JPH11185653A - 表示管用陽極基板とその製造方法 - Google Patents
表示管用陽極基板とその製造方法Info
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- JPH11185653A JPH11185653A JP35548897A JP35548897A JPH11185653A JP H11185653 A JPH11185653 A JP H11185653A JP 35548897 A JP35548897 A JP 35548897A JP 35548897 A JP35548897 A JP 35548897A JP H11185653 A JPH11185653 A JP H11185653A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】ＲＧＢのカラーフィルタを有する表示管用陽極
基板において、３系統の陽極を立体配線で無理なく引き
だす。 【解決手段】ガラス基板２の内面に第１の端子導体３と
帯状のカラーフィルタＲ，Ｇ，Ｂを形成する。フィルタ
と端子導体３を覆って低融点ガラスの平滑層４を形成す
る。平滑層には、端子導体３に相当する部分に通孔５が
ある。平滑層の上に、フィルタＲ，Ｇ，Ｂに対応する第
１〜第３の配線導体６，７，８と、第２及び第３の端子
導体９，１０を形成する。第１の配線導体６は通孔５を
介して平滑層４の下の第１の端子導体３に接続される。
第２及び第３の配線導体７，８は第２及び第３の端子導
体９，１０に接続される。
基板において、３系統の陽極を立体配線で無理なく引き
だす。 【解決手段】ガラス基板２の内面に第１の端子導体３と
帯状のカラーフィルタＲ，Ｇ，Ｂを形成する。フィルタ
と端子導体３を覆って低融点ガラスの平滑層４を形成す
る。平滑層には、端子導体３に相当する部分に通孔５が
ある。平滑層の上に、フィルタＲ，Ｇ，Ｂに対応する第
１〜第３の配線導体６，７，８と、第２及び第３の端子
導体９，１０を形成する。第１の配線導体６は通孔５を
介して平滑層４の下の第１の端子導体３に接続される。
第２及び第３の配線導体７，８は第２及び第３の端子導
体９，１０に接続される。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、ガラス基板の内面
にカラーフィルターを備えた表示管用陽極基板に係り、
特に３系統の陽極を立体配線で引きだす構造を備えた表
示管用陽極基板とその製造方法に関するものである。本
発明は、例えば蛍光表示管、電界放出陰極（Field Emis
sion Cathode, 略してFEC)を電子源に利用した表示素子
である電界放出形表示装置（Field Emission Display,
略してFED)、プラズマディスプレイ(PDP) 等、各種の表
示素子におけるカラーフィルターを備えた陽極基板及び
その製造方法として有用である。
にカラーフィルターを備えた表示管用陽極基板に係り、
特に３系統の陽極を立体配線で引きだす構造を備えた表
示管用陽極基板とその製造方法に関するものである。本
発明は、例えば蛍光表示管、電界放出陰極（Field Emis
sion Cathode, 略してFEC)を電子源に利用した表示素子
である電界放出形表示装置（Field Emission Display,
略してFED)、プラズマディスプレイ(PDP) 等、各種の表
示素子におけるカラーフィルターを備えた陽極基板及び
その製造方法として有用である。
【０００２】
【従来の技術】一般に蛍光表示管やＦＥＤは、蛍光体を
備えた表示部や、蛍光体を発光させるための電子を供給
する陰極等、各種電極等を収納する箱型乃至パネル状の
外囲器を備えている。この外囲器は、一般に絶縁性の基
板を組み合わせて構成されているが、その一部として、
発光表示部となる陽極が内面に形成された陽極基板を備
えている。かかる陽極基板の一般的な構造を説明する
と、その内面には配線導体等からなる陽極導体が所定の
パターンで形成され、その上に蛍光体層が被着されてい
る。例えば、この表示素子がＲＧＢの各色に発光する画
素によってフルカラー表示を行うものであれば、この陽
極導体の電気系統は互いに独立した３系統に分かれて構
成されている。
備えた表示部や、蛍光体を発光させるための電子を供給
する陰極等、各種電極等を収納する箱型乃至パネル状の
外囲器を備えている。この外囲器は、一般に絶縁性の基
板を組み合わせて構成されているが、その一部として、
発光表示部となる陽極が内面に形成された陽極基板を備
えている。かかる陽極基板の一般的な構造を説明する
と、その内面には配線導体等からなる陽極導体が所定の
パターンで形成され、その上に蛍光体層が被着されてい
る。例えば、この表示素子がＲＧＢの各色に発光する画
素によってフルカラー表示を行うものであれば、この陽
極導体の電気系統は互いに独立した３系統に分かれて構
成されている。
【０００３】図６は、ＲＧＢの各色に発光するストライ
プ状の陽極を有する陽極基板１００であり、３系統のワ
イヤー状の陽極導体の一構成例を示している。陽極基板
１００の内面に３系統の陽極導体１０１，１０２，１０
３が設けられている場合、図示のように２系統の陽極導
体１０２，１０３は陽極基板１００の上下に設けた２つ
の端子導体１０４，１０５にそれぞれ共通接続し、ここ
から外囲器外に引きだすことができる。しかしながら、
２系統の陽極導体１０２，１０３に囲まれた第３の陽極
導体１０１は孤立してしまう。
プ状の陽極を有する陽極基板１００であり、３系統のワ
イヤー状の陽極導体の一構成例を示している。陽極基板
１００の内面に３系統の陽極導体１０１，１０２，１０
３が設けられている場合、図示のように２系統の陽極導
体１０２，１０３は陽極基板１００の上下に設けた２つ
の端子導体１０４，１０５にそれぞれ共通接続し、ここ
から外囲器外に引きだすことができる。しかしながら、
２系統の陽極導体１０２，１０３に囲まれた第３の陽極
導体１０１は孤立してしまう。
【０００４】この孤立した陽極導体１０１を駆動回路と
接続すべく外囲器外に引きだすために、幾つかの構造が
提案されている。例えば、所定間隔に配置した複数本の
導電線を絶縁フィルムで被覆した構造のケーブルである
所謂ＦＰＣを用い、孤立した前記複数本のワイヤー状の
陽極導体１０１にＦＰＣの各導電線をそれぞれ接続して
外囲器外に引きだすことができる。
接続すべく外囲器外に引きだすために、幾つかの構造が
提案されている。例えば、所定間隔に配置した複数本の
導電線を絶縁フィルムで被覆した構造のケーブルである
所謂ＦＰＣを用い、孤立した前記複数本のワイヤー状の
陽極導体１０１にＦＰＣの各導電線をそれぞれ接続して
外囲器外に引きだすことができる。
【０００５】また、陽極基板上で孤立した複数本の陽極
導体１０１にそれぞれ接続されるように、外囲器の内部
の要所に複数本の導体支柱を配置し、陽極基板１００に
対面する外囲器の反対側の内面上で前記導体支柱を互い
に共通に接続し、これを外囲器外に引きだすこともでき
る。
導体１０１にそれぞれ接続されるように、外囲器の内部
の要所に複数本の導体支柱を配置し、陽極基板１００に
対面する外囲器の反対側の内面上で前記導体支柱を互い
に共通に接続し、これを外囲器外に引きだすこともでき
る。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、前述し
たＦＰＣを用いる構造の場合には、外囲器の気密保持の
観点から、ＦＰＣが外囲器の封着部分を貫通する構造は
採用することができない。このため、ＦＰＣの各導電線
と各陽極導体とを接続する接続部は、外囲器外に設ける
必要がある。そのためには、箱型の外囲器の外形から陽
極基板の一部を突出させ、外囲器内から封着部分を貫通
して外囲器外の陽極基板上にまで陽極導体を延設し、外
囲器外で陽極導体にＦＰＣを接続する必要がある。この
ような構造は、外囲器の全体としての寸法が大きくなり
すぎ、発光素子の中に発光に関与しない不必要な部分が
増えるので好ましくない。
たＦＰＣを用いる構造の場合には、外囲器の気密保持の
観点から、ＦＰＣが外囲器の封着部分を貫通する構造は
採用することができない。このため、ＦＰＣの各導電線
と各陽極導体とを接続する接続部は、外囲器外に設ける
必要がある。そのためには、箱型の外囲器の外形から陽
極基板の一部を突出させ、外囲器内から封着部分を貫通
して外囲器外の陽極基板上にまで陽極導体を延設し、外
囲器外で陽極導体にＦＰＣを接続する必要がある。この
ような構造は、外囲器の全体としての寸法が大きくなり
すぎ、発光素子の中に発光に関与しない不必要な部分が
増えるので好ましくない。
【０００７】また、導体支柱を使用して孤立した陽極導
体を引きだす構造では、外囲器内で導体支柱が浮遊して
接触不良をもたらしたり、また孤立した陽極導体以外の
陽極導体に導体支柱が接触して絶縁不良をもたらす危険
性がある。
体を引きだす構造では、外囲器内で導体支柱が浮遊して
接触不良をもたらしたり、また孤立した陽極導体以外の
陽極導体に導体支柱が接触して絶縁不良をもたらす危険
性がある。
【０００８】本発明は、特に３系統の陽極を立体配線で
無理なく引きだす構造を備えた表示管用陽極基板とその
製造方法を提供することを目的としている。
無理なく引きだす構造を備えた表示管用陽極基板とその
製造方法を提供することを目的としている。
【０００９】
【課題を解決するための手段】請求項１に記載された表
示管用陽極基板は、ガラス基板と、前記ガラス基板の内
面に形成された光学効果層と、前記ガラス基板の内面に
形成された第１の端子導体と、前記光学効果層と前記第
１の端子導体を覆うとともに前記第１の端子導体に相当
する部分に通孔が形成された低融点ガラスからなる透光
性の平滑層と、前記平滑層の上に形成され、前記平滑層
の通孔を介して前記第１の端子導体に接続される第１の
配線導体と、前記平滑層の上に形成された第２の配線導
体と、前記平滑層の上に形成されて前記第２の配線導体
が接続される第２の端子導体と、前記平滑層の上に形成
された第３の配線導体と、前記平滑層の上に形成されて
前記第３の配線導体が接続される第３の端子導体とを有
することを特徴としている。
示管用陽極基板は、ガラス基板と、前記ガラス基板の内
面に形成された光学効果層と、前記ガラス基板の内面に
形成された第１の端子導体と、前記光学効果層と前記第
１の端子導体を覆うとともに前記第１の端子導体に相当
する部分に通孔が形成された低融点ガラスからなる透光
性の平滑層と、前記平滑層の上に形成され、前記平滑層
の通孔を介して前記第１の端子導体に接続される第１の
配線導体と、前記平滑層の上に形成された第２の配線導
体と、前記平滑層の上に形成されて前記第２の配線導体
が接続される第２の端子導体と、前記平滑層の上に形成
された第３の配線導体と、前記平滑層の上に形成されて
前記第３の配線導体が接続される第３の端子導体とを有
することを特徴としている。
【００１０】請求項２に記載された表示管用陽極基板
は、請求項１記載の表示管用陽極基板において、前記光
学効果層が赤・緑・青の各色のカラーフィルタであるこ
とを特徴としている。
は、請求項１記載の表示管用陽極基板において、前記光
学効果層が赤・緑・青の各色のカラーフィルタであるこ
とを特徴としている。
【００１１】請求項３に記載された表示管用陽極基板
は、請求項１記載の表示管用陽極基板において、前記光
学効果層がブラックマトリクスであることを特徴として
いる。
は、請求項１記載の表示管用陽極基板において、前記光
学効果層がブラックマトリクスであることを特徴として
いる。
【００１２】請求項４に記載された表示管用陽極基板
は、請求項１記載の表示管用陽極基板において、前記光
学効果層が赤・緑・青の各色のカラーフィルタと該カラ
ーフィルタを区画するブラックマトリクスであることを
特徴としている。
は、請求項１記載の表示管用陽極基板において、前記光
学効果層が赤・緑・青の各色のカラーフィルタと該カラ
ーフィルタを区画するブラックマトリクスであることを
特徴としている。
【００１３】請求項５に記載された表示管用陽極基板
は、請求項１記載の表示管用陽極基板において、前記ガ
ラス基板がホウ珪酸ガラス基板であることを特徴として
いる。
は、請求項１記載の表示管用陽極基板において、前記ガ
ラス基板がホウ珪酸ガラス基板であることを特徴として
いる。
【００１４】請求項６に記載された表示管用陽極基板
は、請求項１記載の表示管用陽極基板において、前記低
融点ガラスは、形成膜厚１０μｍ以上で可視光透過率が
９０％以上であることを特徴とする。
は、請求項１記載の表示管用陽極基板において、前記低
融点ガラスは、形成膜厚１０μｍ以上で可視光透過率が
９０％以上であることを特徴とする。
【００１５】請求項７に記載された表示管用陽極基板
は、請求項１記載の表示管用陽極基板において、前記低
融点ガラスは、軟化点が前記ガラス基板の歪点以上であ
り、低融点ガラスのガラス転移点が後工程における加熱
温度以上であることを特徴とする。
は、請求項１記載の表示管用陽極基板において、前記低
融点ガラスは、軟化点が前記ガラス基板の歪点以上であ
り、低融点ガラスのガラス転移点が後工程における加熱
温度以上であることを特徴とする。
【００１６】請求項８に記載された表示管用陽極基板
は、請求項７記載の表示管用陽極基板において、前記低
融点ガラスが、Ｐｂを含まないＺｎＯ系のガラスである
ことを特徴としている。
は、請求項７記載の表示管用陽極基板において、前記低
融点ガラスが、Ｐｂを含まないＺｎＯ系のガラスである
ことを特徴としている。
【００１７】請求項９に記載された表示管用陽極基板
は、請求項８記載の表示管用陽極基板において、前記Ｐ
ｂを含まないＺｎＯ系のガラスが、ＺｎＯ−Ｂ2 Ｏ3 −
ＳｉＯ 2 系低融点ガラスとＢｉ2 Ｏ3 −ＺｎＯ−ＳｉＯ
2 系低融点ガラスからなる群から選択されたことを特徴
としている。
は、請求項８記載の表示管用陽極基板において、前記Ｐ
ｂを含まないＺｎＯ系のガラスが、ＺｎＯ−Ｂ2 Ｏ3 −
ＳｉＯ 2 系低融点ガラスとＢｉ2 Ｏ3 −ＺｎＯ−ＳｉＯ
2 系低融点ガラスからなる群から選択されたことを特徴
としている。
【００１８】請求項１０に記載された表示管用陽極基板
の製造方法は、ガラス基板の内面に第１の端子導体と所
定パターンの光学効果層とを形成し、前記第１の端子導
体に相当する部分に通孔が形成された低融点ガラスから
なる透光性の平滑層を前記光学効果層と前記第１の端子
導体を覆うように形成し、前記平滑層の上に、前記光学
効果層の前記パターンに適合したパターンを有する第１
〜第３の配線導体と、前記第２及び第３の配線導体に接
続する第２及び第３の端子導体とを形成し、前記第１の
配線導体は前記平滑層の通孔を介して前記第１の端子導
体に電気的に接続されるように構成したことを特徴とし
ている。
の製造方法は、ガラス基板の内面に第１の端子導体と所
定パターンの光学効果層とを形成し、前記第１の端子導
体に相当する部分に通孔が形成された低融点ガラスから
なる透光性の平滑層を前記光学効果層と前記第１の端子
導体を覆うように形成し、前記平滑層の上に、前記光学
効果層の前記パターンに適合したパターンを有する第１
〜第３の配線導体と、前記第２及び第３の配線導体に接
続する第２及び第３の端子導体とを形成し、前記第１の
配線導体は前記平滑層の通孔を介して前記第１の端子導
体に電気的に接続されるように構成したことを特徴とし
ている。
【００１９】
【発明の実施の形態】まず、本例の表示管用陽極基板１
の構造を、その製造方法とともに、図１を参照して説明
する。この表示管用陽極基板１は、所定の順序で並んだ
赤緑青の各色に発光するストライプ状の表示部を有する
ものであり、蛍光表示管やＦＥＤの陽極基板として使用
される。
の構造を、その製造方法とともに、図１を参照して説明
する。この表示管用陽極基板１は、所定の順序で並んだ
赤緑青の各色に発光するストライプ状の表示部を有する
ものであり、蛍光表示管やＦＥＤの陽極基板として使用
される。
【００２０】図１に示す本例のガラス基板２は、ホウ珪
酸ガラス基板（熱膨張係数４５〜５０×１０-7／℃）で
ある。ガラス基板２にホウ珪酸ガラスを用いる理由は、
耐電圧性が高く、５００℃〜６５０℃の熱処理工程にお
ける熱収縮や反りが少ないからであり、熱処理工程の多
い蛍光表示管やＦＥＤの陽極基板として適しているから
である。
酸ガラス基板（熱膨張係数４５〜５０×１０-7／℃）で
ある。ガラス基板２にホウ珪酸ガラスを用いる理由は、
耐電圧性が高く、５００℃〜６５０℃の熱処理工程にお
ける熱収縮や反りが少ないからであり、熱処理工程の多
い蛍光表示管やＦＥＤの陽極基板として適しているから
である。
【００２１】図１に示すように、このガラス基板２の一
辺に沿って第１の端子導体３を形成する。この端子導体
３は帯状であり、ＩＴＯ(Indium Tin Oxide)を成膜した
後、エッチングによって形成する。端子導体の材料とし
ては、Ａｌ、Ｎｉ、Ａｇ等の各種導電材料でもよく、そ
の形成方法には、成膜した後にエッチングする方法の
他、スクリーン印刷法等でもよい。
辺に沿って第１の端子導体３を形成する。この端子導体
３は帯状であり、ＩＴＯ(Indium Tin Oxide)を成膜した
後、エッチングによって形成する。端子導体の材料とし
ては、Ａｌ、Ｎｉ、Ａｇ等の各種導電材料でもよく、そ
の形成方法には、成膜した後にエッチングする方法の
他、スクリーン印刷法等でもよい。
【００２２】図１に示すように、このガラス基板２の表
示領域となる中央部に、光学効果層として無機顔料型の
カラーフィルタＲ，Ｇ，Ｂを形成する。カラーフィルタ
Ｒ，Ｇ，Ｂは、それぞれ赤緑青の３色のストライプ状で
あり、所定の順序で形成される。カラーフィルタＲ，
Ｇ，Ｂは、無機顔料を含むペーストを所定のパターンに
印刷し、これを焼成して形成する。カラーフィルタＲ，
Ｇ，Ｂのみで焼成してもよいし、後述する平滑層４とと
もに焼成してもよい。カラーフィルタＲ，Ｇ，Ｂは、ス
クリーン印刷法等の印刷法の他、エッチング法、ホトリ
ソグラフィー法、埋め込み法等で形成することもでき
る。例えば、特願平８−５５０６４号記載のカラーフィ
ルタＲ，Ｇ，ＢペーストでカラーフィルタＲ，Ｇ，Ｂを
形成する。
示領域となる中央部に、光学効果層として無機顔料型の
カラーフィルタＲ，Ｇ，Ｂを形成する。カラーフィルタ
Ｒ，Ｇ，Ｂは、それぞれ赤緑青の３色のストライプ状で
あり、所定の順序で形成される。カラーフィルタＲ，
Ｇ，Ｂは、無機顔料を含むペーストを所定のパターンに
印刷し、これを焼成して形成する。カラーフィルタＲ，
Ｇ，Ｂのみで焼成してもよいし、後述する平滑層４とと
もに焼成してもよい。カラーフィルタＲ，Ｇ，Ｂは、ス
クリーン印刷法等の印刷法の他、エッチング法、ホトリ
ソグラフィー法、埋め込み法等で形成することもでき
る。例えば、特願平８−５５０６４号記載のカラーフィ
ルタＲ，Ｇ，ＢペーストでカラーフィルタＲ，Ｇ，Ｂを
形成する。
【００２３】図２に示すように、第１の端子導体３とカ
ラーフィルタＲ，Ｇ，Ｂを覆って平滑層４を形成する。
平滑層４は、カラーフィルタＲ，Ｇ，Ｂの全体を覆うよ
うに形成し、封着用シール箇所等には被覆しなくてもよ
い。第１の端子導体３を覆う平滑層４の一辺には、特定
色のカラーフィルタＲ，Ｇ，Ｂに対応する部分に通孔５
を形成し、下の第１の端子導体３を露出させておく。本
例では赤（Ｒ）のカラーフィルタＲ，Ｇ，Ｂに対応する
部分に通孔５を形成する。
ラーフィルタＲ，Ｇ，Ｂを覆って平滑層４を形成する。
平滑層４は、カラーフィルタＲ，Ｇ，Ｂの全体を覆うよ
うに形成し、封着用シール箇所等には被覆しなくてもよ
い。第１の端子導体３を覆う平滑層４の一辺には、特定
色のカラーフィルタＲ，Ｇ，Ｂに対応する部分に通孔５
を形成し、下の第１の端子導体３を露出させておく。本
例では赤（Ｒ）のカラーフィルタＲ，Ｇ，Ｂに対応する
部分に通孔５を形成する。
【００２４】平滑層４は低融点ガラスからなるが、本例
では、軟化点が前記ガラス基板２の歪点以上であり、ガ
ラス転移点が後工程における加熱温度以上である低融点
ガラスとして、Ｐｂを含まないＺｎＯ系ガラスを使用し
た。具体的には、ホウ珪酸ガラス基板２に熱膨張係数が
比較的近いＺｎＯ−Ｂ2 Ｏ3 −ＳｉＯ2 系低融点ガラス
（例えばＮＥＧ製Ｆ−５４Ａは熱膨張係数５３×１０-7
／℃）や、Ｂｉ2 Ｏ3−ＺｎＯ−ＳｉＯ2 系低融点ガラ
ス等を用いた。これらの低融点ガラスは、透光性が高
く、電界によって還元等の変化が起きにくい。
では、軟化点が前記ガラス基板２の歪点以上であり、ガ
ラス転移点が後工程における加熱温度以上である低融点
ガラスとして、Ｐｂを含まないＺｎＯ系ガラスを使用し
た。具体的には、ホウ珪酸ガラス基板２に熱膨張係数が
比較的近いＺｎＯ−Ｂ2 Ｏ3 −ＳｉＯ2 系低融点ガラス
（例えばＮＥＧ製Ｆ−５４Ａは熱膨張係数５３×１０-7
／℃）や、Ｂｉ2 Ｏ3−ＺｎＯ−ＳｉＯ2 系低融点ガラ
ス等を用いた。これらの低融点ガラスは、透光性が高
く、電界によって還元等の変化が起きにくい。
【００２５】平滑層４の膜厚は、カラーフィルタＲ，
Ｇ，Ｂの平坦化が図れ、且つ絶縁耐性も十分で、透光性
も損なわない（可視光透過率９０％以上）厚さである１
０〜２０μｍ（焼成後）が適当である。
Ｇ，Ｂの平坦化が図れ、且つ絶縁耐性も十分で、透光性
も損なわない（可視光透過率９０％以上）厚さである１
０〜２０μｍ（焼成後）が適当である。
【００２６】図３に示すように、平滑層４の上に第１〜
第３の配線導体６，７，８と、第２及び第３の端子導体
９，１０を形成する。本例では、ＩＴＯ膜を成膜した
後、これをエッチングで図示のパターンに形成する方法
を採用するので、酸に弱いＺｎＯ−Ｂ2 Ｏ3 −ＳｉＯ2
系低融点ガラスからなる平滑層４をエッチャントから保
護するため、平滑層４の上に予めＳｉＯ2 膜等の耐電圧
性のある耐酸性保護膜を形成する。
第３の配線導体６，７，８と、第２及び第３の端子導体
９，１０を形成する。本例では、ＩＴＯ膜を成膜した
後、これをエッチングで図示のパターンに形成する方法
を採用するので、酸に弱いＺｎＯ−Ｂ2 Ｏ3 −ＳｉＯ2
系低融点ガラスからなる平滑層４をエッチャントから保
護するため、平滑層４の上に予めＳｉＯ2 膜等の耐電圧
性のある耐酸性保護膜を形成する。
【００２７】平滑層４の上に第１〜第３の配線導体６，
７，８と、第２及び第３の端子導体９，１０を形成する
工程を説明する。まず、ＳｉＯ2 膜等の耐酸性保護膜
を、スパッタリング法、蒸着法、ＣＶＤ法、ゾルーゲル
法等によって平滑層４の上に形成する。形成膜厚は耐酸
性が図れ且つ透光性も損なわない（可視光透過率９０％
以上）１０００オングストームが適当である。
７，８と、第２及び第３の端子導体９，１０を形成する
工程を説明する。まず、ＳｉＯ2 膜等の耐酸性保護膜
を、スパッタリング法、蒸着法、ＣＶＤ法、ゾルーゲル
法等によって平滑層４の上に形成する。形成膜厚は耐酸
性が図れ且つ透光性も損なわない（可視光透過率９０％
以上）１０００オングストームが適当である。
【００２８】耐酸性保護膜の上に、ＩＴＯ(Indium Tin
Oxide)をスパッタリング法によって１５００オングスト
ロームの厚さに成膜する。ＩＴＯをパターニングする
為、フォトレジスト（例えば粘性率１５ｃＰ）を塗膜
し、例えばホットプレート等によってプリベークする。
そして、フォトマスクを通して露光（紫外線にて８０〜
５００ｍＪ／ｃｍ2 ）し、電極として残す透明導電膜上
のフォトレジスト以外に露光する。次に現像液に浸漬し
て露光されたフォトレジストを取り除き、純水を用いて
リンスした後、ホットプレート等によってポストベーク
を行う。そして、前記基板をエッチング液、例えばＢＨ
Ｆに浸漬し、フォトレジスト被覆部以外の透明導電膜を
浸食により取り除く。最後に、フォトレジストを剥離液
で剥離し、純水を用いてリンスした後、任意の洗浄プロ
セスによって洗浄する。
Oxide)をスパッタリング法によって１５００オングスト
ロームの厚さに成膜する。ＩＴＯをパターニングする
為、フォトレジスト（例えば粘性率１５ｃＰ）を塗膜
し、例えばホットプレート等によってプリベークする。
そして、フォトマスクを通して露光（紫外線にて８０〜
５００ｍＪ／ｃｍ2 ）し、電極として残す透明導電膜上
のフォトレジスト以外に露光する。次に現像液に浸漬し
て露光されたフォトレジストを取り除き、純水を用いて
リンスした後、ホットプレート等によってポストベーク
を行う。そして、前記基板をエッチング液、例えばＢＨ
Ｆに浸漬し、フォトレジスト被覆部以外の透明導電膜を
浸食により取り除く。最後に、フォトレジストを剥離液
で剥離し、純水を用いてリンスした後、任意の洗浄プロ
セスによって洗浄する。
【００２９】図３に示すように、第１〜第３の配線導体
６，７，８は、各カラーフィルタＲ，Ｇ，Ｂに対応して
線状に形成する。カラーフィルタＲに対応するのが第１
の配線導体６、カラーフィルタＧに対応するのが第２の
配線導体７、カラーフィルタＢに対応するのが第３の配
線導体８である。平滑層４にはカラーフィルタＲに対応
する第１の端子導体３の上の部分に通孔５があるので、
第１の配線導体６は通孔５の部分において平滑層４の下
にある前記第１の端子導体３に接続する。第２及び第３
の端子導体９，１０は平滑層４の上下両辺に沿って形成
され、それぞれ第２及び第３の配線導体７，８と接続す
る。
６，７，８は、各カラーフィルタＲ，Ｇ，Ｂに対応して
線状に形成する。カラーフィルタＲに対応するのが第１
の配線導体６、カラーフィルタＧに対応するのが第２の
配線導体７、カラーフィルタＢに対応するのが第３の配
線導体８である。平滑層４にはカラーフィルタＲに対応
する第１の端子導体３の上の部分に通孔５があるので、
第１の配線導体６は通孔５の部分において平滑層４の下
にある前記第１の端子導体３に接続する。第２及び第３
の端子導体９，１０は平滑層４の上下両辺に沿って形成
され、それぞれ第２及び第３の配線導体７，８と接続す
る。
【００３０】従って、カラーフィルタＲに対応する多数
本の第１の配線導体６は、平滑層４下の第１の端子導体
３に接続され、カラーフィルタＧに対応する多数本の第
２の配線導体７は、平滑層４上の第２の端子導体９に接
続され、カラーフィルタＢに対応する多数本第３の配線
導体８は、平滑層４上の第３の端子導体１０に接続され
る。
本の第１の配線導体６は、平滑層４下の第１の端子導体
３に接続され、カラーフィルタＧに対応する多数本の第
２の配線導体７は、平滑層４上の第２の端子導体９に接
続され、カラーフィルタＢに対応する多数本第３の配線
導体８は、平滑層４上の第３の端子導体１０に接続され
る。
【００３１】以上の工程により、無機顔料のカラーフィ
ルタと、各色フィルタに対応した３ワイヤー構造の配線
導体を有し、これら３系統の配線導体を立体配線で引き
だした表示管用陽極基板１が得られる。
ルタと、各色フィルタに対応した３ワイヤー構造の配線
導体を有し、これら３系統の配線導体を立体配線で引き
だした表示管用陽極基板１が得られる。
【００３２】この表示管用陽極基板１を蛍光表示管やＦ
ＥＤに使用する場合には、配線導体６，７，８の上に蛍
光体層を形成する。蛍光体は、スクリーン印刷法、フォ
トリソグラフィー法等を用いて配線導体６，７，８の発
光予定箇所に形成する。赤緑青の各カラーフィルタＲ，
Ｇ，Ｂに対応して赤緑青の各色に発光する３種類の蛍光
体層を形成してもよいし、発光スペクトルが広いＺｎ
Ｏ：Ｚｎ蛍光体を共通に用いてもよい。これによって、
蛍光表示管用又はＦＥＤ用の陽極基板が完成する。ま
た、３つの端子導体は、外囲器の封着部分を気密に貫通
する外部端子によって外囲器外に導出することができ
る。
ＥＤに使用する場合には、配線導体６，７，８の上に蛍
光体層を形成する。蛍光体は、スクリーン印刷法、フォ
トリソグラフィー法等を用いて配線導体６，７，８の発
光予定箇所に形成する。赤緑青の各カラーフィルタＲ，
Ｇ，Ｂに対応して赤緑青の各色に発光する３種類の蛍光
体層を形成してもよいし、発光スペクトルが広いＺｎ
Ｏ：Ｚｎ蛍光体を共通に用いてもよい。これによって、
蛍光表示管用又はＦＥＤ用の陽極基板が完成する。ま
た、３つの端子導体は、外囲器の封着部分を気密に貫通
する外部端子によって外囲器外に導出することができ
る。
【００３３】本例において、平滑層４を構成するガラス
材は、以下の理由でＰｂ（鉛）を含まないＺｎＯ系の低
軟化点ガラス又は低融点ガラス（ＺｎＯ−Ｂ2 Ｏ3 −Ｓ
ｉＯ 2 やＢｉ2 Ｏ3 −ＺｎＯ−ＳｉＯ2 等）を使用する
ことが好ましい。
材は、以下の理由でＰｂ（鉛）を含まないＺｎＯ系の低
軟化点ガラス又は低融点ガラス（ＺｎＯ−Ｂ2 Ｏ3 −Ｓ
ｉＯ 2 やＢｉ2 Ｏ3 −ＺｎＯ−ＳｉＯ2 等）を使用する
ことが好ましい。
【００３４】本例で使用する前記ＺｎＯ系の低融点ガラ
スは、軟化点が例えば約６００℃、ガラス転移点が例え
ば約５００℃であり、両者の温度差は例えば約１００℃
と小さい。これに対し、Ｐｂを含むガラスはこの差が大
きく、例えば１５０℃以上にもなる。
スは、軟化点が例えば約６００℃、ガラス転移点が例え
ば約５００℃であり、両者の温度差は例えば約１００℃
と小さい。これに対し、Ｐｂを含むガラスはこの差が大
きく、例えば１５０℃以上にもなる。
【００３５】本例の表示管用陽極基板１は、蛍光表示管
等に使用されるものであるから、配線導体６，７，８の
上に蛍光体層を形成する際の焼成工程や、それに続くシ
ール形成や封着に伴う焼成工程がある。平滑層４となる
ガラスの転移点（粘度が４×１０14ｐｏｉｓｅの時の温
度。これより温度が上がると粘性流動が起こる。）は、
これら後工程での焼成温度（現状では５００℃）以上で
なければならない。なぜなら、ガラスの平滑層４上に形
成されるＩＴＯ配線等の薄膜の配線導体６，７，８が、
ガラスの平滑層４の粘性流動で断線してしまうためであ
る。本例で使用する前記ＺｎＯ系の低融点ガラスは、転
移点が例えば約５００℃であり、後工程の焼成温度と同
程度であるから断線の恐れはない。
等に使用されるものであるから、配線導体６，７，８の
上に蛍光体層を形成する際の焼成工程や、それに続くシ
ール形成や封着に伴う焼成工程がある。平滑層４となる
ガラスの転移点（粘度が４×１０14ｐｏｉｓｅの時の温
度。これより温度が上がると粘性流動が起こる。）は、
これら後工程での焼成温度（現状では５００℃）以上で
なければならない。なぜなら、ガラスの平滑層４上に形
成されるＩＴＯ配線等の薄膜の配線導体６，７，８が、
ガラスの平滑層４の粘性流動で断線してしまうためであ
る。本例で使用する前記ＺｎＯ系の低融点ガラスは、転
移点が例えば約５００℃であり、後工程の焼成温度と同
程度であるから断線の恐れはない。
【００３６】また、平滑層４となるガラスの軟化点（粘
度が４×１０7 ｐｏｉｓｅの時の温度。これより上の温
度が作業温度になる。）は、ガラス基板２の歪点より十
分に低くなければならない。本例で採用したホウ珪酸ガ
ラス基板２は、歪点が６５０℃である。本例で使用する
前記ＺｎＯ系の低融点ガラスは、軟化点が例えば約６０
０℃であり、安全である。
度が４×１０7 ｐｏｉｓｅの時の温度。これより上の温
度が作業温度になる。）は、ガラス基板２の歪点より十
分に低くなければならない。本例で採用したホウ珪酸ガ
ラス基板２は、歪点が６５０℃である。本例で使用する
前記ＺｎＯ系の低融点ガラスは、軟化点が例えば約６０
０℃であり、安全である。
【００３７】また、本例で使用する前記ＺｎＯ系の低融
点ガラスは、電気的に安定である。さらに、高電圧駆動
による絶縁抵抗の低下がない。
点ガラスは、電気的に安定である。さらに、高電圧駆動
による絶縁抵抗の低下がない。
【００３８】また、本例で使用する前記ＺｎＯ系の低融
点ガラスは、カラーフィルタＲ，Ｇ，Ｂやブラックマト
リクス材料に対して化学的に安定である。ＰｂＯは、フ
ィルタ材に用いられているＦｅ2 Ｏ3 （赤）と反応して
ＦｅＯ（黒）に変化させてしまうので、本例の材料とし
ては適当でない。
点ガラスは、カラーフィルタＲ，Ｇ，Ｂやブラックマト
リクス材料に対して化学的に安定である。ＰｂＯは、フ
ィルタ材に用いられているＦｅ2 Ｏ3 （赤）と反応して
ＦｅＯ（黒）に変化させてしまうので、本例の材料とし
ては適当でない。
【００３９】また、本例においてガラス基板２に高歪点
のホウ珪酸ガラス基板を用いる理由は、例え６００℃程
度の高温焼成を行っても、発生する反りや収縮が小さい
ためである。反りがあると他の基板と組み合わせてパネ
ル状の表示素子とした時に割れ易い。また、収縮は陽極
パターンのズレにつながる。
のホウ珪酸ガラス基板を用いる理由は、例え６００℃程
度の高温焼成を行っても、発生する反りや収縮が小さい
ためである。反りがあると他の基板と組み合わせてパネ
ル状の表示素子とした時に割れ易い。また、収縮は陽極
パターンのズレにつながる。
【００４０】次に、前記表示管用陽極基板（陽極基板）
１を用いて構成されたＦＥＤ１０について図４を参照し
て説明する。陽極基板１の配線導体６，７，８に蛍光体
層１２を形成する。赤緑青各色のカラーフィルタＲ，
Ｇ，Ｂごとに、それぞれＲＧＢに発光する異なる蛍光体
を用いてもよいし、ＲＧＢのカラーフィルタＲ，Ｇ，Ｂ
の各々にスペクトルが広いＺｎＯ：Ｚｎ蛍光体を用いて
もよい。この陽極基板１の蛍光体層１２側に対面して、
陰極基板１３が配置されている。陰極基板１３の内面に
は、ＦＥＣ１４が形成されて前記蛍光体層１２に対面し
ている。ＦＥＣ１４は、陰極基板１３の内面に形成され
た陰極導体１５と、陰極導体１５の上に形成された絶縁
層１６と、前記絶縁層１６の上に形成されたゲート電極
１７と、前記ゲート電極１７と前記絶縁層１６に形成さ
れたホール１８と、前記ホール１８の内部に露出した前
記陰極導体１５の上に形成されたコーン形状のエミッタ
１９とを有している。陰極基板１３のＦＥＣ１４側を、
前記陽極基板１の蛍光体層１２側に微小間隔をおいて対
面させ、両基板１，１３の外周の隙間を図示しないスペ
ーサ部材で封止して外囲器を構成し、該外囲器の内部を
高真空状態に排気する。
１を用いて構成されたＦＥＤ１０について図４を参照し
て説明する。陽極基板１の配線導体６，７，８に蛍光体
層１２を形成する。赤緑青各色のカラーフィルタＲ，
Ｇ，Ｂごとに、それぞれＲＧＢに発光する異なる蛍光体
を用いてもよいし、ＲＧＢのカラーフィルタＲ，Ｇ，Ｂ
の各々にスペクトルが広いＺｎＯ：Ｚｎ蛍光体を用いて
もよい。この陽極基板１の蛍光体層１２側に対面して、
陰極基板１３が配置されている。陰極基板１３の内面に
は、ＦＥＣ１４が形成されて前記蛍光体層１２に対面し
ている。ＦＥＣ１４は、陰極基板１３の内面に形成され
た陰極導体１５と、陰極導体１５の上に形成された絶縁
層１６と、前記絶縁層１６の上に形成されたゲート電極
１７と、前記ゲート電極１７と前記絶縁層１６に形成さ
れたホール１８と、前記ホール１８の内部に露出した前
記陰極導体１５の上に形成されたコーン形状のエミッタ
１９とを有している。陰極基板１３のＦＥＣ１４側を、
前記陽極基板１の蛍光体層１２側に微小間隔をおいて対
面させ、両基板１，１３の外周の隙間を図示しないスペ
ーサ部材で封止して外囲器を構成し、該外囲器の内部を
高真空状態に排気する。
【００４１】駆動時には、ＦＥＣ１４から放出された電
子は陽極基板１の蛍光体層１２に射突してこれを発光さ
せる。蛍光体層１２の発光は、配線導体６，７，８と、
各カラーフィルタＲ，Ｇ，Ｂと、ガラス基板２を通して
陽極基板１の外側から赤緑青の各色に観察される。スト
ライプ状の前記蛍光体層１２をドット状に選択的に発光
させる構造とすれば、フルカラーのグラフィック表示を
行える。
子は陽極基板１の蛍光体層１２に射突してこれを発光さ
せる。蛍光体層１２の発光は、配線導体６，７，８と、
各カラーフィルタＲ，Ｇ，Ｂと、ガラス基板２を通して
陽極基板１の外側から赤緑青の各色に観察される。スト
ライプ状の前記蛍光体層１２をドット状に選択的に発光
させる構造とすれば、フルカラーのグラフィック表示を
行える。
【００４２】次に、前記陽極基板１を用いて構成された
蛍光表示装置２０について図５を参照して説明する。陽
極基板１の配線導体６，７，８に蛍光体層１２を形成す
る。本例では、赤緑青各色のカラーフィルタＲ，Ｇ，Ｂ
ごとに、それぞれ赤緑青に発光する異なる蛍光体を用い
てもよいし、スペクトルが広いＺｎＯ：Ｚｎ蛍光体を共
通に用いてもよい。この陽極基板１の蛍光体層１２側に
所定の間隔をおいて背面基板２１が配置されている。陽
極基板１と背面基板２１の外周縁の間には、図示しない
側面板が設けられており、全体として箱形の外囲器が構
成されている。外囲器の内部において、図５において前
記蛍光体層１２の下方には制御電極２２が設けられ、さ
らに制御電極２２の下方にはフィラメント状の陰極２３
が張設されている。外囲器の内部は高真空状態に排気さ
れている。
蛍光表示装置２０について図５を参照して説明する。陽
極基板１の配線導体６，７，８に蛍光体層１２を形成す
る。本例では、赤緑青各色のカラーフィルタＲ，Ｇ，Ｂ
ごとに、それぞれ赤緑青に発光する異なる蛍光体を用い
てもよいし、スペクトルが広いＺｎＯ：Ｚｎ蛍光体を共
通に用いてもよい。この陽極基板１の蛍光体層１２側に
所定の間隔をおいて背面基板２１が配置されている。陽
極基板１と背面基板２１の外周縁の間には、図示しない
側面板が設けられており、全体として箱形の外囲器が構
成されている。外囲器の内部において、図５において前
記蛍光体層１２の下方には制御電極２２が設けられ、さ
らに制御電極２２の下方にはフィラメント状の陰極２３
が張設されている。外囲器の内部は高真空状態に排気さ
れている。
【００４３】駆動時には、フィラメント状の陰極２３か
ら放出された電子は制御電極２２に加速・制御されて陽
極基板１の蛍光体層１２に射突してこれを発光させる。
蛍光体層１２の発光は、配線導体６，７，８と、各カラ
ーフィルタＲ，Ｇ，Ｂと、ガラス基板２を通して陽極基
板１の外側から赤緑青の各色に観察される。前記蛍光体
層１２をドット状に選択的に発光させる構造とすれば、
フルカラーのグラフィック表示を行える。
ら放出された電子は制御電極２２に加速・制御されて陽
極基板１の蛍光体層１２に射突してこれを発光させる。
蛍光体層１２の発光は、配線導体６，７，８と、各カラ
ーフィルタＲ，Ｇ，Ｂと、ガラス基板２を通して陽極基
板１の外側から赤緑青の各色に観察される。前記蛍光体
層１２をドット状に選択的に発光させる構造とすれば、
フルカラーのグラフィック表示を行える。
【００４４】本例では、ガラス基板２の内面に光学効果
層として赤緑青のカラーフィルタＲ，Ｇ，Ｂが設けられ
ていたが、本発明はカラーフィルタＲ，Ｇ，Ｂ以外の光
学効果層にも適用可能である。光学効果層としては、例
えばブラックマトリクスでもよいし、カラーフィルタと
ブラックマトリクスの組み合わせでもよい。なお、ブラ
ックマトリクスは、スクリーン印刷法、エッチング法、
ホトリソグラフィー法、埋め込み法等で形成することが
でき、例えば、特願平８−６５０６６号記載のブラック
マトリックスペーストを用いて形成できる。
層として赤緑青のカラーフィルタＲ，Ｇ，Ｂが設けられ
ていたが、本発明はカラーフィルタＲ，Ｇ，Ｂ以外の光
学効果層にも適用可能である。光学効果層としては、例
えばブラックマトリクスでもよいし、カラーフィルタと
ブラックマトリクスの組み合わせでもよい。なお、ブラ
ックマトリクスは、スクリーン印刷法、エッチング法、
ホトリソグラフィー法、埋め込み法等で形成することが
でき、例えば、特願平８−６５０６６号記載のブラック
マトリックスペーストを用いて形成できる。
【００４５】本発明の用途は蛍光表示管やＦＥＤの陽極
基板専用に限られたものではなく、透明導電膜を有する
表示デバイスに広く使用可能であり、例えば、プラズマ
ディスプレイ等やメタルバックを有する表示デバイスに
も適用することができる。
基板専用に限られたものではなく、透明導電膜を有する
表示デバイスに広く使用可能であり、例えば、プラズマ
ディスプレイ等やメタルバックを有する表示デバイスに
も適用することができる。
【００４６】
【発明の効果】本発明によれば、複数系統の配線を有す
る表示管用陽極基板において、カラーフィルタ等の光学
効果層を平坦化するための平滑層を用いた立体配線によ
って配線の引き出しが容易になった。光学効果層を平坦
化するための平滑層を立体配線にも兼用するのであるか
ら、立体配線のために専用の絶縁層を設ける必要がな
く、工程が増えることなく光学効果層と複数系統配線を
備えた表示管用陽極基板を得ることができる。
る表示管用陽極基板において、カラーフィルタ等の光学
効果層を平坦化するための平滑層を用いた立体配線によ
って配線の引き出しが容易になった。光学効果層を平坦
化するための平滑層を立体配線にも兼用するのであるか
ら、立体配線のために専用の絶縁層を設ける必要がな
く、工程が増えることなく光学効果層と複数系統配線を
備えた表示管用陽極基板を得ることができる。
【図１】本発明の実施の形態の一例である表示管用陽極
基板１の製造工程を示す図であって、カラーフィルタ
Ｒ，Ｇ，Ｂと第１の端子導体３が内面に形成されたガラ
ス基板２の平面図である。
基板１の製造工程を示す図であって、カラーフィルタ
Ｒ，Ｇ，Ｂと第１の端子導体３が内面に形成されたガラ
ス基板２の平面図である。
【図２】本発明の実施の形態の一例である表示管用陽極
基板１の製造工程を示す図であって、図１で示すガラス
基板２に平滑層４を形成した状態を示す平面図である。
基板１の製造工程を示す図であって、図１で示すガラス
基板２に平滑層４を形成した状態を示す平面図である。
【図３】本発明の実施の形態の一例である表示管用陽極
基板１の製造工程を示す図であって、図２で示すガラス
基板２の平滑層４の上に配線導体６，７，８を形成した
状態を示す平面図である。
基板１の製造工程を示す図であって、図２で示すガラス
基板２の平滑層４の上に配線導体６，７，８を形成した
状態を示す平面図である。
【図４】本発明の実施の形態の表示管用陽極基板１を用
いたＦＥＤの断面図である。
いたＦＥＤの断面図である。
【図５】本発明の実施の形態の表示管用陽極基板１を用
いた蛍光表示管の断面図である。
いた蛍光表示管の断面図である。
【図６】３系統の陽極導体を有する従来の表示管用陽極
基板の平面図である。
基板の平面図である。
１ 表示管用陽極基板 ２ ガラス基板 ３ 第１の端子導体 ４ 平滑層 ５ 通孔 ６ 第１の配線導体 ７ 第２の配線導体 ８ 第３の配線導体 ９ 第２の端子導体 １０ 第３の端子導体 Ｒ，Ｇ，Ｂ 光学効果層としてのカラーフィルタ
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 ＦＩ Ｈ０１Ｊ 9/227 Ｈ０１Ｊ 9/227 Ｆ 29/86 29/86 Ｚ 31/12 31/12 Ｃ 31/15 31/15 Ｄ
Claims (10)
- 【請求項１】 ガラス基板と、前記ガラス基板の内面に
形成された光学効果層と、前記ガラス基板の内面に形成
された第１の端子導体と、前記光学効果層と前記第１の
端子導体を覆うとともに前記第１の端子導体に相当する
部分に通孔が形成された低融点ガラスからなる透光性の
平滑層と、前記平滑層の上に形成され、前記平滑層の通
孔を介して前記第１の端子導体に接続される第１の配線
導体と、前記平滑層の上に形成された第２の配線導体
と、前記平滑層の上に形成されて前記第２の配線導体が
接続される第２の端子導体と、前記平滑層の上に形成さ
れた第３の配線導体と、前記平滑層の上に形成されて前
記第３の配線導体が接続される第３の端子導体とを有す
る表示管用陽極基板。 - 【請求項２】 前記光学効果層が赤・緑・青の各色のカ
ラーフィルタである請求項１記載の表示管用陽極基板。 - 【請求項３】 前記光学効果層がブラックマトリクスで
ある請求項１記載の表示管用陽極基板。 - 【請求項４】 前記光学効果層が赤・緑・青の各色のカ
ラーフィルタと該カラーフィルタを区画するブラックマ
トリクスである請求項１記載の表示管用陽極基板。 - 【請求項５】 前記ガラス基板がホウ珪酸ガラス基板で
ある請求項１記載の表示管用陽極基板。 - 【請求項６】 前記低融点ガラスは、形成膜厚１０μｍ
以上で可視光透過率が９０％以上であることを特徴とす
る請求項１記載の表示管用陽極基板。 - 【請求項７】 前記低融点ガラスは、軟化点が前記ガラ
ス基板の歪点以上であり、低融点ガラスのガラス転移点
が後工程における加熱温度以上であることを特徴とする
請求項１記載の表示管用陽極基板。 - 【請求項８】 前記低融点ガラスが、Ｐｂを含まないＺ
ｎＯ系のガラスである請求項７記載の表示管用陽極基
板。 - 【請求項９】 前記Ｐｂを含まないＺｎＯ系のガラス
が、ＺｎＯ−Ｂ2 Ｏ3−ＳｉＯ2 系低融点ガラスとＢｉ
2 Ｏ3 −ＺｎＯ−ＳｉＯ2 系低融点ガラスからなる群か
ら選択された請求項８記載の表示管用陽極基板。 - 【請求項１０】 ガラス基板の内面に第１の端子導体と
所定パターンの光学効果層とを形成し、 前記第１の端子導体に相当する部分に通孔が形成された
低融点ガラスからなる透光性の平滑層を前記光学効果層
と前記第１の端子導体を覆うように形成し、 前記平滑層の上に、前記光学効果層の前記パターンに適
合したパターンを有する第１〜第３の配線導体と、前記
第２及び第３の配線導体に接続する第２及び第３の端子
導体とを形成し、前記第１の配線導体は前記平滑層の通
孔を介して前記第１の端子導体に電気的に接続されるよ
うに構成した表示管用陽極基板の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP35548897A JPH11185653A (ja) | 1997-12-24 | 1997-12-24 | 表示管用陽極基板とその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP35548897A JPH11185653A (ja) | 1997-12-24 | 1997-12-24 | 表示管用陽極基板とその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11185653A true JPH11185653A (ja) | 1999-07-09 |
Family
ID=18444243
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP35548897A Pending JPH11185653A (ja) | 1997-12-24 | 1997-12-24 | 表示管用陽極基板とその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11185653A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002025477A (ja) * | 2000-07-07 | 2002-01-25 | Ise Electronics Corp | 平面ディスプレイ及びその製造方法 |
| JP2006190539A (ja) * | 2005-01-05 | 2006-07-20 | Dialight Japan Co Ltd | フィールドエミッション型面状光源 |
-
1997
- 1997-12-24 JP JP35548897A patent/JPH11185653A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002025477A (ja) * | 2000-07-07 | 2002-01-25 | Ise Electronics Corp | 平面ディスプレイ及びその製造方法 |
| JP2006190539A (ja) * | 2005-01-05 | 2006-07-20 | Dialight Japan Co Ltd | フィールドエミッション型面状光源 |
| JP4691363B2 (ja) * | 2005-01-05 | 2011-06-01 | 株式会社ピュアロンジャパン | フィールドエミッション型面状光源 |
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