JPS60231431A - 光学系多孔質ガラス母材の製造装置 - Google Patents
光学系多孔質ガラス母材の製造装置Info
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- JPS60231431A JPS60231431A JP8557284A JP8557284A JPS60231431A JP S60231431 A JPS60231431 A JP S60231431A JP 8557284 A JP8557284 A JP 8557284A JP 8557284 A JP8557284 A JP 8557284A JP S60231431 A JPS60231431 A JP S60231431A
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- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B37/00—Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
- C03B37/01—Manufacture of glass fibres or filaments
- C03B37/012—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments
- C03B37/014—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD]
- C03B37/01413—Reactant delivery systems
- C03B37/0142—Reactant deposition burners
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
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- C03B2207/00—Glass deposition burners
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-
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- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は光フアイバ用、イメージガイド用、ライトガイ
ド用、ロッドレンズ用などの光学系多孔質ガラス母材を
VAD法により製造する装置に関する。
ド用、ロッドレンズ用などの光学系多孔質ガラス母材を
VAD法により製造する装置に関する。
(従 来 技 術)
一般に、前述した光学系多孔質ガラス母材をVAD法に
より製造するとき、第1図に示す装置が用いられている
。
より製造するとき、第1図に示す装置が用いられている
。
以下これにつき略述すると、第1図において、lは石英
製の反応容器であり、この反応容器lはその基部2が中
空の球形となっているとともに該基部2の上面には開口
部3を有する上部筒4が一体的に連設されている。
製の反応容器であり、この反応容器lはその基部2が中
空の球形となっているとともに該基部2の上面には開口
部3を有する上部筒4が一体的に連設されている。
さらに上記基部2の側面には排気管5の排気口6端が連
結され、該基部2の下面には多重管構造とした反応バー
ナの端部、すなわちガラス合成用バーナ7の端部(先端
)が挿着されている。
結され、該基部2の下面には多重管構造とした反応バー
ナの端部、すなわちガラス合成用バーナ7の端部(先端
)が挿着されている。
一方、回転自在かつ上下動自在な棒状のターゲット8は
、上記反応容器lの開口部3からその反応容器l内にわ
たって内挿されている。
、上記反応容器lの開口部3からその反応容器l内にわ
たって内挿されている。
上記第1図の装置を介してVAD法を実施するとき、気
相のガラス原料とドーパントなど、これら原料ガスと酸
水素ガスとがバーナ7へ供給されるとともに燃焼状態の
当該バーナ7により反応生成されたスート状のガラス微
粒子が回転状態のターゲット8へ噴射かつ堆積され、さ
らにそのガラス堆積量と同調してターゲット8が上方へ
引き上げられ、かくて棒状の多孔質ガラス母材9が時間
の経過とともに製造される。
相のガラス原料とドーパントなど、これら原料ガスと酸
水素ガスとがバーナ7へ供給されるとともに燃焼状態の
当該バーナ7により反応生成されたスート状のガラス微
粒子が回転状態のターゲット8へ噴射かつ堆積され、さ
らにそのガラス堆積量と同調してターゲット8が上方へ
引き上げられ、かくて棒状の多孔質ガラス母材9が時間
の経過とともに製造される。
この際、反応容器l内は排気管5を介して排気される。
ところで上記VAD法では、バーナ先端からの火炎流が
母材成長面に沿って流れ、該火炎流により担持されたガ
ラス微粒子がその母材成長面へ移送かつ付着されるとい
ったことが母材成長のプロセスとなる。
母材成長面に沿って流れ、該火炎流により担持されたガ
ラス微粒子がその母材成長面へ移送かつ付着されるとい
ったことが母材成長のプロセスとなる。
したがってVAD法では反応容器l内の気流の制御が重
要となる。
要となる。
第1図の従来装置における反応容器1内では、バー゛す
7から噴射される気体および開口部3から進入する気体
と、排気口6から排気される気体とで気体の収支バラン
スがとれており、このうち、バーナ7からの気流Aは母
材成長面に沿って流れた後、排気管5へと進入し、開口
部3からの気流Bは母材外周面に沿って流れた後、排気
管5へと進入し、さらに排気管5内で合流したこれら内
気流A、Bは排気流Cとなって所定の箇所へ排気される
。
7から噴射される気体および開口部3から進入する気体
と、排気口6から排気される気体とで気体の収支バラン
スがとれており、このうち、バーナ7からの気流Aは母
材成長面に沿って流れた後、排気管5へと進入し、開口
部3からの気流Bは母材外周面に沿って流れた後、排気
管5へと進入し、さらに排気管5内で合流したこれら内
気流A、Bは排気流Cとなって所定の箇所へ排気される
。
なお、上記開口部3は排気系の微小変動を吸収するため
大気に開放するのが一般である。
大気に開放するのが一般である。
ところで、バーナ7から反応容器l内に噴射されるガラ
ス微粒子の場合、その50%前後のものが母材成長面に
付着し、さらに未付着ガラス微粒子のかなりの部分が排
気管5から排出されるが、残部のガラス微粒子は、反応
容器l内の制御されない気流に乗って乱舞し、ときには
多孔質ガラス母材9にも付着する。
ス微粒子の場合、その50%前後のものが母材成長面に
付着し、さらに未付着ガラス微粒子のかなりの部分が排
気管5から排出されるが、残部のガラス微粒子は、反応
容器l内の制御されない気流に乗って乱舞し、ときには
多孔質ガラス母材9にも付着する。
こうして母材に付着するガラス微粒子の層はきわめて軟
らかく、母材の割れを惹き起こす確立が高くなるが、都
合のよいことに母材外周面に沿って流れる前記気流Bが
エアカーテン機能を奏し、乱舞せるガラス微粒子が母材
に付着するのを抑制する。
らかく、母材の割れを惹き起こす確立が高くなるが、都
合のよいことに母材外周面に沿って流れる前記気流Bが
エアカーテン機能を奏し、乱舞せるガラス微粒子が母材
に付着するのを抑制する。
この観点のみからすると、開口部3から反応容器lへ進
入する気流Bの量は多いほどよいといえるが、該気iB
が強すぎる場合、これが八−す7からの気流Aと衝突し
、その気流Aを乱してしまう。
入する気流Bの量は多いほどよいといえるが、該気iB
が強すぎる場合、これが八−す7からの気流Aと衝突し
、その気流Aを乱してしまう。
つまり、母材合成にとって枢要なバーナ気流Aの安定性
が損なわれ、所定の母材を得る際の再現性もなくなる。
が損なわれ、所定の母材を得る際の再現性もなくなる。
したがって排気管5の排気量に比例する上記気?ft
Bは、バーナ気流Aを乱さない範囲内に)どめるのがよ
いといえるが、母材製造時の生産性を高めるべくバーナ
7への原料供給量、燃焼ガス量(酸水素量)を多くする
ような場合、これと対応して排気管5による排気量(吸
引力)を高めねばならず、この高排気量により上記気流
Bが限度を越えてしまう。
Bは、バーナ気流Aを乱さない範囲内に)どめるのがよ
いといえるが、母材製造時の生産性を高めるべくバーナ
7への原料供給量、燃焼ガス量(酸水素量)を多くする
ような場合、これと対応して排気管5による排気量(吸
引力)を高めねばならず、この高排気量により上記気流
Bが限度を越えてしまう。
ゆえに従来装置の場合、母材生産性を高めようとすると
、既述の不都合な事態が生じる。
、既述の不都合な事態が生じる。
(発明の目的)
本発明は従来例の問題点に鑑み、母材生産性を高める場
合でも、安定して光学系多孔質ガラス母材が製造するこ
とのできる装置を提供しようとするものである。
合でも、安定して光学系多孔質ガラス母材が製造するこ
とのできる装置を提供しようとするものである。
(発明の構成)
本発明は、反応容器の上部には吸気可能な開口部が、そ
の反応容器の基部には排気口がそれぞれ設けられている
とともにガラス合成用としたバーナの端部が当該基部内
に挿着され、回転自在かつ−L下動自在なガラス堆積用
のターゲットが上記反応容器の開口部からその反応容器
内にわたって内挿されている光学系多孔質ガラス母材の
製造装置において、上記バーナの外周には反応容器内外
にわたる通気管が設けられていることを特徴している。
の反応容器の基部には排気口がそれぞれ設けられている
とともにガラス合成用としたバーナの端部が当該基部内
に挿着され、回転自在かつ−L下動自在なガラス堆積用
のターゲットが上記反応容器の開口部からその反応容器
内にわたって内挿されている光学系多孔質ガラス母材の
製造装置において、上記バーナの外周には反応容器内外
にわたる通気管が設けられていることを特徴している。
(実 施 例)
以下、本発明装置の実施例につき、図面を参照して説明
する。
する。
第2図において、lは石英製の反応容器、2はその反応
容器1の基部、3は該基部2上の上部筒4端にある開口
部、5は排気口6を有する排気管、7は多重管構造とし
たガラス合成用バーナ、8はターゲットであり、これら
は前記第1図で述べたと同様の構成となっている。
容器1の基部、3は該基部2上の上部筒4端にある開口
部、5は排気口6を有する排気管、7は多重管構造とし
たガラス合成用バーナ、8はターゲットであり、これら
は前記第1図で述べたと同様の構成となっている。
本発明装置は上記におけるバーナ8の外周に、反応容器
1の内外にわたる通気管10が設けられており、さらに
その通気管10の基端側には図示しない配管系を接続す
るための連結口11が設けられており、この連結口11
から図示しない流量計などを介した適宜ガスを供給する
。
1の内外にわたる通気管10が設けられており、さらに
その通気管10の基端側には図示しない配管系を接続す
るための連結口11が設けられており、この連結口11
から図示しない流量計などを介した適宜ガスを供給する
。
上記第2図の本発明装置を介してVAD法を実施する場
合でも、第1図と同じく気相のガラス原料とドーパント
など、これら原料ガスと酸水素ガスとがバーナ7へ供給
されるとともに燃焼状態の当該バーナ7により反応生成
されたスート状のガラス微粒子が回転状態のターゲット
8へ噴射かつ堆積され、そのガラス堆積量と同調し、タ
ーゲット8が上方へ引き上げられて棒状の多孔質ガラス
母材9が製造される。
合でも、第1図と同じく気相のガラス原料とドーパント
など、これら原料ガスと酸水素ガスとがバーナ7へ供給
されるとともに燃焼状態の当該バーナ7により反応生成
されたスート状のガラス微粒子が回転状態のターゲット
8へ噴射かつ堆積され、そのガラス堆積量と同調し、タ
ーゲット8が上方へ引き上げられて棒状の多孔質ガラス
母材9が製造される。
さらに反応容器l内は排気管5を介して排気される。
こうしてVAD法を実施するとき、本発明では通気管1
0より反応容器1内へと調整ガスを送流するのであり、
かかる状態では前述した気流A、B、Cだけでなく、そ
の調整ガスによる気流りが反応容器1内に生ずる。
0より反応容器1内へと調整ガスを送流するのであり、
かかる状態では前述した気流A、B、Cだけでなく、そ
の調整ガスによる気流りが反応容器1内に生ずる。
この気流りはバーナ気流Aの外周にあってバーナ7側の
流勢を高めることとなり、したがって母材製造時の生産
性を向上すべくバーナ7への原料供給量、燃焼ガス量を
増すとともに排気管5による排気量を高め、これにより
気流Bの流勢が強くなるような場合でも、バーナ気流A
は上記気流りと協働して気流Bと拮抗するようになり、
それゆえ当該バーナ気流Aが気流Bにより乱されること
はなくなる。
流勢を高めることとなり、したがって母材製造時の生産
性を向上すべくバーナ7への原料供給量、燃焼ガス量を
増すとともに排気管5による排気量を高め、これにより
気流Bの流勢が強くなるような場合でも、バーナ気流A
は上記気流りと協働して気流Bと拮抗するようになり、
それゆえ当該バーナ気流Aが気流Bにより乱されること
はなくなる。
もちろん気流りは各気流の状況に応じて調整できるので
あり、これにより反応容器l内の流動性を各種母材製造
条件に応じて適正に保持し得る。
あり、これにより反応容器l内の流動性を各種母材製造
条件に応じて適正に保持し得る。
より具体的な実施例としてIg/分の母材合成速度を目
標とし、外径20mmのバーナ7、内径40mmの通気
管10を備なえた第2図の装置により気流Bの吸入量を
5017分、気流Cの排気量を1201/分、気流りの
給気量を751/分としてVAD法を実施したところ、
気IItAの安定状態において目標通りの母材合成が行
なえ、割れなどを生じることのない良質の多孔質ガラス
母材9が得られた。
標とし、外径20mmのバーナ7、内径40mmの通気
管10を備なえた第2図の装置により気流Bの吸入量を
5017分、気流Cの排気量を1201/分、気流りの
給気量を751/分としてVAD法を実施したところ、
気IItAの安定状態において目標通りの母材合成が行
なえ、割れなどを生じることのない良質の多孔質ガラス
母材9が得られた。
他の具体例として2g/分の母材合成速度を目標とし、
外径20mmのバーナ7、内径60mmの通気管lOを
備なえた第2図の装置により気流Bの吸入量が601/
分、気流りの給気量が751/分となるようにしてVA
D法を実施したところ、この場合も安定した状態にて目
標通りの母材合成が行なえた。
外径20mmのバーナ7、内径60mmの通気管lOを
備なえた第2図の装置により気流Bの吸入量が601/
分、気流りの給気量が751/分となるようにしてVA
D法を実施したところ、この場合も安定した状態にて目
標通りの母材合成が行なえた。
なお、比較のため第1図の装置において母材合成速度の
目標値を0.5g/分とし、気流Bの吸入量851/分
、気流Cの排気量12017分にてVAD法を実施した
ところ、この段階では問題なく母材合成が行なえたが、
第1図の装置において母材合成速度の目標値をIg/分
とした場合、この際の排気量との関係から気流Bの吸入
量が1201/分にもなってしまい、かつ、当該気流B
によりバーナ気流Aが乱されて安定した母材合成が行な
えなかった。
目標値を0.5g/分とし、気流Bの吸入量851/分
、気流Cの排気量12017分にてVAD法を実施した
ところ、この段階では問題なく母材合成が行なえたが、
第1図の装置において母材合成速度の目標値をIg/分
とした場合、この際の排気量との関係から気流Bの吸入
量が1201/分にもなってしまい、かつ、当該気流B
によりバーナ気流Aが乱されて安定した母材合成が行な
えなかった。
通気管lOへ送る調整ガスとしてはHe、Arなとの不
活性ガスとか、清浄空気が採用できる。
活性ガスとか、清浄空気が採用できる。
多重管構造としたガラス合成用バーナ7は反応容器1の
基部2内に2水神着されたものであってもよい。
基部2内に2水神着されたものであってもよい。
反応容器lの基部2は真円の中空球形とするほか、楕円
の中空球形、長円の中空球形とすることがある。
の中空球形、長円の中空球形とすることがある。
(発明の効果)
以上説明した通り、本発明装置はガラス合成用バーナの
外周に通気管を設け、これにより反応容器内の流動性を
適正に保持しながらVAD法が実施できるから、バーナ
気流を乱すことなく安定して良質の光学系多孔質ガラス
母材を製造することができ、しかも高速母材合成におい
ても上記通気管を介した気流調整により反応容器内の安
定性が保持できるから、生産性の高い光学系多孔質ガラ
ス母材の製造が実現できる。
外周に通気管を設け、これにより反応容器内の流動性を
適正に保持しながらVAD法が実施できるから、バーナ
気流を乱すことなく安定して良質の光学系多孔質ガラス
母材を製造することができ、しかも高速母材合成におい
ても上記通気管を介した気流調整により反応容器内の安
定性が保持できるから、生産性の高い光学系多孔質ガラ
ス母材の製造が実現できる。
第1図は従来装置の略示説明図、第2図は本発明装置の
1実施例を略示した説明図である。 l・・参反応容器 2・・・反応容器の基部 3・・・反応容器の開口部 6・・・反応容器の排気口 ア・・・ガラス合成用バーナ 8・・・ターゲット 9・・・多孔質ガラス母材 10・・・通気管 代理人 弁理士 斎 藤 義 雄 第1図 乎
1実施例を略示した説明図である。 l・・参反応容器 2・・・反応容器の基部 3・・・反応容器の開口部 6・・・反応容器の排気口 ア・・・ガラス合成用バーナ 8・・・ターゲット 9・・・多孔質ガラス母材 10・・・通気管 代理人 弁理士 斎 藤 義 雄 第1図 乎
Claims (1)
- 反応容器の上部には吸気可能な開口部が、その反応容器
の基部には排気口がそれぞれ設けられているとともにガ
ラス合成用としたバーナの端部が当該基部内に挿着され
、回転自在かつ上下動自在なガラス堆積用のターゲット
が上記反応容器の開口部からその反応容器内にわたって
内挿されている光学系多孔質ガラス母材の製造装置にお
いて、上記バーナの外周には反応容器内外にわたる通気
官が設けられている光学系多孔質ガラス母材の製造装置
。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP8557284A JPS60231431A (ja) | 1984-04-27 | 1984-04-27 | 光学系多孔質ガラス母材の製造装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP8557284A JPS60231431A (ja) | 1984-04-27 | 1984-04-27 | 光学系多孔質ガラス母材の製造装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS60231431A true JPS60231431A (ja) | 1985-11-18 |
Family
ID=13862524
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP8557284A Pending JPS60231431A (ja) | 1984-04-27 | 1984-04-27 | 光学系多孔質ガラス母材の製造装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS60231431A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008266032A (ja) * | 2007-04-16 | 2008-11-06 | Fujikura Ltd | 光ファイバ用ガラス母材の製造装置及び製造方法 |
-
1984
- 1984-04-27 JP JP8557284A patent/JPS60231431A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008266032A (ja) * | 2007-04-16 | 2008-11-06 | Fujikura Ltd | 光ファイバ用ガラス母材の製造装置及び製造方法 |
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