JPH11207280A - バルブ洗浄装置及びこれの駆動方法、並びにバルブの洗浄方法 - Google Patents
バルブ洗浄装置及びこれの駆動方法、並びにバルブの洗浄方法Info
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- JPH11207280A JPH11207280A JP10250882A JP25088298A JPH11207280A JP H11207280 A JPH11207280 A JP H11207280A JP 10250882 A JP10250882 A JP 10250882A JP 25088298 A JP25088298 A JP 25088298A JP H11207280 A JPH11207280 A JP H11207280A
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- B08B9/00—Cleaning hollow articles by methods or apparatus specially adapted thereto
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- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
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-
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- Y10T436/25—Chemistry: analytical and immunological testing including sample preparation
- Y10T436/25375—Liberation or purification of sample or separation of material from a sample [e.g., filtering, centrifuging, etc.]
Abstract
(57)【要約】
【課題】 バルブ洗浄装置及びこれの駆動方法、並びに
バルブの洗浄方法を提供する。 【解決手段】 バルブ洗浄装置は、被洗浄バルブを装着
するバルブ装着部と、選択的に脱イオン水またはケミカ
ルをバルブ装着部に供給することができる脱イオン水供
給手段及びケミカル供給手段と、脱イオン水放出ライン
３０及びケミカル回収ライン３７とを備える。バルブ洗
浄装置の駆動方法は、バルブ装着部に被洗浄バルブを装
着する段階と、脱イオン水を被洗浄バルブに供給した
後、脱イオン水放出ライン３０に放出させる段階と、ケ
ミカルを被洗浄バルブに供給した後、ケミカル回収ライ
ン３７を通じて、ケミカル供給手段に循環させる段階と
を含む。バルブの洗浄方法は、1次脱イオン水を洗浄す
る段階と、1次ケミカル洗浄する段階と、2次脱イオン水
洗浄する段階と、2次ケミカルを洗浄する段階とを含
む。
バルブの洗浄方法を提供する。 【解決手段】 バルブ洗浄装置は、被洗浄バルブを装着
するバルブ装着部と、選択的に脱イオン水またはケミカ
ルをバルブ装着部に供給することができる脱イオン水供
給手段及びケミカル供給手段と、脱イオン水放出ライン
３０及びケミカル回収ライン３７とを備える。バルブ洗
浄装置の駆動方法は、バルブ装着部に被洗浄バルブを装
着する段階と、脱イオン水を被洗浄バルブに供給した
後、脱イオン水放出ライン３０に放出させる段階と、ケ
ミカルを被洗浄バルブに供給した後、ケミカル回収ライ
ン３７を通じて、ケミカル供給手段に循環させる段階と
を含む。バルブの洗浄方法は、1次脱イオン水を洗浄す
る段階と、1次ケミカル洗浄する段階と、2次脱イオン水
洗浄する段階と、2次ケミカルを洗浄する段階とを含
む。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、バルブ洗浄装置及
びこれの駆動方法、並びにバルブの洗浄方法に関するも
ので、より詳しくはテフロンバルブ等のバルブを容易に
洗浄することができるバルブ洗浄装置及びこれの駆動方
法、並びにバルブの洗浄方法に関するものである。
びこれの駆動方法、並びにバルブの洗浄方法に関するも
ので、より詳しくはテフロンバルブ等のバルブを容易に
洗浄することができるバルブ洗浄装置及びこれの駆動方
法、並びにバルブの洗浄方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】通常、微細なパーティクル（Particle）
によっても工程の不良が発生する半導体装置製造工程の
湿式エッチング工程及び洗浄工程は、酸性、腐食性等の
性質を有するケミカル（Chemical）を使用して工程が進
行される。
によっても工程の不良が発生する半導体装置製造工程の
湿式エッチング工程及び洗浄工程は、酸性、腐食性等の
性質を有するケミカル（Chemical）を使用して工程が進
行される。
【０００３】そして、前記湿式エッチング工程及び洗浄
工程に使用されるケミカルは、ケミカル供給源で液体貯
蔵タンクの一側に設置されたダイアフラムバルブ（Diap
hragm valve）等のように、内部にテフロン材質の部品
が備えられるテフロンバルブを通過して前記液体貯蔵タ
ンクの内部に供給される。
工程に使用されるケミカルは、ケミカル供給源で液体貯
蔵タンクの一側に設置されたダイアフラムバルブ（Diap
hragm valve）等のように、内部にテフロン材質の部品
が備えられるテフロンバルブを通過して前記液体貯蔵タ
ンクの内部に供給される。
【０００４】前記ダイアフラムバルブの内部には窒素
（N2）ガスの供給圧力によって開閉動作を遂行するテフ
ロン材質の横隔膜が備えられている。
（N2）ガスの供給圧力によって開閉動作を遂行するテフ
ロン材質の横隔膜が備えられている。
【０００５】そして、前記液体貯蔵タンクの内部のケミ
カルは、前記液体貯蔵タンクの他の一側に設置されたテ
フロンバルブを通過して前記湿式エッチング工程及び洗
浄工程が進行される半導体装置製造設備に放出される。
カルは、前記液体貯蔵タンクの他の一側に設置されたテ
フロンバルブを通過して前記湿式エッチング工程及び洗
浄工程が進行される半導体装置製造設備に放出される。
【０００６】しかし、前記液体貯蔵タンクに設置される
ダイアフラムバルブ等のテフロンバルブは、洗浄されな
く液体貯蔵タンクに装着された後、前記液体貯蔵タンク
でテフロンバルブに所定の時間の間放出されるケミカル
によって洗浄される。
ダイアフラムバルブ等のテフロンバルブは、洗浄されな
く液体貯蔵タンクに装着された後、前記液体貯蔵タンク
でテフロンバルブに所定の時間の間放出されるケミカル
によって洗浄される。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】しかし、前記ダイアフ
ラムバルブ内部の横隔膜等のテフロン材質の部品に吸着
された金属性不純物は、前記ケミカルによって完全には
除去されないので、ケミカルによって溶出されて長期間
エッチング工程及び洗浄工程が進行される半導体装置製
造設備に供給されてエッチング不良及び洗浄不良の原因
として作用するという問題があった。
ラムバルブ内部の横隔膜等のテフロン材質の部品に吸着
された金属性不純物は、前記ケミカルによって完全には
除去されないので、ケミカルによって溶出されて長期間
エッチング工程及び洗浄工程が進行される半導体装置製
造設備に供給されてエッチング不良及び洗浄不良の原因
として作用するという問題があった。
【０００８】本発明の目的は、テフロンバルブ等のバル
ブの内部に吸着された不純物を容易に除去することがで
きる、バルブ洗浄装置及びこれの駆動方法、そしてバル
ブの洗浄方法を提供することにある。
ブの内部に吸着された不純物を容易に除去することがで
きる、バルブ洗浄装置及びこれの駆動方法、そしてバル
ブの洗浄方法を提供することにある。
【０００９】
【課題を解決するための手段】前記の目的を達成するた
めの本発明によるバルブ洗浄装置は、被洗浄バルブを装
着したバルブ装着部と、脱イオン水供給源から一定量の
脱イオン水を所定の圧力で前記バルブ装着部に供給する
ことができる脱イオン水供給手段と、ケミカル供給源か
ら一定量のケミカルを所定の圧力で前記バルブ装着部に
供給することができるケミカル供給手段と、前記バルブ
の装着部に装着される被洗浄バルブを通過した脱イオン
水を放出する脱イオン水放出ラインと、前記被洗浄バル
ブを通過したケミカルを前記ケミカル供給源に回収させ
るケミカル回収ラインとを備えることを特徴とする。
めの本発明によるバルブ洗浄装置は、被洗浄バルブを装
着したバルブ装着部と、脱イオン水供給源から一定量の
脱イオン水を所定の圧力で前記バルブ装着部に供給する
ことができる脱イオン水供給手段と、ケミカル供給源か
ら一定量のケミカルを所定の圧力で前記バルブ装着部に
供給することができるケミカル供給手段と、前記バルブ
の装着部に装着される被洗浄バルブを通過した脱イオン
水を放出する脱イオン水放出ラインと、前記被洗浄バル
ブを通過したケミカルを前記ケミカル供給源に回収させ
るケミカル回収ラインとを備えることを特徴とする。
【００１０】前記脱イオン水供給手段及びケミカル供給
手段は単一のポンピング手段を用いて、前記ポンピング
手段以前に脱イオン水とケミカルを選択することが可能
である選択手段が設置されることが好ましい。そして、
前記バルブ装着部は複数個の被洗浄バルブを直列または
並列に設置することができる。
手段は単一のポンピング手段を用いて、前記ポンピング
手段以前に脱イオン水とケミカルを選択することが可能
である選択手段が設置されることが好ましい。そして、
前記バルブ装着部は複数個の被洗浄バルブを直列または
並列に設置することができる。
【００１１】また、前記バルブ装着部で互いに異なる大
きさを有する被洗浄バルブは並列に設置することができ
る。そして、前記脱イオン水放出ライン及びケミカル回
収ラインは中間に選択手段を介在して単一のラインで構
成される。
きさを有する被洗浄バルブは並列に設置することができ
る。そして、前記脱イオン水放出ライン及びケミカル回
収ラインは中間に選択手段を介在して単一のラインで構
成される。
【００１２】また、前記被洗浄バルブは、内部にテフロ
ン材質の部品が備えられるテフロンバルブである。そし
て、前記被洗浄バルブはテフロン材質の横隔膜が備えら
れるダイアフラムバルブ（Diaphragm valve）である。
また、前記ケミカル供給源は、互いに異なる２つ以上の
ケミカルを供給することが可能であるように構成されて
いる。
ン材質の部品が備えられるテフロンバルブである。そし
て、前記被洗浄バルブはテフロン材質の横隔膜が備えら
れるダイアフラムバルブ（Diaphragm valve）である。
また、前記ケミカル供給源は、互いに異なる２つ以上の
ケミカルを供給することが可能であるように構成されて
いる。
【００１３】そして、本発明によるバルブ洗浄装置の駆
動方法は、被洗浄バルブを装着したバルブ装着部と、脱
イオン水供給源からの脱イオン水またはケミカル供給源
からのケミカルを選択的に前記バルブ装着部に供給する
ことができる供給手段と、前記バルブ装着部に装着され
る被洗浄バルブを通過した脱イオン水またはケミカルを
選択的に放出、または前記ケミカル供給源に回収させる
放出及び回収ラインとを備えるバルブ洗浄装置の駆動方
法であって、前記バルブ装着部に被洗浄バルブを装着す
る段階と、前記脱イオン水を選択して前記被洗浄バルブ
に供給した後、前記脱イオン水を放出ラインに放出させ
る段階と、前記ケミカルを選択して前記被洗浄バルブに
供給した後、回収ラインを通じて前記ケミカルを前記ケ
ミカル供給源に回収してケミカルを循環させる段階とを
含むことを特徴とする。
動方法は、被洗浄バルブを装着したバルブ装着部と、脱
イオン水供給源からの脱イオン水またはケミカル供給源
からのケミカルを選択的に前記バルブ装着部に供給する
ことができる供給手段と、前記バルブ装着部に装着され
る被洗浄バルブを通過した脱イオン水またはケミカルを
選択的に放出、または前記ケミカル供給源に回収させる
放出及び回収ラインとを備えるバルブ洗浄装置の駆動方
法であって、前記バルブ装着部に被洗浄バルブを装着す
る段階と、前記脱イオン水を選択して前記被洗浄バルブ
に供給した後、前記脱イオン水を放出ラインに放出させ
る段階と、前記ケミカルを選択して前記被洗浄バルブに
供給した後、回収ラインを通じて前記ケミカルを前記ケ
ミカル供給源に回収してケミカルを循環させる段階とを
含むことを特徴とする。
【００１４】前記バルブ装着部は、互いに異なる大きさ
を有する複数個の被洗浄バルブが並列に設置され、前記
脱イオン水またはケミカルを各並列ラインに選択的に供
給するようにする。そして、前記ケミカル供給源は、互
いに異なる２つ以上のケミカル供給源を含み、好ましい
用途によって選択して供給及び回収することができる。
を有する複数個の被洗浄バルブが並列に設置され、前記
脱イオン水またはケミカルを各並列ラインに選択的に供
給するようにする。そして、前記ケミカル供給源は、互
いに異なる２つ以上のケミカル供給源を含み、好ましい
用途によって選択して供給及び回収することができる。
【００１５】また、本発明によるバルブの洗浄方法は、
（ａ）脱イオン水を使用して被洗浄バルブを１次脱イオ
ン水洗浄する段階と、（ｂ）前記１次脱イオン水洗浄を
終えた被洗浄バルブを第１ケミカルを使用して１次ケミ
カル洗浄する段階と、（ｃ）前記１次ケミカル洗浄を終
えた被洗浄バルブを脱イオン水を使用して２次脱イオン
水洗浄する段階と、（ｄ）前記２次脱イオン水洗浄を終
えた被洗浄バルブを第２ケミカルを使用して２次ケミカ
ル洗浄する段階と、（ｅ）前記２次ケミカル洗浄段階が
進行された前記第２ケミカルで試料をサンプリングして
金属性不純物を分析する段階とを含むことを特徴とす
る。
（ａ）脱イオン水を使用して被洗浄バルブを１次脱イオ
ン水洗浄する段階と、（ｂ）前記１次脱イオン水洗浄を
終えた被洗浄バルブを第１ケミカルを使用して１次ケミ
カル洗浄する段階と、（ｃ）前記１次ケミカル洗浄を終
えた被洗浄バルブを脱イオン水を使用して２次脱イオン
水洗浄する段階と、（ｄ）前記２次脱イオン水洗浄を終
えた被洗浄バルブを第２ケミカルを使用して２次ケミカ
ル洗浄する段階と、（ｅ）前記２次ケミカル洗浄段階が
進行された前記第２ケミカルで試料をサンプリングして
金属性不純物を分析する段階とを含むことを特徴とす
る。
【００１６】前記（ｅ）段階の遂行による特定金属不純
物の量が特定基準値以下であると、前記被洗浄バルブを
脱イオン水を使用して３次脱イオン水洗浄をさらに遂行
することができる。そして、前記（ｅ）段階の遂行によ
る特定金属不純物の量が特定基準値以上であると、前記
被洗浄バルブを前記脱イオン水を使用して前記２次脱イ
オン水洗浄段階以後の段階を反復して遂行することがで
きる。
物の量が特定基準値以下であると、前記被洗浄バルブを
脱イオン水を使用して３次脱イオン水洗浄をさらに遂行
することができる。そして、前記（ｅ）段階の遂行によ
る特定金属不純物の量が特定基準値以上であると、前記
被洗浄バルブを前記脱イオン水を使用して前記２次脱イ
オン水洗浄段階以後の段階を反復して遂行することがで
きる。
【００１７】また、前期被洗浄バルブは、内部にテフロ
ン材質の部品が備えられるテフロンバルブである。そし
て、前記第１ケミカルは、２５乃至３５重量％のイソプ
ロフィルアルコールと、７乃至１３重量％のアセトン
と、残量で脱イオン水とが混合されている。
ン材質の部品が備えられるテフロンバルブである。そし
て、前記第１ケミカルは、２５乃至３５重量％のイソプ
ロフィルアルコールと、７乃至１３重量％のアセトン
と、残量で脱イオン水とが混合されている。
【００１８】また、前記第２ケミカルは、６５乃至７５
％濃度の窒酸と、２８乃至３４％濃度の過酸化水素とが
同一な比率で混合されている。そして、前記特定基準値
は０．５乃至１．５ｐｐｂである。
％濃度の窒酸と、２８乃至３４％濃度の過酸化水素とが
同一な比率で混合されている。そして、前記特定基準値
は０．５乃至１．５ｐｐｂである。
【００１９】また、前記分析は、原子吸収分析器、また
は原子放出分析器を用いて行われる。そして、前記
（ａ）、（ｂ）、（ｃ）及び（ｄ）の段階は２４時間以
上遂行される。また、前記金属性不純物は鉄、アルミニ
ウム、銅、カルシウム、亜鉛、クローム、ニッケル及び
ナトリウムの中の一つである。
は原子放出分析器を用いて行われる。そして、前記
（ａ）、（ｂ）、（ｃ）及び（ｄ）の段階は２４時間以
上遂行される。また、前記金属性不純物は鉄、アルミニ
ウム、銅、カルシウム、亜鉛、クローム、ニッケル及び
ナトリウムの中の一つである。
【００２０】
【発明の実施の形態】以下、本発明の具体的な一実施例
を添付された図面を参照に詳しく説明する。本発明によ
るバルブ洗浄装置では、図１に図示されたように一定量
の脱イオン水が貯蔵された脱イオン水供給源１０と、窒
素ガスの供給圧力によって開閉動作を遂行するエアーポ
ンプ１６とが脱イオン水供給ライン１１によって連結さ
れている。前記エアーポンプ１６と脱イオン水供給源１
０の間の脱イオン水供給ライン１１上には第３断続バル
ブ１８が設置されている。
を添付された図面を参照に詳しく説明する。本発明によ
るバルブ洗浄装置では、図１に図示されたように一定量
の脱イオン水が貯蔵された脱イオン水供給源１０と、窒
素ガスの供給圧力によって開閉動作を遂行するエアーポ
ンプ１６とが脱イオン水供給ライン１１によって連結さ
れている。前記エアーポンプ１６と脱イオン水供給源１
０の間の脱イオン水供給ライン１１上には第３断続バル
ブ１８が設置されている。
【００２１】そして、前記エアーポンプ１６と供給ライ
ン１２が連結された後、分岐されて多数の分岐ラインを
形成しており、前記供給ライン１２の分岐ラインの各端
部には同一な大きさを有する複数の被洗浄バルブがお互
い直列連結された複数の第１被洗浄バルブ組合体２０が
それぞれ連結されている。前記供給ライン１２の各分岐
ラインと連結された特定第１被洗浄バルブの組合体２０
の被洗浄バルブと、他の特定第１被洗浄バルブ組合体２
０の被洗浄バルブの大きさは互いに相違で、前記被洗浄
バルブはテフロン材質の部品か内部に備えられるダイア
フラムバルブ等のテフロンバルブであり得る。また、前
記供給ライン１２の各分岐ライン上には第１断続バルブ
１４が設置されている。
ン１２が連結された後、分岐されて多数の分岐ラインを
形成しており、前記供給ライン１２の分岐ラインの各端
部には同一な大きさを有する複数の被洗浄バルブがお互
い直列連結された複数の第１被洗浄バルブ組合体２０が
それぞれ連結されている。前記供給ライン１２の各分岐
ラインと連結された特定第１被洗浄バルブの組合体２０
の被洗浄バルブと、他の特定第１被洗浄バルブ組合体２
０の被洗浄バルブの大きさは互いに相違で、前記被洗浄
バルブはテフロン材質の部品か内部に備えられるダイア
フラムバルブ等のテフロンバルブであり得る。また、前
記供給ライン１２の各分岐ライン上には第１断続バルブ
１４が設置されている。
【００２２】そして、前記各第１被洗浄バルブ組合体２
０と同一な大きさを有する複数の被洗浄バルブがお互い
直列連結された複数の第２被洗浄バルブ組合体２４が複
数の連結ライン２２によってお互い連結されている。
前記特定第２被洗浄バルブの組合体２４の被洗浄バルブ
と他の特定第２被洗浄バルブ組合体２４の被洗浄バルブ
の大きさはお互い相違で、前記被洗浄バルブはダイアフ
ラムバルブ等のテフロンバルブでありえる。
０と同一な大きさを有する複数の被洗浄バルブがお互い
直列連結された複数の第２被洗浄バルブ組合体２４が複
数の連結ライン２２によってお互い連結されている。
前記特定第２被洗浄バルブの組合体２４の被洗浄バルブ
と他の特定第２被洗浄バルブ組合体２４の被洗浄バルブ
の大きさはお互い相違で、前記被洗浄バルブはダイアフ
ラムバルブ等のテフロンバルブでありえる。
【００２３】そして、前記複数の第２被洗浄バルブ組合
体２４と多数の分岐ラインが備えられる放出ライン２６
の前記分岐ラインがお互い連結されている。前記放出ラ
イン２６の分岐ライン上には第２断続バルブ２８がそれ
ぞれ設置されている。
体２４と多数の分岐ラインが備えられる放出ライン２６
の前記分岐ラインがお互い連結されている。前記放出ラ
イン２６の分岐ライン上には第２断続バルブ２８がそれ
ぞれ設置されている。
【００２４】また、前記放出ライン２６とケミカル回収
ライン３７が連結されており、前記ケミカル回収ライン
３７とケミカル供給源４０が連結されている。前記ケミ
カル回収ライン３７上には、第４断続バルブ３４が設置
されている。
ライン３７が連結されており、前記ケミカル回収ライン
３７とケミカル供給源４０が連結されている。前記ケミ
カル回収ライン３７上には、第４断続バルブ３４が設置
されている。
【００２５】そして、前記ケミカル供給源４０では、２
５乃至３５重量％、望ましくは３０重量％のイソプロフ
ィルアルコルと、７乃至１３重量％、望ましくは１０重
量％のアセトンと、残量で脱イオン水とが混合された一
定量の第１ケミカルを供給するようになっている。そし
て、前記ケミカル供給源４０では、６５乃至７５％濃
度、望ましくは７０％の濃度の窒酸（HNO3）と、２８乃
至３４％濃度、好ましくは３１％濃度の過酸化水素（H2
O2）とが同一な比率で混合された第２ケミカルを供給す
ることができるようになっている。
５乃至３５重量％、望ましくは３０重量％のイソプロフ
ィルアルコルと、７乃至１３重量％、望ましくは１０重
量％のアセトンと、残量で脱イオン水とが混合された一
定量の第１ケミカルを供給するようになっている。そし
て、前記ケミカル供給源４０では、６５乃至７５％濃
度、望ましくは７０％の濃度の窒酸（HNO3）と、２８乃
至３４％濃度、好ましくは３１％濃度の過酸化水素（H2
O2）とが同一な比率で混合された第２ケミカルを供給す
ることができるようになっている。
【００２６】そして、前記放出ライン２６とケミカル回
収ライン３７が連結される地点で脱イオン水放出ライン
３０が分岐形成されている。前記脱イオン水放出ライン
３０上には放出バルブ３２が設置されている。
収ライン３７が連結される地点で脱イオン水放出ライン
３０が分岐形成されている。前記脱イオン水放出ライン
３０上には放出バルブ３２が設置されている。
【００２７】また、ケミカル供給源４０の一側と連結さ
れたケミカル供給ライン３６が、前記脱イオン水供給ラ
イン１１上の第３断続バルブ１８とエアーポンプ１６の
間の脱イオン水供給ライン１１と連結されている。前記
ケミカル供給ライン３６上にはケミカルバルブ３８が設
置されている。
れたケミカル供給ライン３６が、前記脱イオン水供給ラ
イン１１上の第３断続バルブ１８とエアーポンプ１６の
間の脱イオン水供給ライン１１と連結されている。前記
ケミカル供給ライン３６上にはケミカルバルブ３８が設
置されている。
【００２８】従って、脱イオン水供給源１０の一定量の
脱イオン水は、エアーポンプ１６のポンピング動作によ
って脱イオン水供給ライン１１上に設置された第３断続
バルブ１８を通過した後、エアーポンプ１６を通過す
る。
脱イオン水は、エアーポンプ１６のポンピング動作によ
って脱イオン水供給ライン１１上に設置された第３断続
バルブ１８を通過した後、エアーポンプ１６を通過す
る。
【００２９】そして、エアーポンプ１６を通過した脱イ
オン水は供給ライン１２の多数の分岐ライン上に設置さ
れた多数の第１断続バルブ１４を通過して多数の第１被
洗浄バルブの組合体２０を通過する。前記第１断続バル
ブ１４は、選択的に開放され得るし、前記脱イオン水が
選択的に開放された第１断続バルブ１４を通過して第１
被洗浄バルブ組合体２０を通過することによって、第１
被洗浄バルブ組合体２０の内部に存在する一定量のパー
ティクル（Particle）が除去される。
オン水は供給ライン１２の多数の分岐ライン上に設置さ
れた多数の第１断続バルブ１４を通過して多数の第１被
洗浄バルブの組合体２０を通過する。前記第１断続バル
ブ１４は、選択的に開放され得るし、前記脱イオン水が
選択的に開放された第１断続バルブ１４を通過して第１
被洗浄バルブ組合体２０を通過することによって、第１
被洗浄バルブ組合体２０の内部に存在する一定量のパー
ティクル（Particle）が除去される。
【００３０】そして、前記第１被洗浄バルブ組合体２０
を通過した脱イオン水は連結ライン２２を通過して、第
２被洗浄バルブ組合体２４を通過する。 前記脱イオン
水が第２被洗浄バルブ組合体２４を通過することによっ
て第２被洗浄バルブ組合体２４の内部に存在する一定量
のパーティクルは脱イオン水によって除去される。
を通過した脱イオン水は連結ライン２２を通過して、第
２被洗浄バルブ組合体２４を通過する。 前記脱イオン
水が第２被洗浄バルブ組合体２４を通過することによっ
て第２被洗浄バルブ組合体２４の内部に存在する一定量
のパーティクルは脱イオン水によって除去される。
【００３１】また、前記第２被洗浄バルブ組合体２４を
通過した脱イオン水は放出ライン２６の分岐ライン上に
設置された第２断続バルブ２８を通過して脱イオン水放
出ライン３０上に設置された放出バルブ３２を通過して
外部に放出される。
通過した脱イオン水は放出ライン２６の分岐ライン上に
設置された第２断続バルブ２８を通過して脱イオン水放
出ライン３０上に設置された放出バルブ３２を通過して
外部に放出される。
【００３２】続いて、脱イオン水供給ライン１１上に設
置された第３断続バルブ１８及び脱イオン水放出ライン
３０上に設置された排気バルブ３２を閉鎖して、ケミカ
ル供給ライン３８上に設置されたケミカルバルブ３８及
びケミカル回収ライン３７上に設置された第４断続バル
ブ３４を開放する。
置された第３断続バルブ１８及び脱イオン水放出ライン
３０上に設置された排気バルブ３２を閉鎖して、ケミカ
ル供給ライン３８上に設置されたケミカルバルブ３８及
びケミカル回収ライン３７上に設置された第４断続バル
ブ３４を開放する。
【００３３】次に、エアーポンプ１６がポンピング動作
を遂行することにより、エアーポンプ１６のポンピング
力がケミカル供給源４０の第１ケミカルに伝達されるこ
とによってケミカル供給源４０の第１ケミカルはケミカ
ル供給ライン３６上に設置されたケミカルバルブ３８を
通過した後、エアーポンプ１６及び供給ライン１２の第
１断続バルブ１４を通過して第１被洗浄バルブ組合体２
０を通過する。 前記第１断続バルブ１４は、選択的に
開放され得るし、選択的に開放された前記第１断続バル
ブ１４を通過した第１ケミカルは第１被洗浄バルブ組合
体２０を通過することによって第１被洗浄バルブ組合体
２０の内部に存在する有機物及びパーティクルが除去さ
れる。
を遂行することにより、エアーポンプ１６のポンピング
力がケミカル供給源４０の第１ケミカルに伝達されるこ
とによってケミカル供給源４０の第１ケミカルはケミカ
ル供給ライン３６上に設置されたケミカルバルブ３８を
通過した後、エアーポンプ１６及び供給ライン１２の第
１断続バルブ１４を通過して第１被洗浄バルブ組合体２
０を通過する。 前記第１断続バルブ１４は、選択的に
開放され得るし、選択的に開放された前記第１断続バル
ブ１４を通過した第１ケミカルは第１被洗浄バルブ組合
体２０を通過することによって第１被洗浄バルブ組合体
２０の内部に存在する有機物及びパーティクルが除去さ
れる。
【００３４】そして、前記第１ケミカルは、連結ライン
２２を通過して第２被洗浄バルブ組合体２４を通過す
る。 前記第１ケミカルが第２被洗浄バルブ組合体２４
を通過することによって第２被洗浄バルブ組合体２４の
内部に存在する有機物及びパーティクルが除去される。
２２を通過して第２被洗浄バルブ組合体２４を通過す
る。 前記第１ケミカルが第２被洗浄バルブ組合体２４
を通過することによって第２被洗浄バルブ組合体２４の
内部に存在する有機物及びパーティクルが除去される。
【００３５】また、前記第２被洗浄バルブ組合体２４を
通過した第１ケミカルは、放出ライン２６上に設置され
た第２断続バルブ２８を通過した後、ケミカル回収ライ
ン３７上に設置された第４断続バルブ３４を通過してケ
ミカル供給源４０に循環する。
通過した第１ケミカルは、放出ライン２６上に設置され
た第２断続バルブ２８を通過した後、ケミカル回収ライ
ン３７上に設置された第４断続バルブ３４を通過してケ
ミカル供給源４０に循環する。
【００３６】続いて、脱イオン水供給ライン１１上に設
置された第３断続バルブ１８及び脱イオン水放出ライン
３０上に設置された排気バルブ３２を開放して、ケミカ
ル供給ライン３８上に設置されたケミカルバルブ３８及
びケミカル回収ライン３７上に設置された第４断続バル
ブ３４を閉鎖する。
置された第３断続バルブ１８及び脱イオン水放出ライン
３０上に設置された排気バルブ３２を開放して、ケミカ
ル供給ライン３８上に設置されたケミカルバルブ３８及
びケミカル回収ライン３７上に設置された第４断続バル
ブ３４を閉鎖する。
【００３７】次に、エアーポンプ１６のポンピング力が
脱イオン水供給源１０に伝達されることによって、前記
脱イオン水供給源１０の一定量の脱イオン水は、脱イオ
ン水供給ライン１１上に設置された第３断続バルブ１８
を通過した後、エアーポンプ１６を通過する。
脱イオン水供給源１０に伝達されることによって、前記
脱イオン水供給源１０の一定量の脱イオン水は、脱イオ
ン水供給ライン１１上に設置された第３断続バルブ１８
を通過した後、エアーポンプ１６を通過する。
【００３８】そして、エアーポンプ１６を通過した脱イ
オン水は、供給ライン１２上に設置された多数の第１断
続バルブ１４を通過して多数の第１被洗浄バルブ組合体
２０を通過する。前記第１断続バルブ１４は選択的に開
放され得るし、選択的に開放された第１断続バルブ１４
を通過した脱イオン水は、第１被洗浄バルブ組合体２０
を通過することによって、第１被洗浄バルブ組合体２０
の内部に存在する第１ケミカル成分は除去される。
オン水は、供給ライン１２上に設置された多数の第１断
続バルブ１４を通過して多数の第１被洗浄バルブ組合体
２０を通過する。前記第１断続バルブ１４は選択的に開
放され得るし、選択的に開放された第１断続バルブ１４
を通過した脱イオン水は、第１被洗浄バルブ組合体２０
を通過することによって、第１被洗浄バルブ組合体２０
の内部に存在する第１ケミカル成分は除去される。
【００３９】そして、前記第１被洗浄バルブの組合体２
０を通過した脱イオン水は、連結ライン２２を通過して
第２被洗浄バルブの組合体２４を通過する。前記脱イオ
ン水が第２被洗浄バルブの組合体２４を通過することに
よって、第２被洗浄バルブ組合体２４の内部に存在する
第１ケミカル成分は除去される。
０を通過した脱イオン水は、連結ライン２２を通過して
第２被洗浄バルブの組合体２４を通過する。前記脱イオ
ン水が第２被洗浄バルブの組合体２４を通過することに
よって、第２被洗浄バルブ組合体２４の内部に存在する
第１ケミカル成分は除去される。
【００４０】また、前記第２被洗浄バルブ組合体２４を
通過した脱イオン水は、放出ライン２６の分岐ライン上
に設置された第２断続バルブ２８を通過し、脱イオン水
放出ライン３０上に設置された放出バルブ３２を通過し
て外部に放出される。
通過した脱イオン水は、放出ライン２６の分岐ライン上
に設置された第２断続バルブ２８を通過し、脱イオン水
放出ライン３０上に設置された放出バルブ３２を通過し
て外部に放出される。
【００４１】続いて、脱イオン水供給ライン１１上に設
置された第３断続バルブ１８及び脱イオン水放出ライン
３０上に設置された排気バルブ３２を閉鎖して、ケミカ
ル供給ライン３８上に設置されたケミカルバルブ３８及
びケミカル回収ライン３７上に設置された第４断続バル
ブ３４を開放する。
置された第３断続バルブ１８及び脱イオン水放出ライン
３０上に設置された排気バルブ３２を閉鎖して、ケミカ
ル供給ライン３８上に設置されたケミカルバルブ３８及
びケミカル回収ライン３７上に設置された第４断続バル
ブ３４を開放する。
【００４２】次に、エアーポンプ１６がポンピング動作
を遂行することによって、エアーポンプ１６のポンピン
グ力がケミカル供給源４０の第２ケミカルに伝達され、
ケミカル供給源４０の第２ケミカルはケミカル供給ライ
ン３６上に設置されたケミカルバルブ３８を通過した
後、エアーポンプ１６及び供給ライン１２の第１断続バ
ルブ１４を通過して第１被洗浄バルブ組合体２０を通過
する。前記第１断続バルブ１４は、選択的に開放され得
るし、選択的に開放された第１断続バルブ１４を通過し
た第２ケミカルは、第１被洗浄バルブ組合体２０を通過
することにより、第１被洗浄バルブの組合体２０の内部
に存在する金属性不純物は除去される。
を遂行することによって、エアーポンプ１６のポンピン
グ力がケミカル供給源４０の第２ケミカルに伝達され、
ケミカル供給源４０の第２ケミカルはケミカル供給ライ
ン３６上に設置されたケミカルバルブ３８を通過した
後、エアーポンプ１６及び供給ライン１２の第１断続バ
ルブ１４を通過して第１被洗浄バルブ組合体２０を通過
する。前記第１断続バルブ１４は、選択的に開放され得
るし、選択的に開放された第１断続バルブ１４を通過し
た第２ケミカルは、第１被洗浄バルブ組合体２０を通過
することにより、第１被洗浄バルブの組合体２０の内部
に存在する金属性不純物は除去される。
【００４３】そして、前記第２ケミカルは連結ライン２
２を通過して、第２被洗浄バルブ組合体２４を通過す
る。前記第２ケミカルが第２被洗浄バルブ組合体２４を
通過することによって、第２被洗浄バルブ組合体２４の
内部に存在する金属性不純物は除去される。
２を通過して、第２被洗浄バルブ組合体２４を通過す
る。前記第２ケミカルが第２被洗浄バルブ組合体２４を
通過することによって、第２被洗浄バルブ組合体２４の
内部に存在する金属性不純物は除去される。
【００４４】また、前記第２被洗浄バルブ組合体２４を
通過した第２ケミカルは、放出ライン２６上に設置され
た第２断続バルブ２８を通過した後、ケミカル回収ライ
ン３７上に設置された第４断続バルブ３４を通過してケ
ミカル供給源４０に循環する。
通過した第２ケミカルは、放出ライン２６上に設置され
た第２断続バルブ２８を通過した後、ケミカル回収ライ
ン３７上に設置された第４断続バルブ３４を通過してケ
ミカル供給源４０に循環する。
【００４５】以下、図２を参照に本発明によるバルブの
洗浄方法の一実施例を説明する。図２を参照すると、ま
ず、S２段階で、内部にテフロン材質の部品が備えられ
るダイアフラムバルブ等のテフロンバルブ、即ち被洗浄
バルブを、脱イオン水を使用して１次脱イオン水洗浄工
程を進行する。前記１次脱イオン水洗浄工程は２４時間
以上進行され得る。
洗浄方法の一実施例を説明する。図２を参照すると、ま
ず、S２段階で、内部にテフロン材質の部品が備えられ
るダイアフラムバルブ等のテフロンバルブ、即ち被洗浄
バルブを、脱イオン水を使用して１次脱イオン水洗浄工
程を進行する。前記１次脱イオン水洗浄工程は２４時間
以上進行され得る。
【００４６】そして、S４段階で２５乃至３５重量％、
好ましいのは３０重量％のイソプロフィルアルコール
と、７乃至１３重量％、好ましいのは１０重量％のアセ
トンと、残量で脱イオン水が混合された第１ケミカルを
使用して前記１次脱イオン水洗浄工程が進行された前記
被洗浄バルブを１次ケミカル洗浄することで、前記１次
脱イオン水洗浄によって除去されず、被洗浄バルブに残
留するパーティクルと有機物を除去する。前記１次ケミ
カル洗浄は２４時間以上進行され得る。
好ましいのは３０重量％のイソプロフィルアルコール
と、７乃至１３重量％、好ましいのは１０重量％のアセ
トンと、残量で脱イオン水が混合された第１ケミカルを
使用して前記１次脱イオン水洗浄工程が進行された前記
被洗浄バルブを１次ケミカル洗浄することで、前記１次
脱イオン水洗浄によって除去されず、被洗浄バルブに残
留するパーティクルと有機物を除去する。前記１次ケミ
カル洗浄は２４時間以上進行され得る。
【００４７】次に、S６段階で前記１次ケミカル洗浄に
よって被洗浄バルブに残留する前記第１ケミカルを、脱
イオン水を使用して除去する２次脱イオン水洗浄工程を
進行する。前記２次脱イオン水洗浄工程は２４時間以上
進行され得る。
よって被洗浄バルブに残留する前記第１ケミカルを、脱
イオン水を使用して除去する２次脱イオン水洗浄工程を
進行する。前記２次脱イオン水洗浄工程は２４時間以上
進行され得る。
【００４８】続いて、S８段階で、６５乃至７５％濃
度、望ましくは７０％濃度の窒酸と、２８乃至３４％濃
度、好ましくは３１％濃度の過酸化水素が同一な比率で
混合された第２ケミカルを使用して、前記２次脱イオン
水洗浄工程が進行された前記被洗浄バルブに存在する金
属性不純物を除去する２次ケミカル洗浄工程を進行す
る。前記２次ケミカル洗浄工程は２４時間以上進行され
得る。
度、望ましくは７０％濃度の窒酸と、２８乃至３４％濃
度、好ましくは３１％濃度の過酸化水素が同一な比率で
混合された第２ケミカルを使用して、前記２次脱イオン
水洗浄工程が進行された前記被洗浄バルブに存在する金
属性不純物を除去する２次ケミカル洗浄工程を進行す
る。前記２次ケミカル洗浄工程は２４時間以上進行され
得る。
【００４９】次に、S１０段階で前記２次ケミカル洗浄
工程が進行された前記第２ケミカルで一定量の試料をサ
ンプリングする。
工程が進行された前記第２ケミカルで一定量の試料をサ
ンプリングする。
【００５０】続いて、S１２段階で前記試料を原子吸収
分光器（Atomic absorption spectroscopy）または原子
放出分光器（Atomic emission spectroscopy）を使用し
て分析することで前記試料の内部に存在する鉄（Fe）、
アルミニウム（Al）、銅（Cu）、カルシウム（Ca）、亜
鉛（Zn）、クロム（Cr）、ニッケル（Ni）及びナトリウ
ム（Na）等の金属性不純物の量を分析することができ
る。
分光器（Atomic absorption spectroscopy）または原子
放出分光器（Atomic emission spectroscopy）を使用し
て分析することで前記試料の内部に存在する鉄（Fe）、
アルミニウム（Al）、銅（Cu）、カルシウム（Ca）、亜
鉛（Zn）、クロム（Cr）、ニッケル（Ni）及びナトリウ
ム（Na）等の金属性不純物の量を分析することができ
る。
【００５１】次に、S１４段階で、前記の分析の結果に
よって前記試料の内部に金属性不純物の量が０．５乃至
１．５ｐｐｂ、好ましくは０．１ｐｐｂ以下または以上
であるかを判断する。
よって前記試料の内部に金属性不純物の量が０．５乃至
１．５ｐｐｂ、好ましくは０．１ｐｐｂ以下または以上
であるかを判断する。
【００５２】続いて、前記S１４段階の遂行によって試
料の内部に０．１ｐｐｂ以下の金属性不純物が存在する
と、S１６段階で前記被洗浄バルブを脱イオン水を使用
して３次脱イオン水を洗浄する段階を遂行することで洗
浄工程を終了する。
料の内部に０．１ｐｐｂ以下の金属性不純物が存在する
と、S１６段階で前記被洗浄バルブを脱イオン水を使用
して３次脱イオン水を洗浄する段階を遂行することで洗
浄工程を終了する。
【００５３】そして、前記S１４段階の遂行によって試
料の内部に０．１ｐｐｂ以上の金属性不純物が存在する
と、前記S６段階の２次脱イオン水洗浄工程以後の段階
を反復して遂行する。
料の内部に０．１ｐｐｂ以上の金属性不純物が存在する
と、前記S６段階の２次脱イオン水洗浄工程以後の段階
を反復して遂行する。
【００５４】
【発明の効果】従って、本発明によると、半導体装置製
造設備等に装着されるテフロンバルブ等のバルブの内部
に存在する有機物、パーティクル、金属性不純物等を容
易に除去することができるので、前記バルブが半導体装
置製造設備等に装着されて汚染源として作用することを
未然に予防することができる効果がある。
造設備等に装着されるテフロンバルブ等のバルブの内部
に存在する有機物、パーティクル、金属性不純物等を容
易に除去することができるので、前記バルブが半導体装
置製造設備等に装着されて汚染源として作用することを
未然に予防することができる効果がある。
【００５５】以上で、本発明は記載された具体例に対し
てのみ詳細に説明されたが、本発明の技術思想範囲内で
多様な変形および修正が可能であることは当業者にとっ
て明白なことであり、このような変形および修正が添付
された特許請求範囲に属するのは当然である。
てのみ詳細に説明されたが、本発明の技術思想範囲内で
多様な変形および修正が可能であることは当業者にとっ
て明白なことであり、このような変形および修正が添付
された特許請求範囲に属するのは当然である。
【図１】本発明によるバルブ洗浄装置の一実施例を示す
構成図である。
構成図である。
【図２】本発明によるバルブの洗浄方法の一実施例を説
明するための流れ図である。
明するための流れ図である。
１０ 脱イオン水供給源 １１ 脱イオン水供給ライン １２ 供給ライン １４ 第１断続バルブ １６ エアーポンプ １８ 第３断続バルブ ２０ 第１被洗浄バルブ組合体 ２２ 連結ライン ２４ 第２被洗浄バルブ組合体 ２６ 放出ライン ２８ 第２断続バルブ ３０ 脱イオン水放出ライン ３２ 放出バルブ ３４ 第４断続バルブ ３６ ケミカル供給ライン ３７ ケミカル回収ライン ３８ ケミカルバルブ ４０ ケミカル供給源
Claims (23)
- 【請求項１】 被洗浄バルブを装着するバルブ装着部
と、 脱イオン水供給源から一定量の脱イオン水を所定の圧力
で前記バルブ装着部に供給することが可能な脱イオン水
供給手段と、 ケミカル供給源から一定量のケミカルを所定の圧力で前
記バルブ装着部に供給することが可能なケミカル供給手
段と、 前記バルブ装着部に装着される被洗浄バルブを通過した
脱イオン水を放出する脱イオン水放出ラインと、 前記被洗浄バルブを通過したケミカルを前記ケミカル供
給源に回収させるケミカル回収ラインと、 を備えることを特徴とするバルブ洗浄装置。 - 【請求項２】 前記脱イオン水供給手段及びケミカル供
給手段は、単一のポンピング手段を用いて、前記ポンピ
ング手段以前に前記脱イオン水とケミカルを選択するこ
とができる選択手段が設置されていることを特徴とする
請求項１記載のバルブ洗浄装置。 - 【請求項３】 前記バルブ装着部は、複数個の被洗浄バ
ルブを直列で設置することが可能であることを特徴とす
る請求項１記載のバルブ洗浄装置。 - 【請求項４】 前記バルブ装着部は、複数個の被洗浄バ
ルブを並列に設置することが可能であることを特徴とす
る請求項１記載のバルブ洗浄装置。 - 【請求項５】 前記バルブ装着部で互いに異なる大きさ
を有する被洗浄バルブは、並列に設置することが可能で
あることを特徴とする請求項４記載のバルブ洗浄装置。 - 【請求項６】 前記脱イオン水放出ライン及びケミカル
回収ラインは、中間に選択手段を介在して単一のライン
で構成されることを特徴とする請求項１記載のバルブ洗
浄装置。 - 【請求項７】 前記被洗浄バルブは、内部にテフロン材
質の部品が備えられるテフロンバルブであることを特徴
とする請求項１記載のバルブ洗浄装置。 - 【請求項８】 前記被洗浄バルブは、テフロン材質の横
隔膜が備えられるダイアフラムバルブであることを特徴
とする請求項７記載のバルブ洗浄装置。 - 【請求項９】 前記ケミカル供給源は、互いに異なる２
つ以上のケミカルを供給することが可能であるように構
成されていることを特徴とする請求項１記載のバルブ洗
浄装置。 - 【請求項１０】 被洗浄バルブを装着したバルブ装着部
と、脱イオン水供給源からの脱イオン水またはケミカル
供給源からのケミカルを選択的に前記バルブ装着部に供
給することが可能である供給手段と、前記バルブ装着部
に装着される被洗浄バルブを通過した脱イオン水または
ケミカルを選択的に放出、または前記ケミカル供給源に
回収させる放出及び回収ラインとを備えるバルブ洗浄装
置の駆動方法であって、 前記バルブ装着部に被洗浄バルブを装着する段階と、 前記脱イオン水を選択して前記被洗浄バルブに供給した
後、前記脱イオン水を放出ラインに放出させる段階と、 前記ケミカルを選択して前記被洗浄バルブに供給した
後、回収ラインを通じて前記ケミカルを前記ケミカル供
給源に回収してケミカルを循環させる段階と、 を含むことを特徴とするバルブ洗浄装置の駆動方法。 - 【請求項１１】 前記バルブ装着部は、互いに異なる大
きさを有する複数個の被洗浄バルブが並列に設置され、
前記脱イオン水またはケミカルを各並列ラインに選択的
に供給することを特徴とする請求項１０記載のバルブ洗
浄装置の駆動方法。 - 【請求項１２】 前記ケミカル供給源は、互いに異なる
２つ以上のケミカル供給源を含み、好ましい用途によっ
て選択して供給及び回収することが可能であることを特
徴とする請求項１０記載のバルブ洗浄装置の駆動方法。 - 【請求項１３】 （ａ）脱イオン水を使用して被洗浄バ
ルブを１次脱イオン水洗浄する段階と、 （ｂ）前記１次脱イオン水洗浄を終えた被洗浄バルブを
第１ケミカルを使用して１次ケミカル洗浄する段階と、 （ｃ）前記１次ケミカル洗浄を終えた被洗浄バルブを脱
イオン水を使用して２次脱イオン水洗浄する段階と、 （ｄ）前記２次脱イオン水洗浄を終えた被洗浄バルブを
第２ケミカルを使用して２次ケミカル洗浄する段階と、 （ｅ）前記２次ケミカル洗浄段階が進行された前記第２
ケミカルで試料をサンプリングして金属性不純物を分析
する段階と、 を含むことを特徴とするバルブの洗浄方法。 - 【請求項１４】 前記（ｅ）段階の遂行による特定金属
不純物の量が特定基準値以下であると、前記被洗浄バル
ブを脱イオン水を使用して３次脱イオン水洗浄をさらに
遂行することを特徴とする請求項１３記載のバルブの洗
浄方法。 - 【請求項１５】 前記（ｅ）段階の遂行による特定金属
不純物の量が特定基準値以上であると、前記被洗浄バル
ブを前記脱イオン水を使用して前記２次脱イオン水洗浄
段階以後の段階を反復して遂行することを特徴とする請
求項１３記載のバルブの洗浄方法。 - 【請求項１６】 前記被洗浄バルブは、内部にテフロン
材質の部品が備えられるテフロンバルブであることを特
徴とする請求項１３記載のバルブの洗浄方法。 - 【請求項１７】 前記第１ケミカルは、２５乃至３５重
量％のイソプロフィルアルコールと、７乃至１３重量％
のアセトンと、残量で脱イオン水とが混合されているこ
とを特徴とする請求項１３記載のバルブの洗浄方法。 - 【請求項１８】 前記第２ケミカルは、６５乃至７５％
濃度の窒酸と、２８乃至３４％濃度の過酸化水素とが同
一な比率で混合されていることを特徴とする請求項１３
記載のバルブの洗浄方法。 - 【請求項１９】 前記特定基準値は、０．５乃至１．５
ｐｐｂであることを特徴とする請求項１４または１５記
載のバルブの洗浄方法。 - 【請求項２０】 前記分析は、原子吸収分光器を用いて
なることを特徴とする請求項１３記載のバルブの洗浄方
法。 - 【請求項２１】 前記分析は、原子放出分光器を用いて
なることを特徴とする請求項１３記載のバルブの洗浄方
法。 - 【請求項２２】 前記（ａ）、（ｂ）、（ｃ）及び
（ｄ）段階は、２４時間以上遂行されることを特徴とす
る請求項１３記載のバルブの洗浄方法。 - 【請求項２３】 前記金属性不純物は、鉄、アルミニウ
ム、銅、カルシウム、亜鉛、クロム、ニッケル及びナト
リウムの中の一つであることを特徴とする請求項１３記
載のバルブの洗浄方法。
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- 1998-10-14 US US09/172,139 patent/US6149731A/en not_active Expired - Fee Related
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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