JPH11158285A - 高純度の片末端ラジカル重合性官能基含有オルガノポリシロキサンの製造方法 - Google Patents
高純度の片末端ラジカル重合性官能基含有オルガノポリシロキサンの製造方法Info
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- JPH11158285A JPH11158285A JP34202997A JP34202997A JPH11158285A JP H11158285 A JPH11158285 A JP H11158285A JP 34202997 A JP34202997 A JP 34202997A JP 34202997 A JP34202997 A JP 34202997A JP H11158285 A JPH11158285 A JP H11158285A
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Abstract
(57)【要約】 （修正有）
【課題】 副生高分子化合物を含まない片末端ラジカル
重合性官能基含有オルガノポリシロキサンの製造方法を
提供すること。 【解決手段】 Ｒ１（Ｒ２Ｒ３ＳｉＯ）ｎＬｉ［ｎは０
以上５００以下の整数］を開始剤として、（Ｒ４Ｒ５Ｓ
ｉＯ）ｐ［ｐは３または４］で示される環状化合物を開
環重合させた後、一般式（５）、（６）及び（７）で示
される化合物の１種以上で封止する片末端ラジカル重合
性官能基含有オルガノポリシロキサンの製造工程におい
て、副生する高分子化合物をＭｇＯ，Ａｌ２Ｏ３・ｘＨ
２Ｏ，Ａｌ２Ｏ３・１０ＳｉＯ２・ｘの１種以上を吸着
剤として除去する。
重合性官能基含有オルガノポリシロキサンの製造方法を
提供すること。 【解決手段】 Ｒ１（Ｒ２Ｒ３ＳｉＯ）ｎＬｉ［ｎは０
以上５００以下の整数］を開始剤として、（Ｒ４Ｒ５Ｓ
ｉＯ）ｐ［ｐは３または４］で示される環状化合物を開
環重合させた後、一般式（５）、（６）及び（７）で示
される化合物の１種以上で封止する片末端ラジカル重合
性官能基含有オルガノポリシロキサンの製造工程におい
て、副生する高分子化合物をＭｇＯ，Ａｌ２Ｏ３・ｘＨ
２Ｏ，Ａｌ２Ｏ３・１０ＳｉＯ２・ｘの１種以上を吸着
剤として除去する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、高純度の片末端ラ
ジカル重合性官能基含有オルガノポリシロキサン（以下
ラジカル重合性シリコーンと略称する）の製造方法に関
し、特に、製造工程中に副生する好ましからざる高分子
化合物を除去するための精製工程に特徴を有する製造方
法に関する。
ジカル重合性官能基含有オルガノポリシロキサン（以下
ラジカル重合性シリコーンと略称する）の製造方法に関
し、特に、製造工程中に副生する好ましからざる高分子
化合物を除去するための精製工程に特徴を有する製造方
法に関する。
【０００２】
【従来技術】ラジカル重合性シリコーンから得られるグ
ラフトポリマーは各種フィルム、プラスチック、ゴム、
ワックスなどの高分子製品や紙、ガラス等の表面処理
剤、叉はシャンプー、リンス、ヘアーセット剤等の改質
剤として用いられ、これらの製品に撥水性、防汚性、非
接着性、耐熱性、耐摩耗性、生体適合性などの機能を付
与することができる。
ラフトポリマーは各種フィルム、プラスチック、ゴム、
ワックスなどの高分子製品や紙、ガラス等の表面処理
剤、叉はシャンプー、リンス、ヘアーセット剤等の改質
剤として用いられ、これらの製品に撥水性、防汚性、非
接着性、耐熱性、耐摩耗性、生体適合性などの機能を付
与することができる。
【０００３】従来、分子量が制御され、かつ、分散度が
低いラジカル重合性シリコーンは、シクロトリシロキサ
ンを有機リチウム化合物またはリチウムシラノレートを
重合開始剤として開環重合し、ラジカル重合性官能基を
もつ末端停止剤で反応を停止することによって製造され
ている。このような製造方法として特開昭５９−７８２
３６号公報を例示することができる。しかし、この方法
を実施するだけでは製造工程中に好ましからざる副生成
物が混入する場合があり、副生成物が混入しないように
する技術が開発されている。一般に、シクロトリシロキ
サン中には不純物として両末端シラノール含有ジオルガ
ノポリシロキサン（以下、ジシラノールと略す）が混入
している場合がある。このために、ラジカル重合性シリ
コーンの製造中に、好ましくない両末端ラジカル重合性
官能基含有オルガノポリシロキサンが副生し、ラジカル
重合性シリコーンの品質を下げることが指摘されてい
た。このために、シクロトリシロキサン中に含まれるジ
シラノールを重合前にリチオ化し、ついでシリル化剤で
処理する方法が提案されている（特開平６−３４０７４
３号公報）。
低いラジカル重合性シリコーンは、シクロトリシロキサ
ンを有機リチウム化合物またはリチウムシラノレートを
重合開始剤として開環重合し、ラジカル重合性官能基を
もつ末端停止剤で反応を停止することによって製造され
ている。このような製造方法として特開昭５９−７８２
３６号公報を例示することができる。しかし、この方法
を実施するだけでは製造工程中に好ましからざる副生成
物が混入する場合があり、副生成物が混入しないように
する技術が開発されている。一般に、シクロトリシロキ
サン中には不純物として両末端シラノール含有ジオルガ
ノポリシロキサン（以下、ジシラノールと略す）が混入
している場合がある。このために、ラジカル重合性シリ
コーンの製造中に、好ましくない両末端ラジカル重合性
官能基含有オルガノポリシロキサンが副生し、ラジカル
重合性シリコーンの品質を下げることが指摘されてい
た。このために、シクロトリシロキサン中に含まれるジ
シラノールを重合前にリチオ化し、ついでシリル化剤で
処理する方法が提案されている（特開平６−３４０７４
３号公報）。
【０００４】また、シクロトリシロキサン中に含まれる
ジシラノールをアセチル化剤で処理する方法も提案され
ている（特願平８−１６１８８８号公報）。さらに、開
環重合反応の停止時にクロロシラン型末端停止剤を使用
すると、副生する塩化水素のために平衡化反応が起こ
り、分子量や分散度が変化してしまうという問題もあ
る。この点を解決するために、開環重合を行なった後、
加水分解していったん片末端シラノールポリシロキサン
とし、アミン型末端停止剤でラジカル重合性シリコーン
を製造する方法が開示されている（特開平５−３４７３
４号公報）。また、副生する塩化水素による平衡化反応
を回避するために開環重合反応の停止時にアミンの存在
下にクロロシラン型末端停止剤を反応させる方法も開示
されている（特開平８−７３５９２号公報）。
ジシラノールをアセチル化剤で処理する方法も提案され
ている（特願平８−１６１８８８号公報）。さらに、開
環重合反応の停止時にクロロシラン型末端停止剤を使用
すると、副生する塩化水素のために平衡化反応が起こ
り、分子量や分散度が変化してしまうという問題もあ
る。この点を解決するために、開環重合を行なった後、
加水分解していったん片末端シラノールポリシロキサン
とし、アミン型末端停止剤でラジカル重合性シリコーン
を製造する方法が開示されている（特開平５−３４７３
４号公報）。また、副生する塩化水素による平衡化反応
を回避するために開環重合反応の停止時にアミンの存在
下にクロロシラン型末端停止剤を反応させる方法も開示
されている（特開平８−７３５９２号公報）。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
製造方法によると、ラジカル重合性シリコーンのラジカ
ル重合性官能基がラジカル重合した好ましからざる高分
子化合物が生成する場合がある。通常のラジカル重合性
モノマーは製造工程で一部が重合したとしても、蒸留操
作による精製工程で重合した部分との分離が可能であ
る。しかしながら、ラジカル重合性シリコーンは、それ
自体にポリマーの性質をもっており、一般に蒸気圧を持
たないために、通常のラジカル重合性モノマーのように
蒸留操作による精製工程で重合した部分との分離ができ
ない。
製造方法によると、ラジカル重合性シリコーンのラジカ
ル重合性官能基がラジカル重合した好ましからざる高分
子化合物が生成する場合がある。通常のラジカル重合性
モノマーは製造工程で一部が重合したとしても、蒸留操
作による精製工程で重合した部分との分離が可能であ
る。しかしながら、ラジカル重合性シリコーンは、それ
自体にポリマーの性質をもっており、一般に蒸気圧を持
たないために、通常のラジカル重合性モノマーのように
蒸留操作による精製工程で重合した部分との分離ができ
ない。
【０００６】このようにして生成する好ましからざる高
分子化合物の混入は、このラジカル重合性シリコーンを
ほかのラジカル重合性モノマーと共重合し、構造が明確
なグラフトポリマーを製造する際に重大な問題となり、
グラフトポリマーに本来付与すべき撥水性、防汚性、非
接着性、耐熱性、耐摩耗性、生体適合性などの機能を低
下させる原因となる。このためにラジカル重合性シリコ
ーンは、製造工程の途中でラジカル重合を起こさないよ
うな特別な配慮が必要となる。このようなラジカル重合
を回避するために、ラジカル重合性シリコーンを製造す
る際、特に反応液から反応溶媒を留去する際に、重合禁
止剤の添加や留去温度の制御などを行なう。
分子化合物の混入は、このラジカル重合性シリコーンを
ほかのラジカル重合性モノマーと共重合し、構造が明確
なグラフトポリマーを製造する際に重大な問題となり、
グラフトポリマーに本来付与すべき撥水性、防汚性、非
接着性、耐熱性、耐摩耗性、生体適合性などの機能を低
下させる原因となる。このためにラジカル重合性シリコ
ーンは、製造工程の途中でラジカル重合を起こさないよ
うな特別な配慮が必要となる。このようなラジカル重合
を回避するために、ラジカル重合性シリコーンを製造す
る際、特に反応液から反応溶媒を留去する際に、重合禁
止剤の添加や留去温度の制御などを行なう。
【０００７】しかし、このような配慮にもかかわらず、
ラジカル重合性シリコーンのラジカル重合性官能基がラ
ジカル重合し、好ましからざる高分子化合物が製品に混
入することがある。このために、ラジカル重合性シリコ
ーンを製造する際に、ラジカル重合性シリコーンがラジ
カル集合した好ましからざる高分子化合物を、ラジカル
重合性シリコーン中から効率的に除去する方法が望まれ
ていた。この様な実状において本発明者らは鋭意検討し
た結果、好ましからざる高分子化合物が混入したラジカ
ル重合性シリコーンから吸着剤により高分子化合物を除
くことにより高分子化合物の混入していないラジカル重
合性シリコーンを取り出すという精製方法を見出し本発
明に到達した。
ラジカル重合性シリコーンのラジカル重合性官能基がラ
ジカル重合し、好ましからざる高分子化合物が製品に混
入することがある。このために、ラジカル重合性シリコ
ーンを製造する際に、ラジカル重合性シリコーンがラジ
カル集合した好ましからざる高分子化合物を、ラジカル
重合性シリコーン中から効率的に除去する方法が望まれ
ていた。この様な実状において本発明者らは鋭意検討し
た結果、好ましからざる高分子化合物が混入したラジカ
ル重合性シリコーンから吸着剤により高分子化合物を除
くことにより高分子化合物の混入していないラジカル重
合性シリコーンを取り出すという精製方法を見出し本発
明に到達した。
【課題を解決するための手段】本発明は、一般式（１）
で示される数平均分子量が５００以上５００００以下で
分散度（Ｍｗ／Ｍｎ）が１．８以下の片末端ラジカル重
合性官能基含有オルガノポリシロキサンをＲ1（Ｒ2Ｒ3
ＳｉＯ）ｎＬｉ［ｎは０以上５００以下の整数］を開始
剤として、（Ｒ4Ｒ5ＳｉＯ）P［ｐは３または４］で示
される環状化合物を開環重合させた後、一般式（５）、
（６）及び（７）で示される化合物の１種以上で封止す
ることよりなる該化合物の製造工程において、副生する
高分子化合物を含む反応混合物から一般式（８）、
（９）及び（１０）であらわされる化合物の１種以上を
吸着剤として用いることによって副生する高分子化合物
を除去することを特徴とする高純度の片末端ラジカル重
合性官能基含有オルガノポリシロキサンの製造方法に関
するものである。
で示される数平均分子量が５００以上５００００以下で
分散度（Ｍｗ／Ｍｎ）が１．８以下の片末端ラジカル重
合性官能基含有オルガノポリシロキサンをＲ1（Ｒ2Ｒ3
ＳｉＯ）ｎＬｉ［ｎは０以上５００以下の整数］を開始
剤として、（Ｒ4Ｒ5ＳｉＯ）P［ｐは３または４］で示
される環状化合物を開環重合させた後、一般式（５）、
（６）及び（７）で示される化合物の１種以上で封止す
ることよりなる該化合物の製造工程において、副生する
高分子化合物を含む反応混合物から一般式（８）、
（９）及び（１０）であらわされる化合物の１種以上を
吸着剤として用いることによって副生する高分子化合物
を除去することを特徴とする高純度の片末端ラジカル重
合性官能基含有オルガノポリシロキサンの製造方法に関
するものである。
【化３】 （式中Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3はそれぞれ炭素数１〜４のアルキ
ル基または炭素数６〜１０のアリール基または弗素を含
む炭素数１〜４のアルキル基であり、Ｒ4、Ｒ5はメチル
基またはフェニル基または弗素を含む炭素数１〜４のア
ルキル基であり、Ｒ6は一般式（２）、（３）または
（４）で示される基であり、Ｘはハロゲン元素またはア
シルオキシ基であり、一般式（８）、（９）、（１０）
で表される化合物は結晶水を含んでもよい）。
ル基または炭素数６〜１０のアリール基または弗素を含
む炭素数１〜４のアルキル基であり、Ｒ4、Ｒ5はメチル
基またはフェニル基または弗素を含む炭素数１〜４のア
ルキル基であり、Ｒ6は一般式（２）、（３）または
（４）で示される基であり、Ｘはハロゲン元素またはア
シルオキシ基であり、一般式（８）、（９）、（１０）
で表される化合物は結晶水を含んでもよい）。
【化４】 の精製方法に関するものである。以下、本発明について
さらに詳細に説明する。
さらに詳細に説明する。
【０００８】
【発明の実施の形態】Ｒ1（Ｒ2Ｒ3ＳｉＯ）ｎＬｉ（ｎ
は０以上５００以下の整数）で表わされる開始剤として
は、好ましくはリチウムトリアルキルシラノレートまた
はアルキルリチウムである。具体的にはリチウムトリメ
チルシラノレート、リチウムトリエチルシラノレート、
リチウムトリプロピルシラノレート、リチウムトリブチ
ルシラノレート、メチルリチウム、エチルリチウム、ｎ
−ブチルリチウム、ｓｅｃ−ブチルリチウム、ｔｅｒｔ
−ブチルリチウムなどがあげられるが、特にｎ−ブチル
リチウムまたはリチウムトリメチルシラノレートが好ま
しい。
は０以上５００以下の整数）で表わされる開始剤として
は、好ましくはリチウムトリアルキルシラノレートまた
はアルキルリチウムである。具体的にはリチウムトリメ
チルシラノレート、リチウムトリエチルシラノレート、
リチウムトリプロピルシラノレート、リチウムトリブチ
ルシラノレート、メチルリチウム、エチルリチウム、ｎ
−ブチルリチウム、ｓｅｃ−ブチルリチウム、ｔｅｒｔ
−ブチルリチウムなどがあげられるが、特にｎ−ブチル
リチウムまたはリチウムトリメチルシラノレートが好ま
しい。
【０００９】また、（Ｒ4Ｒ5ＳｉＯ）P［ｐは３または
４］で表わされる環状化合物としては、ヘキサメチルシ
クロトリシロキサン、オクタメチルシクロテトラシロキ
サン、ヘキサエチルシクロトリシロキサン、オクタエチ
ルシクロテトラシロキサン、ヘキサフェニルシクロトリ
シロキサン、オクタフェニルシクロテトラシロキサン、
トリメチルトリフェニルシクロトリシロキサン、テトラ
メチルテトラフェニルシクロテトラシロキサンなどがあ
げられるが、このうちヘキサメチルシクロトリシロキサ
ンおよびオクタメチルシクロテトラシロキサンが好まし
く、中でも特にヘキサメチルシクロトリシロキサンが好
ましい。
４］で表わされる環状化合物としては、ヘキサメチルシ
クロトリシロキサン、オクタメチルシクロテトラシロキ
サン、ヘキサエチルシクロトリシロキサン、オクタエチ
ルシクロテトラシロキサン、ヘキサフェニルシクロトリ
シロキサン、オクタフェニルシクロテトラシロキサン、
トリメチルトリフェニルシクロトリシロキサン、テトラ
メチルテトラフェニルシクロテトラシロキサンなどがあ
げられるが、このうちヘキサメチルシクロトリシロキサ
ンおよびオクタメチルシクロテトラシロキサンが好まし
く、中でも特にヘキサメチルシクロトリシロキサンが好
ましい。
【００１０】開環重合の停止には一般式（５）または一
般式（６）または一般式（７）で示される化合物を使用
する。この中のＸはハロゲン元素またはアシルオキシ基
であるが、入手の容易さから塩素元素であることが好ま
しい。開環重合後、重合停止を行なった反応液は通常反
応溶媒を留去し、目的のラジカル重合性シリコーンを取
り出す。この際の加熱によって、好ましからざる高分子
化合物が生成混入することが多い。このような高分子化
合物の生成は、反応液をＧＰＣ（ゲルパーミエシオンク
ロマトグラフ）で測定することによって定量的に確認す
ることができる。
般式（６）または一般式（７）で示される化合物を使用
する。この中のＸはハロゲン元素またはアシルオキシ基
であるが、入手の容易さから塩素元素であることが好ま
しい。開環重合後、重合停止を行なった反応液は通常反
応溶媒を留去し、目的のラジカル重合性シリコーンを取
り出す。この際の加熱によって、好ましからざる高分子
化合物が生成混入することが多い。このような高分子化
合物の生成は、反応液をＧＰＣ（ゲルパーミエシオンク
ロマトグラフ）で測定することによって定量的に確認す
ることができる。
【００１１】本発明の精製工程で使用する吸着剤は具体
的には、一般式（８）、（９）または一般式（１０）で
あらわされる化合物が挙げられ、これらは富田製薬
（株）よりそれぞれトミタ−ＡＤ １００、トミタ−Ａ
Ｄ ２００、トミタ−ＡＤ ７００として入手可能であ
る。
的には、一般式（８）、（９）または一般式（１０）で
あらわされる化合物が挙げられ、これらは富田製薬
（株）よりそれぞれトミタ−ＡＤ １００、トミタ−Ａ
Ｄ ２００、トミタ−ＡＤ ７００として入手可能であ
る。
【００１２】吸着剤によりラジカル重合性シリコーン中
の高分子化合物を吸着させる方法は吸着の一般的な方法
が採用できる。ラジカル重合性シリコーンに吸着剤を添
加して攪拌することにより高分子化合物を吸着させる方
法、吸着剤を充填した塔にラジカル重合性シリコーンを
通し高分子化合物を吸着させる方法などが例示される。
の高分子化合物を吸着させる方法は吸着の一般的な方法
が採用できる。ラジカル重合性シリコーンに吸着剤を添
加して攪拌することにより高分子化合物を吸着させる方
法、吸着剤を充填した塔にラジカル重合性シリコーンを
通し高分子化合物を吸着させる方法などが例示される。
【００１３】吸着操作を行うときのラジカル重合性シリ
コーンに対する吸着剤の使用量は該シリコーンの１〜５
０重量％が好ましいが、より好ましくは５〜２０重量％
である。また、吸着の方法に関わらず吸着させるときの
温度には特に限定されないが、操作の容易性から通常室
温で行われる。。攪拌槽方式で吸着操作を行なった場合
は、吸着により高分子化合物を除いた後吸着剤を濾過に
より除かねばならないが、この場合も濾過の一般的な方
法が採用できる。濾過の装置としては加圧濾過器、減圧
濾過器、遠心濾過器などが例示される。なお、吸着剤処
理を行なうことによるMg、Alのラジカル重合性シリコー
ンへの溶解は無視できるものである。
コーンに対する吸着剤の使用量は該シリコーンの１〜５
０重量％が好ましいが、より好ましくは５〜２０重量％
である。また、吸着の方法に関わらず吸着させるときの
温度には特に限定されないが、操作の容易性から通常室
温で行われる。。攪拌槽方式で吸着操作を行なった場合
は、吸着により高分子化合物を除いた後吸着剤を濾過に
より除かねばならないが、この場合も濾過の一般的な方
法が採用できる。濾過の装置としては加圧濾過器、減圧
濾過器、遠心濾過器などが例示される。なお、吸着剤処
理を行なうことによるMg、Alのラジカル重合性シリコー
ンへの溶解は無視できるものである。
【００１４】
【実施例】本発明のラジカル重合性シリコーンの精製方
法を実施例により詳細に説明するが、本発明は以下の実
施例のみに限定されるわけではない。なお、ＧＰＣ分析
は濃度１重量％のトルエン溶液を５０μｌ注入すること
により行なった。分析条件を以下に示す。 カラム：Ｓｈｏｄｅｘ ＫＦ８０４Ｌ（昭和電工（株）
製）（直列に２本接続）、カラム温度：４０℃、検出
器：ＲＩ、溶離液：トルエン、溶離液流速：０．７ｍｌ
毎分
法を実施例により詳細に説明するが、本発明は以下の実
施例のみに限定されるわけではない。なお、ＧＰＣ分析
は濃度１重量％のトルエン溶液を５０μｌ注入すること
により行なった。分析条件を以下に示す。 カラム：Ｓｈｏｄｅｘ ＫＦ８０４Ｌ（昭和電工（株）
製）（直列に２本接続）、カラム温度：４０℃、検出
器：ＲＩ、溶離液：トルエン、溶離液流速：０．７ｍｌ
毎分
【００１５】（実施例１）α−（３−メタクリロキシプ
ロピル）ポリジメチルシロキサン（Ｍｎ＝１３０００）
１０ｇおよびトミタ−ＡＤ 100P(富田製薬（株）製)１
ｇをガラス容器に入れ、撹拌子を入れて８時間攪拌を行
った。攪拌後、加圧濾過により吸着剤を除去し、ポリシ
ロキサンの精製物を得た。得られたポリシロキサンのＧ
ＰＣ分析を行なったところ、副生した高分子化合物は検
出されなかった。また、金属分析を行なったが、ポリシ
ロキサン中のAl分は検出されなかった（０．１ｐｐｍ以
下）。
ロピル）ポリジメチルシロキサン（Ｍｎ＝１３０００）
１０ｇおよびトミタ−ＡＤ 100P(富田製薬（株）製)１
ｇをガラス容器に入れ、撹拌子を入れて８時間攪拌を行
った。攪拌後、加圧濾過により吸着剤を除去し、ポリシ
ロキサンの精製物を得た。得られたポリシロキサンのＧ
ＰＣ分析を行なったところ、副生した高分子化合物は検
出されなかった。また、金属分析を行なったが、ポリシ
ロキサン中のAl分は検出されなかった（０．１ｐｐｍ以
下）。
【００１６】（実施例２、３）トミタ−ＡＤ 700P(富
田製薬（株）製)１ｇを入れる代わりに表１に示す吸着
剤１ｇを加えた以外は、実施例１と同様に行なった。得
られたポリシロキサンのＧＰＣ分析を行なったところ、
副生した高分子化合物は検出されなかった。
田製薬（株）製)１ｇを入れる代わりに表１に示す吸着
剤１ｇを加えた以外は、実施例１と同様に行なった。得
られたポリシロキサンのＧＰＣ分析を行なったところ、
副生した高分子化合物は検出されなかった。
【００１７】（比較例１〜２５）トミタ−ＡＤ 700P
(富田製薬（株）製)１ｇを入れる代わりに表１に示す吸
着剤１ｇを加えた以外は、実施例１と同様に行なった。
得られたポリシロキサンのＧＰＣ分析を行なったとこ
ろ、副生した高分子化合物は検出され、表１に示す量含
まれていることが分かった。
(富田製薬（株）製)１ｇを入れる代わりに表１に示す吸
着剤１ｇを加えた以外は、実施例１と同様に行なった。
得られたポリシロキサンのＧＰＣ分析を行なったとこ
ろ、副生した高分子化合物は検出され、表１に示す量含
まれていることが分かった。
【００１８】
【表１】
【００１９】（実施例４）実施例１〜３、比較例１〜２
８とは異なるロットのα−（３−メタクリロキシプロピ
ル）ポリジメチルシロキサン（Ｍｎ＝１３０００）１０
ｇおよびトミタ−ＡＤ 100P(富田製薬（株）製)１ｇを
ガラス容器に入れ、撹拌子を入れて８時間攪拌を行っ
た。攪拌後、加圧濾過により吸着剤を除去し、ポリシロ
キサンの精製物を得た。得られたポリシロキサンのＧＰ
Ｃ分析を行なったところ、副生した高分子化合物は検出
されなかった。
８とは異なるロットのα−（３−メタクリロキシプロピ
ル）ポリジメチルシロキサン（Ｍｎ＝１３０００）１０
ｇおよびトミタ−ＡＤ 100P(富田製薬（株）製)１ｇを
ガラス容器に入れ、撹拌子を入れて８時間攪拌を行っ
た。攪拌後、加圧濾過により吸着剤を除去し、ポリシロ
キサンの精製物を得た。得られたポリシロキサンのＧＰ
Ｃ分析を行なったところ、副生した高分子化合物は検出
されなかった。
【００２０】（実施例５、６）トミタ−ＡＤ 100P(富
田製薬（株）製)１ｇを入れる代わりに表２に示す吸着
剤１ｇを加えた以外は、実施例４と同様に行なった。得
られたポリシロキサンのＧＰＣ分析を行なったところ、
副生した高分子化合物は検出されなかった。
田製薬（株）製)１ｇを入れる代わりに表２に示す吸着
剤１ｇを加えた以外は、実施例４と同様に行なった。得
られたポリシロキサンのＧＰＣ分析を行なったところ、
副生した高分子化合物は検出されなかった。
【００２１】
【表２】
【００２２】
【発明の効果】本発明の方法によって製造されたラジカ
ル重合性シリコーンは、分子量分布が狭く、分子の片末
端にラジカル重合性官能基を１個有し、ラジカル重合に
よる高分子量化合物の含有量が少ない単分散ポリマーで
ある。このような高純度のラジカル重合性シリコーンを
用いることにより、グラフト重合時に構造が明確なグラ
フトポリマーを得ることができる。この高純度のラジカ
ル重合性シリコーンまたはこれを用いたグラフトポリマ
ーは、各種フィルム、プラスチック、ゴム、ワックスな
どの高分子物質や紙、ガラスなどの表面処理剤、または
シャンプー、リンス、ヘアーセット剤などの日用品の改
質剤として用いられ、これらの製品に撥水性、防汚性、
非接着性、耐熱性、耐摩耗性、生体適合性などの機能を
付与することができる。
ル重合性シリコーンは、分子量分布が狭く、分子の片末
端にラジカル重合性官能基を１個有し、ラジカル重合に
よる高分子量化合物の含有量が少ない単分散ポリマーで
ある。このような高純度のラジカル重合性シリコーンを
用いることにより、グラフト重合時に構造が明確なグラ
フトポリマーを得ることができる。この高純度のラジカ
ル重合性シリコーンまたはこれを用いたグラフトポリマ
ーは、各種フィルム、プラスチック、ゴム、ワックスな
どの高分子物質や紙、ガラスなどの表面処理剤、または
シャンプー、リンス、ヘアーセット剤などの日用品の改
質剤として用いられ、これらの製品に撥水性、防汚性、
非接着性、耐熱性、耐摩耗性、生体適合性などの機能を
付与することができる。
【図１】実施例１で調製した副生した高分子化合物を２
２１０ｐｐｍ含むポリシロキサンのＧＰＣチャートを示
す図である。横軸の目盛り１５．０００近辺のピークが
副生高分子化合物による。
２１０ｐｐｍ含むポリシロキサンのＧＰＣチャートを示
す図である。横軸の目盛り１５．０００近辺のピークが
副生高分子化合物による。
【図２】実施例１で精製して得られたポリシロキサンの
ＧＰＣチャートを示す図である。横軸の目盛り１５．０
００近辺のピークが消滅している。
ＧＰＣチャートを示す図である。横軸の目盛り１５．０
００近辺のピークが消滅している。
Claims (3)
- 【請求項１】 一般式（１）で示される数平均分子量が
５００以上５００００以下で分散度（Ｍｗ／Ｍｎ）が
１．８以下の片末端ラジカル重合性官能基含有オルガノ
ポリシロキサンをＲ1（Ｒ2Ｒ3ＳｉＯ）ｎＬｉ［ｎは０
以上５００以下の整数］を開始剤として、（Ｒ4Ｒ5Ｓｉ
Ｏ）P［ｐは３または４］で示される環状化合物を開環
重合させた後、一般式（５）、（６）及び（７）で示さ
れる化合物の１種以上で封止することよりなる該化合物
の製造工程において、副生する高分子化合物を含む反応
混合物から一般式（８）、（９）及び（１０）であらわ
される化合物の１種以上を吸着剤として用いることによ
って副生する高分子化合物を除去することを特徴とする
高純度の片末端ラジカル重合性官能基含有オルガノポリ
シロキサンの製造方法。 【化１】 （式中Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3はそれぞれ炭素数１〜４のアルキ
ル基または炭素数６〜１０のアリール基または弗素を含
む炭素数１〜４のアルキル基であり、Ｒ4、Ｒ5はメチル
基またはフェニル基または弗素を含む炭素数１〜４のア
ルキル基であり、Ｘはハロゲン元素またはアシルオキシ
基であり、Ｒ6は一般式（２）、（３）または（４）で
示される基であり、一般式（８）、（９）、（１０）で
表される化合物は結晶水を含んでもよい）。 【化２】 - 【請求項２】 一般式（１）で示される片末端ラジカル
重合性官能基含有オルガノポリシロキサンの数平均分子
量が５０００以上２００００以下であることを特徴とす
る請求項１に記載の高純度の片末端ラジカル重合性官能
基含有オルガノポリシロキサンの製造方法。 - 【請求項３】 副生する高分子化合物を含む反応混合物
から吸着剤によって副生する高分子化合物を除去する操
作を行うときの片末端ラジカル重合性官能基含有オルガ
ノポリシロキサンに対する吸着剤の使用量が該ポリシロ
キサンの１〜５０重量％であることを特徴とする請求項
１に記載の高純度の片末端ラジカル重合性官能基含有オ
ルガノポリシロキサンの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP34202997A JPH11158285A (ja) | 1997-11-27 | 1997-11-27 | 高純度の片末端ラジカル重合性官能基含有オルガノポリシロキサンの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP34202997A JPH11158285A (ja) | 1997-11-27 | 1997-11-27 | 高純度の片末端ラジカル重合性官能基含有オルガノポリシロキサンの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11158285A true JPH11158285A (ja) | 1999-06-15 |
Family
ID=18350633
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP34202997A Pending JPH11158285A (ja) | 1997-11-27 | 1997-11-27 | 高純度の片末端ラジカル重合性官能基含有オルガノポリシロキサンの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11158285A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE102011005607A1 (de) * | 2011-03-16 | 2012-09-20 | Evonik Goldschmidt Gmbh | Verfahren zur Herstllung von organomodifizierten Polysiloxanen |
| JP2021088620A (ja) * | 2019-12-02 | 2021-06-10 | 大日精化工業株式会社 | 架橋構造体、架橋構造体の製造方法、及び表面処理基材 |
-
1997
- 1997-11-27 JP JP34202997A patent/JPH11158285A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE102011005607A1 (de) * | 2011-03-16 | 2012-09-20 | Evonik Goldschmidt Gmbh | Verfahren zur Herstllung von organomodifizierten Polysiloxanen |
| JP2021088620A (ja) * | 2019-12-02 | 2021-06-10 | 大日精化工業株式会社 | 架橋構造体、架橋構造体の製造方法、及び表面処理基材 |
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