制することができ若しくはなくすことができ、ガ
ラス化後の母材内に結晶や泡が発生するのを著しく抑制
することができ若しくはなくすことができる。
と、反応容器内壁に余剰ガラス微粒子が到達しにくくな
り、該内壁への余剰ガラス微粒子の付着・堆積が著しく
減少する。このため、これら反応容器内壁に付着・堆積
した余剰ガラス微粒子堆積層が壊れて発生するガラス微
粒子が再飛散して、製造中の母材に再付着することを著
しく抑制することができ若しくはなくすことができ、ガ
ラス化後の母材内に結晶や泡が発生するのを著しく抑制
することができ若しくはなくすことができる。
【００１７】また、このような光ファイバ用多孔質母材
の製造装置によれば、光ファイバ用多孔質母材の大型化
を図る際に、光ファイバ用多孔質母材の大きさに合った
大きさの反応容器の決定を容易に行うことができる。
の製造装置によれば、光ファイバ用多孔質母材の大型化
を図る際に、光ファイバ用多孔質母材の大きさに合った
大きさの反応容器の決定を容易に行うことができる。
【００１８】
【発明の実施の形態】（実施の形態の第１例）図１
（Ａ）（Ｂ）は本発明に係る光ファイバ用多孔質母材の
製造装置における実施の形態の第１例を示したものであ
り、図１（Ａ）は該装置の正面図、図１（Ｂ）は図１
（Ａ）のＡ−Ａ線断面図である。
（Ａ）（Ｂ）は本発明に係る光ファイバ用多孔質母材の
製造装置における実施の形態の第１例を示したものであ
り、図１（Ａ）は該装置の正面図、図１（Ｂ）は図１
（Ａ）のＡ−Ａ線断面図である。
【００１９】図２（Ａ）（Ｂ）はこの第１例の光ファイ
バ用多孔質母材の製造装置における反応容器内を可視化
して、余剰ガラス微粒子流の流線を観察したときの状態
を示す。この図において、図２（Ａ）は該装置の反応容
器の横断面図、図２（Ｂ）は図２（Ａ）のＢ−Ｂ線断面
図である。
バ用多孔質母材の製造装置における反応容器内を可視化
して、余剰ガラス微粒子流の流線を観察したときの状態
を示す。この図において、図２（Ａ）は該装置の反応容
器の横断面図、図２（Ｂ）は図２（Ａ）のＢ−Ｂ線断面
図である。
【００２０】この例の光ファイバ用多孔質母材の製造装
置においては、反応容器１は八角筒状の石英製の反応容
器本体２３ａと八角筒状の石英製の小径筒部２３ｂとを
継ぎ合わせて構成されている。反応容器本体２３ａは石
英板を八角筒状に継ぎ合わせて形成され、小径筒部２３
ｂは一体成形で八角筒状に形成されている。反応容器本
体２３ａには、前述した同様の構造をして石英製透明板
１３を備えた観察窓１６と、排気管口１０とが設けられ
ている。
置においては、反応容器１は八角筒状の石英製の反応容
器本体２３ａと八角筒状の石英製の小径筒部２３ｂとを
継ぎ合わせて構成されている。反応容器本体２３ａは石
英板を八角筒状に継ぎ合わせて形成され、小径筒部２３
ｂは一体成形で八角筒状に形成されている。反応容器本
体２３ａには、前述した同様の構造をして石英製透明板
１３を備えた観察窓１６と、排気管口１０とが設けられ
ている。
【００２１】この例の反応容器１では、図１（Ｂ）に示
すように、光ファイバ用多孔質母材９の外周から八角筒
状をなす反応容器本体２３ａを構成する各石英板の内壁
までの最短距離Ｌ1 ，…，Ｌ8 がいずれも母材９の外径
Ｄの１．５倍以上となり、また、図２（Ｂ）に示すよう
に、母材９の先端位置から該反応容器本体２３ａの底部
２４の内壁までの最短距離Ｌ9 も母材９の外径Ｄの１．
５倍以上となるように、反応容器１の大きさが定められ
ている。
すように、光ファイバ用多孔質母材９の外周から八角筒
状をなす反応容器本体２３ａを構成する各石英板の内壁
までの最短距離Ｌ1 ，…，Ｌ8 がいずれも母材９の外径
Ｄの１．５倍以上となり、また、図２（Ｂ）に示すよう
に、母材９の先端位置から該反応容器本体２３ａの底部
２４の内壁までの最短距離Ｌ9 も母材９の外径Ｄの１．
５倍以上となるように、反応容器１の大きさが定められ
ている。
【００２２】反応容器１の上部に設けられた小径筒部２
３ｂの上端外周には、図１（Ａ）に示すように上側フラ
ンジ部２３ｃが設けられている。この小径筒部２３ｂの
上側フランジ部２３ｃの上には、前述したと同様に上部
筒３がその下側フランジ部３ａを重ねて設けられ、相互
のフランジ部３ａ，２３ｃがクランプ手段４で気密に連
結されている。反応容器本体２３ａの下端には、図１
（Ａ）及び図２（Ｂ）に示すように下側フランジ部２３
ｄが設けられている。この下側フランジ部２３ｄには反
応容器本体２３ａの下部を塞ぐように平坦な底部２４が
当接され、下側フランジ部２３ｄと底部２４とはクラン
プ手段２５で気密にクランプすることにより着脱可能に
連結されている。クランプ手段２５は、一端側がヒンジ
部２５ａで枢支された断面コ字状の一対のクランプアー
ム２５ｂでフランジ部２３ｄと底部２４とを挟持し、こ
れらクランプアーム２５ａの他端を図１（Ｂ）及び図２
（Ａ）に示すようにボルト２５ｃとナット２５ｄで締結
した構造になっている。
３ｂの上端外周には、図１（Ａ）に示すように上側フラ
ンジ部２３ｃが設けられている。この小径筒部２３ｂの
上側フランジ部２３ｃの上には、前述したと同様に上部
筒３がその下側フランジ部３ａを重ねて設けられ、相互
のフランジ部３ａ，２３ｃがクランプ手段４で気密に連
結されている。反応容器本体２３ａの下端には、図１
（Ａ）及び図２（Ｂ）に示すように下側フランジ部２３
ｄが設けられている。この下側フランジ部２３ｄには反
応容器本体２３ａの下部を塞ぐように平坦な底部２４が
当接され、下側フランジ部２３ｄと底部２４とはクラン
プ手段２５で気密にクランプすることにより着脱可能に
連結されている。クランプ手段２５は、一端側がヒンジ
部２５ａで枢支された断面コ字状の一対のクランプアー
ム２５ｂでフランジ部２３ｄと底部２４とを挟持し、こ
れらクランプアーム２５ａの他端を図１（Ｂ）及び図２
（Ａ）に示すようにボルト２５ｃとナット２５ｄで締結
した構造になっている。
【００２３】この装置では、光ファイバ用多孔質母材９
の先端位置から反応容器本体２３ａの底部２４の内壁ま
での最短距離Ｌ9 、及び、光ファイバ用多孔質母材９の
外周面からそれに対面する八角筒状をなす反応容器本体
２３ａの各石英板の内壁までの最短距離Ｌ1 〜Ｌ8 が、
光ファイバ用多孔質母材９の外径の１．５倍以上となる
ように、その大きさが定められているので、図２（Ａ）
（Ｂ）に示すように、余剰ガラス微粒子の流線２７の流
れが安定し、該余剰ガラス微粒子が排気管１０に導かれ
ていた。このため、反応容器１の内壁には余剰ガラス微
粒子の付着・堆積が著しく減少し若しくはなくなった。
これにより、反応容器１の内壁に付着・堆積していた余
剰ガラス微粒子堆積層が壊れて発生するガラス微粒子が
再飛散して、製造中の母材に付着することが著しく減少
し若しくはなくなった。このため、ガラス化後のプリフ
ォーム内に結晶や泡が発生することが著しく減少し若し
くはなくなった。
の先端位置から反応容器本体２３ａの底部２４の内壁ま
での最短距離Ｌ9 、及び、光ファイバ用多孔質母材９の
外周面からそれに対面する八角筒状をなす反応容器本体
２３ａの各石英板の内壁までの最短距離Ｌ1 〜Ｌ8 が、
光ファイバ用多孔質母材９の外径の１．５倍以上となる
ように、その大きさが定められているので、図２（Ａ）
（Ｂ）に示すように、余剰ガラス微粒子の流線２７の流
れが安定し、該余剰ガラス微粒子が排気管１０に導かれ
ていた。このため、反応容器１の内壁には余剰ガラス微
粒子の付着・堆積が著しく減少し若しくはなくなった。
これにより、反応容器１の内壁に付着・堆積していた余
剰ガラス微粒子堆積層が壊れて発生するガラス微粒子が
再飛散して、製造中の母材に付着することが著しく減少
し若しくはなくなった。このため、ガラス化後のプリフ
ォーム内に結晶や泡が発生することが著しく減少し若し
くはなくなった。
【００２４】本装置の反応容器１は石英ガラスで形成し
たが、他のガラス（例えば、ホウケイ酸ガラス，ソーダ
石灰ガラス，鉛ガラス等）でもよい。また、テトラフロ
ロエチレン，ＳｉＣ，ＴｉＣ等でコーティングしたステ
ンレススチール，アルミニウム等の金属で形成してもよ
い。
たが、他のガラス（例えば、ホウケイ酸ガラス，ソーダ
石灰ガラス，鉛ガラス等）でもよい。また、テトラフロ
ロエチレン，ＳｉＣ，ＴｉＣ等でコーティングしたステ
ンレススチール，アルミニウム等の金属で形成してもよ
い。
【００２５】（実施の形態の第２例）図３（Ａ）（Ｂ）
は本発明に係る光ファイバ用多孔質母材の製造装置にお
ける実施の形態の第２例を示したもので、図３（Ａ）は
該装置の正面図、図３（Ｂ）は図３（Ａ）のＣ−Ｃ線断
面図である。
は本発明に係る光ファイバ用多孔質母材の製造装置にお
ける実施の形態の第２例を示したもので、図３（Ａ）は
該装置の正面図、図３（Ｂ）は図３（Ａ）のＣ−Ｃ線断
面図である。
【００２６】図４（Ａ）（Ｂ）はこの第２例の光ファイ
バ用多孔質母材の製造装置における反応容器内を可視化
して、余剰ガラス微粒子流の流線を観察したときの状態
を示したもので、図４（Ａ）は該装置の反応容器の横断
面図、図４（Ｂ）は図４（Ａ）のＤ−Ｄ線断面図であ
る。
バ用多孔質母材の製造装置における反応容器内を可視化
して、余剰ガラス微粒子流の流線を観察したときの状態
を示したもので、図４（Ａ）は該装置の反応容器の横断
面図、図４（Ｂ）は図４（Ａ）のＤ−Ｄ線断面図であ
る。
【００２７】この例の光ファイバ用多孔質母材の製造装
置においては、反応容器１は内周面に８つの凹面部を有
する反応容器本体２６ａと円筒状の小径筒部２６ｂとを
継ぎ合わせて構成されている。反応容器本体２６ａは湾
曲した石英板（半径Ｒ1 の円筒ガラスから切り出したも
の）を継ぎ合わせ、下部には石英の半球部２６ａ´を底
部として溶着して形成されている。小径筒部２６ｂは、
一体成形で円筒状に石英により形成されている。反応容
器本体２６ａには、前述した同様の構造をしていて石英
製透明板１３を備えた観察窓１６と、排気管口１０とが
設けられている。
置においては、反応容器１は内周面に８つの凹面部を有
する反応容器本体２６ａと円筒状の小径筒部２６ｂとを
継ぎ合わせて構成されている。反応容器本体２６ａは湾
曲した石英板（半径Ｒ1 の円筒ガラスから切り出したも
の）を継ぎ合わせ、下部には石英の半球部２６ａ´を底
部として溶着して形成されている。小径筒部２６ｂは、
一体成形で円筒状に石英により形成されている。反応容
器本体２６ａには、前述した同様の構造をしていて石英
製透明板１３を備えた観察窓１６と、排気管口１０とが
設けられている。
【００２８】この例の反応容器１では、図３（Ｂ）に示
すように、光ファイバ用多孔質母材９の外周から、内周
に８つの内向き突部を有する反応容器本体２６ａのこれ
ら８つの内向き突部の先端までの最短距離Ｌ10，…，Ｌ
17がいずれも母材９の外径Ｄの１．５倍以上となり、ま
た、図４（Ｂ）に示すように、母材９の先端位置から該
反応容器本体２６ａの底部である半球部２６ａ´の内壁
までの最短距離Ｌ18と母材９の先端位置から該反応容器
本体２６ａの肩部内面までの最短距離Ｌ19も母材９の外
径Ｄの１．５倍以上となるように、該反応容器１の大き
さが定められている。
すように、光ファイバ用多孔質母材９の外周から、内周
に８つの内向き突部を有する反応容器本体２６ａのこれ
ら８つの内向き突部の先端までの最短距離Ｌ10，…，Ｌ
17がいずれも母材９の外径Ｄの１．５倍以上となり、ま
た、図４（Ｂ）に示すように、母材９の先端位置から該
反応容器本体２６ａの底部である半球部２６ａ´の内壁
までの最短距離Ｌ18と母材９の先端位置から該反応容器
本体２６ａの肩部内面までの最短距離Ｌ19も母材９の外
径Ｄの１．５倍以上となるように、該反応容器１の大き
さが定められている。
【００２９】反応容器１の上部に設けられた円筒状の小
径筒部２６ｂの上端外周には、前記した例と同様に上側
フランジ部（図示せず）が設けられている。この小径筒
部２６ｂの上側フランジ部の上には、上部筒３がその下
側フランジ部（図示せず）を重ねて設けられ、相互のフ
ランジ部が前述したと同様の構造のクランプ手段４で気
密に連結されている。
径筒部２６ｂの上端外周には、前記した例と同様に上側
フランジ部（図示せず）が設けられている。この小径筒
部２６ｂの上側フランジ部の上には、上部筒３がその下
側フランジ部（図示せず）を重ねて設けられ、相互のフ
ランジ部が前述したと同様の構造のクランプ手段４で気
密に連結されている。
【００３０】この装置でも、反応容器１の大きさが前述
したように定められているので、図４（Ａ）（Ｂ）に示
すように、余剰ガラス微粒子の流線２７の流れが安定
し、排気管１０に導かれていた。このため、反応容器１
の内壁には余剰ガラス微粒子の付着・堆積が著しく減少
し若しくはなくなった。これにより、反応容器１の内壁
に付着・堆積していた余剰ガラス微粒子堆積層が壊れて
発生するガラス微粒子が再飛散して、製造中の母材に付
着することが著しく減少し若しくはなくなった。このた
め、ガラス化後のプリフォーム内に結晶や泡が発生する
ことが著しく減少し若しくはなくなった。
したように定められているので、図４（Ａ）（Ｂ）に示
すように、余剰ガラス微粒子の流線２７の流れが安定
し、排気管１０に導かれていた。このため、反応容器１
の内壁には余剰ガラス微粒子の付着・堆積が著しく減少
し若しくはなくなった。これにより、反応容器１の内壁
に付着・堆積していた余剰ガラス微粒子堆積層が壊れて
発生するガラス微粒子が再飛散して、製造中の母材に付
着することが著しく減少し若しくはなくなった。このた
め、ガラス化後のプリフォーム内に結晶や泡が発生する
ことが著しく減少し若しくはなくなった。
【００３１】本装置の反応容器１も石英ガラスで形成し
たが、他のガラス（例えば、ホウケイ酸ガラス，ソーダ
石灰ガラス，鉛ガラス等）でもよい。また、テトラフロ
ロエチレン，ＳｉＣ，ＴｉＣ等でコーティングしたステ
ンレススチール，アルミニウム等の金属で形成してもよ
い。
たが、他のガラス（例えば、ホウケイ酸ガラス，ソーダ
石灰ガラス，鉛ガラス等）でもよい。また、テトラフロ
ロエチレン，ＳｉＣ，ＴｉＣ等でコーティングしたステ
ンレススチール，アルミニウム等の金属で形成してもよ
い。
【００３２】（実施の形態の第３例）図５（Ａ）（Ｂ）
は本発明に係る光ファイバ用多孔質母材の製造装置にお
ける実施の形態の第３例を示したものであり、図５
（Ａ）は該装置の正面図、図５（Ｂ）は図５（Ａ）のＥ
−Ｅ線断面図である。
は本発明に係る光ファイバ用多孔質母材の製造装置にお
ける実施の形態の第３例を示したものであり、図５
（Ａ）は該装置の正面図、図５（Ｂ）は図５（Ａ）のＥ
−Ｅ線断面図である。
【００３３】図６（Ａ）（Ｂ）はこの第３例の光ファイ
バ用多孔質母材の製造装置における反応容器内を可視化
して、余剰ガラス微粒子流の流線を観察したときの状態
を示したもので、図６（Ａ）は該装置の反応容器の横断
面図、図６（Ｂ）は図６（Ａ）のＦ−Ｆ線断面図であ
る。
バ用多孔質母材の製造装置における反応容器内を可視化
して、余剰ガラス微粒子流の流線を観察したときの状態
を示したもので、図６（Ａ）は該装置の反応容器の横断
面図、図６（Ｂ）は図６（Ａ）のＦ−Ｆ線断面図であ
る。
【００３４】この例の光ファイバ用多孔質母材の製造装
置においては、反応容器１は内周面が球面をなす反応容
器本体２７ａと円筒状の小径筒部２７ｂとを継ぎ合わせ
て構成されている。反応容器本体２７ａは内径がＤ1 の
石英球体により形成されている。小径筒部２７ｂは、一
体成形で円筒状に石英により形成されている。反応容器
本体２７ａには、前述した同様の構造をしていて石英製
透明板１３を備えた観察窓１６と、排気管口１０とが設
けられている。
置においては、反応容器１は内周面が球面をなす反応容
器本体２７ａと円筒状の小径筒部２７ｂとを継ぎ合わせ
て構成されている。反応容器本体２７ａは内径がＤ1 の
石英球体により形成されている。小径筒部２７ｂは、一
体成形で円筒状に石英により形成されている。反応容器
本体２７ａには、前述した同様の構造をしていて石英製
透明板１３を備えた観察窓１６と、排気管口１０とが設
けられている。
【００３５】この例の反応容器１では、図５（Ｂ）に示
すように、光ファイバ用多孔質母材９の外周から反応容
器本体２７ａの内壁までの最短距離Ｌ20が母材９の外径
Ｄの１．５倍以上となり、また図６（Ｂ）に示すよう
に、母材９の先端位置から該反応容器本体２７ａの底部
内壁までの最短距離Ｌ21と母材９の先端位置から該反応
容器本体２７ａの肩部内壁までの最短距離Ｌ22も母材９
の外径Ｄの１．５倍以上となるように、該反応容器１の
大きさが定められている。
すように、光ファイバ用多孔質母材９の外周から反応容
器本体２７ａの内壁までの最短距離Ｌ20が母材９の外径
Ｄの１．５倍以上となり、また図６（Ｂ）に示すよう
に、母材９の先端位置から該反応容器本体２７ａの底部
内壁までの最短距離Ｌ21と母材９の先端位置から該反応
容器本体２７ａの肩部内壁までの最短距離Ｌ22も母材９
の外径Ｄの１．５倍以上となるように、該反応容器１の
大きさが定められている。
【００３６】反応容器１の上部に設けられた円筒状の小
径筒部２７ｂの上端外周には、前記した例と同様に上側
フランジ部（図示せず）が設けられている。この小径筒
部２７ｂの上側フランジ部の上には、上部筒３がその下
側フランジ部（図示せず）を重ねて設けられ、相互のフ
ランジ部が前述したと同様の構造のクランプ手段４で気
密に連結されている。
径筒部２７ｂの上端外周には、前記した例と同様に上側
フランジ部（図示せず）が設けられている。この小径筒
部２７ｂの上側フランジ部の上には、上部筒３がその下
側フランジ部（図示せず）を重ねて設けられ、相互のフ
ランジ部が前述したと同様の構造のクランプ手段４で気
密に連結されている。
【００３７】この装置でも、反応容器１の大きさが前述
したように定められているので、図６（Ａ）（Ｂ）に示
すように、余剰ガラス微粒子の流線２７の流れが安定
し、排気管１０に導かれていた。このため、反応容器１
の内壁には余剰ガラス微粒子の付着・堆積が著しく減少
し若しくはなくなった。これにより、反応容器１の内壁
に付着・堆積していた余剰ガラス微粒子堆積層が壊れて
発生するガラス微粒子が再飛散して、製造中の母材に付
着することが著しく減少し若しくはなくなった。このた
め、ガラス化後のプリフォーム内に結晶や泡が発生する
ことが著しく減少し若しくはなくなった。
したように定められているので、図６（Ａ）（Ｂ）に示
すように、余剰ガラス微粒子の流線２７の流れが安定
し、排気管１０に導かれていた。このため、反応容器１
の内壁には余剰ガラス微粒子の付着・堆積が著しく減少
し若しくはなくなった。これにより、反応容器１の内壁
に付着・堆積していた余剰ガラス微粒子堆積層が壊れて
発生するガラス微粒子が再飛散して、製造中の母材に付
着することが著しく減少し若しくはなくなった。このた
め、ガラス化後のプリフォーム内に結晶や泡が発生する
ことが著しく減少し若しくはなくなった。
【００３８】本装置の反応容器１も石英ガラスで形成し
たが、他のガラス（例えば、ホウケイ酸ガラス，ソーダ
石灰ガラス，鉛ガラス等）でもよい。また、テトラフロ
ロエチレン，ＳｉＣ，ＴｉＣ等でコーティングしたステ
ンレススチール，アルミニウム等の金属で形成してもよ
い。
たが、他のガラス（例えば、ホウケイ酸ガラス，ソーダ
石灰ガラス，鉛ガラス等）でもよい。また、テトラフロ
ロエチレン，ＳｉＣ，ＴｉＣ等でコーティングしたステ
ンレススチール，アルミニウム等の金属で形成してもよ
い。
【００３９】
【発明の効果】本発明に係る光ファイバ用多孔質母材の
製造装置では、反応容器が、光ファイバ用多孔質母材を
製造する際の該光ファイバ用多孔質母材の先端位置から
該反応容器の底部内壁までの最短距離、及び、光ファイ
バ用多孔質母材の外周面からそれに対面する該反応容器
の内壁までの最短距離が、光ファイバ用多孔質母材の外
径の１．５倍以上となるように、その大きさが定められ
ているので、反応容器内壁に余剰ガラス微粒子が到達し
にくくなり、該内壁への余剰ガラス微粒子の付着・堆積
を著しく減少させることができる。このため、これら反
応容器内壁に付着・堆積した余剰ガラス微粒子堆積層が
壊れて発生するガラス微粒子が再飛散して、製造中の母
材に再付着することを著しく抑制することができ若しく
はなくすことができ、ガラス化後の母材内に結晶や泡が
発生するのを著しく抑制することができ若しくはなくす
ことができる。
製造装置では、反応容器が、光ファイバ用多孔質母材を
製造する際の該光ファイバ用多孔質母材の先端位置から
該反応容器の底部内壁までの最短距離、及び、光ファイ
バ用多孔質母材の外周面からそれに対面する該反応容器
の内壁までの最短距離が、光ファイバ用多孔質母材の外
径の１．５倍以上となるように、その大きさが定められ
ているので、反応容器内壁に余剰ガラス微粒子が到達し
にくくなり、該内壁への余剰ガラス微粒子の付着・堆積
を著しく減少させることができる。このため、これら反
応容器内壁に付着・堆積した余剰ガラス微粒子堆積層が
壊れて発生するガラス微粒子が再飛散して、製造中の母
材に再付着することを著しく抑制することができ若しく
はなくすことができ、ガラス化後の母材内に結晶や泡が
発生するのを著しく抑制することができ若しくはなくす
ことができる。
【００４０】また、このような光ファイバ用多孔質母材
の製造装置によれば、光ファイバ用多孔質母材の大型化
を図る際に、光ファイバ用多孔質母材の大きさに合った
大きさの反応容器の決定を容易に行うことができる。
の製造装置によれば、光ファイバ用多孔質母材の大型化
を図る際に、光ファイバ用多孔質母材の大きさに合った
大きさの反応容器の決定を容易に行うことができる。
【図１】（Ａ）（Ｂ）は本発明に係る光ファイバ用多孔
質母材の製造装置における実施の形態の第１例を示した
ものであり、（Ａ）は該装置の正面図、（Ｂ）は（Ａ）
のＡ−Ａ線断面図である。
質母材の製造装置における実施の形態の第１例を示した
ものであり、（Ａ）は該装置の正面図、（Ｂ）は（Ａ）
のＡ−Ａ線断面図である。
【図２】（Ａ）（Ｂ）はこの第１例の光ファイバ用多孔
質母材の製造装置における反応容器内を可視化して、余
剰ガラス微粒子流の流線を観察したときの状態を示した
ものであり、（Ａ）は該装置の反応容器の横断面図、
（Ｂ）は（Ａ）のＢ−Ｂ線断面図である。
質母材の製造装置における反応容器内を可視化して、余
剰ガラス微粒子流の流線を観察したときの状態を示した
ものであり、（Ａ）は該装置の反応容器の横断面図、
（Ｂ）は（Ａ）のＢ−Ｂ線断面図である。
【図３】（Ａ）（Ｂ）は本発明に係る光ファイバ用多孔
質母材の製造装置における実施の形態の第２例を示した
もので、（Ａ）は該装置の正面図、（Ｂ）は（Ａ）のＣ
−Ｃ線断面図である。
質母材の製造装置における実施の形態の第２例を示した
もので、（Ａ）は該装置の正面図、（Ｂ）は（Ａ）のＣ
−Ｃ線断面図である。
【図４】（Ａ）（Ｂ）はこの第２例の光ファイバ用多孔
質母材の製造装置における反応容器内を可視化して、余
剰ガラス微粒子流の流線を観察したときの状態を示した
もので、（Ａ）は該装置の反応容器の横断面図、（Ｂ）
は（Ａ）のＤ−Ｄ線断面図である。
質母材の製造装置における反応容器内を可視化して、余
剰ガラス微粒子流の流線を観察したときの状態を示した
もので、（Ａ）は該装置の反応容器の横断面図、（Ｂ）
は（Ａ）のＤ−Ｄ線断面図である。
【図５】（Ａ）（Ｂ）は本発明に係る光ファイバ用多孔
質母材の製造装置における実施の形態の第３例を示した
ものであり、（Ａ）は該装置の正面図、（Ｂ）は（Ａ）
のＥ−Ｅ線断面図である。
質母材の製造装置における実施の形態の第３例を示した
ものであり、（Ａ）は該装置の正面図、（Ｂ）は（Ａ）
のＥ−Ｅ線断面図である。
【図６】（Ａ）（Ｂ）はこの第３例の光ファイバ用多孔
質母材の製造装置における反応容器内を可視化して、余
剰ガラス微粒子流の流線を観察したときの状態を示した
もので、（Ａ）は該装置の反応容器の横断面図、（Ｂ）
は（Ａ）のＦ−Ｆ線断面図である。
質母材の製造装置における反応容器内を可視化して、余
剰ガラス微粒子流の流線を観察したときの状態を示した
もので、（Ａ）は該装置の反応容器の横断面図、（Ｂ）
は（Ａ）のＦ−Ｆ線断面図である。
【図７】（Ａ）（Ｂ）は従来の光ファイバ用多孔質ガラ
ス母材の製造装置の構成を示したもので、（Ａ）はこの
装置の正面図、（Ｂ）は（Ａ）のＧ−Ｇ線断面図であ
る。
ス母材の製造装置の構成を示したもので、（Ａ）はこの
装置の正面図、（Ｂ）は（Ａ）のＧ−Ｇ線断面図であ
る。
【図８】（Ａ）（Ｂ）は従来の反応容器内を可視化し
て、コア火炎と、光ファイバ用多孔質母材に堆積しなか
った余剰ガラス微粒子流の流線とを観察したときの状態
を示したもので、（Ａ）は該装置に反応容器の箇所での
横断面図、（Ｂ）は（Ａ）のＨ−Ｈ線断面図である。
て、コア火炎と、光ファイバ用多孔質母材に堆積しなか
った余剰ガラス微粒子流の流線とを観察したときの状態
を示したもので、（Ａ）は該装置に反応容器の箇所での
横断面図、（Ｂ）は（Ａ）のＨ−Ｈ線断面図である。
１ 反応容器 １ａ 小径筒部 １ｂ 上側フランジ部 ２ 反応室 ３ 上部筒 ３ａ 下側フランジ部 ３ｂ 上側フランジ部 ４ クランプ手段 ４ａ クランプアーム ４ｂ ボルト ５ 上蓋 ６ ターゲット ７ コアバーナ ７ａ コア火炎 ８ クラッドバーナ ８ａ クラッド火炎 ９ 光ファイバ用多孔質母材 １０ 排気管 １１ 圧力制御部 １２ 観察用筒部 １２ａ フランジ部 １３ 透明板 １４ クランプ手段 １４ａ ヒンジ部 １４ｂ クランプアーム １４ｃ ボルト １４ｄ ナット １５ 吸気口 １６ 観察窓 ２３ａ 反応容器本体 ２３ｂ 小径筒部 ２３ｃ 上側フランジ部 ２３ｄ 下側フランジ部 ２４ 底部 ２５ クランプ手段 ２５ａ ヒンジ部 ２５ｂ クランプアーム ２５ｃ ボルト ２５ｄ ナット ２６ａ 反応容器本体 ２６ａ´ 半球部 ２６ｂ 小径筒部 ２７ａ 反応容器本体 ２７ｂ 小径筒部
Claims (1)
- 【請求項１】 反応容器内にその上部の開口部からター
ゲットを垂下させ、前記反応容器内でターゲット下端に
バーナからの火炎を当てて、火炎中で合成したガラス微
粒子を該ターゲットの先端に堆積させて光ファイバ用多
孔質母材を製造する光ファイバ用多孔質母材の製造装置
において、 前記反応容器は、前記光ファイバ用多孔質母材を製造す
る際の該光ファイバ用多孔質母材の先端位置から該反応
容器の底部内壁までの最短距離、及び、前記光ファイバ
用多孔質母材の外周面からそれに対面する該反応容器の
内壁までの最短距離が、前記光ファイバ用多孔質母材の
外径の１．５倍以上となるようにその大きさが定められ
ていることを特徴とする光ファイバ用多孔質母材の製造
装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP924698A JPH11209140A (ja) | 1998-01-21 | 1998-01-21 | 光ファイバ用多孔質母材の製造装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP924698A JPH11209140A (ja) | 1998-01-21 | 1998-01-21 | 光ファイバ用多孔質母材の製造装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11209140A true JPH11209140A (ja) | 1999-08-03 |
Family
ID=11715061
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP924698A Pending JPH11209140A (ja) | 1998-01-21 | 1998-01-21 | 光ファイバ用多孔質母材の製造装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11209140A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002284533A (ja) * | 2001-03-23 | 2002-10-03 | Sumitomo Electric Ind Ltd | ガラス母材の製造方法および製造装置 |
| WO2002102729A1 (en) * | 2001-06-14 | 2002-12-27 | Sumitomo Electric Industries, Ltd. | Device and method for producing stack of fine glass particles |
-
1998
- 1998-01-21 JP JP924698A patent/JPH11209140A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002284533A (ja) * | 2001-03-23 | 2002-10-03 | Sumitomo Electric Ind Ltd | ガラス母材の製造方法および製造装置 |
| WO2002102729A1 (en) * | 2001-06-14 | 2002-12-27 | Sumitomo Electric Industries, Ltd. | Device and method for producing stack of fine glass particles |
| EP1405833A1 (en) * | 2001-06-14 | 2004-04-07 | Sumitomo Electric Industries, Ltd. | Device and method for producing stack of fine glass particles |
| EP1405833A4 (en) * | 2001-06-14 | 2012-02-22 | Sumitomo Electric Industries | DEVICE AND METHOD FOR PRODUCING A STACK OF GOOD GLASS PARTICLES |
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