KR0129796Y1 - 습식 공정 장치 - Google Patents
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Abstract
본 고안은 습식 공정 장치에 관한 것이다. 화학용액을 이용하여 공정을 수행하는 공정 베스와 공정 베스에서 사용된 약품이 모이는 외부베스로 이루어진 화학용액 베스, 관을 통하여, 상기 외부 베스에 모아진 화학용액을 순환시키기 위한 펌프 및 상기 관을 통하여 순환되는 화학용액 내의 오염 입자를 여과하기 위한 재순환 필터를 포함하는 습식 공정 장치에 있어서, 상기 재순환 필터 입구 쪽의 제 1 분기점에서 분기된 제 1 분기관, 상기 제 1 분기관에 장착된 제 1개폐수단 및 상기 제 1 분기관을 흐르는 화학용액이 그 내부를 관통하여 흐를 수 있도록 상기 제 1 분기관에 설치된 오염 입자 포집 수단이 구비하여 사용하면, 실제로 순환되고 있는 오염 입자에 대한 성분 분석이 가능하고, 설비의 가동율이 향상된다.
Description
제1도는 습식 공정에 통상적으로 사용되는 장치의 구성도이다.
제2도는 본 고안에 따른 습식 공정 장치의 구성도이다.
제3도는 본 고안에 따라 필터로 채집한 상태를 나타내는 사진이다.
제4도는 본 고안에 따라 필터로 채집한 오염 입자의 EDX SEM 사진이다.
* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명
1 : 공정 베스 2 : 외부 베스
3 : 펌프 4 : 재순환 필터
11 : 오염 입자 포집 장치
본 고안은 습식 공정 장치에 관한 것으로서, 상세하게는 공정의 중단 없이 화학용액 및 설비로부터 발생되는 오염 성분을 분석할 수 있는 습식 공정 장치에 관한 것이다.
반도체 제조 공정의 습식(wet) 공정에서는 여러 가지 화학용액들이 사용되고 있으며, 이들 화학용액에 포함된 오염입자(particle) 수는 공기, 순수, 반도체 제조용 가스 등에 비해 상당히 많은 것으로 알려져 있다. 특히, 클리닝(cleaning) 및 에칭(etching) 공정중 사용되는 화학용액들은 웨이퍼상에 직접 접촉되기 때문에, 화학용액의 오염 정도는 제품의 수율에 매우 큰 영향을 미치게 된다. 따라서 습식 공정중 발생되는 오염입자를 제거하는 것이 중요하며, 이에 못지 않게 중요한 것이 오염 성분을 분석하여 그 원인을 제거하는 것이다.
제1도는 클리닝 또는 에칭 공정과 같은 습식 공정에 통상적으로 사용되는 장치의 구성도인데, 습식 공정은 화학용액 베스(bath)와 순환계로 크게 분류된다. 또한 더욱 세분하면 화학용액 베스는 공정베스(1)와 외부 베스(out bath)(2)로 분류되고, 순환계는 펌프(3)와 재순환 필터(recirculation filter)(4)로 분류된다.
제1도에서 알 수 있는 바와 같이, 습식 공정 설비에서 화학용액은 공정 베스(1)를 거친 다음, 외부 베스(2)로 모아진다. 외부 베스(2)에 모아지는 화학용액은 펌프(3)에 의해 순환되어 재순환 필터(4)를 거치면서 오염입자가 제거된 다음, 공정 베스에 재공급된다.
이와 같은 설비의 사용에 있어서, 공정이 진행되는 동안 오염성분을 분석하는 것이 불가능하기 때문에 필요한 화학용액을 샘플링하기 위하여 공정을 일시적으로 중단시켜야 한다. 그러나, 샘플링을 위하여 공정을 일시적으로 중단시키는 것은 설비의 가동율을 저하시키는 일요인이 되는 문제점이 있다. 또한 종래의 공정에서는 정지된 상태하에서 샘플을 샘플링하기 때문에 공정이 진행되는 동안 오염 입자 순환 상태를 정확하게 파악하기 어렵다는 문제점도 있다.
한편, 종래의 습식 공정 장치에서는 재순환 필터에 걸러지지 않는 미세 오염 물질에 대해 적절하게 대처하는 것이 불가능하다는 단점이 있었다. 즉, 종래에는 오염 물질에 대한 검사를 하기 위하여 공정을 중단시켜야 하기 때문에 상시적으로 화학용액을 샘플링하여 오염 성분을 검사하는 것이 어려웠다. 따라서 오염 물질에 대한 검사 주기가 되기 이전에 필터에 여과되지 않는 오염 입자가 발생될 경우, 이에 대한 대처가 늦어져 제품의 품질에 악영향을 미치게 되는 것이다.
본 고안의 목적은 상기한 문제점을 해결하여, 공정의 중단없이 화학용액 및 설비로부터 발생되는 오염 성분을 검사할 수 있는 습식 공정장치가 제공된다.
상기 목적을 달성하기 위하여 본 고안에서는, 화학용액을 이용하여 공정을 수행하는 공정 베스와 공정 베스에서 사용된 약품이 모이는 외부 베스로 이루어진 화학용액 베스 관을 통하여, 상기 외부 베스에 모아진 화학용액을 순환시키기 위한 펌프 및 상기 관을 통하여 순환되는 화학용액 내의 오염 입자를 여과하기 위한 재순환 필터를 포함하는 습식 공정 장치에 있어서, 상기 재순환 필터 입구 쪽의 제1분기점에서 분기된 제1분기관 상기 제1분기관에 장착된 제1개폐수단 및 상기 제1분기관을 흐르는 화학용액이 그 내부를 관통하여 흐를 수 있도록 상기 제1관에 설치된 오염 입자 포집 수단이 구비되어 있는 것을 특징으로 하는 습식 공정 장치가 제공된다.
특히, 상기 습식 공정 장치에 있어서, 상기 제1분기점과 상기 오염입자 포집 수단 사이의 제 2 분기점에서 분기된 제2분기관 및 상기 제2분기관에 장착된 제2개폐수단이 더 구비될 수 있다.
이하, 본 고안의 일실시예에 따라 제조된 습식 공정 설비를 참고로 하여 본 고안을 구체적으로 설명하기로 한다.
제2도에는 본 고안에 따라 오염 입자 포집 장치(11)가 구비된 습식 공정 설비가 도시되어 있는데, 이를 참고로 하여 본 고안의 장치를 설명하기로 한다. 정상적으로 공정이 진행되는 동안에는 밸브 1, 2 모두 폐로되어 있다. 그러나, 공정이 진행되는 동안 오염 입자의 성분을 분석할 필요가 있을 경우, 밸브 2를 폐로하고 밸브 1을 개로하면 오염입자 포집 장치에 화학용액이 유입되어, 그 내부의 포집 필터에 오염입자가 포집된다.
포집 필터에 포집된 입자(제3도)에 대한 분석은 다양하게 실시할 수 있는데, 일반적으로 AVGER, Q-SIMS, EDX와 같은 표면분석설비를 이용하여 성분 분석을 하거나, 셈(SEM)을 이용한 형태분석(제4도) 및 하기식(2)로 나타내는 입자 농도(약품 1㎖당 오염입자 수) 계산 방법 등이 있다.
본 고안에 따르면, 습식 공정 장치에는 별도의 화학용액 샘플링 수단이 구비될 수 있다. 제2도에 나타난 바와 같이, 밸브 2를 개로하면 화학용액이 간단하게 샘플링될 수 있기 때문에 상시적으로 순환되고 있는 오염 입자에 대한 분석이 가능하다.
이상에서 알 수 있는 바와 같이, 본 고안의 장치를 이용하면 다음과 같은 장점이 있다.
첫째, 공정이 진행되는 상태하에서 공정 화학용액 내에 존재하는 오염 입자를 샘플링할 수 있기 때문에, 실제로 순환되고 있는 오염입자에 대한 분석이 가능하다.
둘째, 간단한 밸브 구동만으로 화학약품을 샘플링할 수 있기 때문에 샘플링 과정에서 발생하는 이차오염 문제가 없어서 오염 물질과 오염원에 대한 정확한 분석이 가능하다.
셋째, 공정을 일시적으로 중단시키는 횟수가 적기 때문에 가동율이 증가된다.
Claims (2)
- 화학용액을 이용하여 공정을 수행하는 공정 베스와 공정베스에서 사용된 약품이 모이는 외부 베스로 이루어진 화학용액 베스 관을 통하여, 상기 외부 베스에 모아진 화학용액을 순환시키기 위한 펌프 및 상기 관을 통하여 순환되는 화학용액 내의 오염 입자를 여과하기 위한 재순환 필터를 포함하는 습식 공정 장치에 있어서, 상기 재순환 필터 입구 쪽의 제1분기점에서 분기된 제1분기관 상기 제1분기관에 장착된 제1개폐수단 및 상기 제1분기관을 흐르는 화학용액이 그 내부를 관통하여 흐를수 있도록 상기 제1분기관에 설치된 오염 입자 포집 수단이 구비되어 있는 것을 특징으로 하는 습식 공정 장치.
- 제1항에 있어서, 상기 제1분기점과 상기 오염 입자 포집 수단 사이의 제 2 분기점에서 분기된 제 2 분기관 및 상기 제2분기관에 장착된 개폐 수단이 더 구비되어 있는 것을 특징으로 하는 습식 공정 장치.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR2019950016028U KR0129796Y1 (ko) | 1995-06-30 | 1995-06-30 | 습식 공정 장치 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR2019950016028U KR0129796Y1 (ko) | 1995-06-30 | 1995-06-30 | 습식 공정 장치 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| KR970003211U KR970003211U (ko) | 1997-01-24 |
| KR0129796Y1 true KR0129796Y1 (ko) | 1999-02-01 |
Family
ID=19417321
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| KR2019950016028U KR0129796Y1 (ko) | 1995-06-30 | 1995-06-30 | 습식 공정 장치 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| KR (1) | KR0129796Y1 (ko) |
-
1995
- 1995-06-30 KR KR2019950016028U patent/KR0129796Y1/ko not_active IP Right Cessation
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| KR970003211U (ko) | 1997-01-24 |
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