JPS60231431A - 光学系多孔質ガラス母材の製造装置 - Google Patents
光学系多孔質ガラス母材の製造装置Info
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- JPS60231431A JPS60231431A JP8557284A JP8557284A JPS60231431A JP S60231431 A JPS60231431 A JP S60231431A JP 8557284 A JP8557284 A JP 8557284A JP 8557284 A JP8557284 A JP 8557284A JP S60231431 A JPS60231431 A JP S60231431A
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- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B37/00—Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
- C03B37/01—Manufacture of glass fibres or filaments
- C03B37/012—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments
- C03B37/014—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD]
- C03B37/01413—Reactant delivery systems
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- C03B2207/00—Glass deposition burners
- C03B2207/42—Assembly details; Material or dimensions of burner; Manifolds or supports
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
本発明は光フアイバ用、イメージガイド用、ライトガイ
ド用、ロッドレンズ用などの光学系多孔質ガラス母材を
ＶＡＤ法により製造する装置に関する。
ド用、ロッドレンズ用などの光学系多孔質ガラス母材を
ＶＡＤ法により製造する装置に関する。
（従 来 技 術）
一般に、前述した光学系多孔質ガラス母材をＶＡＤ法に
より製造するとき、第１図に示す装置が用いられている
。
より製造するとき、第１図に示す装置が用いられている
。
以下これにつき略述すると、第１図において、ｌは石英
製の反応容器であり、この反応容器ｌはその基部２が中
空の球形となっているとともに該基部２の上面には開口
部３を有する上部筒４が一体的に連設されている。
製の反応容器であり、この反応容器ｌはその基部２が中
空の球形となっているとともに該基部２の上面には開口
部３を有する上部筒４が一体的に連設されている。
さらに上記基部２の側面には排気管５の排気口６端が連
結され、該基部２の下面には多重管構造とした反応バー
ナの端部、すなわちガラス合成用バーナ７の端部（先端
）が挿着されている。
結され、該基部２の下面には多重管構造とした反応バー
ナの端部、すなわちガラス合成用バーナ７の端部（先端
）が挿着されている。
一方、回転自在かつ上下動自在な棒状のターゲット８は
、上記反応容器ｌの開口部３からその反応容器ｌ内にわ
たって内挿されている。
、上記反応容器ｌの開口部３からその反応容器ｌ内にわ
たって内挿されている。
上記第１図の装置を介してＶＡＤ法を実施するとき、気
相のガラス原料とドーパントなど、これら原料ガスと酸
水素ガスとがバーナ７へ供給されるとともに燃焼状態の
当該バーナ７により反応生成されたスート状のガラス微
粒子が回転状態のターゲット８へ噴射かつ堆積され、さ
らにそのガラス堆積量と同調してターゲット８が上方へ
引き上げられ、かくて棒状の多孔質ガラス母材９が時間
の経過とともに製造される。
相のガラス原料とドーパントなど、これら原料ガスと酸
水素ガスとがバーナ７へ供給されるとともに燃焼状態の
当該バーナ７により反応生成されたスート状のガラス微
粒子が回転状態のターゲット８へ噴射かつ堆積され、さ
らにそのガラス堆積量と同調してターゲット８が上方へ
引き上げられ、かくて棒状の多孔質ガラス母材９が時間
の経過とともに製造される。
この際、反応容器ｌ内は排気管５を介して排気される。
ところで上記ＶＡＤ法では、バーナ先端からの火炎流が
母材成長面に沿って流れ、該火炎流により担持されたガ
ラス微粒子がその母材成長面へ移送かつ付着されるとい
ったことが母材成長のプロセスとなる。
母材成長面に沿って流れ、該火炎流により担持されたガ
ラス微粒子がその母材成長面へ移送かつ付着されるとい
ったことが母材成長のプロセスとなる。
したがってＶＡＤ法では反応容器ｌ内の気流の制御が重
要となる。
要となる。
第１図の従来装置における反応容器１内では、バー゛す
７から噴射される気体および開口部３から進入する気体
と、排気口６から排気される気体とで気体の収支バラン
スがとれており、このうち、バーナ７からの気流Ａは母
材成長面に沿って流れた後、排気管５へと進入し、開口
部３からの気流Ｂは母材外周面に沿って流れた後、排気
管５へと進入し、さらに排気管５内で合流したこれら内
気流Ａ、Ｂは排気流Ｃとなって所定の箇所へ排気される
。
７から噴射される気体および開口部３から進入する気体
と、排気口６から排気される気体とで気体の収支バラン
スがとれており、このうち、バーナ７からの気流Ａは母
材成長面に沿って流れた後、排気管５へと進入し、開口
部３からの気流Ｂは母材外周面に沿って流れた後、排気
管５へと進入し、さらに排気管５内で合流したこれら内
気流Ａ、Ｂは排気流Ｃとなって所定の箇所へ排気される
。
なお、上記開口部３は排気系の微小変動を吸収するため
大気に開放するのが一般である。
大気に開放するのが一般である。
ところで、バーナ７から反応容器ｌ内に噴射されるガラ
ス微粒子の場合、その５０％前後のものが母材成長面に
付着し、さらに未付着ガラス微粒子のかなりの部分が排
気管５から排出されるが、残部のガラス微粒子は、反応
容器ｌ内の制御されない気流に乗って乱舞し、ときには
多孔質ガラス母材９にも付着する。
ス微粒子の場合、その５０％前後のものが母材成長面に
付着し、さらに未付着ガラス微粒子のかなりの部分が排
気管５から排出されるが、残部のガラス微粒子は、反応
容器ｌ内の制御されない気流に乗って乱舞し、ときには
多孔質ガラス母材９にも付着する。
こうして母材に付着するガラス微粒子の層はきわめて軟
らかく、母材の割れを惹き起こす確立が高くなるが、都
合のよいことに母材外周面に沿って流れる前記気流Ｂが
エアカーテン機能を奏し、乱舞せるガラス微粒子が母材
に付着するのを抑制する。
らかく、母材の割れを惹き起こす確立が高くなるが、都
合のよいことに母材外周面に沿って流れる前記気流Ｂが
エアカーテン機能を奏し、乱舞せるガラス微粒子が母材
に付着するのを抑制する。
この観点のみからすると、開口部３から反応容器ｌへ進
入する気流Ｂの量は多いほどよいといえるが、該気ｉＢ
が強すぎる場合、これが八−す７からの気流Ａと衝突し
、その気流Ａを乱してしまう。
入する気流Ｂの量は多いほどよいといえるが、該気ｉＢ
が強すぎる場合、これが八−す７からの気流Ａと衝突し
、その気流Ａを乱してしまう。
つまり、母材合成にとって枢要なバーナ気流Ａの安定性
が損なわれ、所定の母材を得る際の再現性もなくなる。
が損なわれ、所定の母材を得る際の再現性もなくなる。
したがって排気管５の排気量に比例する上記気？ｆｔ
Ｂは、バーナ気流Ａを乱さない範囲内に）どめるのがよ
いといえるが、母材製造時の生産性を高めるべくバーナ
７への原料供給量、燃焼ガス量（酸水素量）を多くする
ような場合、これと対応して排気管５による排気量（吸
引力）を高めねばならず、この高排気量により上記気流
Ｂが限度を越えてしまう。
Ｂは、バーナ気流Ａを乱さない範囲内に）どめるのがよ
いといえるが、母材製造時の生産性を高めるべくバーナ
７への原料供給量、燃焼ガス量（酸水素量）を多くする
ような場合、これと対応して排気管５による排気量（吸
引力）を高めねばならず、この高排気量により上記気流
Ｂが限度を越えてしまう。
ゆえに従来装置の場合、母材生産性を高めようとすると
、既述の不都合な事態が生じる。
、既述の不都合な事態が生じる。
（発明の目的）
本発明は従来例の問題点に鑑み、母材生産性を高める場
合でも、安定して光学系多孔質ガラス母材が製造するこ
とのできる装置を提供しようとするものである。
合でも、安定して光学系多孔質ガラス母材が製造するこ
とのできる装置を提供しようとするものである。
（発明の構成）
本発明は、反応容器の上部には吸気可能な開口部が、そ
の反応容器の基部には排気口がそれぞれ設けられている
とともにガラス合成用としたバーナの端部が当該基部内
に挿着され、回転自在かつ−Ｌ下動自在なガラス堆積用
のターゲットが上記反応容器の開口部からその反応容器
内にわたって内挿されている光学系多孔質ガラス母材の
製造装置において、上記バーナの外周には反応容器内外
にわたる通気管が設けられていることを特徴している。
の反応容器の基部には排気口がそれぞれ設けられている
とともにガラス合成用としたバーナの端部が当該基部内
に挿着され、回転自在かつ−Ｌ下動自在なガラス堆積用
のターゲットが上記反応容器の開口部からその反応容器
内にわたって内挿されている光学系多孔質ガラス母材の
製造装置において、上記バーナの外周には反応容器内外
にわたる通気管が設けられていることを特徴している。
（実 施 例）
以下、本発明装置の実施例につき、図面を参照して説明
する。
する。
第２図において、ｌは石英製の反応容器、２はその反応
容器１の基部、３は該基部２上の上部筒４端にある開口
部、５は排気口６を有する排気管、７は多重管構造とし
たガラス合成用バーナ、８はターゲットであり、これら
は前記第１図で述べたと同様の構成となっている。
容器１の基部、３は該基部２上の上部筒４端にある開口
部、５は排気口６を有する排気管、７は多重管構造とし
たガラス合成用バーナ、８はターゲットであり、これら
は前記第１図で述べたと同様の構成となっている。
本発明装置は上記におけるバーナ８の外周に、反応容器
１の内外にわたる通気管１０が設けられており、さらに
その通気管１０の基端側には図示しない配管系を接続す
るための連結口１１が設けられており、この連結口１１
から図示しない流量計などを介した適宜ガスを供給する
。
１の内外にわたる通気管１０が設けられており、さらに
その通気管１０の基端側には図示しない配管系を接続す
るための連結口１１が設けられており、この連結口１１
から図示しない流量計などを介した適宜ガスを供給する
。
上記第２図の本発明装置を介してＶＡＤ法を実施する場
合でも、第１図と同じく気相のガラス原料とドーパント
など、これら原料ガスと酸水素ガスとがバーナ７へ供給
されるとともに燃焼状態の当該バーナ７により反応生成
されたスート状のガラス微粒子が回転状態のターゲット
８へ噴射かつ堆積され、そのガラス堆積量と同調し、タ
ーゲット８が上方へ引き上げられて棒状の多孔質ガラス
母材９が製造される。
合でも、第１図と同じく気相のガラス原料とドーパント
など、これら原料ガスと酸水素ガスとがバーナ７へ供給
されるとともに燃焼状態の当該バーナ７により反応生成
されたスート状のガラス微粒子が回転状態のターゲット
８へ噴射かつ堆積され、そのガラス堆積量と同調し、タ
ーゲット８が上方へ引き上げられて棒状の多孔質ガラス
母材９が製造される。
さらに反応容器ｌ内は排気管５を介して排気される。
こうしてＶＡＤ法を実施するとき、本発明では通気管１
０より反応容器１内へと調整ガスを送流するのであり、
かかる状態では前述した気流Ａ、Ｂ、Ｃだけでなく、そ
の調整ガスによる気流りが反応容器１内に生ずる。
０より反応容器１内へと調整ガスを送流するのであり、
かかる状態では前述した気流Ａ、Ｂ、Ｃだけでなく、そ
の調整ガスによる気流りが反応容器１内に生ずる。
この気流りはバーナ気流Ａの外周にあってバーナ７側の
流勢を高めることとなり、したがって母材製造時の生産
性を向上すべくバーナ７への原料供給量、燃焼ガス量を
増すとともに排気管５による排気量を高め、これにより
気流Ｂの流勢が強くなるような場合でも、バーナ気流Ａ
は上記気流りと協働して気流Ｂと拮抗するようになり、
それゆえ当該バーナ気流Ａが気流Ｂにより乱されること
はなくなる。
流勢を高めることとなり、したがって母材製造時の生産
性を向上すべくバーナ７への原料供給量、燃焼ガス量を
増すとともに排気管５による排気量を高め、これにより
気流Ｂの流勢が強くなるような場合でも、バーナ気流Ａ
は上記気流りと協働して気流Ｂと拮抗するようになり、
それゆえ当該バーナ気流Ａが気流Ｂにより乱されること
はなくなる。
もちろん気流りは各気流の状況に応じて調整できるので
あり、これにより反応容器ｌ内の流動性を各種母材製造
条件に応じて適正に保持し得る。
あり、これにより反応容器ｌ内の流動性を各種母材製造
条件に応じて適正に保持し得る。
より具体的な実施例としてＩｇ／分の母材合成速度を目
標とし、外径２０ｍｍのバーナ７、内径４０ｍｍの通気
管１０を備なえた第２図の装置により気流Ｂの吸入量を
５０１７分、気流Ｃの排気量を１２０１／分、気流りの
給気量を７５１／分としてＶＡＤ法を実施したところ、
気ＩＩｔＡの安定状態において目標通りの母材合成が行
なえ、割れなどを生じることのない良質の多孔質ガラス
母材９が得られた。
標とし、外径２０ｍｍのバーナ７、内径４０ｍｍの通気
管１０を備なえた第２図の装置により気流Ｂの吸入量を
５０１７分、気流Ｃの排気量を１２０１／分、気流りの
給気量を７５１／分としてＶＡＤ法を実施したところ、
気ＩＩｔＡの安定状態において目標通りの母材合成が行
なえ、割れなどを生じることのない良質の多孔質ガラス
母材９が得られた。
他の具体例として２ｇ／分の母材合成速度を目標とし、
外径２０ｍｍのバーナ７、内径６０ｍｍの通気管ｌＯを
備なえた第２図の装置により気流Ｂの吸入量が６０１／
分、気流りの給気量が７５１／分となるようにしてＶＡ
Ｄ法を実施したところ、この場合も安定した状態にて目
標通りの母材合成が行なえた。
外径２０ｍｍのバーナ７、内径６０ｍｍの通気管ｌＯを
備なえた第２図の装置により気流Ｂの吸入量が６０１／
分、気流りの給気量が７５１／分となるようにしてＶＡ
Ｄ法を実施したところ、この場合も安定した状態にて目
標通りの母材合成が行なえた。
なお、比較のため第１図の装置において母材合成速度の
目標値を０．５ｇ／分とし、気流Ｂの吸入量８５１／分
、気流Ｃの排気量１２０１７分にてＶＡＤ法を実施した
ところ、この段階では問題なく母材合成が行なえたが、
第１図の装置において母材合成速度の目標値をＩｇ／分
とした場合、この際の排気量との関係から気流Ｂの吸入
量が１２０１／分にもなってしまい、かつ、当該気流Ｂ
によりバーナ気流Ａが乱されて安定した母材合成が行な
えなかった。
目標値を０．５ｇ／分とし、気流Ｂの吸入量８５１／分
、気流Ｃの排気量１２０１７分にてＶＡＤ法を実施した
ところ、この段階では問題なく母材合成が行なえたが、
第１図の装置において母材合成速度の目標値をＩｇ／分
とした場合、この際の排気量との関係から気流Ｂの吸入
量が１２０１／分にもなってしまい、かつ、当該気流Ｂ
によりバーナ気流Ａが乱されて安定した母材合成が行な
えなかった。
通気管ｌＯへ送る調整ガスとしてはＨｅ、Ａｒなとの不
活性ガスとか、清浄空気が採用できる。
活性ガスとか、清浄空気が採用できる。
多重管構造としたガラス合成用バーナ７は反応容器１の
基部２内に２水神着されたものであってもよい。
基部２内に２水神着されたものであってもよい。
反応容器ｌの基部２は真円の中空球形とするほか、楕円
の中空球形、長円の中空球形とすることがある。
の中空球形、長円の中空球形とすることがある。
（発明の効果）
以上説明した通り、本発明装置はガラス合成用バーナの
外周に通気管を設け、これにより反応容器内の流動性を
適正に保持しながらＶＡＤ法が実施できるから、バーナ
気流を乱すことなく安定して良質の光学系多孔質ガラス
母材を製造することができ、しかも高速母材合成におい
ても上記通気管を介した気流調整により反応容器内の安
定性が保持できるから、生産性の高い光学系多孔質ガラ
ス母材の製造が実現できる。
外周に通気管を設け、これにより反応容器内の流動性を
適正に保持しながらＶＡＤ法が実施できるから、バーナ
気流を乱すことなく安定して良質の光学系多孔質ガラス
母材を製造することができ、しかも高速母材合成におい
ても上記通気管を介した気流調整により反応容器内の安
定性が保持できるから、生産性の高い光学系多孔質ガラ
ス母材の製造が実現できる。
第１図は従来装置の略示説明図、第２図は本発明装置の
１実施例を略示した説明図である。 ｌ・・参反応容器 ２・・・反応容器の基部 ３・・・反応容器の開口部 ６・・・反応容器の排気口 ア・・・ガラス合成用バーナ ８・・・ターゲット ９・・・多孔質ガラス母材 １０・・・通気管 代理人 弁理士 斎 藤 義 雄 第１図 乎
１実施例を略示した説明図である。 ｌ・・参反応容器 ２・・・反応容器の基部 ３・・・反応容器の開口部 ６・・・反応容器の排気口 ア・・・ガラス合成用バーナ ８・・・ターゲット ９・・・多孔質ガラス母材 １０・・・通気管 代理人 弁理士 斎 藤 義 雄 第１図 乎
Claims (1)
- 反応容器の上部には吸気可能な開口部が、その反応容器
の基部には排気口がそれぞれ設けられているとともにガ
ラス合成用としたバーナの端部が当該基部内に挿着され
、回転自在かつ上下動自在なガラス堆積用のターゲット
が上記反応容器の開口部からその反応容器内にわたって
内挿されている光学系多孔質ガラス母材の製造装置にお
いて、上記バーナの外周には反応容器内外にわたる通気
官が設けられている光学系多孔質ガラス母材の製造装置
。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8557284A JPS60231431A (ja) | 1984-04-27 | 1984-04-27 | 光学系多孔質ガラス母材の製造装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8557284A JPS60231431A (ja) | 1984-04-27 | 1984-04-27 | 光学系多孔質ガラス母材の製造装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60231431A true JPS60231431A (ja) | 1985-11-18 |
Family
ID=13862524
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8557284A Pending JPS60231431A (ja) | 1984-04-27 | 1984-04-27 | 光学系多孔質ガラス母材の製造装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60231431A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008266032A (ja) * | 2007-04-16 | 2008-11-06 | Fujikura Ltd | 光ファイバ用ガラス母材の製造装置及び製造方法 |
-
1984
- 1984-04-27 JP JP8557284A patent/JPS60231431A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008266032A (ja) * | 2007-04-16 | 2008-11-06 | Fujikura Ltd | 光ファイバ用ガラス母材の製造装置及び製造方法 |
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