JPH11145219A - クリーニング機構及びクリーニング方法 - Google Patents
クリーニング機構及びクリーニング方法Info
- Publication number
- JPH11145219A JPH11145219A JP9323756A JP32375697A JPH11145219A JP H11145219 A JPH11145219 A JP H11145219A JP 9323756 A JP9323756 A JP 9323756A JP 32375697 A JP32375697 A JP 32375697A JP H11145219 A JPH11145219 A JP H11145219A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- cleaner
- probe
- brush
- cleaning
- cleaning mechanism
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 title claims abstract description 61
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 15
- 239000000523 sample Substances 0.000 claims abstract description 120
- 229920001971 elastomer Polymers 0.000 claims abstract description 6
- 239000005060 rubber Substances 0.000 claims abstract description 6
- 239000003365 glass fiber Substances 0.000 claims description 14
- 239000000835 fiber Substances 0.000 claims description 12
- 238000007689 inspection Methods 0.000 claims description 12
- 239000004576 sand Substances 0.000 claims description 10
- 239000011256 inorganic filler Substances 0.000 claims description 4
- 229910003475 inorganic filler Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229920000049 Carbon (fiber) Polymers 0.000 claims description 3
- 239000004917 carbon fiber Substances 0.000 claims description 3
- VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N methane Chemical compound C VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 238000009434 installation Methods 0.000 abstract description 4
- 239000000463 material Substances 0.000 abstract description 4
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 28
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 6
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 4
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 3
- 229920002379 silicone rubber Polymers 0.000 description 3
- 239000004945 silicone rubber Substances 0.000 description 3
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 3
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 2
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 2
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 2
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 2
- 229920003051 synthetic elastomer Polymers 0.000 description 2
- 239000005061 synthetic rubber Substances 0.000 description 2
- 244000043261 Hevea brasiliensis Species 0.000 description 1
- 239000006061 abrasive grain Substances 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 239000002657 fibrous material Substances 0.000 description 1
- -1 for example Substances 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 1
- 229920003052 natural elastomer Polymers 0.000 description 1
- 229920001194 natural rubber Polymers 0.000 description 1
- 229910010271 silicon carbide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01R—MEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
- G01R3/00—Apparatus or processes specially adapted for the manufacture or maintenance of measuring instruments, e.g. of probe tips
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B08—CLEANING
- B08B—CLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
- B08B1/00—Cleaning by methods involving the use of tools
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B08—CLEANING
- B08B—CLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
- B08B1/00—Cleaning by methods involving the use of tools
- B08B1/10—Cleaning by methods involving the use of tools characterised by the type of cleaning tool
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B08—CLEANING
- B08B—CLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
- B08B1/00—Cleaning by methods involving the use of tools
- B08B1/10—Cleaning by methods involving the use of tools characterised by the type of cleaning tool
- B08B1/12—Brushes
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B08—CLEANING
- B08B—CLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
- B08B1/00—Cleaning by methods involving the use of tools
- B08B1/10—Cleaning by methods involving the use of tools characterised by the type of cleaning tool
- B08B1/14—Wipes; Absorbent members, e.g. swabs or sponges
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)
- Measuring Leads Or Probes (AREA)
- Tests Of Electronic Circuits (AREA)
- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
- Cleaning In General (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 従来のクリーニング機構の場合には、研磨時
に研磨板から削り屑等の付着物が飛散するなどの不都合
があり、しかも研磨板がメインチャックから水平に張り
出しているため、全てのプローブ針1を研磨する時のメ
インチャックの移動範囲が広くなり装置の大型化を招
く。 【解決手段】 本発明のクリーニング機構30は、ウエ
ハWを載置するメインチャック19に付設され且つウエ
ハWの電気的特性検査に用いられるプローブカード21
のプローブ針21Aをクリーニングする機構で、プロー
ブ針21Aよりも細く且つプローブ針21Aの先端部と
当接した時に全長に渡って屈曲する腰の強い繊維部材か
らなるブラシ32Aを有するとブラシクリーナ32と、
ゴム及び無機充填剤とからなる砂消し状のクリーナ層3
1Aを有するソフトクリーナ31とを備えたことを特徴
とする。
に研磨板から削り屑等の付着物が飛散するなどの不都合
があり、しかも研磨板がメインチャックから水平に張り
出しているため、全てのプローブ針1を研磨する時のメ
インチャックの移動範囲が広くなり装置の大型化を招
く。 【解決手段】 本発明のクリーニング機構30は、ウエ
ハWを載置するメインチャック19に付設され且つウエ
ハWの電気的特性検査に用いられるプローブカード21
のプローブ針21Aをクリーニングする機構で、プロー
ブ針21Aよりも細く且つプローブ針21Aの先端部と
当接した時に全長に渡って屈曲する腰の強い繊維部材か
らなるブラシ32Aを有するとブラシクリーナ32と、
ゴム及び無機充填剤とからなる砂消し状のクリーナ層3
1Aを有するソフトクリーナ31とを備えたことを特徴
とする。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、クリーニング機構
及びクリーニング方法に関する。
及びクリーニング方法に関する。
【0002】
【従来の技術】例えばプローブ装置を用いて半導体ウエ
ハ(以下、単に「ウエハ」と称す。)に多数形成された
半導体素子(以下、「チップ」と称す。)の検査を行う
場合には、ウエハ状態のまま個々のチップについて電気
的特性検査を行う。この検査を行う時には、装置本体内
のX、Y、Z及びθ方向に移動可能なウエハチャック上
にウエハを載せ、ウエハチャックを介してウエハをイン
デックス送りしながらその上方のプローブカードとウエ
ハの各チップとを接触させて個々のチップについて検査
を行うようにしている。
ハ(以下、単に「ウエハ」と称す。)に多数形成された
半導体素子(以下、「チップ」と称す。)の検査を行う
場合には、ウエハ状態のまま個々のチップについて電気
的特性検査を行う。この検査を行う時には、装置本体内
のX、Y、Z及びθ方向に移動可能なウエハチャック上
にウエハを載せ、ウエハチャックを介してウエハをイン
デックス送りしながらその上方のプローブカードとウエ
ハの各チップとを接触させて個々のチップについて検査
を行うようにしている。
【0003】検査時には図6に示すようにウエハWの各
チップTとプローブカードのプローブ端子(以下、「プ
ローブ針」と称す。)1とを接触させ、テスタとの導通
を図ることによって種々の電気的特性検査を行うように
している。この際、例えばプローブ針1でチップTのア
ルミニウムからなる電極パッド(図示せず)表面の自然
酸化膜を削り取り、プローブ針1とチップTを確実に導
通させるようにしている。この検査を繰り返している
と、プローブ針1の針先に酸化アルミニウム等が付着
し、やがてこの付着物がチップTとプローブ針1間の導
通を阻害する虞がある。そこで、従来からウエハチャッ
クに付設された研磨板を用い、プローブ針1の針先をク
リーニングして付着物を除去するようにしている。尚、
図6では複数列のチップを同時に検査するプローブカー
ドの片持ち支持タイプのプローブ針1を示している。
チップTとプローブカードのプローブ端子(以下、「プ
ローブ針」と称す。)1とを接触させ、テスタとの導通
を図ることによって種々の電気的特性検査を行うように
している。この際、例えばプローブ針1でチップTのア
ルミニウムからなる電極パッド(図示せず)表面の自然
酸化膜を削り取り、プローブ針1とチップTを確実に導
通させるようにしている。この検査を繰り返している
と、プローブ針1の針先に酸化アルミニウム等が付着
し、やがてこの付着物がチップTとプローブ針1間の導
通を阻害する虞がある。そこで、従来からウエハチャッ
クに付設された研磨板を用い、プローブ針1の針先をク
リーニングして付着物を除去するようにしている。尚、
図6では複数列のチップを同時に検査するプローブカー
ドの片持ち支持タイプのプローブ針1を示している。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
クリーニング方法の場合には、研磨時の気流によって付
着物が研磨板から飛散するなどの不都合があり、しかも
研磨板がウエハチャックから水平に張り出しているた
め、全てのプローブ針1を研磨する時のウエハチャック
の移動範囲が広くなり装置の大型化を招くという課題が
あった。
クリーニング方法の場合には、研磨時の気流によって付
着物が研磨板から飛散するなどの不都合があり、しかも
研磨板がウエハチャックから水平に張り出しているた
め、全てのプローブ針1を研磨する時のウエハチャック
の移動範囲が広くなり装置の大型化を招くという課題が
あった。
【0005】そこで、本出願人は、特願平9−1066
16号明細書において針先の付着物に起因したパーティ
クルの発生を防止する技術として図7に示す砂消し状に
形成されたソフトクリーナ2を提案し、また、特願平9
−220247明細書において装置本体のスペースを拡
張したりすることなく、プローブカードの全プローブ針
を漏れなくクリーニングできるブラシクリーナ(図示せ
ず)を有するクリーニング機構を提案した。
16号明細書において針先の付着物に起因したパーティ
クルの発生を防止する技術として図7に示す砂消し状に
形成されたソフトクリーナ2を提案し、また、特願平9
−220247明細書において装置本体のスペースを拡
張したりすることなく、プローブカードの全プローブ針
を漏れなくクリーニングできるブラシクリーナ(図示せ
ず)を有するクリーニング機構を提案した。
【0006】ところが、その後、ソフトクリーナ及びブ
ラシクリーナについて種々の検討した結果、以下のよう
な問題点のあることが判った。即ち、前者のソフトクリ
ーナ2を使った場合には、図7に示すようにソフトクリ
ーナ2にプローブ針1を突き刺すと、針先の削る屑等の
付着物Dがソフトクリーナ2によって針先の上方へしご
き上げられ、付着物Dの一部がプローブ針1から除去で
きず、プローブ針1に付着したまま残ることが判った。
また、後者のブラシクリーナ3を使った場合には、図8
に示すようにプローブ針1の表面が梨地処理されている
とプローブ針1表面の微小な凹部に付着した付着物Dを
ブラシクリーナ3によってクリーニングしても、ブラシ
クリーナ3のブラシ3Aが柔らかいため、ブラシ3Aの
先端が同図に示すように曲がり、微小凹部内の付着物D
を十分に除去できないことが判った。
ラシクリーナについて種々の検討した結果、以下のよう
な問題点のあることが判った。即ち、前者のソフトクリ
ーナ2を使った場合には、図7に示すようにソフトクリ
ーナ2にプローブ針1を突き刺すと、針先の削る屑等の
付着物Dがソフトクリーナ2によって針先の上方へしご
き上げられ、付着物Dの一部がプローブ針1から除去で
きず、プローブ針1に付着したまま残ることが判った。
また、後者のブラシクリーナ3を使った場合には、図8
に示すようにプローブ針1の表面が梨地処理されている
とプローブ針1表面の微小な凹部に付着した付着物Dを
ブラシクリーナ3によってクリーニングしても、ブラシ
クリーナ3のブラシ3Aが柔らかいため、ブラシ3Aの
先端が同図に示すように曲がり、微小凹部内の付着物D
を十分に除去できないことが判った。
【0007】また、図9に示すようにプローブカードと
して垂直支持タイプのプローブ針1Aを用いた場合に
は、検査時に付着物Dがプローブ針1Aを支持する支持
板2Aに付着したり、あるいはプローブ針1Aをクリー
ニングする際にソフトクリーナCで針先からしごき上げ
られた付着物Dが支持板2Aに付着することがある。と
ころが、ソフトクリーナやブラシクリーナでは支持板2
Aの付着物Dを除去することができず、これらの付着物
Dがいずれ支持板2Aから剥離して検査中にウエハW表
面へ落下し、検査不良をもたらす虞がある。
して垂直支持タイプのプローブ針1Aを用いた場合に
は、検査時に付着物Dがプローブ針1Aを支持する支持
板2Aに付着したり、あるいはプローブ針1Aをクリー
ニングする際にソフトクリーナCで針先からしごき上げ
られた付着物Dが支持板2Aに付着することがある。と
ころが、ソフトクリーナやブラシクリーナでは支持板2
Aの付着物Dを除去することができず、これらの付着物
Dがいずれ支持板2Aから剥離して検査中にウエハW表
面へ落下し、検査不良をもたらす虞がある。
【0008】本発明は、上記課題を解決するためになさ
れたもので、プローブ装置本体の設置面積を拡張するこ
となく、プローブカードの全てのプローブ端子を漏れな
く、しかも付着物を残すことなく完全に除去できるクリ
ーニング機構及びクリーニング方法を提供することを目
的としている。
れたもので、プローブ装置本体の設置面積を拡張するこ
となく、プローブカードの全てのプローブ端子を漏れな
く、しかも付着物を残すことなく完全に除去できるクリ
ーニング機構及びクリーニング方法を提供することを目
的としている。
【0009】
【課題を解決するための手段】本発明の請求項1に記載
のクリーニング機構は、被検査体を載置する載置台に付
設され且つ上記被検査体の電気的特性検査に用いられる
プローブカードをクリーニングするクリーニング機構に
おいて、上記プローブカードのプローブ端子よりも細く
且つ上記プローブ端子の先端部と当接した時に全長に渡
って屈曲する腰の強い繊維部材からなるブラシを有する
とブラシクリーナと、ゴム及び無機充填剤とからなる砂
消し状のクリーナ層を有するソフトクリーナとを備えた
ことを特徴とするものである。
のクリーニング機構は、被検査体を載置する載置台に付
設され且つ上記被検査体の電気的特性検査に用いられる
プローブカードをクリーニングするクリーニング機構に
おいて、上記プローブカードのプローブ端子よりも細く
且つ上記プローブ端子の先端部と当接した時に全長に渡
って屈曲する腰の強い繊維部材からなるブラシを有する
とブラシクリーナと、ゴム及び無機充填剤とからなる砂
消し状のクリーナ層を有するソフトクリーナとを備えた
ことを特徴とするものである。
【0010】また、本発明の請求項2に記載のクリーニ
ング機構は、請求項1に記載の発明において、上記ブラ
シクリーナは、上記ソフトクリーナからX方向へ偏倚し
たXブラシクリーナと、上記ソフトクリーナからY方向
へ偏倚したYブラシクリーナとからなることを特徴とす
るものである。
ング機構は、請求項1に記載の発明において、上記ブラ
シクリーナは、上記ソフトクリーナからX方向へ偏倚し
たXブラシクリーナと、上記ソフトクリーナからY方向
へ偏倚したYブラシクリーナとからなることを特徴とす
るものである。
【0011】また、本発明の請求項3に記載のクリーニ
ング機構は、請求項1または請求項2に記載の発明にお
いて、上記ブラシがガラス繊維またはカーボン繊維から
なることを特徴とするものである。
ング機構は、請求項1または請求項2に記載の発明にお
いて、上記ブラシがガラス繊維またはカーボン繊維から
なることを特徴とするものである。
【0012】また、本発明の請求項4に記載のクリーニ
ング方法は、被検査体の電気的特性検査に用いられるプ
ローブカードをクリーニングするクリーニング方法にお
いて、上記プローブカードのプローブ端子を砂消し状の
ソフトクリーナでクリーニングした後、上記プローブ端
子をブラシクリーナでクリーニングすることを特徴とす
るものである。
ング方法は、被検査体の電気的特性検査に用いられるプ
ローブカードをクリーニングするクリーニング方法にお
いて、上記プローブカードのプローブ端子を砂消し状の
ソフトクリーナでクリーニングした後、上記プローブ端
子をブラシクリーナでクリーニングすることを特徴とす
るものである。
【0013】また、本発明の請求項5に記載のクリーニ
ング方法は、請求項4に記載の発明において、上記ブラ
シクリーナとして、上記プローブ端子よりも細く且つ上
記プローブ端子の先端部と当接した時に全長に渡って屈
曲する腰の強い繊維部材からなるブラシを用いることを
特徴とするものである。
ング方法は、請求項4に記載の発明において、上記ブラ
シクリーナとして、上記プローブ端子よりも細く且つ上
記プローブ端子の先端部と当接した時に全長に渡って屈
曲する腰の強い繊維部材からなるブラシを用いることを
特徴とするものである。
【0014】
【発明の実施の形態】以下、図1〜図5に示す実施形態
に基づいて本発明を説明する。まず、本実施形態のクリ
ーニング機構を具備したプローブ装置について説明す
る。このプローブ装置10は、図1に示すように、カセ
ットC内に収納されたウエハWを搬送するローダ室11
と、このローダ室11から搬送されたウエハWを検査す
るプローバ室12と、このプローバ室12及びローダ室
11を制御するコントローラ13と、このコントローラ
13を操作する操作パネルを兼ねる表示装置14とを備
えて構成されている。
に基づいて本発明を説明する。まず、本実施形態のクリ
ーニング機構を具備したプローブ装置について説明す
る。このプローブ装置10は、図1に示すように、カセ
ットC内に収納されたウエハWを搬送するローダ室11
と、このローダ室11から搬送されたウエハWを検査す
るプローバ室12と、このプローバ室12及びローダ室
11を制御するコントローラ13と、このコントローラ
13を操作する操作パネルを兼ねる表示装置14とを備
えて構成されている。
【0015】上記ローダ室11は、ウエハ搬送機構15
及びサブチャック16を備え、ウエハ搬送機構15でウ
エハWをプローバ室12へ搬送する間にサブチャック1
6を介してオリエンテーションフラットを基準にしたウ
エハWのプリアライメントを行うようにしてある。
及びサブチャック16を備え、ウエハ搬送機構15でウ
エハWをプローバ室12へ搬送する間にサブチャック1
6を介してオリエンテーションフラットを基準にしたウ
エハWのプリアライメントを行うようにしてある。
【0016】また、上記プローバ室12は、駆動機構1
8を介してX、Y、Z及びθ方向に移動する温度調節可
能なメインチャック19と、このメインチャック19上
に載置されたウエハWを正確にアライメントするアライ
メント機構20と、アライメント機構20によりアライ
メントされたウエハWの電気的検査を行うためのプロー
ブ針21Aを有するプローブカード21とを備えてい
る。アライメント機構20は、例えば画像認識機構とし
て配設された上下のCCDカメラ20A(図1では上方
のCCDカメラのみを図示し、下方のCCDカメラは図
示してないが、下方のCCDカメラは例えばメインチャ
ックに付帯している)と、上方のCCDカメラ20Aが
下向きに配設されたアライメントブリッジ20Bと、こ
のアライメントブリッジ20BがY方向に移動案内する
一対のガイドレール20Cとを備えている。プローブカ
ード21はプローバ室12の上面に対して開閉可能なヘ
ッドプレートの中央の開口部にインサートリングを介し
て固定されている。そして、テストヘッド(図示せず)
がプローバ室12のプローブカード21上へ移動し、プ
ローブカード21とテスタ(図示せず)間を電気的に中
継し、テスタからの所定の信号をプローブカード21を
介してメインチャック19上のウエハWにおいて授受
し、ウエハWに形成された複数のチップの電気的検査を
テスタによって順次行うようにしている。
8を介してX、Y、Z及びθ方向に移動する温度調節可
能なメインチャック19と、このメインチャック19上
に載置されたウエハWを正確にアライメントするアライ
メント機構20と、アライメント機構20によりアライ
メントされたウエハWの電気的検査を行うためのプロー
ブ針21Aを有するプローブカード21とを備えてい
る。アライメント機構20は、例えば画像認識機構とし
て配設された上下のCCDカメラ20A(図1では上方
のCCDカメラのみを図示し、下方のCCDカメラは図
示してないが、下方のCCDカメラは例えばメインチャ
ックに付帯している)と、上方のCCDカメラ20Aが
下向きに配設されたアライメントブリッジ20Bと、こ
のアライメントブリッジ20BがY方向に移動案内する
一対のガイドレール20Cとを備えている。プローブカ
ード21はプローバ室12の上面に対して開閉可能なヘ
ッドプレートの中央の開口部にインサートリングを介し
て固定されている。そして、テストヘッド(図示せず)
がプローバ室12のプローブカード21上へ移動し、プ
ローブカード21とテスタ(図示せず)間を電気的に中
継し、テスタからの所定の信号をプローブカード21を
介してメインチャック19上のウエハWにおいて授受
し、ウエハWに形成された複数のチップの電気的検査を
テスタによって順次行うようにしている。
【0017】そして、上記メインチャック19にはクリ
ーニング機構30が付設されている。このクリーニング
機構30は、例えば図1、図2に示すように、プローブ
カード21をクリーニングする1箇所のソフトクリーナ
31及び2箇所のブラシクリーナ32、33と、これら
のクリーナ31、32、33を一体的に支持する支持台
34と、この支持台34とシリンダロッド35Aを介し
て連結されたエアシリンダ35と、このエアシリンダ3
5を支持する基台36と備え、図2に示すようにソフト
クリーナ31及びブラシクリーナ32、33がエアシリ
ンダ35を介して実線位置と一点鎖線で示す位置との間
で昇降するようにしてある。そして、一点鎖線より僅か
に低い位置に二点鎖線で示すメインチャック19上に載
置されたウエハWの表面が位置するようになっている。
ーニング機構30が付設されている。このクリーニング
機構30は、例えば図1、図2に示すように、プローブ
カード21をクリーニングする1箇所のソフトクリーナ
31及び2箇所のブラシクリーナ32、33と、これら
のクリーナ31、32、33を一体的に支持する支持台
34と、この支持台34とシリンダロッド35Aを介し
て連結されたエアシリンダ35と、このエアシリンダ3
5を支持する基台36と備え、図2に示すようにソフト
クリーナ31及びブラシクリーナ32、33がエアシリ
ンダ35を介して実線位置と一点鎖線で示す位置との間
で昇降するようにしてある。そして、一点鎖線より僅か
に低い位置に二点鎖線で示すメインチャック19上に載
置されたウエハWの表面が位置するようになっている。
【0018】また、支持台34の真下には基板37が支
持台34に対して平行に配置され、この基板37は基台
36に立設された基柱38によって水平に保持されてい
る。この基板37上にはマイクロスイッチ39が配設さ
れ、このマイクロスイッチ39によって支持台34の下
降端を検出するようにしてある。そして、図1に示すよ
うに2箇所のブラシクリーナ32、33はソフトクリー
ナ31からX、Y方向に僅かに偏倚して配置され、各ク
リーナ31、32の表面は同一平面になるように形成さ
れている。以下では、X方向へ偏倚したブラシクリーナ
32をXブラシクリーナ32、Y方向へ偏倚したブラシ
クリーナ33をYブラシクリーナ33と称する。
持台34に対して平行に配置され、この基板37は基台
36に立設された基柱38によって水平に保持されてい
る。この基板37上にはマイクロスイッチ39が配設さ
れ、このマイクロスイッチ39によって支持台34の下
降端を検出するようにしてある。そして、図1に示すよ
うに2箇所のブラシクリーナ32、33はソフトクリー
ナ31からX、Y方向に僅かに偏倚して配置され、各ク
リーナ31、32の表面は同一平面になるように形成さ
れている。以下では、X方向へ偏倚したブラシクリーナ
32をXブラシクリーナ32、Y方向へ偏倚したブラシ
クリーナ33をYブラシクリーナ33と称する。
【0019】ところで、上記ソフトクリーナ31は、例
えば図2に示すように、ゴムと充填剤を配合して砂消し
状に形成されたクリーナ層31Aと、このクリーナ層3
1Aが充填され且つ偏平で矩形状に形成された容器部3
1Bとからなっている。容器部31Bの底面中央には凸
部31Cが形成され、この凸部31Cが支持台34の凹
部と嵌合している。そして、ゴムとしては、例えば天然
ゴム、合成ゴムのいずれも用いることができ、中でも合
成ゴムであるシリコーンゴムが好ましく用いられる。ま
た、充填剤は探針を研磨する砥粒となるもので、このよ
うな充填剤としては、例えばけい砂、ガラスや、アルミ
ナ、カーボランダム(商品名)等のセラミックス等の粉
粒体を好ましく用いることができ、これらの粉粒体はそ
れぞれ単独であるいは二種類以上を混合して用いること
ができる。このソフトクリーナ31としては例えば本出
願人が特願平9−106615号明細書において提案し
たものを用いることができる。
えば図2に示すように、ゴムと充填剤を配合して砂消し
状に形成されたクリーナ層31Aと、このクリーナ層3
1Aが充填され且つ偏平で矩形状に形成された容器部3
1Bとからなっている。容器部31Bの底面中央には凸
部31Cが形成され、この凸部31Cが支持台34の凹
部と嵌合している。そして、ゴムとしては、例えば天然
ゴム、合成ゴムのいずれも用いることができ、中でも合
成ゴムであるシリコーンゴムが好ましく用いられる。ま
た、充填剤は探針を研磨する砥粒となるもので、このよ
うな充填剤としては、例えばけい砂、ガラスや、アルミ
ナ、カーボランダム(商品名)等のセラミックス等の粉
粒体を好ましく用いることができ、これらの粉粒体はそ
れぞれ単独であるいは二種類以上を混合して用いること
ができる。このソフトクリーナ31としては例えば本出
願人が特願平9−106615号明細書において提案し
たものを用いることができる。
【0020】また、上記Xブラシクリーナ32は、例え
ば図2、図3の(a)及び(b)に示すように、多数本
の繊維部材を束ねたブラシ32Aと、各ブラシ32Aが
マトリックス状に配置して植設された矩形状の基部32
Bとからなっている。基部32Bの底面中央には凸部3
2Cが形成され、この凸部32Cが支持台34の凹部と
嵌合している。ブラシ32Aは、図4に示すように、プ
ローブ針21Aよりも細く且つプローブ針21Aの先端
部と当接した時に全長に渡って屈曲する腰の強い繊維部
材の束(以下、単に「繊維束」と称す。)として形成さ
れ、しかもブラシ32Aを構成する繊維部材としてプロ
ーブ針21Aより線径が細いガラス繊維を用いているた
め、図4に拡大して示すようにプローブ針21A先端表
面の微小な凹部にガラス繊維が弾力的に入り込み、ガラ
ス繊維のp先端部分が曲がることなくその弾力で微小凹
部の付着物を弾き飛ばすことができる。腰の弱い繊維部
材を用いると、図9で示したように繊維部材の先端部分
が曲がって付着物Dを除去することができない。
ば図2、図3の(a)及び(b)に示すように、多数本
の繊維部材を束ねたブラシ32Aと、各ブラシ32Aが
マトリックス状に配置して植設された矩形状の基部32
Bとからなっている。基部32Bの底面中央には凸部3
2Cが形成され、この凸部32Cが支持台34の凹部と
嵌合している。ブラシ32Aは、図4に示すように、プ
ローブ針21Aよりも細く且つプローブ針21Aの先端
部と当接した時に全長に渡って屈曲する腰の強い繊維部
材の束(以下、単に「繊維束」と称す。)として形成さ
れ、しかもブラシ32Aを構成する繊維部材としてプロ
ーブ針21Aより線径が細いガラス繊維を用いているた
め、図4に拡大して示すようにプローブ針21A先端表
面の微小な凹部にガラス繊維が弾力的に入り込み、ガラ
ス繊維のp先端部分が曲がることなくその弾力で微小凹
部の付着物を弾き飛ばすことができる。腰の弱い繊維部
材を用いると、図9で示したように繊維部材の先端部分
が曲がって付着物Dを除去することができない。
【0021】例えば、プローブ針21Aの線径が200
〜350μmの場合には、繊維部材としては、例えば6
〜8μmの線径を有するガラス繊維、20〜30μmの
線径を有するカーボン繊維、40〜50μmの線径を有
するサンダーロン(商品名)等を用いることができる。
また、腰の強い繊維を用いても基部32Bから繊維先端
までの長さLが長いと腰が弱くなる。尚、本実施形態で
はブラシ32Aとして例えば線径が8μmのガラス繊維
を使用している。
〜350μmの場合には、繊維部材としては、例えば6
〜8μmの線径を有するガラス繊維、20〜30μmの
線径を有するカーボン繊維、40〜50μmの線径を有
するサンダーロン(商品名)等を用いることができる。
また、腰の強い繊維を用いても基部32Bから繊維先端
までの長さLが長いと腰が弱くなる。尚、本実施形態で
はブラシ32Aとして例えば線径が8μmのガラス繊維
を使用している。
【0022】次に、上記クリーニング機構30を用いた
本発明のクリーニング方法の一実施形態について図4、
図5をも参照しながら説明する。尚、図4はブラシの繊
維部材でプローブ針先端の梨地処理部から付着物を除去
する状態を示す模式図、図5はブラシクリーナ32、3
3によるクリーニング可能な範囲を示した平面図であ
る。まず、ウエハWの検査のためにプローブ針21Aと
アルミニウムからなる電極パッドと繰り返し接触させて
検査を行うと、プローブ針21Aの針先に酸化アルミニ
ウム等の付着物Dが付着し、その後の検査に支障を来
す。そこで、上記クリーニング機構30を用いて本実施
形態のクリーニング方法により全てのプローブ針21A
をクリーニングし、付着物Dを除去する。
本発明のクリーニング方法の一実施形態について図4、
図5をも参照しながら説明する。尚、図4はブラシの繊
維部材でプローブ針先端の梨地処理部から付着物を除去
する状態を示す模式図、図5はブラシクリーナ32、3
3によるクリーニング可能な範囲を示した平面図であ
る。まず、ウエハWの検査のためにプローブ針21Aと
アルミニウムからなる電極パッドと繰り返し接触させて
検査を行うと、プローブ針21Aの針先に酸化アルミニ
ウム等の付着物Dが付着し、その後の検査に支障を来
す。そこで、上記クリーニング機構30を用いて本実施
形態のクリーニング方法により全てのプローブ針21A
をクリーニングし、付着物Dを除去する。
【0023】それには、クリーニング機構30を構成す
る1箇所の砂消し状ソフトクリーナ31によりプローブ
針21Aをクリーニングした後、クリーニング機構30
を構成する2箇所のブラシクリーナ32、33によりプ
ローブ針21Aをクリーニングし、全てのプローブ針2
1Aから付着物D等の付着物を確実に除去する。この点
を更に詳述すると、コントローラ13の制御下でクリー
ニング機構30のエアシリンダ35が駆動すると、図2
の矢印で示すようにピストンロッド35Aが伸び、支持
台34が実線位置から一点鎖線位置まで上昇し、ソフト
クリーナ31及びブラシクリーナ32、33それぞれの
表面がメインチャック19上のウエハ表面(二点鎖線で
示す位置)よりも僅か上方に達してクリーニング可能な
状態になる。これと並行してコントローラ13の制御下
でメインチャック19がX、Y方向に移動し、ソフトク
リーナ31がプローブ針21Aの真下に位置する。次い
で、メインチャック19がZ方向に上昇し、ソフトクリ
ーナ31とプローブ針21Aとが接触した後、更にメイ
ンチャック19が例えば100μm程度オーバドライブ
すると、プローブ針21Aの針先が図2に示すようにク
リーナ層31Aに100μm程度突き刺さり付着物の大
部分が針先に付着したままクリーナ層31A内に入り込
むと共にその一部が図7に示すようにしごき上げられ
る。引き続きメインチャック19が下降して針先がクリ
ーナ層31Aから抜ける時に、針先の付着物は砂消し状
クリーナ層31A内で削ぎ取られ、その一部はプローブ
針21Aに残る。その後、メインチャック19がX、Y
方向に移動し、それぞれの位置で全てのプローブ針21
Aをソフトクリーナ31でクリーニングすると、全ての
プローブ針21Aにはそれぞれの針先よりやや上方に付
着物の一部が残存する。
る1箇所の砂消し状ソフトクリーナ31によりプローブ
針21Aをクリーニングした後、クリーニング機構30
を構成する2箇所のブラシクリーナ32、33によりプ
ローブ針21Aをクリーニングし、全てのプローブ針2
1Aから付着物D等の付着物を確実に除去する。この点
を更に詳述すると、コントローラ13の制御下でクリー
ニング機構30のエアシリンダ35が駆動すると、図2
の矢印で示すようにピストンロッド35Aが伸び、支持
台34が実線位置から一点鎖線位置まで上昇し、ソフト
クリーナ31及びブラシクリーナ32、33それぞれの
表面がメインチャック19上のウエハ表面(二点鎖線で
示す位置)よりも僅か上方に達してクリーニング可能な
状態になる。これと並行してコントローラ13の制御下
でメインチャック19がX、Y方向に移動し、ソフトク
リーナ31がプローブ針21Aの真下に位置する。次い
で、メインチャック19がZ方向に上昇し、ソフトクリ
ーナ31とプローブ針21Aとが接触した後、更にメイ
ンチャック19が例えば100μm程度オーバドライブ
すると、プローブ針21Aの針先が図2に示すようにク
リーナ層31Aに100μm程度突き刺さり付着物の大
部分が針先に付着したままクリーナ層31A内に入り込
むと共にその一部が図7に示すようにしごき上げられ
る。引き続きメインチャック19が下降して針先がクリ
ーナ層31Aから抜ける時に、針先の付着物は砂消し状
クリーナ層31A内で削ぎ取られ、その一部はプローブ
針21Aに残る。その後、メインチャック19がX、Y
方向に移動し、それぞれの位置で全てのプローブ針21
Aをソフトクリーナ31でクリーニングすると、全ての
プローブ針21Aにはそれぞれの針先よりやや上方に付
着物の一部が残存する。
【0024】次いで、メインチャック19がX、Y方向
に移動し、例えばXブラシクリーナ32をXブラシクリ
ーナ32をプローブ針21Aの真下に位置する。次い
で、メインチャック19がZ方向で上昇しXブラシクリ
ーナ32とプローブ針21Aとが接触すると、まず、ブ
ラシ32Aの先端が図4に示すようにプローブ針21A
の先端面に当たる。引き続きメインチャック19が上昇
すると各ガラス繊維の先端がそれぞれプローブ針21A
先端面の微小凹部に弾力的に接触し、各ガラス繊維の弾
力によって付着物Dを微小凹部から弾き飛ばす。更に、
メインチャック19がオーバドライブしてプローブ針2
1Aに残存する付着物がブラシ32Aの各ガラス繊維間
に入り込み間に各ガラス繊維がプローブ針21Aの付着
物を削り取る。従って、この状態でメインチャック19
の昇降を繰り返す間にプローブ針21Aから付着物を確
実に除去することができる。その後、メインチャック1
9がX、Y方向に移動し、それぞれの位置でメインチャ
ック19が昇降することでプローブ針21AをXブラシ
クリーナ32によってクリーニングすることができる。
この時のXブラシクリーナ32は図5の二点鎖線で示す
(イ)の範囲を移動し、ウエハWの斜線で示す部分を検
査するプローブ針21Aについてクリーニングすること
ができる。
に移動し、例えばXブラシクリーナ32をXブラシクリ
ーナ32をプローブ針21Aの真下に位置する。次い
で、メインチャック19がZ方向で上昇しXブラシクリ
ーナ32とプローブ針21Aとが接触すると、まず、ブ
ラシ32Aの先端が図4に示すようにプローブ針21A
の先端面に当たる。引き続きメインチャック19が上昇
すると各ガラス繊維の先端がそれぞれプローブ針21A
先端面の微小凹部に弾力的に接触し、各ガラス繊維の弾
力によって付着物Dを微小凹部から弾き飛ばす。更に、
メインチャック19がオーバドライブしてプローブ針2
1Aに残存する付着物がブラシ32Aの各ガラス繊維間
に入り込み間に各ガラス繊維がプローブ針21Aの付着
物を削り取る。従って、この状態でメインチャック19
の昇降を繰り返す間にプローブ針21Aから付着物を確
実に除去することができる。その後、メインチャック1
9がX、Y方向に移動し、それぞれの位置でメインチャ
ック19が昇降することでプローブ針21AをXブラシ
クリーナ32によってクリーニングすることができる。
この時のXブラシクリーナ32は図5の二点鎖線で示す
(イ)の範囲を移動し、ウエハWの斜線で示す部分を検
査するプローブ針21Aについてクリーニングすること
ができる。
【0025】しかしながら、図5に示すようにウエハW
の斜線部分からはみ出した白地部分を検査するプローブ
針21AについてはXブラシクリーナ32ではクリーニ
ングすることができない。ところが、この白地部分を検
査するプローブ針21AについてYブラシクリーナ33
によってクリーニングすることができる。即ち、Xブラ
シクリーナ32が図5の二点鎖線で示す(イ)の範囲を
移動すれば、Yブラシクリーナ33は図5の一点鎖線で
示す(ロ)の範囲を移動するため、白地部分を検査する
プローブ針21AをYブラシクリーナ33によってクリ
ーニングすることができる。
の斜線部分からはみ出した白地部分を検査するプローブ
針21AについてはXブラシクリーナ32ではクリーニ
ングすることができない。ところが、この白地部分を検
査するプローブ針21AについてYブラシクリーナ33
によってクリーニングすることができる。即ち、Xブラ
シクリーナ32が図5の二点鎖線で示す(イ)の範囲を
移動すれば、Yブラシクリーナ33は図5の一点鎖線で
示す(ロ)の範囲を移動するため、白地部分を検査する
プローブ針21AをYブラシクリーナ33によってクリ
ーニングすることができる。
【0026】以上説明したように本実施形態によれば、
プローブ装置10のクリーニング機構30は、プローブ
針21Aよりも細く且つ上記プローブ針21Aの先端部
と当接した時に全長に渡って屈曲する腰の強いガラス繊
維からなるブラシ32A、33Aを有するブラシクリー
ナ32、33と、シリコーンゴム及び無機充填剤とから
なる砂消し状のソフトクリーナ31とを備えているた
め、プローブカード21をクリーニングする際に、プロ
ーブ針21Aを砂消し状のソフトクリーナ31でクリー
ニングした後、プローブ針21Aをブラシクリーナ3
2、33でクリーニングすることができ、プローブ装置
10本体の設置面積を拡張することなく、プローブカー
ドの全てのプローブ針21Aを漏れなく、しかも付着物
を残すことなく完全に除去することができる。また、ソ
フトクリーナ31のクリーニング層31Aがシリコーン
ゴム及び無機充填剤からなる砂消し状に形成されている
ため、プローブ針21Aの付着物を確実に削り取ること
ができる。また、ブラシクリーナ32、33それぞれの
ブラシ32A、33Aはプローブ針21Aよりも細く且
つプローブ針21Aの先端部と当接した時に全長に渡っ
て屈曲する腰の強いガラス繊維からなるため、プローブ
針21A表面の微小な凹部内に付着物があっても各ガラ
ス繊維によって付着物を確実に弾き飛ばして除去するこ
とができる。また、プローブ針21Aが針先近傍が支持
板によって支持されている垂直針(9参照)として構成
されていても、支持板の付着物をもブラシクリーナ3
2、33を用いてクリーニングすることができる。
プローブ装置10のクリーニング機構30は、プローブ
針21Aよりも細く且つ上記プローブ針21Aの先端部
と当接した時に全長に渡って屈曲する腰の強いガラス繊
維からなるブラシ32A、33Aを有するブラシクリー
ナ32、33と、シリコーンゴム及び無機充填剤とから
なる砂消し状のソフトクリーナ31とを備えているた
め、プローブカード21をクリーニングする際に、プロ
ーブ針21Aを砂消し状のソフトクリーナ31でクリー
ニングした後、プローブ針21Aをブラシクリーナ3
2、33でクリーニングすることができ、プローブ装置
10本体の設置面積を拡張することなく、プローブカー
ドの全てのプローブ針21Aを漏れなく、しかも付着物
を残すことなく完全に除去することができる。また、ソ
フトクリーナ31のクリーニング層31Aがシリコーン
ゴム及び無機充填剤からなる砂消し状に形成されている
ため、プローブ針21Aの付着物を確実に削り取ること
ができる。また、ブラシクリーナ32、33それぞれの
ブラシ32A、33Aはプローブ針21Aよりも細く且
つプローブ針21Aの先端部と当接した時に全長に渡っ
て屈曲する腰の強いガラス繊維からなるため、プローブ
針21A表面の微小な凹部内に付着物があっても各ガラ
ス繊維によって付着物を確実に弾き飛ばして除去するこ
とができる。また、プローブ針21Aが針先近傍が支持
板によって支持されている垂直針(9参照)として構成
されていても、支持板の付着物をもブラシクリーナ3
2、33を用いてクリーニングすることができる。
【0027】尚、本発明は上記実施形態に何等制限され
るものではない。要は、クリーニング機構としてソフト
クリーナとブラシクリーナを有し、ソフトクリーナを用
いてプローブ端子をクリーニングした後、ブラシクリー
ナを用いてプローブ端子をクリーニングする方法であれ
ば、本発明に包含される。
るものではない。要は、クリーニング機構としてソフト
クリーナとブラシクリーナを有し、ソフトクリーナを用
いてプローブ端子をクリーニングした後、ブラシクリー
ナを用いてプローブ端子をクリーニングする方法であれ
ば、本発明に包含される。
【0028】
【発明の効果】本発明の請求項1〜請求項5に記載の発
明によれば、プローブ装置本体の設置面積を拡張するこ
となく、プローブカードの全てのプローブ端子を漏れな
く、しかも付着物を残すことなく完全に除去できるクリ
ーニング機構及びクリーニング方法を提供することがで
きる。
明によれば、プローブ装置本体の設置面積を拡張するこ
となく、プローブカードの全てのプローブ端子を漏れな
く、しかも付着物を残すことなく完全に除去できるクリ
ーニング機構及びクリーニング方法を提供することがで
きる。
【図1】本発明のクリーニング機構の一実施形態を適用
したプローブ装置の一部を破断して内部構造を示す斜視
図である。
したプローブ装置の一部を破断して内部構造を示す斜視
図である。
【図2】図1に示すクリーニング機構を用いてプローブ
カードをクリーニングする状態を示す断面図である。
カードをクリーニングする状態を示す断面図である。
【図3】図1に示すブラシクリーナを示す図で、(a)
はその側面図、(b)はブラシの一部を示した平面図で
ある。
はその側面図、(b)はブラシの一部を示した平面図で
ある。
【図4】図3に示すブラシクリーナの繊維部材の作用を
説明する模式図である。
説明する模式図である。
【図5】Xブラシクリーナ及びYブラシクリーナによる
クリーニング範囲を説明するための説明図である。
クリーニング範囲を説明するための説明図である。
【図6】プローブカードを用いてウエハの検査を行う時
のプローブ針とウエハとの関係を拡大して示す断面図で
ある。
のプローブ針とウエハとの関係を拡大して示す断面図で
ある。
【図7】図6に示すプローブ針をソフトクリーナでクリ
ーニングする時のプローブ針とソフトクリーナとの関係
を説明するための説明図である。
ーニングする時のプローブ針とソフトクリーナとの関係
を説明するための説明図である。
【図8】図6に示すプローブ針をブラシクリーナでクリ
ーニングする時のプローブ針とブラシとの関係を説明す
るための説明図である。
ーニングする時のプローブ針とブラシとの関係を説明す
るための説明図である。
【図9】垂直支持タイプのプローブ針をソフトクリーナ
でクリーニングする時のプローブ針とソフトクリーナと
の関係を説明するための説明図である。
でクリーニングする時のプローブ針とソフトクリーナと
の関係を説明するための説明図である。
10 プローブ装置 19 メインチャック(載置台) 21 プローブカード 21A プローブ針(プローブ端子) 30 クリーニング機構 31 ソフトクリーナ 31A クリーナ層 32 Xブラシクリーナ 32A ブラシ
Claims (5)
- 【請求項1】 被検査体を載置する載置台に付設され且
つ上記被検査体の電気的特性検査に用いられるプローブ
カードをクリーニングするクリーニング機構において、
上記プローブ端子よりも細く且つ上記プローブカードの
プローブ端子の先端部と当接した時に全長に渡って屈曲
する腰の強い繊維部材からなるブラシを有するブラシク
リーナと、ゴム及び無機充填剤とからなる砂消し状のク
リーナ層を有するソフトクリーナとを備えたことを特徴
とするクリーニング機構。 - 【請求項2】 上記ブラシクリーナは、上記ソフトクリ
ーナからX方向へ偏倚したXブラシクリーナと、上記ソ
フトクリーナからY方向へ偏倚したYブラシクリーナと
からなることを特徴とする請求項1に記載のクリーニン
グ機構。 - 【請求項3】 上記ブラシがガラス繊維またはカーボン
繊維からなることを特徴とする請求項1または請求項2
に記載のクリーニング機構。 - 【請求項4】 被検査体の電気的特性検査に用いられる
プローブカードをクリーニングするクリーニング方法に
おいて、上記プローブカードのプローブ端子を砂消し状
のソフトクリーナでクリーニングした後、上記プローブ
端子をブラシクリーナでクリーニングすることを特徴と
するクリーニング方法。 - 【請求項5】 上記ブラシクリーナとして、上記プロー
ブ端子よりも細く且つ上記プローブ端子の先端部と当接
した時に全長に渡って屈曲する腰の強い繊維部材からな
るブラシを用いることを特徴とする請求項4に記載のク
リーニング方法。
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP32375697A JP3429995B2 (ja) | 1997-11-10 | 1997-11-10 | クリーニング方法 |
US09/186,140 US5968282A (en) | 1997-11-10 | 1998-11-05 | Mechanism and method for cleaning probe needles |
TW087118630A TW442878B (en) | 1997-11-10 | 1998-11-09 | Mechanism and method for cleaning probe needles |
KR1019980047769A KR100313175B1 (ko) | 1997-11-10 | 1998-11-09 | 프로브단자의 클리닝기구 및 클리닝방법 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP32375697A JP3429995B2 (ja) | 1997-11-10 | 1997-11-10 | クリーニング方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH11145219A true JPH11145219A (ja) | 1999-05-28 |
JP3429995B2 JP3429995B2 (ja) | 2003-07-28 |
Family
ID=18158285
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP32375697A Expired - Lifetime JP3429995B2 (ja) | 1997-11-10 | 1997-11-10 | クリーニング方法 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5968282A (ja) |
JP (1) | JP3429995B2 (ja) |
KR (1) | KR100313175B1 (ja) |
TW (1) | TW442878B (ja) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007170835A (ja) * | 2005-12-19 | 2007-07-05 | Tokyo Electron Ltd | プローブの研磨方法及び研磨部材 |
WO2010008030A1 (ja) * | 2008-07-18 | 2010-01-21 | 日本電産リード株式会社 | ピン先端部のクリーニング機構を有する基板検査装置 |
JP2017208472A (ja) * | 2016-05-19 | 2017-11-24 | 三菱電機株式会社 | 半導体検査装置 |
CN111366711A (zh) * | 2020-05-09 | 2020-07-03 | 廊坊市智恒机器人科技有限公司 | 一种具有自清洁功能的自动探测装置 |
CN117434314A (zh) * | 2023-09-11 | 2024-01-23 | 法特迪精密科技(苏州)有限公司 | 一种旋转探针与配套插座的适配装置及方法 |
Families Citing this family (47)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6118289A (en) * | 1997-03-10 | 2000-09-12 | Canon Kabushiki Kaisha | Cleaning method and cleaning device and cleaning tool for board electrical-test probes, and board electrical-test device and method |
TW377482B (en) * | 1997-04-08 | 1999-12-21 | Tokyo Electron Ltd | Cleaner with protuberances for inspection, inspection apparatus and inspection method for integrated circuits |
US6127831A (en) * | 1997-04-21 | 2000-10-03 | Motorola, Inc. | Method of testing a semiconductor device by automatically measuring probe tip parameters |
JP3099183B2 (ja) * | 1997-05-14 | 2000-10-16 | 株式会社東京精密 | ウェーハプロービングマシン |
EP1351060B1 (en) * | 1997-07-24 | 2005-10-26 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Method of manufacturing a test probe for semiconductor devices |
US6150175A (en) * | 1998-12-15 | 2000-11-21 | Lsi Logic Corporation | Copper contamination control of in-line probe instruments |
JP2000180469A (ja) * | 1998-12-18 | 2000-06-30 | Fujitsu Ltd | 半導体装置用コンタクタ及び半導体装置用コンタクタを用いた試験装置及び半導体装置用コンタクタを用いた試験方法及び半導体装置用コンタクタのクリーニング方法 |
KR100301060B1 (ko) * | 1999-07-22 | 2001-11-01 | 윤종용 | 웨이퍼 프로빙 장비 및 이를 이용한 웨이퍼 검사용 니들 교정방법 |
US6777966B1 (en) * | 1999-07-30 | 2004-08-17 | International Test Solutions, Inc. | Cleaning system, device and method |
US7202683B2 (en) * | 1999-07-30 | 2007-04-10 | International Test Solutions | Cleaning system, device and method |
US7009415B2 (en) * | 1999-10-06 | 2006-03-07 | Tokyo Electron Limited | Probing method and probing apparatus |
JP2002064132A (ja) * | 2000-08-22 | 2002-02-28 | Tokyo Electron Ltd | 被処理体の受け渡し方法、被処理体の載置機構及びプローブ装置 |
US20040020514A1 (en) * | 2002-07-18 | 2004-02-05 | Orsillo James E. | Probe device cleaner and method |
US7053646B2 (en) * | 2000-09-15 | 2006-05-30 | Orsillo James F | Apparatus and method for use in testing a semiconductor wafer |
US7457680B2 (en) * | 2000-12-27 | 2008-11-25 | Tokyo Electron Limited | Conveyance method for transporting objects |
US7182672B2 (en) * | 2001-08-02 | 2007-02-27 | Sv Probe Pte. Ltd. | Method of probe tip shaping and cleaning |
US6908364B2 (en) * | 2001-08-02 | 2005-06-21 | Kulicke & Soffa Industries, Inc. | Method and apparatus for probe tip cleaning and shaping pad |
US6817052B2 (en) * | 2001-11-09 | 2004-11-16 | Formfactor, Inc. | Apparatuses and methods for cleaning test probes |
US6813804B2 (en) * | 2002-06-06 | 2004-11-09 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Apparatus and method for cleaning probe card contacts |
WO2004098802A1 (en) * | 2003-04-01 | 2004-11-18 | Aju Systems Usa, Inc. | Automatic semiconductor contacts cleaner |
KR100553689B1 (ko) * | 2003-07-18 | 2006-02-24 | 삼성전자주식회사 | 집적회로 칩 검사장치 |
US20060065290A1 (en) * | 2004-09-28 | 2006-03-30 | Jerry Broz | Working surface cleaning system and method |
US9833818B2 (en) | 2004-09-28 | 2017-12-05 | International Test Solutions, Inc. | Working surface cleaning system and method |
WO2006124642A1 (en) * | 2005-05-13 | 2006-11-23 | Snap-On Incorporated | Wheel aligner measurement module attachment system |
US7345466B2 (en) * | 2005-08-02 | 2008-03-18 | Electroglas, Inc. | Method and apparatus for cleaning a probe card |
JP3947795B2 (ja) * | 2005-12-27 | 2007-07-25 | 東京エレクトロン株式会社 | クリーニング部材及びプローブ装置 |
JP5027468B2 (ja) * | 2006-09-15 | 2012-09-19 | 日本ミクロコーティング株式会社 | プローブクリーニング用又はプローブ加工用シート、及びプローブ加工方法 |
JP5250279B2 (ja) * | 2008-02-23 | 2013-07-31 | 東京エレクトロン株式会社 | プローブ装置 |
US8534302B2 (en) * | 2008-12-09 | 2013-09-17 | Microchip Technology Incorporated | Prober cleaning block assembly |
US8269518B1 (en) * | 2009-04-06 | 2012-09-18 | Xilinx, Inc. | Method and apparatus for preventing probe card oxidation |
US8371316B2 (en) | 2009-12-03 | 2013-02-12 | International Test Solutions, Inc. | Apparatuses, device, and methods for cleaning tester interface contact elements and support hardware |
US8747427B2 (en) | 2011-01-18 | 2014-06-10 | Restoration Robotics, Inc. | Automated delivery of fluid |
JP6042760B2 (ja) * | 2013-03-28 | 2016-12-14 | 東京エレクトロン株式会社 | プローブ装置 |
US9435855B2 (en) | 2013-11-19 | 2016-09-06 | Teradyne, Inc. | Interconnect for transmitting signals between a device and a tester |
US9594114B2 (en) | 2014-06-26 | 2017-03-14 | Teradyne, Inc. | Structure for transmitting signals in an application space between a device under test and test electronics |
MY187430A (en) * | 2015-12-25 | 2021-09-22 | Kaijo Kk | Wire bonding apparatus |
US9977052B2 (en) | 2016-10-04 | 2018-05-22 | Teradyne, Inc. | Test fixture |
US9825000B1 (en) | 2017-04-24 | 2017-11-21 | International Test Solutions, Inc. | Semiconductor wire bonding machine cleaning device and method |
US11434095B2 (en) | 2018-02-23 | 2022-09-06 | International Test Solutions, Llc | Material and hardware to automatically clean flexible electronic web rolls |
US10677815B2 (en) | 2018-06-08 | 2020-06-09 | Teradyne, Inc. | Test system having distributed resources |
US11756811B2 (en) | 2019-07-02 | 2023-09-12 | International Test Solutions, Llc | Pick and place machine cleaning system and method |
US10792713B1 (en) | 2019-07-02 | 2020-10-06 | International Test Solutions, Inc. | Pick and place machine cleaning system and method |
US11363746B2 (en) | 2019-09-06 | 2022-06-14 | Teradyne, Inc. | EMI shielding for a signal trace |
US11211242B2 (en) | 2019-11-14 | 2021-12-28 | International Test Solutions, Llc | System and method for cleaning contact elements and support hardware using functionalized surface microfeatures |
US11318550B2 (en) | 2019-11-14 | 2022-05-03 | International Test Solutions, Llc | System and method for cleaning wire bonding machines using functionalized surface microfeatures |
US11035898B1 (en) | 2020-05-11 | 2021-06-15 | International Test Solutions, Inc. | Device and method for thermal stabilization of probe elements using a heat conducting wafer |
US11862901B2 (en) | 2020-12-15 | 2024-01-02 | Teradyne, Inc. | Interposer |
Family Cites Families (19)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3641610A (en) * | 1970-02-11 | 1972-02-15 | Tucel Industries | Artificial tufted sponges |
JPS567479Y2 (ja) * | 1974-10-14 | 1981-02-18 | ||
US4131966A (en) * | 1977-11-07 | 1979-01-02 | Gross Jacob S | Domestic cleaning device |
US4244074A (en) * | 1978-10-17 | 1981-01-13 | Ppg Industries, Inc. | Pad applicator |
US4314855A (en) * | 1979-12-17 | 1982-02-09 | Bell Telephone Laboratories, Incorporated | Method of cleaning test probes |
US4590422A (en) * | 1981-07-30 | 1986-05-20 | Pacific Western Systems, Inc. | Automatic wafer prober having a probe scrub routine |
US4517702A (en) * | 1983-06-29 | 1985-05-21 | Jackson Frank W | Endoscopic scrub device |
US4845799A (en) * | 1988-03-18 | 1989-07-11 | Amundson Arlen G | Liquid containing scrubbing brush |
US5172053A (en) * | 1989-02-24 | 1992-12-15 | Tokyo Electron Limited | Prober apparatus |
US5249325A (en) * | 1990-10-18 | 1993-10-05 | Wilen Manufacturing Co., Inc. | Brush and bonnet carpet cleaning assembly |
JPH04364746A (ja) * | 1991-06-12 | 1992-12-17 | Tokyo Electron Yamanashi Kk | プローブ装置 |
US5349715A (en) * | 1992-09-04 | 1994-09-27 | Tucel Industries, Inc. | Brush fabric cleaner |
US5312197A (en) * | 1993-05-24 | 1994-05-17 | Abramson Daniel J | Inter-digital surgical scrub brush for reducing skin trauma |
EP0779989A4 (en) * | 1994-09-09 | 1998-01-07 | Micromodule Systems Inc | SCANING CIRCUITS WITH A MEMBRANE PROBE |
JP3188935B2 (ja) * | 1995-01-19 | 2001-07-16 | 東京エレクトロン株式会社 | 検査装置 |
US5591507A (en) * | 1995-04-04 | 1997-01-07 | Jones; Samuel S. | Absorbant cloth with agitating feature |
JPH10501928A (ja) * | 1995-04-19 | 1998-02-17 | フィリップス エレクトロニクス ネムローゼ フェンノートシャップ | プローブカードのプローブチップを洗浄する方法およびこの方法を実施するための装置 |
GB9509055D0 (en) * | 1995-05-04 | 1995-06-28 | Newbridge Networks Corp | Test probe cleaning apparatus |
US5666063A (en) * | 1996-10-23 | 1997-09-09 | Motorola, Inc. | Method and apparatus for testing an integrated circuit |
-
1997
- 1997-11-10 JP JP32375697A patent/JP3429995B2/ja not_active Expired - Lifetime
-
1998
- 1998-11-05 US US09/186,140 patent/US5968282A/en not_active Expired - Lifetime
- 1998-11-09 KR KR1019980047769A patent/KR100313175B1/ko not_active IP Right Cessation
- 1998-11-09 TW TW087118630A patent/TW442878B/zh not_active IP Right Cessation
Cited By (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007170835A (ja) * | 2005-12-19 | 2007-07-05 | Tokyo Electron Ltd | プローブの研磨方法及び研磨部材 |
JP4745814B2 (ja) * | 2005-12-19 | 2011-08-10 | 東京エレクトロン株式会社 | プローブの研磨部材 |
WO2010008030A1 (ja) * | 2008-07-18 | 2010-01-21 | 日本電産リード株式会社 | ピン先端部のクリーニング機構を有する基板検査装置 |
KR101178660B1 (ko) | 2008-07-18 | 2012-08-30 | 니혼덴산리드가부시키가이샤 | 핀 선단부의 클리닝 기구를 가지는 기판 검사 장치 |
JP5594535B2 (ja) * | 2008-07-18 | 2014-09-24 | 日本電産リード株式会社 | ピン先端部のクリーニング機構を有する基板検査装置 |
TWI467182B (zh) * | 2008-07-18 | 2015-01-01 | Nidec Read Corp | And a substrate inspection apparatus having a cleaning mechanism for the front end portion of the probe |
JP2017208472A (ja) * | 2016-05-19 | 2017-11-24 | 三菱電機株式会社 | 半導体検査装置 |
US10527648B2 (en) | 2016-05-19 | 2020-01-07 | Mitsubishi Electric Corporation | Semiconductor inspection device |
CN111366711A (zh) * | 2020-05-09 | 2020-07-03 | 廊坊市智恒机器人科技有限公司 | 一种具有自清洁功能的自动探测装置 |
CN117434314A (zh) * | 2023-09-11 | 2024-01-23 | 法特迪精密科技(苏州)有限公司 | 一种旋转探针与配套插座的适配装置及方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR19990045116A (ko) | 1999-06-25 |
KR100313175B1 (ko) | 2002-01-12 |
US5968282A (en) | 1999-10-19 |
TW442878B (en) | 2001-06-23 |
JP3429995B2 (ja) | 2003-07-28 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP3429995B2 (ja) | クリーニング方法 | |
JP3188935B2 (ja) | 検査装置 | |
KR100196195B1 (ko) | 프로우브 카드 | |
US5436571A (en) | Probing test method of contacting a plurality of probes of a probe card with pads on a chip on a semiconductor wafer | |
KR100187559B1 (ko) | 전기적특성의 측정방법 및 그의 측정장치 | |
TWI330108B (en) | Coating apparatus and operating method thereof | |
KR101331353B1 (ko) | 프로브 카드를 세척하기 위한 방법 및 장치 | |
JPWO2010008030A1 (ja) | ピン先端部のクリーニング機構を有する基板検査装置 | |
JP4052966B2 (ja) | ウェハ検査装置およびその検査方法 | |
TWI253704B (en) | Particle-removing wafer | |
KR0146273B1 (ko) | 프로브카드의 클리닝장치 및 클리닝장치를 구비한 프로브장치 | |
JP2001326258A (ja) | プローブカードの触針のクリーニング方法 | |
JP3462751B2 (ja) | クリーニング方法及びプローブ装置 | |
JP2005026265A (ja) | クリーニング機構付きプローバ及びそのクリーニング方法 | |
JPH1154572A (ja) | プローブ装置 | |
JP2000223539A (ja) | クリーナ及びクリーニング方法 | |
JP2711855B2 (ja) | プローブ装置および検査方法 | |
KR20050071117A (ko) | 프로브 카드 니들의 세정시스템 | |
JP4086589B2 (ja) | プローブカード探針の研磨装置 | |
JP2000174080A (ja) | プローバの触針のクリーニング機構 | |
JP2004170263A (ja) | プローブカードの触針のクリーニング用具及びクリーニング方法 | |
JP2000049200A (ja) | プローバ | |
KR20030088296A (ko) | 반도체 검사 장치용 퍼포먼스 보드의 포고핀 크리닝 카드및 크리닝 방법 | |
JP4007902B2 (ja) | クリーニングウエハの管理方法及びそのための装置 | |
JP2984675B1 (ja) | 半導体検査装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120516 Year of fee payment: 9 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20150516 Year of fee payment: 12 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
EXPY | Cancellation because of completion of term |