JPH111633A

JPH111633A - 含フッ素化合物を含む光学薄膜とその形成方法、および光反射防止性物品

Info

Publication number: JPH111633A
Application number: JP9155427A
Authority: JP
Inventors: Koichiro Oka; 紘一郎岡
Original assignee: Toray Industries Inc
Current assignee: Toray Industries Inc
Priority date: 1997-06-12
Filing date: 1997-06-12
Publication date: 1999-01-06
Anticipated expiration: 2017-06-12
Also published as: JP3861380B2

Abstract

(57)【要約】【課題】耐擦傷性、耐久性に優れ、形成容易な低屈折率
の光学薄膜。【解決手段】化１の一般式（１）で示される化合物を含
有する組成物を硬化して形成した、厚さ３０〜７００ｎ
ｍ、屈折率が１．４５以下の光学薄膜を提供する。一般
式（１）の化合物中、ｎが４〜１２であって、Ａ1 ，Ａ
2 ，Ａ3 ，Ａ4のいずれかがアクリロイル基、かついず
れかにウレタン結合残基をもつ化合物が好適である。前
記化合物を基材表面に塗布し、ラジカル熱重合、光重
合、電子線重合などにより重合、硬化して形成するとよ
い。単独、又はハードコート、高屈折率膜や高導電性膜
などと組合わせ、ＣＲＴ、プラズマディスプレイ、液晶
パネル、ガラス、レンズなどにおいて可視光線の反射防
止に用いることができる。【化１】

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、含フッ素化合物を
含有する耐擦傷性に優れた低屈折率の光学薄膜およびそ
の形成方法、ならびに前記の光学薄膜を利用した反射防
止性物品に関する。本発明の光学薄膜を、ブラウン管や
液晶表示装置、ＣＲＴ用反射防止フィルター、プラズマ
ディスプレイ用反射防止フィルター、ガラス、レンズな
どの物品表面に形成させ、光線の反射防止に用いること
ができる。

【０００２】なお、本発明で光学薄膜とは、基材表面に
透明な薄膜が形成され、基材を照射する光線が基材に入
射する際、屈折率の異なる境界で交差して干渉をおこさ
せる薄膜をいう。光学薄膜の厚さは、通常、１μｍ以下
である。また、屈折率はとくに説明しない限り、ナトリ
ウム発光スペクトルのＤ線における値である。また、片
面反射率（たんに反射率ともいう）は、波長が５４０ｎ
ｍの光線における測定値である。

【０００３】

【従来の技術】従来の光反射防止性物品の多くは、表面
に単層の低屈折率光学薄膜、または低屈折率と高屈折率
の光学薄膜を交互に積層して光の反射を防止している。
光学薄膜の反射光は、光学薄膜表面や薄膜境界面におけ
る各反射光の干渉光であって、反射率は光学薄膜の屈折
率と膜厚により低減または増加するが、原則的に屈折率
が低いほど反射率の低減に有利である。光学薄膜は蒸着
やスパッタなどを利用して物品（基材）の表面に無機物
被膜を形成するのが一般的である。得られた反射防止膜
は低反射性で耐擦傷性に優れるが、真空装置などを用い
るので生産性が悪く、製造コストが高い。また、製造工
程で基材が加熱されるので使用できる素材が限られると
いう問題があった。

【０００４】前記の問題を解決するために、特開平４−
３５５４０１号公報や特開平６−１８７０５号公報など
には、低屈折率の有機物質を溶媒に溶解し、基材にコー
ティングして低屈折率反射防止膜を形成する溶液コーテ
ィング法が開示されている。溶液コーティング法を利用
すれば、無機薄膜中で最も屈折率の低いフッ化マグネシ
ウム薄膜よりもさらに低い屈折率を有するフッ素含有樹
脂をコーティングすることができる。しかも、溶液コー
ティングは生産性が高く経済的である。

【０００５】しかし、特開平４−３５５４０１号公報お
よび特開平６−１８７０５号公報に記載の含フッ素樹脂
からなる有機薄膜は、含フッ素樹脂硬化物の架橋密度が
低いので表面硬度が低く、耐擦傷性に問題があった。さ
らに、コーティングした後、加熱硬化を必要とするため
使用できる基材が限定されていた。この他、米国特許第
３，３１０，６０６号公報には、架橋密度が高く表面硬
度の高い含フッ素樹脂として、パーフルオロジビニルエ
ーテルの硬化物が記載されているが、溶剤に不溶で高
温、高圧下で成型する必要があるため光学薄膜を得るこ
とができない。

【０００６】また、特開平８−２３９４３０号公報に
は、特定構造の含フッ素ジ（メタ）アクリレート１００
重量部に対して、多官能（メタ）アクリレート１０〜９
０重量部含有する揆水・撥油性及び耐擦傷性を備えた含
フッ素硬化性組成物が開示されている。しかし、この硬
化性組成物は屈折率が１．４５を越える傾向があり、反
射防止性を得にくい。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、低反射性薄
膜を形成することのできる化合物、低反射性であって、
硬化後は、耐擦傷性や耐久性に優れ、かつ容易に形成す
ることのできる光学薄膜とその形成方法、および表面に
前記光学薄膜を形成した反射防止性物品を提供すること
を課題に研究の結果、完成されたものである。

【０００８】

【課題を解決するための手段】本発明者は、前記の課題
を解決するため、新規合成物を含む各種の化合物を合成
して光学的特性、力学的特性などを測定し、前記の光学
薄膜への利用可能性を検討した。その結果、化２の一般
式（１）に示される含フッ素化合物が低屈折率であっ
て、硬化後の硬度が大きく、光学薄膜として極めて有望
であることを見出だした。すなわち、本発明は、一般式
（１）で示される化合物を含有する組成物を硬化してな
り、かつ、屈折率が１．４５以下であることを特徴とす
る光学薄膜を提供する。

【０００９】

【化２】前記光学薄膜の厚さは、３０〜７００ｎｍが実用上好適
である。また、光学薄膜に用いる一般式（１）の化合物
では、ｎが４〜１２のうちのいずれかの整数の化合物が
好ましい。さらに、一般式（１）の化合物中、Ａ1 ，Ａ
2 ，Ａ3 ，Ａ4のいずれかにアクリロイル基を有する化
合物、およびＡ1 ，Ａ2 ，Ａ3 ，Ａ4 のいずれかにウレ
タン結合残基をもっていることを特徴とする化合物が好
適である。また、光学薄膜としては、一般式（１）の化
合物１００重量部に対し、０〜２０重量部の多官能（メ
タ）アクリレートを含有させ、および／または一般式
（１）の化合物１００重量部に対し、０〜１００重量部
の単官能（メタ）アクリレートを含有させることができ
る。本発明の光学薄膜は、光によって硬化させるとよ
い。前記の光学薄膜は、一般式（１）の化合物を含有す
る組成物の溶剤を調整し、基材の表面に塗布し、光を照
射して硬化して形成することができる。

【００１０】また、本発明は、前記のいずれかの光学薄
膜を基材表面に形成してなる光反射防止性物品を提供す
る。本発明の光反射防止性物品においては、基材の表面
と光学薄膜との中間に、有機および／または無機系バイ
ンダーと金属化合物の微粒子とからなり、かつ屈折率が
基材の屈折率の±０．０２以内のハードコート層を形成
してもよく、さらに、ハードコート層と光学薄膜との中
間に、光学薄膜およびハードコート層の屈折率よりも高
い屈折率を有する高屈折率膜を重ねて形成させることも
できる。

【００１１】

【発明の実施の形態】本発明を具体的な実施形態例をあ
げながら、順次説明する。まず、前記の一般式（１）で
示される含フッ素化合物の製造方法を説明する。一般式
（１）の含フッ素化合物のｄが０の場合は、化３に一般
式（２）で示される（メタ）アクリル酸、または一般式
（３）で示される（メタ）アクリル酸クロライドと、化
４に一般式（４）で示される含フッ素化合物とをエステ
ル化反応させて製造することができる。なお、一般式
（４）の含フッ素化合物は、一般式（５）で示される化
合物を加水分解して合成することができる。

【００１２】

【化３】

【００１３】

【化４】

【００１４】

【化５】また、一般式（１）に示される化合物のｄが１の場合
は、前記一般式（４）で示される含フッ素化合物と、化
６に一般式（６）で示されるイソシアネート化合物とを
ウレタン化反応させることにより合成することができ
る。

【００１５】

【化６】一般式（６）のｃが１のイソシアネート化合物ではｂが
２の化合物を製造しやすいので、好ましく利用すること
ができる。ウレタン化反応による合成は、容易で副反応
生成物が少なく一般的に利用しやすい。とくに、光学薄
膜として利用する場合には、光学薄膜を形成するための
塗料を調整する工程で反応させることのできる、ウレタ
ン化反応を好ましく使用できる。

【００１６】次に、一般式（１）に示される化合物は、
式中のＡ1 ，Ａ2 ，Ａ3 ，Ａ4 のうちの少なくとも１つ
に、−Ｈ以外の一般式（ａ）で示される有機基を導入し
ておくことにより、ラジカル付加重合により硬化するこ
とができる。そして、重合して得られる硬化物質は屈折
率が低く、通常は１．４５を超えないという特性を有す
ることが見出だされた。さらに、Ａ1 ，Ａ2 ，Ａ3 ，Ａ
4 のうちの少なくとも２つに、−Ｈ以外の前記有機基を
導入しておくことにより、重合して得られる硬化物質が
高い硬化性能を有することも判明し、たとえば、低屈折
率の光学薄膜に好適であることが判った。この他、各種
の表示、展示部材、透明部材、光学機器の構成素材への
利用が期待される。

【００１７】さて、以下に、一般式（１）の化合物を本
発明の低屈折率光学薄膜として利用する場合について説
明する。一般式（１）の化合物は、ラジカル熱重合、光
重合、電子線重合などにより重合し、硬化することがで
きる。光学薄膜に利用する場合には、重合（硬化）速度
が速いことと設備の簡便性とから、紫外線を用いる光重
合（硬化）が好適である。光重合においては、一般的に
メタクリロイル基よりもアクリロイル基である方が進み
易く、従って光学薄膜を形成するには、Ａ１，Ａ２，Ａ
３，Ａ４のいずれかがアクリロイル基を持つ化合物が好
適である。なかでもアクリロイル基を２つ以上有する化
合物が好ましい。

【００１８】一般式（１）の化合物を光学薄膜に利用す
るには、硬化物の屈折率ができるだけ低いことが望まし
く、ｎが２〜１４の整数である化合物を好ましく利用で
きる。ｎが２未満では屈折率が十分に低くなりにくく、
１４より大きくなると光学薄膜の硬度が十分に高くなり
にくい傾向が見られる。ｎは４〜１２の整数であればさ
らに好適である。

【００１９】本発明の光学薄膜では一般式（１）で示さ
れる含フッ素化合物を少なくとも４５重量％含むことが
必要であるが、前記含フッ素化合物のほかに、硬度、上
下層との密着性、屈折率の調整やその他の性能を向上す
る目的で、他の多官能モノマを添加することができる。
添加量は、前記の含フッ素化合物１００重量部に対し、
２０重量部以下、望ましくは１５重量部以下である。多
官能モノマを２０重量部以上添加すると、屈折率が１．
４５を超える場合があり、所望の反射防止性能を得るこ
とが難しくなる傾向がある。

【００２０】添加する多官能モノマとしては、エチレン
グリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコ
ールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコール
ジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ
（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ
（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メ
タ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メ
タ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メ
タ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メ
タ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メ
タ）アクリレート、ジトリメチロールプロパントリ（メ
タ）アクリレート、１，１，１−トリス［（メタ）アク
リロイルオキシエトキシエトキシ］プロパン、トリス
（ヒドロキシエチル）イソシアヌレートトリ（メタ）ア
クリレート、トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌレ
ートジ（メタ）アクリレートなどがあげられる。これら
の多官能モノマは単独または２種以上を混合して添加す
ることができる。本発明の光学薄膜に好ましい添加多官
能モノマとして、硬度を向上する効果の高い３官能以上
の（メタ）アクリレート類があげられる。

【００２１】上記の他に、不飽和二重結合を一個有する
含フッ素またはフッ素を含まない単官能モノマを一般式
（１）の含フッ素化合物１００重量部に対し、１００重
量部以下、望ましくは９０重量部を超えない量および重
合開始剤を添加することができる。単官能モノマが１０
０重量部を越えると、光学薄膜の硬度が低くなる傾向が
ある。不飽和二重結合を一個有する含フッ素単官能モノ
マとして、２，２，２−トリフルオロエチル（メタ）ア
クリレート、２，２，３，３−テトラフルオロプロピル
（メタ）アクリレート、２，２，３，４，４，４−ヘキ
サフルオロブチル（メタ）アクリレート、１Ｈ，１Ｈ，
２Ｈ，２Ｈ−パーフルオロデカノール（メタ）アクリレ
ート、β−（パーフルオロオクチル）エチル（メタ）ア
クリレートなどがあげられる。これらのモノマや化合物
は、適宜、硬度、屈折率の調整、コーティング性の調整
などのために加えられ、硬化して光学薄膜とすることが
できる。光学薄膜の屈折率を下げるためには、不飽和二
重結合を１つ含むフッ素含有量の多い化合物を添加する
のが好ましい。

【００２２】さらに、フッ素を含まない単官能モノマと
しては、メチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ
エチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル
（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−３−フェノキ
シプロピル（メタ）アクリレートなどがあげられるが、
相溶性がよく、屈折率が１．４５を超えない硬化膜が得
られるのであれば特別な制限はない。

【００２３】さらにコーティング性を向上するためにレ
ベリング剤やシラン系カップリング剤を添加してもよ
い。添加量は、好ましくは硬化物全体の０．０５〜５重
量％、より好ましくは０．１〜２重量％である。

【００２４】本発明の光学薄膜の形成方法を実施形態例
をあげて説明する。本発明の光学薄膜は、低屈折率であ
るところから主に基材の反射防止に利用される。本発明
光学薄膜は、一般式（１）で示される含フッ素化合物化
合物を単体、または必要により多官能モノマ、重合開始
剤、単官能モノマ、レベリング剤などを添加した組成物
とし、そのまま、もしくは適当な溶剤で希釈し、塗剤に
して基材表面に塗布してから、重合、硬化して形成する
とよい。

【００２５】溶剤としては、プロパノール、イソプロパ
ノール、ブタノールなどのアルコール系；メチルイソブ
チルケトン、メチルエチルケトンなどのケトン系；酢酸
エチルなどのエステル系；ハロゲン系；テトラヒドロフ
ランなどがあげられる。

【００２６】塗布手段は、基材に均一に塗布できる方法
であれば特に制限はなく、スピンコート、ディップコー
ト、ダイコート、スプレーコート、バーコーターコー
ト、ロールコート、カーテンフローコートなどの塗布方
法を利用することができる。

【００２７】前記の塗剤は、所要の厚さに均一に基材に
塗布した後、硬化される。本発明の光学薄膜を形成でき
る基材にとくに制限はないが、ガラス、ポリカーボネー
トやアクリル樹脂などの樹脂成形物、ポリエチレンテレ
フタレートフィルムなどのフィルム類などの光反射防止
に効果的に利用することができる。ほかにも撥水、撥油
性能などの優れた特性を具備するので、それらを利用す
る薄膜を形成してもよい。基材の形状に制限はない。

【００２８】重合、硬化には、熱重合法、電子線重合
法、光重合法（紫外線重合法）などを利用するとよい。
なかでも、基材の耐熱性によって制限されない光重合法
が好ましい。光重合法を利用する場合には、通常、あら
かじめ塗剤に光重合開始剤を添加しておくとよい。光重
合開始剤として、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フ
ェニルプロパン−１−オン、１−ヒドロキシシクロヘキ
シルフェニルケトン、２−メチル−１−［４−（メチル
チオ）フェニル］−２−モルホリノプロパノン−１など
を利用できる。光重合開始剤の添加量は、硬化物組成全
体の０．１〜２０重量％、好ましくは０．１〜１０重量
％である。光源には低圧または高圧水銀灯、キセノン灯
などを用い、塗布基材に紫外線を照射して塗膜を重合、
硬化する。

【００２９】本発明の光学薄膜は基材に単層としてのみ
ではなく、他の薄膜と積層して形成することもできる。
たとえば、密着性や塗布性を向上させるために基材を表
面処理したり、基材の硬度を向上させるためにハードコ
ート層を積層して光反射防止性物品にすることができ
る。さらに、基材の反射防止効果を高めるために、高屈
折率の光学薄膜を基材と本発明の光学薄膜との中間に形
成することもできる。本発明の光学薄膜と高屈折率薄膜
とを交互に積層することにより、より優れた反射防止膜
を得ることもできる。高屈折率膜は、基材と同等もしく
はそれ以上の屈折率が必要であり、具体的には少なくと
も１．５８が好ましく、さらに好ましくは、１．６以
上、より好ましくは、１．７以上である。

【００３０】本発明の光学薄膜を他の薄膜と積層して形
成した光反射防止性物品の好ましい実施態様例を説明す
る。基材のポリカーボネートやメタクリル樹脂などの表
面に、硬度付与と干渉縞発生を防止するために基材との
屈折率差が±０．０２以内，厚さ２〜５μｍ程度のハー
ドコート層を設ける。ハードコート層は、有機系または
無機系のバインダーに、必要によりＳｉ，Ｓｂ，Ｃｅ，
Ｔｉ，Ｓｎなどの金属酸化物微粒子、すなわち一般的に
は可視光線の波長よりも小さい粒子径の微粒子を添加し
た塗膜を用いる。有機バインダーとしては、エポキシ樹
脂硬化物やラジカル架橋重合した樹脂などが、無機系バ
インダーとしては、シラン系化合物の加水分解硬化物な
どがあるが、特に制限はない。硬化には一般的に熱硬化
法よりも光硬化法を用いる方が硬化速度が速く好まし
い。

【００３１】高い反射防止性を得るために、ハードコー
ト層の表面に前記の高屈折率薄膜を積層することができ
る。高屈折率膜の厚さは９０〜４００ｎｍ、より好まし
くは１１０〜１８０ｎｍに形成する。高屈折率膜は、一
般に金属酸化物の真空蒸着膜であるが、Ｓｂ，Ｃｅ，Ｔ
ｉ，Ｓｎなどの金属酸化物を含み、（メタ）アクリレー
ト類，シラン類，エポキシ樹脂類などをバインダーとし
て硬化された層である。金属酸化物に導電性がある場合
は滞電防止性を付与できて好ましい。また、バインダー
を光硬化法で硬化できれば硬化速度が速く好ましい。

【００３２】基材上に透明な低屈折率膜を一層設ける
と、入射反射光の一部は空気と薄膜との境界で反射し、
一部は薄膜と基材界面で反射し、全体として反射光はそ
れらの干渉光となって、結果的に基材の反射率を低減も
しくは増加させる。低屈折率膜は、光が干渉作用をおこ
す程度に薄く、光反射防止性物品の光反射率は低屈折率
膜の屈折率と膜厚に依存する。

【００３３】低屈折率膜の厚さはλ／４ｎ（λ：薄膜内
での光の波長、ｎ：薄膜の屈折率）の奇数倍が好まし
い。光の波長に幅のある場合、λは光の中心波長を基準
にする。本発明で中心波長は、５００〜５５０ｎｍに設
定するのが好ましい。低屈折率膜の厚さは、膜の屈折率
にもよるが具体的に３０〜７００ｎｍが好ましく、より
好ましくは、４０〜１２０ｎｍの範囲である。低屈折率
膜の厚さが３０ｎｍ未満の場合は、可視光における光干
渉作用による反射率の低減が不十分になることがある。
また、膜厚が７００ｎｍを超えると、反射率がほぼ空気
と薄膜界面の反射のみに依存するようになるので、可視
光の光干渉による反射率の低減が不十分になる傾向があ
る。例えば、屈折率１．６の基材に屈折率１．３８の薄
膜を形成した場合、膜の厚さが適当であれば反射率は１
％以下になるが、数μｍを超えると反射率は約３％にな
る。低屈折率薄膜の屈折率が１．４５以上であると比較
的屈折率の低いポリメチルメタクリレートやガラスなど
を基材とする物品の反射防止効果が顕著でなくなる。

【００３４】

【実施例】本発明を実施例をあげてさらに具体的に説明
する。なお、以下の実施例および参考例において用いた
評価手段および測定手段は次の通りである。ａ．膜の厚さ：エリプソメータによる測定値。ｂ．片面反射率：測定面の裏面をサンドペーパで粗面化
した後、油性インキで黒塗りし、分光光度計を用い、５
４０ｎｍにおける測定面の反射率を測定した。

【００３５】ｃ．干渉縞：蛍光灯スタンドの２０ｃｍ下
にサンプルを静置し、肉眼観察により評価した。ｄ．耐擦傷性：消しゴム（Ｎｏ．５０（ライオン（株）
製）を接触面積約０．５ｃｍ²、荷重１ｋｇで反射面上
を２０回往復させた後、肉眼判定し、擦過痕が認められ
ないものを合格判定した。

【００３６】実施例１表１に記載の組成の塗料Ａを調整した。調整した塗料Ａ
を厚さ２ｍｍのポリカーボネート板の表面にスピンコー
トし、８０℃のオーブンで１０分間、加熱した。高圧水
銀灯で５，０００ｍＪ／ｃｍ²照射して、厚さ９５ｎｍ
の硬化膜（本発明の光学薄膜）を形成した。形成した光
学薄膜の屈折率はｎｄ＝１．４２、片面反射率は１．４
％であった。

【００３７】

【表１】参考例１ブランクサンプルとしてコーティングしていない実施例
１に使用したのと同じポリカーボネート板の片面反射率
は５．２％であった。

【００３８】実施例２表２に記載の組成の塗料Ｂを調整した。調整した塗料Ｂ
を用い、実施例１と同様にしてポリカーボネート板の表
面に光学薄膜を形成した。形成した光学薄膜の屈折率は
ｎｄ＝１．４１、片面反射率は１．２％であった。

【００３９】

【表２】実施例３表３に記載の組成の反応液（Ｃ−Ｌ1 ）を調合し、４５
℃で８時間反応させて、ウレタン結合を持つ含フッ素化
合物を合成した。得られた反応液５０２重量部に表３に
記載の組成の反応液（Ｃ−Ｌ2 ）を加え、塗料Ｃを調整
した。調整した塗料Ｃを用い、実施例１と同様にしてポ
リカーボネート板の表面に光学薄膜を形成した。形成し
た光学薄膜の屈折率はｎｄ＝１．４１、片面反射率は
１．２％であった。

【００４０】

【表３】実施例４表４に記載の組成の塗料Ｄを調整した。調整した塗料Ｃ
を用い、実施例１と同様にしてポリカーボネート板の表
面に光学薄膜を形成した。形成した光学薄膜の屈折率は
ｎｄ＝１．４０、片面反射率は１．１％であった。

【００４１】

【表４】実施例５〜８厚さが２ｍｍ、屈折率ｎｄが１．５９のポリカーボネー
ト板に、五酸化アンチモン超微粒子（平均粒径（ＢＥＴ
法）２０ｎｍ）、ペンタエリスリトールトリアクリレー
トおよび２−ヒドロキシ−３−フェノキシアクリレート
を主成分とする、屈折率１．５９、厚さ３μｍのハード
コート層を、光硬化により形成した。形成したハードコ
ート層の表面に、実施例１〜４において調整した塗料
Ａ，Ｂ，Ｃ，Ｄを実施例１〜４と同様に塗布し、硬化せ
しめて本発明の光学薄膜を形成した。形成した光学薄膜
の評価結果を表５に示す。いずれの光学薄膜も高い耐擦
傷性を示した。

【００４２】

【表５】実施例９〜１２実施例５〜８と同様にして、厚さが２ｍｍ、屈折率ｎｄ
が１．５９のポリカーボネート板にハードコート層を形
成した。形成したハードコート層の表面に、アンチモン
ドープ酸化スズ超微粒子（平均粒径（ＢＥＴ法）４０ｎ
ｍ）、ペンタエリスリトールトリアクリレート，２−ヒ
ドロキシ−３−フェノキシアクリレートを主成分とす
る、厚さ１５０ｎｍ，屈折率ｎｄ＝１．７０，表面抵抗
値２×１０⁹Ω／□の導電性高屈折率層を光硬化により
積層した。さらに、実施例１〜４と同様に塗料Ａ，Ｂ，
Ｃ，Ｄを塗布、硬化せしめて本発明の光学薄膜を形成し
た。形成した光学薄膜の評価結果を表６に示す。いずれ
の光学薄膜も高い耐擦傷性を示した。

【００４３】

【表６】実施例１３屈折率ｎｄ＝１．５３、厚さ２ｍｍのガラス板に、真空
蒸着法により厚さ１４５ｎｍのＩＴＯ膜（Ｉｎ₂Ｏ₃系
の透明高導電性薄膜）を形成した。実施例４で調整した
塗料Ｄを、前記のＩＴＯ膜の表面に実施例１と同様に塗
布し、硬化せしめて本発明の光学薄膜を形成した。形成
した光学薄膜の片面反射率は０．６％であった。

【００４４】

【発明の効果】本発明が提供する含フッ素化合物の硬化
物は極めて低屈折率であって、硬化後の硬度が大きく、
とくに低屈折率光学薄膜として有望である。かつ、表面
硬度が大で耐擦傷性、耐久性に優れている。他にも、は
っ水性や耐油性にも高い効果を奏する。しかも、硬化前
は溶剤に可溶なため、簡便かつ連続処理が可能で経済的
な溶液コーティングにより塗布し、硬化することができ
る。また、ハードコート層や高屈折率膜に重ねて本発明
の光学薄膜を形成し、耐擦傷性、光反射防止性能をさら
に向上させ、多機能性を付与することができる。光学薄
膜以外にもこの他、各種の表示、展示部材、透明部材、
光学機器の構成素材への利用が期待される。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号ＦＩＧ０９Ｆ 9/00 ３１８Ｈ０１Ｊ 5/08 Ｈ０１Ｊ 5/08 Ｇ０２Ｂ 1/10 Ａ

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】一般式（１）で示される化合物を含有する
組成物を硬化してなり、かつ、屈折率が１．４５以下で
あることを特徴とする光学薄膜。【化１】
【請求項２】膜厚が３０〜７００ｎｍであることを特徴
とする請求項１記載の光学薄膜。
【請求項３】一般式（１）で示される化合物が、ｎを４
〜１２のうちのいずれかの整数とする化合物であること
を特徴とする請求項１または２記載の光学薄膜。
【請求項４】一般式（１）で示される化合物が、Ａ1 ，
Ａ2 ，Ａ3 ，Ａ4 のいずれかにアクリロイル基をもって
いることを特徴とする請求項１ないし３のいずれかに記
載の光学薄膜。
【請求項５】一般式（１）で示される化合物が、Ａ1 ，
Ａ2 ，Ａ3 ，Ａ4 のいずれかにウレタン結合残基をもっ
ていることを特徴とする請求項１ないし４のいずれかに
記載の光学薄膜。
【請求項６】一般式（１）で示される化合物１００重量
部に対し、０〜２０重量部の多官能（メタ）アクリレー
トを含有していることを特徴とする請求項１〜５のいず
れかに記載の光学薄膜。
【請求項７】一般式（１）で示される化合物１００重量
部に対し、０〜１００重量部の単官能（メタ）アクリレ
ートを含有していることを特徴とする請求項１〜６のい
ずれかに記載の光学薄膜。
【請求項８】光により硬化されていることを特徴とする
請求項１〜７のいずれかに記載の光学薄膜。
【請求項９】一般式（１）で示される化合物を含有する
組成物の溶剤を調整し、基材の表面に塗布し、光を照射
して硬化せしめ、請求項１ないし８のいずれかに記載の
光学薄膜を形成することを特徴とする光学薄膜の形成方
法。
【請求項１０】請求項１〜８のいずれかに記載の光学薄
膜を基材表面に形成してなることを特徴とする光反射防
止性物品。
【請求項１１】基材表面と光学薄膜との中間に、有機お
よび／または無機系バインダーと金属化合物の微粒子と
からなり、かつ屈折率が基材の屈折率の±０．０２以内
のハードコート層が形成されていることを特徴とする請
求項１０記載の反射防止性物品。
【請求項１２】ハードコート層と光学薄膜との中間に、
光学薄膜およびハードコート層の屈折率よりも高い屈折
率を有する高屈折率膜が積層されていることを特徴とす
る請求項１１記載の反射防止性物品。