JPH11204460A - ウエハのメッキ治具 - Google Patents

ウエハのメッキ治具

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JPH11204460A
JPH11204460A JP10018151A JP1815198A JPH11204460A JP H11204460 A JPH11204460 A JP H11204460A JP 10018151 A JP10018151 A JP 10018151A JP 1815198 A JP1815198 A JP 1815198A JP H11204460 A JPH11204460 A JP H11204460A
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wafer
plating
jig
energizing
pin
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Junichiro Yoshioka
潤一郎 吉岡
Masaya Tomioka
賢哉 富岡
Satoshi Sendai
敏 千代
Atsushi Chono
篤 丁野
Naomitsu Ozawa
直光 小沢
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Ebara Corp
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    • H01L21/68Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for positioning, orientation or alignment
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 簡単な構造で個々の通電ピンをメッキ液から
完全シールできるウエハのメッキ治具を提供することを
目的とする。 【解決手段】 治具本体11に複数の通電ピンと複数の
把持機構13を設け、各通電ピンの周囲を囲むようにシ
ールパッキン20を設け、把持機構13でウエハを把持
した時、通電ピンの先端が該ウエハの導電膜上に接触す
ると共に、各通電ピンがシールパッキン20でシールさ
れるように構成した。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明はウエハにメッキを施
す際、該ウエハを装着するメッキ治具に関するものであ
る。
【0002】
【従来の技術】図5はウエハメッキ装置の概略構成を示
す図である。ウエハメッキ装置はメッキ液槽1を具備
し、該メッキ液槽1内のメッキ液Qの中にウエハ3を装
着したメッキ治具2とアノード4とを対向して配置し、
該アノード4とメッキ治具2の間にメッキ電源5から直
流電流を通電することにより、ウエハ表面にメッキ膜を
形成する。なお、7はメッキ液循環ポンプで該メッキ液
循環ポンプ7でメッキ液槽1からオーバーフローし外槽
6に流入したメッキ液をメッキ液槽1の下部から供給す
ることにより、メッキ液を循環させる。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】上記構成のウエハメッ
キ装置において、メッキ治具2には該メッキ治具2に装
着されたウエハ3の表面に形成された導電膜に接触する
複数の通電ピンが設けられており、該通電ピンを通して
アノード4からの電流をウエハ3の導電膜に通電するこ
とによって、ウエハ3の表面にメッキを施す。このよう
にウエハ3にメッキをする際、通電ピンを通して電流を
流すのであるが、通電ピンの先端にメッキが析出するた
め、時々この通電ピンの先端に析出したメッキを除去す
る必要がある。
【0004】また、通電ピンの先端にメッキが析出しな
いようにするためには、メッキ液Qから通電ピンをシー
ルする方法があるが、従来簡単な構造で個々の通電ピン
をメッキ液Qから完全にシールするシール構造はなかっ
た。
【0005】本発明は上述の点に鑑みてなされたもの
で、簡単な構造で個々の通電ピンをメッキ液からシール
できるウエハのメッキ治具を提供することを目的とす
る。
【0006】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
請求項1に記載の発明は、治具本体に複数の通電ピンと
複数の把持機構を設け、各通電ピンの周囲を囲むように
シールパッキンを設け、把持機構でウエハを把持した
時、通電ピンの先端が該ウエハの導電膜上に接触すると
共に、各通電ピンがシールパッキンでシールされるよう
に構成したことを特徴とするウエハのメッキ治具にあ
る。
【0007】また、請求項2に記載の発明は、請求項1
に記載のウエハのメッキ治具において、シールパッキン
は通電ピンにモールドされて形成され、且つ先端がラッ
パ状で通電ピンの先端より所定寸法突出していることを
特徴とする。
【0008】また、請求項3に記載の発明は、請求項1
又は2に記載のウエハのメッキ治具において、把持機構
はヒンジピンを中心にコイルバネで回動自在に支持され
たホルダーを具備し、該ヒンジピンとコイルバネの間に
樹脂製の筒が挿入された構成であり、複数の把持機構の
ホルダーと複数の通電ピンの間でウエハを挟持するよう
構成したことを特徴とする。
【0009】また、請求項4に記載の発明は、請求項1
又は2又は3に記載のウエハのメッキ治具において、複
数の把持機構を同時に開閉することにより、該把持機構
の開閉によりウエハが自動的に位置決めされるように構
成されていることを特徴とする。
【0010】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態例を図
面に基づいて説明する。図1はウエハのメッキ治具の構
成を示す図で、図1(a)は平面図、図1(b)は同図
(a)のA−A断面図である。図示するように、本メッ
キ治具10は板状の治具本体11の中央位置に円形状の
開口部12が設けられ、該開口部12の周囲に複数(図
では8個)のウエハを把持する把持機構13が取付けら
れた構造である。
【0011】図2は把持機構13の構成を示す図で、図
2(a)は平面図、図2(b)は側面図、図2(c)は
背面図、図2(d)はA−A断面矢視図である。把持機
構13は台座14、ヒンジピン15、ホルダー16、コ
イルバネ17を具備し、ホルダー16はヒンジピン15
により台座14の両端立設部14a、14aに回転自在
に支持され、且つコイルバネ17で先端部16aが台座
14の方向に付勢されている(図2(b)の矢印B参
照)。また、台座14はビス18、18で治具本体11
に固定されている。
【0012】また、コイルバネ17とヒンジピン15の
間には図2(d)に示すように、樹脂製の筒19が介在
している。このように、コイルバネ17とヒンジピン1
5の間に樹脂製の筒19を介在させることにより、コイ
ルバネ17はヒンジピン15の周囲に該樹脂製の筒19
を介して位置が保持されることになるから、コイルバネ
17の弾発力による回転力の安定性が良くなる。
【0013】また、台座14のホルダー16の先端部1
6aが対向する位置には図3に示すような、シールパッ
キン20で覆われた通電ピン21が設けられている。該
シールパッキン20は例えばシリコンゴムやフッ素ゴム
からなり、通電ピン21の拡径部21aの周囲にモール
ドして形成されている。そして該シールパッキン20の
先端がラッパ状で、且つ通電ピン21の先端より所定寸
法tだけ突出している。なお、図3(a)は平面図、図
3(b)はC−C断面図である。
【0014】把持機構13のホルダー16の後端部16
bを押すと、ホルダー16はコイルバネ17の弾発力に
抗してヒンジピン15を中心に回動して開き、離すとコ
イルバネ17の弾発力によりヒンジピン15に反対方向
に回動して閉じる。ウエハWは通電ピン21の先端とホ
ルダー16の先端部16aの間に挟持されるようになっ
ており(図2(b)参照)、これによリ通電ピン21の
先端はウエハW上に形成された導電膜に接触すると共
に、シールパッキン20は円筒状でその先端がウエハW
の面に当接する。これにより、通電ピン21はシールパ
ッキン20でメッキ液から完全にシールされることにな
る。特に、シールパッキン20の先端がラッパ状に形成
されているため、シールパッキン20の先端はウエハW
の面に密接し、そのシール作用を発揮する。
【0015】上記構成のウエハのメッキ治具において、
図4(a)に示すように、複数の把持機構13のホルダ
ー16の後端部16bを同時に押す、矩形状の把持機構
開閉治具22を用い、複数のホルダー16の後端部16
bを下方から上方に押し上げ、それと同時に図4(b)
に示すように、所定の治具23でウエハWを複数の通電
ピン21の先端に押し当て、この状態で治具22を下降
させると、ウエハWは自動的に位置決めされる。即ち、
ホルダー16のウエハWの端部に対向する面はヒンジピ
ン15を中心に回転することにより、ウエハWを開口部
12の中心方向に押し付けるような形状となっているの
で、複数のホルダー16を同時に閉じる方向に回転させ
ることにより、ウエハWは自動的に位置決めされる。そ
してホルダー16の先端部16aと通電ピン21の先端
の間にウエハを挟持する。なお、図4(a)は図1
(a)のB−B断面である。
【0016】この時、上記のようにシールパッキン20
は通電ピン21の周囲を囲むようにモールド成形された
円筒状で、しかもその先端がラッパ状に形成されている
から、ウエハWの面に当接した際、そのシール面積が小
さく、押圧力が小さくてもシール面圧が高くなるので、
通電ピン21のそれぞれは完全にシールされる。また、
シールパッキン20が通電ピン21の周囲にモールドし
て形成されたものであるから、通電ピン21の先端とシ
ールパッキン20の先端との位置関係が一定(図3
(b)の寸法tが一定)であり、安定したシールが実現
できる。
【0017】なお、上記メッキ治具10は板状の治具本
体11に円形状の開口部12を設けた構成としたが、該
開口部12は円形に限定されるものではなく、ウエハの
形状に合わせて例えば図6(a)、(b)に示すように
矩形状とし、周囲に複数の把持機構13を配置する構成
としてもよい。
【0018】また、メッキ治具10には通電ピン21を
通してウエハWに通電するための各種電子部品が、例え
ば図1のDの部分に実装されるが、その説明は本発明に
直接関係がないので省略する。
【0019】
【発明の効果】以上、説明したように各請求項に記載の
発明によれば、下記のような優れた効果が得られる。 (1)請求項1に記載の発明によれば、各通電ピンの周
囲を囲むようにシールパッキンを設け、把持機構でウエ
ハを把持した時、各通電ピンがシールパッキンでシール
されるように構成したので、シール面が小さく、押付け
圧力が小さくともシール面圧が高くなるから、シール性
能がよくなる。
【0020】(2)請求項2に記載の発明によれば、シ
ールパッキンは通電ピンにモールドされて形成され、且
つ先端がラッパ状で通電ピンの先端より所定寸法突出し
ているので、通電ピン先端とシールパッキンの先端の位
置関係が一定であり、シールの安定性がよい。
【0021】(3)請求項3に記載の発明によれば、ヒ
ンジピンとコイルバネの間に樹脂製の筒が挿入された構
成であるので、コイルバネはヒンジピンと該樹脂製の筒
を介して位置が保持されることになり、ホルダーを回転
させる力の安定性が良くなる。
【0022】(4)請求項4に記載の発明によれば、把
持機構の開閉によりウエハが自動的に位置決めされるよ
うに構成しているので、複数の把持機構が同時に開閉す
ることにより、ウエハとメッキ治具の装着部の位置あわ
せが容易となる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明のウエハのメッキ治具の構成を示す図
で、図1(a)は平面図、図1(b)は図1(a)のA
−A断面図である。
【図2】本発明のウエハのメッキ治具の把持機構の構成
を示す図で、図2(a)は平面図、図2(b)は側面
図、図2(c)は背面図、図2(d)はA−A断面矢視
図である。
【図3】本発明のウエハのメッキ治具の通電ピン及びシ
ールパッキンの構成を示す図で、図3(a)は平面図、
図3(b)はC−C断面図である。
【図4】図4(a)及び(b)は本発明のメッキ治具に
ウエハの装着手順を説明する図である。
【図5】ウエハメッキ装置の概略構成を示す図である。
【図6】本発明のウエハのメッキ治具の構成を示す図
で、図6(a)は平面図、図6(b)は側面図である。
【符号の説明】
10 メッキ治具 11 治具本体 12 開口部 13 把持機構 14 台座 15 ヒンジピン 16 ホルダー 17 コイルバネ 18 ビス 19 筒 20 シールパッキン 21 通電ピン 22 把持機構開閉治具 23 治具
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 丁野 篤 東京都大田区羽田旭町11番1号 株式会社 荏原製作所内 (72)発明者 小沢 直光 神奈川県高座郡寒川町一之宮7−4 E 304

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 治具本体に複数の通電ピンと複数の把持
    機構を設け、各通電ピンの周囲を囲むようにシールパッ
    キンを設け、前記把持機構でウエハを把持した時、前記
    通電ピンの先端が該ウエハの導電膜上に接触すると共
    に、各通電ピンが前記シールパッキンでシールされるよ
    うに構成したことを特徴とするウエハのメッキ治具。
  2. 【請求項2】 請求項1に記載のウエハのメッキ治具に
    おいて、 前記シールパッキンは前記通電ピンにモールドされて形
    成され、且つ先端がラッパ状で前記通電ピンの先端より
    所定寸法突出していることを特徴とするウエハのメッキ
    治具。
  3. 【請求項3】 請求項1又は2に記載のウエハのメッキ
    治具において、 前記把持機構はヒンジピンを中心にコイルバネで回動自
    在に支持されたホルダーを具備し、該ヒンジピンとコイ
    ルバネの間に樹脂製の筒が挿入された構成であり、前記
    複数の把持機構のホルダーと前記複数の通電ピンの間で
    前記ウエハを挟持するよう構成したことを特徴とするウ
    エハのメッキ治具。
  4. 【請求項4】 請求項1又は2又は3に記載のウエハの
    メッキ治具において、 前記複数の把持機構を同時に開閉することにより、該把
    持機構の開閉によりウエハが自動的に位置決めされるよ
    うに構成されていることを特徴とするウエハのメッキ治
    具。
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KR1020007007645A KR100586473B1 (ko) 1998-01-12 1999-01-12 웨이퍼의 도금지그
US09/600,028 US6365020B1 (en) 1998-01-12 1999-01-12 Wafer plating jig
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WO (1) WO1999035309A1 (ja)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20010107766A (ko) * 2000-05-26 2001-12-07 마에다 시게루 기판처리장치 및 기판도금장치
JP2015151577A (ja) * 2014-02-14 2015-08-24 株式会社Jcu 基板めっき治具
JP2018009215A (ja) * 2016-07-13 2018-01-18 株式会社荏原製作所 基板ホルダ及びこれを用いためっき装置

Families Citing this family (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6248222B1 (en) * 1998-09-08 2001-06-19 Acm Research, Inc. Methods and apparatus for holding and positioning semiconductor workpieces during electropolishing and/or electroplating of the workpieces
US20040007460A1 (en) * 2002-07-15 2004-01-15 Karl Sagedahl Clamping device having barbed pin
US20050145486A1 (en) * 2004-01-07 2005-07-07 Chung-Ho Chen Clipping device of an electroplating base plate
US20050274604A1 (en) * 2004-02-06 2005-12-15 Koji Saito Plating apparatus
US7507319B2 (en) * 2006-07-21 2009-03-24 Ebara Corporation Anode holder
US9464362B2 (en) 2012-07-18 2016-10-11 Deca Technologies Inc. Magnetically sealed wafer plating jig system and method
US8932443B2 (en) 2011-06-07 2015-01-13 Deca Technologies Inc. Adjustable wafer plating shield and method
KR101647074B1 (ko) 2016-06-07 2016-08-09 정진호 사면 연동 로테이션에 기반을 둔 도금 지그 거치용 틸팅 승강 유도체

Family Cites Families (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2739117A (en) * 1952-06-18 1956-03-20 Gen Motors Corp Electroplating fixture
US3461059A (en) * 1966-10-10 1969-08-12 Hammond Machinery Builders Inc Power operated electro-chemical fixture
DE3028635A1 (de) * 1980-07-29 1982-03-04 Degussa Ag, 6000 Frankfurt Vorrichtung zum partiellen galvanischen beschichten
JPS61187379A (ja) 1985-02-15 1986-08-21 Sanyo Electric Co Ltd 光起電力装置の製造方法
JPS61187379U (ja) * 1985-05-13 1986-11-21
JPH0686676B2 (ja) 1985-10-18 1994-11-02 旭化成工業株式会社 メツキ用電極部
JPS62188798A (ja) 1986-02-14 1987-08-18 Fujitsu Ltd メツキ用コンタクトピン
FR2633452B1 (fr) * 1988-06-28 1990-11-02 Doue Julien Dispositif de support pour un substrat mince, notamment en un materiau semiconducteur
US5135636A (en) * 1990-10-12 1992-08-04 Microelectronics And Computer Technology Corporation Electroplating method
JPH05222587A (ja) 1992-02-06 1993-08-31 Ibiden Co Ltd 電着塗装用クランプ
JPH0813198A (ja) 1994-07-04 1996-01-16 Hitachi Ltd 接触導通用電極及びそれを用いた半導体製造装置
US6228231B1 (en) * 1997-05-29 2001-05-08 International Business Machines Corporation Electroplating workpiece fixture having liquid gap spacer
CH693133A5 (de) * 1997-08-21 2003-03-14 Mecatool Ag Kupplungsanordnung für eine Bearbeitungseinrichtung.

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20010107766A (ko) * 2000-05-26 2001-12-07 마에다 시게루 기판처리장치 및 기판도금장치
JP2015151577A (ja) * 2014-02-14 2015-08-24 株式会社Jcu 基板めっき治具
JP2018009215A (ja) * 2016-07-13 2018-01-18 株式会社荏原製作所 基板ホルダ及びこれを用いためっき装置

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