JPH11133446A

JPH11133446A - 液晶表示装置及びその製造方法

Info

Publication number: JPH11133446A
Application number: JP30082297A
Authority: JP
Inventors: Kenzo Fujie; 憲三藤栄; Kuninao Ishii; 邦尚石井; Hirokazu Hashikawa; 広和橋川; Masaki Yoshinari; 正樹吉成; Motohisa Okuni; 元久大國; Isao Tomizawa; 功富澤; Yasuo Yagi; 康雄八木; Itaru Tsuchiya; 至土屋; Koji Haniwara; 甲二埴原
Original assignee: Pioneer Electronic Corp
Current assignee: Pioneer Corp
Priority date: 1997-10-31
Filing date: 1997-10-31
Publication date: 1999-05-21

Abstract

(57)【要約】【課題】表示品質の高い液晶表示装置及びその製造方
法を提供する。【解決手段】一対の基板間に液晶を挟持しつつその周
縁部を接着剤部にて接合してなる液晶表示素子を有する
液晶表示装置であって、液晶注入口を画定し、少なくと
も基板の一方の上に接着剤部の内側に沿って形成され基
板の他方に液密的に接触する隔壁を有する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、２枚の基板を所定
の間隔を隔てて重ね合わせて両基板の周縁部を接着剤部
にて接合し、接着剤部の一部に設けられた液晶注入口を
介して両基板間に液晶を注入封止してなる液晶表示素子
を有する液晶表示装置の封止構造及びその製造方法に関
する。

【０００２】

【従来の技術】液晶表示装置は、例えば透明電極、配向
膜等が形成された透明基板と、スイッチング素子、スイ
ッチング素子に接続された画素電極、配向膜等が形成さ
れた基板とを所定の間隔を隔てて重ね合わせ、両基板間
の周縁部に枠状に設けた接着剤部（シール材）により、
両基板を貼り合わせるとともに、接着剤部の一部に設け
た液晶注入口から両基板間の接着剤部の内側に液晶を注
入し、封止した液晶表示素子を含んで構成されている。

【０００３】液晶表示素子を構成する２枚の基板は、所
定の間隔を隔てて重ね合わせられているが、この間隔を
画定するには、ガラス、シリカ、プラスチックなどから
なる小さな球状（以下、ビーズともいう）、あるいは極
細い円柱状のスペーサの多数を両基板の間に介在させて
いる。液晶表示素子の表示画質を向上させるためには、
両基板の間隔を高精度で均一に保持する必要がある。両
基板間のシール部の内側に液晶とともに介在するスペー
サは、両基板の間隔を高精度で均一に保持する役割を担
う。

【０００４】このようなスペーサを両基板間に配置する
には、先ず、配向処理を施した配向膜を形成した一方の
基板の全面上にスプレーノズルから媒体としての気体に
多数の帯電したスペーサを混合したものを散布する。つ
いで、両基板を配向膜が対向するように重ね合わせ、両
基板の周縁部に設けた接着剤部により張り合わせると、
両基板は基板間に介在するスペーサにより所定の間隔で
隔てられる。

【０００５】次に、接着剤部の一部にある液晶注入口
（接着剤部の切り欠き部）から両基板間に液晶を注入
し、液晶注入口を樹脂で封止して液晶表示素子が作製さ
れる。ところで、従来の液晶表示装置の製造工程の内の
液晶封止工程では、例えば熱硬化型又は紫外線硬化型接
着剤のシール材を用いて基板の接合を行っている。しか
し、熱硬化型シール材を用いた場合には、シール材の硬
化に多大な時間を要し、一方、紫外線硬化型のシール材
を用いた場合には、紫外線硬化型樹脂の成分が液晶に溶
出し液晶の劣化を招くという問題がある。

【０００６】そこで、両基板の周縁部に設けた接着剤部
を二重として、例えば特開昭61-215524号公報、特開平
2-73229号公報では、特性の異なる2種類の接着剤を用い
た二重シール構造が提案されている。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述の
2種類の接着剤を用いた二重シール構造の方法では、接
着剤を印刷法、ディスペンサ法などで基板上に塗布し
て、両基板を圧着して接合しているので、接着剤部の膜
厚、基板間の間隙すなわち液晶層の膜厚を高精度にかつ
均一に保つことが困難である。

【０００８】本発明は、上述の問題を解決する為になさ
れたものであり、表示品質の向上した液晶表示装置を提
供することを目的とする。

【０００９】

【課題を解決するための手段】本発明の液晶表示装置
は、一対の基板間に液晶を挟持しつつその周縁部を接着
剤部にて接合してなる液晶表示素子を有する液晶表示装
置であって、液晶注入口を画定し、少なくとも前記基板
の一方の上に接着剤部の内側に沿って形成され前記基板
の他方に液密的に接触する隔壁を備えたことを特徴とす
る。

【００１０】本発明の液晶表示装置においては、液晶注
入口の内側に配置されかつ注入される液晶の流れを消勢
する第２隔壁を含むことを特徴とする。本発明の液晶表
示装置においては、前記隔壁は、前記接着剤部の外側に
配置された第３隔壁を含むことを特徴とする。本発明の
液晶表示装置においては、前記隔壁の上部面の周縁に
は、前記基板の主面に略垂直方向に伸張する突出縁側部
が設けられていることを特徴とする。

【００１１】本発明の液晶表示装置においては、前記液
晶注入口の設けられていない前記隔壁の側面には、液晶
漏出口が設けられている。本発明の液晶表示装置におい
ては、前記隔壁は、前記基板上に有機絶縁材料層をスピ
ンコート法により形成した後、前記隔壁のためのパター
ンニングを行って形成されたものであることを特徴とす
る。また、本発明の液晶表示装置における前記有機絶縁
材料は、ポリイミド樹脂からなることを特徴とする。

【００１２】本発明の液晶表示装置においては、前記隔
壁は、前記基板上に無機材料層を化学的気相成長法、ス
パッタリング法、及び真空蒸着法の内のいずれか一つの
方法を用いて形成されたものであることを特徴とする。
本発明の液晶表示装置の製造方法は、一対の基板を、ス
ペーサを配置して重ね合わせ、前記基板の周縁部を接着
剤部にて接合し、液晶注入口を介して前記基板間に液晶
を注入して封止してなり、少なくとも前記基板の一方の
上に接着剤部に沿って形成され前記基板の他方に液密的
に接触する隔壁を備えた液晶表示素子を有する液晶表示
装置の製造方法であって、基板上に有機絶縁材料層をス
ピンコート法により形成する工程と、前記有機絶縁材料
層上に感光樹脂層を形成する工程と、前記感光樹脂層を
前記隔壁の形成用マスクを介して露光する工程と、前記
露光された感光樹脂層を現像すると共に前記有機絶縁材
料層をエッチングする工程と、前記感光樹脂層の残部を
剥離する工程と、前記エッチングされた有機絶縁材料層
を加熱して前記隔壁を形成する工程と、を含むことを特
徴とする。

【００１３】本発明によれば、接着剤部内側の隔壁は、
基板間の間隙（液晶層の膜厚）を高精度にかつ均一にす
るとともに液晶と外側の接着剤部（シール材）とを分離
する役割（液晶に対する防御壁の機能）を有し、外側の
接着剤部は、シール材として用いられかつ基板間隙を固
定する役割を有する。外側の接着剤部は内側の隔壁によ
って液晶層と仕切られているので、その接着性や材料の
ポットライフなどだけを考慮して選択すれば良く、液晶
表示装置の設計を容易にする。

【００１４】

【発明の実施の形態】以下、本発明の一実施例の液晶表
示素子を図面を参照しつつ説明する。図１は、実施例の
透過型の液晶表示素子１の基本構成を示す。参照符号２
はガラスなどの透明基板であり、３は主面が対向するよ
うに一対の基板２をその周縁部を接合する接着剤部であ
り、４は液晶注入口であり、５は液晶注入口４を画定し
つつ少なくとも基板２の一方の上に接着剤部３の内側に
沿って形成され基板２の他方に液密的に接触する堤防の
役目を果たす隔壁である。さらに６は液晶素子の有効表
示領域であって、そこの両基板２の対向する内面上に
は、図示しないが、ＩＴＯなどからなる透明電極、配向
膜が形成されている。

【００１５】図２に示すように有効表示領域６の両基板
２の配向膜間には複数のスペーサ７が配置され、重ね合
わせられる基板２間で隔壁５によって密閉されている空
間に液晶注入口４から液晶８が注入され、液晶注入口４
が封止材９によって封止されて、液晶表示素子が作製さ
れる。また、基板の一方を半導体基板などとしＴＦＴ液
晶表示素子としても、基板の一方に誘電体ミラーを形成
して反射型の液晶表示素子としてもよい。

【００１６】液晶表示素子は有効表示領域６の外周部に
有効表示外領域を有しており、この表示外領域に隔壁５
及び接着部３が配置されている。このように、本発明に
よれば、一方の基板上に接着剤部の内側に沿って形成さ
れかつ基板の他方に液密的に接触する隔壁は、液晶が外
側の接着剤部に接触すること防止するので、接着剤が液
晶を劣化させることがなくなり、長時間にわたり高い信
頼性が得られる。この隔壁形成材料は、金、酸化珪素な
どの膜厚制御性のよい無機材料の薄膜又は、膜厚制御性
のよいスピンコート法により成膜可能なポリイミド、レ
ジスト、SOG(Spin-on-glass)などの有機材料から形成さ
れる。無機材料の酸化珪素、窒化物などからなる隔壁
は、CVD(chemical vapor deposition)法で薄膜を基板に
一様に形成して、さらに、金などの金属の場合の隔壁
は、蒸着法やスパッタ法などにより成膜して、いずれも
所定マスクを用いてフォトエッチング法により、隔壁パ
ターンを食刻して、形成できる。

【００１７】接着剤部は熱硬化性樹脂、紫外線硬化性樹
脂など基板、配向膜への接着性を主に考慮して選択すれ
ばよく、液晶への相性を考慮することがなくなり、設計
の自由度が拡大する。さらに、隔壁パターンの他の具体
例を図３〜図１３に示す。これらの図は、隔壁パターン
形成直後の基板の正面を示し、隔壁パターン工程の後
に、複数のスペーサの散布工程、基板の重ね合わせ接合
工程、液晶注入工程が続く。

【００１８】図３に示すように、有効表示外領域には、
隔壁５とは離間するが、液晶注入口４の内側に配置され
かつ注入される液晶の流れを消勢するように、液晶の流
れに略垂直に伸張して形成された第２隔壁５aが形成さ
れていてもよい。第２隔壁５aにより、液晶注入時の液
晶の流れが隔壁５の内壁に沿って２つに別れ、有効表示
領域に分散されているスペーサを流してしまうことがな
くなる。

【００１９】図４に示すように、図３の第２隔壁５aに
追加して、液晶注入口４内壁両側から内側に対向するよ
うに配置されかつ注入される液晶の流れを消勢するよう
に、液晶注入口を狭める液晶の流れに略垂直に伸張して
形成された一対の第２隔壁５bが形成されていてもよ
い。第２隔壁５bにより、液晶注入時の液晶の流れがさ
らに減衰される。

【００２０】図５に示すように、図４の第２隔壁５aに
代えて、液晶注入口４の内壁から内側に配置され、液晶
流中に形成され液晶注入口を狭め注入液晶の流れを消勢
するように第２隔壁５cが形成されていてもよい。第２
隔壁５cにより、液晶注入時の液晶の流れがさらに減衰
され、スペーサを流してしまうことがなくなる。図６に
示すように、有効表示外領域に隔壁５とは離間して液晶
注入口４の内側に配置されかつ注入液晶の流れを消勢す
るように、液晶の流れに略垂直に伸張して形成された部
分と液晶流中に配置された部分とからなる第２隔壁５d
が形成されていてもよい。第２隔壁５dにより、液晶注
入時の液晶の流れの速度を減衰させ、流れを隔壁５の内
壁に沿って２つに分けるので、有効表示領域に分散され
ているスペーサを流してしまうことがなくなる。

【００２１】図７に示すように、有効表示外領域に隔壁
５とは離間して液晶注入口４の内側に配置されかつ注入
液晶の流れを消勢するように、液晶の流れに略垂直に伸
張して形成された第２隔壁５aに加えて、その伸張方向
に間欠的に配列された複数の第２隔壁５e、５fが形成さ
れていてもよい。第２隔壁５a、５e、５dの画定する複
数の通路により、液晶注入時の液晶の流れがシャワー状
になり流速を減衰させるので、有効表示領域に分散され
ているスペーサを流してしまうことがなくなる。第２隔
壁５a、５e、５fの画定する複数の通路の間隔は図７に
示すように、漸次減少するようにしてもよく、さらに漸
次拡大するようにしてもよい。

【００２２】図８に示すように、有効表示外領域に隔壁
５とは離間して液晶注入口４の内側に配置されかつ注入
液晶の流れを消勢するように、すなわち、液晶の流れに
本体が略垂直に伸張して形成された第２隔壁５gの枝部
５hと、隔壁５のの枝部５iとが蛇行経路を形成するよう
に、第２隔壁が形成されていてもよい。第２隔壁５b、
５c、５i、５hの画定する蛇行通路により、液晶注入時
の液晶の流れがさらに減衰させるので、有効表示領域に
分散されているスペーサを流してしまうことがなくな
る。

【００２３】図９に示すように、有効表示外領域に隔壁
５とは離間して液晶注入口４の内側に沿って伸張して配
置され、有効表示領域を囲むように形成された第２隔壁
５jを形成してもよい。隔壁５及び第２隔壁５jの画定す
る長い通路により、液晶注入時の液晶の流れをさらに減
衰させることもできる。以上の実施例では、有効表示外
領域の隔壁５は閉塞していたが、図１０に示すように、
隔壁５の液晶注入口４の対向側、すなわち、液晶注入口
の設けられていない隔壁の側面に、液晶漏出口４aを設
けてもよい。これにより、液晶注入時の内部空気の排出
が接着部３及び隔壁５間の通路をとおして容易になる。

【００２４】さらに、図１１に示すように、隔壁５の側
面に液晶漏出口４aを設けた場合でも第２隔壁５a、たと
えば図４に示すような第２隔壁５a、を設けて、液晶注
入流速を減じてもよい。また、図１２に示すよう、隔壁
５の側面に液晶漏出口４a及び第２隔壁５aを設け、さら
に、液晶漏出口４aを覆うように第２隔壁５kを形成して
もよい。このように構成して、液晶注入流速を減じると
ともに、液晶注入時の内部空気の排出も容易になる。

【００２５】他の実施例としては、図１３に示すよう
に、基板の一方の上に接着剤部の内側に沿って形成され
基板の他方に液密的に接触する隔壁であって、接着剤部
３の外側に配置された第３隔壁５５を、形成することも
できる。第３隔壁５５は間欠的に接着剤部３の周りに複
数設けることができる。第３隔壁５５は、図１４に示す
ように、基板２の重ね合わせ接合工程において、流動状
態で供給された接着剤の硬化収縮によって基板２aが撓
み、内部の表示領域における基板間の間隙すなわち液晶
層の膜厚を変化させることを防止する。これによって、
液晶表示素子の表示品質を向上させることができる。

【００２６】次に、主に透過型液晶表示素子の製造工程
を説明する。図15に示すように、内側面５１となる主面
上に表示用の電極としてＩＴＯ等からなる導電性透明膜
が成膜されているガラス等の透明基板２を用意する。次
に、図16に示すように、隔壁形成工程では、透明基板２
の表示電極上に、隔壁材料の感光性のポリイミド５０
を、例えばスピンコート法で塗布する。これをプリベー
クして、２．５μｍ膜厚のポリイミド層を成膜する。例
えば、ポリイミドには、日立化成（株）のＰＩＱ（登録
商標）の絶縁材料が用いられる。

【００２７】次に、図１７に示すように、ポリイミド層
５０上に、フォトレジストをスピンコート法で塗布す
る。これをプリベークして、例えば２μｍ膜厚にフォト
レジスト層を成膜して、例えば100μｍの幅のフォトレ
ジストリッジ１１を残すように通常のフォトリソグラフ
ィ法等の手法を用いてフォトレジストマスク１１を形成
する。

【００２８】続いて図１８に示すように、該フォトレジ
ストマスク１１の開口をとおして、例えばハライドラン
プを用いて、ポリイミド層５０を露光する。次に、図１
９に示すように、現像して、露光された部分をエッチン
グする。ここで、隔壁５は、純水と東京応化（株）製の
NMD-3からなるアルカリ現像溶液で温度２３〜２５度℃
で１〜２分間程度でウエットエッチングを行い形成され
る。このようにして、隔壁のためのパターンニングが行
われる。

【００２９】続いて図２０に示すように、ｎ酢酸ブチル
からなる有機溶剤で温度２３〜２５度℃で２〜３分間程
度にて該フォトレジストマスク１１を剥離する。剥離
後、ポストベーク工程において、温度２００〜３５０度
℃で３〜６０分間程度で基板を加熱する。加熱後の隔壁
５の基板からの高さは、後に配置されるスペーサの直
径、又はさらに積層される誘電体ミラーとスペーサの直
径との合計の高さに設定されている。また、隔壁５の幅
は、１０μｍ程度あれば十分である。尚、これまでポリ
イミドと称していたのは、イミド化する前の前駆体をも
含む意味であり、図２０の状態の段階にて３００℃で硬
化せしめると本当のポリイミドとなる。基板２の内側面
５１には電極が露出しているが、反射型表示素子とする
場合には、この上に誘電体ミラーを積層することもでき
る。

【００３０】その後、基板の主面上に配向膜を設け、所
定の配向処理工程で処理する。その基板を、所定スペー
サ散布室内部に固定し、図２１に示すように、有効表示
領域となる部分に略対応した開口を有するマスク２０を
基板２上に位置あわせして配置する。このマスク開口を
通して、基板表面にスペーサ３を均一に部分的に散布す
る。これを散布室から取り出し、他方、主面上に電極及
び配向膜を設けた他のガラス基板を作製したものを用意
しておく。

【００３１】次に、図２２に示すように、用意したガラ
ス基板を、配向膜を設けた主面５１が内側となるよう
に、先の基板２上に重ね合わせる。その後、図２３に示
すように、両基板の周縁部を接着剤部３にて接合し、隔
壁５及び接着剤部３の一部に設けられた液晶注入口を介
して両基板間に液晶を注入する。最後に、液晶注入口を
封止して液晶表示素子が作製される。

【００３２】上記図１６〜２０にて示される隔壁パター
ニング工程において、隔壁５の上部面の周縁には、図２
４に示すように、基板２の主面に略垂直方向に伸張する
突出縁側部５２も形成される。突出縁側部５２は、例え
ば、隔壁５の上部面から高さが0.05〜１μm程度で幅２
〜５μm程度である。上記図２２にて示される重ね合わ
せ工程において、突出縁側部５２は、図２５に示すよう
に、押圧によりつぶれ、隔壁５の上部面と基板２とが密
着するので、上下の基板の密着性が良好となる。

【００３３】上記実施例では、光伝導型液晶ライトバル
ブなどに用いられる透過型液晶パネルに適用した構成を
例示しているが、本発明は、これに限らず半導体基板を
用いた反射型液晶パネルにも適用できる。さらに、本発
明は図２６〜２８に示すように、基板の電極を形成した
主面に誘電体ミラーを形成した、反射型液晶パネルを採
用できる。

【００３４】すなわち、基板２の電極を形成した主面に
予め誘電体ミラー３０を一様に形成し、図１６〜２３に
示す工程を通して、図２６に示すような誘電体ミラー３
０上に隔壁５を形成した反射型液晶パネルを作製でき
る。また、図２７に示すような、隔壁５の内側の有効表
示領域に誘電体ミラー３０を形成した反射型液晶パネル
を作製するためには、予め誘電体ミラー３０を所定部分
に部分的に形成し、図１６〜２３に示す工程を通して作
製するか、或いは、隔壁形成後（図２０）、誘電体ミラ
ー３０を基板２の電極を形成した主面の所定部分に部分
的に形成し、図２１〜２３に示す工程を通して作製でき
る。

【００３５】さらにまた、隔壁形成後（図２０）、誘電
体ミラー３０を基板２の隔壁及び電極を形成した主面に
一様に形成し、図２１〜２３に示す工程を通して、図２
８に示すような誘電体ミラー３０で覆われた隔壁５を形
成した反射型液晶パネルをできる。この隔壁５が誘電体
ミラー３０で覆われた場合においても、上記図２４及び
２５に示されるような、基板の重ね合わせ工程におい
て、突出縁側部５２が押圧によりつぶれ、隔壁５の上部
面と基板２とが密着する効果を達成することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明による実施例の液晶表示素子の基板の
概略斜視図。

【図２】本発明による実施例の液晶表示素子の正面
図。

【図３】本発明による他の実施例の液晶表示素子製造
工程における基板の概略正面図。

【図４】本発明による他の実施例の液晶表示素子製造
工程における基板の概略正面図。

【図５】本発明による他の実施例の液晶表示素子製造
工程における基板の概略正面図。

【図６】本発明による他の実施例の液晶表示素子製造
工程における基板の概略正面図。

【図７】本発明による他の実施例の液晶表示素子製造
工程における基板の概略正面図。

【図８】本発明による他の実施例の液晶表示素子製造
工程における基板の概略正面図。

【図９】本発明による他の実施例の液晶表示素子製造
工程における基板の概略正面図。

【図１０】本発明による他の実施例の液晶表示素子製
造工程における基板の概略正面図。

【図１１】本発明による他の実施例の液晶表示素子製
造工程における基板の概略正面図。

【図１２】本発明による他の実施例の液晶表示素子製
造工程における基板の概略正面図。

【図１３】本発明による他の実施例の液晶表示素子製
造工程における基板の概略正面図。

【図１４】図１のAA線に沿った断面を示す液晶表示素
子の概略部分拡大断面図。

【図１５】本発明による実施例の液晶表示素子製造工
程における基板の概略断面図。

【図１６】本発明による実施例の液晶表示素子製造工
程における基板の概略断面図。

【図１７】本発明による実施例の液晶表示素子製造工
程における基板の概略断面図。

【図１８】本発明による実施例の液晶表示素子製造工
程における基板の概略断面図。

【図１９】本発明による実施例の液晶表示素子製造工
程における基板の概略断面図。

【図２０】本発明による実施例の液晶表示素子製造工
程における基板の概略断面図。

【図２１】本発明による実施例の液晶表示素子製造工
程における基板の概略断面図。

【図２２】本発明による実施例の液晶表示素子製造工
程における基板の概略断面図。

【図２３】本発明による実施例の液晶表示素子製造工
程における基板の概略断面図。

【図２４】本発明による実施例の液晶表示素子製造工
程における基板の図１のAA線に沿った部分に対応する概
略部分拡大断面図。

【図２５】本発明による実施例の液晶表示素子製造工
程における基板の図１のAA線に沿った部分に対応する概
略部分拡大断面図。

【図２６】本発明による他の実施例の液晶表示素子製
造工程における基板の図１のAA線に沿った部分に対応す
る概略部分拡大断面図。

【図２７】本発明による他の実施例の液晶表示素子製
造工程における基板の図１のAA線に沿った部分に対応す
る概略部分拡大断面図。

【図２８】本発明による他の実施例の液晶表示素子製
造工程における基板の図１のAA線に沿った部分に対応す
る概略部分拡大断面図。

【符号の説明】

１液晶表示素子２基板３接着部４液晶注入部５隔壁５ａ，５ｂ，５ｃ，５ｄ，５ｅ，５ｆ，５ｇ，５ｉ，５
ｊ，５ｋ第２隔壁５２隔壁の突出縁側部５５第３隔壁６有効表示領域７スペーサ８液晶９封止材

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者吉成正樹山梨県中巨摩郡田富町西花輪2680番地パイオニア株式会社内 (72)発明者大國元久山梨県中巨摩郡田富町西花輪2680番地パイオニア株式会社内 (72)発明者富澤功山梨県中巨摩郡田富町西花輪2680番地パイオニア株式会社内 (72)発明者八木康雄山梨県中巨摩郡田富町西花輪2680番地パイオニア株式会社内 (72)発明者土屋至山梨県中巨摩郡田富町西花輪2680番地パイオニア株式会社内 (72)発明者埴原甲二山梨県中巨摩郡田富町西花輪2680番地パイオニア株式会社内

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】一対の基板間に液晶を挟持しつつその周
縁部を接着剤部にて接合してなる液晶表示素子を有する
液晶表示装置であって、液晶注入口を画定し、少なくとも前記基板の一方の上に
接着剤部の内側に沿って形成され前記基板の他方に液密
的に接触する隔壁を備えたことを特徴とする液晶表示装
置。
【請求項２】前記隔壁は、液晶注入口の内側に配置さ
れかつ注入される液晶の流れを消勢する第２隔壁を含む
ことを特徴とする請求項１記載の液晶表示装置。
【請求項３】前記隔壁は、前記接着剤部の外側に配置
された第３隔壁を含むことを特徴とする請求項１又は２
記載の液晶表示装置。
【請求項４】前記隔壁の上部面の周縁には、前記基板
の主面に略垂直方向に伸張する突出縁側部が設けられて
いることを特徴とする請求項１〜３のいずれか１記載の
液晶表示装置。
【請求項５】前記液晶注入口の設けられていない前記
隔壁の側面には、液晶漏出口が設けられていることを特
徴とする請求項１〜４のいずれか１記載の液晶表示装
置。
【請求項６】前記隔壁は、前記基板上に有機絶縁材料
層をスピンコート法により形成した後、前記隔壁のため
のパターンニングを行って形成されたものであることを
特徴とする請求項１〜５のいずれか１記載の液晶表示装
置。
【請求項７】前記有機絶縁材料は、ポリイミド樹脂か
らなることを特徴とする請求項６記載の液晶表示装置。
【請求項８】前記隔壁は、前記基板上に無機材料層を
化学的気相成長法、スパッタリング法、及び真空蒸着法
の内のいずれか一つの方法を用いて形成されたものであ
ることを特徴とする請求項１〜５のいずれか１記載の液
晶表示装置。
【請求項９】一対の基板を、スペーサを配置して重ね
合わせ、前記基板の周縁部を接着剤部にて接合し、液晶
注入口を介して前記基板間に液晶を注入して封止してな
り、少なくとも前記基板の一方の上に接着剤部に沿って
形成され前記基板の他方に液密的に接触する隔壁を備え
た液晶表示素子を有する液晶表示装置の製造方法であっ
て、基板上に有機絶縁材料層をスピンコート法により形成す
る工程と、前記有機絶縁材料層上に感光樹脂層を形成する工程と、前記感光樹脂層を前記隔壁の形成用マスクを介して露光
する工程と、前記露光された感光樹脂層を現像すると共に前記有機絶
縁材料層をエッチングする工程と、前記感光樹脂層の残部を剥離する工程と、前記エッチングされた有機絶縁材料層を加熱して前記隔
壁を形成する工程と、を含むことを特徴とする製造方
法。