JPH11166024A - ブロック共重合体および樹脂組成物 - Google Patents

ブロック共重合体および樹脂組成物

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JPH11166024A
JPH11166024A JP9331540A JP33154097A JPH11166024A JP H11166024 A JPH11166024 A JP H11166024A JP 9331540 A JP9331540 A JP 9331540A JP 33154097 A JP33154097 A JP 33154097A JP H11166024 A JPH11166024 A JP H11166024A
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JP
Japan
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group
block copolymer
mol
resin composition
benzotriazole
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JP9331540A
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English (en)
Inventor
Kazuhiko Maekawa
一彦 前川
Masanari Uno
将成 宇野
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Kuraray Co Ltd
Original Assignee
Kuraray Co Ltd
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Publication date
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Publication of JPH11166024A publication Critical patent/JPH11166024A/ja
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 表面美麗性を損なうことなく、優れた耐候性
をポリオレフィン系樹脂に付与することが可能なブロッ
ク共重合体、該ブロック共重合体をポリオレフィン系樹
脂に配合してなる樹脂組成物および成形品を提供するこ
と。 【解決手段】 オレフィン系単量体単位50〜100モル%
および該単量体と共重合可能なビニル系単量体単位50〜
0モル%よりなる重合体ブロック(A)、並びにベンゾトリ
アゾール基及び/又はヒンダードアミン基を含有するビ
ニル系単量体単位0.1〜100モル%および該単量体と共重
合可能なビニル系単量体単位99.9〜0モル%よりなる重
合体ブロック(B)から構成されるブロック共重合体;該
ブロック共重合体をポリオレフィン系樹脂100重量部に
対して0.01〜20重量部配合してなる樹脂組成物;並びに
該樹脂組成物からなる成形品。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、成形品の表面美麗
性を損なうことなく、優れた耐候性をポリオレフィン系
樹脂に付与することが可能なブロック共重合体、該ブロ
ック共重合体をポリオレフィン系樹脂に配合してなる樹
脂組成物および該樹脂組成物からなる成形品に関する。
【0002】
【従来の技術】ポリオレフィン系樹脂は、低コストで機
械的強度、耐熱性、耐油性に優れ、且つ透明性等の外観
にも優れるため、各種成形法によりフィルム、繊維、成
形品など広範囲な用途に使用されている。しかしなが
ら、ポリオレフィン系樹脂は本質的に耐候性に劣り、太
陽光あるいは蛍光燈の光に長時間曝されると、表面の変
色や表面の色調が損なわれるという欠点を有している。
そのため、農業用途、自動車部品用途、食品フィルム用
途等の耐候性が要求される分野においては、紫外線吸収
剤をポリオレフィン系樹脂にブレンドして使用されるの
が一般的になっている。しかしながら、添加される紫外
線吸収剤は、分子量が1000以下のオリゴマーや低分
子化合物であるため、長期間に渡り使用される場合は、
添加した紫外線吸収剤のブリードアウト、揮発等が起こ
り、紫外線吸収効果が低下するという問題がある。さら
に、該紫外線吸収剤を含有する樹脂組成物を用いて成形
品を製造すると、該紫外線吸収剤がブリードアウトして
成形機の金型が汚染されるため、成形品表面の外観不良
等が起こり、表面のきれいな成形品を連続して製造する
ことは実質上不可能である。
【0003】そこで、分子内に不飽和基を有する低分子
の紫外線吸収剤を、ラジカル開始剤の存在下で溶融重合
反応によりポリプロピレン樹脂に導入する方法が提案さ
れている(特開平8−208765号公報参照)。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、分子内
に不飽和基を有する低分子の紫外線吸収剤を、ラジカル
開始剤の存在下で溶融重合反応によりポリプロピレン樹
脂に導入する方法では、溶融重合反応率が低いため、期
待するような耐候性を有するものは得られない。さら
に、未反応の低分子紫外線吸収剤がポリプロピレン樹脂
中に残存するため、成形品を製造する際に、未反応の低
分子紫外線吸収剤がブリードアウトして成形機の金型を
汚染し、表面のきれいな成形品を連続して製造すること
は実質上困難である。
【0005】本発明の目的は、成形品の表面美麗性を損
なうことなく、優れた耐候性をポリオレフィン系樹脂に
付与することが可能なブロック共重合体、該ブロック共
重合体をポリオレフィン系樹脂に配合してなる樹脂組成
物および該樹脂組成物からなる成形品を提供することに
ある。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記課題
を解決するために鋭意検討した結果、オレフィン系単量
体単位を50モル%以上含有する重合体ブロック(A)
と、ベンゾトリアゾール基および/またはヒンダードア
ミン基を含有するビニル系単量体単位を0.1〜100
モル%含有する重合体ブロック(B)から構成されるブ
ロック共重合体を、ポリオレフィン系樹脂に配合するこ
とにより、成形品の表面美麗性を損なうことなく、優れ
た耐候性をポリオレフィン系樹脂に付与することができ
ることを見出し、本発明を完成した。
【0007】すなわち、本発明は、オレフィン系単量体
単位50〜100モル%および該単量体と共重合可能な
ビニル系単量体単位50〜0モル%よりなる重合体ブロ
ック(A)、並びにベンゾトリアゾール基および/また
はヒンダードアミン基を含有するビニル系単量体単位
0.1〜100モル%および該単量体と共重合可能なビ
ニル系単量体単位99.9〜0モル%よりなる重合体ブ
ロック(B)から構成されるブロック共重合体に関す
る。
【0008】本発明は、ポリオレフィン系樹脂100重
量部に対して、上記のブロック共重合体を0.01〜2
0重量部配合してなる樹脂組成物に関する。さらに、本
発明は上記の樹脂組成物からなる成形品に関する。
【0009】
【発明の実施の形態】本発明のブロック共重合体は、以
下に述べる重合体ブロック(A)および重合体ブロック
(B)から構成されており、例えば、A−B型ジブロッ
ク共重合体、A−B−A型トリブロック共重合体、B−
A−B型トリブロック共重合体などを挙げることができ
る。これらのなかでも、A−B型ジブロック共重合体が
好ましい。
【0010】本発明のブロック共重合体を構成する重合
体ブロック(A)は、オレフィン系単量体単位を全構造
単位に対して50〜100モル%含有しており、70〜
100モル%含有しているのが好ましく、80〜100
モル%含有しているのがより好ましい。オレフィン系単
量体単位としては、例えば、エチレン、プロピレン、1
−ブテン、2−メチル−1−ブテン、3−メチル−1−
ブテン、2−ブテン、イソブチレン、ブタジエン、イソ
プレン、ベンテン、4−メチル−1−ペンテン、1−ヘ
キセン、1−オクテン、1−デセン、1−オクタデセ
ン、ビニルシクロヘキサン、シクロペンタジエン、β−
ピネンなどから誘導される単位を挙げることができ、こ
れらのうち1種または2種以上を用いることができる。
これらのなかでも、エチレン、プロピレン、イソブチレ
ン、イソプレンから誘導される単位が好ましい。さら
に、共役ジエンから誘導された単位の場合には、残存す
る不飽和結合が水素添加されていてもよい。
【0011】重合体ブロック(A)は、必要に応じて、
上記のオレフィン系単量体と共重合可能なビニル系単量
体単位を50〜0モル%、好ましくは30〜0モル%、
より好ましくは20〜0モル%の割合で含有していても
よい。オレフィン系単量体と共重合可能なビニル系単量
体単位としては、例えば、スチレン、p−スチレンスル
ホン酸、およびそのナトリウム塩、カリウム塩などのス
チレン系単量体;(メタ)アクリロニトリル類;酢酸ビ
ニル、ピバリン酸ビニルなどのビニルエステル類;(メ
タ)アクリル酸、(メタ)アクリル酸メチル、(メタ)
アクリル酸エチル、(メタ)アクリル酸ブチル、(メ
タ)アクリル酸ドデシル、(メタ)アクリル酸2−エチ
ルヘキシル、(メタ)アクリル酸2−ヒドロキシエチル
などの(メタ)アクリル酸およびそのエステル類;(メ
タ)アクリルアミド;N−ビニル−2−ピロリドンなど
から誘導される単位を挙げることができ、これらのうち
1種または2種以上を用いることができる。これらのな
かでも、アクリル酸メチル、メタクリル酸メチル、スチ
レン、アクリロニトリルから誘導される単位が好まし
い。
【0012】本発明のブロック共重合体を構成する重合
体ブロック(B)は、ベンゾトリアゾール基および/ま
たはヒンダードアミン基を含有するビニル系単量体単位
を、全構造単位に対して0.1〜100モル%含有して
おり、10〜70モル%含有しているのが好ましく、1
0〜50モル%含有しているのがより好ましい。
【0013】上記のベンゾトリアゾール基としては、例
えば、下記の一般式(1)で示される基が好ましい。
【0014】
【化1】
【0015】(式中、Xは水素原子、ハロゲン原子、炭
化水素基、アルコキシ基、シアノ基またはニトロ基を表
す。)
【0016】一般式(1)のXが表すハロゲン原子とし
ては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ
素原子を挙げることができ、これらのなかでも塩素原子
が好ましい。
【0017】一般式(1)のXが表す炭化水素基として
は、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプ
ロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、t−ブチル
基、s−ブチル基、1―メチルブチル基、n−ペンチル
基、イソペンチル基、ネオペンチル基、t−ペンチル
基、ヘキシル基、ヘプチル基、1−メチルヘプチル基、
オクチル基、ノニル基、デシル基、ドデシル基、ヘキサ
デシル基、オクタデシル基などのアルキル基;フェニル
基、トリル基、キシリル基、ビフェニル基、ナフチル
基、アントリル基、フェナントリル基などのアリール
基;ベンジル基、フェネチル基、3−フェニルプロピル
基などのアラルキル基などを挙げることができ、これら
のなかでも炭素数1〜8の炭化水素基が好ましく、炭素
数1〜8のアルキル基がより好ましい。
【0018】一般式(1)のXが表すアルコキシ基とし
ては、例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ
基、イソプロポキシ基、ブトキシ基、イソブトキシ基、
s−ブトキシ基、t−ブトキシ基、ペンチルオキシ基、
フェノキシ基、ベンジルオキシ基、メチレンジオキシ基
などを挙げることができ、これらのなかでも炭素数1〜
4のアルコキシ基が好ましい。
【0019】前記のヒンダードアミン基としては、例え
ば、下記の一般式(2)で示される基が好ましい。
【0020】
【化2】
【0021】(式中、Yは水素原子または炭化水素基を
表す。)
【0022】一般式(2)のYが表す炭化水素基として
は、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプ
ロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、t−ブチル
基、s−ブチル基、1―メチルブチル基、n−ペンチル
基、イソペンチル基、ネオペンチル基、t−ペンチル
基、ヘキシル基、ヘプチル基、1−メチルヘプチル基、
オクチル基、ノニル基、デシル基、ドデシル基、ヘキサ
デシル基、オクタデシル基などのアルキル基;フェニル
基、トリル基、キシリル基、ビフェニル基、ナフチル
基、アントリル基、フェナントリル基などのアリール
基;ベンジル基、フェネチル基、3−フェニルプロピル
基などのアラルキル基などを挙げることができ、これら
のなかでも炭素数1〜18の炭化水素基が好ましく、さ
らに、炭素数1〜18のアルキル基、アリール基または
アラルキル基がより好ましい。
【0023】一般式(1)で示される基を含有するビニ
ル系単量体としては、例えば、下記の一般式(3)で示
される単量体が好ましい。
【0024】
【化3】
【0025】(式中、R1は水素原子または炭化水素基
を表し、R2はアルキル基の側鎖を有していてもよいア
ルキレン基を表し、R3は水素原子またはメチル基を表
し、Xは水素原子、ハロゲン原子、炭化水素基、アルコ
キシ基、シアノ基またはニトロ基を表す。)
【0026】一般式(3)のR1が表す炭化水素基とし
ては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソ
プロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、t−ブチル
基、s−ブチル基、1―メチルブチル基、n−ペンチル
基、イソペンチル基、ネオペンチル基、t−ペンチル
基、ヘキシル基、ヘプチル基、1−メチルヘプチル基、
オクチル基、ノニル基、デシル基、ドデシル基、ヘキサ
デシル基、オクタデシル基などのアルキル基;フェニル
基、トリル基、キシリル基、ビフェニル基、ナフチル
基、アントリル基、フェナントリル基などのアリール
基;ベンジル基、フェネチル基、3−フェニルプロピル
基などのアラルキル基などを挙げることができ、これら
のなかでも炭素数1〜8の炭化水素基が好ましく、炭素
数1〜8のアルキル基がより好ましい。
【0027】一般式(3)のR2が表すアルキル基の側
鎖を有していてもよいアルキレン基としては、例えば、
メチレン基、エチレン基、プロピレン基、イソプロピレ
ン基、n−ブチレン基、イソブチレン基、t−ブチレン
基、s−ブチレン基、1―メチルブチレン基、n−ペン
チレン基、イソペンチレン基、ネオペンチレン基、t−
ペンチレン基、ヘキシレン基、ヘプチレン基、1−メチ
ルヘプチレン基、オクチレン基、ノニレン基、デシレン
基、ドデシレン基、ヘキサデシレン基、オクタデシレン
基などを挙げることができ、これらのなかでも炭素数1
〜6のアルキル基の側鎖を有していてもよい炭素数1〜
6のアルキレン基が好ましい。
【0028】一般式(3)のXが表すハロゲン原子とし
ては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ
素原子を挙げることができ、これらのなかでも塩素原子
が好ましい。
【0029】一般式(3)のXが表す炭化水素基として
は、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプ
ロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、t−ブチル
基、s−ブチル基、1―メチルブチル基、n−ペンチル
基、イソペンチル基、ネオペンチル基、t−ペンチル
基、ヘキシル基、ヘプチル基、1−メチルヘプチル基、
オクチル基、ノニル基、デシル基、ドデシル基、ヘキサ
デシル基、オクタデシル基などのアルキル基;フェニル
基、トリル基、キシリル基、ビフェニル基、ナフチル
基、アントリル基、フェナントリル基などのアリール
基;ベンジル基、フェネチル基、3−フェニルプロピル
基などのアラルキル基などを挙げることができ、これら
のなかでも炭素数1〜8の炭化水素基が好ましく、炭素
数1〜8のアルキル基がより好ましい。
【0030】一般式(3)のXが表すアルコキシ基とし
ては、例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ
基、イソプロポキシ基、ブトキシ基、イソブトキシ基、
s−ブトキシ基、t−ブトキシ基、ペンチルオキシ基、
フェノキシ基、ベンジルオキシ基、メチレンジオキシ基
などを挙げることができ、これらのなかでも炭素数1〜
4のアルコキシ基が好ましい。
【0031】一般式(3)で示されるベンゾトリアゾー
ル基を含有するビニル系単量体としては、例えば、2−
(2’−ヒドロキシ−5’−メタクリロイロキシエチル
フェニル)−2H−ベンゾトリアゾール、2−(2’−
ヒドロキシ−5’−メタクリロイロキシエチルフェニ
ル)−5−クロロ−2H−ベンゾトリアゾール、2−
(2’−ヒドロキシ−5’−メタクリロイロキシプロピ
ルフェニル)−2H−ベンゾトリアゾール、2−(2’
−ヒドロキシ−5’−メタクリロイロキシプロピルフェ
ニル)−5−クロロ−2H−ベンゾトリアゾール、2−
(2’−ヒドロキシ−5’−メタクリロイロキシプロピ
ル−3’−t−ブチルフェニル)−5−クロロ−2H−
ベンゾトリアゾール、2−(3’−(1”、1”−ジメ
チル−3”−メタクリロイロキシプロピル)−2’−ヒ
ドロキシ−5’−メチルフェニル)−5−クロロ−2H
−ベンゾトリアゾール、2−(2’−ヒドロキシ−5’
−メタクリロイロキシエチルフェニル)−5−シアノ−
2H−ベンゾトリアゾール、2−(2’−ヒドロキシ−
5’−メタクリロイロキシエチルフェニル)−5−ニト
ロ−2H−ベンゾトリアゾール等を挙げることができ、
これらのうち1種または2種以上を用いることができ
る。これらのなかでも、2−(2’−ヒドロキシ−5’
−メタクリロイロキシエチルフェニル)−2H−ベンゾ
トリアゾールを用いるのが好ましい。
【0032】一般式(2)で示される基を含有するビニ
ル系単量体としては、例えば、下記の一般式(4)で示
される単量体が好ましい。
【0033】
【化4】
【0034】(式中、Yは水素原子または炭化水素基を
表し、R4は水素原子またはメチル基を表し、Zは酸素
原子またはイミノ基を表す。)
【0035】一般式(4)のYが表す炭化水素基として
は、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプ
ロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、t−ブチル
基、s−ブチル基、1―メチルブチル基、n−ペンチル
基、イソペンチル基、ネオペンチル基、t−ペンチル
基、ヘキシル基、ヘプチル基、1−メチルヘプチル基、
オクチル基、ノニル基、デシル基、ドデシル基、ヘキサ
デシル基、オクタデシル基などのアルキル基;フェニル
基、トリル基、キシリル基、ビフェニル基、ナフチル
基、アントリル基、フェナントリル基などのアリール
基;ベンジル基、フェネチル基、3−フェニルプロピル
基などのアラルキル基などを挙げることができ、これら
のなかでも炭素数1〜18の炭化水素基が好ましく、さ
らに、炭素数1〜18のアルキル基、アリール基または
アラルキル基がより好ましい。
【0036】一般式(4)で示されるヒンダードアミン
基を含有するビニル系単量体としては、例えば、4−
(メタ)アクリロイロキシ−2,2,6,6−テトラメ
チルピペリジン、4−(メタ)アクリロイロキシ−アミ
ノ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン、4−
(メタ)アクリロイロキシ−1,2,2,6,6−ペン
タメチルピペリジン、4−(メタ)アクリロイルアミノ
−1,2,2,6,6−テトラメチルピペリジン等を挙
げることができ、これらのうち1種または2種以上を用
いることができる。これらのなかでも、4−(メタ)ア
クリロイロキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリ
ジンを用いるのが好ましい。
【0037】重合体ブロック(B)は、必要に応じて、
上記のベンゾトリアゾール基および/またはヒンダード
アミン基を含有するビニル系単量体と共重合可能なビニ
ル系単量体単位を、全構造単位に対して99.9モル%
以下、好ましくは30〜90モル%、さらに好ましくは
50〜90モル%の割合で含有していてもよい。ベンゾ
トリアゾール基および/またはヒンダードアミン基を含
有するビニル系単量体と共重合可能なビニル系単量体単
位としては、例えば、スチレン、p−スチレンスルホン
酸、およびそのナトリウム塩、カリウム塩などのスチレ
ン系単量体;(メタ)アクリロニトリル類;酢酸ビニ
ル、ピバリン酸ビニルなどのビニルエステル類;(メ
タ)アクリル酸、(メタ)アクリル酸メチル、(メタ)
アクリル酸エチル、(メタ)アクリル酸ブチル、(メ
タ)アクリル酸ドデシル、(メタ)アクリル酸2−エチ
ルヘキシル、(メタ)アクリル酸2−ヒドロキシエチル
などの(メタ)アクリル酸およびそのエステル類;(メ
タ)アクリルアミド;N−ビニル−2−ピロリドンなど
から誘導される単位を挙げることができ、これらのうち
1種または2種以上を用いることができる。これらのな
かでも、アクリル酸メチル、メタクリル酸メチル、スチ
レン、アクリロニトリルから誘導される単位が好まし
い。
【0038】重合体ブロック(A)の数平均分子量は、
1,000〜100,000であるのが好ましく、2,
500〜50,000であるのがより好ましい。重合体
ブロック(B)の数平均分子量は、1,000〜10
0,000であるのが好ましく、2,500〜50,0
00であるのがより好ましい。ブロック共重合体全体の
数平均分子量は、2,000〜200,000であるの
が好ましく、5,000〜100,000であるのがよ
り好ましい。なお、本明細書でいう数平均分子量は、ゲ
ルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)法に
より、標準ポリスチレン検量線から求めた値である。
【0039】ブロック共重合体の製造法は、特に制限は
ないが、例えば、末端にメルカプト基を有するオレフィ
ン系重合体ブロック(A)の存在下に、重合体ブロック
(B)を構成する単量体成分をラジカル重合することに
よりブロック共重合体を製造する方法が、目的とする数
平均分子量および分子量分布を有するブロック共重合体
を簡便かつ効率的に得ることができるので好ましい。
【0040】なお、末端にメルカプト基を有するオレフ
ィン系重合体ブロック(A)は、各種方法により合成可
能であり、例えば、末端に二重結合を有するポリオレフ
ィン系樹脂に、チオ酢酸、チオ安息香酸、チオプロピオ
ン酸、チオ酪酸またはチオ古草酸などを付加させた後、
酸またはアルカリで処理する方法や、オレフィンのアニ
オン重合において、停止剤としてエチレンスルフィドな
どを用いる方法により合成することができる。
【0041】本発明の樹脂組成物は、ポリオレフィン系
樹脂100重量部に対して、上記のブロック共重合体を
0.01〜20重量部、好ましくは、0.03〜10重
量部配合することにより得られる。ブロック共重合体の
配合割合が20重量部を超える場合には、得られる樹脂
組成物の耐熱性、アイゾット衝撃強度等が低下する。一
方、0.01重量部未満の場合には、得られる樹脂組成
物の耐候性が十分に改善されない。
【0042】本発明の樹脂組成物に用いられるポリオレ
フィン系樹脂は、通常の成形材料として用いられるポリ
オレフィンであればいずれも用いることができる。例え
ば、ポリプロピレン、ポリ(4−メチル−1−ペンテ
ン)、ポリブテン−1、高密度ポリエチレン、低密度ポ
リエチレン、線状低密度ポリエチレン、密度0.9未満
の超低密度ポリエチレン;あるいは、エチレン、プロピ
レン、他のα−オレフィンおよび不飽和カルボン酸の中
から選ばれる2種以上の単量体からなる共重合体、例え
ば、エチレン−1−プロピレン共重合体、エチレン−1
−ブテン共重合体、エチレン−1−オクテン共重合体な
どのエチレン−α−オレフィン共重合体;エチレン−
(メタ)アクリレート共重合体;プロピレン−1−ヘキ
セン共重合体、プロピレン−4−メチル−1−ペンテン
共重合体等を挙げることができ、これらのうち1種また
は2種以上を用いることができる。これらのポリオレフ
ィン系樹脂のうち、ポリプロピレン、ポリエチレン、エ
チレン−α−オレフィン共重合体が好ましく、さらにポ
リプロピレン、ポリエチレンが好ましい。
【0043】本発明の樹脂組成物は、必要に応じて、本
発明の効果を損なわない範囲内で公知の紫外線吸収剤を
併用することができる。これらの紫外線吸収剤を併用す
ると、より耐候性に優れた樹脂組成物が得られるので好
ましい。公知の紫外線吸収剤としては、例えば2,4−
ジヒドロキシベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−4−オ
クトキシベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−4−メトキ
シベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−4−ドデシルオキ
シベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−4−ベンジルオキ
シベンゾフェノン、2,2’−ジヒドロキシ−4−メト
キシベンゾフェノン、2,2’,4,4’−テトラヒド
ロキシベンゾフェノンなどのベンゾフェノン系紫外線吸
収剤;2−(2’−ヒドロキシ−5’−メチルフェニ
ル)−ベンゾトリアゾール、2−(2’−ヒドロキシ−
3’,5’−ジ−t−ブチルフェニル、2−(2’−ヒ
ドロキシ−3’,5’−ジ−t−アミルフェニル)−ベ
ンゾトリアゾール、2−(2’−ヒドロキシ−3’,
5’−ジ−t−ブチルフェニル)−ベンゾトリアゾー
ル、2−(2’−ヒドロキシ−5’−t−オクチルフェ
ニル)−ベンゾトリアゾール、2−(2’−ヒドロキシ
−3’−t−ブチル−5’−メチルフェニル)−5−ク
ロロベンゾトリアゾール、2−[2’−ヒドロキシ−
3’,5’−ビス−(α,α−ジメチルベンジル)フェ
ニル]ベンゾトリアゾール、メチル−3−[3−t−ブ
チル−5−(2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)−
4−ヒドロキシフェニル]プロピオネートとポリエチレ
ングリコール(分子量300)との縮合物などのベンゾ
トリアゾール系紫外線吸収剤;p−オクチルフェニルサ
リチレート、フェニルサリチレート、t−ブチルフェニ
ルサリチレートなどのサリチレート系紫外線吸収剤;レ
ゾルシノールモノベンゾエート、3,5−ジ−t−ブチ
ル−4−ヒドロキシ安息香酸ヘキサデシルエステル、5
−t−ブチル−2−エトキシ−2’,2’−エチルオキ
サイド、5−ジヘキシルアミノ−2−シアノ−2,4−
ペンタジエンニトリルなどが挙げることができる。
【0044】本発明の樹脂組成物は、上記の紫外線吸収
剤の他に、必要に応じて、顔料、核剤、酸化防止剤、熱
劣化防止剤、アンチブロッキング剤、滑剤などの添加
剤;ガラス繊維、炭素繊維、ポリアミド繊維などの繊維
状充填剤;シリカ、水酸化アルミニウム、炭酸カルシウ
ム、タルク、マイカ、酸化チタン、カーボンブラック、
チタン酸カリウムなどの粉末状充填剤;他のポリマーな
どを含有していてもよい。
【0045】本発明の樹脂組成物は、上記のポリオレフ
ィン系樹脂、ブロック共重合体および必要に応じて上記
した他の成分を使用して、通常のポリマーブレンドの手
法により製造することができる。例えば、一軸押出機、
二軸押出機、ブラベンダー、ニーダー、バンバリーミキ
サーなどの溶融混練機を用いて溶融混練してもよいし、
単にドライブレンドするだけでもよい。溶融混練して製
造すると、得られる樹脂組成物において、ポリオレフィ
ン系樹脂マトリックス中でブロック共重合体が微分散す
る状態をとり、耐候性および表面美麗性がより優れたも
のが得られるので好ましい。溶融混練条件は特に制限さ
れないが、通常、約250〜300℃の温度で約3〜3
0分程度混練するとよい。
【0046】本発明の樹脂組成物は、溶融成形や加熱加
工が可能であり、射出成形、押出成形、インフレーショ
ンフィルム成形、ブロー成形などの任意の成形方法によ
って種々の成形品を円滑に製造することができる。
【0047】本発明の樹脂組成物は、例えば、電動工
具、一般工業用部品、ギヤ、カムなどの機械部品、自動
車内外装部品、自動車電装部品、自動車のエンジンルー
ム内の部品などの自動車関連部品、家電・OA機器用の
ハウジング部品あるいはエレクトロニクス関連部品、食
品包装用フィルム、農業用フィルムなどの各種用途の成
形材料として有用である。
【0048】
【実施例】以下、実施例により本発明をさらに詳細に説
明するが、本発明はこれらの実施例に何ら限定されるも
のではない。なお、以下の実施例および比較例におい
て、耐候性、成形品の表面状態、アイゾット衝撃強度、
熱変形温度は、下記の方法により測定または評価した。
【0049】〔耐候性〕キセノンアーク式フェードメー
ター(アトラス社製Ci65型、使用フィルター:パーレッ
クスガラス、クリアガラス、ブラックパネル温度:60
℃、降雨スプレー:なし)を用い、板状試験片(12.
7mm×63.6mm×3.2mm)に2000時間光
を照射した。光照射前後の試験片の色調を、色差計(日
本電色工業(株)社製Σ−80)を用いて測定し、その
色調の差をΔYI値として表した。このΔYI値の数字
が大きい程、耐候性が悪いことを示す。
【0050】〔成形品の表面状態〕板状試験片(12.
7mm×63.6mm×3.2mm)の表面を目視にて
観察し、表面状態の良好なものを○、表面に傷やシルバ
ーストリークがあり、表面状態の不良なものを×で示し
た。
【0051】〔アイゾット衝撃強度〕キセノンアーク式
フェードメーター(アトラス社製Ci65型、使用フィルタ
ー:パーレックスガラス、クリアガラス、ブラックパネ
ル温度:60℃、降雨スプレー:なし)を用い、200
0時間光を照射した板状試験片(12.7mm×63.
6mm×3.2mm)のアイゾット衝撃強度を、AST
M D256(ノッチ付き)に従って測定した。
【0052】〔熱変形温度〕キセノンアーク式フェード
メーター(アトラス社製Ci65型、使用フィルター:パー
レックスガラス、クリアガラス、ブラックパネル温度:
60℃、降雨スプレー:なし)を用い、2000時間光
を照射した板状試験片(12.7mm×63.6mm×
3.2mm)の熱変形温度を、ASTM D648(荷
重18.6kg/cm2)に従って測定した。
【0053】実施例1 2−(2’−ヒドロキシ−5’−メタクリロイロキシエ
チルフェニル)−2H−ベンゾトリアゾール15g、メ
タクリル酸メチル15g、トルエン48gおよび数平均
分子量10,000の末端にメルカプト基を有するポリ
プロピレンを30gを1リットルの重合槽に仕込み、9
0℃で内部を十分窒素置換した後、ラジカル重合開始剤
(V−65、和光純薬(株)製、0.1重量%のトルエン
溶液)を5.4ml/時間の速度で重合槽に添加し、重
合を開始した。 重合率(ポリマー転換率)が95%に
なった時点で重合を停止し、ポリプロピレンブロック
(A)および2−(2’−ヒドロキシ−5’−メタクリ
ロイロキシエチルフェニル)−2H−ベンゾトリアゾー
ル/メタクリル酸メチル共重合体ブロック(B)〔2−
(2’−ヒドロキシ−5’−メタクリロイロキシエチル
フェニル)−2H−ベンゾトリアゾール:メタクリル酸
メチル=24:76(モル比)〕から構成されるA−B
型ジブロック共重合体(以下、「ブロック共重合体1」
と称する)を得た。得られたブロック共重合体1の重合
体ブロック(A)の数平均分子量は10,000、重合
体ブロック(B)の数平均分子量は10,000、ブロ
ック共重合体1の数平均分子量は20,000であっ
た。
【0054】実施例2 実施例1で使用した2−(2’−ヒドロキシ−5’−メ
タクリロイロキシエチルフェニル)−2H−ベンゾトリ
アゾールの代わりに、4−メタクリロイロキシ−2,
2,6,6−テトラメチルピペリジンを使用する以外
は、実施例1と同様の方法でブロック共重合体を製造し
た。得られたブロック共重合体は、ポリプロピレンブロ
ック(A)および4−メタクリロイロキシ−2,2,
6,6−テトラメチルピペリジン/メタクリル酸メチル
共重合体ブロック(B)〔4−メタクリロイロキシ−
2,2,6,6−テトラメチルピペリジン:メタクリル
酸メチル=31:69(モル比)〕から構成されるA−
B型ジブロック共重合体(以下、「ブロック共重合体
2」と称する)を得た。得られたブロック共重合体2の
重合体ブロック(A)の数平均分子量は10,000、
重合体ブロック(B)の数平均分子量は11,000、
ブロック共重合体2の数平均分子量は21,000であ
った。
【0055】実施例3〜8 ポリプロピレン樹脂〔三井石油化学社製「ハイポールJ
440」〕に上記のブロック共重合体1またはブロック
共重合体2を、下記の表1に示す割合で配合し、ブラベ
ンダーを用いて混合した後、二軸押出機を用いて210
℃で溶融押し出しすることにより、樹脂組成物を製造し
た。得られた樹脂組成物から射出成形機を用いて、射出
温度200〜230℃、金型温度30〜60℃の条件下
に射出成形を行って板状試験片(12.7mm×63.
6mm×3.2mm)を作製し、各種評価を行った。そ
の結果を下記の表1に示す。
【0056】比較例1 ポリプロピレン樹脂〔三井石油化学社製「ハイポールJ
440」〕から射出成形機を用いて、射出温度200〜
230℃、金型温度30〜60℃の条件下に射出成形を
行って板状試験片(12.7mm×63.6mm×3.
2mm)を作製し、各種評価を行った。その結果を下記
の表1に示す。
【0057】比較例2〜4 ビス−(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジ
ニル)セバケート〔住友化学工業(株)製「スミソーブ
577」〕、2−(2’−ヒドロキシ−3’−t−ブチル
−5’−メチルフェニル)−5−クロロベンゾトリアゾ
ール〔住友化学工業(株)製「スミソーブ300」〕また
はブロック共重合体1を、下記の表1に示す割合で使用
する以外は実施例3〜8と同様にして樹脂組成物を製造
した。得られた樹脂組成物から射出成形機を用いて、射
出温度200〜230℃、金型温度30〜60℃の条件
下に射出成形を行って板状試験片(12.7mm×6
3.6mm×3.2mm)を作製し、各種評価を行っ
た。その結果を下記の表1に示す。
【0058】
【表1】
【0059】
【発明の効果】本発明のブロック共重合体をポリオレフ
ィン系樹脂に配合することにより、表面美麗性を損なう
ことなく、耐候性に優れた樹脂組成物が得られる。

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 オレフィン系単量体単位50〜100モ
    ル%および該単量体と共重合可能なビニル系単量体単位
    50〜0モル%よりなる重合体ブロック(A)、並びに
    ベンゾトリアゾール基および/またはヒンダードアミン
    基を含有するビニル系単量体単位0.1〜100モル%
    および該単量体と共重合可能なビニル系単量体単位9
    9.9〜0モル%よりなる重合体ブロック(B)から構
    成されるブロック共重合体。
  2. 【請求項2】 ブロック共重合体を構成する、重合体ブ
    ロック(A)の数平均分子量が1,000〜100,0
    00であり、重合体ブロック(B)の数平均分子量が
    1,000〜100,000である請求項1記載のブロ
    ック共重合体。
  3. 【請求項3】 ポリオレフィン系樹脂100重量部に対
    して、請求項1または2記載のブロック共重合体を0.
    01〜20重量部配合してなる樹脂組成物。
  4. 【請求項4】 請求項3記載の樹脂組成物からなる成形
    品。
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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001164236A (ja) * 1999-12-03 2001-06-19 Sekisui Chem Co Ltd 変成シリコーン系シーリング材
JP2002161109A (ja) * 1999-10-12 2002-06-04 Kanegafuchi Chem Ind Co Ltd イソブチレン系ブロック共重合体樹脂溶液からの有機溶媒除去方法及びペレット製造方法
JP2010174199A (ja) * 2009-01-30 2010-08-12 Toyohashi Univ Of Technology ブロック共重合体及びその製造方法
JP2021031542A (ja) * 2019-08-21 2021-03-01 東洋インキScホールディングス株式会社 紫外線吸収性ポリマー、成形用組成物、および成形体

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