JPH11135698A - 半導体装置の製造方法および半導体装置製造用切断装置 - Google Patents

半導体装置の製造方法および半導体装置製造用切断装置

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JPH11135698A
JPH11135698A JP29535397A JP29535397A JPH11135698A JP H11135698 A JPH11135698 A JP H11135698A JP 29535397 A JP29535397 A JP 29535397A JP 29535397 A JP29535397 A JP 29535397A JP H11135698 A JPH11135698 A JP H11135698A
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JP
Japan
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die
cutting
semiconductor device
punch
lead frame
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Application number
JP29535397A
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English (en)
Inventor
Toshinori Kawajiri
敏則 川尻
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Hitachi Ltd
Akita Electronics Systems Co Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
Akita Electronics Co Ltd
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Publication date
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  • Encapsulation Of And Coatings For Semiconductor Or Solid State Devices (AREA)
  • Lead Frames For Integrated Circuits (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 ダイの長寿命化を図り、半導体装置のコスト
低減を図る。 【解決手段】 リードフレームの一部を封止体で封止す
る工程と、前記リードフレーム等の所定部分を半導体装
置製造用切断装置の切断金型のダイとパンチの切断動作
によって切断する工程とを有する半導体装置の製造方法
であって、前記ダイを支持する取付部において前記ダイ
を交換自在に構成しておくとともに、前記ダイの下面お
よび前記ダイの前記パンチが通過する側の面の反対面と
前記取付部間に所望の厚さのステーを介在可能に形成し
ておき、前記切断金型の補修時には前記ダイの上面およ
び前記ダイの前記パンチが通過する通過面の一方または
両方をそれぞれ所定厚さ研削し、かつ前記研削厚さに対
応する厚さのステーを前記取付部と前記ダイの下面や反
対側面との間に介在させ、その後切断加工を行う。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は半導体装置製造技術
に関し、特に樹脂封止型半導体装置の製造におけるトラ
ンスファモールド後の不要リードフレーム部分や不要樹
脂部分を切断除去する切断技術に適用して有効な技術に
関する。
【0002】
【従来の技術】IC(集積回路装置)等の半導体装置に
おいて、半導体チップやワイヤ等を樹脂製の封止体(パ
ッケージ)によって封止する構造が知られている。
【0003】樹脂封止型半導体装置は、その製造におい
てリードフレームが使用される。半導体チップの固定お
よびワイヤボンディングが終了したリードフレームは、
トランスファモールド装置によってモールドが行われ
る。この結果、前記半導体チップやワイヤ等は樹脂(レ
ジン)による封止体で被われる。
【0004】また、その後、前記パッケージから食み出
したレジンバリや不要樹脂体部分の除去、リードを連結
するタイバー(ダム)の切断除去,前記半導体チップが
固定されるタブを支持するタブ吊りリードの切断,リー
ド切断,リード成形等が行われ、所望の半導体装置が製
造される。
【0005】日経BP社発行「VLSIパッケージング
技術(下)」1993年5月15日発行、P41〜P50には、バ
リ取り, ダム切断, リード切断, リード成形等の技術に
ついて記載されている。
【0006】また、樹脂封止型半導体装置の製造におい
て、封止体内に気泡(ボイド)を発生させないようにす
るため、モールド金型にオーバランナ,ダミーキャビテ
ィ,フローキャビティ等の樹脂溜まりを設け、空気を多
く含む樹脂流の先端部分を前記オーバランナ,ダミーキ
ャビティ,フローキャビティ等に案内するようになって
いる。これらのキャビティで硬化した樹脂体も不要樹脂
部分として切断除去される。
【0007】なお、一手法であるが、フローキャビティ
で硬化したフロー封止部の切断においては、最初にフロ
ー封止部とタブ吊りリードの切断がなされる。
【0008】前記オーバランナ,ダミーキャビティにつ
いては、たとえば工業調査会発行「電子材料」1987年8
月号、同年8月1日発行、P73〜P79に記載されてい
る。また、同文献には、パッケージ周りの不要部分(樹
脂落とし,タイバーカット,ピンチリードカット,リー
ドカットなど)の処理技術(トリム&フォーム)につい
て記載されている。
【0009】
【発明が解決しようとする課題】樹脂封止型半導体装置
の製造において、トランスファモールド後、不要樹脂部
分や不要リードフレーム部分は、前記のような半導体装
置製造用切断装置を使用して切断除去されている。
【0010】前記タイバー切断(タイバーカット)で
は、金属片となるタイバーやタイバー間に位置する樹脂
を切断金型のダイとパンチで切断するが、前記樹脂には
フィラーとしてシリコンが含まれることもあり、ダイや
パンチの磨耗が早い。
【0011】ダイやパンチの磨耗が進むと切断不良を起
こすため、ダイやパンチの磨耗が早い場合は交換作業が
頻繁になり、稼働率が低くなるとともに切断コストが高
くなる。
【0012】図14はリードフレーム1のタイバー(ダ
ム)2を切断する一部のダイ3およびパンチ4を示す模
式的平面図である。ダイ3の受け刃5は樹脂からなる封
止体6から突出するリード7を支持する。また、パンチ
4は隣接する受け刃5間に降下して、前記受け刃5間に
延在しかつ隣接するリード7を連結するタイバー2を切
断する。
【0013】切断金型のダイ3は、図15にも示すよう
に、基本的には前記パンチ4と係合する受け刃5と、こ
の受け刃5を支持する板状のダイブロック10によって
構成されている。すなわち、受け刃5はダイブロック1
0の一面に沿って所定間隔櫛の歯状に突出する部分で形
成されている。そして、タイバー2は、前記受け刃5の
上側縁13と、前記上側縁13に対面するパンチ4の一
縁による剪断動作によって切断される。
【0014】また、切断片が隣接する受け刃5間から容
易に抜け出ることができるように、受け刃5の下方(厚
さ方向)には、隣接する受け刃5の間隔よりも広い逃げ
空間15が設けられている。
【0015】タイバー切断では、封止体の両側のタイバ
ーをそれぞれ切断することから、2個のダイブロック1
0が下金型ベースの取付部に固定される。
【0016】また、前記封止体6の周面,リード7およ
びタイバー2によって囲まれる領域には樹脂11が詰ま
っている。この樹脂11はレジンバリ11と呼称される
が、前記封止体6をトランスファモールドによって形成
する際、モールド上下金型の隙間から漏れ出すことによ
って形成されてしまう。図14ではレジンバリ11を点
々を施して示してある。
【0017】したがって、タイバー2の切断時、パンチ
4は前記レジンバリ11をも切断するようになり、その
切断時ダイ3の表面も樹脂11で擦られる。樹脂11に
はシリコンからなる硬いフィラーが含まれているため、
ダイ3やパンチ4の切断に係わる部分は磨耗する。
【0018】図15には、一部の受け刃5に磨耗によっ
て生じた損傷部分14が示されている。前記損傷部分1
4は、受け刃5が片持梁構造であることから先端側程大
きく、かつ受け刃5の上縁側で大きく偏っている。
【0019】そこで、本発明者は、受け刃5が損傷して
もダイ3を直ぐに交換せず、受け刃5を補修(オーバー
ホール)することによってダイの寿命を長くすることを
考え本発明をなした。
【0020】また、半導体装置製造用切断装置の切断金
型は、リードフレームの移動方向に沿って、たとえば、
フローキャビティ打抜き部,レジンバリ打抜き部,タイ
バー打抜き部,リード先端打抜き部等の各切断部を配置
する複合型が多用されている。
【0021】したがって、これら各ダイの長寿命化を図
ることも重要であり、これが切断コストの低減に繋が
る。
【0022】本発明の目的は、ダイの長寿命化が図れる
半導体装置製造技術を提供することにある。
【0023】本発明の他の目的は、ダイの補修後も高精
度の切断が行える半導体装置製造用切断装置を提供する
ことにある。
【0024】本発明の他の目的は、半導体装置の製造コ
ストの低減を図ることができる半導体装置の製造方法お
よび半導体装置製造用切断装置を提供することにある。
本発明の前記ならびにそのほかの目的と新規な特徴は、
本明細書の記述および添付図面からあきらかになるであ
ろう。
【0025】
【課題を解決するための手段】本願において開示される
発明のうち代表的なものの概要を簡単に説明すれば、下
記のとおりである。 (1)リードフレームの一部を封止体で封止する工程
と、前記リードフレーム等の所定部分を半導体装置製造
用切断装置の切断金型のダイとパンチの切断動作によっ
て切断する工程とを有する半導体装置の製造方法であっ
て、前記ダイを支持する取付部において前記ダイを交換
自在に構成しておくとともに、前記ダイの下面および前
記ダイの前記パンチが通過する側の面の反対面と前記取
付部間に所望の厚さのステーを介在可能に形成してお
き、前記切断金型の補修時には前記ダイの上面および前
記ダイの前記パンチが通過する通過面の一方または両方
をそれぞれ所定厚さ研削し、かつ前記研削厚さに対応す
る厚さのステーを前記取付部と前記ダイの下面や反対側
面との間に介在させ、その後切断加工を行う。前記切断
金型には前記リードフレームの移送方向に沿って前記ダ
イとパンチを複数箇所配置しておき、切断装置の一度の
切断動作でそれぞれの箇所で相互に異なるリードフレー
ム部分等の切断を行う。
【0026】このような半導体装置の製造方法に用いる
半導体装置製造用切断装置は以下の構成になっている。
【0027】一部に封止体を有するリードフレームの所
定リードフレーム部分等を切断金型のダイとパンチの切
断動作によって切断する半導体装置製造用切断装置であ
って、前記ダイを支持する取付部において前記ダイを交
換自在に構成され、前記ダイの下面および前記ダイの前
記パンチが通過する側の面の反対面と前記取付部間には
所望の厚さのステーが介在可能になっている。前記ダイ
の切断に関与する受け刃の突出長さは受け刃の幅の2倍
以上になっている。前記リードフレームの移送方向に沿
って前記ダイとパンチが複数箇所配置され、それぞれの
箇所では異なるリードフレーム部分の切断が行われるよ
うに構成されている。
【0028】前記(1)の手段によれば、(a)ダイの
磨耗損傷に応じて、ダイの上面およびパンチが通過する
通過面の一方または両方を所定厚さ研削することによ
り、再びダイは使用可能な状態になる。また、使用に際
しては、ダイを取り付ける取付部と、ダイの下面やパン
チが通過する側の面の反対面との間に、前記研削した厚
さに対応する厚さのステーを介在させるため、切断位置
も正確に補正され、再びリードフレーム等の切断が行え
るようになる。このように、ダイは繰り返し補修が行え
るため、ダイの使用回数(寿命)が長くなり、切断コス
トの低減が図れ、製造する半導体装置のコストの低減が
達成できる。
【0029】(b)磨耗損傷部分はダイの上面と通過面
に亘って発生し、損傷深さは上面や通過面よりも上面と
通過面が交差する角部方向からの方向が最も深い。した
がって、ダイの上面とパンチが通過する側の通過面の一
方を研削補修する場合に比較して両方を研削補修する場
合の方が、それぞれの研削厚さを薄くでき、ダイの補修
回数の増大が図れ、ダイの長寿命化が達成できる。
【0030】(c)磨耗損傷部分はダイの上面と通過面
に亘って発生し、損傷深さは上面や通過面よりも上面と
通過面が交差する角部方向からの方向が最も深い。した
がって、研削補修においては、ダイの上面と通過面の両
方を研削する方法を採用すれば、研削厚さを薄くした状
態でも完全に損傷部分を除去できる場合が多くなる。損
傷部分を完全に除去したり、あるいは損傷部分が残留し
ても損傷部分の深さが微小である場合は、切断に支障を
来さなくなり、高精度の切断とより多い切断回数が可能
になる。したがって、半導体装置の品質の向上とダイの
長寿命化が達成できる。
【0031】(d)前記切断金型ではダイとパンチが複
数箇所配置されていることから、切断装置の一度の切断
動作で相互に異なるリードフレーム部分等の切断を行う
ことができ作業性が高くなる。
【0032】
【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明の実
施の形態を詳細に説明する。なお、発明の実施の形態を
説明するための全図において、同一機能を有するものは
同一符号を付け、その繰り返しの説明は省略する。
【0033】(実施形態1)本実施形態1では樹脂封止
型半導体装置の製造におけるモールド後のリードフレー
ム部分の切断に本発明を適用した例について説明する。
【0034】すなわち、本実施形態1では、複合切断金
型を使用した切断装置によって、フロー封止部打抜き,
レジン(レジンバリ)打抜き,タイバー打抜き,リード
先端打抜き(リード切断)を同時に行う例について説明
する。
【0035】なお、本実施形態1では、タイバー打抜き
におけるダイの研削補修について説明する。
【0036】図2は半導体装置製造用切断装置の切断金
型20を示す斜視図である。切断金型20は下金型ベー
ス21と上金型ベース22を有している。前記下金型ベ
ース21の四隅上面にはそれぞれ支柱23が設けられ、
前記上金型ベース22の四隅下面には前記支柱23に対
して摺動自在に嵌合される嵌合部24が固定されてい
る。
【0037】前記下金型ベース21の上面中央には取付
部25が設けられ、図示しないダイが取り付けられてい
る。また、前記上金型ベース22の下面中央には取付部
26が設けられ、図示しないパンチが取り付けられてい
る。
【0038】前記上金型ベース22の上面中央には昇降
用ラム27の下端が固定されている。
【0039】また、前記下金型ベース21と上金型ベー
ス22との間にはリードフレーム1を案内するフィード
プレート30が水平に配置されている。リードフレーム
1は前記フィードプレート30上に載置され、図示しな
いフィード機構によって間欠的に移送される。移送は、
たとえば右側から左側に向けて行われる。
【0040】したがって、前記昇降用ラム27の降下に
よってダイとパンチによって切断が行われる。
【0041】リードフレーム1は、単位リードフレーム
パターンが直列に複数並べられた短冊体となり、その両
側には移送時や位置決め時に使用される円形や楕円形あ
るいは長孔等からなるガイド孔35が設けられている。
【0042】単位リードフレームパターン部分は、図5
に示すように枠体36からなり、中央には封止体6が形
成されている。この封止体6の両側からは複数のリード
7が平行に延在している。リード7の先端はそれぞれ枠
体36に連なっている。また、封止体6の両側には封止
体6に沿うようにタイバー2が設けられている。このタ
イバー2は隣接するリード7を連結している。最も外れ
のタイバー2はリード7と枠体36を連結している。
【0043】また、前記封止体6の両端(図5で上下
端)からは、それぞれ2本のタブ吊りリード37が突出
している。このタブ吊りリード37は枠体36に連結さ
れている。
【0044】封止体6の一端側にはフロー封止部38が
形成されている。このフロー封止部38は樹脂からなる
連結片39によって封止体6に連結されている。
【0045】なお、図5において、樹脂部分には点々を
施してある。封止体6の外側のリード7とタイバー2と
の間には樹脂(レジンバリ)11が形成されている。
【0046】前記切断金型20には、リードフレーム1
の移送方向に沿って複数のダイ3とパンチ4が組み込ま
れ、たとえば、打抜き部が4箇所設けられている。すな
わち、打抜き部は、図3および図4に示すように、右か
ら左に向かってフロー封止部打抜き部40,レジン(レ
ジンバリ)打抜き部41,タイバー打抜き部42,リー
ド先端打抜き部(リード切断部)43になっている。
【0047】そして、各打抜き部にはそれぞれ所定の形
状のダイ3とパンチ4が組み込まれている。
【0048】すなわち、フロー封止部打抜き部40で
は、ダイ3としてフロー封止部打抜き部分3aとタブ吊
りリード打抜き部分3bが設けられ、パンチ4としてフ
ロー封止部打抜きパンチ4aとタブ吊りリード打抜きパ
ンチ4bが設けられている。
【0049】レジンバリ打抜き部41では、ダイ3とし
てレジンバリ打抜き部分3cが対面するように一対設け
られ、パンチ4としてレジンバリ打抜きパンチ4c設け
られている。また、前記一対のレジンバリ打抜き部分3
cの間には封止体6を受け、かつ前記一対のレジンバリ
打抜き部分3cの間隔を所定の寸法に維持するための受
け3dが設けられている。
【0050】タイバー打抜き部42では、ダイ3として
タイバー打抜き部分3eが対面するように一対設けら
れ、図1にも示すように、パンチ4としてタイバー打抜
きパンチ4eが設けられている。図7はタイバー打抜き
部42の一方のタイバー打抜き部分3e(ダイ3)およ
びタイバー打抜きパンチ4e(パンチ4)とリードフレ
ーム1を示す斜視図である。図7ではリードフレーム1
を模式的に示してある。
【0051】また、前記一対のタイバー打抜き部分3e
の間には封止体6を受け、かつ前記一対のレジンバリ打
抜き部分3cの間隔を所定の寸法に維持するための受け
3fが設けられている。
【0052】タイバー打抜きパンチ4eの下部には、前
記タイバー打抜き部分3eの受け刃5間に降下する突き
刃9が櫛の歯状に設けられている。
【0053】図6はタイバー打抜き部分のダイ3(タイ
バー打抜き部分3e)、パンチ4(タイバー打抜きパン
チ4e)、リードフレーム1および封止体6等を示す一
部の平面図である。
【0054】また、ダイ3のダイブロック10から櫛歯
状に突出する受け刃5の長さ(a)を、研削補修の回数
を多くするために従来よりも長くしてある。すなわち、
従来の受け刃5の長さ(a)は、受け刃5と同一寸法の
幅か僅かに長い寸法になっている。これに対して本実施
形態1の場合は長さは受け刃5の幅の2倍以上の長さに
なっている。
【0055】タイバー2の切断においては、図8に示す
ように、タイバー打抜き部分3e上に載るリードフレー
ム1に対してタイバー打抜きパンチ4eを下降させ、図
9に示すように、リード7を連結するタイバー2を切断
する。切断片52は受け刃5の下側に形成された逃げ空
間15を通って下方に排出される。
【0056】リード切断部43では、ダイ3としてリー
ド切断部分3gが対面するように一対設けられ、パンチ
4としてリード切断パンチ4gが設けられている。ま
た、前記一対のリード切断部分3gの間には封止体6を
受け、かつ前記一対のリード切断部分3gの間隔を所定
の寸法に維持するための受け3hが設けられている。
【0057】また、前記フロー封止部打抜き部40,レ
ジン(レジンバリ)打抜き部41,タイバー打抜き部4
2では、切断加工によって切断片が発生することから、
前記下金型ベース21にはそれぞれ排出穴44が設けら
れている。
【0058】受け等も含めダイ全体は、下金型ベース2
1の取付部25の矩形体状に窪んだ嵌合部に順次並べて
配列され、きっちり嵌まり込むようになっている。すな
わち、全てのダイを前記嵌合部21aに組み込むことに
よって各ダイ部分は下金型ベース21に固定されること
になる。なお、各ダイを固定する構造は嵌合部構造でな
くても他の構造でもよい。
【0059】半導体装置の製造においては、リードフレ
ーム1の所定部分に半導体チップを固定した後、前記半
導体チップの電極とリード7の先端を導電性のワイヤで
接続し、その後トランスファモールドによって前記半導
体チップ,ワイヤ,リード内端部分を樹脂からなる封止
体6で被うとともに、フローキャビティ部分等をも被い
フロー封止部等をも形成する。
【0060】その後、たとえば、本実施形態1の半導体
装置製造用切断装置を用いて、フロー封止部の切断とタ
ブ吊りリード37の打抜き、レジンバリ11の打抜き、
タイバー2の打抜き,リード切断を行う。
【0061】また、リード切断後の単体となった図示し
ない半導体装置は、リード成形がなされ、リード形状が
ガルウィング型等からなる半導体装置が製造される。
【0062】そして、前記半導体装置の製造方法におい
て、ダイ3やパンチ4の磨耗が規定量に至ると、あるい
は所定打抜き回数に至ると、ダイ3やパンチ4の研削補
修を行う。
【0063】図10は研削補修が必要になったダイ3
(タイバー打抜き部分3e)の一部の斜視図である。損
傷部分14は受け刃5の上縁を欠くように、図12に示
すような三角断面形状になる。
【0064】そこで、この三角断面形状を効果的に除去
するには、図12に示すように、ダイ3の上面17を二
点鎖線で示すように所定厚さに研削したり、あるいは図
12に示すように、パンチが通過する通過面16を一点
鎖線で示すように所定厚さに研削するよりも、上面17
と通過面16をそれぞれ研削した方が、上面17および
通過面16の研削厚さを薄くできる。すなわち、研削補
修をダイ3の上面17および通過面16の両面とするこ
とによって、一方の場合に比較して研削厚さをそれぞれ
の半分にすることができる。これにより、研削補修回数
を多くすることができ、ダイ3(タイバー打抜き部分3
e)の寿命を長くすることができる。
【0065】なお、上面17の研削厚さをsとし、通過
面16の研削厚さをtとする(図12参照)。
【0066】図11は、研削される部分を模式的に示す
ダイ3(タイバー打抜き部分3e)の模式図である。
【0067】図において60はダイ3の上面側研削部分
であり、61は通過面側研削部分である。ダイ3の上面
17および通過面16をそれぞれs,tの厚さ研削する
ことによってダイ3の背の高さは低くなり、背面側の厚
さは薄くなることから、補正のためダイ3の下面に厚さ
sのステー46を介在させ、ダイ3の背面側(すなわち
パンチが通過する側の面の反対面)に厚さtのステー4
7を介在させる。
【0068】換言するならば、図1および図4に示すよ
うに、嵌合部21aの内底面(内壁面)とダイ3の下面
との間にステー46を介在させ、嵌合部21aの内側面
(内壁面)とダイ3のパンチが通過する側の面の反対面
との間にステー47を介在させる。
【0069】上記のように、タイバーの打抜き部分の研
削補修について説明したが、レジンバリの打抜き箇所や
リード切断箇所にも、研削補修とステーの介在によって
前記実施形態同様に適用できる。また、ダイをさらに分
割した構成にすること等によって、フロー封止部の打抜
き部分にも同様に適用できる。
【0070】本実施形態1の半導体装置製造技術によれ
ば以下の効果を奏する。 (1)ダイ3の磨耗損傷に応じて、ダイ3の上面17お
よびパンチ4が通過する通過面16の一方または両方を
所定厚さ研削することにより、再びダイ3は使用可能な
状態になる。また、使用に際しては、ダイ3を取り付け
る取付部25と、ダイ3の下面やパンチが通過する側の
面の反対面との間に、前記研削した厚さに対応する厚さ
のステー46を介在させるため、切断位置も正確に補正
され、再びリードフレーム1等の切断が行えるようにな
る。このように、ダイ3は繰り返し補修が行えるため、
ダイ3の使用回数(寿命)が長くなり、切断コストの低
減が図れ、製造する半導体装置のコストの低減が達成で
きる。
【0071】(2)磨耗損傷部分はダイ3の上面17と
通過面16に亘って発生し、損傷深さは上面17や通過
面16よりも上面17と通過面16が交差する角部方向
からの方向が最も深い。したがって、ダイ3の上面17
とパンチ4が通過する側の通過面16の一方を研削補修
する場合に比較して両方を研削補修する場合の方が、そ
れぞれの研削厚さを薄くでき、ダイの補修回数の増大が
図れ、ダイの長寿命化が達成できる。
【0072】(3)磨耗損傷部分14はダイ3の上面1
7と通過面16に亘って発生し、損傷深さは上面17や
通過面16よりも上面17と通過面16が交差する角部
方向からの方向が最も深い。したがって、研削補修にお
いては、ダイ3の上面17と通過面16の両方を研削す
る方法を採用すれば、研削厚さを薄くした状態でも完全
に損傷部分を除去できる場合が多くなる。損傷部分14
を完全に除去したり、あるいは損傷部分が残留しても損
傷部分の深さが微小である場合は、切断に支障を来さな
くなり、高精度の切断とより多い切断回数が可能にな
る。したがって、半導体装置の品質の向上とダイの長寿
命化が達成できる。
【0073】(4)前記切断金型20ではダイ3とパン
チ4が複数箇所配置されていることから、切断装置の一
度の切断動作で相互に異なるリードフレーム部分等の切
断を行うことができ作業性が高くなる。
【0074】(実施形態2)図13は本発明の半導体装
置製造用切断装置におけるダイ3の研削補修方法に関す
る模式図である。
【0075】本実施形態2では、ダイ3の上面17のみ
を所定厚さ研削補修する。ダイ3の上面17または通過
面16のみを研削補修してもその後タイバー2の切断は
可能である。
【0076】また、図13では、研削厚さをsとし、受
け刃5の損傷部分14の長さ(2s)の半分の長さとし
ている。このように、損傷部分14の傷の半分を残留さ
せても、残留する損傷部分14部分が小さいことから、
タイバー2の打抜きは続行できる。この方法では、小さ
いとは言え最初から損傷部分14部分が存在することか
ら、打抜きの精度は必ずしも高いとは言えないが、損傷
部分14が大きくならない状態ではある程度使用しても
製品に差し支えない。しかし、打抜きの使用回数は短く
なる。以上本発明者によってなされた発明を実施形態に
基づき具体的に説明したが、本発明は上記実施形態に限
定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種
々変更可能であることはいうまでもない。
【0077】
【発明の効果】本願において開示される発明のうち代表
的なものによって得られる効果を簡単に説明すれば、下
記のとおりである。 (1)ダイの磨耗損傷に応じて、ダイの上面およびパン
チが通過する通過面の一方または両方を所定厚さ研削す
ることにより、再びダイは使用可能な状態になる。ま
た、使用に際しては、ダイを取り付ける取付部と、ダイ
の下面やパンチが通過する側の面の反対面との間に、前
記研削した厚さに対応する厚さのステーを介在させるた
め、切断位置も正確に補正され、再びリードフレーム等
の切断が行えるようになる。 (2)このように、ダイは繰り返し補修が行えるため、
ダイの使用回数が長くなり、ダイの寿命が長くなるた
め、切断コストの低減が図れ、製造する半導体装置のコ
ストの低減が達成できる。 (3)ダイの上面と通過面の両方を研削補修する方が研
削厚さを薄くでき、ダイの研削補修回数の増大化から、
ダイの長寿命化が達成できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施形態(実施形態1)である半導
体装置製造用切断装置の一部を示す断面図である。
【図2】本実施形態1の切断装置の一部を示す斜視図で
ある。
【図3】本実施形態1の切断装置の下金型を示す模式的
平面図である。
【図4】本実施形態1の切断装置の下金型を示す模式的
断面図である。
【図5】本実施形態1の切断装置において切断を行うリ
ードフレームを示す模式的平面図である。
【図6】本実施形態1の切断装置において切断を行うリ
ードフレームの一部を示す平面図である。
【図7】本実施形態1の切断装置におけるタイバー切断
金型の一部とリードフレームを示す平面図である。
【図8】本実施形態1の切断装置においてタイバーを切
断する前の状態を示すリードフレームの断面図である。
【図9】本実施形態1の切断装置においてタイバーを切
断した状態を示すリードフレームの断面図である。
【図10】本実施形態1の切断装置において補修前のダ
イブロックを示す模式的斜視図である。
【図11】本実施形態1の切断装置において損傷部分の
補修が行われたダイブロックと研削部分を概念的に示し
た模式的斜視図である。
【図12】本実施形態1のダイ3における研削補修形態
を示す模式図である。
【図13】本発明の他の実施形態(実施形態2)である
補修が行われたダイブロックと研削部分を概念的に示し
た模式的斜視図である。
【図14】従来の切断装置によるリードフレームのタイ
バー切断状態を示す一部の平面図である。
【図15】従来の切断装置のタイバー切断金型における
ダイブロックの損傷状態を示す一部の斜視図である。
【符号の説明】
1…リードフレーム、2…タイバー、3…ダイ、3a…
フロー封止部打抜き部分、3b…タブ吊りリード打抜き
部分、3c…レジンバリ打抜き部分、3d…受け、3e
…タイバー打抜き部分、3f…受け、3g…リード切断
部分、3h…受け、4…パンチ、4a…フロー封止部打
抜きパンチ、4b…タブ吊りリード打抜きパンチ、4c
…レジンバリ打抜きパンチ、4e…タイバー打抜きパン
チ、4g…リード切断パンチ、5…受け刃、6…封止
体、7…リード、9…突き刃、10…ダイブロック、1
1…樹脂(レジンバリ)、13…上側縁、14…損傷部
分、15…逃げ空間、16…通過面、17…上面、20
…切断金型、21…下金型ベース、22…上金型ベー
ス、23…支柱、24…嵌合部、25…取付部、27…
昇降用ラム、30…フィードプレート、35…ガイド
孔、36…枠体、37…タブ吊りリード、38…フロー
封止部、39…連結片、40…フロー封止部打抜き部、
41…レジン(レジンバリ)打抜き部、42…タイバー
打抜き部、43…リード切断部、44…排出穴、45…
内底面、46,47…ステー、50…反対面、51…内
側面、52…切断片、60…上面側研削部分、61…通
過面側研削部分。

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 リードフレームの一部を封止体で封止す
    る工程と、前記リードフレーム等の所定部分を半導体装
    置製造用切断装置の切断金型のダイとパンチの切断動作
    によって切断する工程とを有する半導体装置の製造方法
    であって、前記ダイを支持する取付部において前記ダイ
    を交換自在に構成しておくとともに、前記ダイの下面お
    よび前記ダイの前記パンチが通過する側の面の反対面と
    前記取付部間に所望の厚さのステーを介在可能に形成し
    ておき、前記切断金型の補修時には前記ダイの上面およ
    び前記ダイの前記パンチが通過する通過面の一方または
    両方をそれぞれ所定厚さ研削し、かつ前記研削厚さに対
    応する厚さのステーを前記取付部と前記ダイの下面や反
    対側面との間に介在させ、その後切断加工を行うことを
    特徴とする半導体装置の製造方法。
  2. 【請求項2】 前記切断金型には前記リードフレームの
    移送方向に沿って前記ダイとパンチを複数箇所配置して
    おき、切断装置の一度の切断動作でそれぞれの箇所で相
    互に異なるリードフレーム部分等の切断を行うことを特
    徴とする請求項1に記載の半導体装置の製造方法。
  3. 【請求項3】 前記リードフレームに絶縁性の樹脂で封
    止を行って封止体を形成することを特徴とする請求項1
    または請求項2に記載の半導体装置の製造方法。
  4. 【請求項4】 一部に封止体を有するリードフレームの
    所定リードフレーム部分等を切断金型のダイとパンチの
    切断動作によって切断する半導体装置製造用切断装置で
    あって、前記ダイを支持する取付部において前記ダイを
    交換自在に構成され、前記ダイの下面および前記ダイの
    前記パンチが通過する側の面の反対面と前記取付部間に
    は所望の厚さのステーが介在可能になっていることを特
    徴とする半導体装置製造用切断装置。
  5. 【請求項5】 前記ダイの切断に関与する受け刃の突出
    長さは受け刃の幅の2倍以上になっていることを特徴と
    する請求項4に記載の半導体装置製造用切断装置。
  6. 【請求項6】 前記切断金型には前記リードフレームの
    移送方向に沿って前記ダイとパンチが複数箇所配置さ
    れ、それぞれの箇所では異なるリードフレーム部分の切
    断が行われるように構成されていることを特徴とする請
    求項4または請求項5に記載の半導体装置製造用切断装
    置。
JP29535397A 1997-10-28 1997-10-28 半導体装置の製造方法および半導体装置製造用切断装置 Pending JPH11135698A (ja)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2013043329A (ja) * 2011-08-23 2013-03-04 Towa Corp 反射体付基板の製造方法及び製造装置

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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