JPH11171578A - 光ファイバ用ガラス母材の製造方法及び製造装置 - Google Patents
光ファイバ用ガラス母材の製造方法及び製造装置Info
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- JPH11171578A JPH11171578A JP9348530A JP34853097A JPH11171578A JP H11171578 A JPH11171578 A JP H11171578A JP 9348530 A JP9348530 A JP 9348530A JP 34853097 A JP34853097 A JP 34853097A JP H11171578 A JPH11171578 A JP H11171578A
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- C03B37/01—Manufacture of glass fibres or filaments
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- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
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- Manufacture, Treatment Of Glass Fibers (AREA)
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Abstract
(57)【要約】 （修正有）
【課題】 反応容器内が乾燥し過ぎて、静電気により反
応生成すすが反応容器壁面に付着、凝集したり、逆に水
蒸気が多くなって壁面で結露し、すすがこびり付いた
り、のぞき窓が曇ったりすることを防止し、また、すす
が引上げ中のプリフォームに付着したり融け込まないよ
うにして製品の品質を向上させ、安定した操業が可能と
なる光ファイバ用ガラス母材の製造方法および製造装置
を提供する。 【解決手段】 原料ラインとガスラインが接続されるバ
ーナから石英基材の表面に向けてファイバ用原料と反応
ガスを吹き付け、前記基材の所定部にすす状の反応生成
物を堆積して光ファイバ用ガラス母材を製造する方法に
おいて、反応中に火炎加水分解反応によりバーナから発
生する水蒸気量に対して、２〜３０倍量の乾燥空気を反
応容器内に導入することを特徴とする光ファイバ用ガラ
ス母材の製造方法と製造装置。
応生成すすが反応容器壁面に付着、凝集したり、逆に水
蒸気が多くなって壁面で結露し、すすがこびり付いた
り、のぞき窓が曇ったりすることを防止し、また、すす
が引上げ中のプリフォームに付着したり融け込まないよ
うにして製品の品質を向上させ、安定した操業が可能と
なる光ファイバ用ガラス母材の製造方法および製造装置
を提供する。 【解決手段】 原料ラインとガスラインが接続されるバ
ーナから石英基材の表面に向けてファイバ用原料と反応
ガスを吹き付け、前記基材の所定部にすす状の反応生成
物を堆積して光ファイバ用ガラス母材を製造する方法に
おいて、反応中に火炎加水分解反応によりバーナから発
生する水蒸気量に対して、２〜３０倍量の乾燥空気を反
応容器内に導入することを特徴とする光ファイバ用ガラ
ス母材の製造方法と製造装置。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、光ファイバ用ガラ
ス母材（プリフォーム）の製造にあたり、反応容器内が
乾燥し過ぎて、静電気により反応生成すすが反応容器壁
面に付着、凝集したり、逆に水蒸気が多くなって壁面で
結露し、すすをこびり付かせたり、のぞき窓を曇らせた
りすることを防止するための技術に関する。
ス母材（プリフォーム）の製造にあたり、反応容器内が
乾燥し過ぎて、静電気により反応生成すすが反応容器壁
面に付着、凝集したり、逆に水蒸気が多くなって壁面で
結露し、すすをこびり付かせたり、のぞき窓を曇らせた
りすることを防止するための技術に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、光ファイバの製造工程において、
直接、極細の光ファイバを作ろうとすると、最適の屈折
率分布を持たせる制御が困難である等の理由から、ま
ず、同じ屈折率を有する径の太いガラス母材（プリフォ
ーム）を作製し、このガラス母材を加熱して外径を一定
に制御しながら細く長く引き伸ばすことで、極細の光フ
ァイバを製造するような方法が採られる。
直接、極細の光ファイバを作ろうとすると、最適の屈折
率分布を持たせる制御が困難である等の理由から、ま
ず、同じ屈折率を有する径の太いガラス母材（プリフォ
ーム）を作製し、このガラス母材を加熱して外径を一定
に制御しながら細く長く引き伸ばすことで、極細の光フ
ァイバを製造するような方法が採られる。
【０００３】ここで、ガラス母材の製造方法として、例
えばＶＡＤ法（気相軸付け法）とか、ＣＶＤ法（化学気
相蒸着法）等が知られており、前者のＶＡＤ法は、石英
基材を回転させながら、石英基材の下方から四塩化ケイ
素（ＳｉＣｌ4 ）、四塩化ゲルマニウム（ＧｅＣｌ4 ）
等の原料を、Ｈ2 、Ｏ2 ガスとともに吹き付け、酸水素
バーナにより火炎加水分解反応を起こさせ、石英基材の
下方にすす状の反応生成物（ＳｉＯ2 ）を軸方向に堆積
させてゆき、この石英基材を回転させつつ上方に引上げ
てガラス母材とするようにしている。
えばＶＡＤ法（気相軸付け法）とか、ＣＶＤ法（化学気
相蒸着法）等が知られており、前者のＶＡＤ法は、石英
基材を回転させながら、石英基材の下方から四塩化ケイ
素（ＳｉＣｌ4 ）、四塩化ゲルマニウム（ＧｅＣｌ4 ）
等の原料を、Ｈ2 、Ｏ2 ガスとともに吹き付け、酸水素
バーナにより火炎加水分解反応を起こさせ、石英基材の
下方にすす状の反応生成物（ＳｉＯ2 ）を軸方向に堆積
させてゆき、この石英基材を回転させつつ上方に引上げ
てガラス母材とするようにしている。
【０００４】また、後者のＣＶＤ法は、石英管の内周面
に反応生成物を堆積させた後、石英管をつぶすいわゆる
内付けＣＶＤ法と、石英基材の外周面に径方向に反応生
成物を堆積させた後、石英基材を引抜いてつぶすいわゆ
る外付けＣＶＤ法が知られているが、外付けＣＶＤ法の
場合も前記ＶＡＤ法と同様に、酸水素バーナから四塩化
ケイ素（ＳｉＣｌ4 ）、四塩化ゲルマニウム（ＧｅＣｌ
4 ）等の原料を、Ｈ2、Ｏ2 ガスとともに吹き付けるよ
うにしている。
に反応生成物を堆積させた後、石英管をつぶすいわゆる
内付けＣＶＤ法と、石英基材の外周面に径方向に反応生
成物を堆積させた後、石英基材を引抜いてつぶすいわゆ
る外付けＣＶＤ法が知られているが、外付けＣＶＤ法の
場合も前記ＶＡＤ法と同様に、酸水素バーナから四塩化
ケイ素（ＳｉＣｌ4 ）、四塩化ゲルマニウム（ＧｅＣｌ
4 ）等の原料を、Ｈ2、Ｏ2 ガスとともに吹き付けるよ
うにしている。
【０００５】そしてこれらＶＡＤ法とか外付けＣＶＤ法
の場合は、四塩化ケイ素（ＳｉＣｌ4 ）、四塩化ゲルマ
ニウム（ＧｅＣｌ4 ）等の原料を送給するための各原料
ラインと、Ｈ2 ガス、Ｏ2 ガスを送給するための各ガス
ラインがチャンバ内に臨むバーナに接続され、ガラス母
材を製造することが出来るようになっている。
の場合は、四塩化ケイ素（ＳｉＣｌ4 ）、四塩化ゲルマ
ニウム（ＧｅＣｌ4 ）等の原料を送給するための各原料
ラインと、Ｈ2 ガス、Ｏ2 ガスを送給するための各ガス
ラインがチャンバ内に臨むバーナに接続され、ガラス母
材を製造することが出来るようになっている。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】ところで、上記のよう
な光ファイバ用ガラス母材製造装置において、その反応
容器内では、酸水素火炎加水分解反応により生成した水
蒸気が、反応容器内壁面で結露し、例えば、ＶＡＤ法の
場合には、バーナ−ターゲット部−排気管を結ぶ反応ガ
スが主に流れる経路（火炎流域）から外れた石英基材基
部の近傍やのぞき窓その他の制御用窓のガラス面に水滴
が多数凝縮するようになる。また、ターゲット部に付着
しなかったすすが迷走、失速して反応容器内壁面に付着
し、水滴があればベタ付き、これが乾燥すれば膜状にこ
びり付くようになる。さらに剥がれ落ちたすすが石英基
材の側面あるいは基部に付着したりターゲット部に融着
したりすると異物となり品質を低下させることになる。
な光ファイバ用ガラス母材製造装置において、その反応
容器内では、酸水素火炎加水分解反応により生成した水
蒸気が、反応容器内壁面で結露し、例えば、ＶＡＤ法の
場合には、バーナ−ターゲット部−排気管を結ぶ反応ガ
スが主に流れる経路（火炎流域）から外れた石英基材基
部の近傍やのぞき窓その他の制御用窓のガラス面に水滴
が多数凝縮するようになる。また、ターゲット部に付着
しなかったすすが迷走、失速して反応容器内壁面に付着
し、水滴があればベタ付き、これが乾燥すれば膜状にこ
びり付くようになる。さらに剥がれ落ちたすすが石英基
材の側面あるいは基部に付着したりターゲット部に融着
したりすると異物となり品質を低下させることになる。
【０００７】そこで、従来は、このような水蒸気の結
露、すすの壁面付着を防止するために空気を反応容器内
に導入したり、壁面に吹き付けたりしていたが、その導
入量、導入方法は経験的に適当に決定されており、装置
の規模や製造条件が変更されると空気の導入位置や導入
空気量が実状に合わなくなり、例えば、導入空気量が多
くなり過ぎると、反応容器内が乾燥し過ぎて静電気が発
生し、帯電したすすが壁面に多量付着してガス流を乱
し、反応制御が困難になるようなことがある。また、製
造終了後の反応容器内の清掃時に、火花が発生する等の
問題があった。
露、すすの壁面付着を防止するために空気を反応容器内
に導入したり、壁面に吹き付けたりしていたが、その導
入量、導入方法は経験的に適当に決定されており、装置
の規模や製造条件が変更されると空気の導入位置や導入
空気量が実状に合わなくなり、例えば、導入空気量が多
くなり過ぎると、反応容器内が乾燥し過ぎて静電気が発
生し、帯電したすすが壁面に多量付着してガス流を乱
し、反応制御が困難になるようなことがある。また、製
造終了後の反応容器内の清掃時に、火花が発生する等の
問題があった。
【０００８】また、導入空気量が少な過ぎると、水蒸気
や水滴が反応容器から排出されにくくなるので、反応容
器の内圧測定用の圧力タップ内に水滴が溜り、正確な内
圧測定が出来なくなったり、のぞき窓やその他の制御用
窓に水滴とすすが付着した場合、こびり付いて汚れが落
ちなくなる等の不具合を生じていた。
や水滴が反応容器から排出されにくくなるので、反応容
器の内圧測定用の圧力タップ内に水滴が溜り、正確な内
圧測定が出来なくなったり、のぞき窓やその他の制御用
窓に水滴とすすが付着した場合、こびり付いて汚れが落
ちなくなる等の不具合を生じていた。
【０００９】そこで、本発明は、このような問題点に鑑
みなされたもので、光ファイバ用ガラス母材（プリフォ
ーム）の製造にあたり、導入空気の量を経験的に決定す
るのではなく、反応容器内が乾燥し過ぎて、静電気によ
り反応生成すすが反応容器壁面に付着、凝集したり、逆
に水蒸気が多くなって壁面で結露し、すすをこびり付か
せたり、のぞき窓を曇らせたりすることを確実に防止す
ることができ、また、剥がれ落ちたすすが引き上げ中の
プリフォームの側面あるいは基部に付着したり融け込ま
ないようにして製品の品質を向上させ、安定した操業が
可能となる光ファイバ用ガラス母材の製造方法および製
造装置を提供することを目的とする。
みなされたもので、光ファイバ用ガラス母材（プリフォ
ーム）の製造にあたり、導入空気の量を経験的に決定す
るのではなく、反応容器内が乾燥し過ぎて、静電気によ
り反応生成すすが反応容器壁面に付着、凝集したり、逆
に水蒸気が多くなって壁面で結露し、すすをこびり付か
せたり、のぞき窓を曇らせたりすることを確実に防止す
ることができ、また、剥がれ落ちたすすが引き上げ中の
プリフォームの側面あるいは基部に付着したり融け込ま
ないようにして製品の品質を向上させ、安定した操業が
可能となる光ファイバ用ガラス母材の製造方法および製
造装置を提供することを目的とする。
【００１０】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するた
め、本発明の請求項１に記載した発明は、原料ラインと
ガスラインが接続されるバーナから石英基材の表面に向
けてファイバ用原料と反応ガスを吹き付け、前記基材の
所定部にすす状の反応生成物を堆積して光ファイバ用ガ
ラス母材を製造する方法において、反応中に火炎加水分
解反応によりバーナから発生する水蒸気量に対して、２
〜３０倍量の乾燥空気を反応容器内に導入することを特
徴とする光ファイバ用ガラス母材の製造方法である。
め、本発明の請求項１に記載した発明は、原料ラインと
ガスラインが接続されるバーナから石英基材の表面に向
けてファイバ用原料と反応ガスを吹き付け、前記基材の
所定部にすす状の反応生成物を堆積して光ファイバ用ガ
ラス母材を製造する方法において、反応中に火炎加水分
解反応によりバーナから発生する水蒸気量に対して、２
〜３０倍量の乾燥空気を反応容器内に導入することを特
徴とする光ファイバ用ガラス母材の製造方法である。
【００１１】このように、火炎加水分解反応によりバー
ナから発生する水蒸気量（ＮＴＰ換算）に対して、２〜
３０倍量の乾燥空気を、火炎流を乱さないような線速度
と流量で上記石英基材基部及びのぞき窓その他の制御用
窓から導入すれば、反応容器内の火炎流域外の容器壁面
近傍や死角領域は適度の湿度が保たれるようになり、ま
た、適度な速度で乾燥空気が流れているので、すすが迷
走して石英基材側面に付着したり、のぞき窓を汚染した
り、窓に水分が結露するようなことがなくなり、汚染の
ない光ファイバ用母材を製造することができる。また、
制御用窓の結露がなくなれば、正常な計測が可能とな
り、コントローラの誤作動もなくなり、安定した運転が
可能となる。さらに、適度な湿度があるので静電気によ
る壁面への乾燥粉塵の付着も減少し、運転停止時に行う
清掃作業中に火花が発生することもなくなる等安全性の
高い運転が可能となる。
ナから発生する水蒸気量（ＮＴＰ換算）に対して、２〜
３０倍量の乾燥空気を、火炎流を乱さないような線速度
と流量で上記石英基材基部及びのぞき窓その他の制御用
窓から導入すれば、反応容器内の火炎流域外の容器壁面
近傍や死角領域は適度の湿度が保たれるようになり、ま
た、適度な速度で乾燥空気が流れているので、すすが迷
走して石英基材側面に付着したり、のぞき窓を汚染した
り、窓に水分が結露するようなことがなくなり、汚染の
ない光ファイバ用母材を製造することができる。また、
制御用窓の結露がなくなれば、正常な計測が可能とな
り、コントローラの誤作動もなくなり、安定した運転が
可能となる。さらに、適度な湿度があるので静電気によ
る壁面への乾燥粉塵の付着も減少し、運転停止時に行う
清掃作業中に火花が発生することもなくなる等安全性の
高い運転が可能となる。
【００１２】そして、本発明の請求項２に記載した発明
は、原料ラインとガスラインが接続されるバーナから石
英基材の表面に向けてファイバ用原料と反応ガスを吹き
付け、前記基材の所定部にすす状の反応生成物を堆積し
て光ファイバ用ガラス母材を製造する装置において、反
応中発生する水蒸気量に対して２〜３０倍量の乾燥空気
を導入することができるようにしたことを特徴とする光
ファイバ用ガラス母材の製造装置である。
は、原料ラインとガスラインが接続されるバーナから石
英基材の表面に向けてファイバ用原料と反応ガスを吹き
付け、前記基材の所定部にすす状の反応生成物を堆積し
て光ファイバ用ガラス母材を製造する装置において、反
応中発生する水蒸気量に対して２〜３０倍量の乾燥空気
を導入することができるようにしたことを特徴とする光
ファイバ用ガラス母材の製造装置である。
【００１３】このような空気量を導入できる装置とすれ
ば、前記結露等の問題を防止することができる。
ば、前記結露等の問題を防止することができる。
【００１４】また、本発明の請求項３に記載した発明
は、前記乾燥空気の導入は、少なくとも石英基材の基部
及び反応容器のぞき窓から行えるようにした。
は、前記乾燥空気の導入は、少なくとも石英基材の基部
及び反応容器のぞき窓から行えるようにした。
【００１５】このように、バーナから出た火炎流がター
ゲット部に当たり排気口に至る火炎流域外、すなわち、
火炎流が流れ込みにくい、死角領域に位置する石英基材
基部、及び温度が低くてガスが滞留し易い枝管に付けた
のぞき窓やその他の制御用窓の周辺から該反応容器内部
に向けて乾燥空気を導入する配管を設けたことにより、
死角がなくなり、すすが迷い込んで石英基材側面に付い
たり、窓を汚染したり、窓に水分が結露することをなく
することができる。
ゲット部に当たり排気口に至る火炎流域外、すなわち、
火炎流が流れ込みにくい、死角領域に位置する石英基材
基部、及び温度が低くてガスが滞留し易い枝管に付けた
のぞき窓やその他の制御用窓の周辺から該反応容器内部
に向けて乾燥空気を導入する配管を設けたことにより、
死角がなくなり、すすが迷い込んで石英基材側面に付い
たり、窓を汚染したり、窓に水分が結露することをなく
することができる。
【００１６】
【発明の実施の形態】本発明の実施の形態について添付
した図面に基づき説明するが、本発明はこれらに限定さ
れるものではない。ここで、図１は本発明の製造装置に
係り乾燥空気導入配管を設けた場合の構成例を示す概要
図である。
した図面に基づき説明するが、本発明はこれらに限定さ
れるものではない。ここで、図１は本発明の製造装置に
係り乾燥空気導入配管を設けた場合の構成例を示す概要
図である。
【００１７】本発明の光ファイバ用ガラス母材の製造装
置は、例えばＶＡＤ法（気相軸付け法）によるガラス母
材（プリフォーム）の製造装置に適用され、この装置
は、図１に示すように、基材としての石英基材２が挿入
されるチャンバ１と、このチャンバ１内を真空状態にす
る排気管３と、前記石英基材２の下端のターゲット部２
ａに先端を向けて配置されるバーナ４を備えており、こ
のバーナ４に、光ファイバの原料となる四塩化ケイ素
（ＳｉＣｌ4 ）、屈折率を制御するためのドーパントと
しての四塩化ゲルマニウム（ＧｅＣｌ4 ）等の原料ライ
ンとか、Ｈ2 ガス、Ｏ2 ガス等のガスライン（原料・ガ
スラインＲ、…）が接続されている。
置は、例えばＶＡＤ法（気相軸付け法）によるガラス母
材（プリフォーム）の製造装置に適用され、この装置
は、図１に示すように、基材としての石英基材２が挿入
されるチャンバ１と、このチャンバ１内を真空状態にす
る排気管３と、前記石英基材２の下端のターゲット部２
ａに先端を向けて配置されるバーナ４を備えており、こ
のバーナ４に、光ファイバの原料となる四塩化ケイ素
（ＳｉＣｌ4 ）、屈折率を制御するためのドーパントと
しての四塩化ゲルマニウム（ＧｅＣｌ4 ）等の原料ライ
ンとか、Ｈ2 ガス、Ｏ2 ガス等のガスライン（原料・ガ
スラインＲ、…）が接続されている。
【００１８】そして、本実施形態では乾燥空気導入配管
７を、石英基材２の基部にある円環状の導入口５および
ぞき窓６のガラス内面に乾燥空気が当たるように接続し
ている。また、その他の制御用窓（不図示）がある場合
は、のぞき窓と同様に配管すればよい。
７を、石英基材２の基部にある円環状の導入口５および
ぞき窓６のガラス内面に乾燥空気が当たるように接続し
ている。また、その他の制御用窓（不図示）がある場合
は、のぞき窓と同様に配管すればよい。
【００１９】そしてこのような装置により、石英基材２
を回転させつつターゲット部２ａに向けてバーナ４から
原料とガスを吹き付け、火炎加水分解反応を起こさせて
ターゲット部２ａの表面にすす状の反応生成物（ＳｉＯ
2 ）を軸方向に堆積させてゆくとともに、石英基材２を
引上げて、光ファイバ用ガラス母材を製造する。
を回転させつつターゲット部２ａに向けてバーナ４から
原料とガスを吹き付け、火炎加水分解反応を起こさせて
ターゲット部２ａの表面にすす状の反応生成物（ＳｉＯ
2 ）を軸方向に堆積させてゆくとともに、石英基材２を
引上げて、光ファイバ用ガラス母材を製造する。
【００２０】一方、ＶＡＤ法により、光ファイバ用ガラ
ス母材を製造する場合、火炎は、バーナ４の先端部から
ターゲット部２ａを経由して排気管３に至る火炎流域を
形成し、すす状の反応生成物はこの火炎流に乗ってター
ゲット部２ａに衝突し、その大部分はターゲット部２ａ
に堆積してゆくが、一部はこの火炎流域から飛び出し、
乱流に乗って容器壁面や火炎流の死角になる石英基材２
の基部あるいは側面に至って失速し付着、堆積するよう
になる。
ス母材を製造する場合、火炎は、バーナ４の先端部から
ターゲット部２ａを経由して排気管３に至る火炎流域を
形成し、すす状の反応生成物はこの火炎流に乗ってター
ゲット部２ａに衝突し、その大部分はターゲット部２ａ
に堆積してゆくが、一部はこの火炎流域から飛び出し、
乱流に乗って容器壁面や火炎流の死角になる石英基材２
の基部あるいは側面に至って失速し付着、堆積するよう
になる。
【００２１】また、火炎加水分解反応で生成した水分は
水蒸気となってこれも大部分は火炎流と共に排気される
が、一部は乱流に乗って上記すすと同じように行動し、
低温の壁面やのぞき窓のガラス面で結露してしまう。こ
の際、すすを巻き込んで壁面やガラス面にこびり付くこ
ともある。
水蒸気となってこれも大部分は火炎流と共に排気される
が、一部は乱流に乗って上記すすと同じように行動し、
低温の壁面やのぞき窓のガラス面で結露してしまう。こ
の際、すすを巻き込んで壁面やガラス面にこびり付くこ
ともある。
【００２２】このように、ターゲット部２ａに当たらな
かったり、火炎流域から飛び出してしまったり、排気口
から排出されなかったすすは、製品となるプリフォーム
にとっては、不純物であり異物となってしまう。従っ
て、このようなすすは引き上げ中のプリフォームに付着
したり、融け込むようなことはあってはならない。
かったり、火炎流域から飛び出してしまったり、排気口
から排出されなかったすすは、製品となるプリフォーム
にとっては、不純物であり異物となってしまう。従っ
て、このようなすすは引き上げ中のプリフォームに付着
したり、融け込むようなことはあってはならない。
【００２３】そこで、従来からこのような水分の結露、
すすの壁面付着を防止するために空気を反応容器内に導
入したり、壁面に吹き付けたりしていたが、その導入
量、導入方法は経験的に決めていたため、装置の規模や
製造条件が変更されると導入位置や導入空気量が実状に
合わなくなり、例えば、導入空気量が多くなり過ぎる
と、反応容器内が乾燥し過ぎて静電気が発生し、帯電し
たすすが壁面に多量に付着してガス流を乱し、反応制御
が困難になるようなことがある。また、製造終了後の清
掃時に、火花が発生する等の問題があった。
すすの壁面付着を防止するために空気を反応容器内に導
入したり、壁面に吹き付けたりしていたが、その導入
量、導入方法は経験的に決めていたため、装置の規模や
製造条件が変更されると導入位置や導入空気量が実状に
合わなくなり、例えば、導入空気量が多くなり過ぎる
と、反応容器内が乾燥し過ぎて静電気が発生し、帯電し
たすすが壁面に多量に付着してガス流を乱し、反応制御
が困難になるようなことがある。また、製造終了後の清
掃時に、火花が発生する等の問題があった。
【００２４】さらに、導入空気量が少な過ぎると、水蒸
気や水滴が反応容器から排出されにくくなるので、反応
容器の内圧測定用の圧力タップ内に水滴が溜り、正確な
内圧測定が出来なくなったり、のぞき窓その他の制御窓
に水滴とすすが付着した場合、こびり付いて汚れが落ち
なくなる等の不具合を生じていた。
気や水滴が反応容器から排出されにくくなるので、反応
容器の内圧測定用の圧力タップ内に水滴が溜り、正確な
内圧測定が出来なくなったり、のぞき窓その他の制御窓
に水滴とすすが付着した場合、こびり付いて汚れが落ち
なくなる等の不具合を生じていた。
【００２５】そこで、本発明は、この火炎流域外の死角
に入り込んだり、壁面に沿って滞留するすすや水蒸気、
水分を確実に追い出し、また、反応容器内を乾燥し過ぎ
ないように水蒸気や水分を適切量残し、また、水蒸気や
水分が多過ぎないように排出させながらガラス母材を製
造することができる乾燥空気の導入および導入方法を決
定することにした。すなわち、図１に示す構成例では、
乾燥空気導入配管７を、この例では、石英基材２の基部
に円環状に配置し、石英基材２の基部から先端のターゲ
ット部２ａに向けて乾燥空気を流すようにした。また、
のぞき窓６のガラス内面に乾燥空気が当たるように配管
した。別に、制御用窓（不図示）がある場合は、のぞき
窓と同様に配管すれば効果的である。
に入り込んだり、壁面に沿って滞留するすすや水蒸気、
水分を確実に追い出し、また、反応容器内を乾燥し過ぎ
ないように水蒸気や水分を適切量残し、また、水蒸気や
水分が多過ぎないように排出させながらガラス母材を製
造することができる乾燥空気の導入および導入方法を決
定することにした。すなわち、図１に示す構成例では、
乾燥空気導入配管７を、この例では、石英基材２の基部
に円環状に配置し、石英基材２の基部から先端のターゲ
ット部２ａに向けて乾燥空気を流すようにした。また、
のぞき窓６のガラス内面に乾燥空気が当たるように配管
した。別に、制御用窓（不図示）がある場合は、のぞき
窓と同様に配管すれば効果的である。
【００２６】そして、反応容器内に導入される乾燥空気
量としては、火炎加水分解反応によって発生する水蒸気
量（ＮＴＰ換算）の２〜３０倍量（ＮＴＰ換算）、より
好ましくは４〜８倍が適量である。２倍量未満では少な
過ぎて、すすや水分が停滞して、壁面に付着したり、結
露し易くなる。また、３０倍量を超えると多過ぎて容器
内が乾燥し過ぎの状態となり、浮遊しているすすが帯電
して壁面に大量に付着し易くなったりするからである。
量としては、火炎加水分解反応によって発生する水蒸気
量（ＮＴＰ換算）の２〜３０倍量（ＮＴＰ換算）、より
好ましくは４〜８倍が適量である。２倍量未満では少な
過ぎて、すすや水分が停滞して、壁面に付着したり、結
露し易くなる。また、３０倍量を超えると多過ぎて容器
内が乾燥し過ぎの状態となり、浮遊しているすすが帯電
して壁面に大量に付着し易くなったりするからである。
【００２７】上記火炎加水分解反応は次式で表され、発
生する水蒸気量は原料四塩化けい素１モルに対して２モ
ルとなる。 ＳｉＣｌ4 ＋４Ｈ2 ＋２Ｏ2 ―→ ＳｉＯ2 ＋４ＨＣｌ
＋２Ｈ2 Ｏ 例えば、ＳｉＣｌ4 を１モル（１７０ｇ）／分の流量で
燃焼させると理論量で４４．８リットル／分（ＮＴＰ換
算）の水蒸気を発生する。従って反応容器内に導入され
る乾燥空気量は、その２〜３０倍量の９０〜１３４４リ
ットル／分（ＮＴＰ換算）となる。
生する水蒸気量は原料四塩化けい素１モルに対して２モ
ルとなる。 ＳｉＣｌ4 ＋４Ｈ2 ＋２Ｏ2 ―→ ＳｉＯ2 ＋４ＨＣｌ
＋２Ｈ2 Ｏ 例えば、ＳｉＣｌ4 を１モル（１７０ｇ）／分の流量で
燃焼させると理論量で４４．８リットル／分（ＮＴＰ換
算）の水蒸気を発生する。従って反応容器内に導入され
る乾燥空気量は、その２〜３０倍量の９０〜１３４４リ
ットル／分（ＮＴＰ換算）となる。
【００２８】ここに導入される乾燥空気の湿分は、相対
湿度ＲＨで３０〜７０％程度が適当で、３０％未満では
上記のように乾燥し過ぎるし、７０％を超えると結露し
易くなるので好ましくない。
湿度ＲＨで３０〜７０％程度が適当で、３０％未満では
上記のように乾燥し過ぎるし、７０％を超えると結露し
易くなるので好ましくない。
【００２９】
【実施例】次に、本発明の実施例及び比較例を挙げる。 （実施例）図１に示す装置を用い、試験番号１から７ま
で同一装置、同一原料ガス供給量とし、乾燥空気導入量
を変えて試験を行った。試験条件とその結果を表１に示
した。
で同一装置、同一原料ガス供給量とし、乾燥空気導入量
を変えて試験を行った。試験条件とその結果を表１に示
した。
【００３０】試験番号４では、外径３５ｍｍの５重管バ
ーナを使用して、水素３０Ｌ／ｍｉｎ、酸素２０Ｌ／ｍ
ｉｎ、ＳｉＣｌ4 ３８ｍＬ／ｍｉｎを供給して、光ファ
イバ母材の製造を行った。この時、乾燥空気（相対湿度
５０％）を反応器上部（石英基材基部）からは１００Ｌ
／ｍｉｎ、のぞき窓からは２０Ｌ／ｍｉｎ、合計で１２
０Ｌ／ｍｉｎ（生成水分量の約８倍量）を導入した結
果、反応容器内壁面、のぞき窓、制御用窓及び圧力タッ
プ等に水滴の付着は起こらなかった。また、反応容器内
壁面に多量のすすが付着することもなく、反応容器内を
清掃した時も静電気による火花の発生もなかった。
ーナを使用して、水素３０Ｌ／ｍｉｎ、酸素２０Ｌ／ｍ
ｉｎ、ＳｉＣｌ4 ３８ｍＬ／ｍｉｎを供給して、光ファ
イバ母材の製造を行った。この時、乾燥空気（相対湿度
５０％）を反応器上部（石英基材基部）からは１００Ｌ
／ｍｉｎ、のぞき窓からは２０Ｌ／ｍｉｎ、合計で１２
０Ｌ／ｍｉｎ（生成水分量の約８倍量）を導入した結
果、反応容器内壁面、のぞき窓、制御用窓及び圧力タッ
プ等に水滴の付着は起こらなかった。また、反応容器内
壁面に多量のすすが付着することもなく、反応容器内を
清掃した時も静電気による火花の発生もなかった。
【００３１】試験番号１では、石英基材基部からの乾燥
空気（相対湿度５０％）導入量を生成水分量と同程度の
１５Ｌ／ｍｉｎに減量してみたところ、製造の途中から
圧力タップ内に水滴が溜り始め、反応容器の内圧を正確
に測定することが出来なくなった。また、試験番号７で
は、乾燥空気導入量を反応器上部（石英基材基部）から
は４８０Ｌ／ｍｉｎ、のぞき窓からは２０Ｌ／ｍｉｎ、
合計で５００Ｌ／ｍｉｎを導入したところ、バーナから
噴出する火炎が乱れて生成する石英粒子がターゲット部
に付着するものが少なくなり、途中から母材の製造が不
可能になった。
空気（相対湿度５０％）導入量を生成水分量と同程度の
１５Ｌ／ｍｉｎに減量してみたところ、製造の途中から
圧力タップ内に水滴が溜り始め、反応容器の内圧を正確
に測定することが出来なくなった。また、試験番号７で
は、乾燥空気導入量を反応器上部（石英基材基部）から
は４８０Ｌ／ｍｉｎ、のぞき窓からは２０Ｌ／ｍｉｎ、
合計で５００Ｌ／ｍｉｎを導入したところ、バーナから
噴出する火炎が乱れて生成する石英粒子がターゲット部
に付着するものが少なくなり、途中から母材の製造が不
可能になった。
【００３２】以上の一連の試験の結果、乾燥空気導入量
は、反応生成水蒸気量の２〜３０倍量、特には４〜８倍
量の範囲で効果の大きいことが判った。
は、反応生成水蒸気量の２〜３０倍量、特には４〜８倍
量の範囲で効果の大きいことが判った。
【００３３】
【表１】
【００３４】尚、本発明は、上記実施形態に限定される
ものではない。上記実施形態は、例示であり、本発明の
特許請求の範囲に記載された技術的思想と実質的に同一
な構成を有し、同様な作用効果を奏するものは、いかな
るものであっても本発明の技術的範囲に包含される。
ものではない。上記実施形態は、例示であり、本発明の
特許請求の範囲に記載された技術的思想と実質的に同一
な構成を有し、同様な作用効果を奏するものは、いかな
るものであっても本発明の技術的範囲に包含される。
【００３５】例えば、上記では、本発明の実施例とし
て、ＶＡＤ法のように石英基材の下方に反応生成物を堆
積させる場合について乾燥空気の導入が有効であること
を述べたが、本発明はこのような例に限定されるもので
はなく、外付けＣＶＤ法のように石英基材の周囲に反応
生成物を堆積させる場合にも適用出来る。
て、ＶＡＤ法のように石英基材の下方に反応生成物を堆
積させる場合について乾燥空気の導入が有効であること
を述べたが、本発明はこのような例に限定されるもので
はなく、外付けＣＶＤ法のように石英基材の周囲に反応
生成物を堆積させる場合にも適用出来る。
【００３６】また、本発明では乾燥空気の導入を石英基
材の基部とのぞき窓から行う例を中心に説明したが、本
発明は、このような例に限定されるものではなく、反応
中発生する水蒸気量に対して２〜３０倍量の乾燥空気を
導入するものであれば、本発明の範囲に属する。
材の基部とのぞき窓から行う例を中心に説明したが、本
発明は、このような例に限定されるものではなく、反応
中発生する水蒸気量に対して２〜３０倍量の乾燥空気を
導入するものであれば、本発明の範囲に属する。
【００３７】
【発明の効果】以上のように本発明によれば、反応容器
の適切な位置から乾燥空気を、火炎加水分解反応によっ
て発生する水蒸気量の２〜３０倍量連続的に導入するこ
とにより、引き上げ中の製品プリフォームにすすが再付
着したり、融け込んだりすることがなくなると共に、す
すの壁面やのぞき窓のガラスへの付着や、水蒸気の結露
が殆どなくなり、品質の向上と操業の安定化が図れる。
また、静電気の発生が減少し、すすの帯電による壁面へ
の付着が減少し、運転停止中に行う反応容器内の清掃作
業中に火花が発生するようなこともなくなり、安全性の
高い生産が可能となる。
の適切な位置から乾燥空気を、火炎加水分解反応によっ
て発生する水蒸気量の２〜３０倍量連続的に導入するこ
とにより、引き上げ中の製品プリフォームにすすが再付
着したり、融け込んだりすることがなくなると共に、す
すの壁面やのぞき窓のガラスへの付着や、水蒸気の結露
が殆どなくなり、品質の向上と操業の安定化が図れる。
また、静電気の発生が減少し、すすの帯電による壁面へ
の付着が減少し、運転停止中に行う反応容器内の清掃作
業中に火花が発生するようなこともなくなり、安全性の
高い生産が可能となる。
【図１】本発明の製造装置に係り乾燥空気を反応容器内
に導入する乾燥空気導入配管を設けた場合の構成例を示
す概要図である。
に導入する乾燥空気導入配管を設けた場合の構成例を示
す概要図である。
１…チャンバ、 ２…石英基材、 ２ａ…ターゲット部、 ３…排気管、 ４…バーナ、 ５…乾燥空気導入口、 ６…のぞき窓又は制御用窓、 ７…乾燥空気ライン、 Ｒ…原料・ガスライン。
Claims (3)
- 【請求項１】 原料ラインとガスラインが接続されるバ
ーナから石英基材の表面に向けてファイバ用原料と反応
ガスを吹き付け、前記基材の所定部にすす状の反応生成
物を堆積して光ファイバ用ガラス母材を製造する方法に
おいて、反応中に火炎加水分解反応によりバーナから発
生する水蒸気量に対して、２〜３０倍量の乾燥空気を反
応容器内に導入することを特徴とする光ファイバ用ガラ
ス母材の製造方法。 - 【請求項２】 原料ラインとガスラインが接続されるバ
ーナから石英基材の表面に向けてファイバ用原料と反応
ガスを吹き付け、前記基材の所定部にすす状の反応生成
物を堆積して光ファイバ用ガラス母材を製造する装置に
おいて、反応中発生する水蒸気量に対して２〜３０倍量
の乾燥空気を導入することができるようにしたことを特
徴とする光ファイバ用ガラス母材の製造装置。 - 【請求項３】 前記乾燥空気の導入は、少なくとも石英
基材の基部及び反応容器のぞき窓から行えるようにした
ことを特徴とする請求項２に記載した光ファイバ用ガラ
ス母材の製造装置。
Priority Applications (6)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP34853097A JP3386354B2 (ja) | 1997-12-03 | 1997-12-03 | 光ファイバ用ガラス母材の製造方法及び製造装置 |
| TW087119592A TW460423B (en) | 1997-12-03 | 1998-11-25 | Method and apparatus for producing a glass base material for an optical fiber |
| EP98122540A EP0941972B1 (en) | 1997-12-03 | 1998-12-01 | Method for producing a glass base material for an optical fiber |
| DE69818219T DE69818219T2 (de) | 1997-12-03 | 1998-12-01 | Verfahren zum Herstellen einer Glasvorform für optische Fasern |
| KR1019980052507A KR19990062715A (ko) | 1997-12-03 | 1998-12-02 | 광섬유용 유리모재 제조방법 및 이에 사용되는 장치 |
| US09/204,125 US6354112B2 (en) | 1997-12-03 | 1998-12-02 | Method of depositing glass soot with controlling reaction chamber humidity to prevent accumulation of excess soot |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP34853097A JP3386354B2 (ja) | 1997-12-03 | 1997-12-03 | 光ファイバ用ガラス母材の製造方法及び製造装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11171578A true JPH11171578A (ja) | 1999-06-29 |
| JP3386354B2 JP3386354B2 (ja) | 2003-03-17 |
Family
ID=18397637
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP34853097A Expired - Fee Related JP3386354B2 (ja) | 1997-12-03 | 1997-12-03 | 光ファイバ用ガラス母材の製造方法及び製造装置 |
Country Status (6)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US6354112B2 (ja) |
| EP (1) | EP0941972B1 (ja) |
| JP (1) | JP3386354B2 (ja) |
| KR (1) | KR19990062715A (ja) |
| DE (1) | DE69818219T2 (ja) |
| TW (1) | TW460423B (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2012193057A (ja) * | 2011-03-15 | 2012-10-11 | Sumitomo Electric Ind Ltd | ガラス微粒子堆積体の製造方法 |
| JP2016188149A (ja) * | 2015-03-30 | 2016-11-04 | 株式会社フジクラ | 光ファイバ母材の製造装置及び光ファイバ母材の製造方法 |
| JP2022061560A (ja) * | 2020-10-07 | 2022-04-19 | 信越化学工業株式会社 | 光ファイバ用多孔質ガラス堆積体の製造方法 |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US20050199014A1 (en) * | 2001-07-18 | 2005-09-15 | Motonori Nakamura | Apparatus for producing glass particles deposit |
| JP2003034540A (ja) * | 2001-07-18 | 2003-02-07 | Sumitomo Electric Ind Ltd | ガラス微粒子堆積体製造装置 |
| CN101492244B (zh) * | 2008-12-29 | 2011-04-13 | 富通集团有限公司 | 一种制造光纤预制棒的装置和方法 |
| DE102013011396B3 (de) * | 2013-07-08 | 2014-07-10 | Institut Für Photonische Technologien E.V. | Verfahren und Anordnung zur Kontrolle der Qualität einer hochreinen Gasphasenabscheidung bei einem VAD-Prozess |
Family Cites Families (13)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5637179A (en) * | 1979-09-04 | 1981-04-10 | Mitsubishi Electric Corp | Heat-sensitive recording system |
| JPS57100934A (en) * | 1980-12-12 | 1982-06-23 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | Manufacturing of optical fiber preform |
| JPS57100930A (en) * | 1980-12-12 | 1982-06-23 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | Preparation of base material for optical fiber |
| US4428762A (en) * | 1982-04-26 | 1984-01-31 | Western Electric Company, Inc. | Vapor-phase axial deposition system |
| JPS6041538A (ja) * | 1983-08-16 | 1985-03-05 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 窓くもり防止装置 |
| JPS62171939A (ja) * | 1986-01-27 | 1987-07-28 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 多孔質光フアイバ母材の製造装置 |
| US4707173A (en) * | 1986-05-15 | 1987-11-17 | The Furukawa Electric Co., Ltd. | Method of fabricating porous glass rod and apparatus for fabricating the same |
| JP2603472B2 (ja) * | 1987-05-12 | 1997-04-23 | 旭硝子株式会社 | 多孔質石英ガラス母材の製造法 |
| JPH02164735A (ja) * | 1988-12-20 | 1990-06-25 | Furukawa Electric Co Ltd:The | 石英ガラススートの製造装置 |
| FR2647778B1 (fr) * | 1989-06-05 | 1992-11-20 | Comp Generale Electricite | Procede et dispositif de depot externe par plasma de silice exempte d'ions hydroxyles |
| JPH06183771A (ja) * | 1992-12-15 | 1994-07-05 | Fujikura Ltd | 光ファイバ母材デポジション室の給排方法および装置 |
| JPH07223834A (ja) * | 1994-02-17 | 1995-08-22 | Furukawa Electric Co Ltd:The | 光ファイバ用多孔質母材の合成方法とその装置 |
| JP3557070B2 (ja) * | 1997-03-06 | 2004-08-25 | 古河電気工業株式会社 | 光ファイバ用多孔質ガラス母材製造装置 |
-
1997
- 1997-12-03 JP JP34853097A patent/JP3386354B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
1998
- 1998-11-25 TW TW087119592A patent/TW460423B/zh not_active IP Right Cessation
- 1998-12-01 EP EP98122540A patent/EP0941972B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1998-12-01 DE DE69818219T patent/DE69818219T2/de not_active Expired - Lifetime
- 1998-12-02 US US09/204,125 patent/US6354112B2/en not_active Expired - Lifetime
- 1998-12-02 KR KR1019980052507A patent/KR19990062715A/ko active Search and Examination
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2012193057A (ja) * | 2011-03-15 | 2012-10-11 | Sumitomo Electric Ind Ltd | ガラス微粒子堆積体の製造方法 |
| JP2016188149A (ja) * | 2015-03-30 | 2016-11-04 | 株式会社フジクラ | 光ファイバ母材の製造装置及び光ファイバ母材の製造方法 |
| JP2022061560A (ja) * | 2020-10-07 | 2022-04-19 | 信越化学工業株式会社 | 光ファイバ用多孔質ガラス堆積体の製造方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3386354B2 (ja) | 2003-03-17 |
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| TW460423B (en) | 2001-10-21 |
| DE69818219T2 (de) | 2004-04-08 |
| US20010013232A1 (en) | 2001-08-16 |
| DE69818219D1 (de) | 2003-10-23 |
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