JPH11170600A - 画像形成装置 - Google Patents
画像形成装置Info
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- JPH11170600A JPH11170600A JP33679597A JP33679597A JPH11170600A JP H11170600 A JPH11170600 A JP H11170600A JP 33679597 A JP33679597 A JP 33679597A JP 33679597 A JP33679597 A JP 33679597A JP H11170600 A JPH11170600 A JP H11170600A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 小型で、高精度な光量検出が可能な画像形成
装置を提供する。 【解決手段】 レーザアレイ2の各レーザ素子2bから
順次出射されたレーザビームは、結像光学系4を通過
し、ハーフミラー5により感光体ドラム3と偏向光学系
6とに分割される。偏向光学系6に入射したレーザビー
ムは、主走査方向Yにパワーを有するシリンドリカルミ
ラー60によってレーザビームの主光線が光検出器7上
で一致するように曲げられ、光検出器7のほぼ同一位置
に入射する。光検出器7は、各レーザ素子2bからのレ
ーザビームの光量を個別に検出する。
装置を提供する。 【解決手段】 レーザアレイ2の各レーザ素子2bから
順次出射されたレーザビームは、結像光学系4を通過
し、ハーフミラー5により感光体ドラム3と偏向光学系
6とに分割される。偏向光学系6に入射したレーザビー
ムは、主走査方向Yにパワーを有するシリンドリカルミ
ラー60によってレーザビームの主光線が光検出器7上
で一致するように曲げられ、光検出器7のほぼ同一位置
に入射する。光検出器7は、各レーザ素子2bからのレ
ーザビームの光量を個別に検出する。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、プリンタや複写機
等の画像形成装置に関し、特に、小型で、高精度な光量
検出が可能な画像形成装置に関する。
等の画像形成装置に関し、特に、小型で、高精度な光量
検出が可能な画像形成装置に関する。
【0002】
【従来の技術】従来の画像形成装置として、例えば、特
開平3−147860号公報および特開平3−2439
67号公報に示されるものがある。
開平3−147860号公報および特開平3−2439
67号公報に示されるものがある。
【0003】図8は、特開平3−147860号公報に
示された画像形成装置を示す。この画像形成装置1は、
印字光源となるLEDアレイ50と、LEDアレイ50
の長手方向に沿って移動可能に支持され、LEDアレイ
50の各LEDの光量を検出する光センサ51と、光セ
ンサ51の検出結果に基づいてLEDアレイ50の各L
EDの光量を補正する光量補正手段52とを備える。L
EDアレイ50の各LEDの光量を検出し、この検出結
果に基づいて各LEDの光量を補正することにより、L
EDアレイ50の各LEDの光量が一定となり、均一な
印字画像が得られる。
示された画像形成装置を示す。この画像形成装置1は、
印字光源となるLEDアレイ50と、LEDアレイ50
の長手方向に沿って移動可能に支持され、LEDアレイ
50の各LEDの光量を検出する光センサ51と、光セ
ンサ51の検出結果に基づいてLEDアレイ50の各L
EDの光量を補正する光量補正手段52とを備える。L
EDアレイ50の各LEDの光量を検出し、この検出結
果に基づいて各LEDの光量を補正することにより、L
EDアレイ50の各LEDの光量が一定となり、均一な
印字画像が得られる。
【0004】図9は、特開平3−243967号公報に
示された画像形成装置を示す。この画像形成装置1は、
調光ガラスと反射ミラーとからなり、露光装置53から
の光を反射板54,レンズ55を介して入力する光学反
射ミラー56と、電極間への印加電圧を変えることによ
り光学反射ミラー56の調光ガラスの光透過率を変化さ
せることで反射光量を制御する光透過率可変装置57
(57a〜57n)と、光学反射ミラー56で反射した
光によって表面に潜像が形成される感光体58と、感光
体58の軸方向に移動可能に支持され、感光体58の表
面の電位を検出する表面電位センサ59とを備える。表
面電位センサ59の出力に基づいて、光学反射ミラー5
6の調光ガラスの光透過率を制御することにより、感光
体58の表面で光量を均一にでき、均一な画像が形成さ
れる。
示された画像形成装置を示す。この画像形成装置1は、
調光ガラスと反射ミラーとからなり、露光装置53から
の光を反射板54,レンズ55を介して入力する光学反
射ミラー56と、電極間への印加電圧を変えることによ
り光学反射ミラー56の調光ガラスの光透過率を変化さ
せることで反射光量を制御する光透過率可変装置57
(57a〜57n)と、光学反射ミラー56で反射した
光によって表面に潜像が形成される感光体58と、感光
体58の軸方向に移動可能に支持され、感光体58の表
面の電位を検出する表面電位センサ59とを備える。表
面電位センサ59の出力に基づいて、光学反射ミラー5
6の調光ガラスの光透過率を制御することにより、感光
体58の表面で光量を均一にでき、均一な画像が形成さ
れる。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】しかし、特開平3−1
47860号公報に示された画像形成装置1によると、
光センサ51をLEDアレイ50の長手方向に沿って移
動させる移動機構が必要となることから、装置が大型化
する。また、光センサ51を移動させずに各LEDから
の出射光を検出するためには、光センサ51をLEDア
レイ50とほぼ同じ大きさにする必要があるため、装置
が大型になり、さらに、光センサ51の各素子の特性を
均一に保つことが困難になる。
47860号公報に示された画像形成装置1によると、
光センサ51をLEDアレイ50の長手方向に沿って移
動させる移動機構が必要となることから、装置が大型化
する。また、光センサ51を移動させずに各LEDから
の出射光を検出するためには、光センサ51をLEDア
レイ50とほぼ同じ大きさにする必要があるため、装置
が大型になり、さらに、光センサ51の各素子の特性を
均一に保つことが困難になる。
【0006】特開平3−243967号公報に示された
画像形成装置1によると、表面電位センサ59を感光体
58の軸方向に移動させる移動機構が必要となることか
ら、装置が大型化する。また、表面電位センサ59を移
動させずに感光体58全体の表面電位を検出するために
は、表面電位センサ59を感光体58とほぼ同じ長さに
する必要があるため、装置が大型になり、さらに、表面
電位センサ59の各素子の特性を均一に保つことが困難
になる。
画像形成装置1によると、表面電位センサ59を感光体
58の軸方向に移動させる移動機構が必要となることか
ら、装置が大型化する。また、表面電位センサ59を移
動させずに感光体58全体の表面電位を検出するために
は、表面電位センサ59を感光体58とほぼ同じ長さに
する必要があるため、装置が大型になり、さらに、表面
電位センサ59の各素子の特性を均一に保つことが困難
になる。
【0007】従って、本発明の目的は、小型で、高精度
な光量検出が可能な画像形成装置を提供することにあ
る。
な光量検出が可能な画像形成装置を提供することにあ
る。
【0008】
【課題を解決するための手段】本発明は、上記目的を達
成するため、少なくとも主走査方向にアレイ状に配列さ
れた複数の半導体レーザ素子を有し、画像信号に基づい
て変調された複数のレーザビームを前記複数の半導体レ
ーザ素子から出射するレーザアレイと、前記複数の半導
体レーザ素子から出射される前記複数のレーザビームに
よって露光され、前記レーザアレイと相対的に副走査方
向に移動することによって潜像が形成される像担持体
と、前記複数の半導体レーザ素子から出射された前記複
数のレーザビームを前記像担持体上に結像させて前記潜
像を形成する結像光学系と、前記複数のレーザビームの
光路上に配置され、前記複数の半導体レーザ素子からの
前記複数のレーザビームを前記像担持体の方向と前記像
担持体の方向とは異なる所定の方向とに分割する分割光
学系と、前記分割光学系によって前記所定の方向に分割
された前記複数のレーザビームを前記レーザビームの主
光線が一致するように偏向する偏向光学系と、前記偏向
光学系によって形成された前記主光線の一致点あるいは
その近傍に配置され、前記複数のレーザビームの光量を
検出する光検出器と、前記光検出器によって検出された
前記複数のレーザビームの光量に基づいて前記レーザア
レイから出射される前記複数のレーザビームの光量を補
正する補正手段とを備えたことを特徴とする画像形成装
置を提供する。
成するため、少なくとも主走査方向にアレイ状に配列さ
れた複数の半導体レーザ素子を有し、画像信号に基づい
て変調された複数のレーザビームを前記複数の半導体レ
ーザ素子から出射するレーザアレイと、前記複数の半導
体レーザ素子から出射される前記複数のレーザビームに
よって露光され、前記レーザアレイと相対的に副走査方
向に移動することによって潜像が形成される像担持体
と、前記複数の半導体レーザ素子から出射された前記複
数のレーザビームを前記像担持体上に結像させて前記潜
像を形成する結像光学系と、前記複数のレーザビームの
光路上に配置され、前記複数の半導体レーザ素子からの
前記複数のレーザビームを前記像担持体の方向と前記像
担持体の方向とは異なる所定の方向とに分割する分割光
学系と、前記分割光学系によって前記所定の方向に分割
された前記複数のレーザビームを前記レーザビームの主
光線が一致するように偏向する偏向光学系と、前記偏向
光学系によって形成された前記主光線の一致点あるいは
その近傍に配置され、前記複数のレーザビームの光量を
検出する光検出器と、前記光検出器によって検出された
前記複数のレーザビームの光量に基づいて前記レーザア
レイから出射される前記複数のレーザビームの光量を補
正する補正手段とを備えたことを特徴とする画像形成装
置を提供する。
【0009】
【発明の実施の形態】図1および図2は、本発明の第1
の実施の形態に係る画像形成装置を示す。なお、同図に
おいて、Xは副走査方向、Yは主走査方向、Zは光軸方
向をそれぞれ示す。この画像形成装置1は、画像信号に
基づいて変調された複数のレーザビームを出射する半導
体レーザアレイ(以下「レーザアレイ」と略す。)2
と、例えば、主走査方向Yの長さ約300mmを有し、
副走査方向Xに回転する感光体ドラム3と、レーザアレ
イ2から出射された複数のレーザビームを感光体ドラム
3の表面に結像させ、感光体ドラム3の表面に静電潜像
を形成する拡大光学系の結像光学系4と、結像光学系4
と感光体ドラム3との間に配置され、レーザアレイ2か
らの複数のレーザビームを光軸方向Zと光軸方向Zとは
異なる所定の方向とに分割する分割光学系としてのハー
フミラー5と、ハーフミラー5によって所定の方向に分
割された複数のレーザビームをレーザビームの主光線が
一致するように偏向する偏向光学系6と、偏向光学系6
によって形成された主光線の一致点あるいはその近傍に
配置され、レーザアレイ2からの複数のレーザビームの
光量を検出する光検出器7とを備える。
の実施の形態に係る画像形成装置を示す。なお、同図に
おいて、Xは副走査方向、Yは主走査方向、Zは光軸方
向をそれぞれ示す。この画像形成装置1は、画像信号に
基づいて変調された複数のレーザビームを出射する半導
体レーザアレイ(以下「レーザアレイ」と略す。)2
と、例えば、主走査方向Yの長さ約300mmを有し、
副走査方向Xに回転する感光体ドラム3と、レーザアレ
イ2から出射された複数のレーザビームを感光体ドラム
3の表面に結像させ、感光体ドラム3の表面に静電潜像
を形成する拡大光学系の結像光学系4と、結像光学系4
と感光体ドラム3との間に配置され、レーザアレイ2か
らの複数のレーザビームを光軸方向Zと光軸方向Zとは
異なる所定の方向とに分割する分割光学系としてのハー
フミラー5と、ハーフミラー5によって所定の方向に分
割された複数のレーザビームをレーザビームの主光線が
一致するように偏向する偏向光学系6と、偏向光学系6
によって形成された主光線の一致点あるいはその近傍に
配置され、レーザアレイ2からの複数のレーザビームの
光量を検出する光検出器7とを備える。
【0010】また、この画像記録装置1は、感光体ドラ
ム3の周囲に、帯電器,現像器,転写器等を設け、転写
器の前段には給紙部、転写器の後段には定着器,排紙部
等を設けている。これらの各ユニットは、説明上図示を
省略する。
ム3の周囲に、帯電器,現像器,転写器等を設け、転写
器の前段には給紙部、転写器の後段には定着器,排紙部
等を設けている。これらの各ユニットは、説明上図示を
省略する。
【0011】レーザアレイ2は、例えば、主走査方向Y
の長さ約50mmを有し、基板2a上に複数の半導体レ
ーザ素子(以下「レーザ素子」と略す。)2bを主走査
方向Yにのみアレイ状に配列したものである。
の長さ約50mmを有し、基板2a上に複数の半導体レ
ーザ素子(以下「レーザ素子」と略す。)2bを主走査
方向Yにのみアレイ状に配列したものである。
【0012】結像光学系4は、ダブルガウス系レンズ、
オルソメタレンズ群、クセノタール系レンズ等を用いる
ことができる。本実施の形態では、ダブルガウス系レン
ズを用いた。
オルソメタレンズ群、クセノタール系レンズ等を用いる
ことができる。本実施の形態では、ダブルガウス系レン
ズを用いた。
【0013】偏向光学系6は、本実施の形態では、主走
査方向Yにパワーを有するシリンドリカルミラー60を
用いた。このシリンドリカルミラー60は、レーザアレ
イ2からのレーザビームの主光線が光検出器7上で一致
するようにハーフミラー5からの複数のレーザビームを
偏向するものである。
査方向Yにパワーを有するシリンドリカルミラー60を
用いた。このシリンドリカルミラー60は、レーザアレ
イ2からのレーザビームの主光線が光検出器7上で一致
するようにハーフミラー5からの複数のレーザビームを
偏向するものである。
【0014】図3は、この装置1の制御系の主要部を示
す。この装置1は、装置1全体の制御を行うCPU20
を有し、CPU20のバス20aに、CPU20のプロ
グラム(テストモード用プログラム,画像記録モード用
プログラム等)を記憶するROM21と、各種の情報を
記憶するRAM22と、A/D変換器23を介して光検
出器7から出力される検出値をラッチするラッチ回路2
4と、基本クロックを出力するクロック発生回路26
と、D/A変換器27を介して接続され、レーザアレイ
2を駆動する駆動信号を出力するレーザ駆動回路28
と、補正データメモリ29と、画像信号を記憶した画像
メモリ30と、画像メモリ30から画像信号を読み出
し、その画像信号を処理して記録パターンに応じた記録
信号を出力する信号処理回路31とを接続している。
す。この装置1は、装置1全体の制御を行うCPU20
を有し、CPU20のバス20aに、CPU20のプロ
グラム(テストモード用プログラム,画像記録モード用
プログラム等)を記憶するROM21と、各種の情報を
記憶するRAM22と、A/D変換器23を介して光検
出器7から出力される検出値をラッチするラッチ回路2
4と、基本クロックを出力するクロック発生回路26
と、D/A変換器27を介して接続され、レーザアレイ
2を駆動する駆動信号を出力するレーザ駆動回路28
と、補正データメモリ29と、画像信号を記憶した画像
メモリ30と、画像メモリ30から画像信号を読み出
し、その画像信号を処理して記録パターンに応じた記録
信号を出力する信号処理回路31とを接続している。
【0015】RAM22には、各レーザ素子2b毎に所
定の光量の基準値が予め記憶されている。この基準値
は、各レーザ素子2bについて同一のものであってもよ
く、装置1各部の特性等に応じて異なるものであっても
よい。
定の光量の基準値が予め記憶されている。この基準値
は、各レーザ素子2bについて同一のものであってもよ
く、装置1各部の特性等に応じて異なるものであっても
よい。
【0016】補正データメモリ29には、各レーザ素子
2bの駆動電流値の情報が補正データとして予め記憶さ
れている。
2bの駆動電流値の情報が補正データとして予め記憶さ
れている。
【0017】CPU20は、オペレータによって本装置
1の電源が投入された際、テストモードを実行し、オペ
レータの記録操作によって画像記録モードを実行するよ
うになっている。
1の電源が投入された際、テストモードを実行し、オペ
レータの記録操作によって画像記録モードを実行するよ
うになっている。
【0018】次に、本装置1の動作を説明する。 (1) テストモード オペレータが、本装置1の電源を投入すると、CPU2
0に装置起動信号が入力される。CPU20は、その装
置起動信号に基づき、ROM21に記憶されているテス
トモード用プログラムに従い、以下に説明する如くテス
トモードを実行する。
0に装置起動信号が入力される。CPU20は、その装
置起動信号に基づき、ROM21に記憶されているテス
トモード用プログラムに従い、以下に説明する如くテス
トモードを実行する。
【0019】CPU20は、補正データメモリ29に予
め記憶されている補正データをD/A変換器27に出力
する。D/A変換器27は、補正データメモリ29から
の補正データをデジタルからアナログに変換してレーザ
駆動回路28に出力する。レーザ駆動回路28は、D/
A変換器27の出力に基づき、クロック発生回路26か
ら出力される基本クロックに同期してレーザアレイ2の
各レーザ素子2bを順次駆動する。各レーザ素子2b
は、順次発光してレーザビームを順次出射する。各レー
ザ素子2bから順次出射されたレーザビームは、結像光
学系4を通過し、ハーフミラー5により感光体ドラム3
と偏向光学系6とに分割される。ハーフミラー5を通過
したレーザビ- ムは、感光体ドラム3の表面に結像され
る。一方、偏向光学系6に入射したレーザビームは、主
走査方向Yにパワーを有するシリンドリカルミラー60
によってレーザビームの主光線が光検出器7上で一致す
るように曲げられ、光検出器7のほぼ同一位置に入射す
る。
め記憶されている補正データをD/A変換器27に出力
する。D/A変換器27は、補正データメモリ29から
の補正データをデジタルからアナログに変換してレーザ
駆動回路28に出力する。レーザ駆動回路28は、D/
A変換器27の出力に基づき、クロック発生回路26か
ら出力される基本クロックに同期してレーザアレイ2の
各レーザ素子2bを順次駆動する。各レーザ素子2b
は、順次発光してレーザビームを順次出射する。各レー
ザ素子2bから順次出射されたレーザビームは、結像光
学系4を通過し、ハーフミラー5により感光体ドラム3
と偏向光学系6とに分割される。ハーフミラー5を通過
したレーザビ- ムは、感光体ドラム3の表面に結像され
る。一方、偏向光学系6に入射したレーザビームは、主
走査方向Yにパワーを有するシリンドリカルミラー60
によってレーザビームの主光線が光検出器7上で一致す
るように曲げられ、光検出器7のほぼ同一位置に入射す
る。
【0020】光検出器7は、各レーザ素子2bからのレ
ーザビームの光量を個別に検出する。A/D変換器23
は、光検出器7からの光量の検出値をアナログからデジ
タルに変換し、ラッチ回路24に出力する。ラッチ回路
24は、クロック発生回路26から出力される基本クロ
ックに同期して光検出器7からの検出値を順次ラッチし
てCPU20に出力する。CPU20は、ラッチ回路2
4の出力値(検出値)をRAM22に記憶する。
ーザビームの光量を個別に検出する。A/D変換器23
は、光検出器7からの光量の検出値をアナログからデジ
タルに変換し、ラッチ回路24に出力する。ラッチ回路
24は、クロック発生回路26から出力される基本クロ
ックに同期して光検出器7からの検出値を順次ラッチし
てCPU20に出力する。CPU20は、ラッチ回路2
4の出力値(検出値)をRAM22に記憶する。
【0021】CPU20は、各レーザ素子毎にRAM2
2が記憶する光量の検出値と基準値とを比較し、検出値
が基準値となるような駆動電流値を演算して求め、その
値を補正データとして補正データメモリ29に記憶す
る。このようにして、テストモードが終了する。
2が記憶する光量の検出値と基準値とを比較し、検出値
が基準値となるような駆動電流値を演算して求め、その
値を補正データとして補正データメモリ29に記憶す
る。このようにして、テストモードが終了する。
【0022】(2) 画像記録モード 上記テストモードが終了し、オペレータが、記録操作を
行うと、CPU20は、ROM21に記憶されている画
像記録モード用プログラムに従い、以下に説明する如く
画像記録モードを実行する。信号処理回路31は、画像
メモリ30から画像信号を読み出し、その画像信号を処
理して記録パターンに応じた記録信号をA/D変換器2
7に出力する。これと同時に、CPU20は、補正デー
タメモリ29に記憶されているテストモード後の補正デ
ータをA/D変換器27に出力する。A/D変換器27
は、信号処理回路31からの記録信号および補正データ
メモリ29からの補正データをデジタルからアナログに
変換してレーザ駆動回路28に出力する。レーザ駆動回
路28は、CPU20の制御の下に、A/D変換器27
を介して入力した記録信号および補正データに基づいて
レーザアレイ2の各レーザ素子2bを例えば同時に駆動
する。レーザアレイ2の各レーザ素子2bからはレーザ
ビームが出射される。各レーザ素子2bから出射された
レーザビームは、結像光学系4によってハーフミラー5
を介して感光体ドラム3の表面に上記テストモードで設
定された基準値の所定の光量で結像される。感光体ドラ
ム3は、レーザビームによって露光されることにより静
電潜像を形成する。その後、静電潜像は、現像器によっ
てトナー現像され、そのトナー像が転写器によって給紙
部から給紙された記録用紙に転写され、さらに定着器に
よって定着された後、記録用紙は排紙部へと送られる。
行うと、CPU20は、ROM21に記憶されている画
像記録モード用プログラムに従い、以下に説明する如く
画像記録モードを実行する。信号処理回路31は、画像
メモリ30から画像信号を読み出し、その画像信号を処
理して記録パターンに応じた記録信号をA/D変換器2
7に出力する。これと同時に、CPU20は、補正デー
タメモリ29に記憶されているテストモード後の補正デ
ータをA/D変換器27に出力する。A/D変換器27
は、信号処理回路31からの記録信号および補正データ
メモリ29からの補正データをデジタルからアナログに
変換してレーザ駆動回路28に出力する。レーザ駆動回
路28は、CPU20の制御の下に、A/D変換器27
を介して入力した記録信号および補正データに基づいて
レーザアレイ2の各レーザ素子2bを例えば同時に駆動
する。レーザアレイ2の各レーザ素子2bからはレーザ
ビームが出射される。各レーザ素子2bから出射された
レーザビームは、結像光学系4によってハーフミラー5
を介して感光体ドラム3の表面に上記テストモードで設
定された基準値の所定の光量で結像される。感光体ドラ
ム3は、レーザビームによって露光されることにより静
電潜像を形成する。その後、静電潜像は、現像器によっ
てトナー現像され、そのトナー像が転写器によって給紙
部から給紙された記録用紙に転写され、さらに定着器に
よって定着された後、記録用紙は排紙部へと送られる。
【0023】上記第1の実施の形態によれば、以下の効
果が得られる。 (イ) 各レーザビームの主光線が、主走査方向Yにパワー
を有するシリンドリカルミラー60により光検出器7上
で一致するため、各レーザビームは光検出器7のほぼ同
一位置に入射されることから、光検出器7の感度のばら
つきによる検出誤差を低減することができ、高精度な光
量検出が可能になる。 (ロ) 第1の主光線一致点(図中結像光学系4内)に直接
光検出器7を配置する場合、この点におけるビーム径
は、光学系設計時では他の光学特性を重視し決定される
ので、光検出器7上のビーム径を任意に設定できない。
一方、第1の実施の形態においては、ハーフミラー5,
偏向光学系6および光検出器7からなる光量検出装置の
配置を光検出器7上のビーム径を考慮して決めることが
可能となるので、必要となる光検出器7を容易に入手可
能となる。 (ハ) 光検出器7の移動機構が不要であるので、構成が容
易となり、装置の小型化,簡素化が図れる。 (ニ) 結像光学系4を通過した各ビームの光量を測定する
ので、感光体ドラム3上におけるビームとほぼ等価な光
量ばらつきを高精度で検出可能となる。
果が得られる。 (イ) 各レーザビームの主光線が、主走査方向Yにパワー
を有するシリンドリカルミラー60により光検出器7上
で一致するため、各レーザビームは光検出器7のほぼ同
一位置に入射されることから、光検出器7の感度のばら
つきによる検出誤差を低減することができ、高精度な光
量検出が可能になる。 (ロ) 第1の主光線一致点(図中結像光学系4内)に直接
光検出器7を配置する場合、この点におけるビーム径
は、光学系設計時では他の光学特性を重視し決定される
ので、光検出器7上のビーム径を任意に設定できない。
一方、第1の実施の形態においては、ハーフミラー5,
偏向光学系6および光検出器7からなる光量検出装置の
配置を光検出器7上のビーム径を考慮して決めることが
可能となるので、必要となる光検出器7を容易に入手可
能となる。 (ハ) 光検出器7の移動機構が不要であるので、構成が容
易となり、装置の小型化,簡素化が図れる。 (ニ) 結像光学系4を通過した各ビームの光量を測定する
ので、感光体ドラム3上におけるビームとほぼ等価な光
量ばらつきを高精度で検出可能となる。
【0024】なお、ハーフミラー5の配置位置は、結像
光学系4とシリンドリカルミラー60との間の光軸上で
あれば、どこに配置しても構わない。すなわち結像光学
系4とシリンドリカルミラー60との間の距離をL0 、
結像光学系4とハーフミラー5までの距離をL1 、ハー
フミラー5からシリンドリカルミラー60までの距離を
L2 とし、常にL1 +L2 =L0 の関係が成り立つよう
にハーフミラー5、シリンドリカルミラー60を配置す
ればよい。
光学系4とシリンドリカルミラー60との間の光軸上で
あれば、どこに配置しても構わない。すなわち結像光学
系4とシリンドリカルミラー60との間の距離をL0 、
結像光学系4とハーフミラー5までの距離をL1 、ハー
フミラー5からシリンドリカルミラー60までの距離を
L2 とし、常にL1 +L2 =L0 の関係が成り立つよう
にハーフミラー5、シリンドリカルミラー60を配置す
ればよい。
【0025】図4は、本発明の第2の実施の形態に係る
レーザアレイ2を示す。このレーザアレイ2は、基板2
a上に複数のレーザ素子2bを副走査方向Xにm行、主
走査方向Yにn列アレイ状に配列している。本実施の形
態では、複数のレーザ素子2bを斜めに12行×120
0列で配列した。
レーザアレイ2を示す。このレーザアレイ2は、基板2
a上に複数のレーザ素子2bを副走査方向Xにm行、主
走査方向Yにn列アレイ状に配列している。本実施の形
態では、複数のレーザ素子2bを斜めに12行×120
0列で配列した。
【0026】図5は、本発明の第2の実施の形態に係る
偏向光学系6を示す。なお、同図(a) はYZ面を示し、
同図(b) はXZ面を示す。この第2の実施の形態は、偏
向光学系6として主走査方向Yにパワーを有するシリン
ドリカルミラー60と、シリンドリカルミラー60と光
検出器7との間に配置された副走査方向Xにパワーを有
するアナモフィックレンズ61とを用いたものであり、
他は第1の実施の形態と同様に構成されている。レーザ
アレイ2の各レーザ素子2bが、主走査方向Yおよび副
走査方向Xに配列されている場合、各レーザビームは、
まずシリンドリカルミラー60によって主走査方向Yの
主光線が光検出器7上で交わるように曲げられ、アナモ
フックレンズ8によって副走査方向Xの主光線が光検出
器7上で交わるように曲げられる。これにより、各ビー
ムが光検出器7上のほぼ同一位置に入射され各ビームの
光量が検出される。検出された光量に応じて、各レーザ
の駆動電流を調整することで、全てのレーザの光量が高
精度で制御可能となる。
偏向光学系6を示す。なお、同図(a) はYZ面を示し、
同図(b) はXZ面を示す。この第2の実施の形態は、偏
向光学系6として主走査方向Yにパワーを有するシリン
ドリカルミラー60と、シリンドリカルミラー60と光
検出器7との間に配置された副走査方向Xにパワーを有
するアナモフィックレンズ61とを用いたものであり、
他は第1の実施の形態と同様に構成されている。レーザ
アレイ2の各レーザ素子2bが、主走査方向Yおよび副
走査方向Xに配列されている場合、各レーザビームは、
まずシリンドリカルミラー60によって主走査方向Yの
主光線が光検出器7上で交わるように曲げられ、アナモ
フックレンズ8によって副走査方向Xの主光線が光検出
器7上で交わるように曲げられる。これにより、各ビー
ムが光検出器7上のほぼ同一位置に入射され各ビームの
光量が検出される。検出された光量に応じて、各レーザ
の駆動電流を調整することで、全てのレーザの光量が高
精度で制御可能となる。
【0027】上記第2の実施の形態によれば、各レーザ
ビームの主光線が、シリンドリカルミラー60およびア
ナモフックレンズ61により光検出器7上で一致するた
め、レーザ素子2bが、主走査方向Yおよび副走査方向
Xに配列されている場合でも、各レーザビームは光検出
器7の同一位置に入射されるので、光検出器7の感度の
ばらつきによる検出誤差を低減することができる。
ビームの主光線が、シリンドリカルミラー60およびア
ナモフックレンズ61により光検出器7上で一致するた
め、レーザ素子2bが、主走査方向Yおよび副走査方向
Xに配列されている場合でも、各レーザビームは光検出
器7の同一位置に入射されるので、光検出器7の感度の
ばらつきによる検出誤差を低減することができる。
【0028】図6は、本発明の第3の実施の形態に係る
偏向光学系6を示す。なお、同図(a) はYZ面を示し、
同図(b) はXZ面を示す。この第3の実施の形態は、レ
ーザアレイ2として図4に示したようにレーザ素子2b
が主走査方向Yおよび副走査方向Xに配列されたものを
用い、偏向光学系6として主走査方向Yおよび副走査方
向Xにパワーを有するシリンドリカルミラー60を用い
たものであり、他は第1の実施の形態と同様に構成され
ている。レーザアレイ2の各レーザ素子2bが、主走査
方向Yおよび副走査方向Xに配列されている場合、各レ
ーザビームは、このシリンドリカルミラー60によって
主走査方向Yの主光線が光検出器7上で交わるように曲
げられ、さらに副走査方向Xの主光線が光検出器7上で
交わるように曲げられる。これにより、各ビームが光検
出器7上のほぼ同一位置に入射され各ビームの光量が検
出される。検出された光量に応じて、各レーザの駆動電
流を調整することで、全てのレーザの光量が高精度で制
御可能となる。
偏向光学系6を示す。なお、同図(a) はYZ面を示し、
同図(b) はXZ面を示す。この第3の実施の形態は、レ
ーザアレイ2として図4に示したようにレーザ素子2b
が主走査方向Yおよび副走査方向Xに配列されたものを
用い、偏向光学系6として主走査方向Yおよび副走査方
向Xにパワーを有するシリンドリカルミラー60を用い
たものであり、他は第1の実施の形態と同様に構成され
ている。レーザアレイ2の各レーザ素子2bが、主走査
方向Yおよび副走査方向Xに配列されている場合、各レ
ーザビームは、このシリンドリカルミラー60によって
主走査方向Yの主光線が光検出器7上で交わるように曲
げられ、さらに副走査方向Xの主光線が光検出器7上で
交わるように曲げられる。これにより、各ビームが光検
出器7上のほぼ同一位置に入射され各ビームの光量が検
出される。検出された光量に応じて、各レーザの駆動電
流を調整することで、全てのレーザの光量が高精度で制
御可能となる。
【0029】上記第3の実施の形態によれば、各レーザ
ビームの主光線が、主走査方向Yおよび副走査方向Xに
パワーを有するシリンドリカルミラー60により光検出
器7上で一致するため、レーザ素子2bが、主走査方向
Yおよび副走査方向Xに配列されている場合でも、各レ
ーザビームは光検出器7の同一位置に入射されるので、
光検出器7の感度ばらつきによる検出誤差を低減するこ
とができる。
ビームの主光線が、主走査方向Yおよび副走査方向Xに
パワーを有するシリンドリカルミラー60により光検出
器7上で一致するため、レーザ素子2bが、主走査方向
Yおよび副走査方向Xに配列されている場合でも、各レ
ーザビームは光検出器7の同一位置に入射されるので、
光検出器7の感度ばらつきによる検出誤差を低減するこ
とができる。
【0030】図7は、本発明の第4の実施の形態に係る
偏向光学系6を示す。なお、同図(a) はYZ面を示し、
同図(b) はXZ面を示す。この第4の実施の形態は、レ
ーザアレイ2として図4に示したようにレーザ素子2b
が主走査方向Yおよび副走査方向Xに配列されたものを
用い、偏向光学系6として主走査方向Yおよび副走査方
向Xにパワーを有し、ハーフミラー5からの複数のレー
ザビームを所定の範囲に偏向するシリンドリカルミラー
60と、シリンドリカルミラー60と光検出器7との間
に配置され、シリンドリカルミラー60によって所定の
範囲に偏向された複数のレーザビームをレーザビームの
主光線が光検出器7上で一致するように集光する集光レ
ンズ62とを用いたものであり、他は第1の実施の形態
と同様に構成されている。レーザアレイ2の各レーザ素
子2bが、主走査方向Yおよび副走査方向Xに配列され
ている場合、各レーザビームは、このシリンドリカルミ
ラー60によって主走査方向Yの主光線および副走査方
向Xの主光線が光検出器7上の所定の範囲に入射するよ
うに曲げられ、集光レンズ62によって主走査方向Yの
主光線および副走査方向Xの主光線が光検出器7上で交
わるように集光される。これにより、各ビームが光検出
器7上のほぼ同一位置に入射され各ビームの光量が検出
される。検出された光量に応じて、各レーザの駆動電流
を調整することで、全てのレーザの光量が高精度で制御
可能となる。
偏向光学系6を示す。なお、同図(a) はYZ面を示し、
同図(b) はXZ面を示す。この第4の実施の形態は、レ
ーザアレイ2として図4に示したようにレーザ素子2b
が主走査方向Yおよび副走査方向Xに配列されたものを
用い、偏向光学系6として主走査方向Yおよび副走査方
向Xにパワーを有し、ハーフミラー5からの複数のレー
ザビームを所定の範囲に偏向するシリンドリカルミラー
60と、シリンドリカルミラー60と光検出器7との間
に配置され、シリンドリカルミラー60によって所定の
範囲に偏向された複数のレーザビームをレーザビームの
主光線が光検出器7上で一致するように集光する集光レ
ンズ62とを用いたものであり、他は第1の実施の形態
と同様に構成されている。レーザアレイ2の各レーザ素
子2bが、主走査方向Yおよび副走査方向Xに配列され
ている場合、各レーザビームは、このシリンドリカルミ
ラー60によって主走査方向Yの主光線および副走査方
向Xの主光線が光検出器7上の所定の範囲に入射するよ
うに曲げられ、集光レンズ62によって主走査方向Yの
主光線および副走査方向Xの主光線が光検出器7上で交
わるように集光される。これにより、各ビームが光検出
器7上のほぼ同一位置に入射され各ビームの光量が検出
される。検出された光量に応じて、各レーザの駆動電流
を調整することで、全てのレーザの光量が高精度で制御
可能となる。
【0031】上記第4の実施の形態によれば、各レーザ
ビームの主光線が、主走査方向Yおよび副走査方向Xに
パワーを有するシリンドリカルミラー60、および集光
レンズ9により光検出器7上で一致するため、レーザ素
子2bが、主走査方向Yおよび副走査方向Xに配列され
ている場合でも、各レーザビームは光検出器7の同一位
置に入射されるので、光検出器7の感度ばらつきによる
検出誤差を低減することができる。
ビームの主光線が、主走査方向Yおよび副走査方向Xに
パワーを有するシリンドリカルミラー60、および集光
レンズ9により光検出器7上で一致するため、レーザ素
子2bが、主走査方向Yおよび副走査方向Xに配列され
ている場合でも、各レーザビームは光検出器7の同一位
置に入射されるので、光検出器7の感度ばらつきによる
検出誤差を低減することができる。
【0032】
【実施例】第2の実施の形態に対応する実施例を説明す
る。この実施例では、主走査方向曲率半径が185m
m、主走査方向長さが95.1785mm以上のシリン
ドリカルミラー60を結像光学系4から光軸方向へ30
0mmの位置に配置し、光検出器7をシリンドリカルミ
ラー60から116mmの位置に配置した。この結果、
ハーフミラー5からのレーザビームを光検出器7上で直
径10mmの範囲に入射させることができた。従って、
光検出器7としては有効径15mm程度のものを使用す
ることができ、光検出器7の感度のばらつきによる検出
誤差を低減することができる。
る。この実施例では、主走査方向曲率半径が185m
m、主走査方向長さが95.1785mm以上のシリン
ドリカルミラー60を結像光学系4から光軸方向へ30
0mmの位置に配置し、光検出器7をシリンドリカルミ
ラー60から116mmの位置に配置した。この結果、
ハーフミラー5からのレーザビームを光検出器7上で直
径10mmの範囲に入射させることができた。従って、
光検出器7としては有効径15mm程度のものを使用す
ることができ、光検出器7の感度のばらつきによる検出
誤差を低減することができる。
【0033】なお、本発明は、上記実施の形態に限定さ
れず、種々に変形実施が可能である。例えば、像担持体
としては、上述した感光体ドラムの他、ベルト状の感光
体、ドラム状あるいはベルト状の誘電体を用いてもよ
い。また、本発明は、中間転写体を用いた画像形成装置
にも適用可能である。また、レーザアレイ2が複数のレ
ーザ素子2bを主走査方向Yにのみ配列したものである
場合において、偏向光学系として主走査方向Yにパワー
を有し、ハーフミラー5からの複数のレーザビームを所
定の範囲に偏向するシリンドリカルミラー60と、シリ
ンドリカルミラー60によって所定の範囲に偏向された
複数のレーザビームをレーザビームの主光線が光検出器
7上で一致するように集光する集光レンズ62とを用い
てもよい。また、上記実施の形態では、像担持体として
の感光体ドラムの方を副走査方向Xに移動させたが、レ
ーザアレイの方を副走査方向Xに移動させてもよい。ま
た、レーザアレイを主走査方向の長さが感光体ドラム3
と同様のものを用いた場合は、結像光学系として等倍光
学系を用い、レーザアレイと結像光学系との間にフィー
ルドレンズ等の集光手段を配置してもよい。
れず、種々に変形実施が可能である。例えば、像担持体
としては、上述した感光体ドラムの他、ベルト状の感光
体、ドラム状あるいはベルト状の誘電体を用いてもよ
い。また、本発明は、中間転写体を用いた画像形成装置
にも適用可能である。また、レーザアレイ2が複数のレ
ーザ素子2bを主走査方向Yにのみ配列したものである
場合において、偏向光学系として主走査方向Yにパワー
を有し、ハーフミラー5からの複数のレーザビームを所
定の範囲に偏向するシリンドリカルミラー60と、シリ
ンドリカルミラー60によって所定の範囲に偏向された
複数のレーザビームをレーザビームの主光線が光検出器
7上で一致するように集光する集光レンズ62とを用い
てもよい。また、上記実施の形態では、像担持体として
の感光体ドラムの方を副走査方向Xに移動させたが、レ
ーザアレイの方を副走査方向Xに移動させてもよい。ま
た、レーザアレイを主走査方向の長さが感光体ドラム3
と同様のものを用いた場合は、結像光学系として等倍光
学系を用い、レーザアレイと結像光学系との間にフィー
ルドレンズ等の集光手段を配置してもよい。
【0034】
【発明の効果】以上説明したように本発明の画像形成装
置によれば、複数の半導体レーザ素子から出射された複
数のレーザビームを光検出器のほぼ同一位置に入射させ
ることができるので、光検出器の感度のばらつきによる
検出誤差を低減して高精度な光量検出が可能になる。ま
た、光検出器の移動機構が不要であるので、装置の小型
化が図れる。
置によれば、複数の半導体レーザ素子から出射された複
数のレーザビームを光検出器のほぼ同一位置に入射させ
ることができるので、光検出器の感度のばらつきによる
検出誤差を低減して高精度な光量検出が可能になる。ま
た、光検出器の移動機構が不要であるので、装置の小型
化が図れる。
【図1】本発明の第1の実施の形態に係る画像形成装置
の概略構成を示す側面図である。
の概略構成を示す側面図である。
【図2】本発明の第1の実施の形態に係る画像形成装置
の概略構成を示す平面図である。
の概略構成を示す平面図である。
【図3】第1の実施の形態に係る画像形成装置の制御系
の主要部を示すブロック図である。
の主要部を示すブロック図である。
【図4】第1の実施の形態に係るレーザアレイの正面図
である。
である。
【図5】(a) は本発明の第2の実施の形態に係る偏向光
学系のYZ面を示す図、(b) はXZ面を示す図である。
学系のYZ面を示す図、(b) はXZ面を示す図である。
【図6】(a) は本発明の第3の実施の形態に係る偏向光
学系のYZ面を示す図、(b) はXZ面を示す図である。
学系のYZ面を示す図、(b) はXZ面を示す図である。
【図7】(a) は本発明の第4の実施の形態に係る偏向光
学系のYZ面を示す図、(b) はXZ面を示す図である。
学系のYZ面を示す図、(b) はXZ面を示す図である。
【図8】従来の画像形成装置を示す図である。
【図9】他の従来の画像形成装置を示す図である。
1 画像形成装置 2 レーザアレイ 2a 基板 2b レーザ素子 3 感光体ドラム 4 結像光学系 5 ハーフミラー 6 偏向光学系 7 光検出器 20 CPU 20a CPU 21 ROM 22 RAM 23 A/D変換器 24 ラッチ回路 26 クロック発生回路 27 D/A変換器 28 レーザ駆動回路 29 補正データメモリ 30 画像メモリ 31 信号処理回路 60 シリンドリカルミラー 61 アナモフィックレンズ 62 集光レンズ X 副走査方向 Y 主走査方向 Z 光軸方向
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 FI H04N 1/23 103
Claims (9)
- 【請求項1】少なくとも主走査方向にアレイ状に配列さ
れた複数の半導体レーザ素子を有し、画像信号に基づい
て変調された複数のレーザビームを前記複数の半導体レ
ーザ素子から出射するレーザアレイと、 前記複数の半導体レーザ素子から出射される前記複数の
レーザビームによって露光され、前記レーザアレイと相
対的に副走査方向に移動することによって潜像が形成さ
れる像担持体と、 前記複数の半導体レーザ素子から出射された前記複数の
レーザビームを前記像担持体上に結像させて前記潜像を
形成する結像光学系と、 前記複数のレーザビームの光路上に配置され、前記複数
の半導体レーザ素子からの前記複数のレーザビームを前
記像担持体の方向と前記像担持体の方向とは異なる所定
の方向とに分割する分割光学系と、 前記分割光学系によって前記所定の方向に分割された前
記複数のレーザビームを前記レーザビームの主光線が一
致するように偏向する偏向光学系と、 前記偏向光学系によって形成された前記主光線の一致点
あるいはその近傍に配置され、前記複数のレーザビーム
の光量を検出する光検出器と、 前記光検出器によって検出された前記複数のレーザビー
ムの光量に基づいて前記レーザアレイから出射される前
記複数のレーザビームの光量を補正する補正手段とを備
えたことを特徴とする画像形成装置。 - 【請求項2】前記レーザアレイは、前記複数の半導体レ
ーザ素子が前記主走査方向にのみアレイ状に配列され、 前記偏向光学系は、前記主走査方向にパワーを有する構
成の請求項1記載の画像形成装置。 - 【請求項3】前記レーザアレイは、前記複数の半導体レ
ーザ素子が前記主走査方向および前記副走査方向にアレ
イ状に配列され、 前記偏向光学系は、前記主走査方向および前記副走査方
向にパワーを有する構成の請求項1記載の画像形成装
置。 - 【請求項4】前記偏向光学系は、シリンドリカルミラー
からなる構成の請求項2または3記載の画像形成装置。 - 【請求項5】前記レーザアレイは、前記複数の半導体レ
ーザ素子が前記主走査方向および前記副走査方向にアレ
イ状に配列され、 前記偏向光学系は、前記主走査方向にパワーを有する第
1の偏向光学部材と、前記副走査方向にパワーを有する
第2の偏向光学部材とを備えた構成の請求項1記載の画
像形成装置。 - 【請求項6】前記第1の偏向光学部材は、シリンドリカ
ルミラーからなり、前記第2の偏向光学部材は、アナモ
ックレンズからなる構成の請求項5記載の画像形成装
置。 - 【請求項7】前記偏向光学系は、前記複数のレーザビー
ムを所定の範囲に偏向する第1の偏向光学部材と、前記
第1の偏向光学部材によって前記所定の範囲に偏向され
た前記複数のレーザビームを前記レーザビームの主光線
が一致するように偏向する第2の偏向光学部材とを備え
た構成の請求項1記載の画像形成装置。 - 【請求項8】前記第1の偏向光学部材は、シリンドリカ
ルミラーからなり、前記第2の偏向光学部材は、集光レ
ンズからなる構成の請求項7記載の画像形成装置。 - 【請求項9】前記偏向光学系は、前記結像光学系と前記
像担持体との間に配置された構成の請求項1記載の画像
形成装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP33679597A JPH11170600A (ja) | 1997-12-08 | 1997-12-08 | 画像形成装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP33679597A JPH11170600A (ja) | 1997-12-08 | 1997-12-08 | 画像形成装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH11170600A true JPH11170600A (ja) | 1999-06-29 |
Family
ID=18302762
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP33679597A Pending JPH11170600A (ja) | 1997-12-08 | 1997-12-08 | 画像形成装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH11170600A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005313480A (ja) * | 2004-04-28 | 2005-11-10 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 画像記録装置および光ビーム強度補正方法 |
JP2012016840A (ja) * | 2010-07-06 | 2012-01-26 | Ricoh Co Ltd | 光学装置および光学装置の制御方法、ならびに、画像形成装置 |
JP2013049269A (ja) * | 2011-08-24 | 2013-03-14 | Palo Alto Research Center Inc | 空間光変調器およびアナモフィック投影光学を用いた単一通過画像形成システム |
-
1997
- 1997-12-08 JP JP33679597A patent/JPH11170600A/ja active Pending
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005313480A (ja) * | 2004-04-28 | 2005-11-10 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 画像記録装置および光ビーム強度補正方法 |
JP4493077B2 (ja) * | 2004-04-28 | 2010-06-30 | 大日本スクリーン製造株式会社 | 画像記録装置および光ビーム強度補正方法 |
JP2012016840A (ja) * | 2010-07-06 | 2012-01-26 | Ricoh Co Ltd | 光学装置および光学装置の制御方法、ならびに、画像形成装置 |
JP2013049269A (ja) * | 2011-08-24 | 2013-03-14 | Palo Alto Research Center Inc | 空間光変調器およびアナモフィック投影光学を用いた単一通過画像形成システム |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20040127 |