JP3429995B2 - クリーニング方法 - Google Patents

クリーニング方法

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JP3429995B2 JP32375697A JP32375697A JP3429995B2 JP 3429995 B2 JP3429995 B2 JP 3429995B2 JP 32375697 A JP32375697 A JP 32375697A JP 32375697 A JP32375697 A JP 32375697A JP 3429995 B2 JP3429995 B2 JP 3429995B2
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    • B08BCLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
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Description

【発明の詳細な説明】 【0001】 【発明の属する技術分野】本発明は、クリーニング方法
に関する。 【0002】 【従来の技術】例えばプローブ装置を用いて半導体ウエ
ハ(以下、単に「ウエハ」と称す。)に多数形成された
半導体素子(以下、「チップ」と称す。)の検査を行う
場合には、ウエハ状態のまま個々のチップについて電気
的特性検査を行う。この検査を行う時には、装置本体内
のX、Y、Z及びθ方向に移動可能なウエハチャック上
にウエハを載せ、ウエハチャックを介してウエハをイン
デックス送りしながらその上方のプローブカードとウエ
ハの各チップとを接触させて個々のチップについて検査
を行うようにしている。 【0003】検査時には図6に示すようにウエハWの各
チップTとプローブカードのプローブ端子(以下、「プ
ローブ針」と称す。)1とを接触させ、テスタとの導通
を図ることによって種々の電気的特性検査を行うように
している。この際、例えばプローブ針1でチップTのア
ルミニウムからなる電極パッド(図示せず)表面の自然
酸化膜を削り取り、プローブ針1とチップTを確実に導
通させるようにしている。この検査を繰り返している
と、プローブ針1の針先に酸化アルミニウム等が付着
し、やがてこの付着物がチップTとプローブ針1間の導
通を阻害する虞がある。そこで、従来からウエハチャッ
クに付設された研磨板を用い、プローブ針1の針先をク
リーニングして付着物を除去するようにしている。尚、
図6では複数列のチップを同時に検査するプローブカー
ドの片持ち支持タイプのプローブ針1を示している。 【0004】 【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
クリーニング方法の場合には、研磨時の気流によって付
着物が研磨板から飛散するなどの不都合があり、しかも
研磨板がウエハチャックから水平に張り出しているた
め、全てのプローブ針1を研磨する時のウエハチャック
の移動範囲が広くなり装置の大型化を招くという課題が
あった。 【0005】そこで、本出願人は、特願平9−1066
16号明細書において針先の付着物に起因したパーティ
クルの発生を防止する技術として図7に示す砂消し状に
形成されたソフトクリーナ2を提案し、また、特願平9
−220247明細書において装置本体のスペースを拡
張したりすることなく、プローブカードの全プローブ針
を漏れなくクリーニングできるブラシクリーナ(図示せ
ず)を有するクリーニング機構を提案した。 【0006】ところが、その後、ソフトクリーナ及びブ
ラシクリーナについて種々の検討した結果、以下のよう
な問題点のあることが判った。即ち、前者のソフトクリ
ーナ2を使った場合には、図7に示すようにソフトクリ
ーナ2にプローブ針1を突き刺すと、針先の削る屑等の
付着物Dがソフトクリーナ2によって針先の上方へしご
き上げられ、付着物Dの一部がプローブ針1から除去で
きず、プローブ針1に付着したまま残ることが判った。
また、後者のブラシクリーナ3を使った場合には、図8
に示すようにプローブ針1の表面が梨地処理されている
とプローブ針1表面の微小な凹部に付着した付着物Dを
ブラシクリーナ3によってクリーニングしても、ブラシ
クリーナ3のブラシ3Aが柔らかいため、ブラシ3Aの
先端が同図に示すように曲がり、微小凹部内の付着物D
を十分に除去できないことが判った。 【0007】また、図9に示すようにプローブカードと
して垂直支持タイプのプローブ針1Aを用いた場合に
は、検査時に付着物Dがプローブ針1Aを支持する支持
板2Aに付着したり、あるいはプローブ針1Aをクリー
ニングする際にソフトクリーナCで針先からしごき上げ
られた付着物Dが支持板2Aに付着することがある。と
ころが、ソフトクリーナやブラシクリーナでは支持板2
Aの付着物Dを除去することができず、これらの付着物
Dがいずれ支持板2Aから剥離して検査中にウエハW表
面へ落下し、検査不良をもたらす虞がある。 【0008】本発明は、上記課題を解決するためになさ
れたもので、プローブ装置本体の設置面積を拡張するこ
となく、プローブカードの全てのプローブ端子を漏れな
く、しかも付着物を残すことなく完全に除去できるク
ーニング方法を提供することを目的としている。 【0009】 【課題を解決するための手段】本発明の請求項1に記載
のクリーニング方法は、被検査体の電気的特性検査に用
いられるプローブカードをクリーニングするクリーニン
グ方法において、上記プローブカードのプローブ端子が
刺さるゴムを主体に形成されたクリーナ層を有する第1
のクリーナを用いて上記プローブカードに付着する付着
物をプローブ端子から除去した後、ガラス繊維またはカ
ーボン繊維からなるブラシを有する第2のクリーナを用
いて更に残余の付着物を除去することを特徴とするもの
である。 【0010】 【0011】 【0012】 【0013】 【0014】 【発明の実施の形態】以下、図1〜図5に示す実施形態
に基づいて本発明を説明する。まず、本実施形態のクリ
ーニング機構を具備したプローブ装置について説明す
る。このプローブ装置10は、図1に示すように、カセ
ットC内に収納されたウエハWを搬送するローダ室11
と、このローダ室11から搬送されたウエハWを検査す
るプローバ室12と、このプローバ室12及びローダ室
11を制御するコントローラ13と、このコントローラ
13を操作する操作パネルを兼ねる表示装置14とを備
えて構成されている。 【0015】上記ローダ室11は、ウエハ搬送機構15
及びサブチャック16を備え、ウエハ搬送機構15でウ
エハWをプローバ室12へ搬送する間にサブチャック1
6を介してオリエンテーションフラットを基準にしたウ
エハWのプリアライメントを行うようにしてある。 【0016】また、上記プローバ室12は、駆動機構1
8を介してX、Y、Z及びθ方向に移動する温度調節可
能なメインチャック19と、このメインチャック19上
に載置されたウエハWを正確にアライメントするアライ
メント機構20と、アライメント機構20によりアライ
メントされたウエハWの電気的検査を行うためのプロー
ブ針21Aを有するプローブカード21とを備えてい
る。アライメント機構20は、例えば画像認識機構とし
て配設された上下のCCDカメラ20A(図1では上方
のCCDカメラのみを図示し、下方のCCDカメラは図
示してないが、下方のCCDカメラは例えばメインチャ
ックに付帯している)と、上方のCCDカメラ20Aが
下向きに配設されたアライメントブリッジ20Bと、こ
のアライメントブリッジ20BがY方向に移動案内する
一対のガイドレール20Cとを備えている。プローブカ
ード21はプローバ室12の上面に対して開閉可能なヘ
ッドプレートの中央の開口部にインサートリングを介し
て固定されている。そして、テストヘッド(図示せず)
がプローバ室12のプローブカード21上へ移動し、プ
ローブカード21とテスタ(図示せず)間を電気的に中
継し、テスタからの所定の信号をプローブカード21を
介してメインチャック19上のウエハWにおいて授受
し、ウエハWに形成された複数のチップの電気的検査を
テスタによって順次行うようにしている。 【0017】そして、上記メインチャック19にはクリ
ーニング機構30が付設されている。このクリーニング
機構30は、例えば図1、図2に示すように、プローブ
カード21をクリーニングする1箇所のソフトクリーナ
31及び2箇所のブラシクリーナ32、33と、これら
のクリーナ31、32、33を一体的に支持する支持台
34と、この支持台34とシリンダロッド35Aを介し
て連結されたエアシリンダ35と、このエアシリンダ3
5を支持する基台36と備え、図2に示すようにソフト
クリーナ31及びブラシクリーナ32、33がエアシリ
ンダ35を介して実線位置と一点鎖線で示す位置との間
で昇降するようにしてある。そして、一点鎖線より僅か
に低い位置に二点鎖線で示すメインチャック19上に載
置されたウエハWの表面が位置するようになっている。 【0018】また、支持台34の真下には基板37が支
持台34に対して平行に配置され、この基板37は基台
36に立設された基柱38によって水平に保持されてい
る。この基板37上にはマイクロスイッチ39が配設さ
れ、このマイクロスイッチ39によって支持台34の下
降端を検出するようにしてある。そして、図1に示すよ
うに2箇所のブラシクリーナ32、33はソフトクリー
ナ31からX、Y方向に僅かに偏倚して配置され、各ク
リーナ31、32の表面は同一平面になるように形成さ
れている。以下では、X方向へ偏倚したブラシクリーナ
32をXブラシクリーナ32、Y方向へ偏倚したブラシ
クリーナ33をYブラシクリーナ33と称する。 【0019】ところで、上記ソフトクリーナ31は、例
えば図2に示すように、ゴムと充填剤を配合して砂消し
状に形成されたクリーナ層31Aと、このクリーナ層3
1Aが充填され且つ偏平で矩形状に形成された容器部3
1Bとからなっている。容器部31Bの底面中央には凸
部31Cが形成され、この凸部31Cが支持台34に第
1の支持部として形成された凹部と嵌合している。そし
て、ゴムとしては、例えば天然ゴム、合成ゴムのいずれ
も用いることができ、中でも合成ゴムであるシリコーン
ゴムが好ましく用いられる。また、充填剤は探針を研磨
する砥粒となるもので、このような充填剤としては、例
えばけい砂、ガラスや、アルミナ、カーボランダム(商
品名)等のセラミックス等の粉粒体を好ましく用いるこ
とができ、これらの粉粒体はそれぞれ単独であるいは二
種類以上を混合して用いることができる。このソフトク
リーナ31としては例えば本出願人が特願平9−106
615号明細書において提案したものを用いることがで
きる。 【0020】また、上記Xブラシクリーナ32は、例え
ば図2、図3の(a)及び(b)に示すように、多数本
の繊維部材を束ねたブラシ32Aと、各ブラシ32Aが
マトリックス状に配置して植設された矩形状の基部32
Bとからなっている。基部32Bの底面中央には凸部3
2Cが形成され、この凸部32Cが支持台34に第2の
支持部として形成された凹部と嵌合している。ブラシ3
2Aは、図4に示すように、プローブ針21Aよりも細
く且つプローブ針21Aの先端部と当接した時に全長に
渡って屈曲する腰の強い繊維部材の束(以下、単に「繊
維束」と称す。)として形成され、しかもブラシ32A
を構成する繊維部材としてプローブ針21Aより線径が
細いガラス繊維を用いているため、図4に拡大して示す
ようにプローブ針21A先端表面の微小な凹部にガラス
繊維が弾力的に入り込み、ガラス繊維の先端部分が曲が
ることなくその弾力で微小凹部の付着物を弾き飛ばすこ
とができる。腰の弱い繊維部材を用いると、図9で示し
たように繊維部材の先端部分が曲がって付着物Dを除去
することができない。 【0021】例えば、プローブ針21Aの線径が200
〜350μmの場合には、繊維部材としては、例えば6
〜8μmの線径を有するガラス繊維、20〜30μmの
線径を有するカーボン繊維、40〜50μmの線径を有
するサンダーロン(商品名)等を用いることができる。
また、腰の強い繊維を用いても基部32Bから繊維先端
までの長さLが長いと腰が弱くなる。尚、本実施形態で
はブラシ32Aとして例えば線径が8μmのガラス繊維
を使用している。 【0022】次に、上記クリーニング機構30を用いた
本発明のクリーニング方法の一実施形態について図4、
図5をも参照しながら説明する。尚、図4はブラシの繊
維部材でプローブ針先端の梨地処理部から付着物を除去
する状態を示す模式図、図5はブラシクリーナ32、3
3によるクリーニング可能な範囲を示した平面図であ
る。まず、ウエハWの検査のためにプローブ針21Aと
アルミニウムからなる電極パッドと繰り返し接触させて
検査を行うと、プローブ針21Aの針先に酸化アルミニ
ウム等の付着物Dが付着し、その後の検査に支障を来
す。そこで、上記クリーニング機構30を用いて本実施
形態のクリーニング方法により全てのプローブ針21A
をクリーニングし、付着物Dを除去する。 【0023】それには、クリーニング機構30を構成す
る1箇所の砂消し状ソフトクリーナ31によりプローブ
針21Aをクリーニングした後、クリーニング機構30
を構成する2箇所のブラシクリーナ32、33によりプ
ローブ針21Aをクリーニングし、全てのプローブ針2
1Aから付着物D等の付着物を確実に除去する。この点
を更に詳述すると、コントローラ13の制御下でクリー
ニング機構30のエアシリンダ35が駆動すると、図2
の矢印で示すようにピストンロッド35Aが伸び、支持
台34が実線位置から一点鎖線位置まで上昇し、ソフト
クリーナ31及びブラシクリーナ32、33それぞれの
表面がメインチャック19上のウエハ表面(二点鎖線で
示す位置)よりも僅か上方に達してクリーニング可能な
状態になる。これと並行してコントローラ13の制御下
でメインチャック19がX、Y方向に移動し、ソフトク
リーナ31がプローブ針21Aの真下に位置する。次い
で、メインチャック19がZ方向に上昇し、ソフトクリ
ーナ31とプローブ針21Aとが接触した後、更にメイ
ンチャック19が例えば100μm程度オーバドライブ
すると、プローブ針21Aの針先が図2に示すようにク
リーナ層31Aに100μm程度突き刺さり付着物の大
部分が針先に付着したままクリーナ層31A内に入り込
むと共にその一部が図7に示すようにしごき上げられ
る。引き続きメインチャック19が下降して針先がクリ
ーナ層31Aから抜ける時に、針先の付着物は砂消し状
クリーナ層31A内で削ぎ取られ、その一部はプローブ
針21Aに残る。その後、メインチャック19がX、Y
方向に移動し、それぞれの位置で全てのプローブ針21
Aをソフトクリーナ31でクリーニングすると、全ての
プローブ針21Aにはそれぞれの針先よりやや上方に付
着物の一部が残存する。 【0024】次いで、メインチャック19がX、Y方向
に移動し、例えばXブラシクリーナ32プローブ針2
1Aの真下に位置する。次いで、メインチャック19が
Z方向で上昇しXブラシクリーナ32とプローブ針21
Aとが接触すると、まず、ブラシ32Aの先端が図4に
示すようにプローブ針21Aの先端面に当たる。引き続
きメインチャック19が上昇すると各ガラス繊維の先端
がそれぞれプローブ針21A先端面の微小凹部に弾力的
に接触し、各ガラス繊維の弾力によって付着物Dを微小
凹部から弾き飛ばす。更に、メインチャック19がオー
バドライブしてプローブ針21Aに残存する付着物がブ
ラシ32Aの各ガラス繊維間に入り込む間に各ガラス繊
維がプローブ針21Aの付着物を削り取る。従って、こ
の状態でメインチャック19の昇降を繰り返す間にプロ
ーブ針21Aから付着物を確実に除去することができ
る。その後、メインチャック19がX、Y方向に移動
し、それぞれの位置でメインチャック19が昇降するこ
とでプローブ針21AをXブラシクリーナ32によって
クリーニングすることができる。この時のXブラシクリ
ーナ32は図5の二点鎖線で示す(イ)の範囲を移動
し、ウエハWの斜線で示す部分を検査するプローブ針2
1Aについてクリーニングすることができる。 【0025】しかしながら、図5に示すようにウエハW
の斜線部分からはみ出した白地部分を検査するプローブ
針21AについてはXブラシクリーナ32ではクリーニ
ングすることができない。ところが、この白地部分を検
査するプローブ針21AについてYブラシクリーナ33
によってクリーニングすることができる。即ち、Xブラ
シクリーナ32が図5の二点鎖線で示す(イ)の範囲を
移動すれば、Yブラシクリーナ33は図5の一点鎖線で
示す(ロ)の範囲を移動するため、白地部分を検査する
プローブ針21AをYブラシクリーナ33によってクリ
ーニングすることができる。 【0026】以上説明したように本実施形態によれば、
プローブ装置10のクリーニング機構30は、プローブ
針21Aよりも細く且つ上記プローブ針21Aの先端部
と当接した時に全長に渡って屈曲する腰の強いガラス繊
維からなるブラシ32A、33Aを有するブラシクリー
ナ32、33それぞれを支持する支持台34の第2の支
持部と、シリコーンゴム及び無機充填剤とからなる砂消
し状のソフトクリーナ31を支持する支持台34の第1
の支持部とを備え、プローブカード21をクリーニング
する際に、プローブ針21Aを砂消し状のソフトクリー
ナ31でクリーニングした後、プローブ針21Aをブラ
シクリーナ32、33でクリーニングするようにしたた
、プローブ装置10本体の設置面積を拡張することな
く、プローブカードの全てのプローブ針21Aを漏れな
く、しかも付着物を残すことなく完全に除去することが
できる。また、ソフトクリーナ31のクリーニング層3
1Aがシリコーンゴム及び無機充填剤からなる砂消し状
に形成されているため、プローブ針21Aの付着物を確
実に削り取ることができる。また、ブラシクリーナ3
2、33それぞれのブラシ32A、33Aはプローブ針
21Aよりも細く且つプローブ針21Aの先端部と当接
した時に全長に渡って屈曲する腰の強いガラス繊維から
なるため、プローブ針21A表面の微小な凹部内に付着
物があっても各ガラス繊維によって付着物を確実に弾き
飛ばして除去することができる。また、プローブ針21
Aは針先近傍が支持板によって支持されている垂直針
9参照)として構成されていても、支持板の付着物
をもブラシクリーナ32、33を用いてクリーニングす
ることができる。 【0027】尚、本発明は上記実施形態に何等制限され
るものではない。要は、クリーニング機構として第1、
第2の支持部それぞれに支持されたソフトクリーナとブ
ラシクリーナを有し、ソフトクリーナを用いてプローブ
端子をクリーニングした後、ブラシクリーナを用いてプ
ローブ端子をクリーニングする方法であれば、本発明に
包含される。 【0028】 【発明の効果】本発明の請求項1に記載の発明によれ
ば、被検査体の電気的特性検査に用いられるプローブカ
ードをクリーニングするクリーニング方法において、上
記プローブカードのプローブ端子が刺さるゴムを主体に
形成されたクリーナ層を有する第1のクリーナを用いて
上記プローブカードに付着する付着物をプローブ端子か
ら除去した後、ガラス繊維またはカーボン繊維からなる
ブラシを有する第2のクリーナを用いて更に残余の付着
物を除去するようにしたため、プローブ装置本体の設置
面積を拡張することなく、プローブカードの全てのプロ
ーブ端子を漏れなく、しかも付着物を残すことなく完全
に除去できるクリーニング方法を提供することができ
る。
【図面の簡単な説明】 【図1】本発明のクリーニング機構の一実施形態を適用
したプローブ装置の一部を破断して内部構造を示す斜視
図である。 【図2】図1に示すクリーニング機構を用いてプローブ
カードをクリーニングする状態を示す断面図である。 【図3】図1に示すブラシクリーナを示す図で、(a)
はその側面図、(b)はブラシの一部を示した平面図で
ある。 【図4】図3に示すブラシクリーナの繊維部材の作用を
説明する模式図である。 【図5】Xブラシクリーナ及びYブラシクリーナによる
クリーニング範囲を説明するための説明図である。 【図6】プローブカードを用いてウエハの検査を行う時
のプローブ針とウエハとの関係を拡大して示す断面図で
ある。 【図7】図6に示すプローブ針をソフトクリーナでクリ
ーニングする時のプローブ針とソフトクリーナとの関係
を説明するための説明図である。 【図8】図6に示すプローブ針をブラシクリーナでクリ
ーニングする時のプローブ針とブラシとの関係を説明す
るための説明図である。 【図9】垂直支持タイプのプローブ針をソフトクリーナ
でクリーニングする時のプローブ針とソフトクリーナと
の関係を説明するための説明図である。 【符号の説明】 10 プローブ装置 19 メインチャック(載置台) 21 プローブカード 21A プローブ針(プローブ端子) 30 クリーニング機構 31 ソフトクリーナ 31A クリーナ層 32 Xブラシクリーナ 32A ブラシ

Claims (1)

  1. (57)【特許請求の範囲】【請求項1】 被検査体の電気的特性検査に用いられる
    プローブカードをクリーニングするクリーニング方法に
    おいて、上記プローブカードのプローブ端子が刺さるゴ
    ムを主体に形成されたクリーナ層を有する第1のクリー
    ナを用いて上記プローブカードに付着する付着物をプロ
    ーブ端子から除去した後、ガラス繊維またはカーボン繊
    維からなるブラシを有する第2のクリーナを用いて更に
    残余の付着物を除去することを特徴とするクリーニング
    方法。
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Families Citing this family (51)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6118289A (en) * 1997-03-10 2000-09-12 Canon Kabushiki Kaisha Cleaning method and cleaning device and cleaning tool for board electrical-test probes, and board electrical-test device and method
TW377482B (en) * 1997-04-08 1999-12-21 Tokyo Electron Ltd Cleaner with protuberances for inspection, inspection apparatus and inspection method for integrated circuits
US6127831A (en) * 1997-04-21 2000-10-03 Motorola, Inc. Method of testing a semiconductor device by automatically measuring probe tip parameters
JP3099183B2 (ja) * 1997-05-14 2000-10-16 株式会社東京精密 ウェーハプロービングマシン
EP0893695B1 (en) 1997-07-24 2005-10-26 Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha Test probe for semiconductor devices and method of manufacturing of the same
US6150175A (en) * 1998-12-15 2000-11-21 Lsi Logic Corporation Copper contamination control of in-line probe instruments
JP2000180469A (ja) * 1998-12-18 2000-06-30 Fujitsu Ltd 半導体装置用コンタクタ及び半導体装置用コンタクタを用いた試験装置及び半導体装置用コンタクタを用いた試験方法及び半導体装置用コンタクタのクリーニング方法
KR100301060B1 (ko) * 1999-07-22 2001-11-01 윤종용 웨이퍼 프로빙 장비 및 이를 이용한 웨이퍼 검사용 니들 교정방법
US7202683B2 (en) * 1999-07-30 2007-04-10 International Test Solutions Cleaning system, device and method
US6777966B1 (en) * 1999-07-30 2004-08-17 International Test Solutions, Inc. Cleaning system, device and method
US7009415B2 (en) * 1999-10-06 2006-03-07 Tokyo Electron Limited Probing method and probing apparatus
JP2002064132A (ja) * 2000-08-22 2002-02-28 Tokyo Electron Ltd 被処理体の受け渡し方法、被処理体の載置機構及びプローブ装置
US20040020514A1 (en) * 2002-07-18 2004-02-05 Orsillo James E. Probe device cleaner and method
US7053646B2 (en) * 2000-09-15 2006-05-30 Orsillo James F Apparatus and method for use in testing a semiconductor wafer
US7457680B2 (en) * 2000-12-27 2008-11-25 Tokyo Electron Limited Conveyance method for transporting objects
US6908364B2 (en) * 2001-08-02 2005-06-21 Kulicke & Soffa Industries, Inc. Method and apparatus for probe tip cleaning and shaping pad
US7182672B2 (en) * 2001-08-02 2007-02-27 Sv Probe Pte. Ltd. Method of probe tip shaping and cleaning
US6817052B2 (en) * 2001-11-09 2004-11-16 Formfactor, Inc. Apparatuses and methods for cleaning test probes
US6813804B2 (en) * 2002-06-06 2004-11-09 Samsung Electronics Co., Ltd. Apparatus and method for cleaning probe card contacts
WO2004098802A1 (en) * 2003-04-01 2004-11-18 Aju Systems Usa, Inc. Automatic semiconductor contacts cleaner
KR100553689B1 (ko) * 2003-07-18 2006-02-24 삼성전자주식회사 집적회로 칩 검사장치
US20060065290A1 (en) * 2004-09-28 2006-03-30 Jerry Broz Working surface cleaning system and method
US9833818B2 (en) 2004-09-28 2017-12-05 International Test Solutions, Inc. Working surface cleaning system and method
CN101175971B (zh) * 2005-05-13 2010-06-16 斯耐普昂公司 车轮校准器测量模块附连系统
US7345466B2 (en) * 2005-08-02 2008-03-18 Electroglas, Inc. Method and apparatus for cleaning a probe card
JP4745814B2 (ja) * 2005-12-19 2011-08-10 東京エレクトロン株式会社 プローブの研磨部材
JP3947795B2 (ja) * 2005-12-27 2007-07-25 東京エレクトロン株式会社 クリーニング部材及びプローブ装置
JP5027468B2 (ja) * 2006-09-15 2012-09-19 日本ミクロコーティング株式会社 プローブクリーニング用又はプローブ加工用シート、及びプローブ加工方法
JP5250279B2 (ja) * 2008-02-23 2013-07-31 東京エレクトロン株式会社 プローブ装置
KR101178660B1 (ko) 2008-07-18 2012-08-30 니혼덴산리드가부시키가이샤 핀 선단부의 클리닝 기구를 가지는 기판 검사 장치
US8534302B2 (en) * 2008-12-09 2013-09-17 Microchip Technology Incorporated Prober cleaning block assembly
US8269518B1 (en) * 2009-04-06 2012-09-18 Xilinx, Inc. Method and apparatus for preventing probe card oxidation
US8371316B2 (en) * 2009-12-03 2013-02-12 International Test Solutions, Inc. Apparatuses, device, and methods for cleaning tester interface contact elements and support hardware
US8747427B2 (en) 2011-01-18 2014-06-10 Restoration Robotics, Inc. Automated delivery of fluid
JP6042760B2 (ja) * 2013-03-28 2016-12-14 東京エレクトロン株式会社 プローブ装置
US9435855B2 (en) 2013-11-19 2016-09-06 Teradyne, Inc. Interconnect for transmitting signals between a device and a tester
US9594114B2 (en) 2014-06-26 2017-03-14 Teradyne, Inc. Structure for transmitting signals in an application space between a device under test and test electronics
US20180151532A1 (en) * 2015-12-25 2018-05-31 Kaijo Corporation Wire bonding apparatus
JP6593251B2 (ja) * 2016-05-19 2019-10-23 三菱電機株式会社 半導体検査装置
US9977052B2 (en) 2016-10-04 2018-05-22 Teradyne, Inc. Test fixture
US9825000B1 (en) 2017-04-24 2017-11-21 International Test Solutions, Inc. Semiconductor wire bonding machine cleaning device and method
SG11202007923QA (en) 2018-02-23 2020-09-29 International Test Solutions Inc Novel material and hardware to automatically clean flexible electronic web rolls
US10677815B2 (en) 2018-06-08 2020-06-09 Teradyne, Inc. Test system having distributed resources
US10792713B1 (en) 2019-07-02 2020-10-06 International Test Solutions, Inc. Pick and place machine cleaning system and method
US11756811B2 (en) 2019-07-02 2023-09-12 International Test Solutions, Llc Pick and place machine cleaning system and method
US11363746B2 (en) 2019-09-06 2022-06-14 Teradyne, Inc. EMI shielding for a signal trace
US11318550B2 (en) 2019-11-14 2022-05-03 International Test Solutions, Llc System and method for cleaning wire bonding machines using functionalized surface microfeatures
US11211242B2 (en) 2019-11-14 2021-12-28 International Test Solutions, Llc System and method for cleaning contact elements and support hardware using functionalized surface microfeatures
US11035898B1 (en) 2020-05-11 2021-06-15 International Test Solutions, Inc. Device and method for thermal stabilization of probe elements using a heat conducting wafer
US11862901B2 (en) 2020-12-15 2024-01-02 Teradyne, Inc. Interposer
CN117434314A (zh) * 2023-09-11 2024-01-23 法特迪精密科技(苏州)有限公司 一种旋转探针与配套插座的适配装置及方法

Family Cites Families (19)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3641610A (en) * 1970-02-11 1972-02-15 Tucel Industries Artificial tufted sponges
JPS567479Y2 (ja) * 1974-10-14 1981-02-18
US4131966A (en) * 1977-11-07 1979-01-02 Gross Jacob S Domestic cleaning device
US4244074A (en) * 1978-10-17 1981-01-13 Ppg Industries, Inc. Pad applicator
US4314855A (en) * 1979-12-17 1982-02-09 Bell Telephone Laboratories, Incorporated Method of cleaning test probes
US4590422A (en) * 1981-07-30 1986-05-20 Pacific Western Systems, Inc. Automatic wafer prober having a probe scrub routine
US4517702A (en) * 1983-06-29 1985-05-21 Jackson Frank W Endoscopic scrub device
US4845799A (en) * 1988-03-18 1989-07-11 Amundson Arlen G Liquid containing scrubbing brush
US5172053A (en) * 1989-02-24 1992-12-15 Tokyo Electron Limited Prober apparatus
US5249325A (en) * 1990-10-18 1993-10-05 Wilen Manufacturing Co., Inc. Brush and bonnet carpet cleaning assembly
JPH04364746A (ja) * 1991-06-12 1992-12-17 Tokyo Electron Yamanashi Kk プローブ装置
US5349715A (en) * 1992-09-04 1994-09-27 Tucel Industries, Inc. Brush fabric cleaner
US5312197A (en) * 1993-05-24 1994-05-17 Abramson Daniel J Inter-digital surgical scrub brush for reducing skin trauma
WO1996007924A1 (en) * 1994-09-09 1996-03-14 Micromodule Systems Membrane probing of circuits
JP3188935B2 (ja) * 1995-01-19 2001-07-16 東京エレクトロン株式会社 検査装置
US5591507A (en) * 1995-04-04 1997-01-07 Jones; Samuel S. Absorbant cloth with agitating feature
WO1996033419A2 (en) * 1995-04-19 1996-10-24 Philips Electronics N.V. Method of cleaning probe tips of probe cards and apparatus for implementing the method
GB9509055D0 (en) * 1995-05-04 1995-06-28 Newbridge Networks Corp Test probe cleaning apparatus
US5666063A (en) * 1996-10-23 1997-09-09 Motorola, Inc. Method and apparatus for testing an integrated circuit

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Publication number Publication date
US5968282A (en) 1999-10-19
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KR19990045116A (ko) 1999-06-25

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