JPH11199539A - 脂環式ジケトン化合物の製造方法 - Google Patents
脂環式ジケトン化合物の製造方法Info
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- JPH11199539A JPH11199539A JP1502698A JP1502698A JPH11199539A JP H11199539 A JPH11199539 A JP H11199539A JP 1502698 A JP1502698 A JP 1502698A JP 1502698 A JP1502698 A JP 1502698A JP H11199539 A JPH11199539 A JP H11199539A
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- JP
- Japan
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- compound
- alicyclic
- hydroxycyclohexyl
- copper
- bis
- Prior art date
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- Withdrawn
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C45/00—Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds
- C07C45/002—Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds by dehydrogenation
Abstract
(57)【要約】
【目的】 脂環式ジケトン化合物を安価で且つ高収率、
高純度で、より工業的に製造するための新規有用な方法
を提供する。 【構成】 脂環式ジオ−ル化合物を銅系触媒の存在下、
液相で脱水素化反応するに際し、該反応を溶媒の存在
下、減圧下で行うことにより脂環式ジケトン化合物を製
造する。
高純度で、より工業的に製造するための新規有用な方法
を提供する。 【構成】 脂環式ジオ−ル化合物を銅系触媒の存在下、
液相で脱水素化反応するに際し、該反応を溶媒の存在
下、減圧下で行うことにより脂環式ジケトン化合物を製
造する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、脂環式ジケトン化
合物の製造方法に関する。本発明によって得られる脂環
式ジケトン化合物は、医薬品原料、工業薬品原料、ポリ
マ−原料、重合開始剤原料、酸化防止剤、耐熱向上剤な
どの中間体として有用な化合物である。
合物の製造方法に関する。本発明によって得られる脂環
式ジケトン化合物は、医薬品原料、工業薬品原料、ポリ
マ−原料、重合開始剤原料、酸化防止剤、耐熱向上剤な
どの中間体として有用な化合物である。
【０００２】
【従来の技術】脂環式ジケトン化合物を製造する方法と
しては、脂環式ジオ−ルを試薬酸化する方法が知られて
おり、具体的には２，２−ビス（４’−ヒドロキシシク
ロヘキシル）プロパン（以下「水素化ビスフェノ−ル
Ａ」と略記する。）をクロム酸で酸化したり（Bull.Che
m.Soc.Japan,39(10),2194(1966)）、次亜塩素酸で酸化
する方法（特開平４−５９７４２号）が例示される。し
かしながら、これらの方法では、高価な原材料を使用
し、しかも多量の廃棄物が副生するため、工業的製造方
法としては問題がある。
しては、脂環式ジオ−ルを試薬酸化する方法が知られて
おり、具体的には２，２−ビス（４’−ヒドロキシシク
ロヘキシル）プロパン（以下「水素化ビスフェノ−ル
Ａ」と略記する。）をクロム酸で酸化したり（Bull.Che
m.Soc.Japan,39(10),2194(1966)）、次亜塩素酸で酸化
する方法（特開平４−５９７４２号）が例示される。し
かしながら、これらの方法では、高価な原材料を使用
し、しかも多量の廃棄物が副生するため、工業的製造方
法としては問題がある。
【０００３】米国特許２０８８４２５号には、銅クロム
触媒の存在下、無溶媒で水素化ビスフェノ−ルＡを脱水
素する方法が記載されている。しかしながら、この方法
に基づいて得られたジケトンは、更に分子間縮合を生起
して樹脂化し易い。従って、該方法では、立体障害によ
り分子間縮合を生起しにくい分子構造を有する原料、例
えば、２，２−ビス（３’−メチル−４’−ヒドロキシ
シクロヘキシル）プロパンを原料とし、溶媒を用いずに
常圧下で脱水素化した場合には、目的とするジケトンが
得られているが、その収率は６０％と低い。
触媒の存在下、無溶媒で水素化ビスフェノ−ルＡを脱水
素する方法が記載されている。しかしながら、この方法
に基づいて得られたジケトンは、更に分子間縮合を生起
して樹脂化し易い。従って、該方法では、立体障害によ
り分子間縮合を生起しにくい分子構造を有する原料、例
えば、２，２−ビス（３’−メチル−４’−ヒドロキシ
シクロヘキシル）プロパンを原料とし、溶媒を用いずに
常圧下で脱水素化した場合には、目的とするジケトンが
得られているが、その収率は６０％と低い。
【０００４】又、芳香族エーテルであるジフェニルエー
テルを溶媒として、４，４’−ジヒドロキシジシクロヘ
キシルを銅−クロム触媒の存在下、脱水素反応する方法
が知られている（米国特許２４９６９６０号、ＪＡＣ
Ｓ，70，283（1948））しかし、この場合、目的とする
４，４’−ジオキソジシクロヘキシルの収率は１６．５
％と極めて低い。尚、該反応における圧力条件について
は記載されていない。
テルを溶媒として、４，４’−ジヒドロキシジシクロヘ
キシルを銅−クロム触媒の存在下、脱水素反応する方法
が知られている（米国特許２４９６９６０号、ＪＡＣ
Ｓ，70，283（1948））しかし、この場合、目的とする
４，４’−ジオキソジシクロヘキシルの収率は１６．５
％と極めて低い。尚、該反応における圧力条件について
は記載されていない。
【０００５】本発明者らは、先に脂環式ジオ−ル化合物
を銅系触媒及び／又はラネ−系触媒の存在下、液相にて
脱水素化する方法を提案した。特に原料や生成物の融点
が高い水素化ビスフェノ−ルＡ及び４，４’−ジヒドロ
キシジシクロヘキシルの場合には、溶媒を使用すること
を推奨し、実用的な反応速度を得るために脱水素反応を
基本的に加圧系で行うことを提案した（特開平８−５３
３８６号）。
を銅系触媒及び／又はラネ−系触媒の存在下、液相にて
脱水素化する方法を提案した。特に原料や生成物の融点
が高い水素化ビスフェノ−ルＡ及び４，４’−ジヒドロ
キシジシクロヘキシルの場合には、溶媒を使用すること
を推奨し、実用的な反応速度を得るために脱水素反応を
基本的に加圧系で行うことを提案した（特開平８−５３
３８６号）。
【０００６】更に検討を進める中で、加圧系での脱水素
反応は、脂環式ジケトン化合物の優れた製造方法ではあ
るが、反応器のみならず、コンデンサ等の付帯設備につ
いても加圧対応が必要であり、用いる溶媒の種類によっ
ては高圧ガスへの対応装置を必要とするため、スケール
メリットを求める工業的製造方法としては、尚、改善の
余地が認められた。
反応は、脂環式ジケトン化合物の優れた製造方法ではあ
るが、反応器のみならず、コンデンサ等の付帯設備につ
いても加圧対応が必要であり、用いる溶媒の種類によっ
ては高圧ガスへの対応装置を必要とするため、スケール
メリットを求める工業的製造方法としては、尚、改善の
余地が認められた。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、脂環式ジケ
トン化合物を安価で且つ高収率、高純度で、より工業的
に製造するための新規有用な方法を提供することを目的
とする。
トン化合物を安価で且つ高収率、高純度で、より工業的
に製造するための新規有用な方法を提供することを目的
とする。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記課題
を解決すべく鋭意検討した結果、脂環式ジオ−ル化合物
を銅−クロム触媒の存在下、液相にて脱水素反応するに
際し、該反応を溶媒の存在下、減圧条件下で行うことに
より、所定の目的を達成し得ることを見いだし、かかる
知見に基づいて本発明を完成するに至った。
を解決すべく鋭意検討した結果、脂環式ジオ−ル化合物
を銅−クロム触媒の存在下、液相にて脱水素反応するに
際し、該反応を溶媒の存在下、減圧条件下で行うことに
より、所定の目的を達成し得ることを見いだし、かかる
知見に基づいて本発明を完成するに至った。
【０００９】即ち、本発明に係る脂環式ジケトン化合物
の製造方法は、一般式（１）
の製造方法は、一般式（１）
【化３】 ［式中、Ｘは炭素−炭素単結合、−ＣＨ2−、−Ｃ（Ｃ
Ｈ3）2−又は−Ｏ−を表す。Ｒ1、Ｒ2は同一又は異なっ
て、水素又は炭素数１〜６のアルキル基を表す。ａ、ｂ
は夫々０〜２の整数を表す。］で表される脂環式ジオ−
ル化合物を銅系触媒の存在下、液相で脱水素化反応して
一般式（２）
Ｈ3）2−又は−Ｏ−を表す。Ｒ1、Ｒ2は同一又は異なっ
て、水素又は炭素数１〜６のアルキル基を表す。ａ、ｂ
は夫々０〜２の整数を表す。］で表される脂環式ジオ−
ル化合物を銅系触媒の存在下、液相で脱水素化反応して
一般式（２）
【化４】 ［式中、Ｘ、Ｒ1、Ｒ2、ａ及びｂは一般式（１）と同義
である。］で表される脂環式ジケトン化合物を製造する
に際し、該反応を溶媒の存在下、減圧下で行うことを特
徴とする。
である。］で表される脂環式ジケトン化合物を製造する
に際し、該反応を溶媒の存在下、減圧下で行うことを特
徴とする。
【００１０】
【発明の実施の形態】一般式（１）で表される脂環式ジ
オ−ルとして、具体的には、ビス（４−ヒドロキシシク
ロヘキシル）、ビス（２−メチル−４−ヒドロキシシク
ロヘキシル）、ビス（２−ヒドロキシシクロヘキシ
ル）、ビス（４−ヒドロキシシクロヘキシル）メタン、
ビス（２’−エチル−４’−ヒドロキシシクロヘキシ
ル）メタン、ビス（２−ヒドロキシシクロヘキシル）メ
タン、２−ヒドロキシシクロヘキシル−４−ヒドロキシ
シクロヘキシルメタン、水素化ビスフェノールＡ、２，
２−ビス（２’−メチル−４’−ヒドロキシシクロヘキ
シル）プロパン、２，２−ビス（２’−ヒドロキシシク
ロヘキシル）プロパン、２−（２’−ヒドロキシシクロ
ヘキシル）−２−（４’−ヒドロキシシクロヘキシル）
プロパン、ビス（４−ヒドロキシシクロヘキシル）エ−
テル、ビス（２−ヒドロキシシクロヘキシル）エ−テル
などが例示され、特にビス（４−ヒドロキシシクロヘキ
シル）、ビス（４−ヒドロキシシクロヘキシル）メタ
ン、水素化ビスフェノールＡなどが効果的な原料として
推奨される。
オ−ルとして、具体的には、ビス（４−ヒドロキシシク
ロヘキシル）、ビス（２−メチル−４−ヒドロキシシク
ロヘキシル）、ビス（２−ヒドロキシシクロヘキシ
ル）、ビス（４−ヒドロキシシクロヘキシル）メタン、
ビス（２’−エチル−４’−ヒドロキシシクロヘキシ
ル）メタン、ビス（２−ヒドロキシシクロヘキシル）メ
タン、２−ヒドロキシシクロヘキシル−４−ヒドロキシ
シクロヘキシルメタン、水素化ビスフェノールＡ、２，
２−ビス（２’−メチル−４’−ヒドロキシシクロヘキ
シル）プロパン、２，２−ビス（２’−ヒドロキシシク
ロヘキシル）プロパン、２−（２’−ヒドロキシシクロ
ヘキシル）−２−（４’−ヒドロキシシクロヘキシル）
プロパン、ビス（４−ヒドロキシシクロヘキシル）エ−
テル、ビス（２−ヒドロキシシクロヘキシル）エ−テル
などが例示され、特にビス（４−ヒドロキシシクロヘキ
シル）、ビス（４−ヒドロキシシクロヘキシル）メタ
ン、水素化ビスフェノールＡなどが効果的な原料として
推奨される。
【００１１】銅系触媒としては、銅、銅−亜鉛、銅−ク
ロム、亜鉛−銅−クロム及びこれらの酸化物から選ばれ
た１種又は２種以上の触媒、並びにこれら銅系触媒にモ
リブデン、タングステン、マグネシウム、バリウム、ア
ルミニウム、カルシウム、ジルコニウム、コバルト、マ
ンガン、ニッケル及びこれらの酸化物などを添加した変
性触媒が例示される。
ロム、亜鉛−銅−クロム及びこれらの酸化物から選ばれ
た１種又は２種以上の触媒、並びにこれら銅系触媒にモ
リブデン、タングステン、マグネシウム、バリウム、ア
ルミニウム、カルシウム、ジルコニウム、コバルト、マ
ンガン、ニッケル及びこれらの酸化物などを添加した変
性触媒が例示される。
【００１２】より具体的には、銅酸化物、亜鉛−クロム
−銅酸化物、亜鉛−クロム−銅−マグネシウム酸化物、
亜鉛−クロム−銅−バリウム酸化物、亜鉛−銅酸化物、
亜鉛−銅−マグネシウム酸化物、亜鉛−銅−アルミニウ
ム酸化物、銅−クロム酸化物、銅−クロム−マグネシウ
ム酸化物、銅−クロム−バリウム酸化物、銅−クロム−
マンガン酸化物、銅−クロム−バリウム−マンガン酸化
物などが例示される。
−銅酸化物、亜鉛−クロム−銅−マグネシウム酸化物、
亜鉛−クロム−銅−バリウム酸化物、亜鉛−銅酸化物、
亜鉛−銅−マグネシウム酸化物、亜鉛−銅−アルミニウ
ム酸化物、銅−クロム酸化物、銅−クロム−マグネシウ
ム酸化物、銅−クロム−バリウム酸化物、銅−クロム−
マンガン酸化物、銅−クロム−バリウム−マンガン酸化
物などが例示される。
【００１３】更に、上記金属及び金属酸化物以外に、シ
リカ、アルミナ、ケイソウ土、白土、カ−ボン、グラフ
ァイトなどの担体に担持した銅系触媒も使用できる。
リカ、アルミナ、ケイソウ土、白土、カ−ボン、グラフ
ァイトなどの担体に担持した銅系触媒も使用できる。
【００１４】これら銅系触媒は、そのまま用いることも
できるが、使用する前に還元処理（還元剤としては、水
素、水素化ホウ素ナトリウム、水素化アルミニウムリチ
ウム、水素化アルミニウムナトリウムなどが例示され
る。）などの適当な活性化処理を施した後に反応に供す
ることもできる。
できるが、使用する前に還元処理（還元剤としては、水
素、水素化ホウ素ナトリウム、水素化アルミニウムリチ
ウム、水素化アルミニウムナトリウムなどが例示され
る。）などの適当な活性化処理を施した後に反応に供す
ることもできる。
【００１５】触媒の使用量としては、原料の脂環式ジオ
−ルに対して０．１〜２０重量％、好ましくは０．５〜
１０重量％が推奨される。０．１重量％未満では実用的
な反応速度が得られにくく、２０重量％を越えて適用し
ても顕著な効果の向上は認められない。
−ルに対して０．１〜２０重量％、好ましくは０．５〜
１０重量％が推奨される。０．１重量％未満では実用的
な反応速度が得られにくく、２０重量％を越えて適用し
ても顕著な効果の向上は認められない。
【００１６】脱水素反応の反応温度としては、１６０〜
３００℃が推奨され、特に１８０〜２６０℃が好まし
い。１６０℃未満では実用的な反応速度が得られにく
く、３００℃を越える温度では副反応が顕著となり好ま
しくない。
３００℃が推奨され、特に１８０〜２６０℃が好まし
い。１６０℃未満では実用的な反応速度が得られにく
く、３００℃を越える温度では副反応が顕著となり好ま
しくない。
【００１７】本発明に係る溶媒としては、エーテル類、
脂肪族炭化水素類及び芳香族炭化水素類よりなる群から
選ばれる１種又は２種以上の化合物であって、常圧下に
おける沸点が１６０℃以上であり、且つ該脱水素化反応
で適用される減圧条件下での沸点が１６０〜３００℃で
あり、且つ該脱水素化反応に不活性である化合物が推奨
される。
脂肪族炭化水素類及び芳香族炭化水素類よりなる群から
選ばれる１種又は２種以上の化合物であって、常圧下に
おける沸点が１６０℃以上であり、且つ該脱水素化反応
で適用される減圧条件下での沸点が１６０〜３００℃で
あり、且つ該脱水素化反応に不活性である化合物が推奨
される。
【００１８】本発明に係るエーテル類としては、一般式
（３）
（３）
【化５】 ［式中、Ｒ3、Ｒ4は同一又は異なって、炭素数１〜１０
のアルキル基を表す。ｃは０又は１を表す。ｄは１〜３
の整数を表す。尚、ｃが０で、且つｄが１の場合、Ｒ3
とＲ4の炭素数の合計値は８〜２０である。］で表され
るオキシエチレン基を含む化合物やジフェニルエーテル
が例示されるが、特に一般式（４） Ｒ5−Ｏ−（ＣＨ2ＣＨ2Ｏ）e−Ｒ6 （４） ［式中、Ｒ5、Ｒ6は同一又は異なって、炭素数１〜８の
アルキル基を表す。ｅは１〜３の整数を表す。尚、ｅが
１の場合、Ｒ5とＲ6の炭素数の合計値は８〜１６であ
る。］で表される脂肪族エーテル類が推奨される。
のアルキル基を表す。ｃは０又は１を表す。ｄは１〜３
の整数を表す。尚、ｃが０で、且つｄが１の場合、Ｒ3
とＲ4の炭素数の合計値は８〜２０である。］で表され
るオキシエチレン基を含む化合物やジフェニルエーテル
が例示されるが、特に一般式（４） Ｒ5−Ｏ−（ＣＨ2ＣＨ2Ｏ）e−Ｒ6 （４） ［式中、Ｒ5、Ｒ6は同一又は異なって、炭素数１〜８の
アルキル基を表す。ｅは１〜３の整数を表す。尚、ｅが
１の場合、Ｒ5とＲ6の炭素数の合計値は８〜１６であ
る。］で表される脂肪族エーテル類が推奨される。
【００１９】脂肪族エーテル類の具体例としては、エチ
レングリコ−ルジブチルエ−テル、エチレングリコ−ル
ジオクチルエ−テル、エチレングリコ−ルジ（２−エチ
ルヘキシル）エ−テル、エチレングリコ−ルブチルオク
チルエ−テル、エチレングリコ−ルブチル（２−エチル
ヘキシル）エ−テル、ジエチレングリコ−ルジメチルエ
−テル、ジエチレングリコ−ルジエチルエ−テル、ジエ
チレングリコ−ルジプロピルエ−テル、ジエチレングリ
コ−ルジブチルエ−テル、ジエチレングリコ−ルジオク
チルエ−テル、ジエチレングリコ−ルジ（２−エチルヘ
キシル）エ−テル、トリエチレングリコ−ルジメチルエ
−テル、トリエチレングリコ−ルジエチルエ−テル、ト
リエチレングリコ−ルジブチルエ−テル、トリエチレン
グリコ−ルジオクチルエ−テル、トリエチレングリコ−
ルジ（２−エチルヘキシル）エ−テルが挙げられる。
レングリコ−ルジブチルエ−テル、エチレングリコ−ル
ジオクチルエ−テル、エチレングリコ−ルジ（２−エチ
ルヘキシル）エ−テル、エチレングリコ−ルブチルオク
チルエ−テル、エチレングリコ−ルブチル（２−エチル
ヘキシル）エ−テル、ジエチレングリコ−ルジメチルエ
−テル、ジエチレングリコ−ルジエチルエ−テル、ジエ
チレングリコ−ルジプロピルエ−テル、ジエチレングリ
コ−ルジブチルエ−テル、ジエチレングリコ−ルジオク
チルエ−テル、ジエチレングリコ−ルジ（２−エチルヘ
キシル）エ−テル、トリエチレングリコ−ルジメチルエ
−テル、トリエチレングリコ−ルジエチルエ−テル、ト
リエチレングリコ−ルジブチルエ−テル、トリエチレン
グリコ−ルジオクチルエ−テル、トリエチレングリコ−
ルジ（２−エチルヘキシル）エ−テルが挙げられる。
【００２０】脂肪族炭化水素類としては、例えば、炭素
数１０以上の直鎖状、分岐鎖状及び環式の炭化水素が挙
げられ、より具体的には、デカン、ウンデカン、ドデカ
ン、トリデカン、テトラデカン、ペンタデカン、ヘキサ
デカン、ヘプタデカン、オクタデカン、ノナデカン、エ
イコサン等の鎖状炭化水素、デカリン、メチルデカリ
ン、ジメチルデカリンなどの環式炭化水素が例示され
る。
数１０以上の直鎖状、分岐鎖状及び環式の炭化水素が挙
げられ、より具体的には、デカン、ウンデカン、ドデカ
ン、トリデカン、テトラデカン、ペンタデカン、ヘキサ
デカン、ヘプタデカン、オクタデカン、ノナデカン、エ
イコサン等の鎖状炭化水素、デカリン、メチルデカリ
ン、ジメチルデカリンなどの環式炭化水素が例示され
る。
【００２１】芳香族炭化水素類としては、例えば、メシ
チレン及び炭素数１０以上の芳香族炭化水素が例示さ
れ、より具体的には、テトラリンの他、ブチルベンゼ
ン、ペンチルベンゼン、ヘキシルベンゼン、ヘプチルベ
ンゼン、オクチルベンゼン、ノニルベンゼン、デシルベ
ンゼン、ウンデシルベンゼン、ドデシルベンゼン、トリ
デシルベンゼン、テトラデシルベンゼン、ペンタデシル
ベンゼン、ヘキサデシルベンゼン、ヘプタデシルベンゼ
ン、オクタデシルベンゼン、ノナデシルベンゼンなどの
直鎖状又は分岐鎖状のアルキル基を有するアルキルベン
ゼン類が例示される。尚、芳香族炭化水素類の商品名と
しては、アルケン５８Ｎ、アルケン６０ＮＨ、アルケン
Ｌ、アルケン２０Ｔ、アルケン２２、アルケン１００Ｐ
（以上、日本石油社製）が例示される。
チレン及び炭素数１０以上の芳香族炭化水素が例示さ
れ、より具体的には、テトラリンの他、ブチルベンゼ
ン、ペンチルベンゼン、ヘキシルベンゼン、ヘプチルベ
ンゼン、オクチルベンゼン、ノニルベンゼン、デシルベ
ンゼン、ウンデシルベンゼン、ドデシルベンゼン、トリ
デシルベンゼン、テトラデシルベンゼン、ペンタデシル
ベンゼン、ヘキサデシルベンゼン、ヘプタデシルベンゼ
ン、オクタデシルベンゼン、ノナデシルベンゼンなどの
直鎖状又は分岐鎖状のアルキル基を有するアルキルベン
ゼン類が例示される。尚、芳香族炭化水素類の商品名と
しては、アルケン５８Ｎ、アルケン６０ＮＨ、アルケン
Ｌ、アルケン２０Ｔ、アルケン２２、アルケン１００Ｐ
（以上、日本石油社製）が例示される。
【００２２】溶媒の使用量は、脂環式ジオ−ル化合物に
対して０．１〜１０重量倍、好ましくは０．５〜４重量
倍程度である。０．１重量倍未満では高融点原料の溶解
性に乏しく、一方、１０重量倍を越える場合には経済的
に不利となる傾向にある。
対して０．１〜１０重量倍、好ましくは０．５〜４重量
倍程度である。０．１重量倍未満では高融点原料の溶解
性に乏しく、一方、１０重量倍を越える場合には経済的
に不利となる傾向にある。
【００２３】反応の減圧度の適正範囲は、使用溶媒の種
類により適宜選択すればよい。特に好ましい減圧度とし
ては、設定した反応温度において当該溶媒が還流状態を
維持する圧力が挙げられる。
類により適宜選択すればよい。特に好ましい減圧度とし
ては、設定した反応温度において当該溶媒が還流状態を
維持する圧力が挙げられる。
【００２４】反応時間は、条件によって変動するが、通
常１．０〜２０時間程度である。
常１．０〜２０時間程度である。
【００２５】反応粗物は、必要に応じて蒸留や再結晶に
て精製し、製品化される。
て精製し、製品化される。
【００２６】
【実施例】以下に実施例を掲げて本発明を詳細に説明す
る。尚、各例において得られた生成物は、ガスクロマト
グラフィ−分析により目的物の純度を求めた。
る。尚、各例において得られた生成物は、ガスクロマト
グラフィ−分析により目的物の純度を求めた。
【００２７】実施例１ 内容量１リットルの攪拌機付きガラス製四ツ口フラスコ
に、原料として水素化ビスフェノールＡ１５０ｇ、反応
溶媒としてアルケン２０Ｔ（沸点３１０〜３２５℃、日
本石油社製）３００ｇ及び触媒として銅クロム酸化物触
媒４．５ｇを入れ、常圧、１８０〜２２０℃で１時間触
媒を活性化した後、２００〜５０mmHgの減圧下、２４０
℃で還流させながら、７時間加熱攪拌して、脱水素反応
を行った。その結果、反応率９７．４％で目的とする
２，２−ビス（４−オキソシクロヘキシル）プロパンを
純度９３．６％で得た。反応選択率は９６．１％であっ
た。
に、原料として水素化ビスフェノールＡ１５０ｇ、反応
溶媒としてアルケン２０Ｔ（沸点３１０〜３２５℃、日
本石油社製）３００ｇ及び触媒として銅クロム酸化物触
媒４．５ｇを入れ、常圧、１８０〜２２０℃で１時間触
媒を活性化した後、２００〜５０mmHgの減圧下、２４０
℃で還流させながら、７時間加熱攪拌して、脱水素反応
を行った。その結果、反応率９７．４％で目的とする
２，２−ビス（４−オキソシクロヘキシル）プロパンを
純度９３．６％で得た。反応選択率は９６．１％であっ
た。
【００２８】実施例２ 原料として、ビス（４−ヒドロキシシクロヘキシル）メ
タンを使用した以外は、実施例１と同様な操作を行った
結果、反応率９６．１％で目的とするビス（４−オキソ
シクロヘキシル）メタンを純度９０．８％で得た。反応
選択率は９４．５％であった。
タンを使用した以外は、実施例１と同様な操作を行った
結果、反応率９６．１％で目的とするビス（４−オキソ
シクロヘキシル）メタンを純度９０．８％で得た。反応
選択率は９４．５％であった。
【００２９】実施例３ 実施例１の反応器に、原料として、ビス（４−ヒドロキ
シシクロヘキシル）１００ｇ、反応溶媒として、ジエチ
レングリコールジブチルエーテル（沸点２５５℃）４０
０ｇ、触媒として銅クロム酸化物触媒５．０ｇを入れ、
４００mmHgの減圧下、２３０℃で還流させながら１８時
間加熱攪拌して、反応率９０．６％で目的とするビス
（４−オキソシクロヘキシル）メタンを純度８５．３％
で得た。反応選択率は９４．２％であった。
シシクロヘキシル）１００ｇ、反応溶媒として、ジエチ
レングリコールジブチルエーテル（沸点２５５℃）４０
０ｇ、触媒として銅クロム酸化物触媒５．０ｇを入れ、
４００mmHgの減圧下、２３０℃で還流させながら１８時
間加熱攪拌して、反応率９０．６％で目的とするビス
（４−オキソシクロヘキシル）メタンを純度８５．３％
で得た。反応選択率は９４．２％であった。
【００３０】比較例１ 常圧下で行った他は、実施例１と同様にして水素化ビス
フェノールＡを脱水素化した。その結果、反応率６５．
６％で、目的とする２，２−ビス（４−オキソシクロヘ
キシル）プロパンの純度は４４．７％であり、選択率は
６８．１％であった。
フェノールＡを脱水素化した。その結果、反応率６５．
６％で、目的とする２，２−ビス（４−オキソシクロヘ
キシル）プロパンの純度は４４．７％であり、選択率は
６８．１％であった。
【００３１】
【発明の効果】本発明に係る脱水素化条件を適用するこ
とにより、目的とする脂環式ジケトン化合物を安価で且
つ高収率、高純度で、より工業的に製造することができ
る。
とにより、目的とする脂環式ジケトン化合物を安価で且
つ高収率、高純度で、より工業的に製造することができ
る。
Claims (3)
- 【請求項１】 一般式（１） 【化１】 ［式中、Ｘは炭素−炭素単結合、−ＣＨ2−、−Ｃ（Ｃ
Ｈ3）2−又は−Ｏ−を表す。Ｒ1、Ｒ2は同一又は異なっ
て、水素又は炭素数１〜６のアルキル基を表す。ａ、ｂ
は夫々０〜２の整数を表す。］で表される脂環式ジオ−
ル化合物を銅系触媒の存在下、液相で脱水素化反応して
一般式（２） 【化２】 ［式中、Ｘ、Ｒ1、Ｒ2、ａ及びｂは一般式（１）と同義
である。］で表される脂環式ジケトン化合物を製造する
に際し、該反応を溶媒の存在下、減圧下で行うことを特
徴とする脂環式ジケトン化合物の製造方法。 - 【請求項２】 脂環式ジオール化合物が、ビス（４−ヒ
ドロキシシクロヘキシル）、ビス（４−ヒドロキシシク
ロヘキシル）メタン又は２，２−ビス（４’−ヒドロキ
シシクロヘキシル）プロパンである請求項１に記載の脂
環式ジケトン化合物の製造方法。 - 【請求項３】 溶媒が、脂肪族エ−テル類、脂肪族炭化
水素類及び芳香族炭化水素類よりなる群から選ばれる１
種又は２種以上の化合物であって、常圧下における沸点
が１６０℃以上であり、且つ該脱水素化反応で適用され
る減圧条件下での沸点が１６０〜３００℃であり、且つ
該脱水素化反応に不活性な化合物である請求項１又は２
に記載の脂環式ジケトン化合物の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1502698A JPH11199539A (ja) | 1998-01-08 | 1998-01-08 | 脂環式ジケトン化合物の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1502698A JPH11199539A (ja) | 1998-01-08 | 1998-01-08 | 脂環式ジケトン化合物の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11199539A true JPH11199539A (ja) | 1999-07-27 |
Family
ID=11877336
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1502698A Withdrawn JPH11199539A (ja) | 1998-01-08 | 1998-01-08 | 脂環式ジケトン化合物の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11199539A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN1309283C (zh) * | 2002-09-27 | 2007-04-04 | 三洋电机株式会社 | 电路装置的制造方法 |
| WO2011048783A1 (ja) * | 2009-10-23 | 2011-04-28 | 出光興産株式会社 | ケトンの製造方法 |
-
1998
- 1998-01-08 JP JP1502698A patent/JPH11199539A/ja not_active Withdrawn
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN1309283C (zh) * | 2002-09-27 | 2007-04-04 | 三洋电机株式会社 | 电路装置的制造方法 |
| WO2011048783A1 (ja) * | 2009-10-23 | 2011-04-28 | 出光興産株式会社 | ケトンの製造方法 |
| CN102596876A (zh) * | 2009-10-23 | 2012-07-18 | 出光兴产株式会社 | 酮的制造方法 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20040929 |
|
| A761 | Written withdrawal of application |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A761 Effective date: 20070313 |