JPH11186084A - 積層チップインダクタの製造方法 - Google Patents

積層チップインダクタの製造方法

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JPH11186084A
JPH11186084A JP34934197A JP34934197A JPH11186084A JP H11186084 A JPH11186084 A JP H11186084A JP 34934197 A JP34934197 A JP 34934197A JP 34934197 A JP34934197 A JP 34934197A JP H11186084 A JPH11186084 A JP H11186084A
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JP
Japan
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cutting
conductor pattern
mark
sheet laminate
chip inductor
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JP34934197A
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Kenichi Hoshi
健一 星
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Taiyo Yuden Co Ltd
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Taiyo Yuden Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 切断位置の決定を容易に行えて歩留を向上さ
せた積層チップインダクタの製造方法を提供する。 【解決手段】 単一部品に対応する寸法で格子状に切断
可能なように部品取得個数に対応する多数の導体パター
ンを形成した複数のセラミックシートを積層した後に圧
着してなるセラミックシート積層体25Aを、格子状に
切断した後に焼成して得た焼結体の外面に外部電極を形
成して積層チップインダクタとなす製造工程において、
セラミックシート積層体25Aを作成する工程では、切
断位置決めの目印となる目印導体パターン31a,31
bを最上層のセラミックシート上面に形成し、セラミッ
クシート積層体25Aの切断工程では、目印導体パター
ン31a,31bに基づいて切断線26を決定して切断
する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、積層チップインダ
クタの製造方法に関し、特にセラミックシート積層体の
切断位置決定を容易にした積層チップインダクタの製造
方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】従来、積層チップインダクタは、絶縁体
材料やフェライト磁性体材料中に銀若しくは銀−パラジ
ウム合金等からなる内部導体をコイル状に形成し、その
両端を外部端子電極に接続した構造となっている。
【0003】この積層チップインダクタにおける内部導
体の積層方向とチップ外形との関係の一つは、図2に示
すように、積層チップインダクタ1の厚み方向Lt (若
しくは幅方向Lw )に内部導体2を積層したタイプで、
一般的な積層チップインダクタはこの構造をなしてい
る。ここで、コイル状の内部導体2の両端は外部端子電
極3a,3bに接続されている。
【0004】しかし、近年においては従来にも増してよ
り小型化、高性能化が要求され、図3に示すように、チ
ップの長手方向Ll に内部導体4を積層し、内部導体4
の両端をチップ長手方向両端部に形成された外部端子電
極5a,5bに接続した構造の積層チップインダクタ6
が開発され、一般に用いられるようになった。
【0005】この構造は、一般的に縦積層型と称されて
おり、比較的高いインダクタンス値が得られることや、
自己共振周波数を高くすることができるなどの特徴を有
している。
【0006】縦積層型の積層チップインダクタの積層構
造は、例えば図4に示すような構造となっている。即
ち、L字形状の内部導体パターン4a,4bを形成した
磁性体シート7a,7bを複数積層し、ビアホール8
a,8bによって内部導体パターン4a,4bをスパイ
ラル状に接続してコイルが形成されている。さらに、内
部導体パターン4a,4bによって形成されたコイルの
両端には、複数積層された磁性体シート7c,7dのそ
れぞれに形成されたビアホール8c,8dが接続されて
いる。
【0007】これにより、両端の磁性体シート7c,7
dの表面には、複数のビアホール8c,8dが連結され
てなる導体引き出し部がビアホール8c,8dの形状で
露出し、この露出したビアホール8c,8dが外部端子
電極5a,5bに接続される。
【0008】このような構造の積層チップインダクタ
は、次のようにして製造される。図5に示すように、ま
ず低温焼成絶縁磁性材料からなるセラミックのスラリー
を用いてドクターブレード法により所定面積の矩形状グ
リーンシート(焼成してない磁性体シート)7を形成す
る。
【0009】次いで、複数枚のグリーンシート7のそれ
ぞれに、単一部品に対応する寸法で格子状に切断可能な
ように部品取得個数に対応する多数のビアホール8(8
a〜8d)及び導体パターン4(4a,4b)を形成
し、導体パターン4を印刷したグリーンシート7’及び
ビアホール8c,8dのみを形成したグリーンシート
7”を形成する。
【0010】導体パターン4の形成では、銀を主成分と
する導体ペーストを所定のパターンでスクリーン印刷
し、導体パターン4を形成すると共に導体ペーストをビ
アホール8内に充填する。
【0011】この後、導体パターン4を印刷したグリー
ンシート7’及びビアホール8c,8dのみを形成した
グリーンシート7”を、前述のようにビアホール8に充
填された導体ペーストによって上下層の導体パターン4
が接合し、コイル導体が形成されるように積層し、さら
に熱圧着してシート積層体9を形成する。
【0012】さらに、このシート積層体9を単一部品に
対応する寸法で格子状に切断して積層体を形成する。こ
れにより、1つのシート積層体から複数の積層体が形成
される。
【0013】次いで、積層体を大気中で加熱することに
より、グリーンシート内に含まれるバインダを除去した
後、約900℃の温度で大気中で1時間焼成して焼結体
を形成する。
【0014】この後、得られた焼結体に、銀を主成分と
しガラスフリットを含んだ電極ペーストを塗布して焼き
付けることにより外部端子電極を形成する。
【0015】さらに、外部端子電極にニッケルメッキと
半田メッキを施して、積層チップインダクタを得る。
【0016】
【発明が解決しようとする課題】前述した従来の縦積層
型の積層チップインダクタの製造方法においては、シー
ト積層体を切断する際に、上面に露出したビアホールの
位置を目印にして切断位置を決定していた。
【0017】しかしながら、各種電子部品の小型化が進
むにつれ、積層チップインダクタも小型化し、この結
果、シート積層体の上面に露出したビアホールの直径が
100μm未満となって認識が困難になった。また、ビ
アホールの周囲にランドが形成されているものもある
が、ビアホールの直径にほぼ比例してランド形状も小さ
くなり、ランドが形成されているビアホールを認識する
ことも困難であった。
【0018】このため、切断時の位置合わせの不備によ
る切断不良、例えば切断位置のずれにより内部のコイル
導体が露出する等の不良がしばしば発生し、歩留が低下
していた。
【0019】本発明の目的は上記の問題点に鑑み、切断
位置の決定を容易に行えて歩留を向上させた積層チップ
インダクタの製造方法を提供することにある。
【0020】
【課題を解決するための手段】本発明は上記の目的を達
成するために請求項1では、単一部品に対応する寸法で
格子状に切断可能なように部品取得個数に対応する多数
の内部導体を形成した複数のセラミックシートを積層
し、前記内部導体と外部端子電極とを接続する導出ビア
ホールが表面に露出したセラミックシート積層体を形成
し、該セラミックシート積層体を前記格子状に切断した
後に焼成して、前記導出ビアホールが端面に露出して形
成された積層チップを作成し、前記導出ビアホールが露
出した端面に外部端子電極を形成する積層チップインダ
クタの製造方法において、前記セラミックシート積層体
を作成する工程では、切断位置決めの目印となる所定面
積の目印導体パターンを最上層のセラミックシート上面
に形成すると共に、前記セラミックシート積層体の切断
工程では、前記目印導体パターンに基づいて切断線を決
定し、前記セラミックシート積層体を切断する積層チッ
プインダクタの製造方法を提案する。
【0021】該積層チップインダクタの製造方法によれ
ば、セラミックシート積層体を作成する工程では、切断
位置決めの目印となる目印導体パターンが最上層のセラ
ミックシート上面に形成され、セラミックシート積層体
の切断工程では、前記目印導体パターンの位置に基づい
て切断位置が決定される。
【0022】また、請求項2では、請求項1記載の積層
チップインダクタの製造方法において、前記目印導体パ
ターンは、格子状の切断線の交点近傍に形成されたビア
ホールのランドからなる積層チップインダクタの製造方
法を提案する。
【0023】該積層チップインダクタの製造方法によれ
ば、セラミックシート積層体を作成する工程において、
格子状の切断線の交点近傍に形成されたビアホールに目
印となりうる所定面積のランドが形成され、セラミック
シート積層体の切断工程では、前記ランドの位置に基づ
いて切断位置が決定される。
【0024】また、請求項3では、請求項1記載の積層
チップインダクタの製造方法において、前記目印導体パ
ターンは、格子状の切断線に沿って形成されている積層
チップインダクタの製造方法を提案する。
【0025】該積層チップインダクタの製造方法によれ
ば、セラミックシート積層体を作成する工程において、
格子状の切断線に沿って、例えば所定幅の線形状に複数
の目印導体パターンが形成され、セラミックシート積層
体の切断工程では、前記目印導体パターンの位置に基づ
いて切断位置が決定される。
【0026】また、請求項4では、請求項1記載の積層
チップインダクタの製造方法において、前記目印導体パ
ターンは、格子状の切断線によって区画される単一部品
領域の中心位置を表すように、該中心位置を中心とする
所定領域内に形成されている積層チップインダクタの製
造方法を提案する。
【0027】該積層チップインダクタの製造方法によれ
ば、セラミックシート積層体を作成する工程において、
格子状の切断線によって区画される単一部品領域の中心
部所定領域に、該単一部品領域の中心位置を表すように
目印導体パターンが形成され、セラミックシート積層体
の切断工程では、前記目印導体パターンの位置に基づい
て、隣り合う単一部品領域の中心の中間位置となる切断
位置が決定される。
【0028】また、請求項5では、請求項1記載の積層
チップインダクタの製造方法において、前記目印導体パ
ターンは、格子状の切断線の交点位置を表すように、該
交点位置を中心とする所定領域内に形成されている積層
チップインダクタの製造方法を提案する。
【0029】該積層チップインダクタの製造方法によれ
ば、セラミックシート積層体を作成する工程において、
格子状の切断線の交点を中心とする所定領域内に、該交
点位置を表すように目印導体ーパターンが形成され、セ
ラミックシート積層体の切断工程では、前記目印導体パ
ターンの位置に基づいて、該目印導体パターンが表す交
点位置を結ぶ線を切断線として切断位置が決定される。
【0030】
【発明の実施の形態】以下、図面に基づいて本発明の一
実施形態を説明する。図1は本発明の第1の実施形態に
おける積層チップインダクタ10を示す概略斜視図、図
6はその積層構造を示す図である。図において、11は
磁性或いは非磁性の絶縁材料からなる積層構造をなす直
方体形状のチップ、12はチップ11内に埋設された内
部導体を螺旋状に接続してなるコイル、13a,13b
はチップ1の長手方向両端部、即ちチップの積層構造に
おける積層方向両端部に設けられた一対の外部端子電極
である。
【0031】ここで、コイル12は、その周回中心線が
外部端子電極13a,13bを結ぶ方向、即ちチップ1
1の積層構造における積層方向とほぼ平行になるように
形成されている。
【0032】チップ11は、図6に示すように、一辺が
500μmの正方形状を有する所定厚さの絶縁材料シー
ト21,22を複数積層して形成されている。以下の説
明においては、図6に対応して絶縁材料シート21,2
2の積層方向を上下方向として説明する。
【0033】即ち、チップ11は、中間層11a、連結
層11b,11cとから構成されている。
【0034】中間層11aは、電子素子としてのコイル
12を形成する層で、一端部に導体が充填されたビアホ
ール21bを有するL字形状の内部導体パターン21a
が上面形成された正方形の絶縁材料シート21を複数積
層して形成されてる。この絶縁材料シート21を積層す
る際、上下層の内部導体パターン21aの一端部と他端
部がビアホール21b内の導体によって接続され、複数
層に形成された内部導体パターン21aによって螺旋状
のコイル12が形成される。
【0035】以下の説明においては、導体が充填された
ビアホールを、単にビアホールと称し、「ビアホールに
接続される」「ビアホールによって接続される」は、そ
れぞれ「ビアホール内部に充填された導体に接続され
る」「ビアホール内部に充填された導体によって接続さ
れる」の意味であるものとする。
【0036】連結層11b,11cのそれぞれは、シー
ト上面に所定面積を有する正方形状のランド22aを有
するビアホール22b(導出ビアホール)のみが形成さ
れた絶縁材料シート22を1層以上積層して形成され、
積層時においては各シートのビアホール22bの位置を
一致させ、上下層のビアホール同士が接続されている。
【0037】ここで、ビアホール22bのランド22a
は、一辺が150μm以上の長さを有する正方形状に形
成され、所定の隣り合う二辺が絶縁材料シート22の隣
り合う2つの縁に一致するように形成されている。
【0038】一方の連結層11bは中間層11aの上部
に配置され、連結層11bのビアホール22bの最下端
はコイル12の一端に接続される。即ち、連結層11b
のビアホール22bの最下端は、中間層11aにおいて
最上層に位置するシート21上に形成された内部導体パ
ターン21aのビアホール21bが形成されていない端
部に接続される。
【0039】また、他方の連結層11cは中間層11a
の下部に配置され、連結層11cのビアホール22bの
最上端はコイル12の他端に接続される。即ち、連結層
11cのビアホール22bの最上端は、中間層11aに
おいて最下層に位置するシート21に形成されたビアホ
ール21bに接続される。
【0040】前述の積層構造からなるチップ11の最上
層及び最下層の表面に露出するビアホール22bに外部
端子電極13a,13bが導電接続される。
【0041】次に、前述した積層チップインダクタの製
造方法を説明する。まず、低温焼成磁性絶縁材料からな
るスラリーをドクターブレード法によりグリーンシート
(焼成してない絶縁材料シート)にした。
【0042】さらに、グリーンシートの必要な位置に前
述したビアホール21b,22bを形成し、銀を主成分
とする導体ペーストを所定のパターンで、且つビアホー
ル内部に充填されるようにスクリーン印刷した後、導体
ペーストがビアホールを通じて接合し、コイル12を形
成するように積層した後、熱圧着して一体化し、図7に
示すようなセラミックシート積層体(以下、単にシート
積層体と称する)25を形成した。
【0043】尚、製造時においては、1枚のグリーンシ
ート上に複数の積層チップインダクタに対応する内部導
体パターンを形成し、同様に内部導体パターンを形成し
たグリーンシートを複数枚積層してシート積層体25を
形成することにより、複数個の積層チップインダクタを
同時に製造できるようにしている。
【0044】次いで、シート積層体25を切断して、チ
ップに対応した一つ一つの積層体に分離する。この際、
シート積層体25の最上面に形成されているランド22
aを目印として、ランド22aの位置から切断線が設定
される。
【0045】即ち、前述したようにランド22aはチッ
プ11を構成する絶縁材料シート22の隣り合う2つの
縁の挟角部に形成され、且つランド22aの所定の隣り
合う二辺が絶縁材料シート22の隣り合う2つの縁に一
致するように形成されているので、図8に示すように、
このランド22aを切断位置決めの目印導体パターンと
し、この2辺の延長線を切断線26として設定すれば良
い。
【0046】この後、得られた積層体を大気中で加熱す
ることにより、グリーンシートに含まれるバインダを除
去(脱バインダ処理)した後、約900℃の温度で大気
中で1時間焼成した。
【0047】これにより得られた焼成体(チップ11)
に、銀を主成分としたガラスフリットを含んだ電極ペー
ストを塗布して焼き付けることで、チップ11の最上層
及び最下層の表面に露出するビアホール22bに導電接
続した外部端子電極13a,13bを形成した。さら
に、外部端子電極13a,13bにニッケルメッキと半
田メッキを施し、積層チップインダクタを得た。
【0048】前述したようにシート積層体25の最上面
に所定面積以上のランド22aを形成し、このランド2
2aを目印として、ランド22aの位置から切断線を設
定し、シート積層体25を切断したので、シート積層体
25の上面に露出したビアホールの直径が100μm未
満となってビアホールの認識が困難になっても、切断時
の位置合わせを正確に行うことができる。これにより、
切断位置のずれにより内部のコイル導体が露出する等の
不良の発生を大幅に低減できると共に、歩留を向上させ
ることができ、生産効率を高めることができる。
【0049】尚、本実施形態では、ビアホール22bの
ランド22aを、正方形状のランド22aの隣り合う二
辺が絶縁材料シート22の隣り合う2つの縁に一致する
ように形成し、シート積層体25における切断線26の
位置設定を容易に行えるようにしたが、図9に示すよう
に、絶縁材料シート22の2つの縁から所定距離L1,
L2離してランド22aを形成しても、切断線26の設
定を正確に行うことができる。この場合も、ランド22
aの面積は容易に視認できる広さでなければならないこ
とは言うまでもない。
【0050】次に、本発明の第2の実施形態を説明す
る。第2の実施形態においても第1の実施形態と同様の
積層チップインダクタ10の製造を例として説明する。
第1の実施形態と第2の実施形態との相違点は、第1の
実施形態ではビアホール22bのランド22aを切断位
置決めのための目印導体パターンとしたのに代えて、第
2の実施形態ではビアホール22bのランドを従来と同
様の大きさのランド22cとすると共に、シート積層体
25の最上層となるグリーンシートの上面にのみ、他の
導体パターンと同様の方法によってランド22cとは別
に目印導体パターンを形成し、この目印導体パターンの
形成位置に基づいて切断位置を設定できるようにした。
【0051】以下に、目印導体パターンの形成例として
実施例1乃至実施例5を挙げて説明する。
【0052】(実施例1)図10は、第2の実施形態の
実施例1におけるシート積層体25Aの上面を示す図、
図11は実施例1における目印導体パターンの形状詳細
を示す図である。
【0053】図において、31a,31bは目印導体パ
ターンで、シート積層体25Aの最上層のグリーンシー
トGSの上面のみに形成されている。
【0054】この目印導体パターン31a,31bは、
例えば、200μmの長さ、100μm以上の幅を有す
る長方形をなし、切断線26によって区画される単一部
品領域ARを囲むようにして、且つ目印導体パターン3
1a,31bの幅方向の中心が切断線26上に位置する
ように、切断線26の線上に複数形成されている。
【0055】このようにシート積層体25Aの最上面に
目印導体パターン31a,31bを形成し、目印導体パ
ターン31a,31bの位置から切断線26を設定し、
シート積層体25Aを切断できるようにした。
【0056】これにより、シート積層体25Aの上面に
露出したビアホールの直径が100μm未満となってビ
アホールの認識が困難になっても、また、シート積層体
25Aの上面に露出するビアホールが存在しなくても、
切断時の位置合わせを正確に行うことができ、切断位置
のずれにより内部のコイル導体が露出する等の不良の発
生を大幅に低減できると共に、歩留を向上させることが
でき、生産効率を高めることができる。
【0057】(実施例2)図12は、第2の実施形態の
実施例2におけるシート積層体25Bの上面を示す図、
図13は実施例2における目印導体パターンの形状詳細
を示す図である。
【0058】図において、32は目印導体パターンで、
シート積層体25Bの最上層のグリーンシートGSの上
面のみに形成されている。
【0059】この目印導体パターン32は、例えば直径
200μmの円形をなし、その中心が格子状の切断線2
6によって区画される単一部品領域ARの中心に一致す
るように各領域AR毎に形成されている。
【0060】このようにシート積層体25Bの最上面に
目印導体パターン32を形成し、目印導体パターン32
の位置から切断線を設定し、シート積層体25Bを切断
できるようにした。
【0061】即ち、目印導体パターン32の中心が、単
一部品領域ARの中心に一致するように形成されている
ので、目印導体パターン32の中心位置に基づいて、隣
り合う2つの単一部品領域ARの中心位置を結ぶ線分の
垂直二等分線を切断線26として設定することができ
る。
【0062】これにより、シート積層体25Bの上面に
露出したビアホールの直径が100μm未満となってビ
アホールの認識が困難になっても、また、シート積層体
25Bの上面に露出するビアホールが存在しなくても、
切断時の位置合わせを正確に行うことができ、切断位置
のずれにより内部のコイル導体が露出する等の不良の発
生を大幅に低減できると共に、歩留を向上させることが
でき、生産効率を高めることができる。
【0063】(実施例3)図14は、第2の実施形態の
実施例3におけるシート積層体25Cの上面を示す図、
図15は実施例3における目印導体パターンの形状詳細
を示す図である。
【0064】図において、33a〜33dは目印導体パ
ターンで、シート積層体25Cの最上層のグリーンシー
トGSの上面のみに形成されている。
【0065】この目印導体パターン33a〜33dのそ
れぞれは、150μm以上の長さと100μm以上の幅
を有する長方形をなし、それぞれの長手方向一端が、格
子状の切断線26によって区画される単一部品領域AR
の中心に向かい、且つ切断線26に対して平行になるよ
うに、各領域ARの中心部に十字型に配置されている。
【0066】このようにシート積層体25Cの最上面に
目印導体パターン33a〜33dを形成し、目印導体パ
ターン33a〜33dの位置から切断線を設定し、シー
ト積層体25Cを切断できるようにした。
【0067】即ち、目印導体パターン33a〜33dか
ら単一部品領域ARの中心及び切断線26の延びる方向
を特定できるので、隣り合う2つの単一部品領域ARの
中心位置を結ぶ線分の垂直二等分線を切断線26として
設定することができる。
【0068】これにより、シート積層体25Cの上面に
露出したビアホールの直径が100μm未満となってビ
アホールの認識が困難になっても、また、シート積層体
25Cの上面に露出するビアホールが存在しなくても、
切断時の位置合わせを正確に行うことができ、切断位置
のずれにより内部のコイル導体が露出する等の不良の発
生を大幅に低減できると共に、歩留を向上させることが
でき、生産効率を高めることができる。
【0069】(実施例4)図16は、第2の実施形態の
実施例4におけるシート積層体25Dの上面を示す図、
図17は実施例4における目印導体パターンの形状詳細
を示す図である。
【0070】図において、34は目印導体パターンで、
シート積層体25Dの最上層のグリーンシートGSの上
面のみに形成されている。
【0071】この目印導体パターン34は、例えば直径
200μmの円形をなし、その中心が格子状の切断線2
6の交点に一致するように、各交点毎に形成されてい
る。
【0072】このようにシート積層体25Dの最上面に
目印導体パターン34を形成し、目印導体パターン34
の位置から切断線を設定し、シート積層体25Dを切断
できるようにした。
【0073】即ち、目印導体パターン34の中心が、格
子状の切断線26の交点に一致するように形成されてい
るので、目印導体パターン34の中心位置を結ぶ直線を
切断線26として設定することができる。
【0074】これにより、シート積層体25Dの上面に
露出したビアホールの直径が100μm未満となってビ
アホールの認識が困難になっても、また、シート積層体
25Dの上面に露出するビアホールが存在しなくても、
切断時の位置合わせを正確に行うことができ、切断位置
のずれにより内部のコイル導体が露出する等の不良の発
生を大幅に低減できると共に、歩留を向上させることが
でき、生産効率を高めることができる。
【0075】(実施例5)図18は、第2の実施形態の
実施例5におけるシート積層体25Eの上面を示す図、
図159実施例5における目印導体パターンの形状詳細
を示す図である。
【0076】図において、35a〜35dは目印導体パ
ターンで、シート積層体25Eの最上層のグリーンシー
トGSの上面のみに形成されている。
【0077】目印導体パターン35a〜35cのそれぞ
れは150μm以上の長さと100μm以上の幅を有す
る長方形をなし、目印導体パターン35dは100μm
以上の長さと100μm以上の幅を有する長方形をなし
ている。ここではビアホール22bに重なることを避け
るために、目印導体パターン35dの長さを他のものよ
りも短く設定している。
【0078】目印導体パターン35a〜35dは、それ
ぞれの長手方向一端が、格子状の切断線26の交点に向
かい、且つ他端が切断線26によって区画される単一部
品領域ARの中心に向かうように、切断線26の交点近
傍の所定領域内に十字型に配置されている。
【0079】このようにシート積層体25Eの最上面に
目印導体パターン35a〜35dを形成し、目印導体パ
ターン35a〜35dの位置から切断線26を設定し、
シート積層体25Eを切断できるようにした。
【0080】即ち、目印導体パターン35a〜35dか
ら切断線26の交点及び切断線26の延びる方向を特定
できるので、この特定できた交点を結ぶ直線を切断線2
6として設定することができる。
【0081】これにより、シート積層体25Eの上面に
露出したビアホールの直径が100μm未満となってビ
アホールの認識が困難になっても、また、シート積層体
25Eの上面に露出するビアホールが存在しなくても、
切断時の位置合わせを正確に行うことができ、切断位置
のずれにより内部のコイル導体が露出する等の不良の発
生を大幅に低減できると共に、歩留を向上させることが
でき、生産効率を高めることができる。
【0082】尚、第1の実施形態におけるランド22a
の形状及び第2の実施形態において例として挙げた目印
導体パターンの形状は一例であり、本願発明がこれに限
定されることは無い。
【0083】
【発明の効果】以上説明したように本発明の請求項1記
載の積層チップインダクタの製造方法によれば、セラミ
ックシート積層体を作成する工程において、切断位置決
めの目印となる目印導体パターンを最上層のセラミック
シート上面に形成し、該セラミックシート積層体の切断
工程においては前記目印導体パターンの位置に基づいて
切断位置を決定しているので、セラミックシート積層体
の上面に露出したビアホールの直径が100μm未満と
なってビアホールの認識が困難になっても、また、セラ
ミックシート積層体の上面に露出するビアホールが存在
しなくても、切断時の位置合わせを正確に行うことがで
き、切断位置のずれにより積層体内に存在する内部導体
が露出する等の不良の発生を大幅に低減することができ
ると共に、歩留を向上させることができ、生産効率を高
めることができる。
【0084】また、請求項2記載の積層チップインダク
タの製造方法によれば、上記の効果に加えて、導出ビア
ホールのランド面積を所定値以上に大きく形成して容易
に視認できるようにして前記目印導体パターンとなした
ので、生産工程の大幅な変更を必要とせずに目印導体パ
ターンを形成することができる。
【0085】また、請求項3乃至5記載の積層チップイ
ンダクタの製造方法によれば、上記の効果に加えて、導
出ビアホールのランドの形成と同時に前記目印導体パタ
ーンを形成することができるので、生産工程の大幅な変
更を必要とせずに目印導体パターンを形成することがで
きる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1の実施形態における積層チップイ
ンダクタを示す概略斜視図
【図2】従来例の一般的な積層チップインダクタを示す
概略斜視図
【図3】従来例の縦積層型の積層チップインダクタを示
す概略斜視図
【図4】従来例の縦積層型の積層チップインダクタの積
層構造を示す図
【図5】従来例の縦積層型の積層チップインダクタの製
造方法を説明する図
【図6】本発明の第1の実施形態における積層チップイ
ンダクタの積層構造を示す図
【図7】本発明の第1の実施形態におけるシート積層体
を示す図
【図8】本発明の第1の実施形態におけるシート積層体
の切断線設定方法を説明する図
【図9】本発明の第1の実施形態における他の例を示す
【図10】本発明の第2の実施形態における実施例1の
シート積層体上面を示す図
【図11】本発明の第2の実施形態における実施例1の
目印導体パターン形状の詳細を示す図
【図12】本発明の第2の実施形態における実施例2の
シート積層体上面を示す図
【図13】本発明の第2の実施形態における実施例2の
目印導体パターン形状の詳細を示す図
【図14】本発明の第2の実施形態における実施例3の
シート積層体上面を示す図
【図15】本発明の第2の実施形態における実施例3の
目印導体パターン形状の詳細を示す図
【図16】本発明の第2の実施形態における実施例4の
シート積層体上面を示す図
【図17】本発明の第2の実施形態における実施例4の
目印導体パターン形状の詳細を示す図
【図18】本発明の第2の実施形態における実施例5の
シート積層体上面を示す図
【図19】本発明の第2の実施形態における実施例5の
目印導体パターン形状の詳細を示す図
【符号の説明】
10…積層チップインダクタ、11…チップ、11a…
中間層、11b,11c…連結層、12…コイル、13
a,13b…外部端子電極、21、22…絶縁材料シー
ト、21a…内部導体パターン、21b,22b…ビア
ホール、22a…ランド、25,25A〜25E…シー
ト積層体、26…切断線、31a,31b,32,33
a〜33d,34,35a〜35d…目印導体パター
ン、AR…単一部品領域、GS…グリーンシート。

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 単一部品に対応する寸法で格子状に切断
    可能なように部品取得個数に対応する多数の内部導体を
    形成した複数のセラミックシートを積層し、前記内部導
    体と外部端子電極とを接続する導出ビアホールが表面に
    露出したセラミックシート積層体を形成し、該セラミッ
    クシート積層体を前記格子状に切断した後に焼成して、
    前記導出ビアホールが端面に露出して形成された積層チ
    ップを作成し、前記導出ビアホールが露出した端面に外
    部端子電極を形成する積層チップインダクタの製造方法
    において、 前記セラミックシート積層体を作成する工程では、切断
    位置決めの目印となる所定面積の目印導体パターンを最
    上層のセラミックシート上面に形成すると共に、 前記セラミックシート積層体の切断工程では、前記目印
    導体パターンに基づいて切断線を決定し、前記セラミッ
    クシート積層体を切断することを特徴とする積層チップ
    インダクタの製造方法。
  2. 【請求項2】 前記目印導体パターンは、格子状の切断
    線の交点近傍に形成されたビアホールのランドからなる
    ことを特徴とする請求項1記載の積層チップインダクタ
    の製造方法。
  3. 【請求項3】 前記目印導体パターンは、格子状の切断
    線に沿って形成されていることを特徴とする請求項1記
    載の積層チップインダクタの製造方法。
  4. 【請求項4】 前記目印導体パターンは、格子状の切断
    線によって区画される単一部品領域の中心位置を表すよ
    うに、該中心位置を中心とする所定領域内に形成されて
    いることを特徴とする請求項1記載の積層チップインダ
    クタの製造方法。
  5. 【請求項5】 前記目印導体パターンは、格子状の切断
    線の交点位置を表すように、該交点位置を中心とする所
    定領域内に形成されていることを特徴とする請求項1記
    載の積層チップインダクタの製造方法。
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