JPH11133594A - 画像記録材料 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 赤外線レーザで記録することにより、デジタ
ルデータから直接製版可能であり、保存安定性に優れた
画像記録材料を提供する。 【解決手段】 少なくとも下記一般式で表されるジアゾ
ニウム塩と、赤外線吸収剤と、酸により架橋する架橋剤
と、バインダーとを含有することを特徴とする。下記式
中、Ｒ₁ およびＲ₂ はそれぞれ独立に炭素数２０以下の
置換もしくは未置換の炭化水素基を表し、Ｒ₄ およびＲ
₅ はそれぞれ独立に水素、または炭素数２０以下で置換
もしくは未置換の炭化水素基を表し、Ｒ₆ は水素原子、
炭素数２０以下の置換もしくは未置換のアルキルオキシ
基、アリールオキシ基、またはアラルキルオキシ基を示
す。Ｘは、カウンターアニオンを表す。 【化１】

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は平版印刷用版材とし
て使用できる画像記録材料に関するものであり、特にコ
ンピュータ等のデジタル信号から赤外線レーザを用い直
接製版できる、いわゆるダイレクト製版可能な平版印刷
用版材用として使用できるネガ型画像記録材料に関す
る。

【０００２】

【従来の技術】従来、コンピュータのデジタルデータか
ら直接製版するシステムとしては、電子写真法による
もの、青色または緑色を発光するレーザを用い露光す
る光重合系によるもの、銀塩を感光性樹脂上に積層し
たもの、銀塩拡散転写法によるもの等が提案されてい
る。しかしながらの電子写真法を用いるものは、帯
電、露光、現像等画像形成のプロセスが煩雑であり、装
置が複雑で大がかりなものになる。の光重合系による
ものでは、青色や緑色の光に対して高感度な版材である
ため、明室での取扱いが難しくなる。、の方法では
銀塩を使用するため現像等の処理が煩雑になる、さらに
当然ながら処理廃液中に銀が含まれる欠点がある。

【０００３】一方、近年におけるレーザの発展は目ざま
しく、特に波長７６０ｎｍから１２００ｎｍの赤外線を
放射する固体レーザ及び半導体レーザは、高出力かつ小
型のものが容易に入手できる様になっている。コンピュ
ータ等のデジタルデータから直接製版する際の記録光源
として、これらのレーザは非常に有用である。しかし、
実用上有用な多くの感光性記録材料は、感光波長が７６
０ｎｍ以下の可視光域であるため、これらの赤外線レー
ザでは画像記録できない。このため、赤外線レーザで記
録可能な材料が望まれている。

【０００４】このような赤外線レーザにて記録可能な画
像記録材料としては、特開平７−２０６２９号に記載さ
れている、オニウム塩、レゾール樹脂、ノボラック樹
脂、及び赤外線吸収剤よりなる記録材料がある。特にオ
ニウム塩としてジアゾニウム塩を用いた画像記録材料
は、管理、能率上の観点より感度が良好である、比較的
安価である等の利点を有する。しかし、ジアゾニウム塩
は反応性が高いため、画像記録材料として用いた場合に
保存安定性が十分でないという欠点があった。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】従って本発明の目的
は、赤外線を放射する固体レーザまたは半導体レーザを
用いて記録することにより、コンピューター等のデジタ
ルデータから直接製版可能であり、さらに保存安定性に
優れた平版印刷用版材の画像記録材料を提供することに
ある。

【０００６】

【課題を解決するための手段】上記目的は、以下の本発
明により達成される。即ち、本発明は、少なくとも下記
一般式（１）で表されるジアゾニウム塩と、赤外線吸収
剤と、酸により架橋する架橋剤と、バインダーとを含有
することを特徴とする画像記録材料である。

【０００７】

【化２】

【０００８】式中、Ｒ₁ およびＲ₂ はそれぞれ独立に炭
素数２０以下の置換もしくは未置換の炭化水素基を表
し、Ｒ₄ およびＲ₅ はそれぞれ独立に水素、または炭素
数２０以下で置換もしくは未置換の炭化水素基を表し、
Ｒ₆ は水素原子、炭素数２０以下の置換もしくは未置換
のアルキルオキシ基、アリールオキシ基、またはアラル
キルオキシ基を示す。Ｘは、Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ、Ｃｌ
Ｏ₄ 、ＢＦ₄ 、ＰＦ₆ 、ＳｂＦ₆ 、ＡｓＦ₆ 、アルキル
スルホン酸イオン、またはアリールスルホン酸イオンか
ら選ばれるカウンターアニオンを表す。

【０００９】本発明の画像記録材料を用いた平版印刷用
版材においては、赤外線を放射する固体レーザまたは半
導体レーザにより付与されたエネルギーが、赤外線吸収
剤によって熱エネルギーに変換され、その熱によってジ
アゾニウム塩が分解することによって画像が形成される
ものである。即ち、ジアゾニウム塩の分解により生ずる
酸が、酸により架橋する架橋剤とバインダーとの架橋反
応を促進することにより画像記録即ち記録材料の製版が
行われるものである。本発明においては、前記一般式
（１）に示すジアゾニウム塩を用いることにより、特
に、保存安定性に優れた画像記録材料を提供することが
できるものである。

【００１０】

【発明の実施の形態】以下本発明の各構成成分などにつ
いて順次、詳細に説明するが、まず、本発明の特徴的な
成分であるジアゾニウム塩について述べる。

【００１１】［ジアゾニウム塩］本発明画像記録材料で
用いるジアゾニウム塩は、下記一般式（１）で示される
ものである。

【００１２】

【化３】

【００１３】式中、Ｒ₁ およびＲ₂ はそれぞれ独立に炭
素数２０以下の置換もしくは未置換の炭化水素基を表
し、Ｒ₄ およびＲ₅ はそれぞれ独立に水素、または炭素
数２０以下の置換もしくは未置換の炭化水素基を表し、
Ｒ₆ は水素原子、炭素数２０以下の置換もしくは未置換
のアルキルオキシ基、アリールオキシ基、またはアラル
キルオキシ基を示す。Ｘは、Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ、Ｃｌ
Ｏ₄ 、ＢＦ₄ 、ＰＦ₆ 、ＳｂＦ₆ 、ＡｓＦ₆ 、アルキル
スルホン酸イオン、またはアリールスルホン酸イオンか
ら選ばれるカウンターアニオンを表す。

【００１４】上記一般式（１）について、さらに詳細に
説明する。上記一般式（１）において、式中、好ましく
は、Ｒ₁ およびＲ₂ は、それぞれ独立に炭素数１〜１２
の直鎖、分枝、または脂環式アルキル基、または炭素数
６〜１０の芳香環、または炭素数７〜１２のアラルキル
基であり、Ｒ₄ およびＲ₅は水素原子または炭素数１〜
１０の直鎖、分枝、または脂環式のアルキル基であり、
Ｒ₆ は水素原子、炭素数１〜１２の直鎖、分枝、または
脂環式アルキルオキシ基、炭素数６〜１０のアリールオ
キシ基、または炭素数７〜１２のアラルキルオキシ基で
ある。上記一般式（１）で表されるジアゾニウム塩のう
ち特に好ましいものとしては、前記式中Ｒ₆ がアルキル
オキシ基、アリールオキシ基、アラルキルオキシ基等、
−ＯＲ₃ である、下記一般式（２）で示されるものが挙
げられる。

【００１５】

【化４】

【００１６】式中、Ｒ₁ 、Ｒ₂ およびＲ₃ は、それぞれ
独立に炭素数１〜１２の直鎖、分枝、または脂環式アル
キル基、または炭素数６〜１０の芳香環、または炭素数
７〜１２のアラルキル基を示す。Ｒ₄ 、Ｒ₅ は水素原子
または炭素数１〜１０の直鎖、分枝、または脂環式のア
ルキル基を表す。Ｘは、Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ、Ｃｌ
Ｏ ₄ 、ＢＦ₄ 、ＰＦ₆ 、ＳｂＦ₆ 、ＡｓＦ₆ 、アルキル
スルホン酸イオン、またはアリールスルホン酸イオンか
ら選ばれるカウンターアニオンを表す。一般式（２）に
おいてＲ₁ 、Ｒ₂ およびＲ₃ で表される炭化水素基の具
体例としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、
ｉ−プロピル基、アリル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブ
チル基、ｔ−ブチル基、ヘキシル基、シクロヘキシル
基、オクチル基、２−エチルヘキシル基、ドデシル基等
のアルキル基、ビニル基、１−メチルビニル基、２−フ
ェニルビニル基等のアルケニル基、ベンジル基、フェネ
チル基等のアラルキル基、フェニル基、トリル基、キシ
リル基、クメニル基、メシチル基、ドデシルフェニル
基、フェニルフェニル基、ナフチル基、アントラセニル
基等のアリール基が挙げられる。

【００１７】これらの炭化水素基は、例えばハロゲン原
子、ヒドロキシ基、アルコキシ基、アリルオキシ基、ニ
トロ基、シアノ基、カルボニル基、カルボキシル基、ア
ルコキシカルボニル基、アニリノ基、アセトアミド基、
等の置換基を有していても良い。置換基を有する炭化水
素基の具体例としては、トリフルオロメチル基、２−メ
トキシエチル基、１０−カンファーニル基、フルオロフ
ェニル基、クロロフェニル基、ブロモフェニル基、ヨー
ドフェニル基、メトキシフェニル基、ヒドロキシフェニ
ル基、フェノキシフェニル基、ニトロフェニル基、シア
ノフェニル基、カルボキシフェニル基、アニリノフェニ
ル基、アニリノカルボニルフェニル基、モルホリノフェ
ニル基、フェニルアゾフェニル基、メトキシナフチル
基、ヒドロキシナフチル基、ニトロナフチル基、ジメト
キシアントラセニル基、ジエトキシアントラセニル基、
アントラキノニル基等が挙げられる。また、Ｒ₄ および
Ｒ₅ が炭化水素基を表す場合には、上記Ｒ₁ 、Ｒ₂ およ
びＲ ₃ で表される炭化水素基と同様のものを挙げること
ができる。

【００１８】一般式（１）及びさらにその好ましい態様
である一般式（２）で表されるジアゾニウム塩のカチオ
ン部としては、具体的には下記構造で示されるジアゾニ
ウムイオンが挙げられるが、本発明はこれらの例に制限
されるものではない。なお、下記構造のうち、好ましい
態様である一般式（２）で表されるジアゾニウム塩の具
体例はＩの符号を付して示す。

【００１９】

【化５】

【００２０】

【化６】

【００２１】

【化７】

【００２２】

【化８】

【００２３】

【化９】

【００２４】一方、これらのジアゾニウム塩のカウンタ
ーアニオンとして良好に用いられるアニオンとしては、
１）Ｆ、２）Ｃｌ、３）Ｂｒ、４）Ｉ、５）ＣｌＯ₄ 、
６）ＢＦ₄ 、７）ＰＦ₆ 、８）ＳｂＦ₆ 、９）Ａｓ
Ｆ₆ 、等の無機イオン、またはアルキルスルホン酸イオ
ン、アリールスルホン酸イオン等のスルホン酸イオンが
挙げられ、好ましいスルホン酸イオンとしては、 １１）メタンスルホネート、 １２）エタンスルホネート、 １３）１−プロパンスルホネート、 １４）２−プロパンスルホネート、 １５）ｎ−ブタンスルホネート、 １６）アリルスルホネート、 １７）１０−カンファースルホネート、 １８）トリフルオロメタンスルホネート、 １９）ペンタフルオロエタンスルホネート、 ２０）ベンゼンスルホネート、 ２１）ｐ−トルエンスルホネート、 ２２）３−メトキシベンゼンスルホネート、 ２３）４−メトキシベンゼンスルホネート、 ２４）４−ヒドロキシベンゼンスルホネート、 ２５）４−クロロベンゼンスルホネート、 ２６）３−ニトロベンゼンスルホネート、 ２７）４−ニトロベンゼンスルホネート、 ２８）４−アセチルベンゼンスルホネート、 ２９）ペンタフルオロベンゼンスルホネート、 ３０）４−ドデシルベンゼンスルホネート、

【００２５】３１）メシチレンスルホネート、 ３２）２、４、６−トリイソプロピルベンゼンスルホネ
ート、 ３３）２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン−
５−スルホネート、 ３４）イソフタル酸ジメチル−５−スルホネート、 ３５）ジフェニルアミン−４−スルホネート、 ３６）１−ナフタレンスルホネート、 ３７）２−ナフタレンスルホネート、 ３８）２−ナフトール−６−スルホネート、 ３９）２−ナフトール−７−スルホネート、 ４０）アントラキノン−１−スルホネート、 ４１）アントラキノン−２−スルホネート、 ４２）９、１０−ジメトキシアントラセン−２−スルホ
ネート、 ４３）９、１０−ジエトキシアントラセン−２−スルホ
ネート、 ４４）キノリン−８−スルホネート、 ４５）８−ヒドロキシキノリン−５−スルホネート、 ４６）８−アニリノ−ナフタレン−１−スルホネート などが挙げられる。

【００２６】また、以下に例示する ５１）ｍ−ベンゼンジスルホネート、 ５２）ベンズアルデヒド−２、４−ジスルホネート、 ５３）１、５−ナフタレンジスルホネート、 ５４）２、６−ナフタレンジスルホネート、 ５５）２、７−ナフタレンジスルホネート、 ５６）アントラキノン−１、５−ジスルホネート、 ５７）アントラキノン−１、８−ジスルホネート、 ５８）アントラキノン−２、６−ジスルホネート、 ５９）９、１０−ジメトキシアントラセン−２、６−ジ
スルホネート、 ６０）９、１０−ジエトキシアントラセン−２、６−ジ
スルホネート、 ６１）ドデシルジフェニルエーテルジスルホネート などのジスルホネート類と、ジアゾニウム塩カチオン２
当量との塩も用いることができる。

【００２７】本発明に用いられる上記ジアゾニウム塩の
具体例を以下に示す。なお、各化合物例の後に示された
番号は、前二つの項（ローマ数字とアルファベットの小
文字、例えば「Ｉ−ｂ」）が、前述のジアゾニウム塩の
カチオン部の好ましい例として挙げたものに付した符号
を示し、最終項（アラビア数字、例えば「３３」）が前
述のカウンターアニオンの好ましい例として挙げたもの
の番号を示すものである。

【００２８】

【化１０】

【００２９】

【化１１】

【００３０】

【化１２】

【００３１】本発明の画像記録材料のジアゾニウム塩以
外の構成成分について、以下に説明する。

【００３２】［赤外線吸収剤］本発明において使用され
る赤外線吸収剤は、波長７６０ｎｍから１２００ｎｍの
赤外線を有効に吸収する染料または顔料である。好まし
くは、波長７６０ｎｍから１２００ｎｍに吸収極大を有
する染料または顔料である。染料としては、市販の染料
および文献（例えば「染料便覧」有機合成化学協会編
集、昭和４５年刊）に記載されている公知のものが利用
できる。具体的には、アゾ染料、金属錯塩アゾ染料、ピ
ラゾロンアゾ染料、ナフトキノン染料、アントラキノン
染料、フタロシアニン染料、カルボニウム染料、キノン
イミン染料、メチン染料、シアニン染料、スクワリリウ
ム色素、ピリリウム塩、金属チオレート錯体などの染料
が挙げられる。好ましい染料としては例えば特開昭５８
−１２５２４６号、特開昭５９−８４３５６号、特開昭
５９−２０２８２９号、特開昭６０−７８７８７号等に
記載されているシアニン染料、特開昭５８−１７３６９
６号、特開昭５８−１８１６９０号、特開昭５８−１９
４５９５号等に記載されているメチン染料、特開昭５８
−１１２７９３号、特開昭５８−２２４７９３号、特開
昭５９−４８１８７号、特開昭５９−７３９９６号、特
開昭６０−５２９４０号、特開昭６０−６３７４４号等
に記載されているナフトキノン染料、特開昭５８−１１
２７９２号等に記載されているスクワリリウム色素、英
国特許４３４，８７５号記載のシアニン染料等を挙げる
ことができる。

【００３３】また、米国特許第５，１５６，９３８号記
載の近赤外吸収増感剤も好適に用いられ、また、米国特
許第３，８８１，９２４号記載の置換されたアリールベ
ンゾ（チオ）ピリリウム塩、特開昭５７−１４２６４５
号（米国特許第４，３２７，１６９号）記載のトリメチ
ンチアピリリウム塩、特開昭５８−１８１０５１号、同
５８−２２０１４３号、同５９−４１３６３号、同５９
−８４２４８号、同５９−８４２４９号、同５９−１４
６０６３号、同５９−１４６０６１号に記載されている
ピリリウム系化合物、特開昭５９−２１６１４６号記載
のシアニン色素、米国特許第４，２８３，４７５号に記
載のペンタメチンチオピリリウム塩等や特公平５−１３
５１４号、同５−１９７０２号公報に開示されているピ
リリウム化合物も好ましく用いられる。また、染料とし
て好ましい別の例として米国特許第４，７５６，９９３
号明細書中に式（Ｉ）、（II）として記載されている近
赤外吸収染料を挙げることができる。これらの染料のう
ち特に好ましいものとしては、シアニン色素、スクワリ
リウム色素、ピリリウム塩、ニッケルチオレート錯体が
挙げられる。

【００３４】本発明において使用される顔料としては、
市販の顔料およびカラーインデックス（Ｃ．Ｉ．）便
覧、「最新顔料便覧」（日本顔料技術協会編、１９７７
年刊）、「最新顔料応用技術」（ＣＭＣ出版、１９８６
年刊）、「印刷インキ技術」ＣＭＣ出版、１９８４年
刊）に記載されている顔料が利用できる。顔料の種類と
しては、黒色顔料、黄色顔料、オレンジ色顔料、褐色顔
料、赤色顔料、紫色顔料、青色顔料、緑色顔料、蛍光顔
料、金属粉顔料、その他、ポリマー結合色素が挙げられ
る。具体的には、不溶性アゾ顔料、アゾレーキ顔料、縮
合アゾ顔料、キレートアゾ顔料、フタロシアニン系顔
料、アントラキノン系顔料、ペリレンおよびペリノン系
顔料、チオインジゴ系顔料、キナクリドン系顔料、ジオ
キサジン系顔料、イソインドリノン系顔料、キノフタロ
ン系顔料、染付けレーキ顔料、アジン顔料、ニトロソ顔
料、ニトロ顔料、天然顔料、蛍光顔料、無機顔料、カー
ボンブラック等が使用できる。これらの顔料のうち好ま
しいものはカーボンブラックである。

【００３５】これら顔料は表面処理をせずに用いてもよ
く、表面処理をほどこして用いてもよい。表面処理の方
法には樹脂やワックスを表面コートする方法、界面活性
剤を付着させる方法、反応性物質（例えば、シランカッ
プリング剤やエポキシ化合物、ポリイソシアネート等）
を顔料表面に結合させる方法等が考えられる。上記の表
面処理方法は、「金属石鹸の性質と応用」（幸書房）、
「印刷インキ技術」（ＣＭＣ出版、１９８４年刊）およ
び「最新顔料応用技術」（ＣＭＣ出版、１９８６年刊）
に記載されている。

【００３６】顔料の粒径は０．０１μｍ〜１０μｍの範
囲にあることが好ましく、０．０５μｍ〜１μｍの範囲
にあることがさらに好ましく、特に０．１μｍ〜１μｍ
の範囲にあることが好ましい。顔料の粒径が０．０１μ
ｍ未満のときは分散物の感光層塗布液中での安定性の点
で好ましくなく、また、１０μｍを超えると画像記録層
の均一性の点で好ましくない。顔料を分散する方法とし
ては、インク製造やトナー製造等に用いられる公知の分
散技術が使用できる。分散機としては、超音波分散器、
サンドミル、アトライター、パールミル、スーパーミ
ル、ボールミル、インペラー、デスパーザー、ＫＤミ
ル、コロイドミル、ダイナトロン、３本ロールミル、加
圧ニーダー等が挙げられる。詳細は、「最新顔料応用技
術」（ＣＭＣ出版、１９８６年刊）に記載がある。

【００３７】これらの染料もしくは顔料は、画像記録材
料全固形分に対し０．０１〜５０重量％、好ましくは
０．１〜１０重量％、染料の場合特に好ましくは０．５
〜１０重量％、顔料の場合特に好ましくは１．０〜１０
重量％の割合で画像記録材料中に添加することができ
る。顔料もしくは染料の添加量が０．０１重量％未満で
あると感度が低くなり、また５０重量％を超えると印刷
時非画像部に汚れが発生する。これらの染料もしくは顔
料は他の成分と同一の層に添加してもよいし、別の層を
設けてそこへ添加してもよい。

【００３８】［酸により架橋する架橋剤］本発明に用い
ることのできる酸により架橋する架橋剤（以下、適宜、
「酸架橋剤」又は単に「架橋剤」と称する）ついて説明
する。本発明に好ましく用いられる架橋剤としては、以
下のものが挙げられる。 （ｉ）アルコキシメチル基若しくはヒドロキシメチル基
で置換された芳香族化合物 （ii）Ｎ−ヒドロキシメチル基、Ｎ−アルコキシメチル
基若しくはＮ−アシルオキシメチル基を有する化合物 (iii) エポキシ化合物 これらについて詳細に説明する。

【００３９】（ｉ）アルコキシメチル基若しくはヒドロ
キシメチル基で置換された芳香族化合物としては、例え
ば、ヒドロキシメチル基、アセトキシメチル基、若しく
はアルコキシメチル基でポリ置換されている芳香族化合
物及び複素環化合物が挙げられる。但し、レゾール樹脂
として知られるフェノール類とアルデヒド類とを塩基性
条件下で重縮合させた樹脂状の化合物は含まない。レゾ
ール樹脂は架橋性に優れるものの、熱安定性が充分でな
く、特に感光性の材料に含有させて高温下に長期間保存
した場合、均一な現像が困難となり好ましくない。

【００４０】ヒドロキシメチル基又はアルコキシメチル
基でポリ置換された芳香族化合物及び複素環化合物のな
かでは、ヒドロキシ基に隣接する位置にヒドロキシメチ
ル基又はアルコキシメチル基を有する化合物を好ましい
例として挙げることができる。アルコキシメチル基の場
合はアルコキシメチル基が炭素数１８以下の化合物であ
ることが好ましい。特に好ましい例として下記一般式
（３）〜（６）で表される化合物を挙げることができ
る。

【００４１】

【化１３】

【００４２】

【化１４】

【００４３】前記各式中、Ｌ₁ 〜Ｌ₈ はそれぞれ独立に
メトキシメチル、エトキシメチル等のように炭素数１８
以下のアルコキシ基で置換されたヒドロキシメチル基又
はアルコキシメチル基を示す。これらは架橋効率が高
く、耐刷性を向上させることができる点で好ましい。上
記に例示された架橋性化合物は、単独で使用してもよ
く、２種以上を組み合わせて使用してもよい。

【００４４】（ii）Ｎ−ヒドロキシメチル基、Ｎ−アル
コキシメチル基若しくはＮ−アシルオキシメチル基を有
する化合物としては、欧州特許公開（以下、ＥＰ−Ａと
記載する）第０，１３３，２１６号、西独特許第３，６
３４，６７１号、同第３，７１１，２６４号に開示され
た単量体及びオリゴマー−メラミン−ホルムアルデヒド
縮合物並びに尿素−ホルムアルデヒド縮合物、ＥＰ−Ａ
第０，２１２，４８２号に開示されたアルコキシ置換化
合物等が挙げられる。さらに好ましい例としては、例え
ば、少なくとも２個の遊離Ｎ−ヒドロキシメチル基、Ｎ
−アルコキシメチル基若しくはＮ−アシルオキシメチル
基を有するメラミン−ホルムアルデヒド誘導体が挙げら
れ、中でもＮ−アルコキシメチル誘導体が特に好まし
い。

【００４５】(iii) エポキシ化合物としては、一つ以上
のエポキシ基を含む、モノマー、ダイマー、オリゴマ
ー、ポリマー状のエポキシ化合物を挙げることができ
る。例えば、ビスフェノールＡとエピクロルヒドリンと
の反応生成物、低分子量フェノール−ホルムアルデヒド
樹脂とエピクロルヒドリンとの反応生成物等が挙げられ
る。その他、米国特許第４，０２６，７０５号公報、英
国特許第１，５３９，１９２号公報に記載され、使用さ
れているエポキシ樹脂を挙げることができる。

【００４６】以上の（ｉ）〜(iii) の本発明に用いるこ
とのできる架橋剤は、画像記録材料全固形分に対し、５
〜８０重量％、好ましくは１０〜７５重量％、特に好ま
しくは２０〜７０重量％の範囲である。架橋剤の添加量
が５重量％未満であると得られる画像記録材料の感光層
の耐久性が悪化し、また、８０重量％を超えると保存時
の安定性の観点から好ましくない。

【００４７】本発明では、架橋剤として、（iv）下記一
般式（７）で表されるフェノール誘導体を使用すること
も好ましい。

【００４８】

【化１５】

【００４９】上記一般式（７）中、Ａｒ¹ は、置換基を
有していても良い芳香族炭化水素環を示す。原料の入手
性から、芳香族炭化水素環としては、ベンゼン環、ナフ
タレン環またはアントラセン環が好ましい。また、好ま
しい置換基としては、ハロゲン原子、炭素数１２個以下
の炭化水素基、炭素数１２個以下のアルコキシ基、炭素
数１２個以下のアルキルチオ基、シアノ基、ニトロ基、
トリフルオロメチル基等が挙げられる。感度が高いとい
う理由で、Ａｒ¹ としては、置換基を有していないベン
ゼン環およびナフタレン環、または、ハロゲン原子、炭
素数６個以下の炭化水素基、炭素数６個以下のアルコキ
シ基、炭素数６個以下のアルキルチオ基、ニトロ基等を
置換基として有するベンゼン環およびナフタレン環が特
に好ましい。Ｒ¹ およびＲ² は、それぞれ同じでも異な
っていても良く、水素原子または炭素数１２個以下の炭
化水素基を示す。合成が容易であるという理由から、Ｒ
¹ およびＲ² は、水素原子またはメチル基であることが
特に好ましい。Ｒ³ は、水素原子または炭素数１２個以
下の炭化水素基を示す。感度が高いという理由で、Ｒ ³
は、例えばメチル基、エチル基、プロピル基、シクロヘ
キシル基、ベンジル基等の炭素数７個以下の炭化水素基
であることが特に好ましい。ｍは、２〜４の整数を示
す。ｎは、１〜３の整数を示す。

【００５０】本発明において好適に用いられる上記一般
式（７）で表されるフェノール誘導体の具体例を以下に
示す（架橋剤［ＫＺ−１］〜［ＫＺ−８］）が、本発明
はこれに制限されるものではない。

【００５１】

【化１６】

【００５２】

【化１７】

【００５３】これらのフェノール誘導体は、従来公知の
方法により合成できる。例えば［ＫＺ−１］は、フェノ
ール、ホルムアルデヒドおよび、ジメチルアミンやモル
ホリン等の２級アミンを反応させ、トリ（ジアルキルア
ミノメチル）フェノールとし、次に無水酢酸と反応さ
せ、さらに炭酸カリウム等の弱アルカリ存在下、エタノ
ールと反応させることにより、下記反応式［１］に表す
如き経路で合成することができる。 反応式［１］

【００５４】

【化１８】

【００５５】さらに、別の方法によっても合成できる。
例えば［ＫＺ−１］は、フェノールとホルムアルデヒド
またはパラホルムアルデヒドを、ＫＯＨ等のアルカリ存
在下反応させ、２，４，６−トリヒドロキシメチルフェ
ノールとし、引き続き硫酸等の酸存在下、エタノールと
反応させることにより、下記反応式［２］に表す如き経
路でも合成することができる。 反応式［２］

【００５６】

【化１９】

【００５７】これらのフェノール誘導体は単独で使用し
てもよく、また２種類以上を組み合わせて使用してもよ
い。また、これらのフェノール誘導体を合成する際、フ
ェノール誘導体同士が縮合して２量体や３量体等の不純
物が副生成する場合があるが、これらの不純物を含有し
たまま用いても良い。なお、この場合でも、不純物は３
０％以下であることが好ましく、２０％以下であること
がさらに好ましい。

【００５８】本発明において、フェノール誘導体は全画
像記録材料固形分中、５〜７０重量％、好ましくは１０
〜５０重量％の添加量で用いられる。ここで、架橋剤と
してのフェノール誘導体の添加量が５重量％未満である
と画像記録した際の画像部の膜強度が悪化し、また、７
０重量％を越えると保存時の安定性の点で好ましくな
い。

【００５９】［バインダー］本発明において使用される
バインダーとしては、ノボラック樹脂や側鎖にヒドロキ
シアリール基を有するポリマーなどが挙げられる。本発
明においてバインダーとして使用しうるノボラック樹脂
は、フェノール類とアルデヒド類を酸性条件下で縮合さ
せた樹脂である。好ましいノボラック樹脂としては、例
えばフェノールとホルムアルデヒドから得られるノボラ
ック樹脂、ｍ−クレゾールとホルムアルデヒドから得ら
れるノボラック樹脂、ｐ−クレゾールとホルムアルデヒ
ドから得られるノボラック樹脂、ｏ−クレゾールとホル
ムアルデヒドから得られるノボラック樹脂、オクチルフ
ェノールとホルムアルデヒドから得られるノボラック樹
脂、ｍ−／ｐ−混合クレゾールとホルムアルデヒドから
得られるノボラック樹脂、フェノール／クレゾール（ｍ
−，ｐ−，ｏ−またはｍ−／ｐ−，ｍ−／ｏ−，ｏ−／
ｐ−混合のいずれでもよい）の混合物とホルムアルデヒ
ドから得られるノボラック樹脂などが挙げられる。これ
らのノボラック樹脂は、重量平均分子量が８００〜２０
０，０００で、数平均分子量が４００〜６０，０００の
ものが好ましい。

【００６０】また、本発明におけるバインダーとして
は、側鎖にヒドロキシアリール基を有するポリマーも好
ましく挙げることができる。このポリマーにおいて、ヒ
ドロキシアリール基とは−ＯＨ基が１個以上結合したア
リール基を示す。アリール基としては例えば、フェニル
基、ナフチル基、アントラセニル基、フェナントレニル
基等を挙げることができるが、入手の容易さ及び物性の
観点から、フェニル基あるいはナフチル基が好ましい。
従って、ヒドロキシアリール基としては、ヒドロキシフ
ェニル基、ジヒドロキシフェニル基、トリヒドロキシフ
ェニル基、テトラヒドロキシフェニル基、ヒドロキシナ
フチル基、ジヒドロキシナフチル基等が好ましい。これ
らのヒドロキシアリール基は、さらに、ハロゲン原子、
炭素数２０個以下の炭化水素基、炭素数２０個以下のア
ルコキシ基及び炭素数２０個以下のアリールオキシ基等
の置換基を有していてもよい。これらのヒドロキシアリ
ール基は、ポリマーの側鎖としてペンダント状にポリマ
ー主鎖へ結合しているが、主鎖との間に連結基を有して
いても良い。

【００６１】本発明において好適に用いられる、側鎖に
ヒドロキシアリール基を有するポリマーは、下記一般式
（IX）〜(XII) で表される構成単位の内いずれか１種を
含有するポリマーである。

【００６２】

【化２０】

【００６３】（式中、Ｒ¹¹は水素原子またはメチル基を
示す。Ｒ¹²およびＲ¹³は、同じでも異なっていてもよ
く、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１０個以下の炭化
水素基、炭素数１０個以下のアルコキシ基又は、炭素数
１０個以下のアリールオキシ基を示す。また、Ｒ¹²とＲ
¹³が結合して、縮環したベンゼン環やシクロヘキサン環
を形成していても良い。Ｒ¹⁴は、単結合または、炭素数
２０個以下の２価の炭化水素基を示す。Ｒ¹⁵は、単結合
または、炭素数２０個以下の２価の炭化水素基を示す。
Ｒ¹⁶は、単結合または、炭素数１０個以下の２価の炭化
水素基を示す。Ｘ1は、単結合、エーテル結合、チオエ
ーテル結合、エステル結合またはアミド結合を示す。ｐ
は１〜４の整数を示す。ｑ及びｒはそれぞれ０〜３の整
数を示す。）

【００６４】一般式（IX）〜(XII) で表される構成単位
のうち、本発明において好適に用いられる具体的な構成
単位の例を以下に挙げる。

【００６５】

【化２１】

【００６６】

【化２２】

【００６７】

【化２３】

【００６８】

【化２４】

【００６９】

【化２５】

【００７０】これらのポリマーは、従来公知の方法によ
り合成することができる。例えば、一般式（IX）で表さ
れる構成単位を有するポリマーは、ヒドロキシ基を酢酸
エステルあるいはｔ−ブチルエーテルとして保護され
た、対応するスチレン誘導体をラジカル重合もしくはア
ニオン重合しポリマーとした後、脱保護することにより
得られる。また、一般式（Ｘ）で表される構成単位を有
するポリマーは、特開昭６４−３２２５６号および同６
４−３５４３６号等に記載されている方法により合成す
ることができる。さらに、一般式（XI）で表される構成
単位を有するポリマーは、ヒドロキシ基を有するアミン
化合物と無水マレイン酸を反応させ、対応するモノマー
を得た後、ラジカル重合によりポリマーとすることによ
り得られる。また、一般式(XII) で表される構成単位を
有するポリマーは、クロロメチルスチレンやカルボキシ
スチレン等、合成上有用な官能基を持つスチレン類を原
料として一般(XII) に対応するモノマーへ誘導し、さら
にラジカル重合によりリマーとすることにより得られ
る。

【００７１】本発明では、一般式（IX）〜(XII) で表さ
れる構成単位のみから成るホモポリマーであっても良い
が、他の構成単位をも含む共重合体であっても良い。好
適に用いられる他の構成単位としては、例えば、アクリ
ル酸エステル類、メタクリル酸エステル類、アクリルア
ミド類、メタクリルアミド類、ビニルエステル類、スチ
レン類、アクリル酸、メタクリル酸、アクリロニトリ
ル、無水マレイン酸、マレイン酸イミド等の公知のモノ
マーより導入される構成単位が挙げられる。

【００７２】用いることのできるアクリル酸エステル類
の具体例としては、メチルアクリレート、エチルアクリ
レート、（ｎ−またはｉ−）プロピルアクリレート、
（ｎ−、ｉ−、ｓｅｃ−またはｔ−）ブチルアクリレー
ト、アミルアクリレート、２−エチルヘキシルアクリレ
ート、ドデシルアクリレート、クロロエチルアクリレー
ト、２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキ
シプロピルアクリレート、５−ヒドロキシペンチルアク
リレート、シクロヘキシルアクリレート、アリルアクリ
レート、トリメチロールプロパンモノアクリレート、ペ
ンタエリスリトールモノアクリレート、グリシジルアク
リレート、ベンジルアクリレート、メトキシベンジルア
クリレート、クロロベンジルアクリレート、２−（ｐ−
ヒドロキシフェニル）エチルアクリレート、フルフリル
アクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレート、
フェニルアクリレート、クロロフェニルアクリレート、
スルファモイルフェニルアクリレート等が挙げられる。

【００７３】メタクリル酸エステル類の具体例として
は、メチルメタクリレート、エチルメタクリレート、
（ｎ−またはｉ−）プロピルメタクリレート、（ｎ−、
ｉ−、ｓｅｃ−またはｔ−）ブチルメタクリレート、ア
ミルメタクリレート、２−エチルヘキシルメタクリレー
ト、ドデシルメタクリレート、クロロエチルメタクリレ
ート、２−ヒドロキシエチルメタクリレート、２−ヒド
ロキシプロピルメタクリレート、５−ヒドロキシペンチ
ルメタクリレート、シクロヘキシルメタクリレート、ア
リルメタクリレート、トリメチロールプロパンモノメタ
クリレート、ペンタエリスリトールモノメタクリレー
ト、グリシジルメタクリレート、メトキシベンジルメタ
クリレート、クロロベンジルメタクリレート、２−（ｐ
−ヒドロキシフェニル）エチルメタクリレート、フルフ
リルメタクリレート、テトラヒドロフルフリルメタクリ
レート、フェニルメタクリレート、クロロフェニルメタ
クリレート、スルファモイルフェニルメタクリレート等
が挙げられる。

【００７４】アクリルアミド類の具体例としては、アク
リルアミド、Ｎ−メチルアクリルアミド、Ｎ−エチルア
クリルアミド、Ｎ−プロピルアクリルアミド、Ｎ−ブチ
ルアクリルアミド、Ｎ−ベンジルアクリルアミド、Ｎ−
ヒドロキシエチルアクリルアミド、Ｎ−フェニルアクリ
ルアミド、Ｎ−トリルアクリルアミド、Ｎ−（ｐ−ヒド
ロキシフェニル）アクリルアミド、Ｎ−（スルファモイ
ルフェニル）アクリルアミド、Ｎ−（フェニルスルホニ
ル）アクリルアミド、Ｎ−（トリルスルホニル）アクリ
ルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアクリルアミド、Ｎ−メチ
ル−Ｎ−フェニルアクリルアミド、Ｎ−ヒドロキシエチ
ル−Ｎ−メチルアクリルアミド等が挙げられる。

【００７５】メタクリルアミド類の具体例としては、メ
タクリルアミド、Ｎ−メチルメタクリルアミド、Ｎ−エ
チルメタクリルアミド、Ｎ−プロピルメタクリルアミ
ド、Ｎ−ブチルメタクリルアミド、Ｎ−ベンジルメタク
リルアミド、Ｎ−ヒドロキシエチルメタクリルアミド、
Ｎ−フェニルメタクリルアミド、Ｎ−トリルメタクリル
アミド、Ｎ−（ｐ−ヒドロキシフェニル）メタクリルア
ミド、Ｎ−（スルファモイルフェニル）メタクリルアミ
ド、Ｎ−（フェニルスルホニル）メタクリルアミド、Ｎ
−（トリルスルホニル）メタクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジ
メチルメタクリルアミド、Ｎ−メチル−Ｎ−フェニルメ
タクリルアミド、Ｎ−ヒドロキシエチル−Ｎ−メチルメ
タクリルアミド等が挙げられる。

【００７６】ビニルエステル類の具体例としては、ビニ
ルアセテート、ビニルブチレート、ビニルベンゾエート
等が挙げられる。スチレン類の具体例としては、スチレ
ン、メチルスチレン、ジメチルスチレン、トリメチルス
チレン、エチルスチレン、プロピルスチレン、シクロヘ
キシルスチレン、クロロメチルスチレン、トリフルオロ
メチルスチレン、エトキシメチルスチレン、アセトキシ
メチルスチレン、メトキシスチレン、ジメトキシスチレ
ン、クロロスチレン、ジクロロスチレン、ブロモスチレ
ン、ヨードスチレン、フルオロスチレン、カルボキシス
チレン等が挙げられる。

【００７７】これらのモノマーのうち特に好適に使用さ
れるのは、炭素数２０以下のアクリル酸エステル類、メ
タクリル酸エステル類、アクリルアミド類、メタクリル
アミド類、ビニルエステル類、スチレン類及び、アクリ
ル酸、メタクリル酸、アクリロニトリルである。

【００７８】これらを用いた共重合体中に含まれる一般
式（IX）〜(XII) で表される構成単位の割合は、５〜１
００重量％であることが好ましく、さらに好ましくは１
０〜１００重量％である。また、本発明で使用される上
記ポリマーの分子量は好ましくは重量平均分子量で４０
００以上であり、更に好ましくは１万〜３０万の範囲で
あり、数平均分子量で好ましくは１０００以上であり、
更に好ましくは２０００〜２５万の範囲である。多分散
度（重量平均分子量／数平均分子量）は１以上が好まし
く、更に好ましくは１．１〜１０の範囲である。これら
のポリマーは、ランダムポリマー、ブロックポリマー、
グラフトポリマー等いずれでも良いが、ランダムポリマ
ーであることが好ましい。

【００７９】本発明で使用されるバインダーは１種類の
みで使用してもよいし、あるいは２種類以上を組み合わ
せて使用してもよい。バインダーの添加量は全画像記録
材料固形分中、５〜９５重量％、好ましくは１０〜９５
重量％、特に好ましくは２０〜９０重量％で用いられ
る。バインダーの添加量が５重量％未満であると記録層
の耐久性が悪化し、また、添加量が９５重量％を超える
場合は、画像形成されない。

【００８０】［その他の成分］本発明では、必要に応じ
てこれら以外に種々の化合物を添加しても良い。例え
ば、可視光域に大きな吸収を持つ染料を画像の着色剤と
して使用することができる。具体的にはオイルイエロー
＃１０１、オイルイエロー＃１０３、オイルピンク＃３
１２、オイルグリーンＢＧ、オイルブルーＢＯＳ、オイ
ルブルー＃６０３、オイルブラックＢＹ、オイルブラッ
クＢＳ、オイルブラックＴ−５０５（以上オリエント化
学工業（株）製）、ビクトリアピュアブルー、クリスタ
ルバイオレット（ＣＩ４２５５５）、メチルバイオレッ
ト（ＣＩ４２５３５）、エチルバイオレット、ローダミ
ンＢ（ＣＩ１４５１７０Ｂ）、マラカイトグリーン（Ｃ
Ｉ４２０００）、メチレンブルー（ＣＩ５２０１５）な
ど、あるいは特開昭６２−２９３２４７号公報に記載さ
れている染料を挙げることができる。これらの染料は、
画像形成後、画像部と非画像部の区別がつきやすいの
で、添加する方が好ましい。尚、添加量は、画像記録材
料全固形分に対し、０．０１〜１０重量％の割合であ
る。

【００８１】また、本発明における画像記録材料中に
は、現像条件に対する処理の安定性を広げるため、特開
昭６２−２５１７４０号公報や特開平３−２０８５１４
号公報に記載されているような非イオン界面活性剤、特
開昭５９−１２１０４４号公報、特開平４−１３１４９
号公報に記載されているような両性界面活性剤を添加す
ることができる。非イオン界面活性剤の具体例として
は、ソルビタントリステアレート、ソルビタンモノパル
ミテート、ソルビタントリオレート、ステアリン酸モノ
グリセリド、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテ
ル等が挙げられる。両性界面活性剤の具体例としては、
アルキルジ（アミノエチル）グリシン、アルキルポリア
ミノエチルグリシン塩酸塩、２−アルキル−Ｎ−カルボ
キシエチル−Ｎ−ヒドロキシエチルイミダゾリニウムベ
タインやＮ−テトラデシル−Ｎ，Ｎ−ベタイン型（例え
ば、商品名アモーゲンＫ、第一工業（株）製）等が挙げ
られる。 上記非イオン界面活性剤および両性界面活性
剤の画像記録材料中に占める割合は、０．０５〜１５重
量％が好ましく、より好ましくは０．１〜５重量％であ
る。

【００８２】更に本発明の画像記録材料中には必要に応
じ、塗膜の柔軟性等を付与するために可塑剤が加えられ
る。例えば、ポリエチレングリコール、クエン酸トリブ
チル、フタル酸ジエチル、フタル酸ジブチル、フタル酸
ジヘキシル、フタル酸ジオクチル、リン酸トリクレジ
ル、リン酸トリブチル、リン酸トリオクチル、オレイン
酸テトラヒドロフルフリル、アクリル酸またはメタクリ
ル酸のオリゴマーおよびポリマー等が用いられる。これ
ら以外にも、エポキシ化合物、ビニルエーテル類等を添
加しても良い。

【００８３】本発明の画像記録材料は、通常上記各成分
を溶媒に溶かして、適当な支持体上に塗布することによ
り製造することができる。ここで使用する溶媒として
は、エチレンジクロライド、シクロヘキサノン、メチル
エチルケトン、メタノール、エタノール、プロパノー
ル、エチレングリコールモノメチルエーテル、１−メト
キシ−２−プロパノール、２−メトキシエチルアセテー
ト、１−メトキシ−２−プロピルアセテート、ジメトキ
シエタン、乳酸メチル、乳酸エチル、Ｎ，Ｎ−ジメチル
アセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、テトラ
メチルウレア、Ｎ−メチルピロリドン、ジメチルスルホ
キシド、スルホラン、γ−ブチルラクトン、トルエン、
水等をあげることができるがこれに限定されるものでは
ない。これらの溶媒は単独あるいは混合して使用され
る。溶媒中の上記成分（添加剤を含む全固形分）の濃度
は、好ましくは１〜５０重量％である。また塗布、乾燥
後に得られる支持体上の塗布量（固形分）は、用途によ
って異なるが、平版印刷用版材についていえば一般的に
０．５〜５．０ｇ／ｍ² が好ましい。塗布する方法とし
ては、種々の方法を用いることができるが、例えば、バ
ーコーター塗布、回転塗布、スプレー塗布、カーテン塗
布、ディップ塗布、エアーナイフ塗布、ブレード塗布、
ロール塗布等を挙げることができる。塗布量が少なくな
るにつれて、見かけの感度は大になるが、画像記録膜の
皮膜特性は低下する。

【００８４】本発明における画像記録層中には、塗布性
を良化するための界面活性剤、例えば特開昭６２−１７
０９５０号公報に記載されているようなフッ素系界面活
性剤を添加することができる。好ましい添加量は、全画
像記録材料固形分中０．０１〜１重量％、さらに好まし
くは０．０５〜０．５重量％である。

【００８５】本発明に使用される支持体としては、寸度
的に安定な板状物であり、例えば、紙、プラスチック
（例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレ
ン等）がラミネートされた紙、金属板（例えば、アルミ
ニウム、亜鉛、銅等）、プラスチックフィルム（例え
ば、二酢酸セルロース、三酢酸セルロース、プロピオン
酸セルロース、酪酸セルロース、酢酸酪酸セルロース、
硝酸セルロース、ポリエチレンテレフタレート、ポリエ
チレン、ポリスチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネ
ート、ポリビニルアセタール等）、上記のごとき金属が
ラミネート、もしくは蒸着された紙、もしくはプラスチ
ックフィルム等が含まれる。

【００８６】本発明の支持体としては、ポリエステルフ
ィルム又はアルミニウム板が好ましく、その中でも寸法
安定性がよく、比較的安価であるアルミニウム板は特に
好ましい。好適なアルミニウム板は、純アルミニウム板
およびアルミニウムを主成分とし、微量の異元素を含む
合金板であり、更にアルミニウムがラミネートもしくは
蒸着されたプラスチックフィルムでもよい。アルミニウ
ム合金に含まれる異元素には、ケイ素、鉄、マンガン、
銅、マグネシウム、クロム、亜鉛、ビスマス、ニッケ
ル、チタンなどがある。合金中の異元素の含有量は高々
１０重量％以下である。本発明において特に好適なアル
ミニウムは、純アルミニウムであるが、完全に純粋なア
ルミニウムは精錬技術上製造が困難であるので、僅かに
異元素を含有するものでもよい。このように本発明に適
用されるアルミニウム板は、その組成が特定されるもの
ではなく、従来より公知公用の素材のアルミニウム板を
適宜に利用することができる。本発明で用いられるアル
ミニウム板の厚みはおよそ０．１ｍｍ〜０．６ｍｍ程
度、好ましくは０．１５ｍｍ〜０．４ｍｍ、特に好まし
くは０．２ｍｍ〜０．３ｍｍである。

【００８７】アルミニウム板を粗面化するに先立ち、所
望により、表面の圧延油を除去するための例えば界面活
性剤、有機溶剤またはアルカリ性水溶液などによる脱脂
処理が行われる。アルミニウム板の表面の粗面化処理
は、種々の方法により行われるが、例えば、機械的に粗
面化する方法、電気化学的に表面を溶解粗面化する方法
および化学的に表面を選択溶解させる方法により行われ
る。機械的方法としては、ボール研磨法、ブラシ研磨
法、ブラスト研磨法、バフ研磨法などの公知の方法を用
いることができる。また、電気化学的な粗面化法として
は塩酸または硝酸電解液中で交流または直流により行う
方法がある。また、特開昭５４−６３９０２号に開示さ
れているように両者を組み合わせた方法も利用すること
ができる。この様に粗面化されたアルミニウム板は、必
要に応じてアルカリエッチング処理および中和処理され
た後、所望により表面の保水性や耐摩耗性を高めるため
に陽極酸化処理が施される。アルミニウム板の陽極酸化
処理に用いられる電解質としては、多孔質酸化皮膜を形
成する種々の電解質の使用が可能で、一般的には硫酸、
リン酸、蓚酸、クロム酸あるいはそれらの混酸が用いら
れる。それらの電解質の濃度は電解質の種類によって適
宜決められる。

【００８８】陽極酸化の処理条件は用いる電解質により
種々変わるので一概に特定し得ないが一般的には電解質
の濃度が１〜８０重量％溶液、液温は５〜７０℃、電流
密度５〜６０Ａ／ｄｍ² 、電圧１〜１００Ｖ、電解時間
１０秒〜５分の範囲であれば適当である。陽極酸化皮膜
の量は１．０ｇ／ｍ² より少ないと耐刷性が不十分であ
ったり、平版印刷版の非画像部に傷が付き易くなって、
印刷時に傷の部分にインキが付着するいわゆる「傷汚
れ」が生じ易くなる。陽極酸化処理を施された後、アル
ミニウム表面は必要により親水化処理が施される。本発
明に使用される親水化処理としては、米国特許第２，７
１４，０６６号、同第３，１８１，４６１号、第３，２
８０，７３４号および第３，９０２，７３４号に開示さ
れているようなアルカリ金属シリケート（例えばケイ酸
ナトリウム水溶液）法がある。この方法においては、支
持体がケイ酸ナトリウム水溶液で浸漬処理されるかまた
は電解処理される。他に特公昭３６−２２０６３号公報
に開示されているフッ化ジルコン酸カリウムおよび米国
特許第３，２７６，８６８号、同第４，１５３，４６１
号、同第４，６８９，２７２号に開示されているような
ポリビニルホスホン酸で処理する方法などが用いられ
る。

【００８９】本発明の画像記録材料は、必要に応じて支
持体上に下塗層を設けることができる。下塗層成分とし
ては種々の有機化合物が用いられ、例えば、カルボキシ
メチルセルロース、デキストリン、アラビアガム、２−
アミノエチルホスホン酸などのアミノ基を有するホスホ
ン酸類、置換基を有してもよいフェニルホスホン酸、ナ
フチルホスホン酸、アルキルホスホン酸、グリセロホス
ホン酸、メチレンジホスホン酸およびエチレンジホスホ
ン酸などの有機ホスホン酸、置換基を有してもよいフェ
ニルリン酸、ナフチルリン酸、アルキルリン酸およびグ
リセロリン酸などの有機リン酸、置換基を有してもよい
フェニルホスフィン酸、ナフチルホスフィン酸、アルキ
ルホスフィン酸およびグリセロホスフィン酸などの有機
ホスフィン酸、グリシンやβ−アラニンなどのアミノ酸
類、およびトリエタノールアミンの塩酸塩などのヒドロ
キシ基を有するアミンの塩酸塩等から選ばれるが、２種
以上混合して用いてもよい。有機下塗層の被覆量は、２
〜２００ｍｇ／ｍ² が適当である。

【００９０】以上のようにして、本発明の画像記録材料
を用いた平版印刷用版材を作製することができる。この
平版印刷用版材は、波長７６０ｎｍから１２００ｎｍの
赤外線を放射する固体レーザ及び半導体レーザにより画
像露光される。本発明においては、レーザ照射後すぐに
現像処理を行っても良いが、レーザ照射工程と現像工程
の間に加熱処理を行うことが好ましい。加熱処理の条件
は、８０℃〜１５０℃の範囲内で１０秒〜５分間行うこ
とが好ましい。この加熱処理により、レーザ照射時、記
録に必要なレーザエネルギーを減少させることができ
る。

【００９１】必要に応じて加熱処理を行った後、本発明
の画像記録材料はアルカリ性水溶液にて現像される。本
発明の画像記録材料の現像液および補充液としては従来
より知られているアルカリ水溶液が使用できる。例え
ば、ケイ酸ナトリウム、同カリウム、第３リン酸ナトリ
ウム、同カリウム、同アンモニウム、第２リン酸ナトリ
ウム、同カリウム、同アンモニウム、炭酸ナトリウム、
同カリウム、同アンモニウム、炭酸水素ナトリウム、同
カリウム、同アンモニウム、ほう酸ナトリウム、同カリ
ウム、同アンモニウム、水酸化ナトリウム、同アンモニ
ウム、同カリウムおよび同リチウムなどの無機アルカリ
塩が挙げられる。また、モノメチルアミン、ジメチルア
ミン、トリメチルアミン、モノエチルアミン、ジエチル
アミン、トリエチルアミン、モノイソプロピルアミン、
ジイソプロピルアミン、トリイソプロピルアミン、ｎ−
ブチルアミン、モノエタノールアミン、ジエタノールア
ミン、トリエタノールアミン、モノイソプロパノールア
ミン、ジイソプロパノールアミン、エチレンイミン、エ
チレンジアミン、ピリジンなどの有機アルカリ剤も用い
られる。これらのアルカリ剤は単独もしくは２種以上を
組み合わせて用いられる。これらのアルカリ剤の中で特
に好ましい現像液は、ケイ酸ナトリウム、ケイ酸カリウ
ム等のケイ酸塩水溶液である。その理由はケイ酸塩の成
分である酸化珪素ＳｉＯ₂ とアルカリ金属酸化物Ｍ₂ Ｏ
の比率と濃度によって現像性の調節が可能となるためで
あり、例えば、特開昭５４−６２００４号公報、特公昭
５７−７４２７号に記載されているようなアルカリ金属
ケイ酸塩が有効に用いられる。

【００９２】更に自動現像機を用いて現像する場合に
は、現像液よりもアルカリ強度の高い水溶液（補充液）
を現像液に加えることによって、長時間現像タンク中の
現像液を交換する事なく、多量の平版印刷用版材を処理
できることが知られている。本発明においてもこの補充
方式が好ましく適用される。現像液および補充液には現
像性の促進や抑制、現像カスの分散および印刷版画像部
の親インキ性を高める目的で必要に応じて種々の界面活
性剤や有機溶剤を添加できる。好ましい界面活性剤とし
ては、アニオン系、カチオン系、ノニオン系および両性
界面活性剤があげられる。更に現像液および補充液には
必要に応じて、ハイドロキノン、レゾルシン、亜硫酸、
亜硫酸水素酸などの無機酸のナトリウム塩、カリウム塩
等の還元剤、更に有機カルボン酸、消泡剤、硬水軟化剤
を加えることもできる。上記現像液および補充液を用い
て現像処理された印刷版は水洗水、界面活性剤等を含有
するリンス液、アラビアガムや澱粉誘導体を含む不感脂
化液で後処理される。本発明の画像記録材料を印刷用版
材として使用する場合の後処理としては、これらの処理
を種々組み合わせて用いることができる。

【００９３】近年、製版・印刷業界では製版作業の合理
化および標準化のため、印刷用版材用の自動現像機が広
く用いられている。この自動現像機は、一般に現像部と
後処理部からなり、印刷用版材を搬送する装置と各処理
液槽およびスプレー装置からなり、露光済みの印刷版を
水平に搬送しながら、ポンプで汲み上げた各処理液をス
プレーノズルから吹き付けて現像処理するものである。
また、最近は処理液が満たされた処理液槽中に液中ガイ
ドロールなどによって印刷用版材を浸漬搬送させて処理
する方法も知られている。このような自動処理において
は、各処理液に処理量や稼働時間等に応じて補充液を補
充しながら処理することができる。また、実質的に未使
用の処理液で処理するいわゆる使い捨て処理方式も適用
できる。

【００９４】以上のようにして得られた平版印刷版は所
望により不感脂化ガムを塗布したのち、印刷工程に供す
ることができるが、より一層の高耐刷力の平版印刷版と
したい場合にはバーニング処理が施される。平版印刷版
をバーニングする場合には、バーニング前に特公昭６１
−２５１８号、同５５−２８０６２号、特開昭６２−３
１８５９号、同６１−１５９６５５号の各公報に記載さ
れているような整面液で処理することが好ましい。その
方法としては、該整面液を浸み込ませたスポンジや脱脂
綿にて、平版印刷版上に塗布するか、整面液を満たした
バット中に印刷版を浸漬して塗布する方法や、自動コー
ターによる塗布などが適用される。また、塗布した後で
スキージ、あるいは、スキージローラーで、その塗布量
を均一にすることは、より好ましい結果を与える。整面
液の塗布量は一般に０．０３〜０．８ｇ／ｍ² （乾燥重
量）が適当である。

【００９５】整面液が塗布された平版印刷版は必要であ
れば乾燥された後、バーニングプロセッサー（たとえば
富士写真フイルム（株）より販売されているバーニング
プロセッサー：ＢＰ−１３００）などで高温に加熱され
る。この場合の加熱温度及び時間は、画像を形成してい
る成分の種類にもよるが、１００〜３００℃の範囲で１
〜２０分の範囲が好ましい。バーニング処理された平版
印刷版は、必要に応じて適宜、水洗、ガム引きなどの従
来より行われている処理を施こすことができるが水溶性
高分子化合物等を含有する整面液が使用された場合には
ガム引きなどのいわゆる不感脂化処理を省略することが
できる。この様な処理によって得られた平版印刷版はオ
フセット印刷機等にかけられ、多数枚の印刷に用いられ
る。

【００９６】

【実施例】以下、実施例により、本発明を詳細に説明す
るが、本発明はこれらに限定されるものではない。

【００９７】［ジアゾニウム塩の合成］実施例に用いる
ジアゾニウム塩の合成例について示す。尚、本合成例に
おいて、試薬、溶媒は東京化成（株）、和光純薬工業
（株）またはAldrich 製のものを購入してそのまま使用
した。 （合成例１） 化合物（Ｉ−ｂ−３３）の合成 １，３，５−ベンゼントリオールを定法によりニトロ化
して、２−ニトロベンゼン−１，３，５−トリオールを
得た。得られた２−ニトロベンゼン−１，３，５−トリ
オール（１２ｇ）を、ヨウ化エチル（３３ｇ）、炭酸カ
リウム（２９ｇ）とＮ，Ｎ−ジメチルアセトアミド（３
０ｍｌ）中、８０℃で５時間反応させた後、水（３００
ｍｌ）中に注ぎ、析出した固体をろ過、水洗して、２−
ニトロ−１，３，５−トリエトキシベンゼン（１３．４
ｇ）を得た。２−ニトロ−１，３，５−トリエトキシベ
ンゼン（１２．８ｇ）をイソプロピルアルコール（８０
ｍｌ）中、鉄粉（２８ｇ）、塩化アンモニウム水溶液
（２．８５ｇ／水８．４ｍｌ）を加えて９０℃で２時間
反応させた後、酢酸エチルで抽出、溶媒留去し、さらに
濃塩酸（６ｍｌ）を加え、少量のアセトンで洗浄して、
２，４，６−トリエトキシアニリン・塩酸塩（４．７
ｇ）を得た。２，４，６−トリエトキシアニリン・塩酸
塩（２．６ｇ）をメタノール（５０ｍｌ）に溶かし、濃
塩酸（３．５ｍｌ）で酸性にした後、亜硝酸ナトリウム
水溶液（１．４ｇ／水１０ｍｌ）を氷冷しながらゆっく
り加えた。２時間後、２−ヒドロキシ−４−メトキシベ
ンゾフェノン−５−スルホン酸（６．２ｇ）を加え、さ
らに１時間後、塩化メチレンで抽出、水洗後、溶媒留去
し、２，４，６−トリエトキシベンゼンジアゾニウム
２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン−５−ス
ルホネート（４．５ｇ）を得た。淡黄色粉末。

【００９８】また、同様の手順により、下記ジアゾニウ
ム塩を合成した。 ２，４，６−トリス（ｎ−オクチルオキシ）ベンゼンジ
アゾニウム ２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェ
ノン−５−スルホネート（Ｉ−ｆ−３３）淡黄色粉末、
融点：１２４℃（分解） ２，４，６−トリス（ｎ−ヘキシルオキシ）ベンゼンジ
アゾニウム ２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェ
ノン−５−スルホネート（Ｉ−ｅ−３３）淡黄色粉末、
融点：１２９℃（分解） ２，４，６−トリス（ｎ−ヘキシルオキシ）ベンゼンジ
アゾニウム ｐ−トルエンスルホネート（Ｉ−ｅ−２
１）淡黄色固体。 ２，４，６−トリス（ｎ−ヘキシルオキシ）ベンゼンジ
アゾニウム ヘキサフルオロホスフェート（Ｉ−ｅ−
７）黄色液体状（冷蔵庫内では固化） ２，４，６−トリス（ｎ−プロピルオキシ）ベンゼンジ
アゾニウム ２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェ
ノン−５−スルホネート（Ｉ−ｃ−３３）淡黄色粉末。 ２，４，６−トリス（ｎ−ブチルオキシ）ベンゼンジア
ゾニウム ２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノ
ン−５−スルホネート（Ｉ−ｄ−３３）淡黄色粉末。 ２，４，６−トリスエトキシベンゼンジアゾニウム メ
シチレンスルホネート（Ｉ−ｂ−３１）淡黄色粉末、融
点：１２８−１３１℃（分解）。

【００９９】（合成例２） 化合物（Ｉ−ｉ−３３）の合成 ２，４，６−トリヒドロキシアセトフェノン（５１ｇ）
を、ｎ−オクチルブロミド（１１２ｇ）、炭酸カリウム
（８１ｇ）とＮ，Ｎ−ジメチルアセトアミド（２００ｍ
ｌ）中、１００℃で４時間反応させた後、水中に注ぎ、
酢酸エチルで抽出、水洗後、ロータリーエバポレーター
で濃縮後、ヘキサンを加えて析出した固体をろ過して、
４，６−ビス（ｎ−オクチルオキシ）−２−ヒドロキシ
アセトフェノン（９７ｇ）を得た。４，６−ビス（ｎ−
オクチルオキシ）−２−ヒドロキシアセトフェノン（２
０ｇ）をｐ−トルエンスルホン酸メチル（２０ｇ）、炭
酸カリウム（７ｇ）とＮ，Ｎ−ジメチルアセトアミド
（５０ｍｌ）中、１００℃で６時間反応させて、４，６
−ビス（ｎ−オクチルオキシ）−２−メトキシアセトフ
ェノンとした後、エタノール（９０ｍｌ）中、水酸化カ
リウム（３．３ｇ）、ヒドロキシアミン・塩酸塩（３．
６ｇ）、水（２０ｍｌ）を加え、８０℃で５時間反応さ
せて、４，６−ビス（ｎ−オクチルオキシ）−２−メト
キシアセトフェノンオキシム（１６ｇ）を得た。４，６
−ビス（ｎ−オクチルオキシ）−２−メトキシアセトフ
ェノンオキシム（１６ｇ）をギ酸（５０ｍｌ）に溶かし
１００℃で３時間反応させた後、水中に注ぎ、酢酸エチ
ルで抽出、水洗後、溶媒留去後、シリカゲルカラムクロ
マトグラフィーにより、４，６−ビス（ｎ−オクチルオ
キシ）−２−メトキシアセトアニリド（８ｇ）を得た。
４，６−ビス（ｎ−オクチルオキシ）−２−メトキシア
セトアニリド（１．９ｇ）をメタノール（２５ｍｌ）に
溶かし、濃塩酸（５ｍｌ）を加え１時間加熱した。放冷
後、濃塩酸（１ｍｌ）を追加して酸性にした後、亜硝酸
ナトリウム水溶液（０．５ｇ／水１０ｍｌ）を氷冷しな
がらゆっくり加えた。３時間後、２−ヒドロキシ−４−
メトキシベンゾフェノン−５−スルホン酸（２．４ｇ）
を加えた。さらに１時間後、水を加え、ろ過、水洗し
て、４，６−ビス（ｎ−オクチルオキシ）−２−メトキ
シベンゼンジアゾニウム ２−ヒドロキシ−４−メトキ
シベンゾフェノン−５−スルホネート（２．９ｇ）を得
た。淡黄色粉末。

【０１００】（合成例３） 化合物（II−ｃ−３３）の合成 合成例２と同様の手順で２，４−ジヒドロキシアセトフ
ェノンから合成した。２，４−ビス（ｎ−ヘキシルオキ
シ）ベンゼンジアゾニウム ２−ヒドロキシ−４−メト
キシベンゾフェノン−５−スルホネート（II−ｃ−３
３）淡黄色粉末。２，４−ビス（ｎ−ヘキシルオキシ）
ベンゼンジアゾニウム ヘキサフルオロホスフェート
（II−ｃ−７）淡黄色粉末。２，４−ビス（ｎ−ヘキシ
ルオキシ）ベンゼンジアゾニウム ｐ−トルエンスルホ
ネート（II−ｃ−２１）淡黄色粉末。

【０１０１】［支持体の作製］厚さ０．３０ｍｍのアル
ミニウム板（材質１０５０）をトリクロロエチレン洗浄
して脱脂した後、ナイロンブラシと４００メッシュのパ
ミストン−水懸濁液を用いその表面を砂目立てし、よく
水で洗浄した。この板を４５℃の２５％水酸化ナトリウ
ム水溶液に９秒間浸漬してエッチングを行い水洗後、更
に２％ＨＮＯ₃に２０秒間浸漬して水洗した。この時の
砂目立て表面のエッチング量は約３ｇ／ｍ² であった。
次にこの板を７％Ｈ₂ ＳＯ₄ を電解液として電流密度１
５Ａ／ｄｍ² で３ｇ／ｍ² の直流陽極酸化皮膜を設けた
後、水洗乾燥した。次にこのアルミニウム板に下記下塗
り液を塗布し、８０℃で３０秒間乾燥した。乾燥後の被
覆量は１０ｍｇ／ｍ² であった。得られた支持体を支持
体Ａと称する。 （下塗り液の組成） ・β−アラニン ０．１ ｇ ・フェニルスルホン酸 ０．０５ｇ ・メタノール ４０ ｇ ・純水 ６０ ｇ

【０１０２】実施例１〜６ ［平版印刷版の作製］ 溶液〔Ａ〕 ・一般式（１）で表される化合物 ０．１５ｇ ・赤外線吸収剤ＩＲ−Ｄｙｅ−４ ０．１０ｇ （下記構造式、日本感光色素研究所（株）製） ・フェノールとホルムアルデヒドから得られるノボラック樹脂 （重量平均分子量１００００） １．５ ｇ ・架橋剤ＭＭ−１（下記構造式） ０．５０ｇ ・フッ素系界面活性剤 ０．０３ｇ （メガファックＦ−１７７、大日本インキ化学工業（株）製） ・メチルエチルケトン １５ ｇ ・１−メトキシ−２−プロパノール １０ ｇ ・メチルアルコール ５ ｇ

【０１０３】

【化２６】

【０１０４】上記組成の溶液〔Ａ〕において、一般式
（１）で表される化合物の種類を表１に示すものに変え
て、６種類の溶液〔Ａ−１〕〜〔Ａ−６〕を調製した。
この溶液をそれぞれ、上記支持体Ａに塗布し、１００℃
で１分間乾燥してネガ型平版印刷用版材〔Ａ−１〕〜
〔Ａ−６〕を得た。乾燥後の被覆重量は１．３ｇ／ｍ²
であった。

【０１０５】

【表１】

【０１０６】得られたネガ型平版印刷用版材〔Ａ−１〕
〜〔Ａ−６〕を、波長８３０ｎｍの赤外線を発する半導
体レーザで露光した。露光後、１４０℃のオーブンで１
分間加熱処理した後、富士写真フイルム（株）製現像
液、ＤＰ−４（１：８）、リンス液ＦＲ−３（１：７）
を仕込んだ自動現像機を通して処理した。いずれも良好
なネガ画像が得られた。さらに、ネガ型平版印刷用版材
〔Ａ−１〕〜〔Ａ−６〕を、温度３５℃湿度７５％の高
温高湿条件下で３日間保存した後、上記同様に半導体レ
ーザで露光し、加熱処理後、現像した。かかる耐久試験
後においても、いずれも良好なネガ画像が得られた。

【０１０７】比較例１〜２ 実施例１〜６にて使用した溶液〔Ａ〕において、一般式
（１）で表されるジアゾニウム塩の代わりに、下記構造
のジアゾニウム塩（Ｘ−１）および（Ｘ−２）を用い、
それ以外は実施例１〜６と同様にしてネガ型平版印刷用
版材〔Ｂ−１〕および〔Ｂ−２〕を作製した。

【０１０８】

【化２７】

【０１０９】得られた平版印刷用版材〔Ｂ−１〕および
〔Ｂ−２〕を、実施例１〜６と同様に耐久試験をするこ
となく半導体レーザで露光し、加熱処理後、現像した結
果、いずれも良好なネガ画像が得られた。しかし、実施
例１〜６と同様に温度３５℃湿度７５％の高温高湿条件
下で３日間保存した後、実施例１〜６と同様に半導体レ
ーザで露光し、加熱処理後、現像したものについては、
比較例〔Ｂ−１〕および〔Ｂ−２〕ともにネガ画像を形
成することができなかった。実施例１〜６及び比較例１
〜２より、本発明のネガ型画像記録材料を用いた平版印
刷用版材は、高温高湿下での保存安定性に優れているこ
とがわかる。

【０１１０】実施例７〜９ 溶液〔Ｅ〕 ・本発明の一般式（１）で表される化合物 ０．１２ｇ ・赤外線吸収剤ＩＲ−Ｄｙｅ−２ ０．１０ｇ （下記構造式、日本感光色素研究所（株）製） ・ｐ−ヒドロキシスチレン重合体（重量平均分子量８０００） １．５ ｇ ・２，６−ビスヒドロキシメチル−ｐ−クレゾール ０．５０ｇ ・フッ素系界面活性剤 ０．０３ｇ （メガファックＦ−１７７、大日本インキ化学工業（株）製） ・メチルエチルケトン １５ ｇ ・１−メトキシ−２−プロパノール １０ ｇ ・メチルアルコール ５ ｇ

【０１１１】

【化２８】

【０１１２】上記組成の溶液〔Ｅ〕において、一般式
（１）または（２）で表される化合物の種類を表２に示
すものに変えて、３種類の溶液〔Ｅ−１〕〜〔Ｅ−３〕
を調製した。この溶液をそれぞれ、支持体Ａに塗布し、
１００℃で２分間乾燥してネガ型平版印刷用版材〔Ｅ−
１〕〜〔Ｅ−３〕を得た。乾燥後の被覆重量は１．５ｇ
／ｍ² であった。得られたネガ型平版印刷用版材〔Ｅ−
１〕〜〔Ｅ−３〕を、波長８３０ｎｍの赤外線を発する
半導体レーザで露光した。露光後、１４０℃のオーブン
で１分間加熱処理した後、富士写真フイルム（株）製現
像液、ＤＰ−４（１：８）、リンス液ＦＲ−３（１：
７）を仕込んだ自動現像機を通して処理した。次いで富
士写真フイルム（株）製ガムＧＵ−７（１：１）で版面
を処理し、ハイデルＫＯＲ−Ｄ機で印刷した。いずれも
良好なネガ画像が得られた。

【０１１３】

【表２】

【０１１４】比較例３ 実施例７〜９にて使用した溶液〔Ｅ〕において、一般式
（１）または（２）で表される化合物の代わりに、前述
のジアゾニウム塩（Ｘ−１）を用い、それ以外は実施例
７〜９と同様にしてネガ型平版印刷用版材〔Ｆ−１〕を
作製しようとしたが、溶液の調製中に色素の変色が起こ
ってしまった。

【０１１５】実施例７〜９及び比較例３より、本発明の
ネガ型画像記録材料は平版印刷用版材の調製時の安定性
に優れていることがわかる。

【０１１６】実施例１０〜１３ ［支持体の作製］厚さ０．３０ｍｍのアルミニウム板
（材質１０５０）をトリクロロエチレン洗浄して脱脂し
た後、ナイロンブラシと４００メッシュのパミストン−
水懸濁液を用いその表面を砂目立てし、よく水で洗浄し
た。この板を４５℃の２５％水酸化ナトリウム水溶液に
９秒間浸漬してエッチングを行い水洗後、更に２％ＨＮ
Ｏ₃に２０秒間浸漬して水洗した。この時の砂目立て表
面のエッチング量は約３ｇ／ｍ² であった。次にこの板
を７％Ｈ₂ ＳＯ₄ を電解液として電流密度１５Ａ／ｄｍ
² で３ｇ／ｍ² の直流陽極酸化皮膜を設けた後、水洗乾
燥した。次にこのアルミニウム板に下記下塗り液を塗布
し、８０℃で３０秒間乾燥した。乾燥後の被覆量は１０
ｍｇ／ｍ² であった。得られた支持体を支持体Ｂと称す
る。 （下塗り液の組成） ・β−アミノエチルホスホン酸 ０．１ ｇ ・メタノール ７０ ｇ ・純水 ３０ ｇ

【０１１７】 ［平版印刷版の作製］ 溶液〔Ｃ〕 ・本発明の一般式（１）で表される化合物 ０．２０ｇ ・赤外線吸収剤（表３に記載） ０．１６ｇ ・ｐ−ヒドロキシスチレン重合体（重量平均分子量２００００）１．４ ｇ （マルカリンカーＭ Ｈ−２、丸善石油化学（株）製） ・架橋剤 ＨＭ−１（下記構造式） ０．６ ｇ ・２，６−ビスヒドロキシメチル−ｐ−クレゾール ０．５０ｇ ・フッ素系界面活性剤 ０．０３ｇ （メガファックＦ−１７６、大日本インキ化学工業（株）製） ・ビクトリアピュアブルーのナフタレンスルホン塩 ０．０４ｇ ・メチルエチルケトン １５ ｇ ・１−メトキシ−２−プロパノール １０ ｇ ・メチルアルコール ５ ｇ

【０１１８】

【化２９】

【０１１９】上記組成の溶液〔Ｃ〕において、一般式
（１）で表される化合物及び赤外線吸収剤を表３に示す
ものに変えて、３種類の溶液〔Ｃ−１〕〜〔Ｃ−３〕を
調製した。次に溶液〔Ｃ−１〕においてｐ−ヒドロキシ
スチレン重合体を、ｐ−ヒドロキシスチレン／メチルメ
タクリレート共重合体（マルカリンカー ＣＣＭ、重量
平均分子量１００００：丸善石油化学（株）製）に代え
て溶液〔Ｃ−４〕を調製した。これらの溶液をそれぞ
れ、支持体Ｂに塗布し、１００℃で１分間乾燥してネガ
型平版印刷用版材〔Ｃ−１〕〜〔Ｃ−４〕を得た。乾燥
後の被覆重量は１．３ｇ／ｍ² であった。

【０１２０】

【表３】

【０１２１】

【化３０】

【０１２２】

【化３１】

【０１２３】得られたネガ型平版印刷用版材〔Ｃ−１〕
〜〔Ｃ−４〕を、白色蛍光灯下で１０分間放置した後、
波長８３０ｎｍの赤外線を発する半導体レーザで露光し
た。露光後、１４０℃のオーブンで１分間加熱処理した
後、富士写真フイルム（株）製現像液、ＤＰ−４（１：
８）、リンス液ＦＲ−３（１：７）を仕込んだ自動現像
機を通して処理した。次いで富士写真フイルム（株）製
ガムＧＵ−７（１：１）で版面を処理し、ハイデルＫＯ
Ｒ−Ｄ機で印刷した。いずれも良好なネガ画像が得られ
た。

【０１２４】比較例４ 実施例１０〜１３にて使用した溶液〔Ｃ〕において、一
般式（１）で表される化合物の代わりに、下記構造のジ
アゾニウム塩（Ｘ−３）を用い、それ以外は実施例１０
〜１３と同様にしてネガ型平版印刷用版材〔Ｄ−１〕を
作製した。得られた版材〔Ｄ−１〕を実施例１０〜１３
と同様に白色蛍光灯下で１０分間放置した後、露光、加
熱、現像処理を行い、同様にハイデルＫＯＲ−Ｄ機で印
刷したところ、非画像部に汚れを生じた。

【０１２５】

【化３２】

【０１２６】実施例１０〜１３及び比較例４より、本発
明のネガ型画像記録材料は白色蛍光灯下での取り扱い安
定性に優れていることがわかる。

【０１２７】

【発明の効果】本発明の画像記録材料によれば、赤外線
を放射する固体レーザ及び半導体レーザを用いて記録す
ることにより、コンピューター等のデジタルデータから
直接製版可能であり、さらに保存安定性に優れたネガ型
の平版印刷用版材を得ることができる。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 少なくとも下記一般式（１）で表される
   ジアゾニウム塩と、赤外線吸収剤と、酸により架橋する
   架橋剤と、バインダーとを含有することを特徴とする画
   像記録材料。 【化１】 式中、Ｒ₁ およびＲ₂ はそれぞれ独立に炭素数２０以下
   の置換もしくは未置換の炭化水素基を表し、Ｒ₄ および
   Ｒ₅ はそれぞれ独立に水素、または炭素数２０以下での
   換もしくは未置換の炭化水素基を表し、Ｒ₆ は水素原
   子、炭素数２０以下の置換もしくは未置換のアルキルオ
   キシ基、アリールオキシ基、またはアラルキルオキシ基
   を示す。Ｘは、Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ、ＣｌＯ₄ 、Ｂ
   Ｆ₄ 、ＰＦ₆ 、ＳｂＦ₆ 、ＡｓＦ₆ 、アルキルスルホン
   酸イオン、またはアリールスルホン酸イオンから選ばれ
   るカウンターアニオンを表す。